JP2017159649A - 加飾成形品、加飾成形品の製造方法及び転写シート - Google Patents

Abstract

【課題】コントラストが高く、意匠性に優れた加飾成形品、該加飾成形品の製造方法及び該加飾成形品に用いられる転写シートを提供する。【解決手段】樹脂成形体上に、凹凸を有する保護層を備え、前記保護層の凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ１が下記の条件（１）を満たし、前記保護層の前記凹凸表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａｘ１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａｙ１）が、下記の条件（２）を満たす、加飾成形品。θａ１＞１．０度 （１）０．４５≦（Ｒａｘ１−Ｒａｙ１）／Ｒａｙ１（２）【選択図】図１

Description

本発明は、加飾成形品、加飾成形品の製造方法及び転写シートに関する。

従来、家庭用電化製品、自動車内装品、及び雑貨品等の分野において、被転写物表面に、文字や絵柄などの装飾を施すことにより、高い機能性や意匠性を発現させてきた。被転写物表面を装飾する方法として、転写法がある。転写法とは、基材上に、剥離層、図柄層、接着層などからなる転写層を形成した転写シートを用い、加熱加圧して転写層を被転写物に密着させた後、基材を剥離して、被転写物表面に転写層のみを転写して装飾を行う方法である。

また、用途によっては、被転写物表面に、高級感、及び光沢調やマット調等の異なる風合といった優れた意匠性が求められる場合がある。
例えば、特許文献１には、基体シート上に全面的にマット剤を含有する離型層と、部分的に活性エネルギー線硬化性樹脂を含有するマスク層と、転写層として剥離層と図柄層とが形成された部分マット転写シートを、転写層側を被転写物表面に密着させ、部分マット転写シートの基体シート側から熱と圧力とを加えて転写層を被転写物表面に接着させた後に基体シートと離型層とマスク層とを剥離することにより得られる部分マット転写成形品が開示されている。

特許５０９５５９８号公報

しかしながら、特許文献１に記載の部分マット転写成形品では、転写後の転写層表面のマット部において、被転写物の文字等が白っぽくなり、コントラストが低くなる場合がある。

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、コントラストが高く、意匠性に優れた加飾成形品、該加飾成形品の製造方法及び該加飾成形品に用いられる転写シートを提供することを目的とする。

本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、保護層の凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１が特定の条件を満たし、且つカットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１）が特定の条件を満たすことにより、上記課題を解決することを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。

すなわち、本発明は、以下の［１］〜［９］を提供する。
［１］樹脂成形体上に、凹凸を有する保護層を備え、前記保護層の凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１が下記の条件（１）を満たし、前記保護層の前記凹凸表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１）が、下記の条件（２）を満たす、加飾成形品。
θａ_１＞１．０度 （１）
０．４５≦（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１ （２）
［２］前記保護層が、前記凹凸を有する領域（Ｐ）と、前記領域（Ｐ）に隣接する領域（Ｑ）とを有し、前記領域（Ｐ）の平均傾斜角θａ_１と、前記保護層の前記領域（Ｑ）の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_２とが、下記の条件（３）を満たす、上記［１］に記載の加飾成形品。
０．５０度≦θａ_１−θａ_２ （３）
［３］前記保護層の前記領域（Ｑ）の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ２）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ２）が、下記の条件（４）を満たす、上記［２］に記載の加飾成形品。
０．９０≦（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２ （４）
［４］前記（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１と前記（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２との比〔（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１〕／〔（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２〕が０．５６以下である、上記［３］に記載の加飾成形品。
［５］領域（Ｐ’）と、前記領域（Ｐ’）に隣接する領域（Ｑ’）とを有する基材と、前記基材の領域（Ｐ’）上に設けられた凹凸形状を有する凹凸層と、前記凹凸層の前記凹凸形状の上に形成された第一離型層と、前記基材の領域（Ｑ’）上に設けられた第二離型層と、前記第一離型層と、前記第二離型層の上に形成された保護層とを有し、前記第一離型層において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１１が下記の条件（１）’を満たし、前記第一離型層表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１１）が、下記の条件（２）’を満たす、転写シート。
θａ_１１＞１．０度 （１）’
０．４５≦（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１ （２）’
［６］前記第一離型層における平均傾斜角θａ_１１と、前記第二離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_２２とが、下記の条件（３）’を満たす、上記［５］に記載の転写シート。
０．５０度≦θａ_１１−θａ_２２ （３）’
［７］前記第二離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ２２）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ２２）が、下記の条件（４）’を満たす、上記［６］に記載の転写シート。
０．９０≦（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２ （４）’
［８］前記（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１と前記（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２との比〔（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１〕／〔（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２〕が０．５６以下である、上記［７］に記載の転写シート。
［９］
上記［５］乃至［８］のいずれか一項に記載の転写シートの保護層を被転写体に転写する工程と、前記転写シートの基材、凹凸層、第一離型層、及び第二離形層を剥離する工程と、
を有する、加飾成形品の製造方法。

