JP2002005573A - 乾燥装置 - Google Patents
乾燥装置Info
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- JP2002005573A JP2002005573A JP2000186040A JP2000186040A JP2002005573A JP 2002005573 A JP2002005573 A JP 2002005573A JP 2000186040 A JP2000186040 A JP 2000186040A JP 2000186040 A JP2000186040 A JP 2000186040A JP 2002005573 A JP2002005573 A JP 2002005573A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材に設けられた塗膜の性質を劣化させたり
赤外線ヒータの温度低下を招くことのない赤外線乾燥装
置を提供する。 【解決手段】 赤外線乾燥装置１０は塗膜が形成された
基材１５が走行するとともに、第１乾燥ゾーン１０ａと
第２乾燥ゾーン１０ｂとに仕切られた乾燥炉１１と、乾
燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内の基材１５上方に設
けられた赤外線ヒータ１６とを備えている。赤外線ヒー
タ１６の上方に給気装置１８と排気装置１９が設けら
れ、給気装置１８と排気装置１９によって赤外線ヒータ
１６上方に、赤外線ヒータ１６と平行な空気流が形成さ
れる。基材１５の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は赤
外線ヒータ１６の上方へ達し、この空気流により運ばれ
る。基材１５はその後第２乾燥ゾーン１０ｂ内で、熱風
吹付装置２６からの熱風により更に乾燥する。
赤外線ヒータの温度低下を招くことのない赤外線乾燥装
置を提供する。 【解決手段】 赤外線乾燥装置１０は塗膜が形成された
基材１５が走行するとともに、第１乾燥ゾーン１０ａと
第２乾燥ゾーン１０ｂとに仕切られた乾燥炉１１と、乾
燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内の基材１５上方に設
けられた赤外線ヒータ１６とを備えている。赤外線ヒー
タ１６の上方に給気装置１８と排気装置１９が設けら
れ、給気装置１８と排気装置１９によって赤外線ヒータ
１６上方に、赤外線ヒータ１６と平行な空気流が形成さ
れる。基材１５の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は赤
外線ヒータ１６の上方へ達し、この空気流により運ばれ
る。基材１５はその後第２乾燥ゾーン１０ｂ内で、熱風
吹付装置２６からの熱風により更に乾燥する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基材上に設けられた
塗膜を乾燥させるための乾燥装置に係り、とりわけ塗膜
の性質を劣化させることなく乾燥させることができる乾
燥装置に関する。
塗膜を乾燥させるための乾燥装置に係り、とりわけ塗膜
の性質を劣化させることなく乾燥させることができる乾
燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰ背面板にリブを形成する
際、電極等が表面に形成された枚葉のガラス基板上にリ
ブペースト材を２５０〜３００μｍの厚みで均一に塗布
し、その後ペースト中に含まれる溶剤を乾燥装置内で蒸
発させる。この場合、まず乾燥装置内で恒率乾燥期間で
は、およそ１５０〜１８０℃で乾燥させ、減率乾燥期間
では２２０〜２５０℃で乾燥を行っている。いずれの乾
燥期間でも、風速１ｍ／ｓ程度の熱風を塗膜表面に垂直
または平行に給気し、発生する溶剤蒸気を塗工膜表面近
傍から取り除いている。
際、電極等が表面に形成された枚葉のガラス基板上にリ
ブペースト材を２５０〜３００μｍの厚みで均一に塗布
し、その後ペースト中に含まれる溶剤を乾燥装置内で蒸
発させる。この場合、まず乾燥装置内で恒率乾燥期間で
は、およそ１５０〜１８０℃で乾燥させ、減率乾燥期間
では２２０〜２５０℃で乾燥を行っている。いずれの乾
燥期間でも、風速１ｍ／ｓ程度の熱風を塗膜表面に垂直
または平行に給気し、発生する溶剤蒸気を塗工膜表面近
傍から取り除いている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の乾燥方式では、
恒率乾燥期間において塗膜表面で発生した溶剤蒸気は、
給気の流れにより塗膜表面に再度戻されるため、塗膜表
面上で澱みが生じ、これが塗膜表面の乾燥ムラとなって
いた。また、溶剤がいつまでも滞留するため、乾燥効率
