JP6790524B2 - タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法 - Google Patents
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Description
本発明は、タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法に関する。
近年、タッチパネルは多くの携帯情報端末に搭載されるようになったこともあり、流通量が増加している。タッチパネルの表面には、種々の目的のために表面保護シートが貼着される場合がある。
従来主流であった抵抗膜式タッチパネルは、指やペンで繰り返し打点するような操作を行うことから、表面保護シートには高度な耐擦傷性が求められていた。
一方、現在の主流である静電容量式タッチパネルの表面保護シートには、指で操作する際の滑り性が求められている。従来の抵抗膜式は、複数個所を同時に検知できないため、画面上で指を動かすことはなかったものの、静電容量式タッチパネルは、複数個所を同時に検知可能であり、画面上で指を動かす操作が多いためである。
また、抵抗膜式及び静電容量式に共通して、タッチパネル用の表面保護シートには、指で操作した際の指紋の付着を防止したり、付着した指紋を拭取りやすくする性能が求められている。
一方、現在の主流である静電容量式タッチパネルの表面保護シートには、指で操作する際の滑り性が求められている。従来の抵抗膜式は、複数個所を同時に検知できないため、画面上で指を動かすことはなかったものの、静電容量式タッチパネルは、複数個所を同時に検知可能であり、画面上で指を動かす操作が多いためである。
また、抵抗膜式及び静電容量式に共通して、タッチパネル用の表面保護シートには、指で操作した際の指紋の付着を防止したり、付着した指紋を拭取りやすくする性能が求められている。
上記のようなタッチパネル用の表面保護シートとしては、例えば、特許文献１〜２が提案されている。
静電容量式タッチパネルは、静電容量の変化を計測して触れた箇所を認識することから、接触物には一定の導電性が必要である。このため、静電容量式タッチパネルの出現当初は、指での操作性のみが検討されており、タッチパネルペンにより文字や絵を描くなどの筆記性は検討されていなかった。抵抗膜式パッチパネルにおいても、タッチパネルペンを用いた際の操作は打点が主流であり、文字や絵を描く際の筆記性は重視されていなかった。
しかし、近年、静電容量式タッチパネルや電磁誘導型タッチパネルに入力可能なタッチパネルペンが提案され始めたこと、タッチパネルペンによる文字入力や描画に対応したアプリケーションが増加してきたことから、タッチパネル用の表面保護シートには、タッチパネルペンでの良好な筆記感が求められている。
しかしながら、特許文献１〜２に代表されるように、従来提案されたタッチパネル用の表面保護シートの殆どのものは、タッチパネルペンでの筆記感について検討されていない。
しかし、近年、静電容量式タッチパネルや電磁誘導型タッチパネルに入力可能なタッチパネルペンが提案され始めたこと、タッチパネルペンによる文字入力や描画に対応したアプリケーションが増加してきたことから、タッチパネル用の表面保護シートには、タッチパネルペンでの良好な筆記感が求められている。
しかしながら、特許文献１〜２に代表されるように、従来提案されたタッチパネル用の表面保護シートの殆どのものは、タッチパネルペンでの筆記感について検討されていない。
一方、特許文献３では、紙に対する鉛筆のような書き味を付与することを課題として、転がり円最大高さうねりが１５μｍ以上の表面形状を有するタッチパネル用の表面保護シートを開示している。
本発明者らが特許文献３の技術を検証した結果、書き味に関しては所定の効果が確認された。しかし、特許文献３のものは耐摩耗性に乏しいものであった。
本発明者らが特許文献３の技術を検証した結果、書き味に関しては所定の効果が確認された。しかし、特許文献３のものは耐摩耗性に乏しいものであった。
本発明は、書き味及び耐摩耗性に優れたタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法を提供することを課題とする。
上記課題を解決すべく、本発明は、以下［１］〜［４］のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法を提供する。
［１］少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たす、タッチパネル用筆記シート。
＜条件１−１＞
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
＜条件１−２＞
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
＜条件１−１＞
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
＜条件１−２＞
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
［２］表面にシートを有するタッチパネルであって、前記シートとして、上記［１］に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記凹凸面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
［３］表示素子上にタッチパネルを有する表示装置であって、前記タッチパネルが上記［２］に記載のタッチパネルである、タッチパネル付きの表示装置。
［４］少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が上記条件１−１及び条件１−２を満たすものをタッチパネル用筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
［３］表示素子上にタッチパネルを有する表示装置であって、前記タッチパネルが上記［２］に記載のタッチパネルである、タッチパネル付きの表示装置。
［４］少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が上記条件１−１及び条件１−２を満たすものをタッチパネル用筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置は、書き味及び耐摩耗性を良好にすることができる。また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、書き味及び耐磨耗性が良好なタッチパネルペン用筆記シートを正確に選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。
以下、本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネルペン用筆記シートの選別方法の実施の形態を説明する。
［タッチパネルペン用筆記シート］
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たすものである。
以下、タッチパネルペン用筆記シートのことを「筆記シート」と称する場合がある。
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たすものである。
以下、タッチパネルペン用筆記シートのことを「筆記シート」と称する場合がある。
＜条件１−１＞
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
＜条件１−２＞
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
＜条件１−１及び条件１−２＞
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、該凹凸面が上記条件１−１及び条件１−２を満たすものである。
まず、図３を引用して、条件１−１の反射強度の測定方法を説明する。
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、該凹凸面が上記条件１−１及び条件１−２を満たすものである。
まず、図３を引用して、条件１−１の反射強度の測定方法を説明する。
まず、タッチパネル用筆記シート１０の凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層２０を介して黒色板３０を貼り合わせたサンプル１００を作製する（図３）。
サンプル１００は、界面反射を防止するため、筆記シート１０の透明粘着剤層と接する部材（基材、易接着層等）と透明粘着剤層２０との屈折率差を０．１５以内とすることが好ましく、０．１０以内とすることがより好ましい。
また、黒色板は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が１％以下のものが好ましく、０％のものがより好ましい。
サンプル１００は、界面反射を防止するため、筆記シート１０の透明粘着剤層と接する部材（基材、易接着層等）と透明粘着剤層２０との屈折率差を０．１５以内とすることが好ましく、０．１０以内とすることがより好ましい。
また、黒色板は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が１％以下のものが好ましく、０％のものがより好ましい。
次に、サンプル１００の凹凸面側に向けて、サンプルの法線方向から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。図３の符号４０がサンプルの法線、符号４１がサンプル１００の凹凸面側に向けて照射される可視光線に該当する。
反射強度の測定では、可視光線の正反射方向である法線から−１５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。図３の符号４２が可視光線の正反射方向（≒基準角度の方向）に該当し、符号４３が示す範囲が反射強度の測定範囲（≒基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲）に該当する。
反射強度の測定では、可視光線の正反射方向である法線から−１５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。図３の符号４２が可視光線の正反射方向（≒基準角度の方向）に該当し、符号４３が示す範囲が反射強度の測定範囲（≒基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲）に該当する。
反射強度は、例えば、変角光度計（ゴニオフォトメーター）で測定することができる。具体的には、変角光度計の受光器を１度ごとに走査して、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を測定する。反射強度を測定する際は光源の明るさを一定とする。また、反射強度を測定する際は、受光器の絞りにより検出する受光器の開口角を１度とする。このため、例えば、基準角度（０度）の測定では−０．５度〜＋０．５度の範囲を測定し、＋１度の測定では０．５度〜１．５度の範囲を測定し、−１度の測定では−０．５度〜−１．５度の範囲を測定することになる。
変角光度計としては、例えば、日本電色工業社製の商品名ＧＣ５０００Ｌ（光束径：約３ｍｍ、光束内傾斜角：０．８度以内、光源：ハロゲンランプ）が挙げられる。
なお、条件１−２の反射強度は、可視光線の照射角度をサンプルの法線から＋７５度に変更し、さらに、可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）と変更する以外は、上述した方法に準じて測定することができる。
変角光度計としては、例えば、日本電色工業社製の商品名ＧＣ５０００Ｌ（光束径：約３ｍｍ、光束内傾斜角：０．８度以内、光源：ハロゲンランプ）が挙げられる。
なお、条件１−２の反射強度は、可視光線の照射角度をサンプルの法線から＋７５度に変更し、さらに、可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）と変更する以外は、上述した方法に準じて測定することができる。
次に、条件１−１及び条件１−２の技術的意義について説明する。
人間が書き味を良好に感じる例として、紙に鉛筆で筆記する際の書き味が挙げられる。紙の表面では多くの繊維が絡み合っており、筆記具が繊維を乗り越える際に適度な摩擦が生じ、人間は心地よい書き味を感じる。このため、筆記シートの表面形状を適度に凹凸化することにより、筆記シートの書き味を良好にし得ると考えられる。
表面形状に関するＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｂ０６０１）は、接触式の表面形状測定器を用いて表面形状を測定することを定めている。しかし、触針の形状と表面形状との関係から、測定結果が表面形状を正確に反映できない場合がある。そこで、本発明者らは、反射強度によって表面形状を間接的に表すことを見出した。
人間が書き味を良好に感じる例として、紙に鉛筆で筆記する際の書き味が挙げられる。紙の表面では多くの繊維が絡み合っており、筆記具が繊維を乗り越える際に適度な摩擦が生じ、人間は心地よい書き味を感じる。このため、筆記シートの表面形状を適度に凹凸化することにより、筆記シートの書き味を良好にし得ると考えられる。
表面形状に関するＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｂ０６０１）は、接触式の表面形状測定器を用いて表面形状を測定することを定めている。しかし、触針の形状と表面形状との関係から、測定結果が表面形状を正確に反映できない場合がある。そこで、本発明者らは、反射強度によって表面形状を間接的に表すことを見出した。
条件１−１は、照射角度を法線から＋１５度とした際の反射強度に関するパラメータ（α１５）である。筆記シートの表面が略平滑な場合、該シートに法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した場合、反射光の殆どは正反射方向に向かう。一方、筆記シートの表面が凹凸面の場合、反射光は凹凸面の傾斜により拡散される。また、凹凸の程度が大きいほど、拡散の度合いは大きくなる。