本発明によれば、コントラストが高く、意匠性に優れた加飾成形品、該加飾成形品の製造方法及び該加飾成形品に用いられる転写シートを提供することができる。

本発明の加飾成形品の一実施形態を示す断面図である。 本発明の加飾成形品の一実施形態を示す断面図である。 本発明の加飾成形品の一実施形態を示す断面図である。 本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。 本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。 本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。

［加飾成形品］
本発明の加飾成形品は、樹脂成形体上に、凹凸を有する保護層を備え、保護層の凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１が特定の条件を満たし、且つカットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１）が特定の条件を満たすことを特徴する。

図１乃至図３は、本発明の加飾成形品の一実施形態を示す断面図である。図１の加飾成形品１０は、樹脂成形体１上に保護層２が設けられている。保護層２は、凹凸を有する領域（Ｐ）と、領域（Ｐ）に隣接する領域（Ｑ）とを有する。
また、図２に示すように、本発明の加飾成形品２０は、樹脂成形体１１と保護層１２との間に、アンカー層１３、印刷層１４、接着層１５が設けられていてもよい。
なお、領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）の位置は特に限定されず、図２に示すように領域（Ｑ）の間または領域（Ｑ）の内部に領域（Ｐ）が配置されていてもよいし、図３に示すように、領域（Ｐ）の間または領域（Ｐ）の内部に領域（Ｑ）が配置されていてもよい。
以下、本発明の加飾成形品を構成する各層について具体的に説明する。

（保護層）
本発明の加飾成形品に用いる保護層は、凹凸を有し、該凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１が下記の条件（１）を満たす。
θａ_１＞１．０度 （１）

条件（１）において、θａ（度）は角度単位であり、凹凸の傾斜を縦横比率で表したものがΔａである場合、θａ（度）＝ｔａｎ^−１Δａで求められる。ここで、「基準長さ」とは、粗さ曲線のカットオフ値のことであり、本発明では０．８ｍｍである。また、「Δａ」は、［各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和／基準長さ］であり、基準長さＬ内に存在する凸部高さｈ_１、ｈ_２、・・・、ｈ_ｎを用いて、次の式（１）で表される。
θａ＝ｔａｎ^−１｛（ｈ_１+ｈ_２+ｈ_３+・・・+ｈ_ｎ）／Ｌ｝ …（１）
なお、ｎの数は１５００である。すなわち、「ｈ_１+ｈ_２+ｈ_３+・・・+ｈ_ｎ」は、基準長さを１５００分割した各区間の凸部高さの和に相当する。
本発明において、θａは、例えば、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製等により測定して求めることができる。
なお、後述のＲａ及びＲｓｋの値についても同様に、上記測定器を用いて測定し、求めることができる。

条件（１）において、θａ_１が１．０度以下では保護層表面に形成された凹凸が滑らかな形状となり、十分な防眩性を付与することができないおそれがある。また、十分なマット感が得られず、意匠性の低下を招くおそれがある。
上記θａ_１の上限値は特に限定されないが、防眩性が強すぎてコントラストの低下を抑制できないおそれや、マット感が強すぎて正反射が過度に低下し照りがなく、高級感が得られないおそれがあるので、好ましくは３．００度以下、より好ましくは２．５０度以下、更に好ましくは２．００度以下である。

また、保護層の凹凸表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１）が、下記の条件（２）を満たす。
０．４５≦（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１ （２）

ここで、カットオフ値は、高周波成分（粗さ成分）と、低周波成分（うねり成分）とから構成される断面曲線から、低周波成分をカットする度合いを示す値である。そのため、カットオフ値（基準長さ）を０．０８ｍｍとした場合、カットオフ値（基準長さ）を０．８ｍｍとした場合よりも、粗さ曲線の低周波成分がカットされる度合いが大きくなる。つまり、Ｒａ_ｙ１の値は保護層の凹凸表面における高周波成分、（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）の値は保護層の凹凸表面における低周波成分とみなすことができる。このため、条件（２）の「（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１」は、凹凸表面の高周波成分に対する低周波成分の割合とみなすことができる。

条件（２）において、（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１が０．４５未満では、保護層の凹凸表面の高周波成分が多すぎる、又は低周波成分が少なすぎることとなる。この場合、保護層表面に高周波成分の多い凹凸が形成されるため、凹凸表面での光の拡散が強められ、白化が生じ、コントラストの低下を招くおそれがある。また、凹凸表面にギラツキが発生するおそれがある。また、低周波成分が少なすぎると十分な防眩性が得られない。
なお、「ギラツキ」とは、表面の凹凸構造に起因して、映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象のことをいう。

（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１は、より好ましくは０．５０以上である。
また、（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１の上限値は、好ましくは０．９０未満、より好ましくは０．８０以下、更に好ましくは０．７０以下である。高周波成分を適度に有することで、写りこみ画像の周縁画線が鮮明に視認されなくなるとともに、過度の低周波成分がなくなることで、コントラストと照りの確保が可能になるからである。

なお、Ｒａ_ｘ１は、好ましくは０．１２〜０．２０、より好ましくは０．１２〜０．１８である。また、Ｒａ_ｙ１は、好ましくは０．０５〜０．１０、より好ましくは０．０６〜０．０９である。
なお、本明細書において「ＡＡ〜ＢＢ」とは、「ＡＡ以上ＢＢ以下」のことをいう。以下、同様である。

