JPH07333404A - 光学機能性膜、光学機能性フィルム、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 第一の目的は、防湿性等のガスバリヤー性に
優れた光学機能性膜を提供し、第二の目的は、防眩性と
反射防止性を同時に備え、且つ内部の各層の界面におけ
る光の反射を低減することができる防眩性反射防止フィ
ルム及びその製造方法を提供すること。 【構成】 透明基材フィルム１１上に、直接又は他の層
を介して、表面が微細な凹凸状の防眩層１２が形成され
ており、さらにその上に防眩層１２の屈折率よりも低い
屈折率の低屈折率層１３が形成されている。防眩層１２
の屈折率は、その防眩層１２が接している低屈折率１３
の面とは反対側の面に接している層の屈折率よりも高
い。この低屈折率１３にＳｉＯ_ｘ膜を使用することがで
きるが、ＳｉＯ_ｘ膜自体は光学機能膜として、ガスバリ
ヤー性、防汚性に優れ、防湿性、耐擦傷性、基材接着
性、透明性、低屈折率性、染料劣化防止性等に優れてい
る特徴を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学機能性フィルムに
関し、特に、ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレン
ズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各
種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面の
反射防止フィルムに好適な光学機能性フィルムならびに
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カーブミラー、バックミラー、ゴーグ
ル、窓ガラス、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、
その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラス
チック等の透明基板が用いられており、これらの透明基
板を通して物体や文字、図形の視覚情報を或いはミラー
では透明基板を通して反射層からの像を観察する場合
に、これらの透明基板の表面が光で反射して内部の視覚
情報が見えにくいという問題があった。

【０００３】従来、光の反射防止技術には、例えば、次
のような技術があった。すなわち、ガラスやプラスチッ
ク表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明
基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ_２等の極薄膜
や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプ
ラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その
上に蒸着によりＳｉＯ_２やＭｇＦ_２の膜を形成する方
法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜
を形成する方法があった。

【０００４】前記ガラス上に形成された膜厚０．１μｍ
程度のＭｇＦ_２の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜
に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ₀ とし、この
波長に対する反射防止膜の屈折率をｎ₀ 、反射防止膜の
厚みをｈ、および基板の屈折率をｎ_g とすると、反射防
止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過す
るための条件は、次の式（１）および式（２）の関係を
満たすことが必要であることは既に知られている（サイ
エンスライブラリ 物理学＝９「光学」７０〜７２頁、
昭和５５年、株式会社サイエンス社発行）。

【０００５】

【数１】 ｎ₀ ｈ＝λ₀ ／４ 式（２） ガラスの屈折率ｎ_g ＝約１．５であり、ＭｇＦ_２膜の屈
折率ｎ₀ ＝１．３８、入射光の波長λ₀ ＝５５００オン
グストローム（基準）と既に知られているので、これら
の値を前記式（２）に代入すると、反射防止膜の厚みｈ
は約０．１μｍが最適であると計算される。

【０００６】前記式（１）によれば、光の反射を１００
％防止するためには、上層塗膜の屈折率がその下層塗膜
の屈折率の約平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことが分かり、このような原理を利用して、上層塗
膜の屈折率を、その下層塗膜の屈折率よりも若干低い値
として光の反射防止を行なうことが従来行なわれてい
た。

【０００７】また従来、外部または内部からの光をディ
スプレイ表面が拡散反射または拡散透過させて、眩しく
ないようにするために、ディスプレイ等の表面に防眩処
理を施していた。このような防眩処理には、例えば、二
酸化珪素等のフィラーを含む樹脂を、ディスプレイ表面
に塗工したり、或いは透明基板に二酸化珪素等のフィラ
ーを含む樹脂が塗工されてなる防眩性基材をディスプレ
イ表面に貼着していた。

【０００８】特に、液晶ディスプレイ等の表示体の表面
には、光のシャッターの役目をするフィルム状の偏光素
子が設けられているが、偏光素子自体がハード性能に劣
るために、ガラス、透明プラスチック板、または透明プ
ラスチックフィルム等の透明保護基板により保護され
て、偏光板が形成されている。しかしながら、透明プラ
スチック板または透明プラスチックフィルム等のプラス
チックからなる透明保護基板自体においても傷がつきや
すいので、近年、このような偏光板の表面にハード性能
を持たせたものが開発されている。このような技術とし
て、例えば、特開平１−１０５７３８号公報に記載され
るものがある。

【０００９】この公報には、偏光素子に貼合されて偏光
板を構成するための、ハード性能、防眩性が付与された
透明保護基板、即ち、光制御用トリアセテートフィルム
が開示されている。このフィルムは、未ケン化のトリア
セテートフィルムの一方の面に、紫外線硬化型エポキシ
アクリレート系樹脂からなる硬化塗膜を設けることによ
りハード性能に優れたトリアセテートフィルムとしてい
る。

【００１０】前記ハード性能に優れたトリアセテートフ
ィルムに更に防眩性を付与するためには、従来、前記紫
外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂に無定形シリカ
を添加した樹脂組成物をトリアセテートフィルムの表面
に塗布して硬化させていた。このようにして得られたト
リアセテートフィルムを偏光素子と貼合させて偏光板と
する際に、偏光素子との接着性を上げるためおよび静電
防止のためにアルカリによるケン化処理を行い、その後
に、偏光素子と貼合させて偏光板を製造している。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基材フ
ィルム上に光の反射防止と同時に防眩性を付与する層を
設けて防眩性反射フィルムとするためには、少なくとも
これらの機能を有する層や、その他、接着剤層等の各種
層を設けるため、例えば、基材フィルムと、基材フィル
ム上に設けられた最表層との間に一以上の層を設けなけ
ればならない。このような場合、各層の界面において、
光の反射が起こり、特に、塗布によって形成されたよう
な膜厚が０．５μｍ以上の比較的厚い、光の波長よりも
大きい膜厚を有する界面においては、このような傾向が
現れ、反射防止フィルムとしての反射防止効果を低下さ
せるという問題があった。

【００１２】一方、透明性基材フィルム上の最表面に反
射防止層を形成した従来の反射防止フィルムは、反射防
止層の厚みが約０．１μｍ前後と薄いため、形成された
反射防止フィルムはハード性能に劣り、傷付きやすいと
いう問題があった。

【００１３】さらに、反射防止フィルム等の光学機能が
付与されたフィルムは、各光学機能性膜が通常積層され
ているが、このような光学機能膜は、ガスバリヤー性が
十分ではなく、防湿性が劣っていた。特に、液晶表示装
置に使用される偏光素子は湿気に弱く、防湿性を付与す
る必要がある。

【００１４】そこで本発明の第一の目的は、反射防止フ
ィルム、反射防止膜等の光学材料を構成している光学機
能性材料について、防湿性等のガスバリヤー性に優れた
光学機能性フィルムを提供することである。

【００１５】本発明の第二の目的は、防眩性と反射防止
性を同時に備え、且つ内部の各層間の界面における光の
反射を低減することができる防眩性反射防止フィルムお
よびその製造方法を提供することである。

【００１６】本発明の第三の目的は、前記第二番目の目
的に加えて、ハード性能を付与した防眩性反射防止フィ
ルム、およびその製造方法を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】前記した第一番目の目的
を達成するために本発明による光学機能性フィルムは、
水に対する表面の接触角が４０〜１８０度のＳｉＯ_ｘ膜
（ｘは１．５０≦ｘ≦４．００）からなることを特徴と
する。このＳｉＯ_ｘ膜は好ましくはプラズマＣＶＤ法に
よって形成された膜からなる。また、本発明において
は、上記のＳｉＯ_ｘ膜の動摩擦係数は、１以下であるこ
とが好ましい。

【００１８】この光学機能性フィルムは、代表的には、
透明基材フィルム上に、直接または他の層を介して、好
ましくはプラズマＣＶＤ法によってＳｉＯ_ｘ膜（ｘは
１．５０≦ｘ≦４．００）を形成することができるが、
各種光学物品の所定の位置に形成することができる。

【００１９】前記した第二番目の目的を達成するために
本発明の防眩性反射防止フィルムは、（１）透明基材フ
ィルム上に、直接または他の層を介して、表面が微細な
凹凸状のバインダー樹脂を主体とする防眩層が形成され
ており、（２）該防眩層上に、該防眩層の屈折率よりも
低い屈折率の低屈折率層が形成されており、（３）該防
眩層の屈折率は、該防眩層が接している前記低屈折率層
とは反対側に接している層（例えば、透明基材フィル
ム、プライマー層、接着剤層、第２ハードコート層等）
の屈折率よりも高いことを特徴とする。

【００２０】前記した第三番目の目的を達成するために
本発明の防眩性反射防止フィルムは、（１）透明基材フ
ィルム上に、直接または他の層を介して、表面が微細な
凹凸状で、ハード性能を有する防眩層が形成されてお
り、（２）該防眩層上に、該防眩層の屈折率よりも低い
屈折率の低屈折率層が形成されており、（３）該防眩層
の屈折率は、該防眩層が接している前記低屈折率層とは
反対側に接している層の屈折率よりも高いことを特徴と
する。

【００２１】また、本発明の防眩性反射防止フィルムの
製造方法は、（１）透明基材フィルム上に、直接または
他の層を介して、バインダー樹脂と該バインダー樹脂の
屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを含
む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が最
終製品としての防眩性反射防止フィルムの層構成におけ
る該樹脂組成物を使用する層の下側に直接接する層の屈
折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工し、
（２）形成された塗膜上に、表面に微細な凹凸を有する
マット状の賦型フィルムを微細な凹凸面を塗膜側にして
ラミネートし、（３）得られたラミネート物に対して加
熱処理および／または電離放射線照射処理を行なって塗
膜を硬化させ、（４）塗膜の硬化したラミネート物から
前記賦型フィルムを剥離することにより表面に微細な凹
凸を有する防眩層を形成し、（５）前記工程で形成され
た防眩層上に該防眩層よりも低い屈折率を有する低屈折
率層を形成することを特徴とする。

【００２２】また、本発明の防眩性反射防止フィルムの
別の製造方法は、（１）表面に微細な凹凸を有するマッ
ト状の賦型フィルム上に、バインダー樹脂と該バインダ
ー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒
子とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈
折率が最終製品としての防眩性反射防止フィルムの層構
成における該樹脂組成物を使用する層の下側に直接接す
る層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工
し、（２）一方、透明基材フィルムに対して、直接また
は他の層を介して、前記工程で塗膜が形成された賦型フ
ィルムを、該塗膜を内側にしてラミネートし、（３）こ
のラミネート物に対して、加熱処理および／または電離
放射線照射処理を行なって、該塗膜を硬化させ、（４）
塗膜の硬化したラミネート物から前記賦型フィルムを剥
離することにより表面に微細な凹凸を有する防眩層を形
成し、（５）前記工程で形成された防眩層上に該防眩層
よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成することを
特徴とする。

