JP7095761B2 - タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、タッチパネルシステム及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法 - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、タッチパネルシステム及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法に関する。

近年、タッチパネルは多くの携帯情報端末に搭載されるようになったこともあり、流通量が増加している。タッチパネルの表面には、種々の目的のために表面保護シートが貼着される場合がある。

従来主流であった抵抗膜式タッチパネルは、指やペンで繰り返し打点するような操作を行うことから、表面保護シートには高度な耐擦傷性が求められていた。
一方、現在の主流である静電容量式タッチパネルの表面保護シートには、指で操作する際の滑り性が求められている。従来の抵抗膜式は、複数個所を同時に検知できないため、画面上で指を動かすことはなかったものの、静電容量式タッチパネルは、複数個所を同時に検知可能であり、画面上で指を動かす操作が多いためである。
また、抵抗膜式及び静電容量式に共通して、タッチパネル用の表面保護シートには、指で操作した際の指紋の付着を防止したり、付着した指紋を拭取りやすくする性能が求められている。

上記のようなタッチパネル用の表面保護シートとしては、例えば、特許文献１～２が提案されている。

特開２０１５－１１４９３９号公報 特開２０１４－１０９７１２号公報

静電容量式タッチパネルは、静電容量の変化を計測して触れた箇所を認識することから、接触物には一定の導電性が必要である。このため、静電容量式タッチパネルの出現当初は、指での操作性のみが検討されており、タッチパネルペンにより文字や絵を描くなどの筆記性は検討されていなかった。抵抗膜式パッチパネルにおいても、タッチパネルペンを用いた際の操作は打点が主流であり、文字や絵を描く際の筆記性は重視されていなかった。
しかし、近年、静電容量式タッチパネルや電磁誘導型タッチパネルに筆記入力可能なタッチパネルペンが提案され始めたこと、タッチパネルペンによる文字入力や描画に対応したアプリケーションが増加してきたことから、タッチパネル用の表面保護シートには、タッチパネルペンでの良好な筆記感が求められている。
しかし、従来提案された特許文献１～２のタッチパネル用の表面保護シートは、タッチパネルペンでの筆記感について何ら検討していない。

本発明は、筆記感を良好にし得るタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決すべく、本発明は、以下の［１］～［１４］のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、タッチパネルシステム及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法を提供する。

［１］下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大谷深さＲｖ_０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５が、下記条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面を有する、タッチパネルペン用筆記シート。
０．３５≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６０ （Ａ１）
０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．３０ｍｍ（Ａ２）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ以下であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）
［２］表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、上記［１］に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
［３］タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが上記［２］に記載のタッチパネルである表示装置。
［４］カットオフ値０．８ｍｍＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大谷深さＲｖ_０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５が、下記条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面を有するシートを、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
０．３５≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６０ （Ａ１）
０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．３０ｍｍ （Ａ２）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ以下であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）

［５］下記のタッチパネルペン（Ｂ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ_０．８、並びに、測定区間１ｍｍにおける断面曲線のスキューネスＰｓｋが、下記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす表面を有し、かつ該筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｂ３）を満たす、タッチパネルペン用筆記シート。
０．５０＜Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７５ （Ｂ１）
０．６０≦Ｐｓｋ （Ｂ２）
ヘイズが５．０％以上 （Ｂ３）
＜タッチパネルペン（Ｂ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）
［６］表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、上記［１］に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
［７］タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが上記［６］に記載のタッチパネルである表示装置。
［８］カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ_０．８、並びに、測定区間１ｍｍにおける断面曲線のスキューネスＰｓｋが、下記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす表面を有し、
かつＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｂ３）を満たすシートを、下記のタッチパネルペン（Ｂ）用の筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
０．５０＜Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７５ （Ｂ１）
０．６０≦Ｐｓｋ （Ｂ２）
ヘイズが５．０％以上 （Ｂ３）
＜タッチパネルペン（Ｂ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）

［９］下記条件（Ｃ１）を満たすものをタッチパネルペン用筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
＜条件（Ｃ１）＞
タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。
［１０］前記μｋが下記条件（Ｃ２）を満たすものをタッチパネルペン用筆記シートとして選別する、請求項１２に記載のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
＜条件（Ｃ２）＞
０．０６≦μｋ≦０．３０
［１１］下記条件（Ｃ１）を満たす表面を有するタッチパネルペン用筆記シート。
＜条件（Ｃ１）＞
タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。
［１２］表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、上記［１１］に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記条件（Ｃ１）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
［１３］表面にタッチパネルペン用筆記シートを有するタッチパネルと、タッチパネルペンとからなるタッチパネルシステムであって、下記条件（Ｃ１）を満たすタッチパネルシステム。
＜条件（Ｃ１）＞
タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。
［１４］タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが上記［１２］に記載のタッチパネルである表示装置。

本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、タッチパネルシステム及び表示装置は筆記感を良好にできる。また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、タッチパネルペンによる筆記試験を行わなくても、特定のタッチパネルペンに対する筆記感が良好である筆記シートを選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。

本発明のタッチパネルペン用筆記シートの一実施形態を示す断面図である。 本発明のタッチパネルペン用筆記シートの他の実施形態を示す断面図である。 本発明のタッチパネルの一実施形態を示す断面図である。 本発明のタッチパネルの他の実施形態を示す断面図である。 ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率Ｅの測定方法の概略図である。 タッチパネルペンの直径Ｄの算出方法を説明する図である。 摩擦係数の測定方法を説明する概略図である。

以下、本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、タッチパネルシステム及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法に関して、実施形態Ａ、実施形態Ｂ及び実施形態Ｃを例に取り説明する。
＜実施形態Ａ＞
［タッチパネルペン用筆記シート］
実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートは、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大谷深さＲｖ_０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５が、下記条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面を有するものである。
０．３５≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６０ （Ａ１）
０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．３０ｍｍ （Ａ２）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ以下であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）
なお、ヤング率Ｅの単位は「Ｎ／ｍ^２」、ペン先の直径Ｄの単位は「ｍ」、算術平均高さＰａの単位は「ｍ」である。また、「Ｍ」は「メガ（１０^６）」を意味する。

図１は、実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シート１０の一実施形態を示す断面図である。図１のタッチパネルペン用筆記シート１０は、プラスチックフィルム１の一方の面に樹脂層２を有している。図２のタッチパネルペン用筆記シート１０は、樹脂層２の単層構造となっている。
実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートは、一方の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たしていてもよいし、両方の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たしていてもよい。
実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートは、枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。
以下、タッチパネルペン用筆記シートのことを「筆記シート」と称する場合がある。また、以下、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面のことを「筆記面」と称する場合がある。

＜筆記面＞
実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たすものである。
実施形態Ａでは、条件（Ａ１）と条件（Ａ２）とで異なるカットオフ値を用いている。以下、２種類のカットオフ値（０．８ｍｍ、２．５ｍｍ）を用いる理由について説明する。

カットオフ値は、粗さ成分（高周波成分）と、うねり成分（低周波成分）とから構成される断面曲線から、うねり成分をカットする度合いを示す値である。言い換えると、カットオフ値は、断面曲線からうねり成分（低周波成分）をカットするフィルターの細かさを示す値である。カットオフ値が大きいと、フィルターが粗いため、うねり成分のうち大きなうねりはカットされるが、小さなうねりはカットされないこととなる。一方、カットオフ値が小さいと、フィルターが細かいため、うねり成分のほとんどがカットされることとなる。つまり、カットオフ値が小さいと高周波成分の凹凸の影響が強く、カットオフ値が大きいと低周波成分の凹凸の影響が強くなる。
ＪＩＳ Ｂ０６０１で参照するＪＩＳ Ｂ０６３３では、算術平均粗さＲａの値に応じて、所定のカットオフ値（基準長さ）を用いることとしている。つまり、ＪＩＳでは、任意のサンプルに対しては、単一のカットオフ値を用いることを原則としており、複数のカットオフ値を用いることを想定していない。

本発明者らは、筆記シートの筆記感との関係について鋭意研究した。その結果、ペン先の物性が筆記感に大きく影響することを見出した。ここでいうペン先の物性とは、タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の硬さ（ヤング率Ｅ）、ペン先の直径Ｄ、及びペン先の粗さ（ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ）を元に上記式（ｉ）から算出される「Ｘ」である。Ｘが筆記感に大きく影響することは、以下のように説明できる。
まず、ヤング率Ｅは、ペン先の荷重による変形のしやすさを示す基本物性であり、ヤング率Ｅが小さいほどペン先は荷重により変形しやすい傾向となる。次に、直径Ｄの２乗は、荷重を分散する度合いを示し、直径Ｄの２乗が小さいほど荷重を分散しにくく、ペン先は荷重により変形しやすい傾向となる。つまり、「ヤング率Ｅ×直径Ｄ×直径Ｄ」が小さいほど、ペン先が変形しやすく、ペン先と筆記シートとが接触しやすいことを示している。次に、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａは、ペン先が筆記シートに接触する度合いを示す。具体的には、Ｐａが大きいほどペン先と筆記シートとは点接触することとなり、ペン先と筆記シートとの接触面積が少なくなる。したがって、［ヤング率Ｅ×直径Ｄ×直径Ｄ］÷Ｐａから算出される「Ｘ」の値が小さいほど、ペン先と筆記シートとが密着しやすいことを示し、筆記感に大きな影響を与えることとなる。

さらに本発明者らは、Ｘの値が小さい場合、筆記時に以下の挙動を示すことを見出した。
まず、Ｘの値が小さい場合、ペンを筆記シートに接触させた段階、及び書き始めの段階では、ペン先が筆記シートの表面形状に追従するように変形し、ペン先と筆記フィルムとの接触が微小領域において蜜となる。このため、書き始めの段階の摩擦抵抗は高周波成分の凹凸の影響が大きくなる。
次に、書き始め以降の段階では、筆記速度の上昇に伴う移動により、フィルムの低周波成分の凹凸の寄与によりペン先とフィルムとの微小領域への密着頻度が低下し、摩擦抵抗は高周波成分の凹凸の影響が低下する一方で、凹凸量の大きい低周波成分の凹凸の影響が大きくなる。
そして、本発明者らは上記の挙動に基づいてさらに検討を行い、２種類のカットオフ値を用いて表面形状を設計することにより、書き始めから書き終わりまでの筆記感を良好にし得ることを見出した。なお、文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。本発明者らは、このような再始動の直後についても「書き始め」とみなしている。

条件（Ａ１）は、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大谷深さＲｖ_０．８が、０．３５≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６０を満たすことを要求している。
条件（Ａ１）のカットオフ値は０．８ｍｍである。条件（Ａ１）は高周波成分の凹凸を示しており、主として書き始めの筆記感に影響を与えるパラメータである。

条件（Ａ１）のＲｖ_０．８／Ｒｚ_０．８は、高周波成分の凹凸の谷の割合を示している。凹凸の山にはペン先が密着する一方で、凹凸の谷の中にはペン先が入り込みにくいため、谷は書き始める際のペン先の剥離力（摩擦抵抗）を抑制することになる。このため、Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８を上記範囲内とすることにより、書き始めのペン先の剥離力（摩擦抵抗）が適切となり、書き始めの筆記感を良好にすることができる。また、Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８を上記範囲内とすることにより、筆記シートの表面にペンを静止させやすくできる。
一方、Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８が０．３５未満の場合、谷の割合が少なすぎるため引っかかる感触となり、書き始めの筆記感を良好にすることができない。また、Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８が０．６０を超える場合、谷の割合が多すぎるため滑った感触となり、書き始めの筆記感を良好にすることができず、ペンを静止させにくい。
条件（Ａ１）は、０．３７≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．５５を満たすことが好ましく、０．４０≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．５０を満たすことがより好ましい。
なお、条件（Ａ１）を算出する基準となるＲｖ_０．８、Ｒｚ_０．８は、２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。また、後述するＳ_２．５、Ｐｐ、Ｐｖ、Ｐａ、Ｒａ、透過鮮明度及びヘイズも２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。

条件（Ａ２）は、カットオフ値を２．５ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５が、０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．３０ｍｍを満たすことを要求している。
条件（Ａ２）のカットオフ値は２．５ｍｍである。条件（Ａ２）は低周波成分の凹凸を示しており、主として書き始め以降の筆記感に影響を与えるパラメータである。

条件（Ａ２）のＳ_２．５は、低周波成分の局部山頂平均間隔を示している。書き始め以降はペン先が局部山頂に接触しながら移動する。このため、Ｓ_２．５は書き始め以降の感触に影響を与える。したがって、Ｓ_２．５を上記範囲内とすることにより、書き始め以降の摩擦抵抗が適切となり、書き始め以降の筆記感を良好にすることができる。
Ｓ_２．５が０．０５ｍｍ未満の場合、局部山頂が多すぎるため引っかかる感触となり、書き始め以降の筆記感を良好にすることができない。また、Ｓ_２．５が０．３０ｍｍを超える場合、局部山頂が、ペン先端の接触面積と比較して少なすぎるため滑った感触となり、書き始め以降の筆記感を良好にすることができない。
条件（Ａ２）は、０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．２５ｍｍを満たすことが好ましく、０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．１５ｍｍを満たすことがより好ましい。なお、Ｓ_２．５を０．０５ｍｍ以上とすることは、表示素子の解像度の低下の抑制にもつながる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。

また、実施形態Ａの筆記シートは、単位測定区間を１ｍｍ、単位測定区間における断面曲線の山高さの最大値をＰｐ、単位測定区間における断面曲線の谷深さの最大値をＰｖ、ＰｐとＰｖとの和を単位測定区間における断面曲線の最大断面高さＰｔとして、５つの測定区間のＰｔの平均値をＰｔｍとした際に、筆記面のＰｔｍが下記条件（Ａ３）を満たすことが好ましい。
０．０１μｍ≦Ｐｔｍ≦１．００μｍ （Ａ３）
単位測定区間における断面曲線の山高さの最大値をＰｐとは、単位測定区間の標高の平均線よりも上にある部分を山と定義して、最も高い山の高さを表したものである。なお、Ｐｐと、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大山高さＲｐとは、パラメータを算出する基準が、Ｐｐが断面曲線であり、Ｒｐが粗さ曲線であるという点で異なっている。
単位測定区間における断面曲線の谷深さの最大値をＰｖとは、単位測定区間の標高の平均線よりも下にある部分を谷と定義して、最も深い谷の深さを表したものである。なお、Ｐｖと、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大谷深さＲｖとは、パラメータを算出する基準が、Ｐｖが断面曲線であり、Ｒｖが粗さ曲線であるという点で異なっている。