図４の実線は、実施例１の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図であり、図４の破線は、比較例２の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図である。後述する実施例において、実施例１及び比較例２の筆記シートの表面粗さを示すが、比較例２の筆記シートよりも実施例１の筆記シートは、算術平均粗さＲａが大きい。そして、図４の実線（実施例１）と、図４の破線（比較例２）とを比べると、表面粗さが大きい方が、大きな角度に拡散する割合が多いことが分かる。
なお、図４の実線及び破線は、何れも反射強度の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化している。また、図４の反射強度分布図は、可視光線の正反射方向（サンプルの法線から−１５度の角度）を基準角度（０度）としている。
図４の実線は、実施例１の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図であり、図４の破線は、比較例２の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図である。後述する実施例において、実施例１及び比較例２の筆記シートの表面粗さを示すが、比較例２の筆記シートよりも実施例１の筆記シートは、算術平均粗さＲａが大きい。そして、図４の実線（実施例１）と、図４の破線（比較例２）とを比べると、表面粗さが大きい方が、大きな角度に拡散する割合が多いことが分かる。
なお、図４の実線及び破線は、何れも反射強度の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化している。また、図４の反射強度分布図は、可視光線の正反射方向（サンプルの法線から−１５度の角度）を基準角度（０度）としている。
また、図４では、実線の＋α１５が＋７．５度、実線の−α１５が−８．８度、破線の＋α１５が＋１．７度、破線の−α１５が−２．２度と算出できる。そして、−α１５の絶対値と、＋α１５との平均値である「α１５」は、実線のα１５が８．２度、破線のα１５が１．９度である。つまり、表面粗さが大きく反射光が大きな角度に拡散する割合が多いと、α１５が大きくなる。
＋α１５及び−α１５、並びに、後述する＋α７５及び−α７５は、１度ごとの反射強度の値の直線補間による近似曲線で作成した強度分布図から読み取ることができる。
なお、本明細書において、上記α１５、並びに、後述するα７５、Ｓ１５、Ｓ７５及びＰ１２は、１０回測定した平均値とする。
＋α１５及び−α１５、並びに、後述する＋α７５及び−α７５は、１度ごとの反射強度の値の直線補間による近似曲線で作成した強度分布図から読み取ることができる。
なお、本明細書において、上記α１５、並びに、後述するα７５、Ｓ１５、Ｓ７５及びＰ１２は、１０回測定した平均値とする。
条件１−１では、４．５度≦α１５であることを要求している。α１５が４．５度未満の場合、凹凸が不十分であり、書き味を良好にすることができない。なお、凹凸が大きすぎる場合、表示素子の視認性、耐磨耗性及び触感の低下を招いたり、タッチパネルペンが摩耗しやすくなる場合がある。このため、α１５は、４．５度≦α１５≦１２．０度であることが好ましく、６．０度≦α１５≦１０．５度であることがより好ましく、７．５度≦α１５≦９．０度であることがさらに好ましい。
条件１−２は、照射角度を法線から＋１５度とした際の反射強度に関するパラメータ「α１５」と、照射角度を法線から＋７５度とした際の反射強度に関するパラメータ「α７５」との比（α１５／α７５）が所定の値であることを示している。
筆記シートの表面が略平滑な場合、筆記シートに法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図と、筆記シートに法線から＋７５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図とは、略同一となる。しかし、筆記シートの表面が凹凸面である場合、凹凸の程度が大きくなるほど、＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図とは、分布の形状が大きく相違する。
筆記シートの表面が略平滑な場合、筆記シートに法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図と、筆記シートに法線から＋７５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図とは、略同一となる。しかし、筆記シートの表面が凹凸面である場合、凹凸の程度が大きくなるほど、＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図とは、分布の形状が大きく相違する。
＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図との形状が大きく違う理由は、以下のように説明できる。
例えば、凹凸面の任意の箇所に適切な凹凸領域Ａが存在し、該領域Ａの隣に急峻な山を有する凹凸領域Ｂが存在したとする。領域Ｂ側から可視光線が進んでくることを前提とした場合、＋１５度の可視光線は、領域Ｂの急峻な山に入射する確率が小さく、隣の領域Ａに入射する確率が大きい一方で、＋７５度の可視光線は、領域Ｂの急峻な山に入射する確率が高く、隣の領域Ａに入射する確率が小さい。そして、急峻な山に入射した可視光線は、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向には原則として反射しないため、両者の反射強度分布に違いが生じる。
したがって、＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図との形状が近い場合、凹凸の中に急峻な山が少なく、全体がなだらかな凹凸であることを示し、逆に、＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図との形状が大きく異なる場合、凹凸の中に急峻な山が多いことを示すことになる。
例えば、凹凸面の任意の箇所に適切な凹凸領域Ａが存在し、該領域Ａの隣に急峻な山を有する凹凸領域Ｂが存在したとする。領域Ｂ側から可視光線が進んでくることを前提とした場合、＋１５度の可視光線は、領域Ｂの急峻な山に入射する確率が小さく、隣の領域Ａに入射する確率が大きい一方で、＋７５度の可視光線は、領域Ｂの急峻な山に入射する確率が高く、隣の領域Ａに入射する確率が小さい。そして、急峻な山に入射した可視光線は、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向には原則として反射しないため、両者の反射強度分布に違いが生じる。
したがって、＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図との形状が近い場合、凹凸の中に急峻な山が少なく、全体がなだらかな凹凸であることを示し、逆に、＋１５度の反射強度分布図と、＋７５度の反射強度分布図との形状が大きく異なる場合、凹凸の中に急峻な山が多いことを示すことになる。
図５の実線は、実施例１の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図であり、図５の破線は、実施例１の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図である。
図６の実線は、比較例３の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図であり、図６の破線は、比較例３の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図である。
なお、図５及び図６の実線及び破線は、何れも反射強度の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化している。また、図５及び図６の反射強度分布図は、可視光線の正反射方向（サンプルの法線から−１５度又は−７５度の角度）を基準角度（０度）としている。
図６の実線は、比較例３の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図であり、図６の破線は、比較例３の筆記シートから作製したサンプルの凹凸面に、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射した際の反射強度分布図である。
なお、図５及び図６の実線及び破線は、何れも反射強度の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化している。また、図５及び図６の反射強度分布図は、可視光線の正反射方向（サンプルの法線から−１５度又は−７５度の角度）を基準角度（０度）としている。
実施例１の筆記シートの算術平均粗さＲａが０．６１μｍである一方で、比較例３の筆記シートの算術平均粗さＲａは０．５５μｍであり、両者の粗さの程度は同程度である。しかし、後述する実施例に示すように、比較例３の筆記シートは実施例１の筆記シートよりも、凹凸の平均間隔Ｓｍ及び局部山頂平均間隔Ｓが小さい。つまり、比較例３の筆記シートの凹凸形状は、実施例１の筆記シートの凹凸形状よりも短い周期で同等の高さを付与しているため、急峻な凹凸が多いことになる。このため、図５に示すように、実施例１の反射強度分布図は、＋１５度照射と＋７５度照射との形状に大きな違いが確認されない一方で、比較例３の筆記シートの反射強度分布図は、＋１５度照射と＋７５度照射との形状に大きな違いが確認されることになる。
条件１−２では、α１５／α７５が４．５以下であることを要求している。α１５／α７５が４．５を超えることは、凹凸の中に急峻な山が多く存在することを意味している。そして、凹凸の中に急峻な山が多く存在すると、筆記シートの表面についた埃、指紋等を布等で拭取る際に、急峻な山を形成する粒子が起点となって粒子及び樹脂の部分的な剥離が生じやすくなり、白化が生じ、耐摩耗性を良好にすることができない。また、凹凸の中に急峻な山が多く存在すると、タッチパネルペンの摩耗が進みやすくなる。
α１５／α７５は、３．０以下であることが好ましく、２．０以下であることがより好ましく、１．５以下であることがさらに好ましく、１．３以下であることがよりさらに好ましい。なお、α１５／α７５は１．０超であることが好ましい。
α１５／α７５は、３．０以下であることが好ましく、２．０以下であることがより好ましく、１．５以下であることがさらに好ましく、１．３以下であることがよりさらに好ましい。なお、α１５／α７５は１．０超であることが好ましい。
また、本発明の筆記シートは、さらに、下記条件１−３を満たすことが好ましい。
＜条件１−３＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ１５とする。
前記条件１−２において測定した「サンプルの法線から＋７５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ７５とする。
Ｓ１５とＳ７５とが、Ｓ１５／Ｓ７５≦２．０の関係を示す。
＜条件１−３＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ１５とする。
前記条件１−２において測定した「サンプルの法線から＋７５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ７５とする。
Ｓ１５とＳ７５とが、Ｓ１５／Ｓ７５≦２．０の関係を示す。
条件１−３を満たすことにより、筆記シートの耐摩耗性をより良好にすることができるとともに、タッチパネルペンの摩耗を抑制しやすくできる。
Ｓ１５／Ｓ７５は、１．８以下であることがより好ましく、１．６以下であることがさらに好ましく、１．４以下であることがよりさらに好ましい。
Ｓ１５／Ｓ７５は、１．８以下であることがより好ましく、１．６以下であることがさらに好ましく、１．４以下であることがよりさらに好ましい。
また、本発明の筆記シートは、さらに、下記条件１−４を満たすことが好ましい。
＜条件１−４＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。前記条件１−１において設定した基準角度（０度）に対して、−１２度の規格化した反射強度と、＋１２度の規格化した反射強度との平均値をＰ１２とする。
Ｐ１２が、１０．０≦Ｐ１２の関係を示す。
＜条件１−４＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。前記条件１−１において設定した基準角度（０度）に対して、−１２度の規格化した反射強度と、＋１２度の規格化した反射強度との平均値をＰ１２とする。
Ｐ１２が、１０．０≦Ｐ１２の関係を示す。
Ｐ１２を１０．０以上とすることにより、凹凸が大きくなり、書き味をより良好にすることができる。なお、凹凸が大きすぎる場合、表示素子の視認性、耐磨耗性及び触感の低下を招いたり、タッチパネルペンが摩耗しやすくなる場合がある。このため、Ｐ１２は、２０．０≦Ｐ１２≦４５．０であることがより好ましく、２５．０≦Ｐ１２≦３５．０であることがさらに好ましい。
また、本発明の筆記シートは、下記条件２−１を満たすことが好ましい。
＜条件２−１＞
ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２５．０％以上
＜条件２−１＞
ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２５．０％以上
ヘイズを２５．０％以上とすることにより、ギラツキ（映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象）を抑制しやすくできる。
ギラツキ抑制の観点から、ヘイズは３５．０％以上であることがより好ましく、４５．０％以上であることがさらに好ましい。また、表示素子の解像性の低下の抑制の観点から、ヘイズは９０．０％以下であることが好ましく、７０．０％以下であることがより好ましく、６５．０％以下であることがさらに好ましく、６３．０％以下であることがよりさらに好ましい。
ヘイズ及び後述の全光線透過率を測定する際は、条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面とは反対側の表面から光を入射するものとする。筆記シートの両面が条件１−１及び条件１−２を満たす場合、光入射面はどちらの面であってもよい。なお、ヘイズ及び全光線透過率は、１０回測定した際の平均値とする。
ギラツキ抑制の観点から、ヘイズは３５．０％以上であることがより好ましく、４５．０％以上であることがさらに好ましい。また、表示素子の解像性の低下の抑制の観点から、ヘイズは９０．０％以下であることが好ましく、７０．０％以下であることがより好ましく、６５．０％以下であることがさらに好ましく、６３．０％以下であることがよりさらに好ましい。
