TWI559338B - 色調校正膜及使用其的透明導電性膜 - Google Patents

色調校正膜及使用其的透明導電性膜 Download PDF

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Description

色調校正膜及使用其的透明導電性膜
本發明係為一種色調校正膜及使用其的透明導電性膜，更為一種觸控面板用色調校正膜以及在色調校正膜上具備透明導電層的透明導電性膜。
目前，觸控面板作為能夠通過直接觸摸圖像顯示部來輸入資訊的器件，被廣泛使用。觸控面板是將透過光的輸入裝置配置在液晶顯示裝置等顯示幕上的產品，作為代表形式有電容式觸控面板，其利用了透明電極與手指間產生的電流容量的變化。
作為觸控面板用的透明導電性膜，一般使用在透明基材膜上層壓透明導電層而成的透明導電性膜，該透明導電層是由含有氧化錫的氧化銦(錫摻雜氧化銦、ITO)或氧化鋅等金屬氧化物構成。這種透明導電性膜，因為來自金屬氧化物層的反射及吸收的可見光短波長區域的透過率降低，在全光線透過率降低的同時，大多可觀察到呈現黃色。因此，具有難以準確顯示配置在觸控面板下的顯示裝置所顯示的顏色的問題。
為了解決這個問題，提出有將透明導電層與多層光學膜組合而成的透明導電性膜。如日本特開2011-98563號公報所述，該透明導電性 膜是從作為透明基材膜的聚酯膜的表面開始依次層壓高折射率層、低折射率層及錫摻雜氧化銦層而構成的，同時，高折射率層由金屬氧化物微粒和紫外線固化型粘合劑形成，通過使光波長為400nm時的折射率為1.63~1.86、膜厚為40~90nm，低折射率層在光波長為400nm時的折射率為1.33~1.53、膜厚為10~50nm，錫摻雜氧化銦層在光波長為400nm時的折射率為1.85~2.35、膜厚為5~50nm，實現減少透過光著色的效果。
如日本特開2011-98563號公報所述的透明導電性膜，為了使製備透明導電性膜時的彎曲性良好，在錫摻雜氧化銦層的相反側的面上層壓滑性硬塗層，該滑性硬塗層的膜厚為1.0~10.0μm，含有0.5~30質量%的透光性微粒，該透光性微粒的平均粒徑為膜厚的10~60%。
但是，如日本特開2011-98563號公報所述的滑性硬塗層，在製備透明導電性膜時的彎曲性不夠充分。這是由於使用平均粒徑為膜厚的10~60%的透光性微粒而在滑性硬塗層上出現的凸起較小的緣故。
因此，本發明的目的是提供一種透明導電性膜及用作其基膜的色調校正膜，該透明導電性膜能夠抑制透過光的著色，全光線透過率高，且彎曲性優異。
本發明之一種色調校正膜，其是從透明基材膜的表面開始依次層壓第一硬塗層、第一色調校正層和第二色調校正層，在透明基材膜的背面側層壓第二硬塗層，該色調校正膜具有能夠彎曲的可撓性，其特徵在於，第一硬塗層對於波長為400nm的光的折射率為1.51~1.61，膜厚為 1.3~3.5μm；該第一色調校正層由金屬氧化物微粒和活性能量射線固化型樹脂構成，對於波長為400nm的光的折射率為1.63~1.86，膜厚為25~90nm；第二色調校正層由二氧化矽微粒和活性能量射線固化型樹脂構成，對於波長為400nm的光的折射率為1.33~1.53，膜厚為10~55nm；第二硬塗層對於波長為400nm的光的折射率為1.51~1.61，膜厚為1.3~3.5μm；第二硬塗層含有80~98wt%的粘合劑，1~10wt%的光聚合引發劑，0.01~19wt%的平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒，並且有機微粒的平均粒徑為膜厚的61~350%，粘合劑與光聚合引發劑、平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒之和為99~100wt%。