【００２３】また、本発明の防眩性反射防止フィルムの
さらに別の製造方法は、（１）表面に微細な凹凸を有す
るマット状の賦型フィルム上に、バインダー樹脂と該バ
インダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折
率微粒子とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成
物の屈折率が最終製品としての防眩性反射防止フィルム
の層構成における該樹脂組成物を使用する層の下側に直
接接する層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物
を塗工して塗膜を形成し、（２）該塗膜を硬化させて高
屈折率ハードコート層とし、（３）一方、透明基材フィ
ルムの表裏面の少なくとも一面に、接着剤層を介して、
前記工程の高屈折率ハードコート層が形成された賦型フ
ィルムを、該高屈折率ハードコート層を内側にしてラミ
ネートし、（４）前記接着剤層を硬化した後、ラミネー
ト物から前記賦型フィルムを剥離して表面に微細な凹凸
を有する高屈折率ハードコート層を前記透明基材フィル
ム側に転写し、（５）次いで、該高屈折率ハードコート
層上に、該高屈折率ハードコート層の屈折率よりも低い
屈折率の低屈折率層を設けることを特徴とする。防眩性と反射防止性 本発明において防眩とは、ディスプレー等の表面に形成
された防眩層表面の微細な凹凸により、または防眩層内
に配置されたマット材により、外光の反射が拡散されて
拡散反射となり、螢光灯などの画面への映り込みが減少
される現象をいう。このような防眩層においては、表示
体からの透過光が拡散されてしまうため、解像度、コン
トラストが低下するという欠点がある。

【００２４】また、本発明において反射防止とは、外光
の反射エネルギーを干渉作用によって低下させるため、
外光の映り込みが若干低減され、表示体からの透過光量
が増大されるため（反射が低減されるため）、解像度、
コントラストが高まる現象をいう。図２１に光の反射の
概念図を、図２２に光の透過の概念図を示す。

【００２５】本発明において、防眩性反射防止とは、防
眩性と反射防止性の双方の欠点を補うようにしたもので
あり、光の正反射、拡散反射、外光映り込み、コントラ
スト等が改善されている。特に、防眩性が付与されたフ
ィルムは、バックから透過されてくる光が拡散透過され
て、このようなフィルムを表示装置に使用した場合、表
面の影像が暗くなる欠点があったが、本発明の防眩性反
射防止フィルムは、低反射となると同時に透過率が際立
って上昇するという特徴を有するので、映像が明るく、
コントラストが上がり、視認性がよいという特徴を有す
る。上記防眩、反射防止、防眩性反射防止の性質を次の
表１に対比する。

【００２６】 〔表１〕 項 目 防 眩 反射防止 防眩性反射防止 正反射 少ない 少ない 少ない 拡散反射 多い 少ない 少ない 外光映り込み 少ない 若干ある 少ない 正透過光量 少ない 多い やや少ない 拡散透過光量 多い 少ない やや多い 透過光量 （正透過光量 少ない 多い やや多い ＋拡散透過光量） 解像度 低い 高い やや高い コントラスト 低い 高い 高い 表１によれば、防眩性反射防止が付与されることによっ
て、ディスプレーに要求される光学特性をほぼ満足する
ことが分かる。即ち、ディスプレーに要求される光学特
性とは、表面の正反射が少ないこと、外光映り込みが少
ないこと、透過光量が多く明るく見えること、正透過光
量が多く、解像度、コントラストが優れていることであ
る。透明基材フィルム 透明基材フィルムとしては、トリアセチルセルロースフ
ィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブ
チレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフ
ィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系
樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネー
トフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィ
ルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケト
ンフィルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使
用できるが、特に、トリアセチルセルロースフィルム、
及び一軸延伸ポリエステルが透明性に優れ、光学的に異
方性が無い点で好適に用いられる。その厚みは、通常は
８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。防眩層 本発明の防眩層の表面には、微細な凹凸が形成されてい
る。このような微細な凹凸を形成する方法には、表面に
微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムを用いて賦
型を行なうか、プラスチックビース等のマット材をバイ
ンダー樹脂に添加した防眩性塗料により塗膜を形成する
か、或いは表面賦型とマット材の添加を併用することに
よって行なうことができる。防眩性（即ち、内部から発
散される光を拡散させて眩しくないようにする性質）付
与のためにマット材を用いずに表面に微細な凹凸の賦型
とする場合には、得られる防眩性反射防止フィルムの透
明性が、特に損なわれない効果を有する。

【００２７】前記賦型による微細な凹凸の形成方法に用
いる賦型フィルムには、離型性のあるＰＥＴ等のプラス
チックフィルム上に所望の凹凸を設けたもの、或いは、
ＰＥＴ等のプラスチックフィルム上に微細な凹凸層を形
成したもの等を用いることができる。このような賦型フ
ィルムを、樹脂の塗膜上に、例えば、紫外線硬化型樹脂
の塗膜上にラミネートして、紫外線を照射して塗膜を硬
化することができる。この場合、賦型フィルムがＰＥＴ
を基材としたフィルムであると、該フィルムに紫外線の
短波長側が吸収されることになり、紫外線硬化型樹脂の
硬化不足になってしまうという欠点がある。したがっ
て、紫外線硬化型樹脂の塗膜に賦型フィルムを適用する
場合に、波長２５４〜３００ｎｍの紫外線領域における
賦型フィルムの透過率が２０％以上のものを使用するこ
とが必要である。

【００２８】前記マット材の添加による微細な凹凸の形
成方法に用いるマット材には、例えば、プラスチックビ
ーズが透明度が高く、マトリックス樹脂と屈折率が近い
ので好適に使用できる。このようにマット材の屈折率を
できるだけ樹脂の屈折率に近いものにすると、塗膜の透
明性が損なわれずに、しかも、防眩性を増すことができ
る。マット材としてのプラスチックビーズに、例えば、
アクリルビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレ
ンビーズ、塩ビビーズ等が用いられる。これらのプラス
チックビーズの粒径は、１〜１０μｍのものが好適に使
用される。

【００２９】これらのマット材を添加した場合には、樹
脂組成物中でマット材が沈降しやすいので、沈降防止の
ためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。な
お、無機フィラーは添加すればするほどマット材の沈降
防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。
したがって、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フ
ィラーを、樹脂に対して塗膜の透明性を損なわない程度
に、０．１重量％未満程度含ませると沈降防止すること
ができる。このシリカは、従来のマット材として通常使
用される粒径５μｍ程度のシリカとは、粒径が非常に小
さい点で異なり、その添加効果も防眩性付与には有効で
はない。また、その使用量も、従来のマット材が１〜３
０重量％使用されるのに対して、本発明では、シリカを
０．１重量％以下と極端に少ない量で使用される点で異
なる。なお、マット材の沈降防止のための沈降防止剤で
ある無機フィラーを添加しないで本発明を実施する場合
には、塗料使用時にマット材が底に沈澱しているので、
よく掻き混ぜて均一にすれば使用することができる。

【００３０】防眩層に用いることのできるバインダー樹
脂には、透明性のあるものであればどのような樹脂（例
えば、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型
樹脂等）でも使用することができる。防眩層にハード性
能を付与して、最終的に得られる防眩性反射防止フィル
ムを優れたハード性能とするためには、防眩層の厚みは
０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上とすることに
より、硬度を維持することができ、防眩性反射防止フィ
ルムにハード性能を付与することができる。

【００３１】なお、本発明において、「ハード性能を有
する」或いは「ハードコート」とは、ＪＩＳＫ５４００
で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を示すものを
いう。

【００３２】また、防眩層の硬度をより向上させるため
には、防眩層に使用するバインダー樹脂には、反応硬化
型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線硬化
型樹脂を使用することが好ましい。前記熱硬化型樹脂に
は、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹
脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアル
キッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポ
リシロキサン樹脂等が使用され、これらの樹脂に必要に
応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、
溶剤、粘度調整剤等を加えて使用する。

【００３３】前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジ
オール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。

【００３４】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート１００重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は３０重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。

【００３５】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を
混合するのが好ましい。

【００３６】電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し
溶剤乾燥型樹脂を１０重量部以上１００重量部以下含ま
せてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑
性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する
溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが
使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエス
テルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物
を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリ
メタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸
ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において
有利である。

【００３７】また、透明基材フィルムとして、特にトリ
アセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いるとき
には、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶剤乾燥型樹脂
には、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチ
ルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜の密着性及び
透明性の点で有利である。

【００３８】その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶
媒としてトルエンを使用した場合、透明基材フィルムで
あるトリアセチルセルロースの非溶解性の溶剤であるト
ルエンを用いるにもかかわらず、透明基材フィルムにこ
の溶剤乾燥型樹脂を含む塗料の塗布を行なっても、透明
基材フィルムと塗膜樹脂との密着性を良好にすることが
でき、しかもこのトルエンは、透明基材フィルムである
トリアセチルセルロースを溶解しないので、透明基材フ
ィルムの表面は白化せず、透明性が保たれる利点がある
からである。

【００３９】防眩層の形成には、塗布による方法又は転
写による方法が利用できる。前者の塗布による方法に
は、透明基材フィルムに直接又は他の層を介して、例え
ばグラビヤリバースコート法等により前記防眩層用の樹
脂組成物を塗布して形成することができる。また後者の
転写による方法には、表面に微細な凹凸を有する賦型フ
ィルム上に、前記防眩層用の樹脂組成物を例えばグラビ
ヤリバースコート法等により塗工して塗膜を形成し、一
方、透明基材フィルムの表裏面の少なくとも一面に、直
接又は他の層を介して、前の工程の塗膜が形成された賦
型フィルムを、その塗膜を内側にしてラミネートし、こ
のラミネート物に対して、加熱処理及び／又は電離放射
線照射処理を行なって該塗膜を硬化させ、その後、ラミ
ネート物から前記賦型フィルムを剥離して防眩層を形成
することができ、或いは前記のラミネートを行なう前
に、賦型フィルム上の塗膜に加熱処理及び／又は電離放
射線照射処理を行なって硬化させた後、接着剤層を介し
て、透明基材フィルムの表裏面の少なくとも一面にラミ
ネートし、その後、ラミネート物から前記賦型フィルム
を剥離して防眩層を形成することができる。

【００４０】本発明における防眩層は、塗布による塗膜
であるので、その膜厚は上記したように０．５μｍ以上
であり、気相法（例えば、真空蒸着、スパッタリング、
イオンプレーティング、プラズマＣＶＤ法等）による膜
に比べて厚い。よって、得られた防眩性反射防止フィル
ムにはハード性能が付与される。