保護層は、凹凸を有する領域（Ｐ）と、該領域（Ｐ）に隣接する領域（Ｑ）とを有し、保護層の領域（Ｐ）上の凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１と、保護層の領域（Ｑ）の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_２とが、下記の条件（３）を満たすことが好ましい。
０．５０度≦θａ_１−θａ_２ （３）

条件（３）において、θａ_１−θａ_２が０．５０度以上とすることで、保護層の領域（Ｐ）上の凹凸表面と、領域（Ｑ）の表面とが、異なる質感を有することになり、意匠性を高めることができる。また、領域（Ｑ）の表面が、領域（Ｐ）との対比でより滑らかに視認されることにより、より強い光沢感を得ることができる。
θａ_１−θａ_２は、より好ましくは０．７０度以上、更に好ましくは０．９０度以上である。
θａ_１は、好ましくは１．５〜２．０、より好ましくは１．６〜１．８である。また、θａ_２は、好ましくは０．５〜１．２、より好ましくは０．６〜１．０である。

なお、θａ_１−θａ_２を負の値とすることもできる。この場合には、領域（Ｑ）上には、保護層の領域（Ｐ）上の凹凸よりも鋭い凹凸が存在することになり、領域（Ｐ）よりもマット感が得られる。このように、領域（Ｐ）よりも領域（Ｑ）をマットにすることで、領域（Ｐ）を携帯電話などの通信機器、自動車内部の情報機器などのディスプレイ等の直射日光の当たるような製品に適用した場合に、外光反射を抑制することができ、画像等の視認性を高めることができる。

本発明では、保護層の領域（Ｑ）の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ２）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ２）が、下記の条件（４）を満たすことが好ましい。
０．９０≦（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２ （４）

条件（４）において、（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２が０．９０以上であれば、領域（Ｑ）表面の高周波成分を少なくすることができる。
（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２は、より好ましくは１．２０以上、更に好ましくは１．５０以上である。
また、（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２の上限値は特に限定されないが、適度な高周波成分と低周波成分とを有する観点から、領域（Ｑ）表面は、好ましくは２．５０以下、より好ましくは２．００以下である。

なお、Ｒａ_ｘ２は、好ましくは０．１０〜０．１７、より好ましくは０．１１〜０．１６である。また、Ｒａ_ｙ２は、好ましくは０．０３〜０．０６、より好ましくは０．０４〜０．０６である。

（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１と（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２との比〔（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１〕／〔（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２〕は、好ましくは０．５６以下、より好ましくは０．５０以下である。０．５６以下とすることで、領域（Ｑ）は、領域（Ｐ）とは異なる光沢感やマット感、質感等を得ることができる。
なお、領域（Ｐ）よりも領域（Ｑ）をマットにして、上記（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１及び（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２の比〔（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２〕／〔（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１〕を３．０以下としてもよい。

また、｛（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２｝−｛（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１｝＞０．３０とすることで、領域（Ｑ）は、領域（Ｐ）とは異なる光沢感やマット感、質感等を得ることができ好ましい。領域（Ｐ）と領域（Ｑ）との対比を鮮明にするという観点からは、より好ましくは０．４０以上、更に好ましくは０．６０以上である。
なお、領域（Ｐ）よりも領域（Ｑ）をマットにして、｛（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１｝−｛（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２｝＜−０．３０としてもよい。

なお、本明細書において、Ｒａ_ｘ１、Ｒａ_ｘ２、Ｒａ_ｙ１及びＲａ_ｙ２は、保護層の領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）に相当する箇所から５．５ｃｍ×５．５ｃｍのサンプルを切り出し、該サンプルの縦方向を０．５ｃｍ間隔で１０点測定、該サンプルの横方向を０．５ｃｍ間隔で１０点測定し、合計２０点の測定値の平均値とする。なお、サンプルは、目視でゴミや傷などの異常点がない箇所から切り出すものとする。

保護層の領域（Ｐ）上の凹凸表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１のスキューネス（Ｒｓｋ_ｘ１）が下記の条件（５）を満たすことが好ましい。
Ｒｓｋ_ｘ１＜０ （５）

本発明におけるスキューネス（Ｒｓｋ）とは、高さ方向の表面粗さを表すパラメータとしての粗さ曲線のスキューネス（Ｒｓｋ）のことである。スキューネス（Ｒｓｋ）は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１にしたがったものである。
粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけを抜き取り、その抜取部分の平均線の方向にＸ軸を、高さ方向にＺ軸を取り、粗さ曲線をｚ＝Ｚ（ｘ）で表す。そのとき、スキューネス（Ｒｓｋ）は、Ｚ（ｘ）の三乗の平均値として定義される。すなわち、ｘ＝０〜ｌｒまでの範囲を測定したときには、下記式（ｉ）で示すように、Ｚ（ｘ）の三乗をｘ＝０〜ｌｒまで積分して得た値をＲｑの三乗で除算した値としてスキューネス（Ｒｓｋ）を得ることができる。なお、Ｒｑは粗さ曲線の二乗平均の平方根で表される高さである。

