JP2002277609A

JP2002277609A - 反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置、及び、それらの製造方法

Info

Publication number: JP2002277609A
Application number: JP2001220330A
Authority: JP
Inventors: Hiroko Suzuki; 裕子鈴木; Seiji Shinohara; 誠司篠原; Toshio Yoshihara; 俊夫吉原; Satoshi Shioda; 聡塩田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-01-15
Filing date: 2001-07-19
Publication date: 2002-09-25
Anticipated expiration: 2021-07-19
Also published as: JP4712236B2

Abstract

(57)【要約】【課題】透明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜
厚の均一性などの諸性能に優れた光透過層（特に中〜高
屈折率層や高屈折率ハードコート層）を積層してなる高
品質の反射防止膜を提供する。【解決手段】（１）光触媒活性を低下又は消失させる
無機化合物とアニオン性の極性基を有する有機化合物及
び／又は有機金属化合物により被覆され、０．０１〜
０．１μｍの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化
チタン、（２）電離放射線硬化性のバインダー成分、
（３）アニオン性の極性基を有する分散剤、及び、
（４）有機溶剤、を含有するコーティング組成物から形
成した塗膜は、単層型又は多層型の反射防止膜１７を構
成する光透過層、特に中屈折率層１８、高屈折率層１
９、又は高屈折率を有するハードコート層１６を形成す
るのに好適である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、分散性、分散安定
性、塗工適性に優れるコーティング組成物、及び、当該
コーティング組成物を用いて形成した塗膜に関する。よ
り具体的には、ＬＣＤやＣＲＴ等の表示面を被覆する反
射防止膜を構成する層、特に、中〜高屈折率層の支持層
としての機能と高屈折率層としての機能を併せ持つ高屈
折率ハードコート層、及び、蒸着層などの隣接層との密
着性が良好な中〜高屈折率層を形成するのに適したコー
ティング組成物に関する。

【０００２】また、本発明は、当該コーティング組成物
を用いて形成した塗膜の層を有する反射防止膜、及び、
そのような反射防止膜を適用した反射防止フィルム及び
画像表示装置にも関する。

【０００３】

【従来の技術】液晶ディスプレー（ＬＣＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置の表示面は、その視
認性を高めるために、蛍光燈などの外部光源から照射さ
れた光線の反射が少ないことが求められる。

【０００４】透明な物体の表面を屈折率の小さい透明皮
膜で被覆することにより反射率が小さくなる現象が従来
から知られており、このような現象を利用した反射防止
膜を画像表示装置の表示面に設けて視認性を向上させる
ことが可能である。反射防止膜は、十分な硬度を確保す
る目的で基材上にハードコート層を設け、その上に最表
面の屈折率を小さくするためにハードコート層よりも屈
折率の小さい低屈折率層を設けた層構成、または、反射
防止効果を更に良好にするために前記ハードコート層の
上に中〜高屈折率層を１乃至複数層設け、中〜高屈折率
層の上に最表面の屈折率を小さくするための低屈折率層
を設けた層構成を有する。

【０００５】このような反射防止膜の高屈折率層または
中屈折率層には、反射防止膜にした時に充分な効果を発
揮できる屈折率や透明性等の光学特性、及び、隣接する
他の層（ハードコート層や低屈折率層）との密着性や耐
擦傷性等の物理特性が要求される。

【０００６】反射防止膜の高屈折率層または中屈折率層
を形成する方法は、一般に気相法と塗布法に大別され、
気相法には真空蒸着法、スパッタリング法等の物理的方
法と、ＣＶＤ法等の化学的方法とがあり、塗布法にはロ
ールコート法、グラビアコート法、スライドコート法、
スプレー法、浸漬法、及び、スクリーン印刷法等があ
る。

【０００７】気相法による場合には、高機能且つ高品質
な薄膜の高屈折率層及び中屈折率層を形成することが可
能だが、高真空系での精密な雰囲気の制御が必要であ
り、また、特殊な加熱装置又はイオン発生加速装置が必
要であり、そのために製造装置が複雑で大型化するため
に必然的に製造コストが高くなるという問題がある。ま
た、高屈折率層及び中屈折率層の薄膜を大面積化したり
或いは複雑な形状を持つフィルム等の表面に薄膜を均一
な膜厚に形成することが困難である。

【０００８】一方、塗布法のうちスプレー法による場合
には、塗工液の利用効率が悪く、成膜条件の制御が困難
である等の問題がある。ロールコート法、グラビアコー
ト法、スライドコート法、浸漬法及びスクリーン印刷法
等による場合には、成膜原料の利用効率が良く、大量生
産や設備コスト面での有利さがあるが、一般的に、塗布
法により得られる高屈折率層及び中屈折率層は、気相法
により得られるものと比較して機能及び品質が劣るとい
う問題点がある。

【０００９】近年、優れた品質を有する高屈折率層及び
中屈折率層の薄膜を形成し得る塗布法として、有機物か
らなるバインダーの溶液中に酸化チタンや酸化スズ等の
高屈折率微粒子を分散させた塗工液を基板上に塗布し、
塗膜を形成する方法が提案されている。

【００１０】中〜高屈折率層を形成する塗膜は可視光領
域において透明であることが必須であるため、高屈折率
微粒子としては一次粒子径が可視光線の波長以下である
所謂超微粒子を使用すると共に、当該高屈折率微粒子を
塗工液中及び塗膜中に均一に分散する必要がある。しか
しながら一般に、微粒子の粒子径を小さくしていくと、
微粒子の表面積が大きくなり、粒子間の凝集力が増大す
る。そして、塗工液の固形成分が凝集すると、得られる
塗膜のヘイズが悪化する。従って、高屈折率層及び中屈
折率層の薄膜を形成する塗工液には、ヘイズの小さい均
一な塗膜を形成するために十分な分散性を有することが
求められる。また、塗工液には、長期間に渡って容易に
保存できるように十分な分散安定性を有することが求め
られる。

【００１１】超微粒子の凝集という問題は、当該超微粒
子に対して良好な分散性を示す分散剤を使用することに
より解決することができる。分散剤は、凝集する微粒子
間に浸透しながら微粒子表面に吸着し、分散処理の過程
で凝集状態をほぐしながら溶剤中への均一分散化を可能
とする。しかしながら、超微粒子は表面積が増大してい
るので、これを塗工液中に均一に分散させ、長期保存に
耐え得るほどに安定化させるためには大量の分散剤が必
要になる。塗工液に大量の分散剤を配合すると、当該塗
工液を用いて形成した塗膜にも分散剤が多量に存在する
こととなり、分散剤がバインダー成分の硬化を妨げ、塗
膜の強度を極端に低下させる。

【００１２】さらに、塗工液には、大量生産の観点から
大面積薄膜を容易に形成できるように、塗工時に均一に
薄く塗布することができ、且つ、乾燥むらが生じないよ
うに塗工適性が求められる。

【００１３】また、中〜高屈折率層には、当該中〜高屈
折率層に隣接しているハードコート層や低屈折率層に対
して十分な密着性を有することが求められる。いわゆる
ウエット法により塗工液から形成した中〜高屈折率層の
上に、蒸着法などのいわゆるドライコーティング法によ
り酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）膜などの低屈折率層を形成す
る場合には、密着性が極めて足りず簡単に剥離してしま
うので、特に優れた密着性が求められる。

【００１４】また、ハードコート層は本来、反射防止膜
の傷付きを防止するために中〜高屈折率層の支持層とし
ての役割を持っているが、このハードコート層に高屈折
率微粒子を配合して、中〜高屈折率層としての機能を併
せ持つ高屈折率ハードコート層とする場合には、反射防
止膜の構成層数を減らすことができる。しかし、中〜高
屈折率層の厚さは５〜２００ｎｍ程度、好ましくは５０
〜１６０ｎｍ程度であるのに対して、ハードコート層は
十分な硬度を確保すると言う本来の目的のために１〜１
０μｍ程度、好ましくは２〜５μｍ程度とかなり厚く形
成されるので、高屈折率ハードコート層を中〜高屈折率
層用塗工液と同様の塗工液を用いてウエット法により形
成する場合には、中〜高屈折率層をウエット法により形
成する場合にも増して高屈折率微粒子の凝集による透明
性の悪化を招きやすい。しかも、ハードコート層には高
い硬度が求められるのに対して、上記したように分散剤
には塗膜のバインダー硬化を妨げる性質があるので、ハ
ードコート層用塗工液に配合できる分散剤の量は、中〜
高屈折率層用塗工液にも増して制限される。従って、高
屈折率ハードコート層用塗工液に対する分散剤削減の要
求は、中〜高屈折率層用塗工液に対するよりも、さらに
厳しい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実状を鑑
みて成し遂げられたものであり、その第一の目的は、透
明性、膜強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性な
どの諸性能に優れた光透過層を積層してなる高品質の反
射防止膜を提供することにある。

【００１６】また、本発明の第二の目的は、透明性、膜
強度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性
能に優れると共に屈折率も十分に高い高屈折率層及び／
又は中屈折率層を備えた、高品質の反射防止膜を提供す
ることにある。

【００１７】また、本発明の第三の目的は、中〜高屈折
率層及び低屈折率層の下地として形成した時に、硬度、
透明性、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸
性能に優れ、反射膜の硬度を向上させるハードコート層
として機能し得ると共に、屈折率が高く、中〜高屈折率
層としても機能し得る高屈折率ハードコート層を備え
た、高品質の反射防止膜を提供することにある。

【００１８】また、本発明の第四の目的は、上記第一乃
至第三の目的を達成しうる反射防止膜を設けた反射防止
フィルム及び画像表示装置を提供することにある。

【００１９】また、本発明の第五の目的は、反射防止膜
を構成する光透過層、特に中〜高屈折率層及び／又は高
屈折率ハードコート層を塗布法により形成することによ
り上記第一乃至第三の目的を達成しうる反射防止膜、及
び、かかる反射防止膜を備える反射防止フィルム又は画
像表示装置を効率よく製造する方法を提供することにあ
る。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明に係る反射防止膜
は、光透過性を有する１の光透過層からなる単層構造、
又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる光透過
層を２以上積層した多層構造を有し、前記光透過層のう
ちの少なくともひとつが、光触媒活性を低下又は消失さ
せる無機化合物とアニオン性の極性基を有する有機化合
物及び／又は有機金属化合物により被覆され０．０１〜
０．１μｍの範囲の一次粒子径を有するルチル型の酸化
チタン、及び、アニオン性の極性基を有する分散剤が、
硬化したバインダー中に均一に混合されてなる硬化層で
あることを特徴とするものである。

【００２１】また、本発明に係る反射防止フィルムは、
光透過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に、
上記の反射防止膜を、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑
賞面側に位置するように積層してなることを特徴とする
ものである。

【００２２】また、本発明に係る画像表示装置は、上記
の反射防止膜により、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑
賞面側に位置するように表示面を被覆してなることを特
徴とするものである。

【００２３】また、本発明に係る反射防止膜製造方法
は、支持体上に、光透過性を有する１の光透過層、又
は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる２以上の
光透過層を積層してなる反射防止膜の製造方法であっ
て、あらかじめ前記光透過層が１又は２以上設けられて
いてもよい前記支持体の表面に、必須成分として、
（１）光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とア
ニオン性の極性基を有する有機化合物及び／又は有機金
属化合物により被覆され、０．０１〜０．１μｍの範囲
の一次粒子径を有するルチル型の酸化チタン、（２）電
離放射線硬化性のバインダー成分、（３）アニオン性の
極性基を有する分散剤、及び、（４）有機溶剤、を含有
するコーティング組成物を塗布した後、電離放射線を照
射して硬化させることにより、前記光透過層のうちの少
なくともひとつを形成することを特徴とするものであ
る。

【００２４】上記のコーティング組成物は、高屈折率の
酸化チタンの超微粒子を十分に分散させることが可能で
あり、また分散安定性にも優れているので、分散剤の使
用量を少量に抑えることが可能であり、当該コーティン
グ組成物を被塗布面に塗布し電離放射線の照射により硬
化させることにより、反射防止膜などの光学部材に必要
な高い屈折率と透明性が得られると共に、十分な塗膜強
度及び隣接層との密着性を得ることができる。

【００２５】また、本発明においては、酸化チタンの光
触媒活性を無機化合物による表面処理を行って低下又は
消失させて用いるので、バインダー成分の劣化に伴う塗
膜の強度低下や、反射防止性能低下の原因となる黄変現
象が起こり難い。

【００２６】また、上記のコーティング組成物は塗工適
性にも優れ、均一な大面積薄膜を容易に形成することが
できる。

【００２７】従って、本発明によれば、透明性、膜強
度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能
に優れた光透過層を積層してなる高品質の反射防止膜が
提供される。また、本発明によれば、そのような高品質
の反射防止膜を塗工法により製造することが可能であ
る。

【００２８】特に、上記のコーティング組成物は、酸化
チタンの配合量を変えて調節できる屈折率の範囲から考
えて、中屈折率層、高屈折率層又は高屈折率ハードコー
ト層を形成するのに適している。

【００２９】上記コーティング組成物を用いて高屈折率
層及び／又は中屈折率層を形成する場合には、膜厚が
０．０５〜０．２μｍで、屈折率が１．５５〜２．３０
で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ
値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基
材だけのヘイズ値との差が１％以内である中〜高屈折率
層を形成することができる。

【００３０】また、上記コーティング組成物を用いて高
屈折率ハードコート層を形成する場合には、膜厚が１〜
１０μｍ、好ましくは２〜５μｍで、屈折率が１．５５
〜１．８３で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定さ
れるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか
又は前記基材だけのヘイズ値との差が３％以内である高
屈折率ハードコート層を形成することができる。

【００３１】従って、本発明によれば、透明性、膜強
度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能
に優れると共に屈折率も十分に高い高屈折率層及び／又
は中屈折率層を備えた、高品質の反射防止膜が提供され
る。

【００３２】また、本発明によれば、中〜高屈折率層及
び低屈折率層の下地として形成した時に、硬度、透明
性、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能
に優れ、反射膜の硬度を向上させるハードコート層とし
て機能し得ると共に、屈折率が高く、中〜高屈折率層と
しても機能し得る高屈折率ハードコート層を備えた、高
品質の反射防止膜も提供される。

【００３３】この場合、当該高屈折率ハードコート層の
表面を微細凹凸形状に形成して、防眩層（アンチグレア
層）として機能するハードコート層としてもよい。

【００３４】酸化チタンを被覆する前記無機化合物とし
ては、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウ
ム、酸化スズ、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴ
Ｏ）、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜
鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウ
ムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、及び、フッ素をド
ープした酸化スズ（ＦＴＯ）よりなる群から選ばれる化
合物が好適に用いられる。

【００３５】アニオン性の極性基を有する前記の分散剤
としては、エチレンオキサイド鎖の骨格を有する主鎖に
アニオン性の極性基からなる側鎖又はアニオン性の極性
基を有する側鎖が結合した分子構造を有し、数平均分子
量が２，０００から２０，０００の化合物が好適に用い
られる。

【００３６】電離放射線硬化性のバインダー成分として
は、アニオン性の極性基を有するバインダー成分を用い
るのが好ましい。アニオン性の極性基を有するバインダ
ー成分は、酸化チタンとの親和性が高く、分散助剤とし
て作用するので、コーティング組成物中および塗膜中で
の酸化チタンの分散性を向上させ、また、分散剤の使用
量を減らす効果もあるので好ましい。分散剤はバインダ
ーとしては機能しないので、分散剤の配合割合を減らす
ことによって塗膜強度の向上を図ることができる。