上述したように、書き始めの筆記感は高周波の凹凸の影響が大きく、書き始め以降の筆記感は低周波の凹凸の影響が大きい。しかし、高周波の凹凸と低周波の凹凸を合算した凹凸も、書き始めの筆記感及び書き始め以降の筆記感に若干の影響を与える。条件（Ａ３）は高周波の凹凸と低周波の凹凸を合算した凹凸（カットオフ値０）の標高差が小さすぎず大きすぎないことを示している。このため、条件（Ａ３）を上記範囲とすることにより、書き始めのから書き終わりまでの筆記感をより良好にすることができる。
条件（Ａ３）は、０．１０μｍ≦Ｐｔｍ≦０．８５μｍを満たすことがより好ましく、０．０．３５μｍ≦Ｐｔｍ≦０．７５μｍを満たすことがさらに好ましい。

また、実施形態Ａの筆記シートの筆記面は、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ_０．８が下記条件（Ａ４）を満たすことが好ましい。
０．０１μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．５０μｍ （Ａ４）
Ｒａ_０．８を上記範囲とすることにより、筆記感をより良好にすることができるとともに、筆記シートによって表示素子の解像度が低下することを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
条件（Ａ４）は、０．０３μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．３０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．１５μｍであることがさらに好ましい。

さらに、実施形態Ａの筆記シートは、筆記面に対して、タッチパネルペン（Ａ）を６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペン（Ａ）に垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際のタッチパネルペン（Ａ）にかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８の関係を満たすことが好ましい。なお、実施形態Ａにおいて、動摩擦係数μｋは、全測定時間の動摩擦係数の平均値を意味する。静止摩擦係数は、摩擦力０から測定時間の経過に伴って、動摩擦係数以上となった最初の摩擦力のピークとする。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とすることが好ましい。
文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。このように筆記を一瞬停止して再始動する際には、静止摩擦係数と動摩擦係数との差による影響をうけやすいが、μｋ／μｓを上記範囲とすることにより、筆記を一瞬停止して再始動する際にも思い描いた筆記が可能となる（例えば、思い通りの方向に筆記方向を転換できる）。
０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８の関係を満たすためには、上記条件（Ａ１）及び（Ａ２）満たすことが好ましく、上記条件（Ａ１）～（Ａ３）を満たすことがより好ましく、上記条件（Ａ１）～（Ａ４）を満たすことがさらに好ましい。
また、上記効果をより良好にするためには、μｋ／μｓは、０．３０≦μｋ／μｓ≦０．４４の関係を満たすことがより好ましい。
μｋ／μｓは、２０個のサンプルを各１回ずつ測定して各サンプルのμｋ／μｓを算出し、２０サンプルのμｋ／μｓを平均した値とする。

なお、筆記面に対してタッチパネルペンを６０度以外の角度（例えば３０～７５度の範囲の何れかの角度）で接触させた状態で固定した際にも、μｋ／μｓが上記範囲であることが好ましい。また、μｋ／μｓは、走査の速度を１４ｍｍ／秒以外の速度（例えば０．１～１００ｍｍ／秒の範囲の何れかの速度）とした際にも、上記範囲であることが好ましい。

また、滑りすぎず適度な抵抗感を得る観点から、μｋ及びμｓは以下の範囲であることが好ましい。μｋは０．０６～０．３０であることが好ましく、０．０８～０．２８であることがより好ましい。μｓは０．１５～０．９５であることが好ましく、０．２０～０．６０であることがより好ましい。

図７は、μｋ及びμｓの測定方法を説明する概略図である。
図７では、タッチパネルペン２００は筆記シート１０に接触した状態で保持具８４によって固定されている。また、保持具８４の上部には重り８３を乗せるための土台８５が付属されている。土台８５上には重り８３が乗せられており、該重りによってタッチパネルペンに垂直荷重がかけられている。筆記シート１０は可動台８２上に固定されている。
摩擦係数の測定時には、タッチパネルペンが上記のように固定された状態で、可動台８２を、可動台とタッチパネルペンとの成す角の鈍角方向側（図７の左側）に所定の速度で走査する。
図７に示す測定が可能な装置としては、新東科学社製の商品名ＨＥＩＤＯＮ－１４ＤＲが挙げられる。

タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率Ｅは、引張試験機の圧縮方向への変異及び荷重特性から算出できる。具体的には図５のように、ペン先から１０ｃｍの箇所を両側からクランプ３００で固定した軸長Ｌ、クランプ３００を介してペン軸方向に５ｇｆの垂直荷重を付加した時の変形量と、１００ｇｆの垂直荷重を付加した時の変形量の差ΔＬを変位と定義し、荷重差９５ｇｆをΔＦ、ペン先の径から求めた断面積Ｓより、下記式（ii）により算出できる。タッチパネルペン２００を押し付ける対象は、厚み３ｍｍ以上のステンレス製の板４００とする。なお、ペンを押し付ける際にペンが安定しない場合には、板の表面にペンを安定化させるための凹部を設け、該凹部の箇所にペンを接触させればよい。
ヤング率Ｅの測定時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とする。また、ヤング率Ｅの測定開始前に、タッチパネルペンを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置するものとする。
σ（応力）＝ΔＦ／Ｓ
ε（歪）＝ΔＬ／Ｌ
Ｅ＝σ／ε （ii）

ペン先の直径Ｄは、ペン軸に対して垂直方向側からタッチパネルペンを撮像した写真を基準として算出する。図６は、ペン軸に対して垂直方向側からタッチパネルペンを撮像した際のタッチパネルペンの外形を点線で表示したものである。図６（ａ）に示すように、該写真に対して、該写真の頂点を通り、かつ該写真からはみ出ない円を重ね合わせた際に、最大となる円の直径をペン先の直径Ｄとする。ただし、図６（ｂ）に示すように、該写真が斜面を有し、かつ該斜面のペン軸に対する角度が４０～９０度であれば、該斜面をはみ出して該円を重ね合わせてもよい。

ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さＰａは、ペン先の形状をデジタルマイクロスコープで撮像し、撮像したペン先の輪郭を断面曲線と擬制し、断面曲線の平均線の方向に単位測定区間（０．５ｍｍ）の長さＬだけ抜き取り、該抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均することにより算出できる。具体的には、Ｐａは以下の式（iii）から算出できる。ペン先が曲率を有する場合、曲面を直線に補正した上でＰａを算出すればよい。なお、単位測定区間（０．５ｍｍ）の中間点は、ペン先の中心と一致させることが好ましい。
デジタルマイクロスコープとしては、例えば、キーエンス社の商品名VHX-5000等を用いることができる。

なお、Ｐａと、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａとは、パラメータを算出する基準が、Ｐａが断面曲線であり、Ｒａが粗さ曲線であるという点で異なっている。

また、実施形態Ａの筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０とした際に、Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０の総和Ｃ_ｓが２５０％以上であることが好ましく、２７０％以上であることがより好ましく、２８０％以上であることがさらに好ましい。
Ｃ_ｓを２５０％以上とすることにより、筆記シートによって表示素子の解像度が低下することを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。Ｃ_ｓの上限は特に限定されないが、３９９％程度である。

また、実施形態Ａの筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが５．０％未満であることが好ましく、３．０％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
ヘイズを５．０％以下とすることにより、筆記シートによって表示素子の解像度が低下することを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。ヘイズの下限は特に限定されないが、０．１％以上であることが好ましく、０．２％以上であることがより好ましい。
なお、透過像鮮明度及びヘイズを測定する際は、筆記シートの筆記面とは反対側の表面から光を入射するものとする。筆記シートの両面が上記条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす場合、光入射面はどちらの面であってもよい。

＜筆記シート全体の構成＞
実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たしていれば、その構成は特に限定されない。
例えば、実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シート１０の構成としては、図１及び図２のように、樹脂層２を有し、該樹脂層２の一方の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たすものが挙げられる。
なお、図示しないが、樹脂層やプラスチックフィルム以外の他の層を有し、該他の層の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たしていてもよい。他の層としては、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。また、図示しないが、樹脂層は２層以上から構成されていてもよい。

条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面（筆記面）は、（ａ）エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理、（ｂ）型による成型、（ｃ）コーティング、等により形成することができる。これら方法の中では、表面形状の再現性の観点からは（ｂ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは（ｃ）のコーティングが好適である。

型による成型は、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす形状と相補的な形状からなる型を作製し、当該型に樹脂層を形成する材料を流し込んだ後、型から取り出すことにより形成することができる。ここで、該材料として樹脂層を構成する材料を用い、型に該材料を流し込んだ後にプラスチックフィルムを重ね合わせ、樹脂層をプラスチックフィルムごと型から取り出せば、プラスチックフィルム上に樹脂層を有し、該樹脂層の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートを得ることができる。また、プラスチックフィルムを用いることなく型から樹脂層をそのまま取り出したり、プラスチックフィルムを用いて型から樹脂層を取り出した後にプラスチックフィルムを剥離することにより、樹脂層単層からなり、該樹脂層の表面が条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートを得ることができる。
型に流し込む材料として硬化性樹脂組成物（熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物）を用いる場合、型から取り出す前に硬化性樹脂組成物を硬化することが好ましい。

コーティングによる樹脂層の形成は、樹脂成分、粒子及び溶剤を含有してなる樹脂層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法によりプラスチックフィルム上に塗布、乾燥、硬化することにより形成できる。
コーティングにより形成した樹脂層の表面形状が上述した条件を満たすようにするためには、膜厚、粒子の含有量、及び粒子の平均粒子径を後述の範囲とした第一樹脂層を形成し、該第一樹脂層上に第二樹脂層を形成することが好ましい。

第一樹脂層の膜厚は１．５～１０μｍが好ましく、２～８μｍがより好ましく、４～７μｍがさらに好ましい。第一樹脂層及び後述の第二樹脂層の膜厚は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。

第一樹脂層の粒子は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。これら粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から有機粒子が好適である。
第一樹脂層中の粒子の含有量は、樹脂層を形成する全固形分中の０．１～１５質量％であることが好ましく、０．２～１２質量％であることがより好ましく、０．３～１０質量％であることがさらに好ましい。

第一樹脂層中の粒子の平均粒子径は、０．２～８．０μｍが好ましく、０．３～７．０μｍがより好ましく、０．５～５．０μｍがさらに好ましい。粒子が凝集している場合、凝集粒子の平均粒子径が前記範囲を満たすことが好ましい。粒子の平均粒子径は、以下の（１）～（３）の作業により算出できる。
（１）筆記シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００～２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を第一樹脂層中の粒子の平均粒子径とする。
後述の第二樹脂層の粒子の平均粒子径は、まず、筆記シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。撮像後、上記（２）及び（３）と同様の手法を行うことにより、第二樹脂層の粒子の平均粒子径を算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。

第二樹脂層は、第一樹脂層の凹凸を滑らかにする層である。このため、第二樹脂層は、平均粒子径０．２μｍ以上の粒子を含有しないことが好ましい。
第二樹脂層の膜厚は０．０１～０．１５μｍが好ましく、０．０５～０．１０μｍがより好ましい。

第二樹脂層に粒子を含有させる場合、該粒子の平均粒子径は０．２μｍ未満が好ましく、０．０１～０．２μｍがより好ましい。
第二樹脂層の粒子は、第一樹脂層の粒子として例示した有機粒子、無機粒子と同様のものを用いることができる。これらの中でも反射率を低減する観点から、中空粒子が好ましく、中空シリカがより好ましい。
第二樹脂層中の粒子の含有量は、第二樹脂層を形成する全固形分中の２０～６０質量％であることが好ましく、３０～５０質量％であることがより好ましい。

第一樹脂層及び第二樹脂層の樹脂成分は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがさらに好ましい。

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。

多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。

また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、筆記シートの製造過程や、タッチパネルの透明導電膜の形成過程で、残留した光重合開始剤が昇華して、製造装置や透明導電膜の汚染を防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。

プラスチックフィルムは、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂から形成することができる。
これらプラスチックフィルムの中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ））が好ましい。
プラスチックフィルムの厚みは、５～２００μｍであることが好ましく、１０～１５０μｍであることがより好ましい。

樹脂層は、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たしやすくする観点から、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素シリコーン共重合体系レベリング剤等のレベリング剤の一種又は二種以上を含有することが好ましい。
また、レベリング剤の含有量は、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面を形成しやすくする観点から、樹脂層の全固形分の０．０１～５質量％であることが好ましく、０．１～３質量％であることがより好ましい。

樹脂層塗布液の溶剤としては、一般的に使用される有機溶剤であれば問題ないが、これら溶剤の中でも、ケトン系の溶剤が好ましく、メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンとの混合溶剤がより好ましい。樹脂層を二層以上から構成する場合、最表面の樹脂層塗布液の溶剤としてケトン系溶剤を用いることが好ましい。ケトン系溶剤は、表面の平滑化と下地層との密着性を両立させやすいため、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面を形成しやすい点で好適である。

実施形態Ａの筆記シートは、上記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ以下であるタッチパネルペン（タッチパネルペン（Ａ））用の筆記シートとして用いることにより筆記感を良好にすることができる。
筆記感は、実施形態Ａの筆記シートを、上記式（ｉ）から導かれるＸが１００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン用の筆記シートとして用いた場合により良好にすることができ、上記式（ｉ）から導かれるＸが０．１ＭＮ／ｍ以上５０ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン用筆記シートとして用いた場合にさらに筆記感を良好にすることができる。

タッチパネルペン（Ａ）のヤング率Ｅ、直径Ｄ、及び算術平均高さＰａの個々の値は、上記式（ｉ）を満たす限り特に限定されないが、概ね以下の範囲であることが好ましい。
ヤング率Ｅは０．００１～２．５ＧＰａ（１．０×１０^６～２．５×１０^９Ｎ／ｍ^２）であることが好ましく、０．００２～１．７ＧＰａ（２．０×１０^６～１．７×１０^９Ｎ／ｍ^２）であることがより好ましい。直径Ｄは０．３～６．０ｍｍであることが好ましく、０．５～２．０ｍｍであることがより好ましい。算術平均高さＰａは０．０１～１５０μｍであることが好ましく、１．０～１２０μｍであることがより好ましい。
また、タッチパネルペン（Ａ）のペン先の曲率半径は特に限定されないが、０．３～１．５ｍｍの場合により効果を発揮しやすく、０．５～０．８ｍｍの場合にさらに効果を発揮しやすい。

［タッチパネル］
実施形態Ａのタッチパネルは、表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートの条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるものである。

タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、インセルタッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。