【００４１】防眩層の屈折率を高くするためには、高屈
折率を持つバインダー樹脂を使用するか、防眩層に用い
られるバインダー樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有す
る高屈折率微粒子をバインダー樹脂に添加することによ
って行なうか、あるいは、これらを併用することによっ
て行なう。

【００４２】前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、
芳香環を含む樹脂、Ｆ以外のハロゲン化元素、例え
ば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等を含む樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原
子を含む樹脂等が挙げられ、これらの少なくとも一つの
条件を満足する樹脂が高屈折率となるため好ましい。前
記の樹脂の例には、ポリスチレン等のスチロール樹
脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルカルバゾ
ール、ビスフェノールＡのポリカーボネート等が挙げら
れる。

【００４３】前記の樹脂の例には、ポリ塩化ビニル、
ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル
等が挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリビスフェ
ノールＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が
挙げられる。

【００４４】前記高屈折率微粒子には、例えば、ＺｎＯ
（屈折率１．９０）、ＴｉＯ_２（屈折率２．３〜２．
７）、ＣｅＯ_２（屈折率１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_５（屈折
率１．７１）、ＳｎＯ_２、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、
Ｙ_２Ｏ_３（屈折率１．８７）、Ｌａ_２Ｏ_３（屈折率１．
９５）、ＺｒＯ_２（屈折率２．０５）、Ａｌ_２Ｏ_３（屈
折率１．６３）等が挙げられる。これらの高屈折率微粒
子のうち、望ましくはＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２等を
用いることにより、本発明の防眩性反射防止フィルムに
ＵＶ遮蔽効果がさらに付与されるので好ましい。また、
アンチモンがドープされたＳｎＯ_２或いはＩＴＯを用い
ることにより、電子伝導性が向上し、帯電防止効果によ
るホコリの付着防止、或いは本発明の防眩性反射防止フ
ィルムをＣＲＴに用いた場合の電磁波シールド効果が得
られるので好ましい。高屈折率微粒子の粒径は、防眩層
を透明とするためには４００ｎｍ以下であることが好ま
しい。

【００４５】防眩層にバインダー樹脂として電離放射線
硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方法は通常
の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線また
は紫外線の照射によって硬化することができる。例え
ば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バ
ンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線
型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器
から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１０
０〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用
され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。低屈折率層 前記した防眩層上に接して低屈折率層が形成されてい
る。この低屈折率層の屈折率ｎ_L は、防眩層の屈折率ｎ
_H に比べて低い範囲のものであることは勿論であるが、
下記の式（３）

【００４６】

【数２】 に近づく程、反射防止効果は向上するので、上記式
（３）の条件に近づけることが望ましい。

【００４７】低屈折率層の形成に使用される低屈折率材
料は上記条件を満足するものであれば、何でもよいが、
無機材料は、硬度が高く、気相法により膜を形成できる
ので好適に使用できる。低屈折率層を形成する材料とし
ては、例えば、ＬｉＦ（屈折率１．４）、ＭｇＦ_２（屈
折率１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ_３（屈折率１．４）、
ＡｌＦ_３（屈折率１．４）、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、
屈折率１．３３）、ＳｉＯ_ｘ（ｘ：１．５０≦ｘ≦４．
００、望ましくは１．７０≦ｘ≦２．２０）（屈折率
１．３５〜１．４８）、ＮａＭｇＦ_３（屈折率１．３
６）等の無機材料が使用される。

【００４８】この低屈折率層は、表面に微細な凹凸を有
する防眩層上に形成されるため、低屈折率層の形成によ
り、防眩層の微細な凹凸の凹部に低屈折率層材料が集中
して、低屈折率層の表面が平坦にならないようにする。
そのためには、低屈折率層の形成には、気相法、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等
により形成することが望ましい。さらに望ましくは、特
にプラズマＣＶＤ法でＳｉＯ_ｘ（ｘ：１．５０≦ｘ≦
４．００）膜を形成したものは、膜の硬度や表面物性が
良好であり、樹脂層との密着性に優れ、透明基材フィル
ムの熱ダメージを他の気相法に比べて低減できるので好
ましい。このＳｉＯ_ｘについては、次に詳細に述べる。光学機能性膜 前記低屈折率層に使用されるＳｉＯ_ｘ（ｘ：１．５０≦
ｘ≦４．００）膜は、低屈折率層の用途に限られず、光
学機能性膜として広く使用することができる。

【００４９】特に、ＣＶＤ法、好ましくはプラズマＣＶ
Ｄ法により形成したＳｉＯ_ｘ膜は、通常の真空蒸着膜と
比べて密度が高く、ガスバリヤー性が高い。さらに加え
て、光学機能性膜に適したすぐれた特性を有している。
特に、防湿性に優れるので、プラズマＣＶＤ法によるＳ
ｉＯ_ｘ膜を形成した反射防止フィルムを偏光素子にラミ
ネートして使用する場合に、湿気に弱いとされている偏
光素子の防湿機能を果たす利点がある。

【００５０】下記の表２にプラズマＣＶＤ法により形成
したＳｉＯ_ｘ膜の優位性を示す実験データを示す。防湿
実験の対象としたフィルムには、トリアセチルセルロー
スフィルム（ＴＡＣと表示する）、トリアセチルセルロ
ースフィルム上に膜厚７μｍのハードコート樹脂の塗膜
を形成したもの〔ＨＣ（７μｍ）／ＴＡＣと表示す
る〕、トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚１μｍ
のフッ化ビニリデンの塗膜を形成したもの〔Ｋコート：
フッ化ビニリデン（１μｍ）／ＴＡＣと表示する〕、ト
リアセチルセルロースフィルム上に膜厚１０００ＡのＳ
ｉＯ_ｘのプラズマＣＶＤ膜を形成したもの〔ＳｉＯ
_ｘ（１０００オングストローム）／ＴＡＣと表示する〕
を使用した。これらの各フィルムを湿度９０％、温度４
０℃で、ＪＩＳ（Ｚ０２０８）の防湿試験に従ってその
１日当りの透湿度を測定した。

【００５１】 〔表２〕 層構成（最上層が左側） 透湿度（１日当たり） ＴＡＣ ６００ｇ／ｍ² ＨＣ（７μｍ）／ＴＡＣ ３００ｇ／ｍ² Ｋコート：フッ化ビニリデン（１μｍ）／ＴＡＣ ２０ｇ／ｍ² ＳｉＯ_ｘ（１０００オングストローム）／ＴＡＣ ５ｇ／ｍ² 以下 上記表２によれば、ＳｉＯ_ｘ（１０００オングストロー
ム）／ＴＡＣが透湿度が一番少なく、防湿性に優れてい
ることが分かる。なお、フッ化ビニリデン（１μｍ）／
ＴＡＣは、防湿性はやや良いが、その塗膜が柔らかいこ
と及び経時的に黄変するため光学材料として用いること
は好ましくない。

【００５２】さらにその偏光素子や、その他の層中に染
料等が使用されている場合には、プラズマＣＶＤ膜はガ
スバリヤー性を有するため、染料等の劣化を防止するこ
とができる。プラズマＣＶＤ法により形成したＳｉＯ_ｘ
膜は、密度が高いことから、耐擦傷性の膜となる。

【００５３】また、プラズマＣＶＤ法は通常の真空蒸着
膜と比べて、ＳｉＯ_ｘ膜のｘの値の変更が比較的容易で
あり、さらに通常の真空蒸着膜のｘは２未満であるのに
対して、プラズマＣＶＤ法は２を超えることが可能であ
る。そのため、プラズマＣＶＤ法により形成したＳｉＯ
_ｘ膜は、通常の真空蒸着膜よりも低屈折率とすることが
でき、得られた膜は透明性が高いという利点がある。ま
た、プラズマＣＶＤ膜は、通常の真空蒸着膜よりも基材
との接着性に優れている。

【００５４】下記の表３に真空蒸着によるＳｉＯ_ｘ膜と
プラズマＣＶＤ法によるＳｉＯ_ｘ膜の性質の差異を示し
た。

【００５５】 〔表３〕 真空蒸着 プラズマＣＶＤ 密 度 低い 高い （粒子同士がぶつかり合い （基板に付着後に ＳｉＯ_ｘの固まりがついて ＳｉＯ_ｘ膜となる。） 膜となる。） Ｘ＞２となるものも Ｏ含有量 Ｘ＜２ 存在する。 酸素含有量が真空蒸着 より多い。 ガスバリヤー性 低い 高い 透明性 色（黄色）がつきやすい 透明 屈折率 高い 低い 摩擦係数 高い 低い 本発明における光学機能性膜としての酸化ケイ素膜は、
水に対する表面の接触角が４０〜１８０度のＳｉＯ_ｘ膜
（ｘは１．５０≦ｘ≦４．００）からなることが好まし
く、さらに好ましい接触角は、７０度以上、特に好まし
くは１００度以上である。本発明者の知見によれば、接
触角が４０度以上になると、防汚性が向上し、光学機能
性膜としての用途に好適な状態となる。

【００５６】また、上記ＳｉＯ_ｘ膜の動摩擦係数は１以
下、さらに好ましくは０．５以下であることが望まし
い。この場合の動摩擦係数は、ＪＩＳ−Ｋ７１２５に規
定された方法に基づく測定値を基準とする。動摩擦係数
が小さくなるほど、特に１以下の場合に膜表面の滑り性
が増大する傾向があり、膜表面の耐傷性ないし耐破壊性
が増大するので好ましい。

【００５７】上記ＳｉＯ_ｘ膜は、上記のように、ＣＶ
Ｄ、好ましくはプラズマＣＶＤによって形成することが
好ましい。

【００５８】本発明において、プラズマＣＶＤとは、Ｃ
ＶＤの内でもプラズマを利用した従来公知の方法を意味
する。一般に、プラズマＣＶＤにおいては、熱エネルギ
ーとともに電気的エネルギーが利用される。すなわち、
プラズマＣＶＤにおいては、形成する酸化ケイ素膜の原
料ガスをＣＶＤ装置中で放電によりプラズマ化し、これ
によって実現される非平衡状態下で成膜反応を進行させ
る。

【００５９】特に、本発明においては、このプラズマＣ
ＶＤを下記の条件下で行うことが、光学特性と表面物性
の双方にすぐれた酸化ケイ素膜を形成する上で好まし
い。

【００６０】（ａ）有機シロキサンを原料ガスとする。 （ｂ）原料ガスを放電によりプラズマ化する。 （ｃ）無機蒸着原の非存在下でＣＶＤを行う。 （ｄ）被蒸着基材フィルムを比較的低温度に維持する。 （ｅ）未分解の有機シロキサンが、生成されるＳｉＯ_ｘ
膜に残存するような成膜条件で行う。