【００３７】前記バインダー成分としては、分子中に水
酸基を残したものを用いるのが好ましい。水酸基はアニ
オン性の極性基であり酸化チタンに対する親和性が大き
いので、水酸基を有するバインダー成分は分散助剤とし
て作用し、上記分散剤の配合量を減らすことが可能であ
る。

【００３８】バインダー成分は、アニオン性の極性基と
して水素結合形成基を有するものが特に好ましい。バイ
ンダー成分が水素結合形成基を有する場合には、アニオ
ン性極性基としての効果により酸化チタンの分散性を向
上させることに加えて、水素結合によりハードコート
層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電層
などの隣接層相互間の密着性を向上させることが可能と
なる。

【００３９】本発明に係る中〜高屈折率層又は高屈折率
ハードコート層が水素結合形成基を含有すると共に、こ
れらに隣接する層も水素結合形成基を含有する場合に
は、特に優れた密着性が得られる。

【００４０】水素結合形成基を含有する隣接層として
は、ドライコーティング法であるスパッタリングによっ
て中〜高屈折率層としての酸化チタン（ＴｉＯｘ）膜を
形成する場合がある。また、低屈折率層としては、ドラ
イコーティング法である蒸着法又はウエット法であるゾ
ルゲル反応により酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）膜を形成する
場合がある。また、水素結合形成基を有するバインダー
成分とＡＴＯやＩＴＯなどの導電性材料を含有するコー
ティング組成物を用いるウエット法により、透明導電層
を形成する場合がある。また、ドライコーティング法に
より透明導電層としてのＡＴＯ蒸着膜やＩＴＯ蒸着膜を
形成する場合もある。

【００４１】従来は、ウエット法により形成された中〜
高屈折率層の上にドライコーティング法により酸化チタ
ン膜や酸化ケイ素膜を形成する場合には十分な密着性が
得られず、膜が剥離し易かった。これに対して本発明に
よれば、水素結合形成基を有するバインダー成分を配合
したコーティング組成物を用いるウエット法により中〜
高屈折率層又は高屈折率ハードコート層を形成すること
により、当該中〜高屈折率層の上にドライコーティング
法により密着性よく成膜することができるので、非常に
有用である。

【００４２】水素結合形成基を有するバインダー成分と
して、具体的には、分子中に水酸基を有するバインダー
成分を用いることができる。分子中に水酸基を有するバ
インダー成分としては、ペンタエリスリトール多官能ア
クリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレー
ト、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、また
はジペンタエリスリトール多官能メタクリレートが好適
に用いられる。これらは、ペンタエリスリトール又はジ
ペンタエリスリトールのもともとの水酸基を分子中に残
している。

【００４３】上記の好ましいバインダー成分を用いる場
合には、具体的には、酸化チタン１０重量部に対して、
前記バインダー成分を４〜２０重量部、及び、アニオン
性の極性基を有する分散剤を２〜４重量部の割合で配合
することができる。この配合割合は、中〜高屈折率層用
のコーティング組成物として特に好適である。

【００４４】また、酸化チタン１０重量部に対して、分
子中にアニオン性の極性基を有する前記バインダー成分
を７０〜３２０重量部、及び、分散剤を２〜４重量部の
割合で含有するコーティング組成物は、高屈折率ハード
コート層を形成するために特に好適である。

【００４５】酸化チタンを被覆する前記有機化合物とし
ては、有機カルボン酸が好適に用いられる。また、酸化
チタンを被覆する前記有機金属化合物としては、シラン
カップリング剤及び／又はチタネートカップリング剤が
好適に用いられる。

【００４６】前記の有機溶剤としてはケトン系溶剤が好
適に用いられる。本発明に係るコーティング組成物をケ
トン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に薄く
均一に塗布することができ、且つ、塗工後において溶剤
の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な
薄さの大面積塗膜を容易に得ることができる。

【００４７】さらに、上記コーティング組成物は、塗工
適正にも非常に優れており、干渉色斑が非常に見え易い
クリアな面を有するハードコート層上でも塗工斑を引き
起こさないで、均一な反射防止膜を形成することがで
き、また、微細凹凸表面を有するマットハードコート層
の上にも塗工斑のない膜を形成できる。

【００４８】

【発明の実施の形態】先ず、本発明において用いられる
コーティング組成物について説明する。本発明において
は、反射防止膜を構成する様々な光透過層を形成するた
めに、必須成分として、（１）光触媒活性を低下又は消
失させる無機化合物とアニオン性の極性基を有する有機
化合物及び／又は有機金属化合物により被覆され、０．
０１〜０．１μｍの範囲の一次粒子径を有するルチル型
の酸化チタン、（２）電離放射線硬化性のバインダー成
分、（３）アニオン性の極性基を有する分散剤、及び、
（４）有機溶剤、を含有するコーティング組成物を用い
る。このコーティング組成物は、必要に応じて、その他
の成分を含んでいることもある。

【００４９】当該コーティング組成物を用いる塗布法に
よって、反射防止膜を構成する様々な光透過層、そのな
かでも特に中〜高屈折率層や高屈折率ハードコート層な
どの高屈折率が求められる光透過層を効率よく形成する
ことができる。

【００５０】上記必須成分のうち酸化チタンは、上記コ
ーティング組成物を用いて形成する塗膜の屈折率を所望
の値に調節するための主要成分である。酸化チタンは、
屈折率が高く、且つ、無色であるか又はほとんど着色し
ていないので、屈折率を調節するための成分として適し
ている。酸化チタンには、ルチル型、アナターゼ型、ア
モルファス型があるが、本発明においてはアナターゼ型
やアモルファス型と比べて屈折率の高いルチル型の酸化
チタンを用いる。

【００５１】酸化チタンは、塗膜の透明性を低下させな
いために、いわゆる超微粒子サイズのものを用いる。こ
こで、「超微粒子」とは、一般的にサブミクロンオーダ
ーの粒子のことであり、一般的に「微粒子」と呼ばれて
いる数μｍから数１００μｍの粒径を有する粒子よりも
粒径の小さいものを意味している。すなわち本発明にお
いて酸化チタンは、一次粒子径が０．０１μｍ以上であ
り、且つ、０．１μｍ以下、好ましくは０．０３μｍ以
下のものを用いる。平均粒子径が０．０１μｍ未満のも
のは、コーティング組成物中に均一に分散させることが
困難であり、ひいては、酸化チタン超微粒子を均一に分
散させた塗膜が得られなくなる。また、平均粒子径が
０．１μｍ超のものは、塗膜の透明性を損なうので好ま
しくない。酸化チタンの一次粒子径は、走査型電子顕微
鏡（ＳＥＭ）等により目視計測してもよいし、動的光散
乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機
械計測してもよい。

【００５２】酸化チタン超微粒子の一次粒子径が上記範
囲内であれば、その粒子形状が球状であっても針状であ
っても、その他どのような形状であっても本発明に用い
ることができる。

【００５３】酸化チタンは光触媒活性を有しているの
で、表面処理を何も行っていない酸化チタンを含有する
塗工液を用いて塗膜を形成すると、光触媒作用によって
塗膜を形成しているバインダー間の化学結合が切れて塗
膜強度が低下したり、塗膜が黄変して塗膜の透明度、ヘ
イズが劣化しやすい。そのため、酸化チタンの表面を、
光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物により被覆
して用いる。そのような無機化合物としては、例えば、
アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化
スズ、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、ス
ズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛をドー
プした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドー
プした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、及び、フッ素をドープした
酸化スズ（ＦＴＯ）等を例示することができ、これらの
中から１種単独で又は２種以上の組み合わせて用いるこ
とができる。

【００５４】酸化チタン微粒子の表面を無機化合物によ
り被覆するには、酸化チタン微粒子を水に分散させた分
散液中に、被覆させたい無機化合物の塩、或いは、加水
分解により被覆させたい無機化合物を生じ得る有機金属
化合物を添加し、ｐＨ及び／又は温度条件を変えること
で、酸化チタン微粒子の表面に所望の無機化合物を物理
化学的に吸着させる。

【００５５】また、無機化合物で被覆した酸化チタン
は、市販品にも存在しており、例えば、アルミナで被覆
した酸化チタンとしてはＴＴＯ５１（Ａ）の商品名で石
原産業から入手することができる。

【００５６】酸化チタンの表面は、光触媒活性を低下又
は消失させるために無機化合物で被覆すると共に、有機
溶剤中での分散性を高めるために有機化合物又は有機金
属化合物により被覆する。本発明に係るコーティング組
成物には、酸化チタンを分散させるために後述するよう
にアニオン性の極性基を有する分散剤を配合するが、酸
化チタンを有機化合物又は有機金属化合物で表面処理し
て疎水性を付与することにより、塗工液中での酸化チタ
ンの分散性を、さらに向上させることができる。アニオ
ン性の極性基は酸化チタンとの親和性が大きいので、本
発明においては特にアニオン性の極性基を有する有機化
合物及び／又はアニオン性の極性基を有する有機金属化
合物で酸化チタンを被覆する。

【００５７】アニオン性の極性基を有する有機化合物と
しては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のよ
うなアニオン性の極性基を有するものを用いることがで
き、例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、
リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアク
リレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート等
を例示することができる。

【００５８】また、アニオン性の極性基を有する有機金
属化合物としては、シランカップリング剤及び／又はチ
タネートカップリング剤を用いることができる。

【００５９】シランカップリング剤としては、具体的に
は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）３−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等を例示するこ
とができる。

【００６０】チタネートカップリング剤としては、具体
的には、味の素（株）より市販されている、製品名プレ
ンアクトＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、Ｋ
Ｒ−４１Ｂ、ＫＲ−３８Ｓ、ＫＲ−１３８Ｓ、ＫＲ−２
３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ−４４、ＫＲ−９ＳＡ、ＫＲ−
ＥＴ等が例示でき、更に、テトラメトキシチタン、テト
ラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テト
ラｎ−プロポキシチタン、テトラｎ−ブトキシチタン、
テトラｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラｔｅｒｔ−ブト
キシチタン等の金属アルコキシドも使用することができ
る。

【００６１】酸化チタンを表面処理する有機化合物及び
／又は有機金属化合物としては、特にカップリング剤、
及び有機カルボン酸を用いるのが好ましい。また、後述
するケトン系溶剤を用いてコーティング組成物を調製す
る場合には、カップリング剤、及び、ステアリン酸、ラ
ウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸の中
から１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いるの
が好ましく、十分な分散性が得られる。

【００６２】酸化チタンの表面を有機化合物及び／又は
有機金属化合物により被覆して疎水性を付与するには、
アニオン性の極性基を有する有機化合物及び／又は有機
金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中
に、無機化合物表面処理を未だ施していないか或いはす
でに施した酸化チタンを分散させた後に有機溶剤を完全
に蒸発除去することにより、被覆できる。

【００６３】また、無機化合物及び有機化合物の両方を
用いて被覆した酸化チタンは、市販品にも存在してお
り、例えば、アルミナ及びステアリン酸で被覆した酸化
チタンとしてはＴＴＯ５１（Ｃ）の商品名で石原産業か
ら入手することができる。

【００６４】電離放射線硬化性のバインダー成分は、コ
ーティング組成物に成膜性や、基材や隣接する層に対す
る密着性を付与するために、必須成分として配合され
る。電離放射線硬化性のバインダー成分は、コーティン
グ組成物中において重合していないモノマー又はオリゴ
マーの状態で存在しているので、コーティング組成物の
塗工適性に優れ、均一な大面積薄膜を形成しやすい。ま
た、塗膜中のバインダー成分を塗工後に重合、硬化させ
ることにより十分な塗膜強度が得られる。

【００６５】電離放射線硬化性のバインダー成分として
は、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直
接、又は開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じ
る官能基を有するモノマー又はオリゴマーを用いること
ができる。本発明においては、主に、エチレン性二重結
合を有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを用
いることができ、必要に応じて光開始剤が組み合わせら
れる。しかしながら、その他の電離放射線硬化性のバイ
ンダー成分を用いることも可能であり、例えば、エポキ
シ基含有化合物のような光カチオン重合性のモノマーや
オリゴマーを用いてもよい。光カチオン重合性のバイン
ダー成分には、必要に応じて光カチオン開始剤が組み合
わせて用いられる。バインダー成分の分子間で架橋結合
が生じるように、バインダー成分であるモノマー又はオ
リゴマーは、重合性官能基を２個以上有する多官能性の
バインダー成分であることが好ましい。

【００６６】エチレン性二重結合を有するラジカル重合
性のモノマー及びオリゴマーとしては、具体的には、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル
アクリレート、２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピル
アクリレート、カルボキシポリカプロラクトンアクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等の
単官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールト
リアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート
等のジアクリレート；トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、或い
は、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴ
マーを例示することができる。ここで「（メタ）アクリ
レート」とは、アクリレート及び／又はメタクリレート
を意味する。

【００６７】電離放射線硬化性のバインダー成分のうち
でも、アニオン性の極性基を有するバインダー成分は、
酸化チタンとの親和性が高く、分散助剤として作用す
る。従って、コーティング組成物中および塗膜中での酸
化チタンの分散性が向上し、また、分散剤の使用量を減
らす効果もあるので好ましい。

【００６８】バインダー成分は、アニオン性の極性基と
して水素結合形成基を有するものが特に好ましい。バイ
ンダー成分が水素結合形成基を有する場合には、アニオ
ン性極性基としての効果により酸化チタンの分散性を向
上させることに加えて、ハードコート層、中屈折率層、
高屈折率層、低屈折率層、透明導電層などの隣接層に対
する密着性を向上させることが可能となる。酸化チタン
超微粒子を含有する光透過層のバインダー成分が水素結
合形成基を有すると共に、ハードコート層などの隣接層
も水素結合形成基を含有している場合には、水素結合に
より両者間の密着性が更に向上するので、特に好まし
い。

【００６９】例えば、水素結合形成基を有するバインダ
ー成分を配合したコーティング組成物を用いて中〜高屈
折率層を形成する場合には、いわゆるウエット法（皮膜
形成面に塗工液を塗布し乾燥及び／又は硬化させる方
法）により塗工液から形成したハードコート層や高屈折
率層や低屈折率層に対しても、また、蒸着法やスパッタ
リング法等のいわゆるドライコーティング法（皮膜形成
面に気相状態の材料を付着し、析出させる方法）により
形成した高屈折率層や低屈折率層に対しても優れた密着
性が得られる。

【００７０】中〜高屈折率層としては、ドライコーティ
ング法であるスパッタリングによって酸化チタン（Ｔｉ
Ｏｘ）膜を形成する場合がある。酸化チタンは分子中に
酸素原子を有しており、水素結合を形成し得る。また、
低屈折率層としては、ドライコーティング法である蒸着
法又はウエット法であるゾルゲル反応により酸化ケイ素
（ＳｉＯｘ）膜を形成する場合がある。酸化ケイ素膜は
シラノール基を含有しており水素結合を形成し得る。こ
のような水素結合形成基を含有する膜に対して、水素結
合形成基を有するバインダー成分を用いた高屈折率ハー
ドコート層は特に優れた密着性を示す。

【００７１】従来は、ウエット法により形成された中〜
高屈折率層の上にドライコーティング法により酸化チタ
ン膜や酸化ケイ素膜を形成する場合には十分な密着性が
得られず、膜が剥離し易かったのに対して、水素結合形
成基を有するバインダー成分を配合したコーティング組
成物を用いて中〜高屈折率層を形成する場合には、当該
中〜高屈折率層の上にドライコーティング法により密着
性よく成膜することができるので、非常に有用である。