スキューネス（Ｒｓｋ）は、歪度を意味し、平均線を中心としたときの凸部と凹部の対称性を表す。すなわち、凸部と凹部は、スキューネスが０の場合、平均線に対して対称であり、スキューネスが０より大きい場合、平均線に対して下側に偏っており、スキューネスが０より小さい場合には、平均線に対して上側に偏っている。
保護層の領域（Ｐ）上の凹凸表面が、Ｒｓｋ_ｘ１＜０を満たすことにより、保護層の領域（Ｐ）上の凹凸表面は、凸部が支配する凹凸形状となり、耐擦傷性及び触感を良好にすることができる。また、Ｒｓｋ_ｘ１＜０でありながら、上述の平均傾斜角θａ_１が３．００度以下である条件を満たすことが好ましい。該条件を満たすことは、凸部の頂上近傍に高周波成分の凹凸が少ないことを意味する。このように、凸部の頂上近傍に高周波成分の凹凸が少ないことにより、ギラツキを抑制することができる。

なお、Ｒａ_ｘ１、Ｒａ_ｙ１、θａ_１、Ｒａ_ｘ２、Ｒａ_ｙ２、θａ_２、及びＲｓｋ_ｘ１の値は、それぞれ２０点測定し、測定した２０点の平均で算出する。

θａ_１、（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１、及びＲｓｋ_ｘ１が上記条件を満たす方法としては、保護層の領域（Ｐ）上の凹凸を、例えば、凹凸層上に凹凸層の凹凸を緩和させる層（後述する本発明の転写シートでは、第一離型層）を形成した積層体の表面形状を転写して形成する手段が挙げられる。凹凸層上に第一離型層を形成すると、凹凸層の高周波成分を減らすことができるため、転写した形状も高周波成分が少ないものとなる。さらに、凹凸層上に第一離型層を形成すると、転写前の凹凸形状は凹部支配の形状となり、転写後の凹凸形状は凸部支配の形状となるため、スキューネス（Ｒｓｋ_ｘ１）を負にしやすくなる。
なお、第一離型層を形成する材料としては、保護層との接着力が低く、積層体から保護層を容易に剥離し得る材料であれば特に限定されず用いることができる。

また、θａ_２、及び（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２が上記条件を満たす方法としては、保護層の領域（Ｑ）を、例えば、凹凸層上に凹凸層の凹凸を緩和させる層（後述する本発明の転写シートでは、緩和層と第二離型層の二層）を形成した積層体の表面形状を転写して形成する手段が挙げられる。

保護層は、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などの硬化性樹脂を用いて形成することが好ましい。電離放射線硬化性とは、電磁波または荷電粒子線の中で分子を架橋・重合させうるエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線または電子線等の照射により励起して、重合反応を生じることにより架橋・硬化する性能のことである。また、電離放射線硬化性官能基とは、上記電離放射線硬化性を発現しうる官能基のことであり、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、およびエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１種である。

保護層は、電離放射線硬化性樹脂を含むインキ組成物から形成されることが好ましく、更に、無機粒子の表面に反応性官能基を有する反応性無機粒子と、多官能イソシアネートとを含むインキ組成物から形成されることがより好ましい。このインキを、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、およびグラビアリバースロールコーティング法等の公知の手段により塗布・乾燥させて形成することができる。

電離放射線硬化性官能基を有するポリマーとしては、アクリル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、およびポリエーテル（メタ）アクリレートを挙げることができ、特にウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。本発明においては、これらのポリマーを単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

電離放射線硬化性官能基を有するポリマーの重量平均分子量は、好ましくは５０００〜１５００００程度であり、より好ましくは２００００〜１０００００である。数平均分子量が上記範囲内であれば、インキ組成物のチキソ性が得られ、良好な成形性も得られる。ここで、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定された値であり、標準サンプルにポリスチレンを用いた条件で測定された値である。また、優れた高硬度性および耐スクラッチ性を得る観点から、ポリマーの二重結合当量は、５０〜１０００、好ましくは１００〜１０００、より好ましくは１００〜５００である。ここで、二重結合当量は、電離放射線硬化性官能基１個あたりの分子量を意味する。

反応性無機粒子は、無機粒子の表面に反応性官能基を有するものである。反応性官能基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、エポキシ基、およびシラノール基等が好ましく挙げられ、高硬度性および耐スクラッチ性の向上の観点から、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、およびアリル基がより好ましい。

無機粒子としては、シリカ粒子（コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、沈降性シリカなど）、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、酸化亜鉛粒子などの金属酸化物粒子が好ましく挙げられ、高硬度性および耐スクラッチ性の向上の観点から、シリカ粒子が好ましい。

無機粒子の形状としては、球、楕円体、多面体、鱗片形などが挙げられ、これらの形状が均一で、整粒であることが好ましく、また無機粒子は、粒子同士の相互作用が弱く、単一分散された粒子であることが好ましい。無機粒子の平均粒子径は、インキ組成物により形成する層の厚さにより適宜選択しうるが、通常０．０５〜５．０μｍが好ましく、０．１〜０．５μｍがより好ましい。ここで、平均粒子径は、溶液中の該粒子を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を体積累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０：メジアン径）であり、Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計（日機装株式会社製）を用いて測定することができる。