其中，該色調校正膜更含有29~75wt%的活性能量射線固化型樹脂和12~60wt%的二氧化矽微粒，同時，相對於第二硬塗層，該活性能量射線固化型樹脂和二氧化矽微粒之和為80~98wt%。
本發明之一種透明導電性膜，其是在該色調校正膜的第二色調校正層上層壓有錫摻雜氧化銦層的透明導電性膜，其中錫摻雜氧化銦層對於波長為400nm的光的折射率為1.85~2.35，膜厚為5~50nm。
本發明之一種色調校正膜，其通過適當設定特定的層(第一色調校正層、第二色調校正層、第二硬塗層)的成分及膜厚，能夠維持良好的彎曲性，同時能夠發揮減少透過光著色的效果。此外，本發明中的膜厚是指物理膜厚，而不是光學膜厚。
其中，對粘合劑進行設定，使得活性能量射線固化型樹脂相對于第二硬塗層為29~75wt%，二氧化矽粒子相對於第二硬塗層為12~60wt%，從而能夠使彎曲性更加良好。
本發明之一種透明導電性膜，通過適當設定第一硬塗層、第一色調校正層、第二色調校正層及錫摻雜氧化銦層的折射率及膜厚，能夠抑制透過光的著色。
其中，該透明導電性膜中，通過使用波長為400nm的折射率設計各層，使抑制透過光的著色效果最大化。
色調校正膜
本實施方式的色調校正膜是從透明基材膜的表面開始依次層壓第一硬塗層、第一色調校正層、第二色調校正層而構成，在透明基材膜的背面側層壓第二硬塗層。本實施方式的色調校正膜，通過適當設定特定的層(第一色調校正層、第二色調校正層、第二硬塗層)的成分及膜厚，能夠維持良好的彎曲性，同時，能夠發揮減少透過光著色的效果。
其中，本實施方式的透明導電性膜，是在第二色調校正層上層壓錫摻雜氧化銦層。並且，透明導電性膜，通過使用波長為400nm的折射率設計各層，使抑制透過光著色的效果最大化。
對本實施方式中使用相對於波長為400nm的光的折射率的理由進行說明。折射率具有波長分散性，在短波長區域具有折射率變大的傾向。一般地，關於調整各層折射率，雖然大多使用鈉的D線(光波長為589nm)的值，但是在如本實施方式的色調校正層及錫摻雜氧化銦層這樣含有金屬氧 化物微粒的層中，折射率受波長分散的影響變大。由於在抑制黃色顯色時，控制波長為400nm的透過率非常重要，因此在用波長為589nm的折射率來調整各層折射率的情況下，不能充分調整波長為400nm的透過率，無法得到充分地減少黃色顯色的效果。
以下，依次說明本色調校正膜的結構要素。
透明基材膜
本發明之透明基材膜由聚酯膜構成，例如，可以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂。透明基材膜的膜厚通常為25~400μm，以為25~188μm較佳。此外，透明基材膜是由PET樹脂形成的情況下，透明基材膜相對於波長為400nm的光的折射率為1.72。
第一硬塗層
為了提高表面硬度，在透明基材膜上設置有第一硬塗層。作為第一硬塗層的材料，為現有公知的即可，並沒有特別限定。例如，可列舉通過紫外線(UV)固化第一硬塗層用塗液而得的固化物，該第一硬塗層用塗液是將四乙氧基矽烷等反應性矽化合物與活性能量射線固化型樹脂混合而成。作為活性能量射線固化型樹脂，例如可列舉單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。其中，從兼顧生產能力和硬度的觀點考慮，以含有鉛筆硬度(測試方法：JIS-K5600-5-4)為H以上的活性能量射線固化型樹脂的組合物的固化物。作為含有這樣的活性能量射線固化型樹脂的組合物，可以使用例如混合了兩種以上眾所周知的活性能量射線固化型樹脂的組合物、市售的作為紫外線固化型硬塗層材料的組合物，或除此之外，在不損害本發明效果的範圍內，使用進一步添加了其他成分的組合物。其 中，上述“(甲基)丙烯酸酯”係指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。
