JP2001289561A - 赤外線乾燥装置 - Google Patents
赤外線乾燥装置Info
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- JP2001289561A JP2001289561A JP2000109586A JP2000109586A JP2001289561A JP 2001289561 A JP2001289561 A JP 2001289561A JP 2000109586 A JP2000109586 A JP 2000109586A JP 2000109586 A JP2000109586 A JP 2000109586A JP 2001289561 A JP2001289561 A JP 2001289561A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材に設けられた塗膜の性質を劣化させたり
赤外線ヒータの温度低下を招くことのない赤外線乾燥装
置を提供する。 【解決手段】 赤外線乾燥装置１０は塗膜が形成された
基材１５が走行する乾燥炉１１と、乾燥炉１１内の基材
１５上方に設けられた赤外線ヒータ１６とを備えてい
る。赤外線ヒータ１６の上方に給気装置１８と排気装置
１９が設けられ、給気装置１８と排気装置１９によって
赤外線ヒータ１６上方に、赤外線ヒータ１６と平行な空
気流が形成される。基材１５の塗膜表面から除去された
蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６の上方へ達し、この空気流
により運ばれる。赤外線ヒータ１６上方の空気流は基材
１５に直接当たったり、赤外線ヒータ１６に直接当たる
ことはない。
赤外線ヒータの温度低下を招くことのない赤外線乾燥装
置を提供する。 【解決手段】 赤外線乾燥装置１０は塗膜が形成された
基材１５が走行する乾燥炉１１と、乾燥炉１１内の基材
１５上方に設けられた赤外線ヒータ１６とを備えてい
る。赤外線ヒータ１６の上方に給気装置１８と排気装置
１９が設けられ、給気装置１８と排気装置１９によって
赤外線ヒータ１６上方に、赤外線ヒータ１６と平行な空
気流が形成される。基材１５の塗膜表面から除去された
蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６の上方へ達し、この空気流
により運ばれる。赤外線ヒータ１６上方の空気流は基材
１５に直接当たったり、赤外線ヒータ１６に直接当たる
ことはない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基材上に設けられた
塗膜を乾燥させるための赤外線乾燥装置に係り、とりわ
け塗膜の性質を劣化させることなく乾燥させることがで
きる赤外線乾燥装置に関する。
塗膜を乾燥させるための赤外線乾燥装置に係り、とりわ
け塗膜の性質を劣化させることなく乾燥させることがで
きる赤外線乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より赤外線乾燥装置として、図２に
示すようなものが知られている。図２に示すように、赤
外線乾燥装置１０は塗膜を有する基材１５が内部を走行
する乾燥炉１１と、乾燥炉１１内の基材１５上方に配置
された、開口１６ａを有する赤外線ヒータ１６とを備え
ている。
示すようなものが知られている。図２に示すように、赤
外線乾燥装置１０は塗膜を有する基材１５が内部を走行
する乾燥炉１１と、乾燥炉１１内の基材１５上方に配置
された、開口１６ａを有する赤外線ヒータ１６とを備え
ている。
【０００３】また赤外線ヒータ１６の上方には給気装置
２５と排気装置２６が各々設けられ、これら給気装置２
５と排気装置２６は互いに離間しかつ赤外線ヒータ１６
の開口１６ａ近傍に設けられている。
２５と排気装置２６が各々設けられ、これら給気装置２
５と排気装置２６は互いに離間しかつ赤外線ヒータ１６
の開口１６ａ近傍に設けられている。
【０００４】図２において、基材１５に印刷またはコー
ティングにより予め塗膜が形成される。基材１５はその
後、基材入口１１ａから乾燥炉１１内に進入し、ガイド
ロール１２に沿って走行し、基材出口１１ｂから排出さ
れる。
ティングにより予め塗膜が形成される。基材１５はその
後、基材入口１１ａから乾燥炉１１内に進入し、ガイド
ロール１２に沿って走行し、基材出口１１ｂから排出さ
れる。
【０００５】この間、基材１５は赤外線ヒータ１６によ
って加熱される。また乾燥炉内の雰囲気温度を下げない
様に、予め適温に加熱された空気が給気装置２５によっ
て基材１５側へ吹付けられ、基材１５の塗膜表面の蒸発
溶剤を除去する。塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、
その後空気とともに基材１５に沿って流れた後、排気装
置２６を経て排気される。
って加熱される。また乾燥炉内の雰囲気温度を下げない
様に、予め適温に加熱された空気が給気装置２５によっ
て基材１５側へ吹付けられ、基材１５の塗膜表面の蒸発
溶剤を除去する。塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、
その後空気とともに基材１５に沿って流れた後、排気装
置２６を経て排気される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、予め適
温に加熱された空気は給気装置２５によって基材１５表
面の蒸発溶剤を除去するために基材１５側へ吹付けられ
る。その際空気が基材１５上に設けられた塗膜表面に直
接当たるため塗膜表面を荒らしたり、塗膜表面の乾燥に
より塗膜表面に皮ばりを生じさせ、塗膜の密着性を低下
させることがある。また給気装置２５からの空気は赤外
線ヒータ１６と基材１５との間を流れるため、赤外線ヒ
ータ１６の表面温度が低下することも考えられる。
温に加熱された空気は給気装置２５によって基材１５表
面の蒸発溶剤を除去するために基材１５側へ吹付けられ
る。その際空気が基材１５上に設けられた塗膜表面に直
接当たるため塗膜表面を荒らしたり、塗膜表面の乾燥に
より塗膜表面に皮ばりを生じさせ、塗膜の密着性を低下