また、無機粒子のなかでも、高硬度性の観点からは、異形無機粒子が好ましい。異形無機粒子は、無機粒子が平均連結数２〜４０個の連結凝集した無機粒子群からなるものであり、本発明においては無機粒子に包含されるものである。連結凝集は、規則的であっても不規則的であってもよい。該無機粒子群を形成する無機粒子としては、シリカ（コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、沈降性シリカなど）、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛などの金属酸化物からなる無機粒子が好ましく挙げられ、高硬度性および耐スクラッチ性の向上の観点から、シリカからなる無機粒子であることが好ましい。すなわち、異形無機粒子は、シリカ粒子が平均連結数２〜４０個の連結凝集したシリカ粒子群からなるものであることが好ましい。

このような反応性異形無機粒子としては、シランカップリング剤で表面装飾された異形無機粒子が好ましく挙げられる。シランカップリング剤としては、アルコキシ基、アミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロル基などを有する公知のシランカップリング剤が挙げられ、より具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが好ましく挙げられ、より好ましくは、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシランである。

異形無機粒子をシランカップリング剤で表面装飾する方法は、特に制限はなく公知の方法であればよく、シランカップリング剤をスプレーする乾式の方法や、異形無機粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式の方法などが挙げられる。

多官能イソシアネートは、イソシアネート基を２個以上有する化合物である。多官能イソシアネートとしては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ナフタレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、あるいは、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メチレンジイソシアネート（ＭＤＩ）、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂肪族（ないしは脂環式）イソシアネート等のポリイソシアネートが挙げられる。また、これら各種イソシアネートの付加体又は多量体、例えば、トリレンジイソシアネートの付加体、トリレンジイソシアネート３量体（ｔｒｉｍｅｒ）等や、ブロック化されたイソシアネート化合物等も挙げられる。

また、多官能イソシアネートのうち、電離放射線硬化性官能基としてビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基及びエポキシ基から選ばれる少なくとも一種をさらに有するものが、高硬度性の観点から特に好ましい。具体的には「Ｌａｒｏｍｅｒ ＬＲ９０００（商品名）」（ＢＡＳＦ社製）のように、エチレン性不飽和結合を有する官能基を少なくとも１個と、２個以上のイソシアネート基を有する多官能イソシアネートが好ましい。

上記のインキ組成物中の反応性無機粒子および／または反応性異形無機粒子の含有量は、好ましくは１５〜６０質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。ここで、インキ組成物中の反応性無機粒子および／または反応性異形無機粒子の含有量は、ポリマーならびに反応性無機粒子および／または反応性異形無機粒子の合計に対する反応性無機粒子および／または反応性異形無機粒子の含有量を意味し、ポリマーは固形分である。反応性無機粒子の含有量が上記範囲内であれば、優れた高硬度性および耐スクラッチ性が得られる。

上記のインキ組成物は、粘度を調整する目的で溶媒を含有してもよい。溶媒としては、トルエン、キシレンなどの炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコールなどのケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；ニトロメタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの含窒素化合物；プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソランなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタンなどのハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンなどのその他の物；またはこれらの混合物が好ましく挙げられる。より好ましい溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。

インキ組成物中の溶媒の量は、該組成物の粘度に応じて適宜選定すればよいが、上記ポリマーの固形分、反応性無機粒子や反応性異形無機粒子およびその他後述する光重合開始剤などを合わせた固形分の含有量が通常１０〜５０質量％程度、好ましくは２０〜４０量％となるような量である。

上記のインキ組成物は、光重合開始剤を配合することができる。光重合開始剤としては、凹凸層の項で説明したものを挙げることができる。
光重合開始剤の含有量は、上記のポリマーと無機粒子の合計に対して、０．５〜１０質量％程度とすることが好ましく、より好ましくは１〜８質量％、さらに好ましくは３〜８質量％であり、該ポリマーおよび無機粒子は固形分を基準としたものである。

上記のインキ組成物は、得られる所望物性に応じて、各種添加剤を配合することができる。添加剤としては、例えば紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、架橋剤、帯電防止剤、酸化防止剤、レベリング剤、チキソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤などが挙げられる。

また、保護層が熱硬化性樹脂から構成される場合、熱硬化性樹脂としては、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、アクリルポリオールをイソシアネートで硬化させた樹脂、ポリエステルポリオールをイソシアネートで硬化させた樹脂、アクリル酸をメラミンで硬化させた樹脂などを用いることができる。さらに、保護層が熱硬化性樹脂から構成される場合、熱硬化性樹脂に無機粒子を添加してもよい。熱硬化性樹脂に添加する無機粒子としては、保護層が電離放射線硬化性樹脂から構成される場合と同様に、上述の無機粒子を用いることができる。

また、保護層が熱可塑性樹脂から構成される場合、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂などを用いることができる。さらに、保護層が熱可塑性樹脂から構成される場合、熱可塑性樹脂に無機粒子を添加してもよい。熱可塑性樹脂に添加する無機粒子としては、保護層が電離放射線硬化性樹脂から構成される場合と同様に、上述の無機粒子を用いることができる。