調整第一硬塗層相對於波長為400nm的光的折射率，使其為1.51~1.61。折射率不足1.51的情況下，由於透明基材膜與第一硬塗層之間的折射率差變大，產生干涉條紋，故不選擇使用。折射率大於1.61的情況下，為了使折射率增大，需要向第一硬塗層添加較多的高折射率材料，但會產生因高折射率材料引起的光的吸收及光的散射，第一硬塗層發生著色，並且全光線透過率降低，故不選擇使用。另外，第一硬塗層乾燥固化後的膜厚為1.3~3.5μm。膜厚比1.3μm更薄的情況下，由於鉛筆硬度不足H，故不優選。膜厚比3.5μm更厚的情況下，在因固化收縮導致捲曲變強的同時，不必要的變厚，生產能力和操作性降低，故不選擇使用。
第二硬塗層
其中，為了提高表面硬度，使彎曲性良好，在透明基材膜的背面側設置有第二硬塗層。第二硬塗層是由利用活性能量射線(例如紫外線、電子束)使第二硬塗層用塗液固化而得的固化物構成的，該第二硬塗層用塗液是將粘合劑與光聚合引發劑以平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒混合而成。以固化後的第二硬塗層為100wt%計，粘合劑與光聚合引發劑及平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒之和為99~100wt%，根據需要可以在1wt%以下的範圍內添加其他成分。作為其他成分，可混配流平劑、調整折射率的低折射率材料或高折射率材料等。另外，從塗布性的觀點考慮，在第二硬塗層用塗液中通常含有稀釋溶劑。
其中，以固化後的第二硬塗層為100wt%計，粘合劑為80~98wt%。在不足80wt%的情況下，表面硬度不足，故不選擇使用。另一 方面，比98wt%多的情況下，有機微粒的量變少，無法在表面形成凸起，結果，彎曲性不充分。
粘合劑選擇具有活性能量射線固化型樹脂和二氧化矽微粒。例如，粘合劑選擇含有29~75wt%的活性能量射線固化型樹脂和12~60wt%的二氧化矽微粒，相對於第二硬塗層，活性能量射線固化型樹脂與二氧化矽微粒之和為80~98wt%。在活性能量射線固化型樹脂不足29wt%的情況下，難以維持為塗膜，故不選擇使用。另外，當將活性能量射線固化型樹脂單獨用作粘合劑時，如果活性能量射線固化型樹脂比98wt%更多，則彎曲性不充分，故不選擇使用。
粘合劑使用的活性能量射線固化型樹脂，其相對於波長為400nm的光的折射率為1.4~1.7。其中，活性能量射線固化型樹脂為可列舉單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
二氧化矽微粒相對於粘合劑的加入量為0~60wt%，更佳為12~60wt%。並且，二氧化矽微粒的加入量較少的情況下，具有表面硬度變弱的傾向，比60wt%更多的情況下，具有白化的傾向，故不選擇使用。
另外，二氧化矽微粒的平均粒徑優選為0.1μm以下。二氧化矽微粒的平均粒徑比0.1μm更大的情況下，產生光的散射，霧度(Haze)值變高，具有白化的傾向，故不選擇使用。此外，在本說明書中“二氧化矽微粒的平均粒徑”是指使用粒徑分佈測定裝置(大塚電子(株)製造，PAR-III)，利用動態光散射法測定平均粒徑所求得的值。另外霧度值可以根據JIS-K-7105或JIS-K-7136進行測定。
粘合劑使用的二氧化矽微粒，係可為實心二氧化矽微粒或中 空二氧化矽微粒。實心二氧化矽微粒的折射率為1.4~1.5，中空二氧化矽微粒的折射率為1.2~1.4。
二氧化矽微粒的折射率比1.5大的情況下，產生由活性能量射線硬化型樹脂與二氧化矽微粒的折射率差導致的光的散射，具有光學性能降低的傾向。二氧化矽微粒的折射率比1.2小的情況下，可觀察到中空二氧化矽微粒的強度變弱、耐擦傷性變差的傾向，但是由於第二硬塗層所使用的二氧化矽微粒的加入量少，對耐擦傷性惡化的影響小。因此，即使二氧化矽微粒的折射率為1.2以下，在技術方面也沒有問題，但在本發明中為不必要的功能。