【００６１】原料ガスとしての有機シロキサンとして
は、通常オルガノシリコンと呼ばれているシランないし
シロキサンを適宜用いることができる。具体的には、メ
チルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
テトラエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラメト
キシシラン、トリメチルエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラキ
ス（２−エチルヘキソキシ）シラン、ビニルトリメトキ
シシラン、テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラ
ン、メチルフェニルジメトキシシラン、テトラキス（メ
トキシエトキシエトキシ）シラン、テトラメチルシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルトリメト
キシシラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラ
ン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、アセトキシプロ
ピルトリメトキシシラン、トリス（トリメチルシロキ
シ）フェニルシラン、オクタメチルシクロテトラシロキ
サン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシ
ロキサン、１，２，３，３−テトラキス（トリメチルシ
ロキシ）ジシロキサン、ペンタメチルジシロキサンから
選ばれた１種または２種以上を適宜用いられ得る。

【００６２】また、本発明においては、固体の無機ケイ
素化合物は蒸着源として用いないことが望ましい。さら
に、本発明においては、未分解の原料ガス（有機シロキ
サン）が、生成されるＳｉＯ_ｘ膜に残存するような成膜
条件で行うことが好ましい。すなわち、原料ガスを完全
に分解することなく、未分解の有機シロキサンが、生成
される酸化ケイ素膜に混入ないし取り込まれることによ
って、光学特性と表面物性の双方にすぐれたＳｉＯ_ｘ膜
が得られ、特に上記の成膜条件は、膜表面の接触角を増
大させ、動摩擦係数を小さい範囲に制御する上で有利で
ある。

【００６３】通常、プラズマＣＶＤによるＳｉＯ_ｘの製
膜プロセスにおいては、プラズマによって活性化された
オルガノシロキサンが基材に衝突し、表面に吸着された
オルガノシロキサンがさらに気層中からきた活性化した
オルガノシロキサンや酸素と反応することにより、炭素
を含む有機基が外れることにより、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉのマ
トリクスを作りながら膜が成長すると考えられる。その
時、プラズマのエネルギーが低かったり、プラズマ中の
活性酸素の濃度が低かったりすると、基材表面のオルガ
ノシロキサンが完全に分解されずに有機基が残り、表面
（一部内部）においてあたかもシリコンゴム、シリコン
グリースのような基が残ることにより、撥水性、あるい
は、摩擦係数が小さくなるという性質が発現するものと
考えられる。

【００６４】しかしながら、オルガノシロキサンの分解
が不完全でＳｉの酸化数が小さいと、逆に形成された膜
の屈折率は大きくなり、反射防止膜の低屈折率層として
は、実用的でなくなる。また、オルガノシロキサンが完
全に分解され、表面に有機基が無くなってしまうと、屈
折率は低くなるが、表面が親水性になり汚れがつきやす
く取り難くなるばかりか、摩擦係数も大きくなり、擦り
傷等の欠陥を誘発しやすくなり、反射防止膜の表面層と
しての実用性に乏しくなるので、成膜条件のコントロー
ルには留意する必要がある。

【００６５】以下、種々の方法により形成した形成した
膜の物性を参考のために列記する。

【００６６】 サンプル 接触角 摩擦 屈折率 原 料 （°） 係数 （真空蒸着法による成膜） SiO₂ /HC/TAC 32 1.50 1.44 SiO₂ （バッチ式プラズマＣＶＤによる成膜） SiOx /HC/TAC 50 1.10 1.42 HMDSO+O₂ SiO_x /HC/TAC 104 0.44 1.44 HMDSO+O₂ SiO_x /HC/TAC 155 0.40 1.60 HMDSO+O₂ （連続式プラズマＣＶＤによる成膜） SiOx/HC/TAC 55 0.45 1.42 HMDSO+O₂ SiOx/HC/TAC 102 0.47 1.44 HMDSO+O₂ SiOx/HC/TAC 152 0.40 1.50 HMDSO+O₂ （連続式プラズマＣＶＤによる成膜、表面にコロナ処理を施す） SiO_x /HC/TAC 59 0.92 1.44 HMDSO+O₂ （バッチ式プラズマＣＶＤによる成膜） SiO_x /HC/TAC 43.9 1.13 1.44 SiH₄ （真空蒸着法による成膜） SiO_x /HC/TAC 11.2 1.12 1.50 SiO SiO_x /HC/TAC 12.3 1.89 1.50 SiO 鹸化ＴＡＣ 19 − − 上記表中の記号の意味は以下の通りである。 ＨＣ：ハードコート層 ＴＡＣ：トリアセチルセルロースフィルム ＨＭＤＳＯ：ヘキサメチルジシロキサン SiOx/HC/TAC ：ＴＡＣ層上にＨＣおよびＳｉＯ_ｘ層をこ
の順序で形成した構造 他の層 本発明の防眩性反射防止フィルムには、上記に説明した
各層の他に、各種機能性を付与するための層をさらに設
けることができる。例えば、透明基材フィルムとハード
コート層との接着性を向上させる等の理由で、透明基材
フィルム上にプライマー層や或いは接着剤層を設けた
り、また、ハード性能や防眩性の向上のためにハードコ
ート層と防眩層を別個に設けたり、それぞれの層を複数
層設けてもよい。

【００６７】上記のように、透明基材フィルムと防眩層
の中間に設けられるその他の層の屈折率は、透明基材フ
ィルムの屈折率と防眩層の屈折率との中間の値とするこ
とが好ましい。

【００６８】他の層の形成方法は、上記のように透明基
材フィルム上に直接または間接的に塗布して形成しても
よく、また透明基材フィルム上にハードコート層を転写
により形成する場合には、予め賦型フィルム（または表
面に微細な凹凸が形成された賦型フィルム）上に形成し
たハードコート層上に、他の層を塗布して形成し、その
後、透明基材フィルムに転写してもよい。

【００６９】本発明の防眩性反射防止フィルムの下面に
は、接着剤や粘着剤が塗布されていてもよく、このよう
な反射防止フィルムは、反射防止すべき対象物の表面に
貼着して用いることができる。界面での反射防止の作用 図１は、屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィ
ルム（略：ＴＡＣ基材フィルム）１上に屈折率１．４６
のＳｉＯ_ｘ蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。
図５にこの積層フィルムの分光反射率曲線を示す。

【００７０】図２は、屈折率１．４９のＴＡＣ基材フィ
ルム１上に屈折率１．４９のハードコート層（略：ＨＣ
層）２、及びさらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_ｘ
蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。図６にこの
積層フィルムの分光反射率曲線を示す。

【００７１】図３は、図２の積層フィルムにおけるＨＣ
層の屈折率を高めたものについてであり、屈折率１．４
９のＴＡＣ基材フィルム１上に、屈折率１．５５で膜厚
６μｍのＨＣ層２、及びさらにその上に屈折率１．４６
のＳｉＯ_ｘ蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。
図７にこの積層フィルムの分光反射率曲線を示す。図７
の分光反射率曲線を図６のものと重ね合わせると、目標
波長５５０ｎｍ（人間の目に最も感じられると言われて
いる波長）付近では、図７の波の一番高い所と図６の曲
線が重なり、図７の他の波長部分では、波が低くなった
分だけ反射率は低くなる。

【００７２】従って、ＳｉＯ_ｘ蒸着層とＴＡＣ基材フィ
ルムとの中間のＨＣ層の屈折率を、他の各層よりも高く
すると界面での反射防止が行なえることが分かる。

【００７３】また、図８の分光反射率曲線は、波のピッ
チは、膜厚が薄くなると大きくなることを示している。
この場合も、図５と図８に示されている反射率の傾向は
同じであることが分かる。なお、図８の分光反射率曲線
を持つ積層フィルムの層構成は、基材ＴＡＣ（屈折率
１．４９）／ＨＣ層（膜厚３μｍ、屈折率１．５５）／
反射防止層（膜厚９５ｎｍ、屈折率１．４６）からな
る。

【００７４】図９は、図３の積層フィルムにおいて、Ｈ
Ｃ層の屈折率をさらに１．６５に高めた場合の分光反射
率曲線を示す。このようにＨＣ層の屈折率を上げると、
波が大きく（深くなり）、その分だけ反射率を下げるこ
とができることが分かる。

【００７５】図４は、ケン化処理された屈折率１．４９
のＴＡＣ基材フィルム１上に、屈折率１．５５のプライ
マー層４を設け、さらにその上に高屈折率微粒子である
ＺｎＯを分散した樹脂からなる屈折率１．６５のＨＣ層
２を形成し、さらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_ｘ
蒸着膜３が形成された積層フィルムを示す。ここで、こ
のプライマー層４はＨＣ層２に比べて厚みが薄い層と
し、その屈折率は、ＨＣ層２とＴＡＣ基材フィルム１の
各屈折率の中間程度のものとした。図１０にこの積層フ
ィルムの分光反射率曲線を示す。図１０の分光反射率曲
線によれば、その分光反射率は、図９の波の間の値にな
り、目標波長５５０ｎｍ付近では、波の高さが小さくな
って、最表層にＳｉＯ_ｘよりも低い屈折率の材料を積層
したような効果を生じたことを示している。

【００７６】しかしながら、ＨＣ層とプライマー層は、
ロールコート等のようなコーティング塗膜であるので、
ＨＣ層−透明基材フィルム間の界面、ＨＣ層−プライマ
ー層間の界面、プライマー−透明基材フィルム間の界面
は明確ではないと思われ、屈折率差ができにくく、実際
には、分光反射率曲線に表れる波は出来にくい。

【００７７】図１１に、ＴＡＣ基材フィルム（屈折率
１．４９）／高屈折率ハードコート層（屈折率１．６
２）／低屈折率層（屈折率１．４６）からなる積層フィ
ルムの分光反射率曲線を示し、比較のため、ＴＡＣ基材
フィルムのみの場合と、ＴＡＣ基材フィルム（屈折率
１．４９）／通常ハードコート層（屈折率１．４９）／
低屈折率層（屈折率１．４６）からなる積層フィルムの
分光反射率曲線を併せて示す。図１１によれば、短波長
側ではほとんど波が無くなっている。偏光板及び液晶表示装置 偏光素子に本発明の防眩性反射防止フィルムをラミネー
トすることによって、反射防止性の改善された偏光板と
することができる。この偏光素子には、よう素又は染料
により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィ
ルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセ
タールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン
化フィルム等を用いることができる。このラミネート処
理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、
前記防眩性反射防止フィルムの透明基材フィルムが例え
ば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、
トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行う。
このケン化処理はトリアセチルセルロースフィルムにハ
ードコートを施す前または後のどちらでもよい。