抵抗膜式タッチパネル１００は、図３に示すように、導電膜３０を有する上下一対の透明基板２０の導電膜３０同士が対向するようにスペーサー４０を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。
抵抗膜式タッチパネルの場合、例えば、上部透明基板２０として実施形態Ａの筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。また、図示しないが、抵抗膜式タッチパネルは、上部透明基板上に、実施形態Ａの筆記シートを、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、上部透明基板上に、実施形態Ａの筆記シートを、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。

静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、図４に示すように、透明基板２０上にＸ軸電極５０を形成し、別の透明基板２０上にＹ軸電極６０を形成し、接着剤層等の絶縁体層７０を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、例えば、表面側の透明基板２０として実施形態Ａの筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。また、図示しないが、静電容量式タッチパネルは、表面側の透明基板上に、実施形態Ａの筆記シートを、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、表面側の透明基板上に、実施形態Ａの筆記シートを、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。

電磁誘導式タッチパネルは、磁界を発生する専用ペンを用いるタッチパネルである。電磁誘導式タッチパネルは、ペンから生じる電磁エネルギーを検出するセンサー部を少なくとも有し、さらにセンサー部上に透明基板を有する。該透明基板は多層構成であってもよい。
電磁誘導式タッチパネルの場合、例えば、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板として、実施形態Ａの筆記シートを用い、該筆記シートの条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。あるいは、電磁誘導式タッチパネルの場合、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板上に、実施形態Ａの筆記シートを、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、該最表面の透明基板上に、実施形態Ａの筆記シートを、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。
インセルタッチパネルは、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。
インセルタッチパネルの場合、例えば、表面側のガラス基板に対して、実施形態Ａの筆記シートの条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせて用いる構成が挙げられる。なお、表面側のガラス基板と、実施形態Ａの筆記シートとの間には、偏光板等の他の層を有していてもよい。

［表示装置］
実施形態Ａの表示装置は、タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが実施形態Ａのタッチパネルであるものである。

表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子、インセルタッチパネル液晶表示素子等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子の場合、これらの表示素子上に実施形態Ａのタッチパネルを載置する。
実施形態Ａの表示装置は、表面を過度にあらすことなく筆記感を良好にしていることから、表示素子の解像度が損なわれることを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。

［タッチパネルペン用筆記シートの選別方法］
実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大谷深さＲｖ_０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５が、下記条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たす表面を有するシートを、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートとして選別するものである。
０．３５≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６０ （Ａ１）
０．０５ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．３０ｍｍ （Ａ２）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ以下であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）

実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法では、タッチパネルペンによる筆記試験を行わなくても、上記式（ｉ）のＸが５００ＭＮ／ｍ以下であるタッチパネルペン（タッチパネルペン（Ａ））の筆記感が良好な筆記シートを選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。

タッチパネルペン用筆記シートを選別する判定条件は、上記（Ａ１）及び（Ａ２）を必須条件とする。条件（Ａ１）及び（Ａ２）の判定条件は、上述した実施形態Ａの筆記シートの好適な数値範囲であることが好ましい。例えば、条件（Ａ１）の判定条件は、０．３７≦Ｒｖ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．５８であることが好ましい。

実施形態Ａのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法では、筆記感をより良好する観点、及び表示素子の解像度の低下を抑制する観点から、以下に挙げる条件（Ａ３）～（Ａ６）の一以上を判定条件とすることがより好ましく、（Ａ３）～（Ａ６）の全てを判定条件とすることがさらに好ましい。
０．０１μｍ≦Ｐｔｍ≦１．００μｍ （Ａ３）
０．０１μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．５０μｍ （Ａ４）
Ｃ_ｓが２５０％以上 （Ａ５）
ヘイズが５．０％未満 （Ａ６）
条件（Ａ３）～（Ａ６）の判定条件は、上述した実施形態Ａの筆記シートの好適な数値範囲であることが好ましい。

＜実施形態Ｂ＞
［タッチパネルペン用筆記シート］
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートは、下記のタッチパネルペン（Ｂ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ_０．８、並びに、測定区間１ｍｍにおける断面曲線のスキューネスＰｓｋが、下記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす表面を有し、かつ該筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｂ３）を満たすものである。
０．５０＜Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７５ （Ｂ１）
０．６０≦Ｐｓｋ （Ｂ２）
ヘイズが５．０％未満 （Ｂ３）
＜タッチパネルペン（Ｂ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）
なお、ヤング率Ｅの単位は「Ｎ／ｍ^２」、ペン先の直径Ｄの単位は「ｍ」、算術平均高さＰａの単位は「ｍ」である。また、「Ｍ」は「メガ（１０^６）」を意味する。

図１は、実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シート１０の一実施形態を示す断面図である。図１のタッチパネルペン用筆記シート１０は、プラスチックフィルム１の一方の面に樹脂層２を有している。図２のタッチパネルペン用筆記シート１０は、樹脂層２の単層構造となっている。
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートは、一方の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たしていてもよいし、両方の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たしていてもよい。
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートは、枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。
以下、タッチパネルペン用筆記シートのことを「筆記シート」と称する場合がある。また、以下、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす表面のことを「筆記面」と称する場合がある。

＜筆記面＞
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たすものである。
実施形態Ｂでは、条件（Ｂ１）ではカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータを用いる一方で、条件（Ｂ２）では断面パラメータを用いている。以下、この理由を説明する。

カットオフ値は、粗さ成分（高周波成分）と、うねり成分（低周波成分）とから構成される断面曲線から、うねり成分をカットする度合いを示す値である。言い換えると、カットオフ値は、断面曲線からうねり成分（低周波成分）をカットするフィルターの細かさを示す値である。カットオフ値が大きいと、フィルターが粗いため、うねり成分のうち大きなうねりはカットされるが、小さなうねりはカットされないこととなる。一方、カットオフ値が小さいと、フィルターが細かいため、うねり成分のほとんどがカットされることとなる。つまり、カットオフ値が小さい粗さパラメータは高周波成分の凹凸の影響が強く、カットオフ値が大きい粗さパラメータは低周波成分の凹凸の影響が強くなる。条件（Ｂ１）のようなカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータは、高周波成分（微小領域）の凹凸を示している。
一方、断面パラメータは、粗さ成分（高周波成分）及びうねり成分（低周波成分）の両方を含んだ凹凸であり、大きな領域の凹凸を示している。

本発明者らは、筆記シートの筆記感との関係について鋭意研究した。その結果、ペン先の物性が筆記感に大きく影響することを見出した。ここでいうペン先の物性とは、タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の硬さ（ヤング率Ｅ）、ペン先の直径Ｄ、及びペン先の粗さ（ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ）を元に上記式（ｉ）から算出される「Ｘ」である。Ｘが筆記感に大きく影響することは、以下のように説明できる。
まず、ヤング率Ｅは、ペン先の荷重による変形のしやすさを示す基本物性であり、ヤング率Ｅが小さいほどペン先は荷重により変形しやすい傾向となる。次に、直径Ｄの２乗は、荷重を分散する度合いを示し、直径Ｄの２乗が小さいほど荷重を分散しにくく、ペン先は荷重により変形しやすい傾向となる。つまり、「ヤング率Ｅ×直径Ｄ×直径Ｄ」が小さいほど、ペン先が変形しやすく、ペン先と筆記シートとが接触しやすいことを示している。次に、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａは、ペン先が筆記シートに接触する度合いを示す。具体的には、Ｐａが大きいほどペン先と筆記シートとは点接触することとなり、ペン先と筆記シートとの接触面積が少なくなる。したがって、［ヤング率Ｅ×直径Ｄ×直径Ｄ］÷Ｐａから算出される「Ｘ」の値が小さいほど、ペン先と筆記シートとが密着しやすいことを示し、筆記感に大きな影響を与えることとなる。

さらに本発明者らは、Ｘの値と筆記感との関係について鋭意研究した。その結果、以下の（ａ）、（ｂ）を見出した。
（ａ）ペンを筆記シートに接触させた段階では筆記シートの表面にペン先が接地している。Ｘの値が大きい場合、ペン先は筆記シートの表面に密着しにくいため、筆記開始のきっかけは、ペン先が高周波成分（微小領域）の凸部を乗り越えることにあると考えられる。このため、書き始めの筆記感は、微小領域の凹凸（カットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータ）の影響が大きくなる。
（ｂ）書き始め以降の段階では、ペン先は大きな領域の凹凸表面に沿うように移動する。このため、書き始め以降の筆記感は、大きな領域の凹凸（断面パラメータ）の影響が大きくなる。
以上のように、Ｘの値が大きい場合、書き始めの筆記感は、微小領域の凹凸（カットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータ）の影響が大きくなる。一方、書き始め以降の筆記感は、大きな領域の凹凸（断面パラメータ）の影響が大きくなる。このため、実施形態Ｂでは、条件（Ｂ１）ではカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータを用いる一方で、条件（Ｂ２）では断面パラメータを用いている。
なお、文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。本発明者らは、このような再始動の直後についても「書き始め」とみなしている。

条件（Ｂ１）は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大山高さＲｐ_０．８が、０．５０＜Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７５を満たすことを要求している。
条件（Ｂ１）のカットオフ値は０．８ｍｍである。条件（Ｂ１）は高周波成分の凹凸を示しており、主として書き始めの筆記感に影響を与えるパラメータである。

条件（Ｂ１）のＲｐ_０．８／Ｒｚ_０．８は、Ｒｚ（山高さの最大値と谷深さの最大値との和）中のＲｐ（山高さの最大値）の割合を示している。上述したように、ペンを筆記シートに接触させた段階では筆記シートの表面にペン先が接地している。Ｘの値が大きい場合、ペン先は筆記シートの表面に密着しにくいため、筆記開始のきっかけは、ペン先が高周波成分（微小領域）の凸部を乗り越えることにある。このため、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８は書き始めの筆記感に大きな影響を与える。
実施形態Ｂでは、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８を上記範囲内とすることにより、書き始めのペン先の摩擦抵抗が適切となり、書き始めの筆記感を良好にすることができる。また、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８を上記範囲内とすることにより、筆記シートの表面にペンを静止させやすくできる。
一方、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８が０．５０以下の場合、山の割合が少なすぎるため、摩擦抵抗が小さく滑った感触となり、書き始めの筆記感を良好にすることができない。なお、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８が０．５０以下の場合、書き終わりにペンを静止させにくい。また、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８が０．７５を超える場合、山の割合が多すぎるため引っかかりが大きくなり、書き始めの筆記感を良好にすることができない。

条件（Ｂ１）は、０．５３≦Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７０を満たすことが好ましく、０．５８≦Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６５を満たすことがより好ましい。
なお、条件（Ｂ１）を算出する基準となるＲｐ_０．８、Ｒｚ_０．８は、２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。また、後述するＰｓｋ、Ｐｔｍ、Ｓ_２．５及びＲａ_０．８、透過鮮明度及びヘイズも２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。

条件（Ｂ２）は、測定区間１ｍｍにおける断面曲線のスキューネスＰｓｋが０．６０以上であることを要求している。Ｐｓｋは、粗さ成分（高周波成分）及びうねり成分（低周波成分）の両方を含んだ断面形状のパラメータであり、大きな領域の凹凸を示している。
Ｐｓｋは凹凸の確率密度に関するパラメータである。条件（Ｂ２）を満たさないことは、Ｐｓｋが小さく、大きな領域の凹凸では凸部の割合が高いことを示している。大きな領域の凹凸の凸部の割合が高い場合、ペン先は凹凸に沿って進まず、凸部の頂点を結ぶようにして移動するようになり、摩擦抵抗が低下する。このため、条件（Ｂ２）を満たさない場合、書き始め以降の摩擦抵抗が低下して滑る感触となる。
一方、条件（Ｂ２）を満たしてＰｓｋが大きいことは、大きな領域の凹凸では凹部の割合が高いことを示している。この場合、ペン先は大きな領域の凹凸に沿って進むため、適度な摩擦抵抗が付与される。
Ｐｓｋは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線のスキューネスＲｓｋを、断面曲線に適用したものであり、Ｒｓｋと同様の式により算出できる。
なお、条件（Ｂ２）の断面パラメータとして、条件（Ｂ１）のＲｐ_０．８／Ｒｚ_０．８を断面曲線に適用したパラメータを用いなかった理由は、断面パラメータは領域が大きいため、Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８のような領域内の最大値を用いたパラメータでは測定領域ごとの誤差が大きすぎ、パラメータとしての信頼性が低くなるためである。

条件（Ｂ２）は、０．８０≦Ｐｓｋを満たすことが好ましく、０．９０≦Ｐｓｋを満たすことがより好ましい。
なお、Ｐｓｋが大きすぎる場合、防眩性に劣る傾向にあることから、Ｐｓｋは５．００以下であることが好ましく、３．００以下であることがより好ましく、２．００以下であることがさらに好ましい。

＜ヘイズ＞
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｂ３）を満たすものである。
ヘイズが５．０％以上 （Ｂ３）

条件（Ｂ３）を満たし、かつ上述した条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たすことにより、防眩性及び筆記感を良好にすることができる。

ヘイズは１０．０％以上であることが好ましく、１５．０％以上であることがより好ましい。なお、ヘイズが高すぎると、表示素子の解像度が大幅に低下してしまう。このため、ヘイズは４０．０％以下であることが好ましく、３０．０％以下であることがより好ましい。
ヘイズ及び後述の透過像鮮明度を測定する際は、筆記シートの筆記面とは反対側の表面から光を入射するものとする。筆記シートの両面が上記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす場合、光入射面はどちらの面であってもよい。

また、実施形態Ｂの筆記シートは、単位測定区間を１ｍｍ、単位測定区間における断面曲線の山高さの最大値をＰｐ、単位測定区間における断面曲線の谷深さの最大値をＰｖ、ＰｐとＰｖとの和を単位測定区間における断面曲線の最大断面高さＰｔとして、５つの測定区間のＰｔの平均値をＰｔｍとした際に、筆記面のＰｔｍが下記条件（Ｂ４）を満たすことが好ましい。
０．３０μｍ≦Ｐｔｍ≦７．００μｍ （Ｂ４）
なお、単位測定区間における断面曲線の山高さの最大値をＰｐとは、単位測定区間の標高の平均線よりも上にある部分を山と定義して、最も高い山の高さを表したものである。また、単位測定区間における断面曲線の谷深さの最大値をＰｖとは、単位測定区間の標高の平均線よりも下にある部分を谷と定義して、最も深い谷の深さを表したものである。