第二硬塗層中使用的光聚合引發劑是為了紫外線(UV)固化第二硬塗層用塗液所使用的。光聚合引發劑的加入量，為1~10wt%。如果比1wt%少，則固化不充分。另一方面，在比10wt%多的情況下，固化不必要地增多，第二硬塗層的光學性能具有降低的傾向。光聚合引發劑，可使用1-羥基-環已基-苯基-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮等。
以固化後的第二硬塗層為100wt%-計，第二硬塗層中使用的平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒含有0.01~19wt%，並且，有機微粒的平均粒徑滿足占膜厚的61~350%的關係。
使用平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒，在加入量不足0.01wt%的情況下，彎曲性不充分。另一方面，比19wt%多的情況下，發生白化，故不選擇使用。
有機微粒的平均粒徑不足膜厚的61%的情況下，有機微粒 埋入第二硬塗層內，結果，不能在第二硬塗層的表面上形成凸起，彎曲性變得不充分。另一方面，比350%大的情況下產生白化，故不選擇使用。並且，有機微粒的平均粒徑更加優選為第二硬塗層膜厚的100%~340%。
有機微粒，通常為聚合物等形成，此聚合物是由選自氯乙烯、(甲基)丙烯酸酯單體、苯乙烯及乙烯中的至少一種單體聚合得到的聚合體。此外，本說明書中“有機微粒的平均粒徑”是指使用粒徑分佈測定裝置(日機裝(株)製造，微追蹤(micro track)MT3200II)，利用鐳射衍射、散射法測定平均粒徑所求得的值。
本實施方式的色調校正膜具有兩個硬塗層，即第一硬塗層及第二硬塗層，但是這兩個硬塗層的膜厚及折射率，既可相互相同，也可相互不同。
第一色調校正層
第一色調校正層是利用活性能量射線(例如紫外線、電子束)使第一色調校正層用塗液固化得到的固化物構成的，該第一色調校正層用塗液是將金屬氧化物微粒與活性能量射線固化型樹脂混合而成。作為金屬氧化物微粒，通常選用氧化鈦及氧化鋯較佳。氧化鈦和氧化鋯相對於波長為400nm的光的折射率因製備方法的不同而不同，但較佳為1.9~3.0。另外，作為粘合劑使用的活性能量射線固化型樹脂，選用相對於波長為400nm的光的折射率為1.4~1.7較佳。活性能量射線固化型樹脂，係為可列舉單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
通過適當選擇金屬氧化物微粒及活性能量射線固化型樹脂，形成第一色調校正層，使其相對於波長為400nm的光的折射率為 1.63~1.86。其中，第一色調校正層乾燥固化後的膜厚需要為25~90nm。第一色調校正層的折射率不足1.63的情況下，JIS Z 8729規定的Lab表色系統中的透過色b*的值會變大，以使明顯識別出透明導電性膜的透過色的黃色顯色。另外，第一色調校正層的折射率比1.86大的情況下，由於塗膜中的粒子比例變大，霧度值就會上升，因此全光線透過率降低。第一色調校正層的膜厚在上述範圍外時，b*的值變大，以使明顯識別出透明導電性膜的透過色的黃色顯色的著色。
第二色調校正層
第二色調校正層是利用活性能量射線(例如紫外線、電子束)使第二色調校正層用塗液固化得到的固化物構成的，該第二色調校正層用塗液是將二氧化矽微粒與活性能量射線固化型樹脂混合而成。其中，二氧化矽微粒係為膠體二氧化矽或中空二氧化矽微粒。膠體二氧化矽及中空二氧化矽微粒相對於波長為400nm的光的折射率因製備方法的不同而不同，但1.25~1.50為較佳。另外，作為粘合劑使用的活性能量射線固化型樹脂，相對於波長為400nm的光的折射率1.4~1.7較佳。活性能量射線固化型樹脂，係為可列舉單官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。