ヘイズ及び後述の全光線透過率を測定する際は、条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面とは反対側の表面から光を入射するものとする。筆記シートの両面が条件１−１及び条件１−２を満たす場合、光入射面はどちらの面であってもよい。なお、ヘイズ及び全光線透過率は、１０回測定した際の平均値とする。
また、本発明の筆記シートは、下記条件２−２を満たすことが好ましい。
＜条件２−２＞
ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が８７．０％以上
＜条件２−２＞
ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が８７．０％以上
全光線透過率を８７．０％以上とすることにより、表示素子の輝度の低下を抑制できる。
全光線透過率は８８．０％以上であることがより好ましく、８９．０％以上であることがさらに好ましい。
全光線透過率は８８．０％以上であることがより好ましく、８９．０％以上であることがさらに好ましい。
また、本発明の筆記シートは、下記条件３−１を満たすことが好ましい。
＜条件３−１＞
前記凹凸面の純水の接触角が９４度以上。
＜条件３−１＞
前記凹凸面の純水の接触角が９４度以上。
凹凸面の純水の接触角を９４度以上とすることにより、汚れの付着を抑制しやすくできるとともに、表面に付着した塵、埃等の拭取り性を良好にしやすくでき、さらに、指で触れた際の触感（指の滑り具合）を良好にしやすくできる。また、凹凸面の純水の接触角を９４度以上とすることにより、耐摩耗性を良好にしやすくでき、タッチパネルペンの摩耗も抑制しやすくできる。
凹凸面の純水の接触角は１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることがさらに好ましい。
凹凸面の純水の接触角は１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることがさらに好ましい。
純水の接触角及び後述するヘキサデカンの接触角は、凹凸面に１．５μＬの試料（純水又はヘキサデカン）を滴下し、着滴１秒後に、θ／２法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、凹凸面に対する角度から算出できる。接触角は５回測定した平均値とする。また、接触角を測定する際の室内温度は２０℃とする。なお、接触角を算出するに当たり、試料が接触している凹凸面の両端は直線とみなすものとする。
また、本発明の筆記シートは、下記条件３−２を満たすことが好ましい。
＜条件３−２＞
前記凹凸面のヘキサデカンの接触角が４０度以上。
＜条件３−２＞
前記凹凸面のヘキサデカンの接触角が４０度以上。
凹凸面のヘキサデカンの接触角を４０度以上とすることにより、指紋の付着を抑制しやすくできるとともに、表面に付着した指紋の拭取り性を良好にしやすくでき、さらには、指で触れた際の触感を良好にできる。また、凹凸面のヘキサデカンの接触角を４０度以上とすることにより、耐摩耗性を良好にしやすくでき、タッチパネルペンの摩耗も抑制しやすくできる。
凹凸面のヘキサデカンの接触角は５０度以上であることがより好ましく、６０度以上であることがさらに好ましい。
凹凸面のヘキサデカンの接触角は５０度以上であることがより好ましく、６０度以上であることがさらに好ましい。
また、本発明の筆記シートは、凹凸面の耐擦傷性を向上する観点から、凹凸面のＪＩＳ Ｋ５６００−５−４：１９９９の鉛筆硬度が２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、５Ｈ以上であることがさらに好ましい。
＜筆記シート全体の構成＞
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が条件１−１及び条件１−２を満たしていれば、その構成は特に限定されない。
図１及び図２は、本発明のタッチパネルペン用筆記シート１０の一実施形態を示す断面図である。図１のタッチパネルペン用筆記シート１０は、基材１の一方の面に凹凸層２を有し、凹凸層２の表面が凹凸面となっている。図２のタッチパネルペン用筆記シート１０は、基材１の一方の面に凹凸層２、オーバーコート層３を有し、オーバーコート層３の表面が凹凸面となっている。
筆記シートは、条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面を筆記シートの両面に有していてもよいが、取り扱い性、表示素子の視認性の観点から、条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面を片面に有し、他方の面は略平滑（Ｒａ０．０２μｍ以下）であることが好ましい。
なお、図示しないが、本発明のタッチパネルペン用筆記シート１０の構成は、基材を有さない構成であってもよい。
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が条件１−１及び条件１−２を満たしていれば、その構成は特に限定されない。
図１及び図２は、本発明のタッチパネルペン用筆記シート１０の一実施形態を示す断面図である。図１のタッチパネルペン用筆記シート１０は、基材１の一方の面に凹凸層２を有し、凹凸層２の表面が凹凸面となっている。図２のタッチパネルペン用筆記シート１０は、基材１の一方の面に凹凸層２、オーバーコート層３を有し、オーバーコート層３の表面が凹凸面となっている。
筆記シートは、条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面を筆記シートの両面に有していてもよいが、取り扱い性、表示素子の視認性の観点から、条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面を片面に有し、他方の面は略平滑（Ｒａ０．０２μｍ以下）であることが好ましい。
なお、図示しないが、本発明のタッチパネルペン用筆記シート１０の構成は、基材を有さない構成であってもよい。
凹凸面は、「エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理」、「型による成型」、「コーティング」等により形成することができる。これら方法の中では、表面形状の再現性の観点からは「型による成型」が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは「コーティング」が好適である。
筆記シートが条件１−１及び条件１−２等を満たすためには、筆記シートの凹凸面が以下の物性（ａ）〜（ｆ）を満たすことが好ましい。以下の物性（ａ）〜（ｆ）は、１０回の測定の平均値とする。
なお、後述するＲａ、Ｒｚ、θａ、λａ等を算出する際のカットオフ値は何れも０．８ｍｍである。カットオフ値を０．８ｍｍとした理由は、ＪＩＳ Ｂ０６３３に規定されるカットオフの中から、タッチパネルペンのペン先の直径（１．０ｍｍ前後）に近い値を選択したためである。
なお、後述するＲａ、Ｒｚ、θａ、λａ等を算出する際のカットオフ値は何れも０．８ｍｍである。カットオフ値を０．８ｍｍとした理由は、ＪＩＳ Ｂ０６３３に規定されるカットオフの中から、タッチパネルペンのペン先の直径（１．０ｍｍ前後）に近い値を選択したためである。
（ａ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａが０．２５μｍ以上１．００μｍ以下。
（ｂ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以上４．０μｍ以下。
（ｃ）凹凸面の平均傾斜角θａが３．０度以上９．５度以下。
（ｄ）前記θａ及び前記Ｒａから、式［λａ＝２π×（Ｒａ／ｔａｎ（θａ））］に基づき算出される平均波長λａが、４０μｍ以上１５０μｍ以下。
（ｅ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の凹凸の平均間隔Ｓｍが４８μｍ以上１５０μｍ以下。
（ｆ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓが２０μｍ以上８０μｍ以下。
（ｂ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以上４．０μｍ以下。
（ｃ）凹凸面の平均傾斜角θａが３．０度以上９．５度以下。
（ｄ）前記θａ及び前記Ｒａから、式［λａ＝２π×（Ｒａ／ｔａｎ（θａ））］に基づき算出される平均波長λａが、４０μｍ以上１５０μｍ以下。
（ｅ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の凹凸の平均間隔Ｓｍが４８μｍ以上１５０μｍ以下。
（ｆ）凹凸面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓが２０μｍ以上８０μｍ以下。
上記物性（ａ）〜（ｆ）のうち、（ａ）〜（ｃ）は凹凸の大きさの程度を表しており、（ｄ）〜（ｆ）は凹凸の周期を表している。したがって、物性（ａ）〜（ｆ）を満たすことにより、所定の大きさの凹凸を有しながら、凹凸の中の急峻な山の割合を少なくすることができ、条件１−１及び条件１−２を満たしやすくできる。このため、物性（ａ）〜（ｆ）を満たすことは、書き味及び耐摩耗性を良好にすることにもつながる。
また、上記物性（ａ）〜（ｆ）を満たすことにより、凹凸面への指紋の付着防止性及び指で触れた際の触感を良好にしやすくできるとともに、ギラツキ及びタッチパネルペンのペン先の磨耗を抑制しやすくできる。例えば、凹凸が大きく、かつ凹凸の周期が適度な範囲であれば、指と凹凸面との接触面積が減少して、凹凸面への指紋の付着防止性及び指で触れた際の触感を良好にしやすくできる。しかし、凹凸が大きく、かつ凹凸の周期が適度な範囲であっても、凹凸が大き過ぎる場合には手触りが悪くなる。また、凹凸の大きさ及び凹凸の周期が適度な範囲であれば、タッチパネルペンのペン先が凸部の先端を滑るようにして動き、適度な書き味を有しつつ、タッチパネルペンの摩耗を抑制することができる。
また、上記物性（ａ）〜（ｆ）を満たすことにより、凹凸面への指紋の付着防止性及び指で触れた際の触感を良好にしやすくできるとともに、ギラツキ及びタッチパネルペンのペン先の磨耗を抑制しやすくできる。例えば、凹凸が大きく、かつ凹凸の周期が適度な範囲であれば、指と凹凸面との接触面積が減少して、凹凸面への指紋の付着防止性及び指で触れた際の触感を良好にしやすくできる。しかし、凹凸が大きく、かつ凹凸の周期が適度な範囲であっても、凹凸が大き過ぎる場合には手触りが悪くなる。また、凹凸の大きさ及び凹凸の周期が適度な範囲であれば、タッチパネルペンのペン先が凸部の先端を滑るようにして動き、適度な書き味を有しつつ、タッチパネルペンの摩耗を抑制することができる。
上記（ａ）のＲａは、０．４０μｍ以上０．７５μｍ以下であることがより好ましく、０．５０μｍ以上０．７０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｂ）のＲｚは、２．５μｍ以上３．８μｍ以下であることがより好ましく、３．０μｍ以上３．６μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｃ）のθａは、４．５度以上９．０度以下であることがより好ましく、８．５度以上７．５度以下であることがより好ましい。
上記（ｄ）のλａは、４５μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以上７０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｅ）のＳｍは、５０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以上７０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｆ）のＳは、２２μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、２４μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｂ）のＲｚは、２．５μｍ以上３．８μｍ以下であることがより好ましく、３．０μｍ以上３．６μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｃ）のθａは、４．５度以上９．０度以下であることがより好ましく、８．５度以上７．５度以下であることがより好ましい。
上記（ｄ）のλａは、４５μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以上７０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｅ）のＳｍは、５０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以上７０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｆ）のＳは、２２μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、２４μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
上記（ｄ）のλａを算出する元となる「平均傾斜角θａ」は、小坂研究所社製の表面粗さ測定器（商品名：ＳＥ−３４００）の取り扱い説明書（１９９５．０７．２０改訂）に定義されている値であり、図７に示すように、基準長さＬに存在する凸部高さの和（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋・・・＋ｈｎ）のアークタンジェントθａ＝ｔａｎ−１｛（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋・・・＋ｈｎ）／Ｌ｝で求めることができる。
コーティングによる凹凸面の形成は、樹脂成分、粒子及び溶剤を含有してなる凹凸層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法により基材上に塗布、乾燥、硬化することにより形成できる。
コーティングにより形成した凹凸面が条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくするためには、粒子の平均粒子径、粒子の含有量、及び凹凸層の厚み等を後述の範囲とすることが好ましい。