も上がらない。これらを防ぐために熱風の給気風速を上
げると、塗膜表面に風紋が生じてしまうという欠点があ
る。
恒率乾燥期間において塗膜表面で発生した溶剤蒸気は、
給気の流れにより塗膜表面に再度戻されるため、塗膜表
面上で澱みが生じ、これが塗膜表面の乾燥ムラとなって
いた。また、溶剤がいつまでも滞留するため、乾燥効率
も上がらない。これらを防ぐために熱風の給気風速を上
げると、塗膜表面に風紋が生じてしまうという欠点があ
る。
【０００４】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させる
ことなく塗膜を確実に乾燥させることができる乾燥装置
を提供することを目的とする。
ものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させる
ことなく塗膜を確実に乾燥させることができる乾燥装置
を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、塗膜が形成さ
れた基材が内部を走行するとともに、この内部が走行す
る基材の上流側から順に第１乾燥ゾーンと、第２乾燥ゾ
ーンとに仕切られた乾燥炉と、第１乾燥ゾーン内に設け
られた第１乾燥機構と、第２乾燥ゾーン内に設けられた
第２乾燥機構とを備え、第１乾燥機構は第１乾燥ゾーン
内の基材の上方に基材に平行に配置された赤外線ヒータ
と、第１乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置され
た、空気を給気する給気装置および空気を排気する排気
装置とを有し、給気装置と排気装置とによって赤外線ヒ
ータ上方に赤外線ヒータと平行な空気流を形成すること
を特徴とする乾燥装置である。
れた基材が内部を走行するとともに、この内部が走行す
る基材の上流側から順に第１乾燥ゾーンと、第２乾燥ゾ
ーンとに仕切られた乾燥炉と、第１乾燥ゾーン内に設け
られた第１乾燥機構と、第２乾燥ゾーン内に設けられた
第２乾燥機構とを備え、第１乾燥機構は第１乾燥ゾーン
内の基材の上方に基材に平行に配置された赤外線ヒータ
と、第１乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置され
た、空気を給気する給気装置および空気を排気する排気
装置とを有し、給気装置と排気装置とによって赤外線ヒ
ータ上方に赤外線ヒータと平行な空気流を形成すること
を特徴とする乾燥装置である。
【０００６】本発明によれば、第１乾燥ゾーンにおい
て、第１乾燥機構の赤外線ヒータからの輻射熱により、
基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表面から除去
された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、赤外線ヒー
タ上方において給気装置と排気装置によって赤外線ヒー
タと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれ
て排気される。このようにして、塗膜の恒率乾燥が行わ
れる。その後基材は第２乾燥ゾーンへ送られ、第２乾燥
機構により表面の塗膜が更に乾燥されて減率乾燥が行わ
れる。
て、第１乾燥機構の赤外線ヒータからの輻射熱により、
基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表面から除去
された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、赤外線ヒー
タ上方において給気装置と排気装置によって赤外線ヒー
タと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれ
て排気される。このようにして、塗膜の恒率乾燥が行わ
れる。その後基材は第２乾燥ゾーンへ送られ、第２乾燥
機構により表面の塗膜が更に乾燥されて減率乾燥が行わ
れる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明による乾燥装
置の一実施の形態を示す図である。
施の形態について説明する。図１は本発明による乾燥装
置の一実施の形態を示す図である。
【０００８】図１に示すように、乾燥装置、例えば赤外
線乾燥装置１０は基材１５が内部を走行するとともに、
この内部が走行するガラス基材１５の上流側から順に第
１乾燥ゾーン１０ａと、第２乾燥ゾーン１０ｂとに仕切
壁１０ｃにより仕切られた乾燥炉１１と、乾燥炉１１の
第１乾燥ゾーン１０ａ内であって基材１５上方に基材１
５に平行に配置されるとともに開口１６ａを有する赤外
線ヒータ１６と、第１乾燥ゾーン１０ａ内であって赤外
線ヒータ１６上方に配置された給気装置１８および排気
装置１９と、を備えている。