選用適當比例的二氧化矽微粒及活性能量射線固化型樹脂，形成第二色調校正層，使其相對於波長為400nm的光的折射率為1.33~1.53。其中，第二色調校正層乾燥固化後的膜厚需要為10~55nm。第二色調校正層的折射率不足1.33的情況下，由於塗膜中的粒子比例變大，霧度值上升，因此全光線透過率降低。另外，第二色調校正層的折射率比1.53大的情況下，JIS Z 8729規定的Lab表色系統中的透過色b*的值就會 變大，以使得明顯識別出透明導電性膜的透過色的黃色顯色。第二色調校正層的膜厚在上述範圍外時，b*的值變大，以使得明顯識別出透明導電性膜的透過色的黃色顯色的著色。
第一硬塗層、第二硬塗層、第一色調校正層及第二色調校正層的形成
第一硬塗層是在透明基材膜上塗布第一硬塗層用塗液後，通過照射活性能量射線固化形成。第二硬塗層是在與第一硬塗層相反側的面上，塗布第二硬塗層用塗液後，通過照射活性能量射線固化形成。
其中，第一色調校正層是在形成的第一硬塗層上塗布第一色調校正層用塗液後，通過照射活性能量射線固化形成。其中，第二色調校正層是在形成的第一色調校正層上塗布第二色調校正層用塗液後，通過照射活性能量射線固化形成。第一硬塗層用塗液、第二硬塗層用塗液、第一色調校正層用塗液、第二色調校正層用塗液的塗布方法並沒有特別限定，可以採用任何公知方法，例如輥塗法、旋轉塗布法、浸塗法、噴霧塗布法、棒塗布法、刮刀塗布法、模具塗布法、噴塗法、凹版塗布法等。另外，活性能量射線的種類沒有特別限定，但從便利性等觀點考慮，以使用紫外線為較佳。此外，為了提高各硬塗層的貼附性，可以預先在透明基材膜表面上實施電暈放電處理等前處理。
透明導電性膜
透明導電性膜的結構是在色調校正膜的第二色調校正層上層壓錫摻雜氧化銦層。透明導電性膜的結構是從上面依次層壓錫摻雜氧化銦層、第二色調校正層、第一色調校正層、第一硬塗層、透明基材膜、第二硬塗層。
透明導電性膜的透過光的著色可以用JIS Z 8729規定的Lab表色系統的b*進行測量，介於-2b*2，而-1b*1為更佳。在b*>2的情況下，由於能觀察到透明導電膜上著色成黃色，故不選擇使用。另一方面，在b*<-2的情況下，由於能觀察到透明導電膜著色成淺藍色，故不選擇使用。
透明導電性膜的全光線透過率在88%以上較佳。全光線透過率不足88%的情況下，能見度變差，故不選擇使用。另外，霧度值不足1%。霧度值在1%以上的情況下，發生白化，能見度變差，故不選擇使用。
錫摻雜氧化銦層(ITO層)
在第二色調校正層上層壓的錫摻雜氧化銦層(即ITO層)是透明導電層，相對於波長為400nm的光的折射率為1.85~2.35，膜厚為5~50nm。如果折射率不在此範圍內，由於與第一色調校正層及第二色調校正層間的光學干涉沒有適當的作用，透明導電性膜的透過色呈現著色，全光線透過率也降低。另外，ITO層的折射率優選比第二色調校正層的折射率大。膜厚比5nm更薄的情況下，難以形成均勻的膜，得不到穩定的電阻，故不選擇使用。另外，膜厚比50nm更厚的情況下，由ITO層自身的光的吸收變強，降低透過色著色的效果減輕，同時，具有全光線透過率變小的傾向，故不選擇使用。
錫摻雜氧化銦層的形成
錫摻雜氧化銦層的制膜方法並沒有特別限定，例如可以採用蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法、CVD(化學氣相沉積)法。其中，從控制層厚度的觀點考慮，選用蒸鍍法及濺射法較佳。此外，形成錫摻雜氧化銦層後，根 據需要，在100℃~200℃的範圍內實施退火處理，能夠結晶化。如果在高溫下結晶化，則錫摻雜氧化銦層的折射率顯示出變小的傾向。因此，錫摻雜氧化銦層的折射率能夠通過控制退火處理的溫度和時間進行調整。
以下本實施例及比較例對所述實施方式進一步進行具體說明，但本發明並不限定於這些實施例的範圍內。另外，在各例中的折射率、透過色、全光線透過率以如下所示的方法進行測定。