上述したように、書き始め以降の筆記感は、大きな領域の凹凸の影響が大きい。条件（Ｂ４）は大きな領域の凹凸において、標高差が小さすぎず大きすぎないことを示している。このため、条件（Ｂ４）を上記範囲とすることにより、書き始めのから書き終わりまでの筆記感をより良好にすることができる。
条件（Ｂ４）は、０．５０μｍ≦Ｐｔｍ≦５．００μｍを満たすことがより好ましく、１．００μｍ≦Ｐｔｍ≦４．００μｍを満たすことがさらに好ましい。

また、実施形態Ｂの筆記シートは、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔をＳ_２．５とした際に、筆記面のＳ_２．５が下記条件（Ｂ５）を満たすことが好ましい。
０．０２ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．２０ｍｍ （Ｂ５）
条件（Ｂ５）のカットオフ値は２．５ｍｍである。条件（Ｂ５）は低周波成分の凹凸を示しており、主として書き始め以降の筆記感に影響を与えるパラメータである。条件（Ｂ５）を満たすことにより、書き始め以降の摩擦抵抗が適切となり、書き始め以降の筆記感をより良好にすることができる。
条件（Ｂ５）は、０．０２ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．１５ｍｍを満たすことがより好ましく、０．０３ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．１５ｍｍを満たすことがさらに好ましい。
なお、Ｓ_２．５を０．２０ｍｍ以下とすることは、防眩性の向上につながる点でも好適である。

また、実施形態Ｂの筆記シートの筆記面は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ_０．８が下記条件（Ｂ６）を満たすことが好ましい。
０．１０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．２５μｍ （Ｂ６）
Ｒａ_０．８を上記範囲とすることにより、筆記感をより良好にすることができる。また、Ｒａ_０．８を０．１０μｍ以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、Ｒａ_０．８を０．２５μｍ以下とすることにより、筆記シートによって表示素子の解像度が大幅に低下することを抑制できる。
条件（Ｂ６）は、０．１０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．２０μｍであることがより好ましく、０．１３μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．１７μｍであることがさらに好ましい。

また、実施形態Ｂの筆記シートの筆記面は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の十点平均粗さＲｚ_{ＪＩＳ０．８}が下記条件（Ｂ７）を満たすことが好ましい。
０．５０μｍ≦Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}≦１．５０μｍ （Ｂ７）
Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}を上記範囲とすることにより、筆記感をより良好にすることができる。また、Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}を０．５０μｍ以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}を１．５０μｍ以下とすることにより、付与しつつ、筆記シートによって表示素子の解像度が大幅に低下することを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
条件（Ｂ７）は、０．５０μｍ≦Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}≦１．２５μｍであることがより好ましく、０．６０μｍ≦Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}≦１．００μｍであることがさらに好ましい。

さらに、実施形態Ｂの筆記シートは、筆記面に対して、タッチパネルペン（Ｂ）を６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペン（Ｂ）に垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際のタッチパネルペン（Ｂ）にかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８の関係を満たすことが好ましい。なお、実施形態Ｂにおいて、動摩擦係数μｋは、全測定時間の動摩擦係数の平均値を意味する。静止摩擦係数は、摩擦力０から測定時間の経過に伴って、動摩擦係数以上となった最初の摩擦力のピークとする。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とすることが好ましい。
文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。このように筆記を一瞬停止して再始動する際には、静止摩擦係数と動摩擦係数との差による影響をうけやすいが、μｋ／μｓを上記範囲とすることにより、筆記を一瞬停止して再始動する際にも思い描いた筆記が可能となる（例えば、思い通りの方向に筆記方向を転換できる）。
０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８の関係を満たすためには、上記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）満たすことが好ましく、上記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）に加えて、条件（Ｂ４）～（Ｂ７）の一以上を満たすことがより好ましく、上記条件（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ４）～（Ｂ７）を全て満たすことがさらに好ましい。
また、上記効果をより良好にするためには、μｋ／μｓは、０．３０≦μｋ／μｓ≦０．４４の関係を満たすことがより好ましい。
μｋ／μｓは、２０個のサンプルを各１回ずつ測定して各サンプルのμｋ／μｓを算出し、２０サンプルのμｋ／μｓを平均した値とする。

なお、筆記面に対してタッチパネルペンを６０度以外の角度（例えば３０～７５度の範囲の何れかの角度）で接触させた状態で固定した際にも、μｋ／μｓが上記範囲であることが好ましい。また、μｋ／μｓは、走査の速度を１４ｍｍ／秒以外の速度（例えば０．１～１００ｍｍ／秒の範囲の何れかの速度）とした際にも、上記範囲であることが好ましい。

また、滑りすぎず適度な抵抗感を得る観点から、μｋ及びμｓは以下の範囲であることが好ましい。μｋは０．０６～０．３０であることが好ましく、０．０８～０．２８であることがより好ましく、０．０８～０．２０であることがさらに好ましい。μｓは０．１５～０．９５であることが好ましく、０．２０～０．６０であることがより好ましく、０．２５～０．５０であることがさらに好ましい。

μｋ及びμｓは、実施形態Ａで説明した手法と同様の手法で測定することができる。
また、「タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率Ｅ」、「ペン先の直径Ｄ」及び「ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さＰａ」は、実施形態Ａで説明した手法と同様の手法で測定することができる。

また、実施形態Ｂの筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０とした際に、Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０の総和Ｃ_ｓが１００％以上２５０％未満であることが好ましく、１２０％以上２３０％以下であることがより好ましく、１５０％以上２００％以下であることがさらに好ましい。
Ｃ_ｓを１００％以上とすることにより、筆記シートによって表示素子の解像度が大幅に低下することを抑制できる。また、Ｃ_ｓを２５０％未満とすることにより、防眩性を付与するための手段が限定的にならず、製品設計しやすくできる。

＜筆記シート全体の構成＞
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たしていれば、その構成は特に限定されない。
例えば、実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シート１０の構成としては、図１及び図２のように、樹脂層２を有し、該樹脂層２の一方の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たすものが挙げられる。
なお、図示しないが、樹脂層やプラスチックフィルム以外の他の層を有し、該他の層の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たしていてもよい。他の層としては、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。また、図示しないが、樹脂層は２層以上から構成されていてもよい。

条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす表面（筆記面）は、（ａ）エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理、（ｂ）型による成型、（ｃ）コーティング、等により形成することができる。これら方法の中では、表面形状の再現性の観点からは（ｂ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは（ｃ）のコーティングが好適である。

型による成型は、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす形状と相補的な形状からなる型を作製し、当該型に樹脂層を形成する材料を流し込んだ後、型から取り出すことにより形成することができる。ここで、該材料として樹脂層を構成する材料を用い、型に該材料を流し込んだ後にプラスチックフィルムを重ね合わせ、樹脂層をプラスチックフィルムごと型から取り出せば、プラスチックフィルム上に樹脂層を有し、該樹脂層の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートを得ることができる。また、プラスチックフィルムを用いることなく型から樹脂層をそのまま取り出したり、プラスチックフィルムを用いて型から樹脂層を取り出した後にプラスチックフィルムを剥離することにより、樹脂層単層からなり、該樹脂層の表面が条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートを得ることができる。
型に流し込む材料として硬化性樹脂組成物（熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物）を用いる場合、型から取り出す前に硬化性樹脂組成物を硬化することが好ましい。

コーティングによる樹脂層の形成は、樹脂成分、粒子及び溶剤を含有してなる樹脂層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法によりプラスチックフィルム上に塗布、乾燥、硬化することにより形成できる。コーティングにより形成した樹脂層の表面形状が上述した条件を満たすようにするためには、粒子として、ミクロンオーダーの粒子、及びナノオーダーの無機超微粒子を併用し、かつ、膜厚、粒子の含有量、及び粒子の平均粒子径を後述の範囲とすることが好ましい。

樹脂層の膜厚は１．５～１０μｍが好ましく、２～８μｍがより好ましく、４～７μｍがさらに好ましい。樹脂層の膜厚は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。

樹脂層の粒子（ミクロンオーダーの粒子）は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。これら粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から有機粒子が好適である。
樹脂層中の粒子（ミクロンオーダーの粒子）の含有量は、樹脂層を形成する全固形分中の２～２５質量％であることが好ましく、５～２０質量％であることがより好ましく、１０～１５質量％であることがさらに好ましい。

樹脂層中の粒子（ミクロンオーダーの粒子）の平均粒子径は、０．２～８．０μｍが好ましく、０．３～７．０μｍがより好ましく、０．５～５．０μｍがさらに好ましい。粒子が凝集している場合、凝集粒子の平均粒子径が前記範囲を満たすことが好ましい。粒子の平均粒子径は、実施形態Ａと同様の手法で算出できる。

筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点から、樹脂層の膜厚は粒子の平均粒子径よりも大きいことが好ましい。具体的には、［粒子の平均粒子径］／［樹脂層の膜厚］の比が０．４０～０．８０であることが好ましく、０．４５～０．７５であることがより好ましく、０．５０～０．７０であることがさらに好ましい。

また、粒子としては、上述したようなミクロンオーダーの粒子のみならず、ナノオーダーの無機超微粒子を含有することが好ましい。ナノオーダーの無機超微粒子を含有することにより、樹脂層の表面形状を上述した範囲にしやすくすることができる。この原因は、ミクロンオーダーの粒子により高周波成分の凹凸（微小領域の凹凸）が形成される一方で、無機超微粒子を含有する場合には、ミクロンオーダーの粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成され、低周波成分の凹凸（大きな領域の凹凸）が形成される結果、高周波成分の凹凸と低周波成分の凹凸とが混在した形状が形成されるためと考えられる。無機超微粒子を含有する場合、塗布液のチキソトロピー性及び溶媒の乾燥特性が影響を受け、通常のようなレベリングが生じていないため、前記のような現象が生じると考えられる。
また、無機超微粒子を含有することにより、ミクロンオーダーの粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成される結果（略平滑な箇所が減少する結果）、防眩性も良好にすることができる。

無機超微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる超微粒子が挙げられる。これらの中でも透明性の観点からシリカ超微粒子が好適である。
無機超微粒子は、上述の凹凸形状を得やすくする観点から、平均一次粒子径が１～２５ｎｍであることが好ましく、５～２０ｎｍであることがより好ましい。

無機超微粒子は、表面処理により反応性基が導入された反応性無機超微粒子が好ましい。反応性基を導入することにより、樹脂層中に多量の無機超微粒子を含有させることが可能となり、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくできる。
反応性基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合並びにエポキシ基等が挙げられる。
このような反応性無機超微粒子は、シランカップリング剤で表面処理した無機超微粒子を挙げることができる。無機超微粒子の表面をシランカップリング剤で処理するには、無機超微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機超微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

無機超微粒子の含有量は、樹脂層を形成する全固形分中の１～２０質量％であることが好ましく、２～１５質量％であることがより好ましく、３～１０質量％であることがさらに好ましい。当該範囲とすることにより、レベリング性の制御、及び樹脂層の重合収縮の抑制により、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくできる。
また、樹脂層中におけるミクロンオーダーの粒子及び無機超微粒子の含有量の比（ミクロンオーダーの粒子の含有量／無機超微粒子の含有量）は、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点から、１．０～３．０であることが好ましく、１．５～２．５であることがより好ましい。

樹脂層の樹脂成分は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがさらに好ましい。

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。

多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。

また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、筆記シートの製造過程や、タッチパネルの透明導電膜の形成過程で、残留した光重合開始剤が昇華して、製造装置や透明導電膜の汚染を防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。

樹脂層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の樹脂層の表面状態が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
溶剤の乾燥が遅すぎる場合、樹脂層のレベリング性が過度になることにより、上述した表面形状を形成しづらくなる。したがって、溶剤としては、蒸発速度（ｎ－酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１８０以上である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましい。相対蒸発速度が１８０以上の溶剤としては、トルエンが挙げられる。トルエンの相対蒸発速度は１９５である。

また、表面形状を適度に滑らかにして、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点からは、樹脂層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素シリコーン共重合体系レベリング剤等が挙げられ、シリコーン系レベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、樹脂層形成塗布液の全固形分に対して０．０１～０．５重量％が好ましく、０．０１～０．２重量％がより好ましい。

プラスチックフィルムは、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂から形成することができる。
これらプラスチックフィルムの中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が好ましい。
プラスチックフィルムの厚みは、５～２００μｍであることが好ましく、１０～１５０μｍであることがより好ましい。

実施形態Ｂの筆記シートは、上記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン（タッチパネルペン（Ｂ））用の筆記シートとして用いることにより筆記感を良好にすることができる。
筆記感は、実施形態Ｂの筆記シートを、上記式（ｉ）から導かれるＸが１，０００ＭＮ／ｍ以上のタッチパネルペン用の筆記シートとして用いた場合により良好にすることができ、上記式（ｉ）から導かれるＸが２，０００ＭＮ／ｍ以上１００，０００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン用筆記シートとして用いた場合にさらに筆記感を良好にすることができる。

タッチパネルペン（Ｂ）のヤング率Ｅ、直径Ｄ、及び算術平均高さＰａの個々の値は、上記式（ｉ）を満たす限り特に限定されないが、概ね以下の範囲であることが好ましい。
ヤング率は０．１～５．０ＧＰａ（１．０×１０^８～５．０×１０^９Ｎ／ｍ^２）であることが好ましく、０．５～２．５ＧＰａ（５．０×１０^８～２．５×１０^９Ｎ／ｍ^２）であることがより好ましい。直径Ｄは０．３～６．０ｍｍであることが好ましく、０．４～２．５ｍｍであることがより好ましい。算術平均高さＰａは０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０５～１．０μｍであることがより好ましい。
また、タッチパネルペン（Ｂ）のペン先の曲率半径は特に限定されないが、０．３～１．５ｍｍの場合により効果を発揮しやすく、０．５～０．８ｍｍの場合にさらに効果を発揮しやすい。

［タッチパネル］
実施形態Ｂのタッチパネルは、表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートの条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるものである。

タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、インセルタッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。

抵抗膜式タッチパネル１００は、図３に示すように、導電膜３０を有する上下一対の透明基板２０の導電膜３０同士が対向するようにスペーサー４０を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。
抵抗膜式タッチパネルの場合、例えば、上部透明基板２０として実施形態Ｂの筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。また、図示しないが、抵抗膜式タッチパネルは、上部透明基板上に、実施形態Ｂの筆記シートを、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、上部透明基板上に、実施形態Ｂの筆記シートを、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。