【００７８】図１９に本発明の防眩性反射防止フィルム
が使用された偏光板の一例を示す。図中のＴＡＣフィル
ム（トリアセチルセルロースフィルムの略語）１９、高
屈折率防眩層１２、低屈折率層１３からなる積層体は本
発明の防眩性反射防止フィルムに相当し、この防眩性反
射防止フィルムが偏光素子２０上にラミネートされてお
り、一方、偏光素子２０の他面にはＴＡＣフィルム１９
がラミネートされている。この偏光板の各層間には必要
に応じて接着剤層が設けられる。特に、高屈折率防眩層
１２と透明基材フィルムとしてのＴＡＣフィルム１９と
の間に、接着剤層を設けることが望ましい。この図１９
に示した偏光板の層構成は、ＴＡＣフィルム／偏光素子
／防眩性反射防止フィルムと簡略に表示することができ
る。

【００７９】図２０に本発明の防眩性反射防止フィルム
が使用された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子
２１上に、図１９に示した偏光板、即ち、ＴＡＣフィル
ム／偏光素子／防眩性反射防止フィルムからなる層構成
の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子２
１の他方の面には、ＴＡＣフィルム／偏光素子／ＴＡＣ
フィルムからなる層構成の偏光板がラミネートされてい
る。図２０の液晶表示装置において、最下面のＴＡＣフ
ィルム１９側にさらに反射防止層として、高屈折率層及
びさらにその外側に低屈折率層が形成されていてもよ
い。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子
２１と偏光板との間に、位相差板が挿入される。この液
晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けら
れる。

【００８０】

【実施例】

〔実施例１〕透明基材フィルムとして厚さ８０μｍのト
リアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商
品名、富士写真フィルム製、屈折率１．４９）を用意し
た。一方、屈折率１．９のＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３０
０：商品名、住友セメント製）と屈折率１．５２の電離
放射線硬化型樹脂（ＨＮ−３：商品名、三菱油化製）を
重量比で２：１に混合した。得られた樹脂組成物を前記
トリアセチルセルロースフィルム上に、膜厚７μｍ／ｄ
ｒｙとなるようにグラビアリバースコートにより塗工
し、溶媒を乾燥除去した。

【００８１】表面に微細な凹凸を有するマットＰＥＴフ
ィルム（Ｘ−４５：商品名、東レ製、厚さ２３μｍ）
を、先の乾燥樹脂層を有するトリアセチルセルロースフ
ィルム上に、その樹脂層を介してラミネートし、その
後、電子線を１５０ＫＶで４Ｍｒａｄ照射し、樹脂層を
硬化し、マットＰＥＴフィルムを剥離除去することによ
り、樹脂層の表面に微細な凹凸を形成した。次いで、こ
の樹脂層の微細な凹凸表面に、ＳｉＯ_ｘをプラズマＣＶ
Ｄ法にて蒸着して、膜厚１００ｎｍのＳｉＯ_ｘ層（屈折
率１．４６）を形成して、本実施例１の防眩性反射防止
フィルムを作製した。

【００８２】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９３．５％、ヘイズ値９．０であり、反射防止
性、防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈ
であり、ハード性能にも優れていた。

【００８３】図１２は、本実施例１で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１２はハード性能が付与された高屈折
率防眩層、１３は低屈折率層である。 〔実施例２〕厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフ
ィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商品名、富士写真フィルム
製、屈折率１．４９）を６０℃、２Ｎ ＫＯＨ槽中に１
分間浸漬しケン化処理を行なったものを透明基材フィル
ム（屈折率１．４９）とした。その透明基材フィルム上
に、塩酢ビ系樹脂（ＳＢＰプライマーＧ：商品名、大日
精化製）に硬化剤としてイソシアネートを該樹脂に対し
て１０重量部加えたプライマー（屈折率１．５５）を、
膜厚０．７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバース
コートにより塗工し、６０℃で１分間乾燥した後、４０
℃で２日間エージングした。得られたプライマー層上に
前記実施例１と同様の方法で表面に凹凸を有するハード
コート層を形成し、さらにその上にＳｉＯ_ｘ層を設け
て、本実施例２の防眩性反射防止フィルムを作製した。

【００８４】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９４％、ヘイズ値９．０であり、反射防止性、
防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈであ
り、ハード性能にも優れていた。

【００８５】図１３は、本実施例２で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１４はプライマー層、１２はハード性
能が付与された高屈折率防眩層、１３は低屈折率層であ
る。 〔実施例３〕表面に微細な凹凸を有するマットＰＥＴフ
ィルム（Ｘ−４５：商品名、東レ製、厚さ２３μｍ）上
に、ＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３００：商品名：住友セメ
ント製、屈折率１．９）と電離放射線硬化型樹脂（ＨＮ
−２：商品名、三菱油化製、屈折率１．５４）とを重量
比で２：１に混合して得た樹脂組成物を、５μｍ／ｄｒ
ｙになるようにグラビアリバースコートにより塗工した
後、電子線を１５０ＫＶで３Ｍｒａｄ照射し、塗膜を硬
化した。

【００８６】この樹脂層が形成されたマットＰＥＴフィ
ルムとは別に、前記実施例１で用いた透明基材フィルム
上に、ウレタン系接着剤（タケネートＡ３１０：商品
名）に硬化剤としてイソシアネートを該接着剤樹脂に対
して１０重量部加えてなるドライラミネート樹脂を、２
μｍ／ｄｒｙになるように塗工し、次いで塗膜中の溶剤
を乾燥除去した。

【００８７】得られた接着剤層が形成された透明基材フ
ィルム上に、先程作製した樹脂層が形成されたマットＰ
ＥＴフィルムを樹脂層同志を介してラミネートした。そ
の後、５０℃で３日間エージングし、接着剤層を完全硬
化させた後、マットＰＥＴフィルムで剥離除去した。得
られた表面に微細な凹凸が形成された樹脂層上に、Ｓｉ
Ｏ_ｘをプラズマＣＶＤ法にて膜厚１００ｎｍとなるよう
に蒸着してＳｉＯ_ｘ層を形成して、本実施例３の防眩性
反射防止フィルムを作製した。

【００８８】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９３．８％、ヘイズ値９．０であり、反射防止
性、防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が２Ｈ
であり、ハード性能にも優れていた。

【００８９】図１４は、本実施例３で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１５は接着剤層、１２はハード性能が
付与された高屈折率防眩層、１３は低屈折率層である。 〔実施例４〕表面に微細に凹凸を有するマットＰＥＴフ
ィルム（Ｘ−４５：商品名、東レ製、厚さ２３μｍ）上
に、ＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３００：商品名、住友セメ
ント製、屈折率１．９）と電離放射線硬化型樹脂（ＨＮ
−２：商品名、三菱油化製、屈折率１．５４）を重量比
で２：１に混合して得た樹脂組成物を、膜厚が３μｍ／
ｄｒｙになるようにグラビアリバースコートにより塗工
し、次いで電子線を１５０ＫＶで３Ｍｒａｄ照射してこ
の樹脂層をハーフキュアーした。

【００９０】このハーフキュアーの樹脂層が形成された
マットＰＥＴフィルムとは別に、前記実施例１で用いた
トリアセチルセルロースフィルム上に、電離放射線硬化
型樹脂（ＥＸＧ４０−９：商品名、大日精化製、屈折率
１．５０）を３μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバ
ースコートにより塗工し、塗膜の溶剤乾燥後、先程作製
したハーフキュアーの樹脂層が形成されたマットＰＥＴ
フィルムと樹脂層同志を合わせてラミネートした後、電
子線を１５０ＫＶ、５Ｍｒａｄで照射して樹脂層を完全
硬化し、マットＰＥＴを剥離除去した。得られた表面に
微細な凹凸が形成された樹脂上に、前記実施例１と同様
にＳｉＯ_ｘ膜を１００ｎｍの膜厚で形成して、本実施例
４の防眩性反射防止フィルムを作製した。

【００９１】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９３．５％、ヘイズ値９．０であり、反射防止
性、防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈ
であり、ハード性能にも優れていた。

【００９２】図１５は、本実施例４で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１６はクリアハードコート層、１２は
ハード性能が付与された高屈折率防眩層、１３は低屈折
率層である。 〔実施例５〕前記実施例２で示されるように、ケン化処
理したトリアセチルセルロースフィルムを透明基材フィ
ルムとし、同様にプライマー処理した。このプライマー
処理されたフィルムを用いて、さらに前記実施例４と同
様にして、クリアハードコート層、ハード性能が付与さ
れた高屈折率防眩層、低屈折率層を形成して本実施例５
の防眩性反射防止フィルムを作製した。

【００９３】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９３．５％、ヘイズ値９．０であり、反射防止
性、防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈ
であり、ハード性能にも優れていた。

【００９４】図１６は、本実施例５で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１４はプライマー層、１６はクリアハ
ードコート層、１２はハード性能が付与された高屈折率
防眩層、１３は低屈折率層である。 〔実施例６〕表面に微細な凹凸を有するマットＰＥＴフ
ィルム（Ｘ−４５：商品名、東レ製、２３μｍ）上に、
ＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３００：商品名、住友セメント
製、屈折率１．９）と指触乾燥型電離放射線硬化型樹脂
（Ｈ−４０００：商品名、三菱油化製、屈折率１．５）
を重量比で２：１になるように混合したものを、膜厚３
μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバースコートによ
り塗工し、６０℃で１分間乾燥して指触乾燥した。

【００９５】この指触乾燥された樹脂層が形成されたマ
ットＰＥＴフィルムとは別に、トリアセチルセルロース
フィルム上に電離放射線硬化型樹脂（ＥＸＧ４０−９：
商品名、大日精化製、屈折率１．５０）を３μｍ／ｄｒ
ｙになるようにグラビアリバースコートにより塗工し、
溶媒乾燥後、先程の指触乾燥された樹脂層が形成された
マットＰＥＴフィルムと樹脂層同志を合わせてラミネー
トした後、電子線を１５０ＫＶ、５Ｍｒａｄで照射して
樹脂層を完全硬化し、その後、マットＰＥＴフィルムを
剥離除去した。これによって形成された表面が微細な凹
凸面に前記実施例１と同様にＳｉＯ_ｘを蒸着して膜厚１
００ｎｍのＳｉＯ_ｘ膜を形成して、本実施例６の防眩性
反射防止フィルムを作製した。