させることがある。また給気装置２５からの空気は赤外
線ヒータ１６と基材１５との間を流れるため、赤外線ヒ
ータ１６の表面温度が低下することも考えられる。
【０００７】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させる
ことなく、かつ赤外線ヒータの温度低下を防止して乾燥
効率を向上させることができる赤外線乾燥装置を提供す
ることを目的とする。
ものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させる
ことなく、かつ赤外線ヒータの温度低下を防止して乾燥
効率を向上させることができる赤外線乾燥装置を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、塗膜が形成さ
れた基材が内部を走行する乾燥炉と、乾燥炉内の基材の
上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、乾燥
炉内の赤外線ヒータ上方に配置された空気を給気する給
気装置および空気を排気する排気装置とを備え、給気装
置と排気装置とによって赤外線ヒータ上方に赤外線ヒー
タと平行な空気流を形成することを特徴とする赤外線乾
燥装置である。
れた基材が内部を走行する乾燥炉と、乾燥炉内の基材の
上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、乾燥
炉内の赤外線ヒータ上方に配置された空気を給気する給
気装置および空気を排気する排気装置とを備え、給気装
置と排気装置とによって赤外線ヒータ上方に赤外線ヒー
タと平行な空気流を形成することを特徴とする赤外線乾
燥装置である。
【０００９】本発明によれば、赤外線ヒータからの輻射
熱により、基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表
面から除去された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、
赤外線ヒータ上方において給気装置と排気装置によって
赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置
まで運ばれて排気される。
熱により、基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表
面から除去された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、
赤外線ヒータ上方において給気装置と排気装置によって
赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置
まで運ばれて排気される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明による赤外線
乾燥装置の一実施の形態を示す図である。
施の形態について説明する。図１は本発明による赤外線
乾燥装置の一実施の形態を示す図である。
【００１１】図１は本発明による赤外線乾燥装置の一実
施の形態を示す図である。図１に示すように、赤外線乾
燥装置１０は基材１５が内部を走行する乾燥炉１１と、
乾燥炉１１内であって基材１５上方に基材１５に平行に
配置されるとともに開口１６ａを有する赤外線ヒータ１
６と、乾燥炉１１内であって赤外線ヒータ１６上方に配
置された給気装置１８および排気装置１９と、を備えて
いる。
施の形態を示す図である。図１に示すように、赤外線乾
燥装置１０は基材１５が内部を走行する乾燥炉１１と、
乾燥炉１１内であって基材１５上方に基材１５に平行に
配置されるとともに開口１６ａを有する赤外線ヒータ１
６と、乾燥炉１１内であって赤外線ヒータ１６上方に配
置された給気装置１８および排気装置１９と、を備えて
いる。
【００１２】このうち、給気装置１８は基材１５の走行
方向Ｌの下流側に設けられ、予め適温に加熱された空気
を供給するものである。排気装置１９は基材１５の走行
方向Ｌの上流側に設けられ、これら給気装置１８と排気
装置１９とによって赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒー
タ１６と平行な空気流を形成するようになっている。
方向Ｌの下流側に設けられ、予め適温に加熱された空気
を供給するものである。排気装置１９は基材１５の走行
方向Ｌの上流側に設けられ、これら給気装置１８と排気
装置１９とによって赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒー
タ１６と平行な空気流を形成するようになっている。
【００１３】なお、給気装置１８を基材１５の走行方向
Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向
Ｌの下流側に設けてもよい。
Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向
Ｌの下流側に設けてもよい。
【００１４】また乾燥炉１１内の基材１５下方に、追加
給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設けられてい
る。追加給気装置２０は基材１５の走行方向Ｌの下流側
に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の走行方向Ｌ
の上流側に設けられ、これら追加給気装置２０と追加排
気装置２１とによって基材１５下方に基材１５と平行な
空気流を形成している。
給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設けられてい
る。追加給気装置２０は基材１５の走行方向Ｌの下流側
に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の走行方向Ｌ
の上流側に設けられ、これら追加給気装置２０と追加排
気装置２１とによって基材１５下方に基材１５と平行な
空気流を形成している。
【００１５】また乾燥炉１１には、基材１５が進入する
基材入口１１ａと、基材１５が排出される基材出口１１
ｂとが設けられ、さらに乾燥炉１１内には基材１５を支