【００７２】また、帯電防止の目的で反射防止膜中にウ
エット法又はドライコーティング法によりＩＴＯやＡＴ
Ｏなどの透明導電性材料を含有する透明導電層を設け、
当該透明導電層上に異方導電性を有する、すなわち膜面
方向の体積抵抗率が膜厚方向の体積導電率よりも高いハ
ードコート層を形成する場合がある。このような場合に
も、透明導電層上に、水素結合形成基を有するバインダ
ー成分を配合したコーティング組成物を塗布することに
より、透明導電層に対して密着性の良い高屈折率ハード
コート層を形成することができ、非常に有用である。

【００７３】透明導電層をウエット法により形成する場
合には、水素結合形成基を有するバインダー成分を用い
て透明導電層を形成することにより、透明導電層にも水
素結合形成基を多量に含有させることができ、水素結合
形成基を含有する高屈折率ハードコート層との間に特に
優れた密着性が得られる。透明導電層を形成するバイン
ダー成分としては、水素結合形成基としての水酸基を有
するウレタンアクリレート樹脂を例示することができ
る。透明導電層をドライコーティング法により形成する
場合には、ＩＴＯ蒸着膜やＡＴＯ蒸着膜などの金属酸化
物蒸着膜が得られ、皮膜組成の大部分が酸素原子を有す
る金属酸化物で占められているので、水素結合を容易に
形成でき、水素結合形成基を含有する高屈折率ハードコ
ート層との間に充分な密着性が得られる。なお、異方導
電性を有する高屈折率ハードコート層を形成するには、
本発明に係る高屈折率ハードコート層用コーティング組
成物に、水素結合形成基を有するバインダー成分と共
に、異方導電性を付与するための導電性微粒子を配合
し、透明導電層上に塗布すればよい。異方導電性を付与
するための導電性微粒子としては、金及び／又はニッケ
ルで表面処理された有機ビーズを例示することができ
る。

【００７４】水素結合形成基を有するバインダー成分と
して、具体的には、分子中に水酸基を有するバインダー
成分を用いることができる。分子中に水酸基を有するバ
インダー成分としては、ペンタエリスリトール多官能
（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトール多
官能（メタ）アクリレートであって分子中に水酸基を残
したバインダー成分を用いることができる。すなわち、
そのようなバインダー成分は、一分子のペンタエリスリ
トール又はジペンタエリスリトールに２分子以上の（メ
タ）アクリル酸がエステル結合しているが、ペンタエリ
スリトール又はジペンタエリスリトールの分子中にもと
もとある水酸基の一部はエステル化されないまま残って
いるものであり、例えば、ペンタエリスリトールトリア
クリレートを例示することができる。ペンタエリスリト
ール多官能アクリレート及びジペンタエリスリトール多
官能アクリレートは、一分子中にエチレン性二重結合を
２個以上有するので、重合時に架橋反応を起こし、高い
塗膜強度が得られる。

【００７５】ラジカル重合を開始させる光開始剤として
は、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケ
タール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ
化合物、過酸化物、２，３−ジアルキルジオン化合物
類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオ
ロアミン化合物などが用いられる。より具体的には、１
−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２
−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モ
ルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケト
ン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−
イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル
プロパン−１−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。
これらのうちでも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−
フェニル−ケトン、及び、２−メチル−１［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−
オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開
始し促進するので、本発明において好ましく用いられ
る。これらは、いずれか一方を単独で、又は、両方を組
み合わせて用いることができる。これらは市販品にも存
在し、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェ
ニル−ケトンはイルガキュアー１８４（Irgacure 18
4）の商品名で日本チバガイギーから入手できる。

【００７６】アニオン性の極性基を有する分散剤は、酸
化チタンに対して親和性の高いアニオン性の極性基を有
しており、本発明に係るコーティング組成物に酸化チタ
ンに対する分散性を付与するために配合される。アニオ
ン性の極性基としては、例えば、カルボキシル基、リン
酸基、水酸基などが該当する。

【００７７】アニオン性の極性基を有する分散剤として
は、具体的には、ビックケミー・ジャパン社がディスパ
ービックの商品名で供給する製品群、すなわち、Disper
byk-111, Disperbyk-110, Disperbyk-116, Disperbyk-1
40, Disperbyk-161, Disperbyk-162, Disperbyk-163, D
isperbyk-164, Disperbyk-170, Disperbyk-171, Disper
byk-174, Disperbyk-180, Disperbyk-182等を例示する
ことができる。

【００７８】これらのうちでも、エチレンオキサイド鎖
の骨格を有する主鎖に上記したようなアニオン性の極性
基からなる側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖が
結合した分子構造を有し、数平均分子量が２，０００か
ら２０，０００の化合物を用いると、特に良好な分散性
が得られ好ましい。数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透
クロマトグラフィー）法により測定することができる。
このような条件に合うものとして、上記ディスパービッ
クシリーズの中ではディスパービック１６３（Disperby
k 163）がある。

【００７９】上記コーティング組成物を用いて高屈折率
ハードコート層を形成する場合には、コーティング組成
物に有機系微粒子などのマット材を配合して塗布するこ
とにより、高屈折率ハードコート層の表面を微細凹凸に
してアンチグレア層としての機能を付与することができ
る。ここで、微細凹凸を形成するためのマット材とし
て、具体的にはＳＥＭ観察による平均粒子径が１〜１０
μｍ程度のスチレンビーズやアクリルビーズを用いるこ
とができる。

【００８０】また、コーティング組成物の塗膜に、好ま
しい表面形状を持つ金属製の版やマット調表面を持つＰ
ＥＴフィルムを押圧してエンボス加工し、その状態で光
硬化させた後、版やＰＥＴフィルムを取り除くことによ
っても、高屈折率ハードコート層表面に微細凹凸を形成
することができる。

【００８１】上記コーティング組成物の固形成分を溶解
分散するための有機溶剤は特に制限されず、種々のも
の、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エ
タノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；
酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭
化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；或い
はこれらの混合物を用いることができる。

【００８２】本発明においては、ケトン系の有機溶剤を
用いるのが好ましい。本発明に係るコーティング組成物
をケトン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に
薄く均一に塗布することができ、且つ、塗工後において
溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均
一な薄さの大面積塗膜を容易に得ることができる。

【００８３】ケトン系溶剤としては、１種のケトンから
なる単独溶剤、２種以上のケトンからなる混合溶剤、及
び、１種又は２種以上のケトンと共に他の溶剤を含有し
ケトン溶剤としての性質を失っていないものを用いるこ
とができる。好ましくは、溶剤の７０重量％以上、特に
８０重量％以上を１種又は２種以上のケトンで占められ
ているケトン系溶剤が用いられる。

【００８４】有機溶剤としてケトン系溶剤を用い、酸化
チタンの表面を上記したような有機化合物及び／又は有
機金属化合物で被覆することにより、特に塗工適性に優
れたコーティング組成物が得られ、均一な大面積薄膜を
容易に形成できるようになる。この場合でも、アニオン
性の極性基を有する分散剤として上記したようなエチレ
ンオキサイド系の分散剤、すなわち、エチレンオキサイ
ド鎖の骨格を有する主鎖にアニオン性の極性基からなる
側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分
子構造を有し、数平均分子量が２，０００から２０，０
００の化合物を用いると、さらに好ましい。或いは、バ
インダー成分として、ペンタエリスリトール多官能（メ
タ）アクリレートまたはジペンタエリスリトール多官能
（メタ）アクリレートであって分子中に水酸基を残した
バインダー成分を用いるのも効果的である。

【００８５】本発明に係るコーティング組成物は、必須
成分として、酸化チタン、電離放射線硬化性のバインダ
ー成分、アニオン性の極性基を有する分散剤、および、
有機溶剤を含有し、必要に応じて電離放射線硬化性のバ
インダー成分の重合開始剤を含有するが、さらに、その
他の成分を配合してもよい。例えば、必要に応じて紫外
線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング
剤）、酸化ジルコニウム、アンチモンをドープした酸化
スズなどを用いることができる。

【００８６】各成分の配合割合は適宜調節可能である
が、一般的には、酸化チタン１０重量部に対して、前記
バインダー成分を４〜２０重量部、及び、アニオン性の
極性基を有する分散剤を４〜１０重量部の割合で配合す
る。ただし、バインダー成分として分子中にアニオン性
の極性基を有するものを用いる場合には、当該バインダ
ー成分が分散助剤として作用するので、アニオン性の極
性基を有する分散剤の使用量を大幅に減らすことができ
る。分散剤はバインダーとしては機能しないので、分散
剤の配合割合を減らすことによって塗膜強度の向上を図
ることができる。

【００８７】具体的には、酸化チタン１０重量部に対し
て、アニオン性の極性基を有するバインダー成分を４〜
２０重量部、及び、アニオン性の極性基を有する分散剤
を２〜４重量部の割合で配合することができる。この配
合割合は、中〜高屈折率層用のコーティング組成物とし
て特に好適である。

【００８８】また、酸化チタン１０重量部に対して、分
子中にアニオン性の極性基を有する前記バインダー成分
を７０〜３２０重量部、及び、分散剤を２〜４重量部の
割合で含有するコーティング組成物は、高屈折率ハード
コート層を形成するために特に好適である。さらに、こ
の高屈折率ハードコート層用コーティング組成物には、
アンチグレア層（防眩層）としての機能を付与するため
のマット材粒子を１〜５０重量部の割合で配合してもよ
い。

【００８９】光重合開始剤を用いる場合には、バインダ
ー成分１００重量部に対して、光重合開始剤を通常は３
〜８重量部の割合で配合する。

【００９０】また、有機溶剤の量は、各成分を均一に溶
解、分散することができ、調製後の保存時に凝集を来た
さず、且つ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適
宜調節する。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用
量を少なくして高濃度のコーティング組成物を調製し、
容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出
して塗工作業に適した濃度に希釈するのが好ましい。本
発明においては、固形分と有機溶剤の合計量を１００重
量部とした時に、必須成分及びその他の成分を含む全固
形分０．５〜５０重量部に対して、有機溶剤を５０〜９
５．５重量部、さらに好ましくは、全固形分１０〜３０
重量部に対して、有機溶剤を７０〜９０重量部の割合で
用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に
適したコーティング組成物が得られる。

【００９１】上記各成分を用いて本発明に係るコーティ
ング組成物を調製するには、塗工液の一般的な調製法に
従って分散処理すればよい。例えば、各必須成分及び各
所望成分を任意の順序で混合し、得られた混合物にビー
ズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル
等で適切に分散処理することにより、コーティング組成
物が得られる。

【００９２】こうして得られたコーティング組成物は、
必須成分として、所定の一次粒径を有し無機化合物と有
機化合物及び／又は有機金属化合物で被覆されたルチル
型の酸化チタン粒子と、電離放射線硬化性のバインダー
成分と、アニオン性の極性基を有する分散剤を有機溶剤
中に溶解、分散してなるものであり、特に、酸化チタン
粒子は、当該チタン粒子を被覆している有機化合物及び
／又は有機金属化合物と、アニオン性の極性基を有する
分散剤により、コーティング組成物中に均一に分散され
ている。

【００９３】本発明に係るコーティング組成物は、アニ
オン性の極性基を有する分散剤の配合とアニオン性の極
性基を有する有機化合物及び／又は有機金属化合物によ
る被覆によって、酸化チタンの優れた分散性及び分散安
定性を有しており、ヘイズが非常に小さい。すなわち、
本発明に係るコーティング組成物中の酸化チタン配合量
をコントロールして屈折率を調節し、当該コーティング
組成物を基材等の被塗工体の表面に塗布し、乾燥、硬化
させることによって、所定の屈折率を有し、透明性が高
く、ヘイズの小さい塗膜が得られる。従って、本発明に
係るコーティング組成物は、反射防止膜を構成する１又
は２以上の層を形成するのに適しており、特に、酸化チ
タンの配合量を変えて調節できる屈折率の範囲から考え
て、中屈折率層、高屈折率層又は高屈折率ハードコート
層を形成するのに適している。

【００９４】また、本発明に係るコーティング組成物
は、長期間に渡る分散安定性にも優れているのでポット
ライフが長く、長期間保存した後に使用する場合でも透
明性が高く且つヘイズの小さい塗膜を形成することがで
きる。

【００９５】さらに、本発明に係るコーティング組成物
は、塗工適性に優れ、被塗工体の表面に、容易に薄く広
く且つ均一に塗布することができ、均一な大面積薄膜を
形成できる。特に、ケトン系溶剤を用いると粘度が適度
で、また、蒸発速度が遅いケトン系溶剤ほど塗膜の乾燥
むらが生じ難いので、均一な大面積薄膜を特に形成しや
すい。

【００９６】本発明の反射防止膜コーティング組成物を
基材等の被塗工体の表面に塗布し、乾燥し、電離放射線
硬化させることによって、実質的に無色透明でヘイズの
小さい塗膜を形成することができる。

【００９７】本発明のコーティング組成物を塗布する支
持体は特に制限されない。好ましい支持体としては、例
えば、ガラス板；トリアセテートセルロース（ＴＡ
Ｃ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ジアセ
チルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポ
リエーテルサルホン、アクリル系樹脂；ポリウレタン系
樹脂；ポリエステル；ポリカーボネート；ポリスルホ
ン；ポリエーテル；トリメチルペンテン；ポリエーテル
ケトン；（メタ）アクリロニトリル等の各種樹脂で形成
したフィルム等を例示することができる。基材の厚さ
は、通常２５μｍ〜１０００μｍ程度であり、好ましく
は５０μｍ〜１９０μｍである。

【００９８】コーティング組成物は、例えば、スピンコ
ート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、
バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター
法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコータ
ー法等の各種方法で基材上に塗布することができる。

【００９９】本発明に係るコーティング組成物を基材等
の被塗工体の表面に所望の塗工量で塗布した後、通常
は、オーブン等の加熱手段で加熱乾燥し、その後、紫外
線や電子線等の電離放射線を放射して硬化させることに
より塗膜が形成される。

【０１００】このようにして得られた塗膜は、光触媒活
性を低下又は消失させる無機化合物とアニオン性の極性
基を有する有機化合物及び／又は有機金属化合物により
被覆され０．０１〜０．１μｍの範囲の一次粒子径を有
するルチル型の酸化チタン、及び、アニオン性の極性基
を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合
されてなるものであるが、必要に応じてその他の成分を
含有していてもよい。

【０１０１】本発明により得られる塗膜（硬化層）は、
反射防止膜を構成する１又は２以上の層として好適に利
用することができ、特に、酸化チタンの配合量を変えて
調節できる屈折率の範囲から考えて、中〜高屈折率層を
形成するのに適している。本発明によれば、硬化後膜厚
が０．０５〜０．２μｍの塗膜を形成した時に、屈折率
が１．５５〜２．３０で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−
１の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値
が、前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基
材だけのヘイズ値との差が１％以内となるように抑制す
ることが可能である。

【０１０２】また、本発明により得られる塗膜は、高屈
折率ハードコート層を形成するのにも適している。本発
明によれば、硬化後膜厚が１〜１０μｍの塗膜を形成し
た時に、屈折率が１．５５〜１．８３で、且つ、ＪＩＳ
−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ値が前記基材だけ
のヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値
との差が３％以内となるように抑制することが可能であ
り、高屈折率ハードコート層も形成できる。

【０１０３】本発明に係る塗膜は、反射防止膜を形成す
るのに好適に利用できる。反射防止膜は、原理的には、
高屈折率層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に１
又は２以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、前
記の高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層が、屈折率
の高低が交互に入れ替わり且つ低屈折率層が最も鑑賞面
側に位置するように積層されてなるものである。ただ
し、反射防止膜で被覆する面、例えば画像表示装置の表
示面に、光透過層をただ一層設けただけでも、被覆面自
体の屈折率と光透過層の屈折率のバランスが丁度良い場
合には反射防止効果が得られるので、単層構造の反射防
止膜とすることも可能である。