また、凹凸の中の急峻な山の割合を少なくして条件１−２を満たしやすくする観点からは、凹凸層上にオーバーコート層を有することが好ましい。凹凸層上にオーバーコート層を形成することにより、凹凸層の溝が部分的に埋まり、条件１−２を満たしやすくすることができる。
コーティングにより形成した凹凸面が条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくするためには、粒子の平均粒子径、粒子の含有量、及び凹凸層の厚み等を後述の範囲とすることが好ましい。
また、凹凸の中の急峻な山の割合を少なくして条件１−２を満たしやすくする観点からは、凹凸層上にオーバーコート層を有することが好ましい。凹凸層上にオーバーコート層を形成することにより、凹凸層の溝が部分的に埋まり、条件１−２を満たしやすくすることができる。
凹凸層の粒子は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。無機粒子の中では透明性に優れるシリカが好適である。また、無機粒子は表面を疎水化処理したものが好ましい。疎水化処理した無機粒子は、凹凸層形成塗布液中での分散性が良好となり、凝集が抑制され、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくできる。また、疎水化処理した無機粒子は、樹脂成分との親和性が良いため、塗膜からの脱落を抑制しやすくできる。
粒子の形状は、球形、不定形の何れであってもよい。球形粒子はなめらかな凹凸を形成するのに適し、不定形粒子はギラツキの抑制に優れている。
これらの粒子は、単独で用いても良いが、二種以上を混合して用いてもよい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。無機粒子の中では透明性に優れるシリカが好適である。また、無機粒子は表面を疎水化処理したものが好ましい。疎水化処理した無機粒子は、凹凸層形成塗布液中での分散性が良好となり、凝集が抑制され、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくできる。また、疎水化処理した無機粒子は、樹脂成分との親和性が良いため、塗膜からの脱落を抑制しやすくできる。
粒子の形状は、球形、不定形の何れであってもよい。球形粒子はなめらかな凹凸を形成するのに適し、不定形粒子はギラツキの抑制に優れている。
これらの粒子は、単独で用いても良いが、二種以上を混合して用いてもよい。
凹凸層の粒子は、有機粒子と無機粒子とを併用し、かつ、無機粒子の平均粒子径よりも有機粒子の平均粒子径を大きくすることが好ましい。かかる構成とすることで、粒子径の大きい有機粒子でなめらかな凹凸を形成する一方、無機粒子で細かな凹凸を形成し、書き味を良好にすることができる。また、無機粒子が小さいため、無機粒子により塗膜に硬さを付与できる一方で、硬い無機粒子が塗膜から多く突出することによるタッチパネルペンの摩耗を抑制できる。
有機粒子と無機粒子とを併用する場合、有機粒子の形状は、なめらかな凹凸を形成する観点から球形であることが好ましい。有機粒子と無機粒子とを併用する場合、無機粒子の形状は特に限定されないが、ギラツキを抑制する観点から不定形であることが好ましい。
有機粒子と無機粒子とを併用する場合、有機粒子の形状は、なめらかな凹凸を形成する観点から球形であることが好ましい。有機粒子と無機粒子とを併用する場合、無機粒子の形状は特に限定されないが、ギラツキを抑制する観点から不定形であることが好ましい。
凹凸層中の粒子の平均粒子径は、凹凸層の厚みにより異なるため一概には言えないが、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくする観点、粒子の脱落を抑制する観点、及びタッチパネルペンの磨耗抑制の観点から、１．０〜１０．０μｍが好ましく、２．０〜８．０μｍであることがより好ましく、３．０〜６．０μｍであることがさらに好ましい。粒子が凝集している場合、凝集粒子の平均粒子径が前記範囲を満たすことが好ましい。
また、有機粒子と無機粒子とを併用する場合、有機粒子の平均粒子径と無機粒子の平均粒子径とが、１．０＜［有機粒子の平均粒子径／無機粒子の平均粒子径］≦１．５とすることが好ましく、１．１≦［有機粒子の平均粒子径／無機粒子の平均粒子径］≦１．４とすることがより好ましい。
粒子の平均粒子径は、以下の（ｙ１）〜（ｙ３）の作業により算出できる。
（ｙ１）本発明の筆記シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（ｙ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（ｙ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を 凹凸層中の粒子の平均粒子径とする。
また、有機粒子と無機粒子とを併用する場合、有機粒子の平均粒子径と無機粒子の平均粒子径とが、１．０＜［有機粒子の平均粒子径／無機粒子の平均粒子径］≦１．５とすることが好ましく、１．１≦［有機粒子の平均粒子径／無機粒子の平均粒子径］≦１．４とすることがより好ましい。
粒子の平均粒子径は、以下の（ｙ１）〜（ｙ３）の作業により算出できる。
（ｙ１）本発明の筆記シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（ｙ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（ｙ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を 凹凸層中の粒子の平均粒子径とする。
粒子は、粒子径分布が広いもの（単一粒子で粒子径分布が広いもの、あるいは、粒子径分布が異なる２種類以上の粒子を混合した混合粒子の粒子径分布が広いもの）であってもよいが、ギラツキを抑制する観点、粒子の脱落を抑制する観点、及びタッチパネルペンの磨耗抑制の観点から、粒子径分布が狭い方が好ましい。具体的には、粒子の粒子径分布の変動係数は、２５％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１５％以下であることがさらに好ましい。
凹凸層中の粒子の含有量は、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくする観点から、樹脂成分１００質量部に対して、１０〜２５質量部であることが好ましく、１３〜２３質量部であることがより好ましく、１５〜２０質量部であることがさらに好ましい。
なお、有機粒子と無機粒子とを併用する場合、有機粒子：無機粒子は質量比で、１：１〜１：２０であることが好ましく、１：３〜１：１５であることがより好ましく、１：５〜１：１０であることがさらに好ましい。
なお、有機粒子と無機粒子とを併用する場合、有機粒子：無機粒子は質量比で、１：１〜１：２０であることが好ましく、１：３〜１：１５であることがより好ましく、１：５〜１：１０であることがさらに好ましい。
凹凸層の膜厚の好適な範囲は、凹凸層の実施形態によって若干異なる。例えば、粒子を含む凹凸層の厚みは、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくする観点、凹凸面の鉛筆硬度を向上させる観点及びカールを抑制する観点から、２．０〜８．０μｍが好ましく、２．５〜６．０μｍがより好ましく、３．０〜４．５μｍがさらに好ましい。
また、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくする観点、粒子の脱落を抑制する観点及びタッチパネルペンの磨耗抑制の観点から、［粒子の平均粒子径］／［粒子を含む凹凸層の膜厚］の比は、０．７〜１．８であることが好ましく、０．８〜１．７であることがより好ましく、０．９〜１．５であることがさらに好ましい。
凹凸層の膜厚は、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、ＳＴＥＭの倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。
また、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすくする観点、粒子の脱落を抑制する観点及びタッチパネルペンの磨耗抑制の観点から、［粒子の平均粒子径］／［粒子を含む凹凸層の膜厚］の比は、０．７〜１．８であることが好ましく、０．８〜１．７であることがより好ましく、０．９〜１．５であることがさらに好ましい。
凹凸層の膜厚は、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、ＳＴＥＭの倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。
凹凸層の樹脂成分は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、凹凸面の鉛筆硬度を向上する観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがさらに好ましい。
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、筆記シートの製造過程や、タッチパネルの透明導電膜の形成過程で、残留した光重合開始剤が昇華して、製造装置や透明導電膜の汚染を防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、筆記シートの製造過程や、タッチパネルの透明導電膜の形成過程で、残留した光重合開始剤が昇華して、製造装置や透明導電膜の汚染を防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
凹凸層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の凹凸層の表面状態が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
溶剤の乾燥が遅すぎる場合、凹凸層のレベリング性が過度になること、及び／又は粒子の凝集が進行することにより、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすい表面形状を形成しづらくなる。したがって、溶剤としては、蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１８０以上である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましい。相対蒸発速度が１８０以上の溶剤としては、トルエンが挙げられる。トルエンの相対蒸発速度は１９５である。
溶剤の乾燥が遅すぎる場合、凹凸層のレベリング性が過度になること、及び／又は粒子の凝集が進行することにより、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすい表面形状を形成しづらくなる。したがって、溶剤としては、蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１８０以上である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましい。相対蒸発速度が１８０以上の溶剤としては、トルエンが挙げられる。トルエンの相対蒸発速度は１９５である。
また、表面形状を適度に滑らかにして、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点からは、凹凸層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素シリコーン共重合体系レベリング剤等が挙げられる。レベリング剤の添加量としては、凹凸層形成塗布液の全固形分に対して０．０１〜０．３０質量％が好ましく、０．０２〜０．１０質量％がより好ましい。また、レベリング剤は触感を良好にすることにもつながる。
＜オーバーコート層＞
凹凸層上には、オーバーコート層を有し、オーバーコート層の表面を前記凹凸面とすることが好ましい。凹凸層上にオーバーコート層を形成することにより、凹凸層の溝が部分的に埋まり、条件１−２を満たしやすくすることができる。
上記の観点から、オーバーコート層中には平均粒子径２００ｎｍ以上の粒子を実質的に含有しないことが好ましい。具体的には、オーバーコート層の全固形分に占める平均粒子径２００ｎｍ以上の粒子が１．０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、０質量％であることがさらに好ましい。
また、上記の観点から、オーバーコート層の厚みは、３０〜３５０ｎｍであることが好ましく、１３０〜３００ｎｍであることがより好ましく、１５０〜２５０ｎｍであることがさらに好ましい。
オーバーコート層の膜厚は、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、ＳＴＥＭの倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
凹凸層上には、オーバーコート層を有し、オーバーコート層の表面を前記凹凸面とすることが好ましい。凹凸層上にオーバーコート層を形成することにより、凹凸層の溝が部分的に埋まり、条件１−２を満たしやすくすることができる。
上記の観点から、オーバーコート層中には平均粒子径２００ｎｍ以上の粒子を実質的に含有しないことが好ましい。具体的には、オーバーコート層の全固形分に占める平均粒子径２００ｎｍ以上の粒子が１．０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、０質量％であることがさらに好ましい。
また、上記の観点から、オーバーコート層の厚みは、３０〜３５０ｎｍであることが好ましく、１３０〜３００ｎｍであることがより好ましく、１５０〜２５０ｎｍであることがさらに好ましい。
オーバーコート層の膜厚は、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、ＳＴＥＭの倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
オーバーコート層は、樹脂成分及び溶剤、並びに必要に応じて添加する機能性材料を含有してなるオーバーコート層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法により基材上に塗布、乾燥、硬化することにより形成できる。必要に応じて添加する機能性材料としては、低屈折率剤、防汚剤及び帯電防止剤等が挙げられる。