静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、図４に示すように、透明基板２０上にＸ軸電極５０を形成し、別の透明基板２０上にＹ軸電極６０を形成し、接着剤層等の絶縁体層７０を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、例えば、表面側の透明基板２０として実施形態Ｂの筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。また、図示しないが、静電容量式タッチパネルは、表面側の透明基板上に、実施形態Ｂの筆記シートを、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、表面側の透明基板上に、実施形態Ｂの筆記シートを、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。

電磁誘導式タッチパネルは、磁界を発生する専用ペンを用いるタッチパネルである。電磁誘導式タッチパネルは、ペンから生じる電磁エネルギーを検出するセンサー部を少なくとも有し、さらにセンサー部上に透明基板を有する。該透明基板は多層構成であってもよい。
電磁誘導式タッチパネルの場合、例えば、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板として、実施形態Ｂの筆記シートを用い、該筆記シートの条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。あるいは、電磁誘導式タッチパネルの場合、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板上に、実施形態Ｂの筆記シートを、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、該最表面の透明基板上に、実施形態Ｂの筆記シートを、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。
インセルタッチパネルは、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。
インセルタッチパネルの場合、例えば、表面側のガラス基板に対して、実施形態Ｂの筆記シートの条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせて用いる構成が挙げられる。なお、表面側のガラス基板と、実施形態Ｂの筆記シートとの間には、偏光板等の他の層を有していてもよい。

［表示装置］
実施形態Ｂの表示装置は、タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが実施形態Ｂのタッチパネルであるものである。

表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子、インセルタッチパネル液晶表示素子等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子の場合、これらの表示素子上に実施形態Ｂのタッチパネルを載置する。
実施形態Ｂの表示装置は、表面を過度にあらすことなく筆記感を良好にしていることから、表示素子の解像度が大幅に損なわれることを抑制できる。

［タッチパネルペン用筆記シートの選別方法］
実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ_０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ_０．８、並びに、測定区間１ｍｍにおける断面曲線のスキューネスＰｓｋが、下記条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たす表面を有し、かつＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｂ３）を満たすシートを、下記のタッチパネルペン（Ｂ）用の筆記シートとして選別するものである。
０．５０＜Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７５ （Ｂ１）
０．６０≦Ｐｓｋ （Ｂ２）
ヘイズが５．０％以上 （Ｂ３）
＜タッチパネルペン（Ｂ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）

実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法では、タッチパネルペンによる筆記試験を行わなくても、上記式（ｉ）のＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン（タッチパネルペン（Ｂ））の筆記感が良好であるとともに、防眩性が良好な筆記シートを選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。

タッチパネルペン用筆記シートを選別する判定条件は、上記（Ｂ１）～（Ｂ３）を必須条件とする。条件（Ｂ１）～（Ｂ３）の判定条件は、上述した実施形態Ｂの筆記シートの好適な数値範囲であることが好ましい。例えば、条件（Ｂ１）の判定条件は、０．５３≦Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．７０であることが好ましく、０．５８≦Ｒｐ_０．８／Ｒｚ_０．８≦０．６５であることがより好ましい。

実施形態Ｂのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法では、筆記感をより良好する観点、防眩性を良好にする観点、及び表示素子の解像度の大幅な低下を抑制する観点から、以下に挙げる条件（Ｂ４）～（Ｂ８）の一以上を判定条件とすることがより好ましく、（Ｂ４）～（Ｂ８）の全てを判定条件とすることがさらに好ましい。
０．３０μｍ≦Ｐｔｍ≦７．００μｍ （Ｂ４）
０．０２ｍｍ≦Ｓ_２．５≦０．２０ｍｍ （Ｂ５）
０．１０μｍ≦Ｒａ_０．８≦０．２５μｍ （Ｂ６）
０．５０μｍ≦Ｒｚ_{ＪＩＳ０．８}≦１．５０μｍ （Ｂ７）
Ｃ_ｓが１００％以上２５０％未満 （Ｂ８）
条件（Ｂ４）～（Ｂ８）の判定条件は、上述した実施形態Ｂの筆記シートの好適な数値範囲であることが好ましい。

＜実施形態Ｃ＞
［タッチパネルペン用筆記シートの選別方法］
実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、下記条件（Ｃ１）を満たすものをタッチパネルペン用筆記シートとして選別するものである。
＜条件（Ｃ１）＞
タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。

図１は、実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シート１０の一実施形態を示す断面図である。図１のタッチパネルペン用筆記シート１０は、プラスチックフィルム１の一方の面に樹脂層２を有している。図２のタッチパネルペン用筆記シート１０は、樹脂層２の単層構造となっている。
実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シートは、一方の表面が条件（Ｃ１）を満たしていてもよいし、両方の表面が条件（Ｃ１）を満たしていてもよい。
以下、タッチパネルペン用筆記シートのことを「筆記シート」と称する場合がある。また、以下、条件（Ｃ１）を満たす表面のことを「筆記面」と称する場合がある。

＜筆記面＞
実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、下記条件（Ｃ１）を満たす表面を有するものをタッチパネルペン用筆記シートとして選別するものである。
文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。このように筆記を一瞬停止して再始動する際には、静止摩擦係数と動摩擦係数との差による影響をうけやすい。
μｋ／μｓが０．３０未満、又はμｋ／μｓが０．５８を超える場合、筆記を一瞬停止して再始動する際に、思い通りの方向に筆記方向を転換することなどが困難となり、思い描いた筆記ができなくなる。したがって、条件（Ｃ１）を満たす筆記シートを選別することは、筆記を一瞬停止して再始動する際に思い描いた筆記が可能となる筆記シートを効率よく選別できることにつながる。
条件（Ｃ１）は、０．３０≦μｋ／μｓ≦０．４４の関係を満たすことが好ましい。
実施形態Ｃにおいて、動摩擦係数μｋは、全測定時間の動摩擦係数の平均値を意味する。静止摩擦係数は、摩擦力０から測定時間の経過に伴って、動摩擦係数以上となった最初の摩擦力のピークとする。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とすることが好ましい。

μｋ、μｓは、２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。μｋ／μｓは、２０個のサンプルを各１回ずつ測定して各サンプルのμｋ／μｓを算出し、２０サンプルのμｋ／μｓを平均した値とする。
μｋ及びμｓは、実施形態Ａで説明した手法と同様の手法で測定することができる。

実施形態Ｃの筆記シートの選別方法は、滑りすぎず適度な抵抗感の筆記シートを選別する観点から、筆記面のμｋが下記条件（Ｃ２）を満たすものを選別することが好ましい。
＜条件（Ｃ２）＞
０．０６≦μｋ≦０．３０
条件（Ｃ２）は、０．０８≦μｋ≦０．２８を満たすことがより好ましく、０．０８≦μｋ≦０．２０を満たすことがさらに好ましい。
０．０６≦μｋ≦０．３０

実施形態Ｃの筆記シートの選別方法は、滑りすぎず適度な抵抗感の筆記シートを選別する観点から、筆記面のμｓが下記条件（Ｃ２’）を満たすものを選別することが好ましい。
＜条件（Ｃ２’）＞
０．１５≦μｓ≦０．９５
条件（Ｃ２’）は、０．２０≦μｓ≦０．６０を満たすことがより好ましく、０．２５≦μｓ≦０．５０を満たすことがさらに好ましい。

条件（Ｃ１）、（Ｃ２）及び（Ｃ２’）の判定に用いるタッチパネルペンは特に限定されず、市販のタッチパネルペンの中から適宜選択できる。
なお、ペンが筆記シートに密着しすぎる場合、及びペンが筆記シートに殆ど密着しない場合、条件（Ｃ１）等を満たす筆記シートが設計しにくくなる。このため、条件（Ｃ１）等の判定に用いるタッチパネルペンは、タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが０．１ＭＮ／ｍ～１００，０００ＭＮ／ｍであるものが好ましく、０．５ＭＮ／ｍ～８０，０００ＭＮ／ｍであるものが好ましい。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ （ｉ）
なお、ヤング率Ｅの単位は「Ｎ／ｍ^２」、ペン先の直径Ｄの単位は「ｍ」、算術平均高さＰａの単位は「ｍ」である。また、「Ｍ」は「メガ（１０^６）」を意味する。

「タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率Ｅ」、「ペン先の直径Ｄ」及び「ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さＰａ」は、実施形態Ａで説明した手法と同様の手法で測定することができる。

また、上記式（ｉ）から導かれるＸが上記範囲である場合において、タッチパネルペンのヤング率Ｅ、直径Ｄ、及び算術平均高さＰａの個々の値は、概ね以下の範囲であることが好ましい。
ヤング率は０．１～５．０ＧＰａ（１．０×１０^８～５．０×１０^９Ｎ／ｍ^２）であることが好ましく、０．５～２．５ＧＰａ（５．０×１０^８～２．５×１０^９Ｎ／ｍ^２）であることがより好ましい。直径Ｄは０．３～６．０ｍｍであることが好ましく、０．４～２．０ｍｍであることがより好ましい。算術平均高さＰａは０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０５～１．０μｍであることがより好ましい。
また、条件（Ｃ１）等の判定に用いるタッチパネルペンのペン先の曲率半径は特に限定されないが、０．３～１．５ｍｍであることが好ましく、０．５～０．８ｍｍであることがより好ましい。

また、実施形態Ｃの筆記シートの選別方法は、筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｃ３）を満たすものを選別することが好ましい。
＜条件（Ｃ３）＞
ヘイズが５．０％以上

条件（Ｃ３）を満たす筆記シートを選別することにより、防眩性及び筆記感が良好な筆記シートを効率よく選別できる。
ヘイズは１０．０％以上であることが好ましく、１５．０％以上であることがより好ましい。なお、ヘイズが高すぎると、表示素子の解像度が大幅に低下してしまう。このため、ヘイズは４０．０％以下であることが好ましく、３０．０％以下であることがより好ましい。
ヘイズ及び後述の透過像鮮明度を測定する際は、筆記シートの筆記面とは反対側の表面から光を入射するものとする。筆記シートの両面が上記条件（Ｃ１）を満たす場合、光入射面はどちらの面であってもよい。
ヘイズ及び透過鮮明度は、２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値とする。

また、実施形態Ｃの筆記シートの選別方法は、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０とした際に、Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０の総和Ｃ_ｓが下記条件（Ｃ４）を満たすものを選別することが好ましい。
＜条件（Ｃ４）＞
Ｃ_ｓが１００％以上

条件（Ｃ４）を満たす筆記シートを選別することにより、表示素子の解像度が大幅に低下することを抑制できる。
なお、Ｃ_ｓが大きすぎると、条件（Ｃ１）や条件（Ｃ３）を満たしにくくなる場合がある。このため、条件（Ｃ４）は、Ｃ_ｓが１００％以上２５０％未満であることがより好ましく、１２０％以上２３０％以下であることがさらに好ましく、１５０％以上２００％以下であることがよりさらに好ましい。

［タッチパネルペン用筆記シート］
実施形態Ｃのタッチパネル用筆記シートは、下記条件（Ｃ１）を満たす表面を有するものである。
＜条件（Ｃ１）＞
タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。

なお、筆記面に対してタッチパネルペンを６０度以外の角度（例えば３０～７５度の範囲の何れかの角度）で接触させた状態で固定した際にも、μｋ／μｓが上記範囲であることが好ましい。また、μｋ／μｓは、走査の速度を１４ｍｍ／秒以外の速度（例えば０．１～１００ｍｍ／秒の範囲の何れかの速度）とした際にも、上記範囲であることが好ましい。

実施形態Ｃの筆記シートは、筆記面のμｋが下記条件（Ｃ２）を満たすことが好ましい。
＜条件（Ｃ２）＞
０．０６≦μｋ≦０．３０

また、実施形態Ｃの筆記シートは、筆記面のμｓが下記条件（Ｃ２’）を満たすことが好ましい。
＜条件（Ｃ２’）＞
０．１５≦μｓ≦０．９５

実施形態Ｃの筆記シートの条件（Ｃ１）、（Ｃ２）及び（Ｃ２’）の好適な範囲は、上述したタッチパネルペン用筆記シートの選別方法の条件（Ｃ１）、（Ｃ２）及び（Ｃ２’）の好適な範囲と同様である。

また、実施形態Ｃの筆記シートは、条件（Ｃ１）、（Ｃ２）及び（Ｃ２’）を満たしやすくするため、上記式（ｉ）から導かれるＸが０．１ＭＮ／ｍ～１００，０００ＭＮ／ｍであるタッチパネルペン用の筆記シートとして用いることが好ましく、上記式（ｉ）から導かれるＸが０．５ＭＮ／ｍ～８０，０００ＭＮ／ｍであるタッチパネルペン用の筆記シートとして用いることがより好ましい。また、タッチパネルペンのヤング率Ｅ、直径Ｄ、算術平均高さＰａ、及びペン先の曲率半径の個々の値は、上述した範囲であることが好ましい。

また、実施形態Ｃの筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（Ｃ３）を満たすことが好ましい。
＜条件（Ｃ３）＞
ヘイズが５．０％以上

また、実施形態Ｃの筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０とした際に、Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０の総和Ｃ_ｓが下記条件（Ｃ４）を満たすことが好ましい。
＜条件（Ｃ４）＞
Ｃ_ｓが１００％以上

実施形態Ｃの筆記シートの条件（Ｃ３）及び（Ｃ４）の好適な範囲は、上述したタッチパネルペン用筆記シートの選別方法の条件（Ｃ３）及び（Ｃ４）の好適な範囲と同様である。

条件（Ｃ１）を満たす筆記シートとするためには、筆記面に高周波成分の凹凸（微小領域の凹凸）と、低周波成分の凹凸（大きな領域の凹凸）とを適切に混在させることが好ましい。以下に、高周波成分の凹凸（微小領域の凹凸）と、低周波成分の凹凸（大きな領域の凹凸）との違いを説明する。
（ａ）ペンを筆記シートに接触させた段階では筆記シートの表面にペン先が接地している。このため、筆記開始のきっかけは、ペン先が高周波成分（微小領域）の凸部を乗り越えることにあると考え、書き始めの筆記感は、微小領域の凹凸の影響が大きくなる。
（ｂ）書き始め以降の段階では、ペン先は大きな領域の凹凸表面に沿うように移動する。このため、書き始め以降の筆記感は、大きな領域の凹凸の影響が大きくなる。
以上のように、書き始めの筆記感は、微小領域の凹凸の影響が大きく、書き始め以降の筆記感は大きな領域の凹凸の影響が大きい。このため、筆記面に高周波成分の凹凸（微小領域の凹凸）と、低周波成分の凹凸（大きな領域の凹凸）とを適切に混在させることにより、筆記感を良好にすることができる。
なお、上記式（ｉ）から導かれるＸが大きいタッチパネルペンを用いた場合、ペン先が筆記シートの表面に密着しにくいため、上記（ａ）及び（ｂ）の傾向は強くなる。つまり、上記式（ｉ）から導かれるＸが大きいタッチパネルペンを用いた場合、筆記シートの筆記面に高周波成分の凹凸と低周波成分の凹凸とを混在させること好ましい。Ｘが大きいとは、Ｘが５００ＭＮ／ｍ超であることを意味し、好ましくはＸが１，０００ＭＮ／ｍ以上、より好ましくはＸが２，０００ＭＮ／ｍ以上１００，０００ＭＮ／ｍ以下である。