【０１０４】また、反射防止膜は、通常、基材フィルム
や画像表示媒体などの支持体の表面に、先ず、反射防止
膜に十分な硬度を付与するため目的でハードコート層を
設け、当該ハードコート層の上に上記したような高屈折
率層、中屈折率層、低屈折率層を設ける。

【０１０５】また、十分な硬度と高い屈折率を併せ持
ち、ハードコート層としての機能と中〜高屈折率層とし
ての機能を発揮し得る高屈折率ハードコート層を設ける
場合がある。この場合には、高屈折率ハードコート層及
び低屈折率層を少なくとも備えると共に、高屈折率層及
び／又は１又は２以上の中屈折率層をさらに備えていて
もよく、前記の高屈折率ハードコート層、高屈折率層、
中屈折率層及び低屈折率層が、屈折率の高低が交互に入
れ替わり、高屈折率ハードコート層が最も表示媒体との
接触面側に位置し、且つ、低屈折率層が最も鑑賞面側に
位置するように積層することにより、反射防止膜とする
ことができる。

【０１０６】さらに、反射防止膜には、帯電防止機能を
付与する目的でＩＴＯやＡＴＯ等からなる透明導電層を
設けたり、低屈折率層の表面にフッ素系界面活性剤やフ
ッ素系シリコーンコーティング剤等からなる防汚層を設
ける場合がある。

【０１０７】上記した様々な層は、いずれも光透過性を
有する光透過層であり、反射防止膜は、光透過性を有す
る１の光透過層からなる単層構造、又は、光透過性を有
し且つ互いに屈折率の異なる光透過層を２以上積層した
多層構造を有している。本発明に係る塗膜は、これらの
光透過層の一又は二以上を形成するのに用いることがで
きる。

【０１０８】従って、本発明に係る上記コーティング組
成物を、当該コーティング組成物により被覆すべき面に
塗布し硬化させることによって、光透過性を有する１の
光透過層からなる単層構造、又は、光透過性を有し且つ
互いに屈折率の異なる光透過層を２以上積層した多層構
造を有し、前記光透過層のうちの少なくともひとつが、
光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とアニオン
性の極性基を有する有機化合物及び／又は有機金属化合
物により被覆され０．０１〜０．１μｍの範囲の一次粒
子径を有するルチル型の酸化チタン、及び、アニオン性
の極性基を有する分散剤が、硬化したバインダー中に均
一に混合されてなる硬化層であることを特徴とする反射
防止膜が得られる。

【０１０９】上記の硬化層は透明性に優れると共に屈折
率を１．５５以上とすることができ、主として中屈折率
層として用いられるが、高屈折率層、又は、高屈折率ハ
ードコート層として用いることもできる。なお、多層型
反射防止膜の中で最も屈折率の高い層を高屈折率層と称
し、最も屈折率の低い層を低屈折率層と称し、それ以外
の中間的な屈折率を有する層を中屈折率層と称する。

【０１１０】上記の硬化層を高屈折率ハードコート層と
して用いる場合には、当該高屈折率ハードコート層の表
面を微細凹凸形状に形成して、防眩層（アンチグレア
層）として機能するハードコート層としてもよい。高屈
折率ハードコート層表面の微細凹凸形状は、高屈折率ハ
ードコート層用コーティング組成物を基材に塗工し、エ
ンボス加工を行ったり、或いは、無機や有機のフィラー
を分散させた高屈折率ハードコート層用コーティング組
成物を基材に塗工することにより、付与することができ
る。

【０１１１】高屈折率ハードコート層としての上記硬化
層の表面を微細凹凸形状に形成するために添加するフィ
ラーの屈折率と硬化後のバインダーとの間の屈折率の差
Δｎを、０．０１≦Δｎ≦０．５とし、且つ、フィラー
の平均粒径ｄを、通常は０．１μｍ≦ｄ≦１０μｍ、好
ましくは１μｍ≦ｄ≦５μｍとすると、アンチグレア層
の凹凸形状と、ディスプレイの中からの透過光によって
生じる“ぎらつき”を効果的に抑制することができ、さ
らに視認性の良いディスプレイとなる。

【０１１２】特に、酸化チタン１０重量部に対して、分
子中にアニオン性の極性基を有する前記バインダー成分
を４〜２０重量部、及び、分散剤を２〜４重量部の割合
で含有するコーティング組成物を用いることにより、膜
厚が０．０５〜０．２μｍで、屈折率が１．５５〜２．
３０で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘ
イズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前
記基材だけのヘイズ値との差が１％以内である高屈折率
層及び／又は中屈折率層を形成することができる。

【０１１３】また、酸化チタン１０重量部に対して、分
子中にアニオン性の極性基を有する前記バインダー成分
を７０〜３２０重量部、及び、分散剤を２〜４重量部の
割合で含有するコーティング組成物を用いることによ
り、膜厚が１〜１０μｍで、屈折率が１．５５〜１．８
３で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイ
ズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記
基材だけのヘイズ値との差が３％以内である高屈折率ハ
ードコート層を形成することができる。

【０１１４】本発明に係るコーティング組成物を、必要
に応じてあらかじめ１又は２以上の何らかの光透過層を
形成しておいた支持体に塗布、乾燥した後、電離放射線
の照射により硬化させることにより、光触媒活性を低下
又は消失させる無機化合物とアニオン性の極性基を有す
る有機化合物及び／又は有機金属化合物により被覆され
０．０１〜０．１μｍの範囲の一次粒子径を有するルチ
ル型の酸化チタン、及び、アニオン性の極性基を有する
分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合されてな
る塗膜が形成され、このような塗膜からなる硬化層を有
する反射防止膜が得られる。

【０１１５】本発明に係るコーティング組成物を用いて
高屈折率層及び／又は中屈折率層を形成する場合には、
膜厚が０．０５〜０．２μｍで、屈折率が１．５５〜
２．３０で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定され
るヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又
は前記基材だけのヘイズ値との差が１％以内である中〜
高屈折率層を形成することができる。

【０１１６】また、本発明に係るコーティング組成物を
用いて高屈折率ハードコート層を形成する場合には、膜
厚が１〜１０μｍで、屈折率が１．５５〜１．８３で、
且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ値が
前記基材だけのヘイズ値と変わらないか又は前記基材だ
けのヘイズ値との差が３％以内である高屈折率ハードコ
ート層を形成することができる。

【０１１７】本発明に係る塗膜は、特に、液晶表示装置
（ＬＣＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置の表示面を被
覆する多層型反射防止膜の少なくとも一層、特に中屈折
率層及び／又は高屈折率層を形成するのに好適に用いら
れる。

【０１１８】図１は、本発明に係る塗膜を光透過層とし
て含んだ多層型反射防止膜により表示面を被覆した液晶
表示装置の一例（１０１）の断面を模式的に示したもの
である。液晶表示装置１０１は、表示面側のガラス基板
１の一面にＲＧＢの画素部２（２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ）とブ
ラックマトリックス層３を形成してなるカラーフィルタ
ー４を準備し、当該カラーフィルターの画素部２上に透
明電極層５を設け、バックライト側のガラス基板６の一
面に透明電極層７を設け、バックライト側のガラス基板
とカラーフィルターとを、透明電極層５、７同士が向き
合うようにして所定のギャップを空けて対向させ、周囲
をシール材８で接着し、ギャップに液晶Ｌを封入し、背
面側のガラス基板６の外面に配向膜９を形成し、表示面
側のガラス基板１の外面に偏光フィルム１０を貼り付
け、後方にバックライトユニット１１を配置したもので
ある。

【０１１９】図２は、表示面側のガラス基板１の外面に
貼り付けた偏光フィルム１０の断面を模式的に示したも
のである。表示面側の偏光フィルム１０は、ポリビニル
アルコール（ＰＶＡ）等からなる偏光素子１２の両面を
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等からなる保護フィ
ルム１３、１４で被覆し、その裏面側に接着剤層１５を
設け、その鑑賞側にハードコート層１６と多層型反射防
止膜１７を順次形成したものであり、接着剤層１５を介
して表示面側のガラス基板１に貼着されている。

【０１２０】ハードコート層１６は、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）等の多官能アク
リルモノマーを溶剤に希釈してグラビアコーティング等
の方法により形成することができる。ハードコート層１
６の表面を、エンボス加工や、或いは、当該ハードコー
ト層１６の内部に無機や有機のフィラーを分散させるな
どの方法で微細凹凸形状に形成することで、外部からの
光を散乱させる機能を持たせた防眩層（アンチグレア
層）として機能するハードコート層としてもよい。

【０１２１】また、ハードコート層１６の表面を微細凹
凸形状に形成するために添加するフィラーの屈折率とバ
インダー樹脂の屈折率の差Δｎを、０．０１≦Δｎ≦
０．５とし、且つ、フィラーの平均粒径ｄを、通常は
０．１μｍ≦ｄ≦１０μｍ、好ましくは１μｍ≦ｄ≦５
μｍとすると、アンチグレア層の凹凸形状と、ディスプ
レイの中からの透過光によって生じる“ぎらつき”を効
果的に抑制することができ、さらに視認性の良いディス
プレイとなる。

【０１２２】多層型反射防止膜１７の部分は、バックラ
イト側から鑑賞側に向かって中屈折率層１８、高屈折率
層１９、低屈折率層２０が順次積層された３層構造を有
している。多層型反射防止膜１７は、高屈折率層１９と
低屈折率層２０が順次積層された２層構造であってもよ
い。なお、ハードコート層１６の表面が凹凸形状に形成
される場合には、その上に形成される多層型反射防止膜
１７も図示のように凹凸形状となる。

【０１２３】低屈折率層２０は、例えば、シリカやフッ
化マグネシウム等の無機物、フッ素系樹脂等を含有する
塗工液から得られる屈折率１．４６以下の塗膜や、シリ
カやフッ化マグネシウムなどを化学蒸着法（ＣＶＤ）や
物理蒸着法（ＰＶＤ）などの蒸着法を用いた蒸着膜とす
ることができる。また、中屈折率層１８及び高屈折率層
１９は、本発明に係る塗膜を用いて形成することがで
き、中屈折率層１８には屈折率１．５０〜１．８０の範
囲の光透過層、高屈折率層１９には屈折率１．６５以上
の光透過層が使用される。

【０１２４】この反射防止膜の作用により、外部光源か
ら照射された光の反射率が低減するので、景色や蛍光燈
の映り込みが少なくなり、表示の視認性が向上する。ま
た、外光がディスプレイ表面に映り込んだり、眩しく光
ったりする状態であるのを、ハードコート層１６の凹凸
による光散乱効果によって外光の反射光が軽減し、表示
の視認性がさらに向上する。

【０１２５】液晶表示装置１０１の場合には、偏光素子
１２と保護フィルム１３、１４からなる積層体に本発明
に係るコーティング組成物を塗布して屈折率を１．５０
〜１．８０の範囲で調節した中屈折率層１８と屈折率を
１．６５以上に調節した高屈折率層１９を形成し、さら
に低屈折率層２０を設けることができる。そして、反射
防止膜１７を含む偏光フィルム１０を接着剤層１５を介
して鑑賞側のガラス基板１上に貼着することができる。

【０１２６】これに対し、ＣＲＴの表示面には配向板を
貼着しないので、反射防止膜を直接設ける必要がある。
しかしながら、ＣＲＴの表示面に本発明に係るコーティ
ング組成物を塗布するのは煩雑な作業である。このよう
な場合には、本発明に係る塗膜を含んでいる反射防止フ
ィルムを作製し、それを表示面に貼着すれば反射防止膜
が形成されるので、表示面に本発明に係るコーティング
組成物を塗布しなくて済む。

【０１２７】光透過性を有する基材フィルムの一面側又
は両面に、光透過性を有し且つ互いに屈折率が異なる光
透過層を二層以上積層してなり、当該光透過層のうちの
少なくとも一つを本発明に係る塗膜で形成することによ
り、反射防止フィルムが得られる。基材フィルム及び光
透過層は、反射防止フィルムの材料として使用できる程
度の光透過性を有する必要があり、できるだけ透明に近
いものが好ましい。

【０１２８】図３は、本発明に係る塗膜を含んだ反射防
止フィルムの一例（１０２）の断面を模式的に示したも
のである。反射防止フィルム１０２は、光透過性を有す
る基材フィルム２１の一面側に、本発明に係るコーティ
ング組成物を塗布して高屈折率層２２を形成し、さらに
当該高屈折率層の上に低屈折率層２３を設けたものであ
る。この例では、互いに屈折率の異なる光透過層は高屈
折率層と低屈折率層の二層だけだが、光透過層を三層以
上設けてもよい。その場合には、高屈折率層だけでなく
中屈折率層も、本発明に係るコーティング組成物を塗布
して形成することができる。

【０１２９】

【実施例】（実施例１）（１）コーティング組成物の調製ルチル型酸化チタンとして、酸化チタン含量が７９〜８
５％で、Ａｌ₂Ｏ₃およびステアリン酸で表面処理し、一
次粒径０．０１〜０．０３μｍで、比表面積が５０〜６
０ｍ²／ｇで、吸油量が２４〜３０ｇ／１００ｇで、表
面が撥水性のルチル型酸化チタン（ＴＴＯ５１（Ｃ）、
石原産業社製）を用意した。電離放射線硬化性バインダ
ー成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート
（ＰＥＴ３０、日本化薬社製）を用意した。アニオン性
の極性基を有する分散剤としては、顔料に親和性のある
ブロック共重合体（ディスパービック１６３、ビック
ケミー・ジャパン社製）を用意した。光開始剤として
は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケト
ン（イルガキュアー１８４、日本チバガイギー社製）
を用意した。有機溶剤としては、メチルイソブチルケト
ンを用意した。

【０１３０】ルチル型酸化チタン、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、分散剤（ディスパービック１６
３）、および、メチルイソブチルケトンをマヨネーズ瓶
に入れ、混合物の約４倍量のジルコニアビーズ（φ０．
３ｍｍ）を媒体に用いてペイントシェーカーで１０時間
攪拌し、攪拌後に光開始剤（イルガキュアー１８４）
を加えて下記組成のコーティング組成物を得た。〈コーティング組成物の組成〉・ルチル型酸化チタン（Ａｌ₂Ｏ₃およびステアリン酸に
よる表面処理品、一次粒径０．０１〜０．０３μｍ）
（ＴＴＯ５１（Ｃ）、石原産業社製）：１０重量部・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ３
０、日本化薬社製）：４重量部・アニオン性基含有分散剤（ディスパービック１６３、
ビックケミー・ジャパン社製）：２重量部・光開始剤（イルガキュアー１８４、日本チバガイギー
社製）：０．２重量部・メチルイソブチルケトン：３７．３重量部（２）塗膜の作成厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＦＴ
−Ｔ８０ＵＺ、富士写真フィルム（株）製）上に厚さ３
μｍのペンタエリスリトールトリアクリレート硬化膜を
形成した後、調製直後のコーティング組成物をバーコー
ター＃２で塗工し、６０℃で１分間加熱乾燥した後、５
００ｍＪのＵＶ照射によって硬化させ、硬化後膜厚が
０．１μｍの透明膜を形成した。

【０１３１】また、ヘイズ測定用に、厚さ５０μｍの表
面未処理ＰＥＴ基材（東レ（株）製ルミラーＴ６０）上
に、調製直後のコーティング組成物をバーコーター＃２
で塗工し、６０℃で１分間加熱乾燥した後、５００ｍＪ
のＵＶ照射によって硬化させ、硬化後膜厚が０．１μｍ
の透明膜を形成した。