なお、オーバーコート層を形成する段階では、凹凸層の熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物を半硬化の状態としておくことが好ましい。かかるステップでオーバーコート層を形成することにより、凹凸層とオーバーコート層との密着性を良好にすることができる。
なお、オーバーコート層を形成する段階では、凹凸層の熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物を半硬化の状態としておくことが好ましい。かかるステップでオーバーコート層を形成することにより、凹凸層とオーバーコート層との密着性を良好にすることができる。
ここで、条件１−１及び条件１−２を満たしやすくする観点から、オーバーコート層形成塗布液の固形分は、１．５〜５．０質量％とすることが好ましく、２．０〜３．０質量％とすることがより好ましく、２．２〜２．７質量％とすることがさらに好ましい。オーバーコート層形成塗布液の固形分を前述した範囲とすることにより、凹凸層の凸部分へのオーバーコート層の固形分付着量が少ない一方で、凹凸層の溝部分（特に、急峻な山の周囲の溝部分）へのオーバーコート層の固形分付着量が多くなり、条件１−１及び条件１−２を満たしやすくできる。また、凹凸層の溝部分（特に、急峻な山の周囲の溝部分）へのオーバーコート層の固形分付着量を多くすることにより、タッチパネルペンの摩耗を抑制することができる。
なお、凹凸層の表面に均等にオーバーコート層の固形分が付着した場合、凹凸層が全体的に滑らかとなり、書き味が低下する傾向にある。つまり、オーバーコート層形成塗布液の固形分を上記範囲とすることは、書き味の低下の抑制にもつながる点で好ましい。
なお、凹凸層の表面に均等にオーバーコート層の固形分が付着した場合、凹凸層が全体的に滑らかとなり、書き味が低下する傾向にある。つまり、オーバーコート層形成塗布液の固形分を上記範囲とすることは、書き味の低下の抑制にもつながる点で好ましい。
オーバーコート層の樹脂成分は、上述した凹凸層の樹脂成分と同様のものを用いることができる。
オーバーコート層形成塗布液の溶剤は、凹凸層形成塗布液で例示したものと同様のものを使用することができる。
オーバーコート層形成塗布液の溶剤の乾燥が遅すぎる場合、オーバーコート層形成塗布液が凹凸層の溝部分に過度に流れ込み、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすい表面形状を形成しづらくなる。したがって、溶剤としては、蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１５０以上である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、８０質量％以上含むことがさらに好ましい。相対蒸発速度が１５０以上の溶剤としては、メチルイソブチルケトンが挙げられる。メチルイソブチルケトンの相対蒸発速度は１６０である。
オーバーコート層形成塗布液の溶剤の乾燥が遅すぎる場合、オーバーコート層形成塗布液が凹凸層の溝部分に過度に流れ込み、条件１−１及び条件１−２等を満たしやすい表面形状を形成しづらくなる。したがって、溶剤としては、蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１５０以上である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、８０質量％以上含むことがさらに好ましい。相対蒸発速度が１５０以上の溶剤としては、メチルイソブチルケトンが挙げられる。メチルイソブチルケトンの相対蒸発速度は１６０である。
オーバーコート層は、屈折率が１．４５以下であることが好ましく、１．２６〜１．４０であることがより好ましく、１．２８〜１．３８であることがさらに好ましい。オーバーコート層の屈折率を前述の範囲として、オーバーコート層の表面を前記凹凸面とすることにより、筆記シート表面の反射を抑制することができる。筆記シートの表面が条件１−１を満たす場合、反射光の拡散によって筆記シートの白さが増加する傾向にあるが、屈折率が１．４５以下のオーバーコート層を形成することにより、書き味が良好でありながら、筆記シートの白さを抑制することができる。
オーバーコート層の屈折率を１．４５以下とするには、オーバーコート層中に低屈折率剤を含有させることが好ましい。
オーバーコート層の屈折率は、例えば、反射光度計により測定した反射スペクトルと、フレネル係数を用いた多層薄膜の光学モデルから算出した反射スペクトルとのフィッティングにより算出することができる。本明細書において、屈折率とは波長５５０ｎｍにおける屈折率のことをいう。
オーバーコート層の屈折率を１．４５以下とするには、オーバーコート層中に低屈折率剤を含有させることが好ましい。
オーバーコート層の屈折率は、例えば、反射光度計により測定した反射スペクトルと、フレネル係数を用いた多層薄膜の光学モデルから算出した反射スペクトルとのフィッティングにより算出することができる。本明細書において、屈折率とは波長５５０ｎｍにおける屈折率のことをいう。
低屈折率剤としては、シリカ、フッ化マグネシウム等が挙げられる。また、屈折率を低下させる観点から、多孔質の低屈折率剤、中空の低屈折率剤が好適である。低屈折率剤としては、多孔質シリカ、中空シリカが好適であり、オーバーコート層形成塗布液中での分散性を良好にするため、疎水化処理した多孔質シリカ、中空シリカがより好適である。
低屈折率剤の含有量は、屈折率及び塗膜強度のバランスの観点から、オーバーコート層の全固形文中の２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましく、４０〜５０質量％であることがさらに好ましい。
低屈折率剤が粒子形状の場合、その平均一次粒子径は、２００ｎｍ未満であることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましく、２０〜８０ｎｍであることがさらに好ましい。
低屈折率剤の含有量は、屈折率及び塗膜強度のバランスの観点から、オーバーコート層の全固形文中の２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましく、４０〜５０質量％であることがさらに好ましい。
低屈折率剤が粒子形状の場合、その平均一次粒子径は、２００ｎｍ未満であることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましく、２０〜８０ｎｍであることがさらに好ましい。
粒子状の低屈折率剤の平均一次粒子径は、以下の（ｚ１）〜（ｚ３）の作業により算出できる。
（ｚ１）筆記シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
（ｚ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（ｚ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子状の低屈折率剤の平均一次粒子径とする。
（ｚ１）筆記シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
（ｚ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（ｚ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子状の低屈折率剤の平均一次粒子径とする。
オーバーコート層中には防汚剤を含有することが好ましい。オーバーコート層中に防汚剤を含有することにより、汚れの付着性を抑制しやすくできるとともに、表面に付着した汚れの拭取り性を良好にしやすくでき、さらには、指で触れた際の触感を良好にしやすくできる。また、オーバーコート層中に防汚剤を含有することにより、耐摩耗性を良好にしやすくでき、タッチパネルペンの摩耗も抑制しやすくできる。
防汚剤としては、フッ素含有化合物、ポリオルガノシロキサン、分子内にフッ素を含むポリオルガノシロキサンが挙げられる。汚れの付着の抑制及び汚れの拭取り性の観点からはフッ素含有化合物が好ましく、触感（滑り性）及びタッチパネルペンの磨耗抑制の観点からはポリオルガノシロキサンが好ましい。また、分子内にフッ素を含むポリオルガノシロキサンは、汚れの付着の抑制、汚れの拭取り性、触感及びタッチパネルペンの磨耗抑制に優れる点で好適である。
分子内にフッ素を含むポリオルガノシロキサンは、シロキサン結合を有する構造を基本骨格として、該シロキサン結合の側鎖にフッ素を含む有機基を有する構造を有することが好ましい。また、フッ素は、汚れの付着の抑制及び汚れの拭取り性の観点から、パーフルオロポリエーテル基として有機基に含まれていることが好ましい。
また、防汚剤は、防汚剤の特性を長期間維持するために、分子内に電離放射線硬化性官能基を有することが好ましい。
分子内にフッ素を含むポリオルガノシロキサンは、シロキサン結合を有する構造を基本骨格として、該シロキサン結合の側鎖にフッ素を含む有機基を有する構造を有することが好ましい。また、フッ素は、汚れの付着の抑制及び汚れの拭取り性の観点から、パーフルオロポリエーテル基として有機基に含まれていることが好ましい。
また、防汚剤は、防汚剤の特性を長期間維持するために、分子内に電離放射線硬化性官能基を有することが好ましい。
最も好ましい防汚剤は、分子内にフッ素及び電離放射線硬化性官能基を含むポリオルガノシロキサンである。該防汚剤の構造は、シロキサン結合を有する構造を基本骨格として、該シロキサン結合の側鎖に二以上の有機基を有し、少なくとも一つの有機基の中にパーフルオロポリエーテル基を有し、かつ、少なくとも一つの有機基の中に電離放射線硬化性官能基を有する構造であることが好ましい。パーフルオロポリエーテル基を含む有機基と、電離放射線硬化性官能基を有する有機基とは別の有機基であることが好ましい。
防汚剤の含有量は、防汚剤による特性の付与及び塗膜強度のバランスの観点から、オーバーコート層の全固形文中の０．２５〜１５質量％であることが好ましく、1〜１０質量％であることがより好ましく、２．５〜７質量％であることがさらに好ましい。
＜基材＞
基材としては、光透過性を有するプラスチックフィルムが好適である。
光透過性を有するプラスチックフィルムは、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂から形成することができる。
これらプラスチックフィルムの中でも、機械的強度、寸法安定性及び上記物性（ｆ）を満たしやすくする観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムの中では、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が好ましい。
基材の厚みは、５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。
基材には凹凸層等の密着性を向上させるために易接着層が形成されていてもよい。なお、界面反射を抑制するため、基材と易接着層との屈折率差は０．１５以内とすることが好ましく、０．１０以内とすることがより好ましい。
基材としては、光透過性を有するプラスチックフィルムが好適である。
光透過性を有するプラスチックフィルムは、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂から形成することができる。
これらプラスチックフィルムの中でも、機械的強度、寸法安定性及び上記物性（ｆ）を満たしやすくする観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムの中では、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が好ましい。
基材の厚みは、５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。
基材には凹凸層等の密着性を向上させるために易接着層が形成されていてもよい。なお、界面反射を抑制するため、基材と易接着層との屈折率差は０．１５以内とすることが好ましく、０．１０以内とすることがより好ましい。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、表面にシートを有するタッチパネルであって、前記シートとして、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの前記凹凸面（条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面）がタッチパネルの表面を向くように配置してなるものである。
本発明のタッチパネルは、表面にシートを有するタッチパネルであって、前記シートとして、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの前記凹凸面（条件１−１及び条件１−２を満たす凹凸面）がタッチパネルの表面を向くように配置してなるものである。
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、インセルタッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。
抵抗膜式タッチパネル１００は、図８に示すように、導電膜３００を有する上下一対の透明基板２００の導電膜３００同士が対向するようにスペーサー４００を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板２００として本発明の筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の前記凹凸面がタッチパネル１０００の表面を向くようにして用いる。なお、上部透明基板２００は、筆記シートに別の基材を貼り合わせた構成であってもよい。
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、図９に示すように、透明基板２００上にＸ軸電極５００を形成し、別の透明基板２００上にＹ軸電極６００を形成し、接着剤層等の絶縁体層７００を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、表面側の透明基板２００として本発明の筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の前記凹凸面がタッチパネル１０００の表面を向くようにして用いる。なお、表面側の透明基板２００は、筆記シートに別の基材を貼り合わせた構成であってもよい。