折射率(ITO層之外的層)
ITO層之外的層的折射率測量方式：
(1)在相對於波長為400nm的光的折射率為1.72的PET膜(商品名“A4100”、東洋紡織株式會社製造)上，使用浸漬提拉鍍膜機(杉山元理化學器械株式會社製造)，分別塗布各層用塗液，調整層厚，使其乾燥固化後的膜厚為100~500nm。
(2)乾燥後，在氮氛圍下利用紫外線照射儀器(岩崎電氣株式會社製造)，使用120W高壓水銀燈，照射400mJ紫外線，進行固化。在固化後的PET膜內面用砂紙打磨粗糙，全部塗上黑色塗料，使用反射分光膜厚計(“FE-3000”、大塚電子株式會社製造)，測定其反射光譜。
(3)根據由反射光譜讀取的反射率，求出如下所示的n-柯西(n-Cauchy)的波長分散式(公式1)的常數，計算光波長為400nm時的折射率。
N(λ)=a/λ4+b/λ2+c (公式1)，其中N為折射率、λ為波長、a、b、c為波長分散常數。
折射率(ITO層)
ITO層折射率的測量方式：
(1)在相對於波長為400nm的光的折射率為1.72的PET膜(商品名稱“A4100”、東洋紡織株式會社製造)上，使用銦：錫=10：1的ITO靶材進行濺射，形成作為實際膜厚為20nm的透明導電層的錫摻雜氧化銦層(ITO層)，以下述實施例及比較例的各個條件實施退火，製作透明導電性膜。
(2)在上述透明導電性膜內面用砂紙打磨粗糙，全部塗上黑色塗料，使用反射分光膜厚計(“FE-3000”、大塚電子株式會社製造)，測定其反射光譜。
(3)根據由反射光譜讀取的反射率，利用上述公式(1)求出光波長為400nm時的折射率。
此外，各表(後述)中所記載的各層的折射率，是由上述用於測定折射率的樣品求出的折射率。
透過色
透過色的測量方式係為使用色差計(“SQ-2000”、日本電色工業株式會社製造)，測定透明導電性膜的透過色b*。該b*是JIS Z 8729規定的Lab表色系統的值。
全光線透過率．霧度值
全光線透過率及霧度值的測量方式係為使用霧度儀(“NDH2000”、日本電色工業株式會社製造)，測定透明導電性膜的全光線透過率(%)及霧度值。
彎曲性
彎曲性測試方式係為將透明導電性膜彎曲成6英寸核心，通過目視進行觀察，以如下所示的評價基準對膜的彎曲性進行評價。其結果表示如下：
◎：完全沒有捲繞褶及凹痕等凹凸狀的變化。
○：基本沒有捲繞褶及凹痕等凹凸狀的變化。
×：捲繞褶及凹痕等凹凸狀的變化大。
第一硬塗層用塗液(HC1-1)的配製
第一硬塗層用塗液(HC1-1)的配製方法：混合96質量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、4質量份的光聚合引發劑(商品名：IRGACURE184汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)(株)製備)及100質量份的異丁醇，配製第一硬塗層用塗液(HC-1)。使用第一硬塗層用塗液(HC-1)形成的第一硬塗層的折射率為1.55。
第二硬塗層用塗液的配製
第二硬塗層用塗液的配製方法：作為第二硬塗層用塗液，使用如下原料，以下述表1及表2所記載的組成混合各原料，配製第二硬塗層用塗液 HC2-1~HC2-18、HC’2-1~HC’2-6。此外，表1及表2中的數值為wt%。測定使用制得的第二硬塗層用塗液HC2-1~HC2-18、HC’2-1~HC’2-6所形成的第二硬塗層的折射率。其結果表示在表1及表2中。
如下所示，表1及表2中，作為活性能量射線固化型樹脂，使用二季戊四醇六丙烯酸酯。另外作為光聚合引發劑，使用汽巴精化(株)製備的IRGACURE184(I-184)。另外，作為平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒，使用綜研化學(株)製備的MX-80H3wT(平均粒徑：0.8μm)，和綜研化學(株)製備的MX-150(平均粒徑：1.5μm)或綜研化學(株)製備的MX-500(平均粒徑：5.0μm)。並且，本試驗中，以重量比1：1的比例混合粘合劑光聚合引發劑及有機微粒與溶劑。作為溶劑，使用甲基異丁基酮。