持するガイドローラ１２が設けられている。
基材入口１１ａと、基材１５が排出される基材出口１１
ｂとが設けられ、さらに乾燥炉１１内には基材１５を支
持するガイドローラ１２が設けられている。
【００１６】次にこのような構成からなる本実施の形態
の作用について説明する。まず基材１５に対して印刷ま
たはコーティングが施され、基材１５上に塗膜が形成さ
れる。次に塗膜が形成された基材１５は基材入口１１ａ
から乾燥炉１１内に進入し、ガイドローラ１２に沿って
乾燥炉１１内を走行した後、乾燥炉１１から基材出口１
１ｂを経て外方へ排出される。
の作用について説明する。まず基材１５に対して印刷ま
たはコーティングが施され、基材１５上に塗膜が形成さ
れる。次に塗膜が形成された基材１５は基材入口１１ａ
から乾燥炉１１内に進入し、ガイドローラ１２に沿って
乾燥炉１１内を走行した後、乾燥炉１１から基材出口１
１ｂを経て外方へ排出される。
【００１７】この間、赤外線ヒータ１５からの輻射熱に
より、基材１５上に設けられた塗膜表面から溶剤が蒸発
し、除去される。基材１５から除去された溶剤は上昇し
て、赤外線ヒータ１６の開口１６ａから赤外線ヒータ１
６の上方へ達する。
より、基材１５上に設けられた塗膜表面から溶剤が蒸発
し、除去される。基材１５から除去された溶剤は上昇し
て、赤外線ヒータ１６の開口１６ａから赤外線ヒータ１
６の上方へ達する。
【００１８】このとき、赤外線ヒータ１６の上方には、
給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６
と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１
６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な
空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１
９から外方へ排出される。
給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６
と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１
６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な
空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１
９から外方へ排出される。
【００１９】また基材１５下方にも、追加給気装置２０
と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１
５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１
１内の空気流が安定し、赤外線ヒータ１６上方の空気流
が赤外線ヒータ１６の側方または基材１５の側方を通過
して基材１５の下方へ流れることはない。
と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１
５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１
１内の空気流が安定し、赤外線ヒータ１６上方の空気流
が赤外線ヒータ１６の側方または基材１５の側方を通過
して基材１５の下方へ流れることはない。
【００２０】以上のように本実施の形態によれば、給気
装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６上方
に形成された空気流が直接基材１５表面に当たることは
ない。このため基材１５に設けられた塗膜表面が荒れた
り、塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生
じさせこれによって塗膜の密着性が悪化したりすること
はない。このように基材１５に設けられた塗膜の性質を
劣化させることを防止することができる。また赤外線ヒ
ータ１６上方の空気流は、赤外線ヒータ１６と平行に流
れるので、赤外線ヒータ１６に空気流が当たることもな
く、赤外線ヒータ１６の温度低下を引き起こすことはな
い。さらに追加給気装置２０と追加排気装置２１とによ
り、基材１５の下方に基材１５と平行な空気流を形成す
ることができるので、乾燥炉１１内の空気流のバランス
を安定化させることができ、より確実に基材１５へ直接
当たる空気流をなくすことができる。
装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６上方
に形成された空気流が直接基材１５表面に当たることは
ない。このため基材１５に設けられた塗膜表面が荒れた
り、塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生
じさせこれによって塗膜の密着性が悪化したりすること
はない。このように基材１５に設けられた塗膜の性質を
劣化させることを防止することができる。また赤外線ヒ
ータ１６上方の空気流は、赤外線ヒータ１６と平行に流
れるので、赤外線ヒータ１６に空気流が当たることもな
く、赤外線ヒータ１６の温度低下を引き起こすことはな
い。さらに追加給気装置２０と追加排気装置２１とによ
り、基材１５の下方に基材１５と平行な空気流を形成す
ることができるので、乾燥炉１１内の空気流のバランス
を安定化させることができ、より確実に基材１５へ直接
当たる空気流をなくすことができる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、基材の塗
膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒータ上方に
赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置
まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜表面ある
いは赤外線ヒータに空気流が直接当たることはなく、こ
のことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの
温度低下をまねくことはない。
膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒータ上方に
赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置
まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜表面ある
いは赤外線ヒータに空気流が直接当たることはなく、こ
のことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの
温度低下をまねくことはない。
【図１】本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を
示す図。
示す図。
【図２】従来の赤外線乾燥装置を示す図。
１０ 赤外線乾燥装置 １１ 乾燥炉 １２ ガイドローラ １５ 基材 １６ 赤外線ヒータ １８ 給気装置 １９ 排気装置 ２０ 追加給気装置 ２１ 追加排気装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3L113 AA03 AB01 AC10 AC31 AC52 AC53 AC63 AC69 BA26 DA01 DA24 4D075 BB24Z BB37Z
Claims (4)
- 【請求項１】塗膜が形成された基材が内部を走行する乾
燥炉と、 乾燥炉内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外
線ヒータと、 乾燥炉内の赤外線ヒータ上方に配置された空気を給気す
る給気装置および空気を排気する排気装置とを備え、 給気装置と排気装置とによって赤外線ヒータ上方に赤外
線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする赤
外線乾燥装置。 - 【請求項２】給気装置を基材の走行方向の上流側および
下流側のうち一方に配置し、排気装置を他方に配置した
ことを特徴とする請求項１記載の赤外線乾燥装置。 - 【請求項３】給気装置を基材の走行方向下流側に設け、
排気装置を基材の走行方向上流側に設けたことを特徴と
する請求項２記載の赤外線乾燥装置。 - 【請求項４】乾燥炉内の基材下方に、追加給気装置と追
加排気装置を設け、これら追加給気装置と追加排気装置
とによって基材下方に基材と平行な空気流を形成するこ
とを特徴とする請求項１記載の赤外線乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000109586A JP4287979B2 (ja) | 2000-04-11 | 2000-04-11 | 赤外線乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000109586A JP4287979B2 (ja) | 2000-04-11 | 2000-04-11 | 赤外線乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001289561A true JP2001289561A (ja) | 2001-10-19 |
| JP4287979B2 JP4287979B2 (ja) | 2009-07-01 |
Family
ID=18622259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000109586A Expired - Fee Related JP4287979B2 (ja) | 2000-04-11 | 2000-04-11 | 赤外線乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4287979B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108663281A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种散状物料水分在线检测装置及其检测方法 |
| CN108663280A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种散状物料水分在线检测装置及其检测方法 |
| CN113587610A (zh) * | 2021-08-20 | 2021-11-02 | 响水县嘉亿纺织有限公司 | 一种用于新型纺织机的布料烘干装置 |
-
2000
- 2000-04-11 JP JP2000109586A patent/JP4287979B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108663281A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种散状物料水分在线检测装置及其检测方法 |
| CN108663280A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种散状物料水分在线检测装置及其检测方法 |
| CN108663281B (zh) * | 2017-03-27 | 2024-04-05 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种散状物料水分在线检测装置及其检测方法 |
| CN108663280B (zh) * | 2017-03-27 | 2024-04-05 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种散状物料水分在线检测装置及其检测方法 |
| CN113587610A (zh) * | 2021-08-20 | 2021-11-02 | 响水县嘉亿纺织有限公司 | 一种用于新型纺织机的布料烘干装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4287979B2 (ja) | 2009-07-01 |
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