保護層は、上述の樹脂と適当な溶媒等を含む保護層用塗工液を調製し、該塗工液をグラビア印刷法、スクリーン印刷法、スリットリバース法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により塗布、乾燥して形成することができる。

通常、保護層の乾燥後の厚みは、０．５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、１〜１５μｍの範囲内であることがより好ましい。保護層の厚みが、上記範囲内であると、優れた高硬度性、耐スクラッチ性、耐薬品性、および耐汚染性等の表面物性が得られ、さらに優れた成形性および形状追従性を得ることができる。領域（Ｐ）、領域（Ｑ）ともに上記範囲であることが好ましい。なお、保護層の厚みは、基部から頂部までを厚みとし、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶとすることが好ましい。ＳＴＥＭの倍率は、測定膜厚がミクロンオーダーの場合は１０００〜７０００倍とすることが好ましく、測定膜厚がナノオーダーの場合は５万〜３０万倍とすることが好ましい。

（樹脂成形体）
樹脂成形体としては、射出成形可能な熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、公知の様々な樹脂を用いることができる。
本発明の加飾成形品をインモールド成形により製造する場合には、熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。このような熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（耐熱ＡＢＳ樹脂を含む）、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。

本発明の加飾成形品は、樹脂成形体と保護層との間に、アンカー層、印刷層、接着層等の機能層を有していてもよい。

（アンカー層）
アンカー層は、インモールド成形等の高温環境に置かれる場合において、耐熱性を向上させるために設けられる層であり、硬化性樹脂を用いて形成される。硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、およびエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１種の電離放射線硬化性官能基を有するポリマーを用いることができる。例えば、アクリル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、およびポリエーテル（メタ）アクリレートを挙げることができ、特にウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。熱硬化性樹脂としては、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、アクリルポリオールをイソシアネートで硬化させた樹脂、ポリエステルポリオールをイソシアネートで硬化させた樹脂、およびアクリル酸をメラミンで硬化させた樹脂が挙げられる。

また、アンカー層は、アクリルポリオールとイソシアネートとを反応してなる樹脂を含むことが好ましい。アンカー層が、アクリルポリオールとイソシアネートとを反応してなる樹脂を含み、印刷層または接着層がアクリルポリオールを含むことで、印刷層または接着層の密着性を向上することができる。また、保護層の樹脂とアンカー層のアクリルポリオールとイソシアネートとを反応してなる樹脂との親和性により、保護層、アンカー層、および印刷層または接着層の各層間の密着性を向上させることができる。

さらに、アンカー層は、上記の樹脂に必要な添加剤を加えたものを適当な溶媒に溶解または分散させて調製したアンカー層用塗工液を、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、およびグラビアリバースロールコーティング法等の公知の手段により塗布・乾燥させて形成することができる。通常、アンカー層の厚みは、０．１〜６μｍの範囲内であることが好ましく、１〜５μｍの範囲内であることがより好ましい。

（印刷層）
印刷層は、加飾成形品に所望の意匠性を付与するための層であり、所望により設けられる層である。印刷層の絵柄は任意であるが、例えば、木目、石目、布目、砂目、幾何学模様、文字などからなる絵柄を挙げることができる。また、印刷層は、上記絵柄を表現する柄パターン層及び全面ベタ層を単独で又は組み合わせて設けることができ、全面ベタ層は、通常、隠蔽層、着色層、着色隠蔽層などとして用いられる。

印刷層は、通常は、保護層上、あるいはアンカー層上に、ポリビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、セルロース系樹脂などの樹脂をバインダーとし、適当な色の顔料又は染料を着色剤として含有する印刷インキによる印刷を行うことで形成する。印刷方法としては、グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、転写印刷、昇華転写印刷、インクジェット印刷などの公知の印刷法が挙げられる。
印刷層の厚みは、意匠性の観点から０．５〜４０μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましい。

（接着層）
接着層は、樹脂成形体と保護層等他の層とを密着させるために形成される層である。この接着層には、樹脂成形体の素材に適した感熱性又は感圧性の樹脂を適宜使用する。例えば、樹脂成形体の材質がアクリル系樹脂の場合は、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂成形体の材質がポリフェニレンオキサイド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用することが好ましい。さらに、樹脂成形体の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂を使用することが好ましい。
上記の樹脂には、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤等の添加剤を配合してもよい。

接着層の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。なお、印刷層が樹脂成形体に対して充分な接着性を有する場合には、接着層を設けなくてもよい。
接着層の厚みは、通常０．１〜５μｍ程度が好ましい。

本発明の加飾成形品の領域（Ｐ）または領域（Ｑ）における全光線透過率は、８５％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上である。上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
また、本発明の加飾成形品の領域（Ｐ）または領域（Ｑ）におけるヘイズは、意匠によって調整すればよいが、ディスプレイなどの表示部は好ましくは４０％以下、より好ましくは１．０〜４０％、更に好ましくは１．０〜３０％である。上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。