静電容量式タッチパネルの場合、表面側の透明基板２００として本発明の筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の前記凹凸面がタッチパネル１０００の表面を向くようにして用いる。なお、表面側の透明基板２００は、筆記シートに別の基材を貼り合わせた構成であってもよい。
電磁誘導式タッチパネルは、磁界を発生する専用ペンを用いるタッチパネルである。電磁誘導式タッチパネルは、ペンから生じる電磁エネルギーを検出するセンサー部を少なくとも有し、さらにセンサー部上に透明基板を有する。該透明基板は多層構成であってもよい。電磁誘導式タッチパネルの場合、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板として、本発明の筆記シートを用い、該筆記シートの前記凹凸面がタッチパネルの表面を向くようにして用いる。
インセルタッチパネルは、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。
インセルタッチパネルの場合、表面側のガラス基板上に、本発明の筆記シートの前記凹凸面がタッチパネルの表面を向くように配置して用いる。なお、インセルタッチパネルの表面側のガラス基板と、本発明の筆記シートとの間には、偏光板等の他の層を有していてもよい。
インセルタッチパネルの場合、表面側のガラス基板上に、本発明の筆記シートの前記凹凸面がタッチパネルの表面を向くように配置して用いる。なお、インセルタッチパネルの表面側のガラス基板と、本発明の筆記シートとの間には、偏光板等の他の層を有していてもよい。
［タッチパネル付きの表示装置］
本発明のタッチパネル付きの表示装置は、表示素子上にタッチパネルを有する表示装置であって、前記タッチパネルが本発明のタッチパネルであるものである。
本発明のタッチパネル付きの表示装置は、表示素子上にタッチパネルを有する表示装置であって、前記タッチパネルが本発明のタッチパネルであるものである。
表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子の場合、これらの表示素子上に本発明のタッチパネルを載置する。
［タッチパネルペン用筆記シートの選別方法］
本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たすものをタッチパネル用筆記シートとして選別するものである。
本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たすものをタッチパネル用筆記シートとして選別するものである。
＜条件１−１＞
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
＜条件１−２＞
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法によれば、書き味及び耐磨耗性が良好なタッチパネルペン用筆記シートを正確に選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。
筆記シートを選別する条件は、（１−１）４．５度≦α１５であること、（１−２）α１５／α７５≦４．５であることを必須条件とする。
選別条件（１−１）のα１５、及び、選別条件（１−２）のα１５／α７５の好適な範囲は、本発明の筆記シートで示した好適な範囲と同様である。
選別条件（１−１）のα１５、及び、選別条件（１−２）のα１５／α７５の好適な範囲は、本発明の筆記シートで示した好適な範囲と同様である。
また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、書き味及び耐磨耗性が良好なタッチパネルペン用筆記シートをより正確に選別する観点等から、以下に挙げる（１−３）、（１−４）、（２−１）、（２−２）、（３−１）及び（３−２）の群から選ばれる一以上を追加の選別条件とすることが好ましい。追加の選別条件は、前記群の二以上とすることがより好ましく、四以上とすることがさらに好ましく、全部とすることがよりさらに好ましい。
＜条件１−３＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ１５とする。
前記条件１−２において測定した「サンプルの法線から＋７５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ７５とする。
Ｓ１５とＳ７５とが、Ｓ１５／Ｓ７５≦４．５の関係を示す。
＜条件１−４＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。前記条件１−１において設定した基準角度（０度）に対して、−１２度の規格化した反射強度と、＋１２度の規格化した反射強度との平均値をＰ１２とする。
Ｐ１２が、１０．０≦Ｐ１２の関係を示す。
＜条件２−１＞
筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２５．０％以上
＜条件２−２＞
筆記シートのＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が８７．０％以上
＜条件３−１＞
前記凹凸面の純水の接触角が９４度以上。
＜条件３−２＞
前記凹凸面のヘキサデカンの接触角が４０度以上。
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ１５とする。
前記条件１−２において測定した「サンプルの法線から＋７５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。規格化した各角度の反射強度の総和をＳ７５とする。
Ｓ１５とＳ７５とが、Ｓ１５／Ｓ７５≦４．５の関係を示す。
＜条件１−４＞
前記条件１−１において測定した「サンプルの法線から＋１５度の角度で照射した可視光線の反射強度」の最大値を１００として、各角度の反射強度を規格化する。前記条件１−１において設定した基準角度（０度）に対して、−１２度の規格化した反射強度と、＋１２度の規格化した反射強度との平均値をＰ１２とする。
Ｐ１２が、１０．０≦Ｐ１２の関係を示す。
＜条件２−１＞
筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２５．０％以上
＜条件２−２＞
筆記シートのＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が８７．０％以上
＜条件３−１＞
前記凹凸面の純水の接触角が９４度以上。
＜条件３−２＞
前記凹凸面のヘキサデカンの接触角が４０度以上。
追加の選別条件の好適な範囲は、本発明の筆記シートで示した好適な範囲と同様である。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。
１．測定及び評価
実験例で作製又は準備したタッチパネルペン用筆記シートについて、以下の測定及び評価を行った。
実験例で作製又は準備したタッチパネルペン用筆記シートについて、以下の測定及び評価を行った。
１−１．反射強度
タッチパネル用筆記シートの凹凸面とは反対側の面（基材側の面）に、東レ社製の光学透明粘着シート（屈折率：１．４７、厚み１００μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス 品番 ：ＤＦＡ５０２Ｋ、厚み２．０ｍｍ）を貼り合わせたサンプルを作製した。
サンプルの凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定した。反射強度の測定では、可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定した。
さらに、サンプルの凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定した。反射強度の測定では、可視光線の正反射方向である法線から−７５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定した。
上記の測定結果に基づき、明細書本文の記載に基づき、条件１−１〜１−４に関する数値を算出した。結果を表１に示す。
タッチパネル用筆記シートの凹凸面とは反対側の面（基材側の面）に、東レ社製の光学透明粘着シート（屈折率：１．４７、厚み１００μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス 品番 ：ＤＦＡ５０２Ｋ、厚み２．０ｍｍ）を貼り合わせたサンプルを作製した。
サンプルの凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定した。反射強度の測定では、可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定した。
さらに、サンプルの凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定した。反射強度の測定では、可視光線の正反射方向である法線から−７５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定した。
上記の測定結果に基づき、明細書本文の記載に基づき、条件１−１〜１−４に関する数値を算出した。結果を表１に示す。
１−２．ヘイズ、全光線透過率
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ヘイズ（ＪＩＳ Ｋ−７１３６：２０００）、及び全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）を測定した。光入射面は基材側とした。結果を表１に示す。
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ヘイズ（ＪＩＳ Ｋ−７１３６：２０００）、及び全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）を測定した。光入射面は基材側とした。結果を表１に示す。
１−３．接触角
凹凸面に１．５μＬの試料（純水又はヘキサデカン）を滴下し、着滴１秒後に、θ／２法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、凹凸面に対する角度から試料（純水又はヘキサデカン）の接触角を算出した。接触角は５回測定した平均値とした。また、接触角を測定する際の室内温度は２０℃とした。光入射面は基材側とした。結果を表１に示す。
凹凸面に１．５μＬの試料（純水又はヘキサデカン）を滴下し、着滴１秒後に、θ／２法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、凹凸面に対する角度から試料（純水又はヘキサデカン）の接触角を算出した。接触角は５回測定した平均値とした。また、接触角を測定する際の室内温度は２０℃とした。光入射面は基材側とした。結果を表１に示す。
１−４．表面形状
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、下記の測定項目について、タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の表面形状を測定した。結果を表１に示す。
＜測定条件＞
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
・評価長さ：４ｍｍ
・予備長さ：０．８ｍｍ
＜測定項目＞
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ
・カットオフ値０．８ｍｍの平均傾斜角θａ
・カットオフ値０．８ｍｍの平均波長λａ
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の凹凸の平均間隔Ｓｍ
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、下記の測定項目について、タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の表面形状を測定した。結果を表１に示す。
＜測定条件＞
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・触針の送り速さ：０．１ｍｍ／ｓ
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
・評価長さ：４ｍｍ
・予備長さ：０．８ｍｍ
＜測定項目＞
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａ
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の十点平均粗さＲｚ
・カットオフ値０．８ｍｍの平均傾斜角θａ
・カットオフ値０．８ｍｍの平均波長λａ
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の凹凸の平均間隔Ｓｍ
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ
１−５．書き味
タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の面と反対側の面をガラス板に貼り合わせ、タッチパネルペン（キングジム社製、商品名「ＢＢ−２付属ペン」）を用いて書き味を評価した。
書き味が良好であるものを２点、普通であるものを１点、良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものを「Ａ」、１．０以上１．６点未満のものを「Ｂ」、１．０点未満のものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の面と反対側の面をガラス板に貼り合わせ、タッチパネルペン（キングジム社製、商品名「ＢＢ−２付属ペン」）を用いて書き味を評価した。
書き味が良好であるものを２点、普通であるものを１点、良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものを「Ａ」、１．０以上１．６点未満のものを「Ｂ」、１．０点未満のものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
１−６．耐摩耗性