線乾燥装置１０は基材１５が内部を走行するとともに、
この内部が走行するガラス基材１５の上流側から順に第
１乾燥ゾーン１０ａと、第２乾燥ゾーン１０ｂとに仕切
壁１０ｃにより仕切られた乾燥炉１１と、乾燥炉１１の
第１乾燥ゾーン１０ａ内であって基材１５上方に基材１
５に平行に配置されるとともに開口１６ａを有する赤外
線ヒータ１６と、第１乾燥ゾーン１０ａ内であって赤外
線ヒータ１６上方に配置された給気装置１８および排気
装置１９と、を備えている。
【０００９】図１において基材１５としては、電極を有
する枚葉ガラス基材に、予めリブペースト材が塗布され
て表面に塗膜が形成されたＰＤＰ背面板用のガラス基材
が考えられる。
する枚葉ガラス基材に、予めリブペースト材が塗布され
て表面に塗膜が形成されたＰＤＰ背面板用のガラス基材
が考えられる。
【００１０】給気装置１８は基材１５の走行方向Ｌの下
流側に設けられ、予め適温に加熱された空気を供給する
ものである。排気装置１９は基材１５の走行方向Ｌの上
流側に設けられ、給気装置１８と排気装置１９とによっ
て赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒータ１６と平行な空
気流を形成するようになっている。
流側に設けられ、予め適温に加熱された空気を供給する
ものである。排気装置１９は基材１５の走行方向Ｌの上
流側に設けられ、給気装置１８と排気装置１９とによっ
て赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒータ１６と平行な空
気流を形成するようになっている。
【００１１】なお、給気装置１８を基材１５の走行方向
Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向
Ｌの下流側に設けてもよい。
Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向
Ｌの下流側に設けてもよい。
【００１２】また第１乾燥ゾーン１１ａ内の基材１５下
方に、追加給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設
けられている。追加給気装置２０は基材１５の走行方向
Ｌの下流側に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の
走行方向Ｌの上流側に設けられ、これら追加給気装置２
０と追加排気装置２１とによって基材１５下方に基材１
５と平行な空気流を形成している。
方に、追加給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設
けられている。追加給気装置２０は基材１５の走行方向
Ｌの下流側に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の
走行方向Ｌの上流側に設けられ、これら追加給気装置２
０と追加排気装置２１とによって基材１５下方に基材１
５と平行な空気流を形成している。
【００１３】また図１に示すように、乾燥炉１１にはそ
の入口側に基材入口１１ａを介してローダ部２３が設置
され、その出口側に基材出口１１ｂを介してアンローダ
部２５が設置されている。さらにローダ部２３、乾燥炉
１１の第１乾燥ゾーン１０ａ、および第２乾燥ゾーン１
０ｂ内には、基材１５を搬送する多数の搬送ローラ１２
が設けられている。
の入口側に基材入口１１ａを介してローダ部２３が設置
され、その出口側に基材出口１１ｂを介してアンローダ
部２５が設置されている。さらにローダ部２３、乾燥炉
１１の第１乾燥ゾーン１０ａ、および第２乾燥ゾーン１
０ｂ内には、基材１５を搬送する多数の搬送ローラ１２
が設けられている。
【００１４】さらにまた、図１に示すように、乾燥炉１
１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内には、基材１５の上方に熱
風吹付装置２６が設けられ、基材１５の下方に排気装置
２７が設けられている。
１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内には、基材１５の上方に熱
風吹付装置２６が設けられ、基材１５の下方に排気装置
２７が設けられている。
【００１５】図１において、第１乾燥ゾーン１０ａ内に
設置された赤外線ヒータ１６、給気装置１８、排気装置
１９、追加給気装置２０および追加排気装置２１により
第１乾燥機構が構成されている。また第２乾燥ゾーン１
０ｂ内に設置された熱風吹付装置２６および排気装置２
７により第２乾燥機構が構成されている。
設置された赤外線ヒータ１６、給気装置１８、排気装置
１９、追加給気装置２０および追加排気装置２１により
第１乾燥機構が構成されている。また第２乾燥ゾーン１