【００９６】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９３．５％、ヘイズ値９．０であり、反射防止
性、防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が２Ｈ
であり、ハード性能にも優れていた。 〔実施例７〕前記実施例２で示されるように、ケン化処
理したトリアセチルセルロースフィルムを透明基材フィ
ルムとし、同様にプライマー処理した。このプライマー
処理されたフィルムを用いて、前記実施例４と同様に、
クリアハードコート層、ハード性能が付与された高屈折
率防眩層、低屈折率層を形成して、本実施例７の防眩性
反射防止フィルムを作製した。

【００９７】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９３．５％、ヘイズ値９．０であり、反射防止
性、防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が２Ｈ
であり、ハード性能にも優れていた。 〔実施例８〕厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフ
ィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商品名、富士写真フィルム
製）上に、粒径５μｍのポリメタクリル酸メチルビーズ
と電離放射線硬化型樹脂（ＨＮ−２：商品名、三菱油化
製、屈折率１．５４）及びＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３０
０：商品名、住友セメント製、屈折率１．９）を重量比
で１：１０：２０の割合で混合した樹脂を膜厚６μｍ／
ｄｒｙになるようにグラビアリバースコートにより塗工
し、電子線を１５０ＫＶで４Ｍｒａｄ照射した。トリア
セチルセルロースフィルム上に形成された硬化塗膜の表
面は、ポリメタクリル酸メチルビーズの微細な粒による
微細な凹凸が形成されていた。この硬化塗膜上に、さら
にＳｉＯ_ｘを前記実施例１の方法で蒸着して、膜厚１０
０ｎｍのＳｉＯ_ｘ膜を形成して、本実施例８の防眩性反
射防止フィルムを作製した。

【００９８】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９４％、ヘイズ値５．０であり、反射防止性、
防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈであ
り、ハード性能にも優れていた。

【００９９】図１７は、本実施例８で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１７はマット材１８を有しハード性能
が付与された高屈折率防眩層、１３は低屈折率層であ
る。 〔実施例９〕前記実施例２で示されるように、ケン化処
理したトリアセチルセルロースフィルムを透明基材フィ
ルムとし、同様にプライマー処理した。このプライマー
処理されたフィルムを用いて、前記実施例８と同様に、
ハード性能が付与された高屈折率防眩層、低屈折率層を
形成して、本実施例９の防眩性反射防止フィルムを作製
した。

【０１００】得られた防眩性反射防止フィルムの全光線
透過率は９４％、ヘイズ値５．０であり、反射防止性、
防眩性は優れていた。またその表面鉛筆硬度が３Ｈであ
り、ハード性能にも優れていた。

【０１０１】図１８は、本実施例９で得られた防眩性反
射防止フィルムの層構成を示す断面図である。１１は透
明基材フィルム、１４はプライマー層、１７はマット材
１８を有しハード性能が付与された高屈折率防眩層、１
３は低屈折率層である。 〔実施例１０〕表面に微細な凹凸が形成されているＰＥ
Ｔフィルム（Ｔ−６００：商品名、ダイヤホイル株式会
社製、厚さ５０μｍ）上に電子線硬化型樹脂（ＨＮ−
３：商品名、三菱油化製）とＺｎＯ超微粒子（ＺＳ−３
００：商品名、住友セメント製、屈折率１．９）を２：
１に配合した樹脂を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビ
アリバースコートにより塗工し、電子線を加速電圧１７
５ＫＶで４Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化してハード性を
有する高屈折率防眩層を形成した。得られたＰＥＴフィ
ルムの高屈折率防眩層上に接着剤（タケラック：商品
名、武田薬品工業製）をグラビアリバースコートにより
塗工して接着層を形成し、次いで、この接着層を介して
トリアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：
商品名、富士フィルム製、厚さ８０μｍ）をラミネート
し、４０℃で３日間エージングした後、ＰＥＴフィルム
を剥離して、高屈折率防眩層をトリアセチルセルロース
フィルム上に転写させた。このトリアセチルセルロース
フィルム上の高屈折率防眩層の表面は、前記ＰＥＴフィ
ルムの表面形状と同じ、微細な凹凸上となっている。さ
らにこの高屈折率防眩層上にＳｉＯ_ｘをプラズマＣＶＤ
法により膜厚が１００ｎｍとなるように低屈折率のプラ
ズマＣＶＤ膜を形成して、本実施例１０の防眩性反射防
止フィルムを得た。

【０１０２】得られた本実施例１０の防眩性反射防止フ
ィルムの全光線透過率は９４．５％、ヘイズ値０．７で
あり、反射防止性は優れていた。またその表面鉛筆硬度
が３Ｈであり、ハード性能にも優れていた。 〔比較例〕基材として厚さ８０μｍのトリアセチルセル
ロースフィルム（ＦＴ−ＵＶ−８０：商品名、富士写真
フィルム製）を用意し、このフィルム上に電離放射線硬
化型樹脂（ＥＸＧ４０−９：商品名、大日精化製、屈折
率１．５０）を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリ
バースコートにより塗工し、溶剤乾燥した。その乾燥し
た樹脂上に、表面に微細な凹凸を有するマットＰＥＴフ
ィルム（Ｘ−４５：商品名、東レ製、２３μｍ）をラミ
ネートし、その後、電子線を１５０ＫＶで４Ｍｒａｄ照
射して樹脂層を硬化した。その後、マットＰＥＴフィル
ムを剥離除去し、その樹脂表面の微細な凹凸面にＳｉＯ
_ｘを蒸着して１００ｎｍ膜厚のＳｉＯ_ｘ膜を形成した。

【０１０３】得られた比較例のフィルムの全光線透過率
は９１．８％、ヘイズ値９．０であり、反射防止性は前
記実施例に比較して低下している。またその表面鉛筆硬
度は２Ｈであった。 （実施例１１）下記のサンプルを製造した。

【０１０４】 サンプル 接触角 摩擦 屈折率 原 料 （°） 係数 （バッチ式プラズマＣＶＤによる成膜） SiO_x /HC/TAC 50 1.10 1.42 HMDSO+O₂ SiO_x /HC/TAC 104 0.44 1.44 HMDSO+O₂ SiO_x /HC/TAC 155 0.40 1.60 HMDSO+O₂ 表面にアクリル‐メラミン樹脂により処理されている離
型フィルム（麗光株式会社製ＭＣ−１９）上にＺｎＯコ
ーティング液（住友セメント製ＺＳ−３００）とハード
コート樹脂（大日精化製４０−９）を固形分重量比２：
１に混合したものを固形分３０重量％にメチルエチルケ
トン：トルエン＝１：１溶液で希釈し、ワイヤーバーに
て、乾燥膜厚約６μｍになるように塗布し、乾燥ＥＢキ
ュアーにより硬化させた。さらに、接着剤（主剤：武田
薬品製タケラックＡ−３１０と硬化剤武田薬品製タケネ
ートＡ−３を６：１で混合）を乾燥時膜厚４μｍで塗布
し、次いで、前記塗工された離型フィルムと最終的に製
品に用いる基材ＴＡＣフィルムをラミネートして、４０
℃、２日間のエージングにより硬化した。その後、離型
フィルムを剥がし、以下の条件にてＳｉＯ_ｘのＣＶＤを
行い、反射防止フィルムを得た。

【０１０５】 バッチ式プラズマＣＶＤ装置 製膜条件 真空度 ０．４５ｔｏｒｒ 電力（周波数） １００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：モノマー＝１００：１００：１ プロセスガス流量 Ｈｅ＋モノマー、２５sccm、Ｏ_２、２５sccm バッチ式プラズマＣＶＤ装置 製膜条件 真空度 ０．４５ｔｏｒｒ 電力（周波数） １００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：モノマー＝１００：１００：４．６ プロセスガス流量 Ｈｅ＋モノマー、２５sccm、Ｏ_２、２５sccm バッチ式プラズマＣＶＤ装置 製膜条件 真空度 ０．４５ｔｏｒｒ 電力（周波数） １００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：モノマー＝１００：１００：１０ プロセスガス流量 Ｈｅ＋モノマー、２５sccm、Ｏ_２、２５sccm 蒸着機 日電アネルバ他の部品を使った手作り装置 蒸着物質 モノマー；ＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロ
キサン）＋Ｏ_２（ＨＭＤＳＯ：Ｏ_２をかえることにより
サンプル、、を作製） キャリアーガス Ｈｅ 基板温度 室温 蒸着濃度 １．３オングストローム／Ｓ 膜厚 １０００オングストローム （実施例１２）下記のサンプルを製造した。

【０１０６】 サンプル 接触角 摩擦 屈折率 原 料 （°） 係数 （連続式プラズマＣＶＤによる成膜） SiO_x /HC/TAC 83 0.90 1.42 HMDSO+O₂ SiO_x /HC/TAC 102 0.47 1.44 HMDSO+O₂ SiO_x /HC/TAC 162 0.40 1.50 HMDSO+O₂ （連続式プラズマＣＶＤによる成膜、表面にコロナ処理を施す） SiO_x /HC/TAC 58 0.92 1.44 HMDSO+O₂ 表面に微細な凹凸を有する厚さ２５μｍのマットＰＥＴ
フィルム（ユニチカ製、エンブレットＰＴＨ）上にＺｎ
Ｏコーティング液（住友セメント製ＺＳ−３００）とハ
ードコート樹脂（大日精化製４０−９）を固形分重量比
２：１に混合したものを固形分３０重量％にメチルエチ
ルケトン：トルエン＝１：１溶液で希釈し、ワイヤーバ
ーにて、乾燥膜厚約６μｍになるように塗布し、乾燥Ｅ
Ｂキュアーにより硬化させた。さらに、接着剤（主剤：
武田薬品製タケラックＡ−３１０と硬化剤武田薬品製タ
ケネートＡ−３を６：１で混合）を乾燥時膜厚４μｍで
塗布し、次いで、前記塗工された離型フィルムと最終的
に製品に用いる基材ＴＡＣフィルムをラミネートして、
４０℃、２日間のエージングにより硬化した。その後、
マット化されたＰＥＴフィルムを剥がし、以下のように
モノマーであるＨＭＤＳＯ：Ｏ_２の条件をかえてＳｉＯ
_ｘのプラズマＣＶＤを行い、反射防止フィルムを得た。
または、さらにコロナ放電処理で親水性を付与するこ
とにより、水との接触角が減少し、摩擦係数が増大し
た。