【０１３２】また、コーティング組成物を室温で３０日
間放置して沈殿の発生状況を観察し、さらに放置後のコ
ーティング組成物を用いて、上記と同様に厚さ５０μｍ
の表面未処理ＰＥＴ基材（東レ（株）製ルミラーＴ６
０）上に透明膜を形成した。

【０１３３】調製直後および室温放置後のコーティング
組成物それぞれから形成した硬化後膜厚が０．１μｍの
透明膜について、ヘイズと屈折率を測定した。ヘイズ
は、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業社製）を用い
て測定した。また、硬化後の塗膜の屈折率は、分光エリ
プソメーター（ＵＶＳＥＬ、ジョバン−イーボン社製）
を用い、ヘリウムレーザー光の波長６３３ｎｍでの屈折
率を測定した。

【０１３４】各試験の結果を第１表に示す。実施例１に
おいて調製したコーティング組成物を用いたところ、ヘ
イズおよび屈折率が良好な透明膜が得られた。また、実
施例１のコーティング組成物は、室温放置後も分散性に
優れ、調製直後と同様にヘイズおよび屈折率が良好な透
明膜が得られた。

【０１３５】（比較例１）実施例１において、疎水性処
理を施したルチル型酸化チタン（ＴＴＯ５１（Ｃ）、石
原産業社製）に代えて、酸化チタン含量が７６〜８３％
で、Ａｌ₂Ｏ₃のみで表面処理し、一次粒径０．０１〜
０．０３μｍで、比表面積が７５〜８５ｍ²／ｇで、吸
油量が４０〜４７ｇ／１００ｇで、表面が親水性のルチ
ル型酸化チタン（ＴＴＯ５１（Ａ）、石原産業製）を同
量用いた以外は実施例１と同様に実施して、コーティン
グ組成物を得た。得られたコーティング組成物を実施例
１と同様に試験した。

【０１３６】試験結果を第１表に示す。比較例１のコー
ティング組成物を調製直後に用いて塗膜を形成したが、
得られた塗膜のヘイズは高く、屈折率は低かった。ま
た、室温放置により多量の沈殿を生じた。なお、室温放
置後の塗膜形成は中止した。

【０１３７】（比較例２）実施例１において、ペンタエ
リスリトールトリアクリレートの代わりに、水酸基を持
たないペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥ
Ｔ−４０、日本化薬製）を同量用いた以外は実施例１と
同様に実施して、コーティング組成物を得た。得られた
コーティング組成物を実施例１と同様に試験した。

【０１３８】試験結果を比較例２−１として第１表に示
す。得られたコーティング組成物は、分散性が悪く、す
でに調製直後にゲル化しており、均一な薄膜を形成する
ことはできなかった。ヘイズと屈折率の測定、および、
室温放置の観察は中止した。

【０１３９】そこで、実施例１で使用したアニオン性基
含有分散剤（ディスパービック１６３、ビックケミー・
ジャパン社製）を６重量部まで増量してコーティング組
成物を調製し、実施例１と同様に試験した。このコーテ
ィング組成物の試験結果を比較例２−２として第１表に
示す。この場合には、ルチル型酸化チタンが均一に分散
され、室温放置しても粘度の変化や沈殿物の出現は観察
されなかった。調製直後のものと室温放置後のもの、そ
れぞれを用いて塗膜を形成したところ、得られた塗膜の
ヘイズは良好であった。しかしながら、比較例２−２の
屈折率は実施例１に比べて低く、また、塗膜の強度が極
端に低かった。

【０１４０】（比較例３）実施例１において、ルチル型
酸化チタンとして、Ａｌ₂Ｏ₃およびステアリン酸で表面
処理した一次粒径０．０１〜０．０３μｍのルチル型酸
化チタン（ＴＴＯ５１（Ｃ）、石原産業社製）を使用し
ているのに代えて、一次粒径０．０１〜０．０３μｍで
あるがＡｌ₂Ｏ₃およびステアリン酸いずれの表面処理も
していないルチル型酸化チタン（ＴＴ０５１（Ｎ）、石
原産業製）を同量用いた以外は実施例１と同様に実施し
て、コーティング組成物を得た。得られたコーティング
組成物を実施例１と同様に試験した。

【０１４１】得られたコーティング組成物は、分散性が
悪く、すでに調製直後にゲル化しており、均一な薄膜を
形成することはできなかった。ヘイズと屈折率の測定、
および、室温放置の観察は中止した。

【０１４２】（蒸着膜との密着性）厚さ８０μｍのトリ
アセチルセルロースフィルム（ＦＴ−Ｔ８０ＵＺ、富士
写真フィルム（株）製）上に厚さ３μｍのペンタエリス
リトールトリアクリレート硬化膜を形成した後、実施例
１及び比較例２−２で得られたコーティング組成物をバ
ーコーター＃２で塗工し、６０℃で１分間加熱乾燥した
後、５００ｍＪのＵＶ照射によって硬化させ、硬化後膜
厚が０．１μｍの透明膜を形成した。次に、以下の条件
でＰＶＤ法により膜厚８４．７μｍのシリカ蒸着膜を形
成した。＜ＰＶＤ法条件＞・熱蒸着用ターゲット：一酸化ケイ素（純度９９．９
％）・出力：電流値０．４Ａ、電圧４８０Ｖ・真空チャンバー内の真空度：０．１３Ｐａ・アルゴン流量：３８．８ｓｃｃｍ・酸素流量：５ｓｃｃｍ・蒸着速度：８．４７ｎｍ／分得られた蒸着膜について後述する密着性試験（セロハン
テープ碁盤目剥離試験）を行った。試験結果を第２表に
示す。比較例２−２のコーティング組成物から形成した
硬化膜の上を被覆したシリカ蒸着膜は全面が剥離したの
に対し、実施例１のコーティング組成物から形成した硬
化膜を被覆したシリカ蒸着膜は全く剥離せず、塗膜への
良好な密着性を示した。

【０１４３】

【表１】

【０１４４】

【表２】

【０１４５】（実施例２）本実施例では図４に示す構成
の反射防止フィルムＦ１を作成した。反射防止フィルム
Ｆ１は、基材フィルム２４の上にクリアハードコート層
２５、中屈折率層２６、高屈折率層２７、低屈折率層２
８を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率層と
中屈折率層を、本発明に係るコーティング組成物を用い
て形成した。

【０１４６】（１）高屈折率層用コーティング液の調製ルチル型酸化チタンとして、Ａｌ₂Ｏ₃およびステアリン
酸で被覆した、一次粒径約０．０３μｍのルチル型酸化
チタンを１００部用意した。電離放射線硬化性バインダ
ー成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート
（ＰＥＴ３０、日本化薬社製）を２０部用意した。分散
剤としては、エチレンオキサイド鎖を有し且つアニオン
性の極性基を有する分散剤（アジスパーＰＡ１１１、味
の素（株）製）を２０部用意した。

【０１４７】これらの材料をメチルイソブチルケトンに
混合して、固形分濃度を１５重量％とし、そこに分散メ
ディアとしてジルコニアボールを添加して、ペイントシ
ェーカーにて７時間以上攪拌した。

【０１４８】得られた分散液に、光開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガ
キュアー１８４）を３部添加した後、メチルイソブチ
ルケトンを添加して固形分濃度を３重量％に希釈し、屈
折率１．９０の高屈折率層用コーティング液を得た。

【０１４９】（２）中屈折率層用コーティング液の調製ペイントシェーカーで攪拌して得られた上記分散液に、
光開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェ
ニル−ケトン（イルガキュアー１８４）を３部添加し
た。この混合液１００部に対して、ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）６０部をさらに添
加した後、メチルイソブチルケトンを添加して固形分濃
度を３重量％に希釈し、屈折率１．７６の中屈折率層用
コーティング液を得た。

【０１５０】（３）塗工、硬化ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基材上に、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）か
らなる、屈折率１．５２、乾燥後厚さ３μｍ以上のクリ
アハードコート層を塗工した。得られたクリアハードコ
ート層の上に、上記中屈折率層用コーティング液（屈折
率１．７６）を塗工し、屈折率１．７６、乾燥後厚さ６
０ｎｍの中屈折率層を形成し、さらに、その上に上記高
屈折率層用コーティング液（屈折率１．９０）を塗工
し、屈折率１．９０、乾燥後厚さ８０ｎｍの高屈折率層
を形成し、ＵＶ硬化した。その後、高屈折率層上に、シ
リコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率
１．４２、乾燥後厚さ１００ｎｍの低屈折率層を塗工
し、反射防止フィルムを得た。

【０１５１】（４）評価実施例２により得られた反射防止フィルムについて、下
記方法により反射率、鉛筆硬度、密着性、塗工斑を評価
した。反射防止フィルムの層構成と評価結果を、第３表
及び第４表にそれぞれ示す。

【０１５２】実施例２により得られた反射防止フィルム
は、４５０〜６５０ｎｍの可視光の反射率が０．４〜
０．７％であった。また、この反射防止フィルムは、３
Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１５３】また、クリアハードコート層上へ中屈折率
層用コーティング液を塗工する時に斑を生じると、その
上に高屈折率層、さらには低屈折率層という具合に層を
重ねるごとに、下層の斑が一層目立つようになったり、
各層がそれぞれ斑を生じるなどして、製品にはできない
外観となってしまうが、本実施例では、溶剤の変更によ
り、クリアハードコート層上への均一な薄膜塗工性能が
向上し、斑の発生を抑えることができた。

【０１５４】＜評価方法＞（ａ）反射率サンプルの裏面に、裏面反射の影響を考慮して黒ビニル
テープを貼り、分光光度計により３８０ｎｍ〜７８０ｎ
ｍの反射率を測定した。一点測定の場合には、特に人間
が一番眩しいと感じる波長５５０ｎｍの値を示した。

【０１５５】（ｂ）硬度ＪＩＳ５４００に従い鉛筆硬度を測定した。すなわ
ち、サンプルに１ｋｇ荷重をかけた鉛筆により筆記を５
本ほど行い、５本中４本が無傷となる最も硬い鉛筆と同
じ硬度を有すると評価した。

【０１５６】（ｃ）密着性ＪＩＳ５４００に従いセロハンテープ碁盤目剥離試験
を行った。すなわち、塗膜表面にカッターで縦１１本×
横１１本の傷を直交させて付け、１ｍｍ幅で１００個の
碁盤目状の桝目を設けた。その上からニチバン製セロハ
ンテープを強く密着させた後、５回連続して一気に引き
剥がし、膜面に残った桝目の数を数えた。

【０１５７】（ｄ）塗工斑サンプルの上、３〜５ｍｍの高さから３輝線蛍光灯で照
らし、塗工斑（干渉膜なので、斑、すなわち異なる干渉
色が見える。）の有無を観察した。

【０１５８】（実施例３）本実施例では図５に示す構成
の反射防止フィルムＦ２を作成した。反射防止フィルム
Ｆ２は、基材フィルム２４の上にクリアハードコート層
２５、高屈折率層２７、低屈折率層２８を順次積層した
構成であり、そのうちの高屈折率層を本発明に係るコー
ティング組成物を用いて形成した。

【０１５９】（１）高屈折率層用コーティング液の調製ルチル型酸化チタンとして、ＺｒＯ₂およびステアリン
酸で被覆した、一次粒径約０．０３μｍのルチル型酸化
チタンを１００部用意した。電離放射線硬化性バインダ
ー成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート
（ＰＥＴ３０、日本化薬社製）を４０部用意した。分散
剤としては、エチレンオキサイド鎖を有し且つアニオン
性の極性基を有する分散剤を２０部用意した。

【０１６０】これらの材料をメチルイソブチルケトンに
混合して、固形分濃度を１５重量％とし、そこに分散メ
ディアとしてジルコニアボールを添加して、ペイントシ
ェーカーにて７時間以上攪拌した。

【０１６１】得られた分散液に、光開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガ
キュアー１８４）を３部添加、及び、ペンタエリスリ
トールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）４０部を添加し
た後、メチルイソブチルケトンを添加して固形分濃度を
２重量％に希釈し、屈折率１．７６の高屈折率層用コー
ティング液を得た。

【０１６２】（２）塗工、硬化ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材上に、ペンタエ
リスリトールトリアクリレートからなる、屈折率１．５
１、乾燥後厚さ３μｍ以上のクリアハードコート層を塗
工し、さらに、その上に上記高屈折率層用コーティング
液（屈折率１．７６）を塗工して、屈折率１．７６、乾
燥後厚さ９０ｎｍの高屈折率層を形成し、ＵＶ硬化し
た。その後、高屈折率層上に、シリコン含有フッ化ビニ
リデン共重合体からなる屈折率１．４２、乾燥後厚さ９
０ｎｍの低屈折率層を塗工し、反射防止フィルムを得
た。

【０１６３】（３）評価実施例３により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例３により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、０．４％であった。また、この反射
防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１６４】（実施例４）本実施例では図６に示す構成
の反射防止フィルムＦ３を作成した。反射防止フィルム
Ｆ３は、基材フィルム２４の上にフィラー３０を含有す
るマットハードコート層２９、高屈折率層２７、低屈折
率層２８を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折
率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成し
た。

【０１６５】（１）高屈折率層用コーティング液の調製実施例２において屈折率１．７６の中屈折率層用コーテ
ィング液を調製するに際して、溶剤をメチルイソブチル
ケトン（ＭＩＢＫ）から、ＭＩＢＫ９５部とブチルセロ
ソルブ５部の混合溶剤に変更するほかは同様に行って、
屈折率１．７６の高屈折率層用コーティング液を得た。

【０１６６】（２）塗工、硬化ＴＡＣ基材上に、下記組成を有する屈折率１．５２のマ
ットハードコート層用コーティング液を塗工し、表面タ
ックが残らない程度にＵＶ硬化し、屈折率１．５２、乾
燥後厚さ３μｍで、且つ、微細凹凸を有するアンチグレ
ア性のマットハードコート層を形成した。＜マットハードコート層用コーティング液＞・ペンタエリスリトールトリアクリレート：２部・スチレンペースト（ペンタエリスリトールトリアクリ
レート／ビーズ＝６／４、粒径３．５μｍ）：０．５部・セルロースアセテートポリプロピオネート（ＣＡＰ）
（固形分１０重量％の酢酸エチル溶液）：２．３部・溶剤（トルエン／シクロヘキサノン＝７／３）：４．
４部・開始剤（イルガキュアー６５１）：０．０６ｇ得られたマットハードコート層の微細凹凸表面に、上記
高屈折率層用コーティング液（屈折率１．７６）を塗工
し、ＵＶ硬化して、屈折率１．７６、乾燥後厚さ６０ｎ
ｍの高屈折率層を形成した。その後、高屈折率層上に、
シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率
１．４２、乾燥後厚さ９０ｎｍの低屈折率層を塗工し、
ＵＶで完全硬化することにより反射防止フィルムを得
た。

【０１６７】（３）評価実施例４により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例４により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、０．６％であった。また、この反射
防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１６８】また、本実施例では、溶剤の変更により、
微細凹凸表面を有するマットハードコート層への塗工適
正が向上し、高屈折率層用コーティング液を斑を生じる
ことなく塗工できた。

【０１６９】（実施例５）本実施例では図７に示す構成
の反射防止フィルムＦ４を作成した。反射防止フィルム
Ｆ４は、基材フィルム２４の上に透明導電層３１、フィ
ラー３０を含有する異方導電性マットハードコート層２
９、高屈折率層２７、低屈折率層２８を順次積層した構
成であり、そのうちの高屈折率層を本発明に係るコーテ
ィング組成物を用いて形成した。