筆記シートの凹凸面に対し、日本スチールウール社製のスチールウール（商品名：ボンスターＢ−２０４、等級：＃００００」を用いて、２つの荷重条件（３００ｇ／ｍ２、４００ｇ／ｍ２）でラビング試験を１０往復回実施し、粒子の脱落に伴う塗膜の白化が生じているか否かを目視で評価した。荷重４００ｇ／ｍ２でも白化が生じないものを「Ａ」、荷重３００ｇ／ｍ２では白化が生じないが荷重４００ｇ／ｍ２で白化が生じたものを「Ｂ」、荷重３００ｇ／ｍ２で白化が生じたものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
筆記シートの凹凸面に対し、日本スチールウール社製のスチールウール（商品名：ボンスターＢ−２０４、等級：＃００００」を用いて、２つの荷重条件（３００ｇ／ｍ２、４００ｇ／ｍ２）でラビング試験を１０往復回実施し、粒子の脱落に伴う塗膜の白化が生じているか否かを目視で評価した。荷重４００ｇ／ｍ２でも白化が生じないものを「Ａ」、荷重３００ｇ／ｍ２では白化が生じないが荷重４００ｇ／ｍ２で白化が生じたものを「Ｂ」、荷重３００ｇ／ｍ２で白化が生じたものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
１−７．ペンの磨耗
図１０に示すように、タッチパネルペン用筆記シート１０の凹凸層側の表面に、タッチパネルペン（キングジム社製、商品名「ＢＢ−２付属ペン」）５１を６０度の角度で接触させ、保持具５４で固定した。保持具上部の土台５５に１００ｇの重り５３を乗せ、タッチパネルペン５１に垂直荷重１００ｇｆがかかるようにした。荷重をかけたまま、筆記シート１０を固定した可動台５２を１４ｍｍ／秒の速度で、片道４０ｍｍの長さを往復移動する動作を５０回繰り返す動作を１サイクルとして、最大４サイクル繰り返した。
各サイクル完了後に、タッチパネルペンのペン先の磨耗が目視で容易に確認できるか否かを確認した。その結果、４サイクル完了後でも摩耗が確認できないものを「Ａ」、３サイクル完了後では摩耗が確認できないが、４サイクル完了後に摩耗が確認できたものを「Ｂ」、１〜３サイクル完了後に摩耗が確認できたものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
測定装置は新東科学社製の商品名「ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ」を用い、モードは「一定荷重往復の摩擦測定モード」とし、評価時の温度は２３℃とした。
図１０に示すように、タッチパネルペン用筆記シート１０の凹凸層側の表面に、タッチパネルペン（キングジム社製、商品名「ＢＢ−２付属ペン」）５１を６０度の角度で接触させ、保持具５４で固定した。保持具上部の土台５５に１００ｇの重り５３を乗せ、タッチパネルペン５１に垂直荷重１００ｇｆがかかるようにした。荷重をかけたまま、筆記シート１０を固定した可動台５２を１４ｍｍ／秒の速度で、片道４０ｍｍの長さを往復移動する動作を５０回繰り返す動作を１サイクルとして、最大４サイクル繰り返した。
各サイクル完了後に、タッチパネルペンのペン先の磨耗が目視で容易に確認できるか否かを確認した。その結果、４サイクル完了後でも摩耗が確認できないものを「Ａ」、３サイクル完了後では摩耗が確認できないが、４サイクル完了後に摩耗が確認できたものを「Ｂ」、１〜３サイクル完了後に摩耗が確認できたものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
測定装置は新東科学社製の商品名「ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ」を用い、モードは「一定荷重往復の摩擦測定モード」とし、評価時の温度は２３℃とした。
１−８．触感（滑り性）
タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の面に指の腹を押し当て、上下左右に動かす動作を行った。
触感（滑り性）が良好であるものを２点、普通であるものを１点、良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものを「Ａ」、１．０以上１．６点未満のものを「Ｂ」、１．０点未満のものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の面に指の腹を押し当て、上下左右に動かす動作を行った。
触感（滑り性）が良好であるものを２点、普通であるものを１点、良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものを「Ａ」、１．０以上１．６点未満のものを「Ｂ」、１．０点未満のものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
１−９．指紋の付着性、指紋の拭き取り性
タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の面に指の腹を押し当て、指紋の付着性を目視で評価した。指紋が付着しにくいものを「Ａ」、指紋が付着しやすいものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
また、不織布（旭化成社製、商品名：ベンコットン）を用いて、付着した指紋を拭取り、指紋の跡が見えなくなるまでの回数を評価した。３回までの拭取りで指紋が見えなくなるものを「Ａ」、４〜７回の拭取りで指紋が見えなくなるものを「Ｂ」、７回拭取っても指紋が見えるものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
タッチパネルペン用筆記シートの凹凸層側の面に指の腹を押し当て、指紋の付着性を目視で評価した。指紋が付着しにくいものを「Ａ」、指紋が付着しやすいものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
また、不織布（旭化成社製、商品名：ベンコットン）を用いて、付着した指紋を拭取り、指紋の跡が見えなくなるまでの回数を評価した。３回までの拭取りで指紋が見えなくなるものを「Ａ」、４〜７回の拭取りで指紋が見えなくなるものを「Ｂ」、７回拭取っても指紋が見えるものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
１−１０．ギラツキ
タッチパネルペン用筆記シートを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置して、ギラツキの状態を目視で評価した。ギラツキが目視で視認できないレベルであるものを２点、ギラツキが僅かに観察されるが気にならないものを１点、ギラツキがひどく観察されるものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものを「Ａ」、１．０以上１．６点未満のものを「Ｂ」、１．０点未満のものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
タッチパネルペン用筆記シートを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置して、ギラツキの状態を目視で評価した。ギラツキが目視で視認できないレベルであるものを２点、ギラツキが僅かに観察されるが気にならないものを１点、ギラツキがひどく観察されるものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものを「Ａ」、１．０以上１．６点未満のものを「Ｂ」、１．０点未満のものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
１−１１．白化
照度１０００Ｌｘの明室環境下にて、上記サンプルの凹凸面側に対して３０Ｗの三波長蛍光灯で４５度の角度から照射し、白化の状態を目視で評価した。１５人の被験者が評価を行い、１０人以上が良好（白くない）と回答したものを「Ａ」、５〜９人が良好と回答したものを「Ｂ」、４人以下が良好と回答したものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
照度１０００Ｌｘの明室環境下にて、上記サンプルの凹凸面側に対して３０Ｗの三波長蛍光灯で４５度の角度から照射し、白化の状態を目視で評価した。１５人の被験者が評価を行い、１０人以上が良好（白くない）と回答したものを「Ａ」、５〜９人が良好と回答したものを「Ｂ」、４人以下が良好と回答したものを「Ｃ」とした。結果を表１に示す。
２．タッチパネルペン用筆記シートの作製
［実施例１］
基材として厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率１．６５のＰＥＴフィルムの両面に屈折率１．５５の易接着層が形成された基材）を用い、該基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液１を乾燥後の厚みが４μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成した。
次いで、凹凸層上に、下記処方のオーバーコート層形成塗布液２を乾燥後の厚みが２００ｎｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、オーバーコート層（屈折率１．３７）を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。なお、凹凸層を形成する段階では凹凸層の電離放射線硬化性樹脂組成物は半硬化の状態とし、その後、オーバーコート層を形成する段階で、凹凸層及びオーバーコート層の電離放射線硬化性樹脂組成物を完全硬化させた。
［実施例１］
基材として厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率１．６５のＰＥＴフィルムの両面に屈折率１．５５の易接着層が形成された基材）を用い、該基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液１を乾燥後の厚みが４μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成した。
次いで、凹凸層上に、下記処方のオーバーコート層形成塗布液２を乾燥後の厚みが２００ｎｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、オーバーコート層（屈折率１．３７）を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。なお、凹凸層を形成する段階では凹凸層の電離放射線硬化性樹脂組成物は半硬化の状態とし、その後、オーバーコート層を形成する段階で、凹凸層及びオーバーコート層の電離放射線硬化性樹脂組成物を完全硬化させた。
＜凹凸層形成塗布液１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部
・有機粒子 ２部
（球状ポリスチレン粒子、平均粒子径５．０μｍ）
・無機粒子 １５部
（疎水化処理された不定形シリカ、平均粒子径４．０μｍ）
・光重合開始剤 ３．５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤 ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（トルエン） １２０部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ５０部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部
・有機粒子 ２部
（球状ポリスチレン粒子、平均粒子径５．０μｍ）
・無機粒子 １５部
（疎水化処理された不定形シリカ、平均粒子径４．０μｍ）
・光重合開始剤 ３．５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤 ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（トルエン） １２０部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ５０部
＜オーバーコート層形成塗布液２＞
・多官能アクリレート
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０） １００部
・中空シリカ粒子 ９０部
（平均一次粒子径６０ｎｍ）
・下記の防汚剤Ａ ５部
・光重合開始剤 ７部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ７５００部
・溶剤２ ８３０部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・多官能アクリレート
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０） １００部
・中空シリカ粒子 ９０部
（平均一次粒子径６０ｎｍ）
・下記の防汚剤Ａ ５部
・光重合開始剤 ７部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ７５００部
・溶剤２ ８３０部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
＜防汚剤Ａ＞
特開２０１０−５３１１４号公報の実施例１に準拠して製造した化合物（シロキサン結合を有する構造を基本骨格として、該シロキサン結合の側鎖に二以上の有機基を有し、少なくとも一つの有機基の中にパーフルオロポリエーテル基を有し、かつ、少なくとも一つの有機基の中に電離放射線硬化性官能基を有する化合物）
特開２０１０−５３１１４号公報の実施例１に準拠して製造した化合物（シロキサン結合を有する構造を基本骨格として、該シロキサン結合の側鎖に二以上の有機基を有し、少なくとも一つの有機基の中にパーフルオロポリエーテル基を有し、かつ、少なくとも一つの有機基の中に電離放射線硬化性官能基を有する化合物）
［実施例２］
凹凸層の厚みを３μｍに変更し、オーバーコート層塗布液の防汚剤Ａの添加量を１０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルペン用筆記シートを得た。
凹凸層の厚みを３μｍに変更し、オーバーコート層塗布液の防汚剤Ａの添加量を１０部に変更した以外は、実施例１と同様にしてタッチパネルペン用筆記シートを得た。
［比較例１］
実施例１と同様の基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液３を乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