【０１０７】 連続式プラズマＣＶＤ製膜条件 真空度 ５×１０^-2 ｔｏｒｒ 電力（周波数） ３０ｋＷ（４０ｋＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：モノマー＝１６：９０：１ マシン速度 １０ｍ／ｍｉｎ 連続式プラズマＣＶＤ製膜条件 真空度 ５×１０^-2 ｔｏｒｒ 電力（周波数） ３０ｋＷ（４０ｋＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：モノマー＝１６：１６：１ マシン速度 １０ｍ／ｍｉｎ 連続式プラズマＣＶＤ製膜条件 真空度 ５×１０^-2 ｔｏｒｒ 電力（周波数） ３０ｋＷ（４０ｋＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：モノマー＝１６：６：１ マシン速度 １０ｍ／ｍｉｎ （参考例１）下記のサンプルを製造した。

【０１０８】 サンプル 接触角（°） 摩擦係数 屈折率 原料 （バッチ式プラズマＣＶＤによる成膜） SiO_x /HC/TAC ４３．９ １．１３ １．４４ ＳｉＨ_４ 表面にアクリル‐メラミン樹脂により処理されている離
型フィルム（麗光株式会社製ＭＣ−１９）上にＺｎＯコ
ーティング液（住友セメント製ＺＳ−３００）とハード
コート樹脂（大日精化製Ｃ−１９）上にＺｎＯコーティ
ング液（住友セメント製ＺＳ−３００）とハードコート
樹脂（大日精化製４０−９）を固形分重量比２：１に混
合したものを固形分３０重量％にメチルエチルケトン：
トルエン＝１：１溶液で希釈し、ワイヤーバーにて、乾
燥膜厚約６μｍになるように塗布し、乾燥ＥＢキュアー
により硬化させた。さらに、接着剤（主剤：武田薬品製
タケラックＡ−３１０と硬化剤武田薬品製タケネートＡ
−３を６：１で混合）を乾燥時膜厚４μｍで塗布し、次
いで、前記塗工された離型フィルムと最終的に製品に用
いる基材ＴＡＣフィルムをラミネートして、４０℃、２
日間のエージングにより硬化した。その後、離型フィル
ムを剥がし、以下の条件にてＳｉＯ_ｘのＣＶＤを行い、
反射防止フィルムを得た。

【０１０９】バッチ式プラズマＣＶＤ装置 製膜条件 真空度 ０．４５ｔｏｒｒ 電力（周波数） １００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ） プロセスガス組成比 Ｈｅ：Ｏ_２：ＳｉＨ_４＝１００：１００：４．６ プロセスガス流量 Ｈｅ＋ＳｉＨ_４、２５sccm、Ｏ_２、２５sccm 蒸着機 日電アネルバ他の部品を使った手作り装置 蒸着物質 ＳｉＨ_４＋Ｏ_２ キャリアーガス Ｈｅ 基板温度 室温 蒸着速度 １．３オングストローム／Ｓ 膜厚 １０００オングストローム （参考例２）下記のサンプルを製造した。

【０１１０】 サンプル 接触角（°） 摩擦係数 屈折率 原料 （真空蒸着法による成膜） SiO₂ /HC/TAC ３２ １．５０ １．４４ ＳｉＯ_２ 表面にアクリル‐メラミン樹脂により処理されている離
型フィルム（麗光株式会社製ＭＣ−１９）上にＺｎＯコ
ーティング液（住友セメント製ＺＳ−３００）とハード
コート樹脂（大日精化製４０−９）を固形分重量比２：
１に混合したものを固形分３０重量％にメチルエチルケ
トン：トルエン＝１：１溶液で希釈し、ワイヤーバーに
て、乾燥膜厚約６μｍになるように塗布し、乾燥ＥＢキ
ュアーにより硬化させた。さらに、接着剤（主剤：武田
薬品製タケラックＡ−３１０と硬化剤武田薬品製タケネ
ートＡ−３を６：１で混合）を乾燥時膜厚４μｍで塗布
し、次いで、前記塗工された離型フィルムと最終的に製
品に用いる基材ＴＡＣフィルムをラミネートして、４０
℃、２日間のエージングにより硬化した。その後、離型
フィルムを剥がし、ＳｉＯ_２の蒸着を以下の条件にて行
い、反射防止フィルムを得た。 蒸着機 シンクロン ＢＭＣ−７００ 蒸着物質 ＳｉＯ_２ 真空度 ４×１０^-2ｔｏｒｒ 基板温度 室温 ＥＢ加熱蒸着 加速電圧 ８ｋＶ ＥＭＩＳＳＩＯＮ ４０ｍＡ 蒸着速度 ４オングストローム／Ｓ 膜厚 １０００オングストローム （参考例３）下記のサンプルを製造した。

【０１１１】 サンプル 接触角（°） 摩擦係数 屈折率 原料 （真空蒸着法による成膜） ＳｉＯ_ｘ／ＨＣ／ＴＡＣ １１．２ １．１２ １．５０ ＳｉＯ ＳｉＯ_ｘ／ＨＣ／ＴＡＣ １２．３ １．８９ １．５０ ＳｉＯ 表面にアクリル‐メラミン樹脂により処理されている離
型フィルム（麗光株式会社製ＭＣ−１９）上にＺｎＯコ
ーティング液（住友セメント製ＺＳ−３００）とハード
コート樹脂（大日精化製４０−９）を固形分重量比２：
１に混合したものを固形分３０重量％にメチルエチルケ
トン：トルエン＝１：１溶液で希釈し、ワイヤーバーに
て、乾燥膜厚約６μｍになるように塗布し、乾燥ＥＢキ
ュアーにより硬化させた。さらに、接着剤（主剤：武田
薬品製タケラックＡ−３１０と硬化剤武田薬品製タケネ
ートＡ−３を６：１で混合）を乾燥時膜厚４μｍで塗布
し、次いで、前記塗工された離型フィルムと最終的に製
品に用いる基材ＴＡＣフィルムをラミネートして、４０
℃、２日間のエージングにより硬化した。その後、離型
フィルムを剥がし、ＳｉＯの蒸着を以下の条件にて行
い、反射防止フィルムを得た。 蒸着機 シンクロン ＢＭＣ−７００ 蒸着物質 ＳｉＯ 真空度 ４×１０^-2ｔｏｒｒ 基板温度 室温 ＥＢ加熱蒸着 加速電圧 ５ｋＶ ＥＭＩＳＳＩＯＮ ４０ｍＡ 蒸着速度 ４オングストローム／Ｓ 膜厚 １０００オングストローム

【０１１２】

【発明の効果】本発明の光学機能性膜、光学機能性フィ
ルムは、特定のＳｉＯ_ｘ（ｘ：１．５０≦ｘ≦４．０
０）膜によって構成されているので、防湿性と防汚性に
優れ、膜の硬度が良好であり、樹脂層との密着性に優
れ、ＳｉＯ_ｘ膜の形成時において透明基材フィルムに対
する熱ダメージを他の気相法に比べて低減できる。

【０１１３】本発明の防眩性反射防止フィルムによれ
ば、防眩層上に、該防眩層の屈折率よりも低い屈折率の
低屈折率層が形成されており、その防眩層の屈折率は、
該防眩層が接している低屈折率層の面とは反対側の面に
接している層の屈折率よりも高いものとしているので、
防眩層とその防眩層が接している低屈折率層の面とは反
対側の面に接している層との界面における光の反射を低
減することができる。したがって、本発明の防眩性反射
防止フィルムは防眩性を有すると同時に反射防止効果に
優れる。

【０１１４】本発明の防眩性反射防止フィルムの防眩層
に高屈折率微粒子として、機能性微粒子が用いられた場
合、例えば、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２が用いられた場合、防眩
性且つ反射防止性に加えて、各種機能、例えばＵＶ遮蔽
効果がさらに付与される。

【図面の簡単な説明】

【図１】屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィ
ルム上に屈折率１．４６のＳｉＯ_ｘ蒸着膜が形成された
積層フィルムを示す。

【図２】屈折率１．４９のＴＡＣ基材フィルム上に屈折
率１．４９のハードコート層、及びさらにその上に屈折
率１．４６のＳｉＯ_ｘ蒸着膜が形成された積層フィルム
を示す。

【図３】屈折率１．４９のトリアセチルセルロースフィ
ルム上に屈折率１．５５のハードコート層、及びさらに
その上に屈折率１．４６のＳｉＯ_ｘ蒸着膜が形成された
積層フィルムを示す。

【図４】屈折率１．４９のケン化トリアセチルセルロー
スフィルム上に、屈折率１．５５のプライマー層を設
け、さらにその上に高屈折率微粒子であるＺｎＯを分散
した樹脂からなる屈折率１．６５のハードコート層を形
成し、さらにその上に屈折率１．４６のＳｉＯ_ｘ蒸着膜
が形成された積層フィルムを示す。

【図５】図１で示される積層フィルムの分光反射率曲線
を示す。

【図６】図２で示される積層フィルムの分光反射率曲線
を示す。

【図７】図３で示される積層フィルムの分光反射率曲線
を示す。

【図８】波のピッチは、膜厚が薄くなると大きくなるこ
とを示す分光反射率曲線を示す。

【図９】図３の積層フィルムにおいて、ＨＣ層の屈折率
をさらに１．６５に高めた場合の分光反射率曲線を示
す。

【図１０】図４で示される積層フィルムの分光反射率曲
線を示す。

【図１１】ＴＡＣ基材フィルム（屈折率１．４９）／高
屈折率ハードコート層（屈折率１．６２／低屈折率層
（屈折率１．４６）からなる積層フィルムと他の積層フ
ィルムとの分光反射率曲線の比較を示す。

【図１２】実施例１で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１３】実施例２で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１４】実施例３で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１５】実施例４で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１６】実施例５で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１７】実施例８で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１８】実施例９で得られた防眩性反射防止フィルム
の層構成を示す断面図である。

【図１９】本発明の防眩性反射防止フィルムがラミネー
トされてなる偏光板の層構成を示す。

【図２０】本発明の防眩性反射防止フィルムがラミネー
トされている偏光板を使用した液晶表示装置の層構成を
示す。

【図２１】光の反射の概念図を示す。

【図２２】光の透過の概念図を示す。

【符号の説明】

１１ 透明基材フィルム １２，１７ 高屈折率防眩層 １３ 低屈折率層 １４ プライマー層 １５ 接着剤層 １６ クリアハードコート層 １８ マット材 １９ ＴＡＣフィルム ２０ 偏光素子 ２１ 液晶表示素子

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 16/40 (72)発明者 鈴 木 裕 子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 太 田 友里恵 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 片 桐 博 臣 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 土 屋 充 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 岡 素 裕 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内