【０１７０】（１）塗工、硬化実施例４において、ＴＡＣ基材上に透明導電層を設け、
マットハードコート層用コーティング液中に導電性材料
として金‐ニッケル樹脂ビーズ（ブライトＧＮＲ４．６
−ＥＨ、日本化学工業製）を０．００５部添加したほか
は、実施例４と同様に行った。

【０１７１】すなわち、ＴＡＣ基材上にＡＴＯ含有透明
導電インキ（住友大阪セメント製、スミセファインＡＳ
Ｐ−ＢＪ−ｌ）を塗工し、表面タックが残らない程度に
ＵＶ硬化し、乾燥膜厚２μｍの透明導電層を形成した。
得られた透明導電層の上に、導電材料を添加したマット
ハードコート層用コーティング液を塗工し、ＵＶ硬化し
て、屈折率１．５２、乾燥後厚さ３〜４μｍで、且つ、
微細凹凸を有するアンチグレア性の異方導電性マットハ
ードコート層を形成した。

【０１７２】次に、得られたマットハードコート層の上
に、高屈折率層用コーティング液（屈折率１．７６）を
塗工し、ＵＶ硬化して、屈折率１．７６、乾燥後厚さ６
０ｎｍの高屈折率層を形成した。その後、高屈折率層上
に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈
折率１．４２、乾燥後厚さ９０ｎｍの低屈折率層を形成
し、ＵＶで完全硬化することにより反射防止フィルムを
得た。

【０１７３】（２）評価実施例５により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例５により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、０．６％であった。また、この反射
防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１７４】（実施例６）本実施例では図８に示す構成
の反射防止フィルムＦ５を作成した。反射防止フィルム
Ｆ５は、基材フィルム２４の上に高屈折率クリアハード
コート層３２、高屈折率層２７、低屈折率層２８を順次
積層した構成であり、そのうちの高屈折率クリアハード
コート層及び高屈折率層を本発明に係るコーティング組
成物を用いて形成した。

【０１７５】（１）高屈折率層用コーティング液の調製ルチル型酸化チタンとして、ＺｒＯ₂およびステアリン
酸で被覆した、一次粒径約０．０３μｍのルチル型酸化
チタンを１００部用意した。電離放射線硬化性バインダ
ー成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート
（ＰＥＴ３０、日本化薬社製）を４０部用意した。分散
剤としては、エチレンオキサイド鎖を有し且つアニオン
性の極性基を有する分散剤を２０部用意した。

【０１７６】これらの材料をメチルイソブチルケトンに
混合して、固形分濃度を１５重量％とし、そこに分散メ
ディアとしてジルコニアボールを添加して、ペイントシ
ェーカーにて７時間以上攪拌した。

【０１７７】得られた分散液に、光開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガ
キュアー１８４）を３部、及び、ジペンタエリスリト
ールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）４０部を添加した
後、メチルイソブチルケトンを添加して固形分濃度を３
重量％に希釈し、屈折率１.８４の高屈折率層用コーテ
ィング液を得た。

【０１７８】（２）高屈折率クリアハードコート層用コ
ーティング液の調製ペイントシェーカーで攪拌して得られた上記分散液に光
開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニ
ル−ケトン（イルガキュアー１８４）を３部添加し
た。この混合物１００部に対し、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）２０部と、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート５５部を十分に混合し
て、屈折率１．７０の高屈折率クリアハードコート層用
コーティング液を得た。このコーティング液は分散性が
良好であるため、バインダー量を増加しても基材フィル
ムとのヘイズ差は０．０１であった。

【０１７９】（３）塗工、硬化ＴＡＣ基材上に、屈折率１．７０の上記高屈折率クリア
ハードコート層用コーティング液を塗工し、表面タック
が残らない程度にＵＶ硬化して、屈折率１．７０、乾燥
後厚さ５μｍの高屈折率クリアハードコート層を形成し
た。それから、高屈折率クリアハードコート層の上に、
屈折率１.８４の高屈折率層用コーティング液を塗工
し、ＵＶ硬化して、屈折率１.８４、乾燥後厚さ６０ｎ
ｍの高屈折率層を形成した。その後、高屈折率層上に、
シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率
１．４２、乾燥後厚さ９０ｎｍの低屈折率層を形成し、
ＵＶで完全硬化することにより反射防止フィルムを得
た。

【０１８０】（４）評価実施例６により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例６により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、０．２％であった。また、この反射
防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１８１】（実施例７）本実施例では図９に示す構成
の反射防止フィルムＦ６を作成した。反射防止フィルム
Ｆ６は、基材フィルム２４の上にフィラー３０を含有す
る高屈折率マットハードコート層３３、低屈折率層２８
を順次積層した構成であり、そのうちの高屈折率マット
ハードコート層を本発明に係るコーティング組成物を用
いて形成した。

【０１８２】（１）高屈折率マットハードコート層用コ
ーティング液の調製実施例６と同様に屈折率１．７０のクリアハードコート
層用コーティング液を調製し、得られたコーティング液
を使用して下記組成を有する屈折率１．６６の高屈折率
マットハードコート層用コーティング液を得た。ルチル
型酸化チタン超微粒子の分散性は、マット材（アクリル
ビーズ）やバインダーを添加しても安定で、基材フィル
ムとのヘイズ差は、マット材を含有した高屈折率マット
ハードコート層用コーティング液を塗工し、表面を未処
理ＰＥＴでラミネートし、ＵＶ硬化後に剥離することに
より凹凸形状のない状態にして測定したところ、０．０
１であった。＜高屈折率マットハードコート層用コーティング液＞・屈折率１．７０のクリアハードコート層用コーティン
グ液（固形分５０重量％）：４部・アクリルペースト（ペンタエリスリトールトリアクリ
レート／ビーズ＝６／４、粒径３．５μｍ）：０．５部・セルロースアセテートポリプロピオネート（ＣＡＰ）
（固形分１０重量％の酢酸エチル溶液）：２．３部・溶剤（トルエン）：２．４部・開始剤（イルガキュアー６５１）：０．０６部（２）塗工、硬化ＴＡＣ基材上に、屈折率１．６６の上記高屈折率マット
ハードコート層用コーティング液を塗工し、表面タック
が残らない程度にＵＶ硬化して、微細凹凸表面を有し、
屈折率１．６６、乾燥後厚さ３μｍの高屈折率マットハ
ードコート層を形成した。得られた高屈折率マットハー
ドコート層の上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重
合体からなる屈折率１．４２、乾燥後厚さ９０ｎｍの低
屈折率層を塗工し、ＵＶで完全硬化することにより反射
防止フィルムを得た。

【０１８３】（３）評価実施例７により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例７により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、０．８％であった。また、この反射
防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１８４】（実施例８）本実施例では図１０に示す構
成の反射防止フィルムＦ７を作成した。反射防止フィル
ムＦ７は、基材フィルム２４の上にフィラー３０を含有
する高屈折率マットハードコート層３３、高屈折率層２
７、低屈折率層２８を順次積層した構成であり、そのう
ちの高屈折率マットハードコート層及び高屈折率層を本
発明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

【０１８５】（１）塗工、硬化ＴＡＣ基材上に、実施例７において得た屈折率１．６６
の高屈折率マットハードコート層用コーティング液を塗
工し、微細凹凸表面を有し、屈折率１．６６、乾燥後厚
さ３μｍの高屈折率マットハードコート層を形成した。
さらに、その上に、実施例３において得た屈折率１．８
４の高屈折率層用コーティング液を塗工し、表面タック
が残らない程度にＵＶ硬化して、屈折率１．８４、乾燥
後厚さ１８０ｎｍの高屈折率層を形成した。得られた高
屈折率層の上に、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合
体からなる屈折率１．４０、乾燥後厚さ９０ｎｍの低屈
折率層を塗工し、ＵＶで完全硬化することにより反射防
止フィルムを得た。

【０１８６】（２）評価実施例８により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例８により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、０．５％であった。また、この反射
防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１８７】（実施例９）本実施例では図１１に示す構
成の反射防止フィルムＦ８を作成した。反射防止フィル
ムＦ８は、基材フィルム２４の上にフィラー３０を含有
する高屈折率マットハードコート層３３、高屈折率層２
７、低屈折率層２８、防汚層３４を順次積層した構成で
あり、そのうちの高屈折率マットハードコート層及び高
屈折率層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形
成した。

【０１８８】（１）塗工、硬化ＴＡＣ基材上に、屈折率１．６６の高屈折率マットハー
ドコート層、及び、屈折率１．８４の高屈折率層を形成
するまでは前記実施例８と同様に行った。さらに、屈折
率１．８４の高屈折率層の上に、屈折率１．４５の低屈
折率層用コーティング液としてゾル−ゲルＳｉＯ₂イン
キをコーティングし、８０℃で１分間乾燥した後、４０
℃で１週間エージングを行い、完全に硬化させた。得ら
れた低屈折率層の上に、フッ素系防汚材料をコーティン
グし、防汚層を形成し、反射防止フィルムを得た。

【０１８９】（２）評価実施例９により得られた反射防止フィルムについて、実
施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３表、
第４表にそれぞれ示す。実施例９により得られた反射防
止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５０ｎｍ
波長での反射率が、１．２％であった。また、この反射
防止フィルムは、３Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１９０】（実施例１０）本実施例では図１２に示す
構成の反射防止フィルムＦ９を作成した。反射防止フィ
ルムＦ９は、基材フィルム２４の上にクリアハードコー
ト層２５、中屈折率層２６、高屈折率層２７、低屈折率
層２８を順次積層した構成であり、そのうちの中屈折率
層を本発明に係るコーティング組成物を用いて形成し
た。

【０１９１】（１）塗工、硬化ＰＥＴ基材上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート（ＤＰＨＡ）からなる、屈折率１．５２、乾燥後
厚さ７μｍ以上のクリアハードコート層を塗工し、さら
に、その上に、実施例３において得た高屈折率層用コー
ティング液（屈折率１．７６）を塗工し、完全にＵＶ硬
化して、屈折率１．７６、乾燥後厚さ７０ｎｍの中屈折
率層を形成した。得られた中屈折率層上に、スパッタリ
ングによって屈折率１．９０、厚さ８０ｎｍの酸化チタ
ン膜（ＴｉＯｘ）を高屈折率層として形成し、更に、そ
の上に、同じくスパッタリングによって屈折率１．４
７、厚さ９０ｎｍの酸化ケイ素膜（ＳｉＯｘ）を低屈折
率層として形成した。さらに、その上に、フッ素系防汚
材料を塗工し、防汚層を形成し、反射防止フィルムを得
た。

【０１９２】（２）評価実施例１０により得られた反射防止フィルムについて、
実施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３
表、第４表にそれぞれ示す。実施例１０により得られた
反射防止フィルムは、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光
領域の反射率が、０．３〜１．２％であった。また、こ
の反射防止フィルムは、３Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０１９３】（実施例１１）本実施例では図１３に示す
構成の反射防止フィルムＦ１０を作成した。反射防止フ
ィルムＦ１０は、基材フィルム２４の上に透明導電層３
１、異方導電性クリアハードコート層２５、中屈折率層
２６、高屈折率層２７、低屈折率層２８、防汚層３４を
順次積層した構成であり、そのうちの中屈折率層を本発
明に係るコーティング組成物を用いて形成した。

【０１９４】（１）塗工、硬化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨ
Ａ）に、導電性材料として金‐ニッケル樹脂ビーズ（ブ
ライトＧＮＲ４．６−ＥＨ、日本化学工業製）を０．０
０５部添加してなる、屈折率１．５２のクリアハードコ
ート層用コーティング液を調製した。

【０１９５】次に、ＰＥＴ基材上に実施例５と同様のＡ
ＴＯ含有透明導電インキ（住友大阪セメント製、スミセ
ファインＡＳＰ−ＢＪ−ｌ）を塗工し、表面タックが残
らない程度にＵＶ硬化し、乾燥膜厚２μｍの透明導電層
を形成した。得られた透明導電層の上に、上記の導電材
料を添加したクリアハードコート層用コーティング液を
塗工し、ＵＶ硬化して、屈折率１．５２、乾燥後厚さ７
μｍ以上の異方導電性クリアハードコート層を塗工し、
さらに、その上に、実施例３において得た高屈折率層用
コーティング液（屈折率１．７６）を塗工し、完全にＵ
Ｖ硬化して、屈折率１．７６、乾燥後厚さ７０ｎｍの中
屈折率層を形成した。得られた中屈折率層上に、スパッ
タリングによって屈折率１．９０、厚さ８０ｎｍの酸化
チタン膜（ＴｉＯｘ）を高屈折率層として形成し、更
に、その上に、同じくスパッタリングによって屈折率
１．４７、厚さ９０ｎｍの酸化ケイ素膜（ＳｉＯｘ）を
低屈折率層として形成した。さらに、その上に、フッ素
系防汚材料を塗工し、防汚層を形成し、反射防止フィル
ムを得た。

【０１９６】（２）評価実施例１１により得られた反射防止フィルムについて、
実施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３
表、第４表にそれぞれ示す。実施例１１により得られた
反射防止フィルムは、実施例１０のものと同様に、４５
０ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光領域の反射率が、０．３〜
１．２％であった。また、鉛筆硬度も３Ｈだった。

【０１９７】（実施例１２）本実施例では図１４に示す
構成の反射防止フィルムＦ１１を作成した。反射防止フ
ィルムＦ１１は、基材フィルム２４の上に透明導電層３
１、フィラー３０を含有する高屈折率マットハードコー
ト層３３、低屈折率層２８を順次積層した構成であり、
そのうちの高屈折率マットハードコート層を本発明に係
るコーティング組成物を用いて形成した。

【０１９８】（１）透明導電層用コーティング液の調製希釈溶剤を除く下記成分を混合し充分に攪拌した後、さ
らに希釈溶剤を混合して、透明導電層用コーティング液
（固形分約１０重量％）を調製した。＜透明導電層用コーティング液＞・ＡＴＯ：２９．４部・ＯＨ基含有バインダー１（ウレタンアクリレート）：
１４．２部・ＯＨ基含有バインダー２（ペンタエリスリトールトリ
アクリレート（ＰＥＴＡ）／ヘキサンジオールジアクリ
レート（ＨＤＤＡ）＝７／３）：２７．８部・溶剤（メチルセロソルブ）：５５．０部・開始剤（イルガキュアー１８４）：３部・希釈溶剤（シクロヘキサノン／トルエン＝３／７）：
５８４部（２）異方導電性高屈折率マットハードコート層用コー
ティング液の調製実施例６と同様に屈折率１．７０のクリアハードコート
層用コーティング液を調製し、得られたコーティング液
を使用して下記組成を有する屈折率１．６６の異方導電
性高屈折率マットハードコート層用コーティング液を得
た。導電性微粒子としては、平均粒子径５μｍの金‐ニ
ッケル樹脂ビーズ（ブライトＧＮＲ４．６−ＥＨ、日本
化学工業製）を用いた。ルチル型酸化チタン超微粒子の
分散性は、マット材（アクリルビーズ）やバインダーを
添加しても安定で、基材フィルムとのヘイズ差は０．０
１であった。＜異方導電性高屈折率マットハードコート層用コーティ
ング液＞・屈折率１．７０のクリアハードコート層用コーティン
グ液（固形分５０重量％）：４部・アクリルペースト（ペンタエリスリトールトリアクリ
レート／ビーズ＝６／４、粒径３．５μｍ）：０．５部・セルロースアセテートポリプロピオネート（ＣＡＰ）
（固形分１０重量％の酢酸エチル溶液）：２．３部・開始剤（イルガキュアー６５１）：０．０６部・導電性微粒子（ブライトＧＮＲ４．６−ＥＨ、日本化
学工業社製）：０．００４５部（全バインダー成分の
０．１重量％）・溶剤（トルエン）：２．４部（２）塗工、硬化ＴＡＣ基材上に、前記透明導電層用コーティング液（固
形分約１０％）を塗工し、表面タックが残らない程度に
ＵＶ硬化して、乾燥後厚さ１．２μｍの透明導電層を形
成した。この導電層上に、さらに屈折率１．６６の上記
異方導電性高屈折率マットハードコート層用コーティン
グ液を塗工、乾燥し、表面タックが残らない程度にＵＶ
硬化して、微細凹凸表面を有し、屈折率１．６６、硬化
後厚さ３μｍ、表面抵抗２×１０⁷Ω／□の異方導電性
高屈折率マットハードコート層を形成した。得られた異
方導電性高屈折率マットハードコート層の上に、シリコ
ン含有フッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率１．４
２、乾燥後厚さ９０ｎｍの低屈折率層を塗工し、ＵＶで
完全硬化することにより反射防止フィルムを得た。な
お、ＰＥＴ基材を用いた場合も、同様に反射防止フィル
ムを作成することができた。