＜筆記シート全体の構成＞
実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（Ｃ１）を満たしていれば、その構成は特に限定されない。
例えば、実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シート１０の構成としては、図１及び図２のように、樹脂層２を有し、該樹脂層２の一方の表面が条件（Ｃ１）を満たすものが挙げられる。
なお、図示しないが、樹脂層やプラスチックフィルム以外の他の層を有し、該他の層の表面が条件（Ｃ１）を満たしていてもよい。他の層としては、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。また、図示しないが、樹脂層は２層以上から構成されていてもよい。

条件（Ｃ１）を満たす表面（筆記面）は、（ａ）エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理、（ｂ）型による成型、（ｃ）コーティング、等により形成することができる。これら方法の中では、表面形状の再現性の観点からは（ｂ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは（ｃ）のコーティングが好適である。

コーティングによる樹脂層の形成は、樹脂成分、粒子及び溶剤を含有してなる樹脂層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法によりプラスチックフィルム上に塗布、乾燥、硬化することにより形成できる。コーティングにより形成した樹脂層が条件（Ｃ１）を満たすようにするためには、粒子として、ミクロンオーダーの粒子、及びナノオーダーの無機超微粒子を併用し、かつ、膜厚、粒子の含有量、及び粒子の平均粒子径を後述の範囲とすることが好ましい。

樹脂層の膜厚は１．５～１０μｍが好ましく、２～８μｍがより好ましく、４～７μｍがさらに好ましい。樹脂層の膜厚は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。

樹脂層の粒子（ミクロンオーダーの粒子）は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。これら粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から有機粒子が好適である。
樹脂層中の粒子（ミクロンオーダーの粒子）の含有量は、樹脂層を形成する全固形分中の２～２５質量％であることが好ましく、５～２０質量％であることがより好ましく、１０～１５質量％であることがさらに好ましい。

樹脂層中の粒子（ミクロンオーダーの粒子）の平均粒子径は、０．２～８．０μｍが好ましく、０．３～７．０μｍがより好ましく、０．５～５．０μｍがさらに好ましい。粒子が凝集している場合、凝集粒子の平均粒子径が前記範囲を満たすことが好ましい。粒子の平均粒子径は、実施形態Ａと同様の手法で算出できる。

筆記シートの表面が条件（Ｃ１）を満たしやすくする観点から、樹脂層の膜厚は粒子（ミクロンオーダーの粒子）の平均粒子径よりも大きいことが好ましい。具体的には、［粒子の平均粒子径］／［樹脂層の膜厚］の比が０．４０～０．８０であることが好ましく、０．４５～０．７５であることがより好ましく、０．５０～０．７０であることがさらに好ましい。

また、粒子としては、上述したようなミクロンオーダーの粒子のみならず、ナノオーダーの無機超微粒子を含有することが好ましい。ナノオーダーの無機超微粒子を含有することにより、樹脂層の表面が条件（Ｃ１）を満たしやすくすることができる。この原因は、ミクロンオーダーの粒子により高周波成分の凹凸（微小領域の凹凸）が形成される一方で、無機超微粒子を含有する場合には、ミクロンオーダーの粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成され、低周波成分の凹凸（大きな領域の凹凸）が形成される結果、高周波成分の凹凸と低周波成分の凹凸とが混在した形状が形成されるためと考えられる。無機超微粒子を含有する場合、塗布液のチキソトロピー性及び溶媒の乾燥特性が影響を受け、通常のようなレベリングが生じていないため、前記のような現象が生じると考えられる。上述したように、高周波成分の凹凸と低周波成分の凹凸とを混在させることは、上記式（ｉ）から導かれるＸが大きいタッチパネルペンに対して極めて有効となる。
また、無機超微粒子を含有することにより、ミクロンオーダーの粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成される結果（略平滑な箇所が減少する結果）、防眩性も良好にすることができる。

無機超微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる超微粒子が挙げられる。これらの中でも透明性の観点からシリカ超微粒子が好適である。
無機超微粒子は、上述の凹凸形状を得やすくする観点から、平均一次粒子径が１～２５ｎｍであることが好ましく、５～２０ｎｍであることがより好ましい。

無機超微粒子は、表面処理により反応性基が導入された反応性無機超微粒子が好ましい。反応性基を導入することにより、樹脂層中に多量の無機超微粒子を含有させることが可能となり、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくできる。
反応性基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合並びにエポキシ基等が挙げられる。
このような反応性無機超微粒子は、シランカップリング剤で表面処理した無機超微粒子を挙げることができる。無機超微粒子の表面をシランカップリング剤で処理するには、無機超微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機超微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

無機超微粒子の含有量は、樹脂層を形成する全固形分中の１～２０質量％であることが好ましく、２～１５質量％であることがより好ましく、３～１０質量％であることがさらに好ましい。当該範囲とすることにより、レベリング性の制御、及び樹脂層の重合収縮の抑制により、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくできる。
また、樹脂層中におけるミクロンオーダーの粒子及び無機超微粒子の含有量の比（ミクロンオーダーの粒子の含有量／無機超微粒子の含有量）は、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点から、１．０～３．０であることが好ましく、１．５～２．５であることがより好ましい。

樹脂層の樹脂成分は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがさらに好ましい。

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。

多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。

また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、筆記シートの製造過程や、タッチパネルの透明導電膜の形成過程で、残留した光重合開始剤が昇華して、製造装置や透明導電膜の汚染を防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。

樹脂層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の樹脂層の表面状態が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
溶剤の乾燥が遅すぎる場合、樹脂層のレベリング性が過度になることにより、上述した表面形状を形成しづらくなる。したがって、溶剤としては、蒸発速度（ｎ－酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１８０以上である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましい。相対蒸発速度が１８０以上の溶剤としては、トルエンが挙げられる。トルエンの相対蒸発速度は１９５である。

また、表面形状を適度に滑らかにして、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点からは、樹脂層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素シリコーン共重合体系レベリング剤等が挙げられ、シリコーン系レベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、樹脂層形成塗布液の全固形分に対して０．０１～０．５重量％が好ましく、０．０１～０．２重量％がより好ましい。

プラスチックフィルムは、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂から形成することができる。
これらプラスチックフィルムの中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が好ましい。
プラスチックフィルムの厚みは、５～２００μｍであることが好ましく、１０～１５０μｍであることがより好ましい。

［タッチパネル］
実施形態Ｃのタッチパネルは、表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シートの条件（Ｃ１）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるものである。

タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、インセルタッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。

抵抗膜式タッチパネル１００は、図３に示すように、導電膜３０を有する上下一対の透明基板２０の導電膜３０同士が対向するようにスペーサー４０を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。
抵抗膜式タッチパネルの場合、例えば、上部透明基板２０として実施形態Ｃの筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（Ｃ１）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。また、図示しないが、抵抗膜式タッチパネルは、上部透明基板上に、実施形態Ｃの筆記シートを、条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、上部透明基板上に、実施形態Ｃの筆記シートを、条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。

静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、図４に示すように、透明基板２０上にＸ軸電極５０を形成し、別の透明基板２０上にＹ軸電極６０を形成し、接着剤層等の絶縁体層７０を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、例えば、表面側の透明基板２０として実施形態Ｃの筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（Ｃ１）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。また、図示しないが、静電容量式タッチパネルは、表面側の透明基板上に、実施形態Ｃの筆記シートを、条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、表面側の透明基板上に、実施形態Ｃの筆記シートを、条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。

電磁誘導式タッチパネルは、磁界を発生する専用ペンを用いるタッチパネルである。電磁誘導式タッチパネルは、ペンから生じる電磁エネルギーを検出するセンサー部を少なくとも有し、さらにセンサー部上に透明基板を有する。該透明基板は多層構成であってもよい。
電磁誘導式タッチパネルの場合、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板として、実施形態Ｃの筆記シートを用い、該筆記シートの条件（Ｃ１）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くようにして用いる構成が挙げられる。あるいは、電磁誘導式タッチパネルの場合、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板上に、実施形態Ｃの筆記シートを、条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせた構成や、該最表面の透明基板上に、実施形態Ｃの筆記シートを、条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして載置し、フレーム等で固定した構成であってもよい。
インセルタッチパネルは、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。
インセルタッチパネルの場合、例えば、表面側のガラス基板に対して、実施形態Ｃの筆記シートの条件（Ｃ１）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせて用いる構成が挙げられる。なお、表面側のガラス基板と、実施形態Ｃの筆記シートとの間には、偏光板等の他の層を有していてもよい。

［タッチパネルシステム］
実施形態Ｃのタッチパネルシステムは、表面にタッチパネルペン用筆記シートを有するタッチパネルと、タッチパネルペンとからなるタッチパネルシステムであって、下記条件（Ｃ１）を満たすものである。
＜条件（Ｃ１）＞
タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。

実施形態Ｃのタッチパネルシステムにおける、タッチパネル、タッチパネルペン用筆記シート、及びタッチパネルペンの実施の形態は、例えば、上述の実施形態Ｃのタッチパネルペン用筆記シートの選別方法、タッチパネルペン用筆記シート、及びタッチパネルにおいて示した実施の形態と同様のものが挙げられる。
実施形態Ｃのタッチパネルシステムによれば、タッチパネルの筆記感を良好にすることができる。

［表示装置］
実施形態Ｃの表示装置は、タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが実施形態Ｃのタッチパネルであるものである。

表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子、インセルタッチパネル液晶表示素子等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子の場合、これらの表示素子上に実施形態Ｃのタッチパネルを載置する。
実施形態Ｃの表示装置は、表面を過度にあらすことなく筆記感を良好にしていることから、表示素子の解像度が大幅に損なわれることを抑制できる。

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。

＜実施形態Ａの実施例＞
Ａ１．測定及び評価
実施例及び比較例で作製したタッチパネルペン用筆記シートについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
Ａ１－１．表面形状測定
実施例及び比較例のタッチパネル用筆記シートを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した表面部材を東レ社製の光学透明粘着シート（屈折率：１．４７、厚み１００μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス 品番 ：ＤＦＡ５０２Ｋ、厚み２．０ｍｍ）を貼り合わせたサンプルをそれぞれ２０個準備した。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ－３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、計測ステージにサンプルが固定かつ密着した状態となるようにセットしたのち、下記の測定条件により、下記の測定項目について、各サンプルの樹脂層側の表面形状を測定した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のＲｚ_０．８、Ｒｖ_０．８、Ｓ_２．５、Ｒａ_０．８及びＰｔｍとした。結果を表１に示す。
＜測定条件＞
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・Ｒｚ_０．８、Ｒｖ_０．８、Ｓ_２．５及びＲａ_０．８の評価長さ：カットオフ値λｃの５倍
・Ｒｚ_０．８、Ｒｖ_０．８、Ｓ_２．５及びＲａ_０．８の予備長さ：カットオフ値λｃの２倍
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
・スキッド：用いない（測定面に接触なし）
・カットオフフィルタ種類：ガウシャン
・不感帯レベル：１０％
・ｔｐ／ＰＣ曲線：ノーマル
＜測定項目＞
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さをＲｚ_０．８、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大谷深さをＲｖ_０．８とした際のＲｖ_０．８／Ｒｚ_０．８
・カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ_０．８
・単位測定区間を１ｍｍ、単位測定区間における断面曲線の山高さの最大値をＰｐ、単位測定区間における断面曲線の谷深さの最大値をＰｖ、ＰｐとＰｖとの和を単位測定区間における断面曲線の最大断面高さＰｔとした際の、５つの測定区間のＰｔの平均値Ｐｔｍ。カットオフ値は０。

Ａ１－２．透過像鮮明度
実施例及び比較例のタッチパネル用筆記シートを５ｃｍ四方に切断したサンプルをそれぞれ２０個準備した。２０個の部位は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ－１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２０００に従って、各サンプルの、０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度を測定し、総和Ｃ_ｓを算出した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例の総和Ｃ_ｓとした。光入射面はプラスチックフィルム側とした。

Ａ１－３．ヘイズ
ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ－７１３６：２０００に従って、上記「Ａ１－２」で作製した各サンプルのヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のヘイズとした。光入射面はプラスチックフィルム側とした。

Ａ１－４．摩擦係数
新東科学社製の商品名ＨＥＩＤＯＮ－１４ＤＲを用い、一定荷重片道の摩擦測定モードで以下の手法により静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定し、μｋ／μｓを算出した。２０個のサンプルを各１回ずつ測定して各サンプルのμｋ／μｓを算出し、２０サンプルのμｋ／μｓの平均値を、各実施例及び比較例のμｋ／μｓとした。測定時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とした。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とした。なお、測定開始前に、各サンプルを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置した。
図７に示すように、タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の表面に、下記のタッチパネルペンＡ１又はＡ２を６０度の角度で接触させ、保持具で固定した。保持具上部の土台に１００ｇの重りを乗せ、タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆがかかるようにした。荷重をかけたまま、筆記シートを固定した可動台を、可動台とタッチパネルペンとの成す角の鈍角方向側（図７の左側）に１４ｍｍ／秒の速度で移動させた。片道４０ｍｍの長さを移動した際の該ペンにかかる移動方向の静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定した。μｋ／μｓが０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８のものは、静摩擦係数と動摩擦係数とのバランスが良好で、筆記を一瞬停止して再始動した際の筆記感が良好であることを示している。

＜タッチパネルペンＡ１＞
タッチペン付３色ボールペン（三菱鉛筆株式会社製、商品名：ジェットストリーム スタイラス）、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：０．００２ＧＰａ（２．０×１０^６Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：５ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１００μｍ、上記式（ｉ）のＸ：０．５ＭＮ／ｍ
＜タッチパネルペンＡ２＞
東芝株式会社製、商品名：アクティブ静電ペンIPCZ131A、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：１．５ＧＰａ（１．５×１０^９Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：１．６ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１００μｍ、上記式（ｉ）のＸ：３８．４ＭＮ／ｍ