実施例１と同様の基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液３を乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
＜凹凸層形成塗布液３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・有機粒子 １３部
（球状ポリアクリル−スチレン共重合体、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ６部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １８０部
・溶剤２（アノン） ７０部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ２部
・溶剤４ ２８部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・有機粒子 １３部
（球状ポリアクリル−スチレン共重合体、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ６部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １８０部
・溶剤２（アノン） ７０部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ２部
・溶剤４ ２８部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
［比較例２］
実施例１と同様の基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液４を乾燥後の厚みが７μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
実施例１と同様の基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液４を乾燥後の厚みが７μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
＜凹凸層形成塗布液４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・有機粒子 １１部
（球状ポリスチレン、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１２５部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ２２５部
・溶剤２（アノン） ３部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ５０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ２８部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・有機粒子 １１部
（球状ポリスチレン、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１２５部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ２２５部
・溶剤２（アノン） ３部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ５０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ２８部
［比較例３］
実施例１と同様の基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液５を乾燥後の厚みが３μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
実施例１と同様の基材上に、下記処方の凹凸層形成塗布液５を乾燥後の厚みが３μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、凹凸層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
＜凹凸層形成塗布液５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部
・有機粒子 ２部
（球状ポリスチレン粒子、平均粒子径５．０μｍ）
・無機粒子 １５部
（疎水化処理された不定形シリカ、平均粒子径３．０μｍ）
・光重合開始剤 ３．５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤 ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（トルエン） １２０部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ５０部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部
・有機粒子 ２部
（球状ポリスチレン粒子、平均粒子径５．０μｍ）
・無機粒子 １５部
（疎水化処理された不定形シリカ、平均粒子径３．０μｍ）
・光重合開始剤 ３．５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤 ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（トルエン） １２０部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ５０部
表１に示すように、条件１−１及び条件１−２を満たす実施例１〜２の筆記シートは、書き味及び耐摩耗性を両立できるとともに、タッチパネルペンの磨耗抑制等のほかの性能にも優れるものであった。耐摩耗性及びタッチパネルペンの磨耗抑制についてより具体的に言及すると、実施例１の筆記シートは、主として条件１−２が最適範囲（α１５／α７５が１．３以下）であることにより、耐摩耗性及びタッチパネルペンの磨耗抑制が良好となっている。一方、実施例２の筆記シートは、条件１−２は最適範囲ではないが、実施例１に比べて、接触角が大きいことで、耐摩耗性及びタッチパネルペンの磨耗抑制が良好となっている。
一方、条件１−１を満たさない比較例１〜２の筆記シートは書き味に劣るものであった。また、比較例３の筆記シートは条件１−１を満たして書き味には優れるものの、条件１−２を満たさず、耐摩耗性に劣るものであった。なお、比較例１及び２の筆記シートは、条件１−２が最適範囲（α１５／α７５が１．３以下）ではないが、耐摩耗性及びタッチパネルペンの磨耗抑制が良好となっている。この理由は、比較例１及び２の筆記シートは、条件１−１の値が小さく、凹凸の程度が小さいためである。
一方、条件１−１を満たさない比較例１〜２の筆記シートは書き味に劣るものであった。また、比較例３の筆記シートは条件１−１を満たして書き味には優れるものの、条件１−２を満たさず、耐摩耗性に劣るものであった。なお、比較例１及び２の筆記シートは、条件１−２が最適範囲（α１５／α７５が１．３以下）ではないが、耐摩耗性及びタッチパネルペンの磨耗抑制が良好となっている。この理由は、比較例１及び２の筆記シートは、条件１−１の値が小さく、凹凸の程度が小さいためである。
また、表１の結果から、条件１−１及び条件１−２を満たす筆記シートを選別することは、書き味及び耐磨耗性に優れる筆記シートを効率よく選別できることにつながることが確認できる。
３．タッチパネルの作製
実施例１〜２及び比較例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートの凹凸面とは反対側の面（基材側の面）に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜２及び比較例１〜３の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
該タッチパネル上での書き味、耐摩耗性等の評価は、表１と同様であった。
実施例１〜２及び比較例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートの凹凸面とは反対側の面（基材側の面）に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜２及び比較例１〜３の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
該タッチパネル上での書き味、耐摩耗性等の評価は、表１と同様であった。
４．表示装置の作製
実施例１〜２及び比較例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤層を介して貼り合わせ、実施例１〜２及び比較例１〜３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、タッチパネルペン用筆記シートの凹凸面側が、表示装置の表面側（表示素子とは反対側）を向くようにした。
該表示装置での書き味、耐摩耗性等の評価は、表１と同様であった。
実施例１〜２及び比較例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤層を介して貼り合わせ、実施例１〜２及び比較例１〜３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、タッチパネルペン用筆記シートの凹凸面側が、表示装置の表面側（表示素子とは反対側）を向くようにした。
該表示装置での書き味、耐摩耗性等の評価は、表１と同様であった。
本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置は、書き味及び耐摩耗性を良好にすることができる点で有用である。また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、書き味及び耐磨耗性が良好なタッチパネルペン用筆記シートを正確に選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくできる点で有用である。
１：基材
２：凹凸層
３：オーバーコート層
１０：タッチパネルペン用筆記シート
２０：透明粘着剤層
３０：黒色板
１００：サンプル
２００：透明基板
３００：導電膜
４００：スペーサー
５００：Ｘ軸電極
６００：Ｙ軸電極
７００：絶縁体層
１０００：タッチパネル
２：凹凸層
３：オーバーコート層
１０：タッチパネルペン用筆記シート
２０：透明粘着剤層
３０：黒色板
１００：サンプル
２００：透明基板
３００：導電膜
４００：スペーサー
５００：Ｘ軸電極
６００：Ｙ軸電極
７００：絶縁体層
１０００：タッチパネル
Claims (8)
- 少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が電離性放射性樹脂組成物の硬化物を含み、かつ前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たす、タッチパネル用筆記シート。
＜条件１−１＞
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
＜条件１−２＞
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。 - ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２５．０％以上である請求項１に記載のタッチパネル用筆記シート。
- 前記凹凸面の純水の接触角が９４度以上である請求項１又は２に記載のタッチパネル用筆記シート。
- 前記凹凸面のヘキサデカンの接触角が４０度以上である請求項１〜３の何れか１項に記載のタッチパネル用筆記シート。
- 表面に屈折率１．４５以下のオーバーコート層を有し、前記オーバーコート層側の表面が前記凹凸面である請求項１〜４の何れか１項に記載のタッチパネル用筆記シート。
- 表面にシートを有するタッチパネルであって、前記シートとして、請求項１〜５の何れか１項に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記凹凸面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
- 表示素子上にタッチパネルを有する表示装置であって、前記タッチパネルが請求項６に記載のタッチパネルである、タッチパネル付きの表示装置。
- 少なくとも一方の表面が凹凸面であり、前記凹凸面が電離性放射性樹脂組成物の硬化物を含み、かつ前記凹凸面が下記条件１−１及び条件１−２を満たすものをタッチパネル用筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
＜条件１−１＞
前記タッチパネル用筆記シートの前記凹凸面とは反対側の面に、透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋１５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−１５度の方向を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の方向の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α１５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α１５とする。−α１５の絶対値と、＋α１５との平均をα１５とした際に、４．５度≦α１５の関係を示す。
＜条件１−２＞
前記サンプルの前記凹凸面側に向けて、法線から＋７５度の角度で可視光線を照射し、反射光の反射強度を測定する。反射強度の測定では、前記可視光線の正反射方向である法線から−７５度の角度を基準角度（０度）として、基準角度を含む−１２度〜＋１２度の範囲の反射強度を１度ごとに測定する。基準角度からプラス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を＋α７５、基準角度からマイナス方向側の角度であって、基準角度の反射強度の１／２以下の反射強度に最初に到達する角度を−α７５とする。−α７５の絶対値と、＋α７５との平均をα７５とした際に、α７５と前記α１５とが、α１５／α７５≦４．５の関係を示す。
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