【０１９９】（３）評価実施例１２により得られた反射防止フィルムについて、
実施例２と同様に試験した。層構成と試験結果を第３
表、第４表にそれぞれ示す。実施例１２により得られた
反射防止フィルムは、人間が最も眩しさを感じ易い５５
０ｎｍ波長での反射率が、０．８％であった。また、こ
の反射防止フィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有していた。

【０２００】（比較例４）ルチル型酸化チタンとして、
Ａｌ₂Ｏ₃およびステアリン酸で被覆した、一次粒径約
０．０３μｍのルチル型酸化チタンを１００部用意し
た。電離放射線硬化性バインダー成分として、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ３０、日本化薬
社製）を２０部用意した。分散剤は用いなかった。

【０２０１】これらの材料をメチルイソブチルケトンに
混合して、固形分濃度を１５重量％とし、そこに分散メ
ディアとしてジルコニアボールを添加して、ペイントシ
ェーカーにて７時間以上撹拌した。

【０２０２】得られた分散液に、光開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガ
キュアー１８４）を３部添加した後、メチルイソブチ
ルケトンを添加して固形分濃度を３重量％に希釈し、屈
折率１．９０の高屈折率層用コーティング液を得た。

【０２０３】得られたコーティング液を塗工したとこ
ろ、塗膜は白濁していた。また、コーティング液を数時
間放置したところ、沈降物が見られた。

【０２０４】（比較例５）ルチル型酸化チタンとして、
Ａｌ₂Ｏ₃で被覆したが、アニオン性化合物では被覆して
いない、一次粒径約０．０３μｍのルチル型酸化チタン
を１００部用意した。電離放射線硬化性バインダー成分
として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥ
Ｔ３０、日本化薬社製）を２０部用意した。分散剤とし
ては、エチレンオキサイド鎖を有し且つアニオン性の極
性基を有する分散剤（ホスマーM）を２０部用意した。

【０２０５】これらの材料をメチルイソブチルケトンに
混合して、固形分濃度を１５重量％とし、そこに分散メ
ディアとしてジルコニアボールを添加して、ペイントシ
ェーカーにて７時間以上撹拌した。

【０２０６】得られた分散液に、光開始剤として１−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガ
キュアー１８４）を３部添加した後、メチルイソブチ
ルケトンを添加して固形分濃度を３重量％に希釈し、コ
ーティング液を得た。

【０２０７】得られたコーティング液を塗工したとこ
ろ、塗膜は白濁していた。また、コーティング液を数時
間放置したところ、沈降物が見られた。

【０２０８】（比較例６）市販のジルコニア（Ｚｒ
Ｏ₂）分散液（固形分１５重量％、溶剤：トルエン２
５．５／アセチルアセトン４２／その他１７．５、住友
大阪セメント製）中に、電離放射線硬化性バインダー成
分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｐ
ＥＴ３０、日本化薬社製）を３部添加し、屈折率１．７
６の高屈折率層用コーティング液を調製し、当該高屈折
率層用コーティング液を用いて実施例３及び実施例１０
と同じ層構成の反射防止フィルムを作成した。

【０２０９】実施例３と同じ層構成の反射防止フィルム
は、鉛筆硬度がＦであり、且つ、クリアハードコート層
との密着性はなかった。

【０２１０】実施例１０と同じ層構成の反射防止フィル
ムは、鉛筆硬度がＨであり、且つ、クリアハードコート
層との密着性はなかった。

【０２１１】さらに、溶剤系が複雑なため、乾燥時に斑
が生じ易かった。また、コーティングに適したケトン系
溶剤を用いて固形分１５％の上記ジルコニア（Ｚｒ
Ｏ₂）分散液を固形分３％に希釈すると、分散剤との相
性が悪いためか、分散性が悪化してしまうという問題も
生じた。

【０２１２】

【表３】

【０２１３】

【表４】

【０２１４】

【発明の効果】以上に述べたように、本発明において用
いられるコーティング組成物は、高屈折率の酸化チタン
の超微粒子を十分に分散させることが可能であり、また
分散安定性にも優れているので、分散剤の使用量を少量
に抑えることが可能であり、当該コーティング組成物を
被塗布面に塗布し電離放射線の照射により硬化させるこ
とにより、反射防止膜などの光学部材に必要な高い屈折
率と透明性が得られると共に、十分な塗膜強度及び隣接
層との密着性を得ることができる。

【０２１５】また、本発明においては、酸化チタンの光
触媒活性を無機化合物による表面処理を行って低下又は
消失させて用いるので、バインダー成分の劣化に伴う塗
膜の強度低下や、反射防止性能低下の原因となる黄変現
象が起こり難い。

【０２１６】また、上記のコーティング組成物は塗工適
性にも優れ、均一な大面積薄膜を容易に形成することが
できる。

【０２１７】従って、本発明によれば、透明性、膜強
度、隣接層に対する密着性、膜厚の均一性などの諸性能
に優れた光透過層を積層してなる高品質の反射防止膜が
提供される。また、本発明によれば、そのような高品質
の反射防止膜をウエットコーティングにより製造するこ
とが可能である。

【０２１８】特に、上記のコーティング組成物は、酸化
チタンの配合量を変えて調節できる屈折率の範囲から考
えて、中屈折率層、高屈折率層又は高屈折率ハードコー
ト層を形成するのに適している。

【０２１９】さらに本発明によれば、コーティング組成
物のバインダー成分として、電離放射線硬化性を有する
と共に、水素結合形成基を有するバインダー成分を用い
ることにより、隣接層に対する密着性に優れた硬化層を
形成できる。特に、酸化ケイ素蒸着膜や酸化チタンスパ
ッタリング膜のようなドライコーティング法で形成され
る膜に対しても非常に高い密着性が得られる点で有用で
ある。

【０２２０】さらに、本発明において用いるコーティン
グ組成物は、塗工適正にも非常に優れており、干渉色斑
が非常に見え易いクリアな面を有するハードコート層上
でも塗工斑を引き起こさないで、均一な反射防止膜を形
成することができ、また、微細凹凸表面を有するマット
ハードコート層の上にも塗工斑のない膜を形成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る塗膜を含んだ多層型反射防止膜に
より表示面を被覆した液晶表示装置の一例であり、その
断面を模式的に示した図である。

【図２】本発明に係る塗膜を含んだ多層型反射防止膜を
設けた配向板の一例であり、その断面を模式的に示した
図である。

【図３】本発明に係る塗膜を含んだ反射防止フィルムの
一例であり、その断面を模式的に示した図である。

【図４】実施例２において作成した反射防止フィルムの
断面を模式的に示した図である。

【図５】実施例３において作成した反射防止フィルムの
断面を模式的に示した図である。

【図６】実施例４において作成した反射防止フィルムの
断面を模式的に示した図である。

【図７】実施例５において作成した反射防止フィルムの
断面を模式的に示した図である。

【図８】実施例６において作成した反射防止フィルムの
断面を模式的に示した図である。

【図９】実施例７において作成した反射防止フィルムの
断面を模式的に示した図である。

【図１０】実施例８において作成した反射防止フィルム
の断面を模式的に示した図である。

【図１１】実施例９において作成した反射防止フィルム
の断面を模式的に示した図である。

【図１２】実施例１０において作成した反射防止フィル
ムの断面を模式的に示した図である。

【図１３】実施例１１において作成した反射防止フィル
ムの断面を模式的に示した図である。

【図１４】実施例１２において作成した反射防止フィル
ムの断面を模式的に示した図である。

【符号の説明】

１０１…液晶表示装置１０２…反射防止フィルム１…表示面側のガラス基板２…画素部３…ブラックマトリックス層４…カラーフィルター５、７…透明電極層６…背面側のガラス基板８…シール材９…配向膜１０…偏光フィルム１１…バックライトユニット１２…偏光素子１３、１４…保護フィルム１５…接着剤層１６…ハードコート層１７…多層型反射防止膜１８…中屈折率層１９…高屈折率層２０…低屈折率層２１…基材フィルム２２…高屈折率層２３…低屈折率層２４…基材フィルム２５…クリアハードコート層２６…中屈折率層２７…高屈折率層２８…低屈折率層２９…マットハードコート層３０…フィラー３１…透明導電層３２…高屈折率クリアハードコート層３３…高屈折率マットハードコート層３４…防汚層