第一色調校正層的配製
第一色調校正層的配製方式：作為第一色調校正層用塗液，使用如下原料，以下述表3所記載的組成混合各原料，配製第一色調校正層用塗液C1-1~C1-4。此外，表3中的數值為wt%。測定使用制得的第一硬塗層用塗液C1-1~C1-4所形成的色調校正層的折射率。其結果表示在表3中。
請參閱表3中，作為金屬氧化物微粒，使用氧化鋯微粒分散液(希愛化成(株)製備ZRMEK25%-F47)或氧化鈦微粒分散液(希愛化成(株)製備RTTMIBK15WT%-N24)。另外，作為活性能量射線固化型樹脂，使用6官能聚氨酯丙烯酸酯(日本合成化學工業(株)製備 紫光UV-7600B)。
並且，在本試驗中，以重量比100：5：1000的比例混合金屬氧化物微粒和活性能量射線固化型樹脂、光聚合引發劑與溶劑。作為光聚合引發劑，使用汽巴精化(株)製備的IRGACURE184(I-184)。另外作為溶劑，使用甲基異丁基酮。
第二色調校正層用塗液的配製
第二色調校正層用塗液的配製方法：作為第二色調校正層用塗液的配製，使用下面的原材料，以下述表4所記載的組成混合各原料，配製第二色調校正層用塗液C2-1~C2-5。此外，表4中的數值為wt%。測定使用制得的第二色調校正層用塗液C2-1~C2-5所形成的色調校正層的折射率。其結果表示在表4中。
請參閱在表4中，作為二氧化矽微粒，使用日揮催化劑化成(株)製備的丙烯酰基修飾中空二氧化矽微粒suru-ria()NAU或日產化學(株)製備的XBA-ST。此外，作為金屬氧化物微粒，使用氧化鋯微粒分散液(希愛化成(株)製備的ZRMEK 25%-F47)。此外，作為活性能量射線固化型樹脂，使用日本化藥(株)製備的DPHA。
在本試驗中，以重量比100：5：4000的比例混合微粒成分(二氧化矽微粒或金屬氧化物微粒)及活性能量射線固化型樹脂、光聚合引發劑與溶劑。作為光聚合引發劑，使用汽巴精化(株)製備的IRGACURE907(I-907)。並且，作為溶劑，使用異丙醇。
實施例1-1：
在厚度為125μm的PET膜的一個面上，使用棒塗布機塗布第一硬塗層用塗液(HC1-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成第一硬塗層。接著，在PET膜的另一面上，使用棒塗布機塗布第二硬塗層用塗液(HC2-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成第二硬塗層。
在上述第一硬塗層上，使用棒塗布機塗布第一色調校正層用塗液(C1-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固化，形成第一色調校正層。在上述第一色調校正層上，使用棒塗布機塗布第二色調校正層用塗液(C2-1)，利用120W高壓水銀燈照射400mJ紫外線，使其固 化，形成第二色調校正層，製成色調校正膜(S1-1)(參照下述表5)。
實施例1-2~實施例1-16、實施例2-1~實施例2-10：除了使第一硬塗層、第一色調校正層、第二色調校正層、第二硬塗層為下述表5及表6所記載的材料及膜厚以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S1-2~S1-16、S2-1~S2-10)。
實施例3-1：在上述色調校正膜(S1-1)的第二色調校正層上，使用銦：錫=10：1的ITO靶材進行濺射，從而形成膜厚為20nm的錫摻雜氧化銦層(ITO層)，在150℃下實施30分鐘退火處理，製成透明導電性膜。對所得到的透明導電性膜，用前述方法測定彎曲性、透過色b*、全光線透過率和霧度值。結果表示在下述表7中。