０ｂ内に設置された熱風吹付装置２６および排気装置２
７により第２乾燥機構が構成されている。
【００１６】次にこのような構成からなる本実施の形態
の作用について説明する。まず電極を有するガラス基材
１５に対して印刷またはコーティングによりリブペース
ト材が塗布され、表面に塗膜（２５０〜３００μｍ）が
形成された基材１５が作製される。次に塗膜が形成され
た基材１５はローダ部２３から基材入口１１ａを介して
乾燥炉１１に進入し、搬入ローラ１２により一定速度で
乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内を走行した後、乾
燥炉１１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内へ送られ、その後第
２乾燥ゾーン１０ｂ内から基材出口１１ｂを経て外方へ
排出される。
の作用について説明する。まず電極を有するガラス基材
１５に対して印刷またはコーティングによりリブペース
ト材が塗布され、表面に塗膜（２５０〜３００μｍ）が
形成された基材１５が作製される。次に塗膜が形成され
た基材１５はローダ部２３から基材入口１１ａを介して
乾燥炉１１に進入し、搬入ローラ１２により一定速度で
乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内を走行した後、乾
燥炉１１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内へ送られ、その後第
２乾燥ゾーン１０ｂ内から基材出口１１ｂを経て外方へ
排出される。
【００１７】この間、第１乾燥ゾーン１０ａ内において
赤外線ヒータ１６からの輻射熱により、基材１５上に設
けられた塗膜表面から溶剤が蒸発し、除去される。基材
１５から除去された溶剤は上昇して、赤外線ヒータ１６
の開口１６ａから赤外線ヒータ１６の上方へ達する。
赤外線ヒータ１６からの輻射熱により、基材１５上に設
けられた塗膜表面から溶剤が蒸発し、除去される。基材
１５から除去された溶剤は上昇して、赤外線ヒータ１６
の開口１６ａから赤外線ヒータ１６の上方へ達する。
【００１８】このとき、赤外線ヒータ１６の上方には、
給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６
と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１
６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な
空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１
９から外方へ排出される。
給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６
と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１
６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な
空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１
９から外方へ排出される。
【００１９】また基材１５下方にも、追加給気装置２０
と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１
５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１
１の第１乾燥ゾーン１０ａ内の空気流が安定し、赤外線
ヒータ１６上方の空気流が赤外線ヒータ１６の側方また
は基材１５の側方を通過して基材１５の下方へ流れるこ
とはない。
と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１
５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１
１の第１乾燥ゾーン１０ａ内の空気流が安定し、赤外線
ヒータ１６上方の空気流が赤外線ヒータ１６の側方また
は基材１５の側方を通過して基材１５の下方へ流れるこ
とはない。
【００２０】上述のように、第１乾燥ゾーン１０ａ内で
は、基材１５表面に空気流が直接当たることはないの
で、基材１５の塗膜表面が荒れたり塗膜表面からの乾燥
によって塗膜表面に皮ばりを生じさせることはなく、第
１乾燥ゾーン１０ａ内において基材１５の塗膜の恒率乾
燥を精度良く行うことができる。
は、基材１５表面に空気流が直接当たることはないの
で、基材１５の塗膜表面が荒れたり塗膜表面からの乾燥
によって塗膜表面に皮ばりを生じさせることはなく、第
１乾燥ゾーン１０ａ内において基材１５の塗膜の恒率乾