Ａ１－５．筆記感
タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の面と反対側の面を、東レ社製の光学透明粘着シート（厚み１００μｍ）を介して、ガラス板に貼り合わせ、上記タッチパネルペンＡ１及びＡ２を用いて、筆記感を評価した。書き始め及び書き始め以降の筆記感が良好であるものを２点、書き始め及び書き始め以降の何れか一方の筆記感が良好でなかったものを１点、書き始め及び書き始め以降の何れも筆記感が良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものをＡ、１．０以上１．６点未満のものをＢ、１．０点未満のものをＣとした。
評価時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とした。なお、評価開始前に、各サンプルを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置した。

Ａ２．タッチパネルペン用筆記シートの作製
［実施例Ａ１］
プラスチックフィルム（ＰＥＴフィルム、厚み８０μｍ）上に、下記処方の第一樹脂層塗布液Ａ１を乾燥後の厚みが３μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第一樹脂層を形成した。次いで、第一樹脂層上に、下記処方の第二樹脂層塗布液Ａ１を乾燥後の厚みが２μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第二樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜第一樹脂層塗布液Ａ１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １６部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ７２．８部
・有機粒子 ８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径５μｍ）
・不定形シリカ ３部
（平均粒子径５ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ８０部
・溶剤２（アノン） ３０部

＜第二樹脂層塗布液Ａ１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １８部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ８０部
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） １１０部

［実施例Ａ２］
プラスチックフィルムを厚み４０μｍのＴＡＣに変更し、第一樹脂層塗布液Ａ１を下記処方の第一樹脂層塗布液Ａ２に変更し、第一樹脂層の膜厚を６μｍに変更し、第二樹脂層塗布液Ａ１を下記処方の第二樹脂層塗布液Ａ２に変更し、第二樹脂層の厚みを０．１μｍに変更した以外は、実施例Ａ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜第一樹脂層塗布液Ａ２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １７．９部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ８１．４部
・フュームドシリカ ０．５部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ４部
・溶剤２（トルエン） １６０部
・溶剤３（シクロヘキサノン） ２７部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ６３部

＜第二樹脂層塗布液Ａ２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ４３部
・中空シリカ ５部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤 １部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） １３５部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ２３２部
・溶剤３ １７６部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

［実施例Ａ３］
プラスチックフィルムを厚み６０μｍのＴＡＣに変更し、第一樹脂層塗布液Ａ１を下記処方の第一樹脂層塗布液Ａ３に変更し、第一樹脂層の厚みを５μｍに変更した以外は、実施例Ａ２と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜第一樹脂層塗布液Ａ３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １７．９部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ８１．２部
・フュームドシリカ ０．７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤 ０．２部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ４部
・溶剤２（トルエン） １８０部
・溶剤３（シクロヘキサノン） ３０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ７０部

［比較例Ａ１］
プラスチックフィルムを厚み８０μｍのＴＡＣに変更し、第一樹脂層塗布液Ａ１を下記処方の第一樹脂層塗布液Ａ４に変更し、第一樹脂層の厚みを８μｍに変更し、第二樹脂層を形成しなかった以外は、実施例Ａ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜第一樹脂層塗布液Ａ４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ７５部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・有機粒子 ２５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径２μｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ４０部
・溶剤２（アノン） ４０部
・溶剤３ ４０部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

［比較例Ａ２］
第一樹脂層塗布液Ａ１を下記処方の第一樹脂層塗布液Ａ５に変更し、第一樹脂層の厚みを３μｍに変更し、第二樹脂層を形成しなかった以外は、実施例Ａ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜第一樹脂層塗布液Ａ５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ９３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・無機微粒子 ７部
（富士シリシア化学社製、ゲル法不定形シリカ）
（疎水処理、平均粒子径（レーザー回折散乱法）４．１μｍ）
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ３０部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ３０部
・溶剤３（イソプロピルアルコール） ３０部
・溶剤４（Ｎ－ブタノール） ３０部

［比較例Ａ３］
プラスチックフィルムを厚み４０μｍのＴＡＣに変更し、第一樹脂層塗布液Ａ１を下記処方の第一樹脂層塗布液Ａ６に変更し、第一樹脂層の厚みを５μｍに変更し、第二樹脂層を形成しなかった以外は、実施例Ａ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
＜第一樹脂層塗布液Ａ６＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・有機粒子 １３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ６部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ３０部
・溶剤２（アノン） ３０部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ３０部
・溶剤４ ３０部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

表１の結果から明らかなように、実施例Ａ１～Ａ３のタッチパネルペン用筆記シートは、タッチパネルペンとして上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペンを用いた際に、書き始めから書き終わりまでの筆記感が良好であった。また、実施例Ａ１～Ａ３のタッチパネルペン用筆記シートは、μｋ／μｓが０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８であるため静摩擦係数と動摩擦係数とのバランスが良好であり、筆記を一瞬停止して再始動した際の筆記感が良好であるものであった。

Ａ３．タッチパネルの作製
実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３のタッチパネルペン用筆記シートの基材側の面に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３の抵抗膜式タッチパネルに上記タッチパネルペンＡ１～Ａ２で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表１と同様であった。
また、実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３の抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（シャープ製のスマートフォン、商品名：ＳＨ－０３Ｇ、画素密度４８０ｐｐｉ）上に載置して画像を目視で評価したところ、実施例Ａ１～Ａ３のタッチパネルは、超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。一方、比較例Ａ１～Ａ３のタッチパネルは、超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できないものであった。

Ａ４．表示装置の作製
実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３のタッチパネルペン用筆記シートと、市販の超高精細液晶表示装置（シャープ製のスマートフォン、商品名：ＳＨ－０３Ｇ、画素密度４８０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤（東レ社製の光学透明粘着シート、厚み１００μｍ）を介して貼り合わせ、実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、タッチパネルペン用筆記シート基材側の面が表示素子側を向くようにした。
実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３の表示装置に上記タッチパネルペンＡ１～Ａ２で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表１と同様であった。
また、実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３の表示装置の映像を目視で評価したところ、実施例Ａ１～Ａ３の表示装置は、超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。一方、比較例Ａ１～Ａ３の表示装置は、超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できないものであった。

［参考例Ａ１～Ａ６］
実施例Ａ１～Ａ３及び比較例Ａ１～Ａ３で作製したタッチパネルペン用筆記シートに対して、下記のタッチパネルペンＡ３を用いて、上記と同様の手法で、μｋ／μｓの測定、及び筆記感の評価を行った。結果を表２に示す。

＜タッチパネルペンＡ３＞
Adonit社製、商品名：Jot Mini、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：０．１ＧＰａ（１．０×１０^８Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：５．０ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１．０μｍ、上記式（ｉ）のＸ：２，５００ＭＮ／ｍ

表２の結果から、実施例Ａ１～Ａ３のタッチパネルペン用筆記シートは、タッチパネルペンとして上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペン（ペンＡ３）を用いた際は、筆記感が良好ではない傾向があることが確認できる。また、表１及び表２の結果から、条件（Ａ１）及び（Ａ２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートは、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペン（筆記シートに密着しにくいペン）用の筆記シートに適していない一方で、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン（筆記シートに密着しやすいペン）用の筆記シートに適していることが確認できる。

＜実施形態Ｂの実施例＞
Ｂ１．測定及び評価
実施例及び比較例で作製したタッチパネルペン用筆記シートについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表３に示す。
Ｂ１－１．表面形状測定
実施例及び比較例のタッチパネル用筆記シートを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した表面部材を東レ社製の光学透明粘着シート（屈折率：１．４７、厚み１００μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス 品番 ：ＤＦＡ５０２Ｋ、厚み２．０ｍｍ）を貼り合わせたサンプルをそれぞれ２０個準備した。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ－３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、計測ステージにサンプルが固定かつ密着した状態となるようにセットしたのち、下記の測定条件により、下記の測定項目について、各サンプルのタッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の表面形状を測定した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のＲｚ_０．８、Ｒｐ_０．８、Ｐｓｋ、Ｐｔｍ、Ｓ_２．５及びＲａ_０．８とした。結果を表３に示す。
＜測定条件＞
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・Ｒｚ_０．８、Ｒｐ_０．８、Ｓ_２．５及びＲａ_０．８の評価長さ：カットオフ値λｃの５倍
・Ｒｚ_０．８、Ｒｐ_０．８、Ｓ_２．５及びＲａ_０．８の予備長さ：カットオフ値λｃの２倍
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
・スキッド：用いない（測定面に接触なし）
・カットオフフィルタ種類：ガウシャン
・不感帯レベル：１０％
・ｔｐ／ＰＣ曲線：ノーマル
＜測定項目＞
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さをＲｚ_０．８、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大山高さをＲｐ_０．８とした際のＲｐ_０．８／Ｒｚ_０．８
・測定区間１ｍｍにおける断面曲線のスキューネスＰｓｋ。カットオフ値は０。
・単位測定区間を１ｍｍ、単位測定区間における断面曲線の山高さの最大値をＰｐ、単位測定区間における断面曲線の谷深さの最大値をＰｖ、ＰｐとＰｖとの和を単位測定区間における断面曲線の最大断面高さＰｔとした際の、５つの測定区間のＰｔの平均値Ｐｔｍ。カットオフ値は０。
・カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ_２．５
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ_０．８

Ｂ１－２．ヘイズ
実施例及び比較例のタッチパネル用筆記シートを５ｃｍ四方に切断したサンプルをそれぞれ２０個準備した。２０個の部位は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。
ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ－７１３６：２０００に従って、各サンプルのヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のヘイズとした。光入射面はプラスチックフィルム側とした。

Ｂ１－３．透過像鮮明度
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ－１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２０００に従って、上記「Ｂ１－２」で作製した各サンプルの、０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度を測定し、総和Ｃ_ｓを算出した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例の総和Ｃ_ｓとした。光入射面はプラスチックフィルム側とした。

Ｂ１－４．摩擦係数
新東科学社製の商品名ＨＥＩＤＯＮ－１４ＤＲを用い、一定荷重片道の摩擦測定モードで以下の手法により静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定し、μｋ／μｓを算出した。２０個のサンプルを各１回ずつ測定して各サンプルのμｋ／μｓを算出し、２０サンプルのμｋ／μｓの平均値を、各実施例及び比較例のμｋ／μｓとした。測定時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とした。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とした。なお、測定開始前に、各サンプルを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置した。
図７に示すように、タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の表面に、下記のタッチパネルペンＢ１又はＢ２を６０度の角度で接触させ、保持具で固定した。保持具上部の土台に１００ｇの重りを乗せ、タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆがかかるようにした。荷重をかけたまま、筆記シートを固定した可動台を、可動台とタッチパネルペンとの成す角の鈍角方向側（図７の左側）に１４ｍｍ／秒の速度で移動させた。片道４０ｍｍの長さを移動した際の該ペンにかかる移動方向の静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定した。μｋ／μｓが０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８のものは、静摩擦係数と動摩擦係数とのバランスが良好であり、筆記を一瞬停止して再始動した際の筆記感が良好であることを示している。

＜タッチパネルペンＢ１＞
サムスン電子社製の商品名「Ｓペン SCL24KKA」、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：１．０ＧＰａ（１．０×１０^９Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：０．５ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：０．１μｍ、上記式（ｉ）のＸ：２，５００ＭＮ／ｍ
＜タッチパネルペンＢ２＞
ニンテンドー株式会社製の商品名「DS専用タッチペン NTR-004」、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：２．０ＧＰａ（２．０×１０^９Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：２．０ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：０．１μｍ、上記式（ｉ）のＸ：８０，０００ＭＮ／ｍ

Ｂ１－５．筆記感
タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の面と反対側の面を、東レ社製の光学透明粘着シート（厚み１００μｍ）を介して、ガラス板に貼り合わせ、上記タッチパネルペンＢ１及びＢ２を用いて、筆記感を評価した。書き始め及び書き始め以降の筆記感が良好であるものを２点、書き始め及び書き始め以降の何れか一方の筆記感が良好でなかったものを１点、書き始め及び書き始め以降の何れも筆記感が良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものをＡ、１．０以上１．６点未満のものをＢ、１．０点未満のものをＣとした。
評価時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とした。なお、評価開始前に、各サンプルを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置した。

Ｂ１－６．防眩性
Ｂ１－５の筆記感の評価を蛍光灯の照明下（筆記面の明るさ：５００ルクス）で行った際に、照明の映り込みが全く気にならないものを２点、照明が若干映り込むが筆記に支障をきたさないものを１点、照明が激しく映り込み筆記に支障をきたすものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものをＡ、１．０以上１．６点未満のものをＢ、１．０点未満のものをＣとした。

Ｂ２．タッチパネルペン用筆記シートの作製
［実施例Ｂ１］
プラスチックフィルム（厚み４０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム）上に、下記処方の樹脂層塗布液Ｂ１を乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜樹脂層塗布液Ｂ１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・有機粒子 １３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ６部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １８０部
・溶剤２（アノン） ７０部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ２部
・溶剤４ ２８部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

［実施例Ｂ２］
樹脂層塗布液Ｂ１を下記処方の樹脂層塗布液Ｂ２に変更し、樹脂層の厚みを７μｍに変更した以外は、実施例Ｂ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜樹脂層塗布液Ｂ２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・有機粒子 １１部
（球状ポリスチレン、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１２５部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ２２５部
・溶剤２（アノン） ３部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ５０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ２８部

［比較例Ｂ１］
樹脂層塗布液Ｂ１を下記処方の樹脂層塗布液Ｂ３に変更し、樹脂層の厚みを６μｍに変更し、樹脂層上に、下記処方の第二樹脂層塗布液Ｂ１を乾燥後の厚みが０．１μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第二樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜樹脂層塗布液Ｂ３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １７．９部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ８１．４部
・フュームドシリカ ０．５部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ４部
・溶剤２（トルエン） １６０部
・溶剤３（シクロヘキサノン） ２７部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ６３部

＜第二樹脂層塗布液Ｂ１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ４３部
・中空シリカ ５部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤 １部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） １３５部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ２３２部
・溶剤３ １７６部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

［比較例Ｂ２］
樹脂層塗布液Ｂ１を下記処方の樹脂層塗布液Ｂ４に変更し、樹脂層の厚みを３μｍに変更した以外は、実施例Ｂ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
＜樹脂層塗布液Ｂ４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ９３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・無機微粒子 ５部
（富士シリシア化学社製、ゲル法不定形シリカ）
（疎水処理、平均粒子径（レーザー回折散乱法）４．１μｍ）
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ３０部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ３０部
・溶剤３（イソプロピルアルコール） ３０部
・溶剤４（Ｎ－ブタノール） ３０部