實施例3-2~實施例3-18、實施例4-1~實施例4-10：除了使錫摻雜氧化銦層(ITO層)為表7及表8所記載的膜厚以外，與實施例2-1相同，製成透明導電性膜。
比較例1-1~比較例1-13、比較例2-1~比較例2-3：除了使第一硬塗層、第一色調校正層、第二色調校正層、第二硬塗層為下述表9及表10所記載的材料及膜厚以外，與實施例1-1相同，製成色調校正膜(S’1-1~S’1-13、S’2-1~S’2-3)。
比較例3-1~比較例3-14、比較例4-1~比較例4-3：除了使錫摻雜氧化銦層(ITO層)為表11及表12所記載的膜厚以外，與實施例3-1相同，製成透明導電性膜。
結果及考察
在實施例3-1~實施例3-18、實施例4-1~實施例4-10中，因為將第一硬塗層及各色調校正層、錫摻雜氧化銦層的折射率和膜厚設定在本發明所規定的範圍內，因此透過色b*的值小，能夠充分抑制透明導電性膜的著色，進一步地，能夠實現優異的全光線透過率。另外，在實施例3-1~實施例3-18、實施例4-1~實施例4-10中，因為將第二硬塗層的組成及膜厚設定在本發明所規定的範圍內，因此能夠實現優異的彎曲性。
另一方面，比較例3-1~3-7、比較例3-14中，由於將第一硬塗層、各色調校正層、錫摻雜氧化銦層的折射率及膜厚的任意一種設定在本發明所規定的範圍外，因此其結果為透過色b*的值大，透明導電性膜發生著色，或者霧度值高，全光線透過率低。
比較例3-8~3-13、比較例4-1~4-3中，由於將第二硬塗層的組成及膜厚的任意一種設定在本發明所規定的範圍外，因此其結果彎曲性差，或者霧度值高，全光線透過率低。
本實施方式的色調校正膜及透明導電性膜並不限定於上述的實施方式中，也可以得到其他各種實施方式。

Claims (3)

  1. 一種色調校正膜，從一透明基材膜的表面開始依次層壓第一硬塗層、第一色調校正層以及第二色調校正層，在該透明基材膜的背面側層壓第二硬塗層，該色調校正膜具有能夠彎曲的可撓性；其中該第一硬塗層相對於波長為400nm的光的折射率為1.51~1.61，膜厚為1.3~3.5μm；其中該第一色調校正層係由金屬氧化物微粒和活性能量射線固化型樹脂構成，其相對於波長為400nm的光的折射率為1.63~1.86，膜厚為25~90nm；其中該第二色調校正層係由二氧化矽微粒和活性能量射線固化型樹脂構成，其相對於波長為400nm的光的折射率為1.33~1.53，膜厚為10~55nm；其中該第二硬塗層相對於波長為400nm的光的折射率為1.51~1.61，膜厚為1.3~3.5μm，其含有80~98wt%的粘合劑、1~10wt%的光聚合引發劑、以及0.01~19wt%的平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒；其中，該有機微粒的平均粒徑為膜厚的61~350%；以及該粘合劑與該光聚合引發劑、平均粒徑為0.8~5.5μm的有機微粒之和為99~100wt%。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之色調校正膜，其中該第二硬塗層的該粘合劑含有29~75wt%的活性能量射線固化型樹脂和12~60wt%的該二氧化矽微粒，相對於該第二硬塗層，該活性能量射線固化型樹脂和該二氧化矽微粒之和為80~98wt%。
  3. 一種透明導電性膜，如申請專利範圍第1項或第2項所述的該色調校正膜的該第二色調層上層壓一錫摻雜氧化銦層的形成一透明導電性膜，該錫摻雜氧化銦層相對於波長為400nm的光的折射率為1.85~2.35，膜厚為5~50nm。
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