燥を精度良く行うことができる。
【００２１】次に基材１５は、第２乾燥ゾーン１０ｂ内
において熱風吹付装置２６から吹付けられる熱風によ
り、基材１５の塗膜の減率乾燥が行われ、減率乾燥を行
った熱風は、その後排気装置２７から排気される。基材
１５の塗膜は第１乾燥ゾーン１０ａ内で予めある程度乾
燥して固化されているので、第２乾燥ゾーン１０ｂ内に
おいて熱風を基材１５の型膜に吹付けても塗膜表面が荒
れることはなく、熱風吹付装置２６により吹付けられた
熱風により、迅速に基材１５の塗膜の減率乾燥を行うこ
とができる。
において熱風吹付装置２６から吹付けられる熱風によ
り、基材１５の塗膜の減率乾燥が行われ、減率乾燥を行
った熱風は、その後排気装置２７から排気される。基材
１５の塗膜は第１乾燥ゾーン１０ａ内で予めある程度乾
燥して固化されているので、第２乾燥ゾーン１０ｂ内に
おいて熱風を基材１５の型膜に吹付けても塗膜表面が荒
れることはなく、熱風吹付装置２６により吹付けられた
熱風により、迅速に基材１５の塗膜の減率乾燥を行うこ
とができる。
【００２２】なお第１乾燥ゾーン１０ａ内における恒率
乾燥は１５０℃〜１８０℃の温度で行われ、一方第２乾
燥ゾーン１０ｂ内における減率乾燥は２２０℃〜２５０
℃にて行われる。
乾燥は１５０℃〜１８０℃の温度で行われ、一方第２乾
燥ゾーン１０ｂ内における減率乾燥は２２０℃〜２５０
℃にて行われる。
【００２３】以上のように本実施の形態によれば、第１
乾燥ゾーン１０ａ内において給気装置１８と排気装置１
９とにより赤外線ヒータ１６上方に形成された空気流が
直接基材１５表面に当たることはない。このため基材１
５に設けられた塗膜表面が荒れたり、塗膜表面からの乾
燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせこれによって塗
膜の密着性が悪化したりすることはない。このように基
材１５に設けられた塗膜の性質を劣化させることを防止
することができる。また赤外線ヒータ１６上方の空気流
は、赤外線ヒータ１６と平行に流れるので、赤外線ヒー
タ１６に空気流が当たることもなく、赤外線ヒータ１６
の温度低下を引き起こすことはない。さらに追加給気装
置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に
基材１５と平行な空気流を形成することができるので、
乾燥炉１１内の空気流のバランスを安定化させることが
でき、より確実に基材１５へ直接当たる空気流をなくす
ことができる。第１乾燥ゾーン１０ａ内で塗膜に対して
恒率乾燥が行われた基材１５は、その後第２乾燥ゾーン
１０ｂ内において、熱風吹付装置２６から吹付けられる
熱風により減率乾燥が行われる。
乾燥ゾーン１０ａ内において給気装置１８と排気装置１
９とにより赤外線ヒータ１６上方に形成された空気流が
直接基材１５表面に当たることはない。このため基材１
５に設けられた塗膜表面が荒れたり、塗膜表面からの乾
燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせこれによって塗
膜の密着性が悪化したりすることはない。このように基
材１５に設けられた塗膜の性質を劣化させることを防止
することができる。また赤外線ヒータ１６上方の空気流
は、赤外線ヒータ１６と平行に流れるので、赤外線ヒー
タ１６に空気流が当たることもなく、赤外線ヒータ１６
の温度低下を引き起こすことはない。さらに追加給気装
置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に
基材１５と平行な空気流を形成することができるので、
乾燥炉１１内の空気流のバランスを安定化させることが
でき、より確実に基材１５へ直接当たる空気流をなくす
ことができる。第１乾燥ゾーン１０ａ内で塗膜に対して
恒率乾燥が行われた基材１５は、その後第２乾燥ゾーン
１０ｂ内において、熱風吹付装置２６から吹付けられる
熱風により減率乾燥が行われる。
【００２４】なお上記実施の形態において、第２乾燥ゾ
ーン１０ｂ内に熱風吹付装置２６を設置した例を示した
が、これに限らず第２乾燥ゾーン１０ｂ内に第１乾燥ゾ
ーン１０ａ内と同様赤外線ヒータを設置してもよい。
ーン１０ｂ内に熱風吹付装置２６を設置した例を示した
が、これに限らず第２乾燥ゾーン１０ｂ内に第１乾燥ゾ
ーン１０ａ内と同様赤外線ヒータを設置してもよい。
【００２５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、第１乾燥
ゾーン内において、第１乾燥機構の赤外線ヒータにより
基材の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒー
タ上方に赤外線ヒータと平行に形成された空気流により