表３の結果から明らかなように、実施例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルペン用筆記シートは、タッチパネルペンとして上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペンを用いた際に、書き始めから書き終わりまでの筆記感が良好であった。また、実施例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルペン用筆記シートは、μｋ／μｓが０．３０≦μｋ／μｓ≦０．５８であるため静摩擦係数と動摩擦係数とのバランスが良好であり、筆記を一瞬停止して再始動した際の筆記感が良好であるものであった。また、実施例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルペン用筆記シートは、防眩性にも優れるものであった。

Ｂ３．タッチパネルの作製
実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルペン用筆記シートの基材側の面に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２の抵抗膜式タッチパネルに上記タッチパネルペンＢ１～Ｂ２で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表３と同様であった。
また、実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２の抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（シャープ製のスマートフォン、商品名：ＳＨ－０３Ｇ、画素密度４８０ｐｐｉ）上に載置して、蛍光灯照明下で画像を目視で評価したところ、実施例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルは、比較例Ｂ１のタッチパネルよりも防眩性に優れ、比較例Ｂ２のタッチパネルに比べて超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。

Ｂ４．表示装置の作製
実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルペン用筆記シートと、市販の超高精細液晶表示装置（シャープ製のスマートフォン、商品名：ＳＨ－０３Ｇ、画素密度４８０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、タッチパネルペン用筆記シート基材側の面が表示素子側を向くようにした。
実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２の表示装置に上記タッチパネルペンＢ１～Ｂ２で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表３と同様であった。
また、蛍光灯照明下で実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２の表示装置の映像を目視で評価したところ（評価面の明るさ：５００ルクス）、実施例Ｂ１～Ｂ２の表示装置は、比較例Ｂ１の表示装置よりも防眩性に優れ、比較例Ｂ２の表示装置に比べて超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。

［参考例Ｂ１～Ｂ４］
実施例Ｂ１～Ｂ２及び比較例Ｂ１～Ｂ２で作製したタッチパネルペン用筆記シートに対して、下記のタッチパネルペンＢ３を用いて、上記と同様の手法で、μｋ／μｓの測定、及び筆記感の評価を行った。結果を表４に示す。

＜タッチパネルペンＢ３＞
タッチペン付３色ボールペン（三菱鉛筆株式会社製、商品名：ジェットストリーム スタイラス）、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：０．００２ＧＰａ（２．０×１０^６Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：５．０ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１００μｍ、上記式（ｉ）のＸ：０．５ＭＮ／ｍ

表４の結果から、実施例Ｂ１～Ｂ２のタッチパネルペン用筆記シートは、タッチパネルペンとして上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン（ペンＢ３）を用いた際は、筆記感が良好ではない傾向があることが確認できる。また、表３及び表４の結果から、条件（Ｂ１）及び（Ｂ２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートは、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン（筆記シートに密着しやすいペン）用の筆記シートに適していない一方で、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペン（筆記シートに密着しにくいペン）用の筆記シートに適していることが確認できる。

＜実施形態Ｃの実施例＞
Ｃ１．測定及び評価
実施例及び比較例で作製したタッチパネルペン用筆記シートについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表５又は表６に示す。

Ｃ１－１．摩擦係数
新東科学社製の商品名ＨＥＩＤＯＮ－１４ＤＲを用い、一定荷重片道の摩擦測定モードで以下の手法により静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定し、μｋ／μｓを算出した。２０個のサンプルを各１回ずつ測定した際の平均値を各実施例及び比較例のμｋ、μｓとした。また、２０個のサンプルを各１回ずつ測定して各サンプルのμｋ／μｓを算出し、２０サンプルのμｋ／μｓの平均値を、各実施例及び比較例のμｋ／μｓとした。測定時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とした。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とした。なお、測定開始前に、各サンプルを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置した。
図７に示すように、タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の表面に、下記のタッチパネルペンＣ１～Ｃ４を６０度の角度で接触させ、保持具で固定した。保持具上部の土台に１００ｇの重りを乗せ、タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆがかかるようにした。荷重をかけたまま、筆記シートを固定した可動台を、可動台とタッチパネルペンとの成す角の鈍角方向側（図７の左側）に１４ｍｍ／秒の速度で走査した。片道４０ｍｍの長さを１走査した際の該ペンにかかる走査方向の静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定した。

＜タッチパネルペンＣ１＞
サムスン電子社製の商品名「Ｓペン SCL24KKA」、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：１．０ＧＰａ（１．０×１０^９Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：０．５ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：０．１μｍ、上記式（ｉ）のＸ：２，５００ＭＮ／ｍ
＜タッチパネルペンＣ２＞
ニンテンドー株式会社製の商品名「DS専用タッチペン NTR-004」、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：２．０ＧＰａ（２．０×１０^９Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：２．０ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：０．１μｍ、上記式（ｉ）のＸ：８０，０００ＭＮ／ｍ
＜タッチパネルペンＣ３＞
タッチペン付３色ボールペン（三菱鉛筆株式会社製、商品名：ジェットストリーム スタイラス）、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：０．００２ＧＰａ（２．０×１０^６Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：５．０ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１００μｍ、上記式（ｉ）のＸ：０．５ＭＮ／ｍ
＜タッチパネルペンＣ４＞
東芝株式会社製、商品名：アクティブ静電ペンIPCZ131A、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：１．５ＧＰａ（１．５×１０^９Ｎ／ｍ^２）、ペン先の直径：１．６ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１００μｍ、上記式（ｉ）のＸ：３８．４ＭＮ／ｍ

Ｃ１－２．筆記感
タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の面と反対側の面を、東レ社製の光学透明粘着シート（厚み１００μｍ）を介して、ガラス板に貼り合わせ、上記タッチパネルペンＣ１～Ｃ４を用いて、筆記感を評価した。書き始めの筆記感、書き始め以降の筆記感、及び筆記を一瞬停止して再始動する際の筆記感の３つの筆記感を評価ポイントとして、全体として筆記感が良好であるものを２点、全体として筆記感が普通であるものを１点、全体として筆記感が良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものをＡ、１．０以上１．６点未満のものをＢ、１．０点未満のものをＣとした。
評価時の雰囲気は、温度は２３℃±５℃、湿度５０％±１０％とした。なお、評価開始前に、各サンプルを２３℃±５℃、湿度５０％±１０％の雰囲気に１０分以上放置した。

Ｃ１－３．ヘイズ
実施例及び比較例のタッチパネル用筆記シートを５ｃｍ四方に切断したサンプルをそれぞれ２０個準備した。２０個の部位は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。
ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ－７１３６：２０００に従って、各サンプルの、ヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例のヘイズとした。光入射面はプラスチックフィルム側とした。

Ｃ１－４．透過像鮮明度
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ－１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２０００に従って、上記「Ｃ１－３」で作製した各サンプルの、０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度を測定し、総和Ｃ_ｓを算出した。そして、２０個のサンプルの平均値を、各実施例及び比較例の総和Ｃ_ｓとした。光入射面はプラスチックフィルム側とした。

Ｃ１－５．防眩性
Ｃ１－２の筆記感の評価を蛍光灯の照明下（筆記面の明るさ：５００ルクス）で行った際に、照明の映り込みが全く気にならないものを２点、照明が若干映り込むが筆記に支障をきたさないものを１点、照明が激しく映り込み筆記に支障をきたすものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものをＡ、１．０以上１．６点未満のものをＢ、１．０点未満のものをＣとした。

Ｃ２．タッチパネルペン用筆記シートの作製
［実験例Ｃ１］
プラスチックフィルム（厚み４０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム）上に、下記処方の樹脂層塗布液Ｃ１を乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜樹脂層塗布液Ｃ１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・有機粒子 １３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ６部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １８０部
・溶剤２（アノン） ７０部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ２部
・溶剤４ ２８部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

［実験例Ｃ２］
樹脂層塗布液Ｃ１を下記処方の樹脂層塗布液Ｃ２に変更し、樹脂層の厚みを７μｍに変更した以外は、実験例Ｃ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜樹脂層塗布液Ｃ２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ８３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・有機粒子 １１部
（球状ポリスチレン、平均粒子径３．５μｍ）
・フュームドシリカ ７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１２５部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） ２２５部
・溶剤２（アノン） ３部
・溶剤３（メチルイソブチルケトン） ５０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ２８部

［実験例Ｃ３］
樹脂層塗布液Ｃ１を下記処方の樹脂層塗布液Ｃ３に変更し、樹脂層の厚みを６μｍに変更し、樹脂層上に、下記処方の第二樹脂層塗布液Ｃ１を乾燥後の厚みが０．１μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第二樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。

＜樹脂層塗布液Ｃ３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １７．９部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ８１．４部
・フュームドシリカ ０．５部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ４部
・溶剤２（トルエン） １６０部
・溶剤３（シクロヘキサノン） ２７部
・溶剤４（イソプロピルアルコール） ６３部

＜第二樹脂層塗布液Ｃ１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ４３部
・中空シリカ ５部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤 １部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） １３５部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ２３２部
・溶剤３ １７６部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

［実験例Ｃ４］
樹脂層塗布液Ｃ１を下記処方の樹脂層塗布液Ｃ４に変更し、樹脂層の厚みを３μｍに変更した以外は、実験例Ｃ１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
＜樹脂層塗布液Ｃ４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ９３部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ－ＰＥＴ－３０）
・無機微粒子 ５部
（富士シリシア化学社製、ゲル法不定形シリカ）
（疎水処理、平均粒子径（レーザー回折散乱法）４．１μｍ）
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．００１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン） ３０部
・溶剤２（メチルエチルケトン） ３０部
・溶剤３（イソプロピルアルコール） ３０部
・溶剤４（Ｎ－ブタノール） ３０部

表５に示すように、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下の値を示す筆記シートは、筆記感の評価がＡ又はＢとなっている。このことは、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下の値を示す筆記シートを選択することは、筆記感が良好である筆記シートの選択につながることを示している。また、ペンＣ１～Ｃ４は全て種類が異なるものであることから、表５の結果は、いかなるタッチパネルペンを用いた場合であっても、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下の値を示す筆記シートを選択することは、筆記感が良好である筆記シートの選択につながることを示している。
また、実験例Ｃ１及びＣ２のタッチパネルペン用筆記シートは、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペン（ペンＣ１及びペンＣ２）に対する筆記感が極めて良好であるとともに、防眩性が良好であることが確認できる。この原因は、実験例Ｃ１及びＣ２のタッチパネルペン用筆記シートは、樹脂層にミクロンオーダーの粒子及びナノオーダーの無機超微粒子を含むことから、樹脂層の表面に微小領域の凹凸及び大きな領域の凹凸が混在して形成されるためと考えられる。

Ｃ３．タッチパネルの作製
実験例Ｃ１～Ｃ４のタッチパネルペン用筆記シートの基材側の面に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実験例Ｃ１～Ｃ４の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
実験例Ｃ１～Ｃ４の抵抗膜式タッチパネルに上記タッチパネルペンＣ１～Ｃ４で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表５と同様であった。この結果は、タッチパネルと、タッチパネルペンとの組み合わせからなるタッチパネルシステムにおいて、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下の値を示すタッチパネルシステムは、筆記感が良好であることを示している。
また、実験例Ｃ１～Ｃ４の抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（シャープ製のスマートフォン、商品名：ＳＨ－０３Ｇ、画素密度４８０ｐｐｉ）上に載置して、蛍光灯照明下で画像を目視で評価したところ、実験例Ｃ１～２のタッチパネルは、実験例Ｃ３のタッチパネルよりも防眩性に優れ、実験例Ｃ４のタッチパネルに比べて超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。

Ｃ４．表示装置の作製
実験例Ｃ１～Ｃ４のタッチパネルペン用筆記シートと、市販の超高精細液晶表示装置（シャープ製のスマートフォン、商品名：ＳＨ－０３Ｇ、画素密度４８０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実験例Ｃ１～Ｃ４の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、タッチパネルペン用筆記シート基材側の面が表示素子側を向くようにした。
実験例Ｃ１～Ｃ４の表示装置に上記タッチパネルペンＣ１～Ｃ４で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表５と同様であった。
また、蛍光灯照明下で実験例Ｃ１～Ｃ４の表示装置の映像を目視で評価したところ、実験例Ｃ１～Ｃ２の表示装置は、実験例Ｃ３の表示装置よりも防眩性に優れ、実験例Ｃ４の表示装置に比べて超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。

本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル、タッチパネルシステム及び表示装置は、タッチパネルペンの筆記感を良好にできる点で有用である。また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、筆記シートの製品設計、品質管理を効率良くできる点で有用である。

１：プラスチックフィルム
２：樹脂層
１０：タッチパネルペン用筆記シート
２０：透明基板
３０：導電膜
４０：スペーサー
５０：Ｘ軸電極
６０：Ｙ軸電極
７０：絶縁体層
８２：可動台
８３：重り
８４：保持具
８５：土台
１００：タッチパネル
２００：タッチパネルペン
３００：クランプ
４００：ステンレス板

Claims (6)

1. 下記条件（Ｃ１）を満たし、
   下記条件（Ｃ１）を満たす面が、平均粒子径が０．２～８．０μｍである粒子及び平均一次粒子径が１～２５ｎｍである無機超微粒子を含む樹脂層であるものをタッチパネルペン用筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
   ＜条件（Ｃ１）＞
   タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。
2. 前記μｋが下記条件（Ｃ２）を満たすものをタッチパネルペン用筆記シートとして選別する、請求項１に記載のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
   ＜条件（Ｃ２）＞
   ０．０６≦μｋ≦０．３０
3. 下記条件（Ｃ１）を満たす表面を有し、
   下記条件（Ｃ１）を満たす面が、平均粒子径が０．２～８．０μｍである粒子及び平均一次粒子径が１～２５ｎｍである無機超微粒子を含む樹脂層である、タッチパネルペン用筆記シート。
   ＜条件（Ｃ１）＞
   タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。
4. 表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、請求項３に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記条件（Ｃ１）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
5. 表面にタッチパネルペン用筆記シートを有するタッチパネルと、タッチパネルペンとからなるタッチパネルシステムであって、
   下記条件（Ｃ１）を満たし、
   下記条件（Ｃ１）を満たす面が、平均粒子径が０．２～８．０μｍである粒子及び平均一次粒子径が１～２５ｎｍである無機超微粒子を含む樹脂層である、タッチパネルシステム。
   ＜条件（Ｃ１）＞
   タッチパネルペン用筆記シートの表面にタッチパネルペンを６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際の該タッチパネルペンにかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、μｋ／μｓが０．３０以上０．５８以下。
6. タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが請求項４に記載のタッチパネルである表示装置。

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