Claims (34)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基材フィルム上に、直接または他の層
   を介して、酸化ケイ素膜が形成されてなる光学機能性フ
   ィルムであって、 前記酸化ケイ素膜が、水に対する表面の接触角が４０〜
   １８０度のＳｉＯ_ｘ膜（ｘは１．５０≦ｘ≦４．００）
   からなることを特徴とする、光学機能性フィルム。
2. 【請求項２】前記ＳｉＯ_ｘ膜の動摩擦係数が、１以下で
   ある、請求項１に記載の光学機能性フィルム。
3. 【請求項３】前記ＳｉＯ_ｘ膜が、ＣＶＤ、好ましくはプ
   ラズマＣＶＤによって形成されたものである、請求項１
   に記載の光学機能性フィルム。
4. 【請求項４】ＣＶＤを下記の条件下で行うことによって
   得られた、請求項３に記載の光学機能性フィルム。 （ａ）有機シロキサンを原料ガスとする。 （ｂ）原料ガスを放電によりプラズマ化するプラズマＣ
   ＶＤで行う。 （ｃ）無機蒸着源の非存在下でＣＶＤを行う。 （ｄ）被蒸着基材フィルムを比較的低温度に維持する。 （ｅ）未分解の有機シロキサンが、生成されるＳｉＯ_ｘ
   膜に残存するような成膜条件で行う。
5. 【請求項５】（１）透明基材フィルム上に、直接または
   他の層を介して、表面が微細な凹凸状の防眩層が形成さ
   れており、 （２）該防眩層上に、該防眩層の屈折率よりも低い屈折
   率の低屈折率層が形成されており、 （３）該防眩層の屈折率は、該防眩層が接している前記
   低屈折率層の面とは反対側の面に接している層の屈折率
   よりも高いことを特徴とする、防眩性反射防止フィル
   ム。
6. 【請求項６】前記防眩層が、膜厚０．５μｍ以上の塗膜
   からなることを特徴とする、請求項５記載の防眩性反射
   防止フィルム。
7. 【請求項７】前記防眩層が、バインダー樹脂を主体とし
   たものであることを特徴とする、請求項５または６に記
   載の防眩性反射防止フィルム。
8. 【請求項８】前記防眩層が、ハード性能を有する、請求
   項５に記載の防眩性反射防止フィルム。
9. 【請求項９】前記防眩層のバインダー樹脂が、熱硬化性
   樹脂および／または電離放射線硬化型樹脂である、請求
   項７に記載の防眩性反射防止フィルム。
10. 【請求項１０】前記防眩層の表面の微細な凹凸が、賦型
    フィルムにより形成されたものである、請求項５に記載
    の防眩性反射防止フィルム。
11. 【請求項１１】前記防眩層の表面の微細な凹凸が、マッ
    ト材により形成されたものである、請求項５に記載の防
    眩性反射防止フィルム。
12. 【請求項１２】前記防眩層が、バインダー樹脂と、屈折
    率１．５０以上の高屈折率微粒子とを含む、請求項７に
    記載の防眩性反射防止フィルム。
13. 【請求項１３】前記高屈折率微粒子が、ＺｒＯ_２、Ｚｎ
    Ｏ、ＴｉＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_５、ＳｎＯ_２、ＩＴＯ、ＣｅＯ
    _２から選ばれたものである、請求項１２記載の防眩性反
    射防止フィルム。
14. 【請求項１４】前記低屈折率層が、ＳｉＯ_ｘ（ｘは１．
    ５０≦ｘ≦４．００）で形成されている、請求項５に記
    載の防眩性反射防止フィルム。
15. 【請求項１５】前記他の層が、接着剤層、プライマー層
    および／またはハードコート層である、請求項５に記載
    の防眩性反射防止フィルム。
16. 【請求項１６】前記低屈折率層が、水に対する表面の接
    触角が４０〜１８０度のＳｉＯ_ｘ膜（ｘは１．５０≦ｘ
    ≦４．００）からなる、請求項１４に記載の防眩性反射
    防止フィルム。
17. 【請求項１７】前記ＳｉＯ_ｘ膜の動摩擦係数が、１以下
    である、請求項１４に記載の防眩性反射防止フィルム。
18. 【請求項１８】前記ＳｉＯ_ｘ膜が、ＣＶＤ、好ましくは
    プラズマＣＶＤによって形成されたものである、請求項
    １６に記載の防眩性反射防止フィルム。
19. 【請求項１９】ＣＶＤを下記の条件下で行うことによっ
    て得られた、請求項１８に記載の防眩性反射防止フィル
    ム。 （ａ）有機シロキサンを原料ガスとする。 （ｂ）原料ガスを放電によりプラズマ化するプラズマＣ
    ＶＤで行う。 （ｃ）無機蒸着源の非存在下でＣＶＤを行う。 （ｄ）被蒸着基材フィルムを比較的低温度に維持する。 （ｅ）未分解の有機シロキサンが、生成されるＳｉＯ_ｘ
    膜に残存するような成膜条件で行う。
20. 【請求項２０】（１）透明基材フィルム上に、直接また
    は他の層を介して、バインダー樹脂と該バインダー樹脂
    の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子とを
    含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折率が
    最終製品としての防眩性反射防止フィルムの層構成にお
    ける該樹脂組成物を使用する層の下側に直接接する層の
    屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工し、 （２）形成された塗膜上に、表面に微細な凹凸を有する
    マット状の賦型フィルムを微細な凹凸面を塗膜側にして
    ラミネートし、 （３）得られたラミネート物に対して加熱処理および／
    または電離放射線照射処理を行なって塗膜を硬化させ、 （４）塗膜の硬化したラミネート物から前記賦型フィル
    ムを剥離することにより表面に微細な凹凸を有する防眩
    層を形成し、 （５）前記工程で形成された防眩層上に該防眩層よりも
    低い屈折率を有する低屈折率層を形成することを特徴と
    する、防眩性反射防止フィルムの製造方法。
21. 【請求項２１】（１）表面に微細な凹凸を有するマット
    状の賦型フィルム上に、バインダー樹脂と該バインダー
    樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子
    とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折
    率が最終製品としての防眩性反射防止フィルムの層構成
    における該樹脂組成物を使用する層の下側に直接接する
    層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工
    し、 （２）一方、透明基材フィルムに対して、直接または他
    の層を介して、前記工程で塗膜が形成された賦型フィル
    ムを、該塗膜を内側にしてラミネートし、 （３）このラミネート物に対して、加熱処理および／ま
    たは電離放射線照射処理を行なって、該塗膜を硬化さ
    せ、 （４）塗膜の硬化したラミネート物から前記賦型フィル
    ムを剥離することにより表面に微細な凹凸を有する防眩
    層を形成し、 （５）前記工程で形成された防眩層上に該防眩層よりも
    低い屈折率を有する低屈折率層を形成することを特徴と
    する、防眩性反射防止フィルムの製造方法。
22. 【請求項２２】（１）表面に微細な凹凸を有するマット
    状の賦型フィルム上に、バインダー樹脂と該バインダー
    樹脂の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率微粒子
    とを含む樹脂組成物であって、且つ該樹脂組成物の屈折
    率が最終製品としての防眩性反射防止フィルムの層構成
    における該樹脂組成物を使用する層の下側に直接接する
    層の屈折率よりも高い屈折率を持つ樹脂組成物を塗工し
    て塗膜を形成し、 （２）該塗膜を硬化させて高屈折率ハードコート層と
    し、 （３）一方、透明基材フィルムの表裏面の少なくとも一
    面に、接着剤層を介して、前記工程の高屈折率ハードコ
    ート層が形成された賦型フィルムを、該高屈折率ハード
    コート層を内側にしてラミネートし、 （４）前記接着剤層を硬化した後、ラミネート物から前
    記賦型フィルムを剥離して表面に微細な凹凸を有する高
    屈折率ハードコート層を前記透明基材フィルム側に転写
    し、 （５）次いで、該高屈折率ハードコート層上に、該高屈
    折率ハードコート層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折
    率層を設けることを特徴とする、防眩性反射防止フィル
    ムの製造方法。
23. 【請求項２３】前記他の層が、接着剤層、プライマー層
    および／またはハードコート層である、請求項２０〜２
    ２のいずれか１項に記載の方法。
24. 【請求項２４】前記低屈折率層が、ＳｉＯ_ｘ（ｘは１．
    ５０≦ｘ≦４．００）からなる、請求項２０〜２２のい
    ずれか１項に記載の方法。
25. 【請求項２５】前記低屈折率層が、水に対する表面の接
    触角が４０〜１８０度のＳｉＯ_ｘ膜（ｘは１．５０≦ｘ
    ≦４．００）からなる、請求項２０〜２２のいずれか１
    項に記載の方法。
26. 【請求項２６】前記ＳｉＯ_ｘ膜の動摩擦係数が、１以下
    である、請求項２５に記載の方法。
27. 【請求項２７】前記ＳｉＯ_ｘ膜を、ＣＶＤ、好ましくは
    プラズマＣＶＤによって形成する、請求項２５に記載の
    方法。
28. 【請求項２８】ＣＶＤを下記の条件下で行う、請求項２
    ７に記載の方法。 （ａ）有機シロキサンを原料ガスとする。 （ｂ）原料ガスを放電によりプラズマ化するプラズマＣ
    ＶＤで行う。 （ｃ）無機蒸着源の非存在下でＣＶＤを行う。 （ｄ）被蒸着基材フィルムを比較的低温度に維持する。 （ｅ）未分解の有機シロキサンが、生成されるＳｉＯ_ｘ
    膜に残存するような成膜条件で行う。
29. 【請求項２９】請求項５に記載の防眩性反射防止フィル
    ムが、偏光素子にラミネートされてなることを特徴とす
    る、偏光板。
30. 【請求項３０】請求項２９記載の偏光板が、液晶表示装
    置の構成要素として用いられていることを特徴とする、
    液晶表示装置。
31. 【請求項３１】水に対して４０〜１８０度の接触角を有
    するＳｉＯ_ｘ膜（ｘは１．５０≦ｘ≦４．００）からな
    ることを特徴とする、光学機能性膜。
32. 【請求項３２】前記ＳｉＯ_ｘ膜の動摩擦係数が、１以下
    である、請求項３１に記載の光学機能性膜。
33. 【請求項３３】前記ＳｉＯ_ｘ膜が、ＣＶＤ、好ましくは
    プラズマＣＶＤによって形成されたものである、請求項
    ３１に記載の光学機能性膜。
34. 【請求項３４】ＣＶＤを下記の条件下で行うことによっ
    て得られた、請求項３３に記載の光学機能性膜。 （ａ）有機シロキサンを原料ガスとする。 （ｂ）原料ガスを放電によりプラズマ化するプラズマＣ
    ＶＤで行う。 （ｃ）無機蒸着源の非存在下でＣＶＤを行う。 （ｄ）被蒸着基材を比較的低温度に維持する。 （ｅ）未分解の有機シロキサンが、生成されるＳｉＯ_ｘ
    膜に残存するような成膜条件で行う。