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｄ 4/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｚ５Ｇ４３５ 5/00 7/12 7/12 171/00 171/00 201/00 201/00 201/02 201/02 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ // Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｚ (72)発明者吉原俊夫東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者塩田聡東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2H091 FA37X FC02 FC11 FC26 FC29 FC30 FD06 LA03 LA11 LA13 LA16 2K009 AA02 AA12 AA15 CC02 CC03 CC09 CC24 CC45 DD02 DD04 EE03 4F100 AA00A AA00B AA19A AA19B AA20A AA20B AA25A AA25B AA27A AA27B AA28A AA28B AA29A AA29B AH00A AH00B AH08A AH08B AK25A AK25B BA01 BA02 BA26 CC00A CC00B DE01A DE01B EH46 GB41 JB14A JB14B JL08A JL08B JN06 JN18A JN18B YY00A YY00B 4J037 AA22 CA09 CA12 CB05 CB09 CB10 CB23 CB26 CC16 DD05 DD24 EE04 EE14 EE35 FF23 4J038 CE052 FA081 FA091 FA111 GA03 HA216 JA03 JA07 JA16 JA32 JA55 KA06 KA09 KA12 KA20 MA03 MA09 MA14 NA01 NA11 NA12 NA17 NA18 NA24 NA26 PA17 PB09 PC03 PC08 5G435 AA01 AA08 AA09 AA17 GG42 HH02 HH03 HH12 HH16 KK05 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光透過性を有する１の光透過層からなる
単層構造、又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異
なる光透過層を２以上積層した多層構造を有し、前記光透過層のうちの少なくともひとつが、光触媒活性
を低下又は消失させる無機化合物とアニオン性の極性基
を有する有機化合物及び／又は有機金属化合物により被
覆され０．０１〜０．１μｍの範囲の一次粒子径を有す
るルチル型の酸化チタン、及び、アニオン性の極性基を
有する分散剤が、硬化したバインダー中に均一に混合さ
れてなる硬化層であることを特徴とする、反射防止膜。
【請求項２】前記硬化層は、必須成分として、（１）
光触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とアニオン
性の極性基を有する有機化合物及び／又は有機金属化合
物により被覆され、０．０１〜０．１μｍの範囲の一次
粒子径を有するルチル型の酸化チタン、（２）電離放射
線硬化性のバインダー成分、（３）アニオン性の極性基
を有する分散剤、及び、（４）有機溶剤、を含有するコ
ーティング組成物を、硬化層により被覆すべき面に塗工
し硬化させてなる塗膜であることを特徴とする、請求項
１に記載の反射防止膜。
【請求項３】前記無機化合物は、前記無機化合物は、
アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化
スズ、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、ス
ズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛をドー
プした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドー
プした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、及び、フッ素をドープした
酸化スズ（ＦＴＯ）よりなる群から選ばれることを特徴
とする、請求項１又は２に記載の反射防止膜。
【請求項４】アニオン性の極性基を有する前記有機化
合物が、有機カルボン酸であることを特徴とする、請求
項１乃至３いずれかに記載の反射防止膜。
【請求項５】アニオン性の極性基を有する前記有機金
属化合物が、シランカップリング剤及び／又はチタネー
トカップリング剤からなることを特徴とする、請求項１
乃至３いずれかに記載の反射防止膜。
【請求項６】前記分散剤は、エチレンオキサイド鎖の
骨格を有する主鎖にアニオン性の極性基からなる側鎖又
はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構造
を有することを特徴とする、請求項１乃至５いずれかに
記載の反射防止膜。
【請求項７】前記バインダーは、アニオン性極性基を
有するバインダー成分の硬化物であることを特徴とす
る、請求項１乃至６いずれかに記載の反射防止膜。
【請求項８】前記バインダーは、アニオン性極性基と
しての水素結合形成基を残した硬化物であることを特徴
とする、請求項７に記載の反射防止膜。
【請求項９】前記バインダーは、水素結合形成基とし
て水酸基を残した硬化物であることを特徴とする、請求
項８に記載の反射防止膜。
【請求項１０】前記バインダーは、ペンタエリスリト
ール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官
能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリ
レート、及び、ジペンタエリスリトール多官能メタクリ
レートよりなる群から選ばれる１又は２以上の成分の硬
化物であることを特徴とする、請求項９に記載の反射防
止膜。
【請求項１１】前記光透過層として高屈折率層及び低
屈折率層を少なくとも備えると共に１又は２以上の中屈
折率層をさらに備えていてもよく、前記の高屈折率層、
中屈折率層及び低屈折率層は、屈折率の高低が交互に入
れ替わり且つ低屈折率層が最も鑑賞面側に位置するよう
に積層されており、前記高屈折率層及び前記中屈折率層
のうち少なくとも一つが前記硬化層により形成されてい
ることを特徴とする、請求項１乃至１０に記載の反射防
止膜。
【請求項１２】前記硬化層により形成された高屈折率
層及び／又は中屈折率層は、膜厚が０．０５〜０．２μ
ｍで、屈折率が１．５５〜２．３０で、且つ、ＪＩＳ−
Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ値が前記基材だけの
ヘイズ値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値と
の差が１％以内であることを特徴とする、請求項１１に
記載の反射防止膜。
【請求項１３】前記高屈折率層及び前記中屈折率層の
うち少なくとも一つが水素結合形成基を残した硬化物か
らなるバインダーを含有していると共に、当該硬化層に
より形成された高屈折率層又は中屈折率層に隣接して、
水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層又は
低屈折率層がドライコーティング法により形成されてい
ることを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の反射
防止膜。
【請求項１４】水素結合形成基を含有する高屈折率層
又は中屈折率層として、酸化チタンを含有するスパッタ
リング膜が形成されていることを特徴とする、請求項１
３に記載の反射防止膜。
【請求項１５】水素結合形成基を含有する低屈折率層
として、酸化ケイ素を含有する蒸着膜が形成されている
ことを特徴とする、請求項１３に記載の反射防止膜。
【請求項１６】前記光透過層として、防眩性を付与す
るための微細凹凸表面を有するハードコート層をさらに
備え、当該ハードコート層の鑑賞面側に隣接して前記高
屈折率層又は前記中屈折率層が前記硬化層により形成さ
れていることを特徴とする、請求項１１又は１２に記載
の反射防止膜。
【請求項１７】前記光透過層として高乃至中屈折率層
として機能し得る屈折率を有する高屈折率ハードコート
層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に、高屈折率
層及び／又は１又は２以上の中屈折率層をさらに備えて
いてもよく、前記の高屈折率ハードコート層、高屈折率層、中屈折率
層及び低屈折率層は、屈折率の高低が交互に入れ替わ
り、高屈折率ハードコート層が最も表示媒体との接触面
側に位置し、且つ、低屈折率層が最も鑑賞面側に位置す
るように積層されており、前記高屈折率ハードコート層が前記硬化層により形成さ
れていることを特徴とする、請求項１乃至１０に記載の
反射防止膜。
【請求項１８】前記硬化層により形成された高屈折率
ハードコート層は防眩性の微細凹凸表面を有しており、
当該微細凹凸表面はエンボス加工により付与されている
ことを特徴とする、請求項１７に記載の反射防止膜。
【請求項１９】前記硬化層により形成された高屈折率
ハードコート層は防眩性の微細凹凸表面を有しており、
当該微細凹凸表面は高屈折率ハードコート層の内部にフ
ィラーを分散することにより付与されていることを特徴
とする、請求項１７に記載の反射防止膜。
【請求項２０】前記フィラーの屈折率と、前記高屈折
率ハードコート層のバインダーの屈折率との差Δｎが
０．０１≦Δｎ≦０．５であり、且つ、フィラーの平均
粒径ｄが０．１μｍ≦ｄ≦１０μｍであることを特徴と
する、請求項１９に記載の反射防止膜。
【請求項２１】前記硬化層により形成された高屈折率
ハードコート層は、膜厚が１〜１０μｍで、屈折率が
１．５５〜１．８３で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１
に規定されるヘイズ値が前記基材だけのヘイズ値と変わ
らないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が３％以内
であることを特徴とする、請求項１７乃至２０いずれか
に記載の反射防止膜。
【請求項２２】前記高屈折率ハードコート層は水素結
合形成基を残した硬化物からなるバインダーを含有して
いると共に、当該高屈折率ハードコート層に隣接して、
水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層、低
屈折率層又は透明導電層がドライコーティング法により
形成されていることを特徴とする、請求項１７乃至２１
いずれかに記載の反射防止膜。
【請求項２３】前記水素結合形成基を含有する高屈折
率層又は中屈折率層として、酸化チタンを含有するスパ
ッタリング膜が形成されていることを特徴とする、請求
項２２に記載の反射防止膜。
【請求項２４】水素結合形成基を含有する低屈折率層
として、酸化ケイ素を含有する蒸着膜が形成されている
ことを特徴とする、請求項２２に記載の反射防止膜。
【請求項２５】前記高屈折率ハードコート層が、膜面
方向の体積抵抗率が膜厚方向の体積抵抗率よりも高い異
方導電性を有すると共に、前記透明導電層として、アン
チモンをドープした酸化スズ又はスズをドープした酸化
インジウムを含有する蒸着膜が形成されていることを特
徴とする、請求項２２に記載の反射防止膜。
【請求項２６】異方導電性を有する前記高屈折率ハー
ドコート層は、導電性微粒子を含有することを特徴とす
る、請求項２５に記載の反射防止膜。
【請求項２７】前記高屈折率ハードコート層の導電性
微粒子が、金及び／又はニッケルで表面処理された有機
ビーズであることを特徴とする、請求項２６に記載の反
射防止膜。
【請求項２８】前記高屈折率ハードコート層は水素結
合形成基を残した硬化物からなるバインダーを含有して
いると共に、当該高屈折率ハードコート層に隣接して、
水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層、低
屈折率層又は透明導電層がウエットコーティング法によ
り形成されていることを特徴とする、請求項１７乃至２
１いずれかに記載の反射防止膜。
【請求項２９】水素結合形成基を含有する低屈折率層
として、ゾルゲル反応により形成された酸化ケイ素膜が
形成されていることを特徴とする、請求項２８に記載の
反射防止膜。
【請求項３０】前記高屈折率ハードコート層が、膜面
方向の体積抵抗率が膜厚方向の体積抵抗率よりも高い異
方導電性を有すると共に、前記透明導電層が、水素結合
形成基を含有するバインダー成分と導電性微粒子を含有
することを特徴とする請求項２８に記載の反射防止膜。
【請求項３１】前記透明導電層の導電性微粒子が、ア
ンチモンをドープした酸化スズ又はスズをドープした酸
化インジウムであることを特徴とする、請求項３０に記
載の反射防止膜。
【請求項３２】異方導電性を有する前記高屈折率ハー
ドコート層は、導電性微粒子を含有することを特徴とす
る、請求項３０に記載の反射防止膜。
【請求項３３】前記高屈折率ハードコート層の導電性
微粒子が、金及び／又はニッケルで表面処理された有機
ビーズであることを特徴とする、請求項３２に記載の反
射防止膜。
【請求項３４】光透過性を有する基材フィルムの少な
くとも一面側に、前記請求項１乃至３３いずれかに記載
の反射防止膜を、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑賞面
側に位置するように積層してなることを特徴とする、反
射防止フィルム。
【請求項３５】前記請求項１乃至３３いずれかに記載
の反射防止膜により、当該反射防止膜の低屈折率層が鑑
賞面側に位置するように表示面を被覆してなることを特
徴とする、画像表示装置。
【請求項３６】支持体上に、光透過性を有する１の光
透過層、又は、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異な
る２以上の光透過層を積層してなる反射防止膜の製造方
法であって、あらかじめ前記光透過層が１又は２以上設けられていて
もよい前記支持体の表面に、必須成分として、（１）光
触媒活性を低下又は消失させる無機化合物とアニオン性
の極性基を有する有機化合物及び／又は有機金属化合物
により被覆され、０．０１〜０．１μｍの範囲の一次粒
子径を有するルチル型の酸化チタン、（２）電離放射線
硬化性のバインダー成分、（３）アニオン性の極性基を
有する分散剤、及び、（４）有機溶剤、を含有するコー
ティング組成物を塗布した後、電離放射線を照射して硬
化させることにより、前記光透過層のうちの少なくとも
ひとつを形成することを特徴とする、反射防止膜製造方
法。
【請求項３７】前記無機化合物は、アルミナ、シリ
カ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、アンチモ
ンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、スズをドープした
酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛をドープした酸化イン
ジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛
（ＡＺＯ）、及び、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴ
Ｏ）よりなる群から選ばれることを特徴とする、請求項
３６に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項３８】前記分散剤は、エチレンオキサイド鎖
の骨格を有する主鎖にアニオン性の極性基からなる側鎖
又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構
造を有し、数平均分子量が２，０００から２０，０００
の化合物であることを特徴とする、請求項３６又は３７
に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項３９】前記バインダー成分は、分子中にアニ
オン性の極性基を有するバインダー成分であることを特
徴とする、請求項３６乃至３８いずれかに記載の反射防
止膜製造方法。
【請求項４０】前記バインダー成分のアニオン性極性
基が、水素結合形成基であることを特徴とする、請求項
３９に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項４１】前記バインダー成分の水素結合形成基
が、水酸基であることを特徴とする、請求項４０に記載
の反射防止膜製造方法。
【請求項４２】分子中に水酸基を有する前記バインダ
ー成分が、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、
ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエ
リスリトール多官能メタクリレート、及び、ジペンタエ
リスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ば
れる一又は二以上の成分であることを特徴とする、請求
項４１に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項４３】アニオン性の極性基を有する前記有機
化合物が、有機カルボン酸であることを特徴とする、請
求項３６乃至４２いずれかに記載の反射防止膜製造方
法。
【請求項４４】アニオン性の極性基を有する前記有機
金属化合物が、シランカップリング剤及び／又はチタネ
ートカップリング剤からなることを特徴とする、請求項
３６乃至４２いずれかに記載の反射防止膜製造方法。
【請求項４５】前記支持体上に、前記光透過層として
高屈折率層及び低屈折率層を少なくとも備えると共に１
又は２以上の中屈折率層をさらに備えていてもよく、前
記の高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層は、屈折率
の高低が交互に入れ替わり且つ低屈折率層が最も鑑賞面
側に位置するように積層されてなる反射防止膜の製造方
法であって、あらかじめ前記光透過層が１又は２以上設けられていて
もよい前記支持体の表面に、前記コーティング組成物を
塗布した後、電離放射線を照射して硬化させることによ
り、前記高屈折率層及び前記中屈折率層のうちの少なく
ともひとつを形成することを特徴とする、請求項３６乃
至４４いずれかに記載の反射防止膜製造方法。
【請求項４６】前記コーティング組成物として、前記
酸化チタン１０重量部に対して、分子中にアニオン性の
極性基を有する前記バインダー成分を４〜２０重量部、
及び、分散剤を２〜４重量部の割合で含有するコーティ
ング組成物を用いることを特徴とする、請求項４５に記
載の反射防止膜製造方法。
【請求項４７】分子中にアニオン性の極性基としての
水素結合形成基を有するバインダー成分を含有する前記
コーティング組成物を前記支持体上に塗布することによ
り高屈折率層又は中屈折率層を形成した後、当該高屈折
率層又は中屈折率層の表面にドライコーティング法によ
り水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層又
は低屈折率層を形成することを特徴とする、請求項４５
又は４６に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項４８】水素結合形成基を含有する高屈折率層
又は中屈折率層として、酸化チタン膜をスパッタリング
法により形成することを特徴とする、請求項４７に記載
の反射防止膜製造方法。
【請求項４９】水素結合形成基を含有する低屈折率層
として、酸化ケイ素膜を蒸着法により形成することを特
徴とする、請求項４７に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項５０】前記光透過層として微細凹凸の表面を
有するハードコート層を設けた支持体を用い、当該ハードコート層の表面に前記コーティング組成物を
塗布することにより、最も表示媒体側の高屈折率層又は
中屈折率層を形成することを特徴とする、請求項４６に
記載の反射防止膜製造方法。
【請求項５１】前記支持体上に、前記光透過層として
高乃至中屈折率層として機能し得る屈折率を有する高屈
折率ハードコート層及び低屈折率層を少なくとも備える
と共に、高屈折率層及び／又は１又は２以上の中屈折率
層をさらに備えていてもよく、前記の高屈折率ハードコ
ート層、高屈折率層、中屈折率層及び低屈折率層は、屈
折率の高低が交互に入れ替わり、高屈折率ハードコート
層が最も表示媒体との接触面側に位置し、且つ、低屈折
率層が最も鑑賞面側に位置するように積層されてなる反
射防止膜の製造方法であって、あらかじめ前記光透過層が１又は２以上設けられていて
もよい前記支持体の表面に、前記コーティング組成物を
塗布した後、電離放射線を照射して硬化させることによ
り、前記高屈折率ハードコート層を形成することを特徴
とする、請求項３６乃至４４いずれかに記載の反射防止
膜製造方法。
【請求項５２】前記コーティング組成物の塗工により
形成された塗膜をエンボス加工した後、電離放射線を照
射して硬化させることにより、防眩性の微細凹凸表面を
有する高屈折率ハードコート層を形成することを特徴と
する、請求項５１に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項５３】前記コーティング組成物として、フィ
ラーを分散させたコーティング組成物を用いることによ
り、防眩性の微細凹凸表面を有する高屈折率ハードコー
ト層を形成することを特徴とする、請求項５１に記載の
反射防止膜製造方法。
【請求項５４】前記コーティング組成物のフィラー
と、当該コーティング組成物を硬化させて得られるバイ
ンダーの屈折率の差Δｎが０．０１≦Δｎ≦０．５であ
り、且つ、フィラーの平均粒径ｄが０．１μｍ≦ｄ≦１
０μｍであることを特徴とする、請求項５３に記載の反
射防止膜製造方法。
【請求項５５】前記コーティング組成物として、前記
酸化チタン１０重量部に対して、分子中にアニオン性の
極性基を有する前記バインダー成分を７０〜３２０重量
部、及び、分散剤を２〜４重量部の割合で含有するコー
ティング組成物を用いることを特徴とする、請求項５１
乃至５４いずれかに記載の反射防止膜製造方法。
【請求項５６】前記支持体上に、分子中にアニオン性
の極性基としての水素結合形成基を有するバインダー成
分を含有する前記コーティング組成物を塗布することに
より前記高屈折率ハードコート層を形成した後、当該高
屈折率ハードコート層の表面にドライコーティング法に
より水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率層
又は低屈折率層を形成することを特徴とする、請求項５
１乃至５５いずれかに記載の反射防止膜製造方法。
【請求項５７】水素結合形成基を含有する高屈折率層
又は中屈折率層として、酸化チタン膜をスパッタリング
法により形成することを特徴とする、請求項５６に記載
の反射防止膜製造方法。
【請求項５８】水素結合形成基を含有する低屈折率層
として、酸化ケイ素膜を蒸着法により形成することを特
徴とする、請求項５６に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項５９】前記光透過層としてドライコーティン
グ法により透明導電層を設けた支持体を用い、分子中に
アニオン性の極性基としての水素結合形成基を有するバ
インダー成分及び導電性微粒子を含有する前記コーティ
ング組成物を前記透明導電層の表面に塗布することによ
り、膜面方向の体積抵抗率が膜厚方向の体積抵抗率より
も高い異方導電性を有する高屈折率ハードコート層を形
成することを特徴とする、請求項５１乃至５５いずれか
に記載の反射防止膜製造方法。
【請求項６０】前記透明導電層が、アンチモンをドー
プした酸化スズ又はスズをドープした酸化インジウムを
含有する蒸着膜であることを特徴とする、請求項５９に
記載の反射防止膜製造方法。
【請求項６１】前記支持体上に、分子中にアニオン性
の極性基としての水素結合形成基を有するバインダー成
分を含有する前記コーティング組成物を塗布することに
より前記高屈折率ハードコート層を形成した後、当該高
屈折率ハードコート層の表面にウエットコーティング法
により水素結合形成基を含有する高屈折率層、中屈折率
層又は低屈折率層を形成することを特徴とする、請求項
５１乃至５５いずれかに記載の反射防止膜製造方法。
【請求項６２】水素結合形成基を含有する低屈折率層
として、酸化ケイ素膜をゾルゲル法により形成すること
を特徴とする、請求項６１に記載の反射防止膜製造方
法。
【請求項６３】前記光透過層としてウエットコーティ
ング法により透明導電層を設けた支持体を用い、分子中
にアニオン性の極性基としての水素結合形成基を有する
バインダー成分及び導電性微粒子を含有する前記コーテ
ィング組成物を前記透明導電層の表面に塗布することに
より、膜面方向の体積抵抗率が膜厚方向の体積抵抗率よ
りも高い異方導電性を有する高屈折率ハードコート層を
形成することを特徴とする、請求項５１乃至５５いずれ
かに記載の反射防止膜製造方法。
【請求項６４】前記透明導電層は、水素結合形成基を
含有するバインダー成分と導電性微粒子を含有する塗工
液を支持体上に塗布することにより形成されることを特
徴とする請求項６３に記載の反射防止膜。
【請求項６５】前記透明導電層の導電性微粒子が、ア
ンチモンをドープした酸化スズ又はスズをドープした酸
化インジウムであることを特徴とする、請求項６４に記
載の反射防止膜。
【請求項６６】前記請求項３６乃至６５いずれかに記
載の反射防止膜製造方法により、支持体としての光透過
性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に反射防止
膜を形成することを特徴とする、反射防止フィルム製造
方法。
【請求項６７】前記請求項３６乃至６５いずれかに記
載の反射防止膜製造方法により、支持体としての画像表
示装置の表示面に反射防止膜を形成することを特徴とす
る、画像表示装置製造方法。