排気装置まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜
表面あるいは赤外線ヒータに空気流が直接当たることは
なく、このことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線
ヒータの温度低下をまねくことはない。このようにして
塗膜の恒率乾燥を精度良く行うことができる。その後基
材は第２乾燥ゾーン内において、すでに恒率乾燥され固
化された塗膜に対して第２乾燥機構により迅速に減率乾
燥を行うことができる。
ゾーン内において、第１乾燥機構の赤外線ヒータにより
基材の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒー
タ上方に赤外線ヒータと平行に形成された空気流により
排気装置まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜
表面あるいは赤外線ヒータに空気流が直接当たることは
なく、このことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線
ヒータの温度低下をまねくことはない。このようにして
塗膜の恒率乾燥を精度良く行うことができる。その後基
材は第２乾燥ゾーン内において、すでに恒率乾燥され固
化された塗膜に対して第２乾燥機構により迅速に減率乾
燥を行うことができる。
【図１】本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を
示す図。
示す図。
１０ 赤外線乾燥装置 １０ａ 第１乾燥ゾーン １０ｂ 第２乾燥ゾーン １１ 乾燥炉 １２ 搬送ローラ １５ 基材 １６ 赤外線ヒータ １８ 給気装置 １９ 排気装置 ２０ 追加給気装置 ２１ 追加排気装置 ２６ 熱風吹付装置 ２７ 排気装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ２７Ｂ 9/04 Ｆ２７Ｂ 9/04 ５Ｃ０４０ 9/10 9/10 Ｆ２７Ｄ 7/02 Ｆ２７Ｄ 7/02 Ｚ Ａ Ｈ０１Ｊ 9/46 Ｈ０１Ｊ 9/46 Ａ // Ｈ０１Ｊ 11/02 11/02 Ｚ Ｆターム(参考） 3L113 AA02 AB06 AC10 AC55 BA34 CB26 DA24 4F042 AA07 DB18 DB26 DC03 4K050 AA05 BA17 CA13 CC10 CD05 CD16 CD22 CG04 4K063 AA09 BA12 CA03 DA24 5C012 AA09 5C040 JA28
Claims (5)
- 【請求項１】塗膜が形成された基材が内部を走行すると
ともに、この内部が走行する基材の上流側から順に第１
乾燥ゾーンと、第２乾燥ゾーンとに仕切られた乾燥炉
と、 第１乾燥ゾーン内に設けられた第１乾燥機構と、 第２乾燥ゾーン内に設けられた第２乾燥機構とを備え、 第１乾燥機構は第１乾燥ゾーン内の基材の上方に基材に
略平行に配置された赤外線ヒータと、 第１乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置された、空
気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置と
を有し、 給気装置と排気装置とによって赤外線ヒータ上方に赤外
線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする乾
燥装置。 - 【請求項２】給気装置を基材の走行方向の上流側および
下流側のうち一方に配置し、排気装置を他方に配置した
ことを特徴とする請求項１記載の乾燥装置。 - 【請求項３】給気装置を基材の走行方向下流側に設け、
排気装置を基材の走行方向上流側に設けたことを特徴と
する請求項２記載の赤外線乾燥装置。 - 【請求項４】第１乾燥ゾーン内の基材下方に、追加給気
装置と追加排気装置を設け、これら追加給気装置と追加
排気装置とによって基材下方に基材と平行な空気流を形
成することを特徴とする請求項１記載の乾燥装置。 - 【請求項５】第２乾燥機構は、基材に対して熱風を吹付
ける熱風吹付装置からなることを特徴とする請求項１記
載の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000186040A JP4287988B2 (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000186040A JP4287988B2 (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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