［加飾成形品の製造方法］
本発明の加飾成形品の製造方法は、上述の転写シートの保護層を被転写体（樹脂成形体）に転写する工程と、上記転写シートの離型シート（基材、凹凸層、第一離型層、及び第二離形層）を剥離する工程と、を有する。
加飾成形品の製造方法には、公知の転写法を用いることができる。例えば、（ｉ）予め成形された被転写体（樹脂成形体）に転写シートを貼着し、該転写シートの転写層を転写した後、該転写シートの離型シートを剥離する方法、（ｉｉ）平板状の被転写体（樹脂成形体）に転写シートを貼着し、該転写シートの転写層を転写した後、該転写シートの離型シートを剥離し、その後、樹脂成形体に転写層が積層された積層体に曲加工を行う方法、（ｉｉｉ）被転写体（樹脂成形体）を射出成形する際に転写シートと一体化させ、その後、転写シートの離型シートを剥離する方法〔インモールド成形（射出成形同時転写加飾法）〕等が挙げられる。中でも、インモールド成形（射出成形同時転写加飾法）によれば、三次元曲面などの複雑な表面形状を有する樹脂成形体に加飾成形することができる。

インモールド成形による本発明の転写シートを用いる加飾成形品の製造方法の一実施態様としては、
（ａ）上記の転写シートの転写層側をインモールド成形用金型の内側に向けて配置する工程と、
（ｂ）上記インモールド成形用金型内に樹脂を射出注入する工程と、
（ｃ）上記転写シートと、上記樹脂とを一体化させて、樹脂成形体（被転写体）の表面上に上記転写シートの転写層を転写する工程と、
（ｄ）樹脂成形体（被転写体）を金型から取り出した後、上記転写シートの離型シートを剥離する工程と、を有するものが挙げられる。
このような製造工程により加飾成形品を製造することで、樹脂成形体の表面に複雑な意匠を表現することができる。

［転写シート］
本発明の転写シートは、領域（Ｐ’）と、該領域（Ｐ’）に隣接する領域（Ｑ’）とを有する基材と、該基材の領域（Ｐ’）上に設けられた凹凸形状を有する凹凸層と、該凹凸層の凹凸形状の上に形成された第一離型層と、基材の領域（Ｑ’）上に設けられた第二離型層と、第一離型層と、第二離型層の上に形成された保護層とを有し、
第一離型層において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１１が特定の条件を満たし、且つカットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１１）が特定の条件を満たすことを特徴する。

図４乃至図６は、本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。図４の転写シート４０は、領域（Ｐ’）と、領域（Ｐ’）に隣接する領域（Ｑ’）とを有する基材３１を有する。基材３１の領域（Ｐ’）上に凹凸形状を有する凹凸層３２が設けられており、凹凸層３２の凹凸形状の上に第一離型層３３が設けられている。また、基材３１の領域（Ｑ’）上に第二離型層３４が設けられている。さらに、第一離型層３３と、第二離型層３４の上に保護層３５が設けられている。

また、図５に示すように、本発明の転写シート５０は、基材４１の領域（Ｑ’）上に凹凸層４２が形成されていてもよい。この場合、基材４１の領域（Ｑ’）上に形成された凹凸層４２上に緩和層４６が設けられ、該緩和層４６上に第二離型層４４が設けられる。また、保護層４５上に、アンカー層４７、印刷層４８、接着層４９が設けられていてもよい。このように、転写シート５０は、基材４１、凹凸層４２、第一離型層４３、第二離型層４４、及び緩和層４６を有する離型シートＸと、保護層４５、アンカー層４７、印刷層４８、及び接着層４９を有する転写層Ｙとから構成される。
なお、領域（Ｐ’）及び領域（Ｑ’）の位置は特に限定されず、図５に示すように領域（Ｑ’）の間または領域（Ｑ’）の内部に領域（Ｐ’）が配置されていてもよいし、図６に示すように、領域（Ｐ’）の間または領域（Ｐ’）の内部に領域（Ｑ’）が配置されていてもよい。
以下、本発明の転写シートを構成する各層について具体的に説明する。

（基材）
本発明の転写シートに用いられる基材は、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体などのビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチルなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ナイロン６又はナイロン６６などで代表されるポリアミド系樹脂などによるものが利用される。これらのうち、利用条件により基材を選定する。例えば、耐熱性重視の観点からはポリエチレンテレフタレート等が、湾曲形状等の被転写物表面形状追随性重視の観点からはナイロン等を用いることができる。

基材の厚みとしては、成形性や形状追従性、取り扱いが容易であるとの観点から、２５〜１５０μｍの範囲が好ましく、３０〜１００μｍの範囲がより好ましい。
また、基材の表面には、凹凸層等との接着性を高めるために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理や、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

（凹凸層）
凹凸層は、凹凸形状を有する層であり、基材の領域（Ｐ’）上に形成される。
凹凸層は、フィラーとバインダー樹脂を主体とする樹脂組成物を用いて凹凸形状を形成する方法や、フィラーを含まず樹脂等のみを含んだ樹脂組成物を用いて相分離により凹凸形状を形成する方法や、フィラーを含まず樹脂等のみを含んだ樹脂組成物を型に転写させて凹凸形状を形成する方法等により形成することができる。本発明では、凹凸層は、フィラーとバインダー樹脂を主体とする樹脂組成物から形成されてなるものが好ましい。該樹脂組成物を用いることで、凹凸層の保護層と接する表面を凹凸形状にすることができる。バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂が挙げられ、皮膜強度の観点から硬化性樹脂が好ましい。

硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂、及び光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の電離放射線硬化性樹脂から選択することができる。熱硬化性樹脂としては、加熱すると硬化（不溶化）する樹脂として通常知られているものを適用できる。例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、アクリルポリオールをイソシアネートで硬化させた樹脂、ポリエステルポリオールをメラミンで硬化させた樹脂、及びアクリル酸をメラミンで硬化させた樹脂等が挙げられる。また、熱硬化性樹脂の構成成分であるモノマーを組み合わせて用いてもよい。

また、光硬化性樹脂を用いた組成物としては、例えば、分子中にビニル基等の反応性二重結合を有する化合物（低分子量物に限らず、高分子をも含む）と、光重合開始剤とを主成分とするものが挙げられる。また、電子線硬化性樹脂を用いた組成物としては、例えば、分子中にビニル基等の反応性二重結合を有する化合物と、必要により樹脂とを主成分とするものが挙げられる。上記分子中に反応性二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基を有する、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレートなどの１官能タイプや、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能タイプがある。また、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴアクリレート、ポリアルキドアクリレート、ポリオールアクリレートなどのオリゴマー等もある。さらに、ビニル基やアリル基を有する、例えば、スチレンモノマー、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、ペンテン、ヘキセン、不飽和化合物等がある。

光重合開始剤は、特に、紫外線で硬化させる場合に添加される。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系などの光重合開始剤が好適に用いられる。上記ベンゾインエーテル系としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等がある。アセトフェノン系としては、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等がある。ベンゾフェノン系としては、ベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ジベンゾスベレノン等がある。チオキサントン系としては、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−エチルアントラキノン等がある。
上記光重合開始剤は、前記反応性二重結合を有する化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０５〜１０質量部、より好ましくは０．１〜５質量部の範囲で添加される。また、光重合開始剤は１種に限らず、２種以上を併用してもよい。

上記の熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、あるいは電子線硬化性樹脂の硬化性樹脂を凹凸層に使用することにより、フィラーを強固に担持し、また凹凸層の被膜が強固となる。このように、フィラーを強固に担持しているため、フィラーが取れることを契機とした凹凸層の剥離（転写）が起こらない。これにより、転写シートの転写層が転写して形成された加飾成形品の表面には、微細な凹凸形状が安定して形成され、不揃いの部分が生じない。

凹凸層に含有するフィラーは、平均粒径が０．５〜１０μｍであることが好ましく、有機フィラー、あるいは無機フィラーを用いることができる。ここで、本発明では、光透過式遠心沈降法により求められる全フィラーの５０質量％点にあるフィラーの「等価球形直径」をフィラーの平均粒径と定義する。平均粒径を０．５μｍ以上とすることで、加飾成形品の表面に十分な微細凹凸を設けることができ、十分なマット感が得られる。平均粒径を１０μｍ以下とすることで、フィラーを多量に添加しなくても十分なマット感が得られ、また、離型シートを保護層との界面で剥離しやすくすることができる。

無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、クレー、タルク、珪藻土、ゼオライト、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、ガラスビーズなどのフィラーが挙げられる。また、有機フィラーとしては、各種の合成樹脂粒子、例えば、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン／メラミン／ホルマリン縮合物、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、スチレン樹脂等が挙げられ、これらの１種又は２種を混合して用いることもできる。特に、メラミンとホルムアルデヒドの縮合物や、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドの縮合物の有機フィラーが、加飾成形品の表面のマット感を向上させ、反射防止性の効果を高める点、あるいは塗工時のインキの安定性の点から好ましい。

上記のフィラーは、バインダー樹脂１００質量部（固形分）に対し、０．５〜３０質量部（固形分）で含有していることが好ましい。０．５質量部以上とすることで、凹凸層表面に適度な微細凹凸形状を形成することができ、３０質量部以下とすることで、凹凸層の膜強度の低下を抑制し、離型シートを保護層との界面で剥離しやすくすることができる。

凹凸層は、上記のフィラーとバインダー樹脂に、必要に応じて、添加剤を加え、適当な溶媒により、溶解または分散させて凹凸層用塗工液を調製し、これを基材上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、スリットリバース法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により塗布、乾燥し、必要に応じて硬化して形成することができる。

凹凸層の乾燥後の厚みＴ_１（以下、凹凸層の厚みＴ_１と称する）は、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜８μｍである。なお、凹凸層の厚みＴ_１とは、凹凸層の基部から頂部までの厚みを指すものである。

（第一離型層）
第一離型層は、基材及び凹凸層から転写層を容易に剥離すると共に、加飾成形品のコントラストを向上させるために設けられる層であり、上述の領域（Ｐ’）の上に形成される。したがって、第一離型層の表面形状は、凹凸層の凹凸形状に追随した形状、即ち、凹凸形状となる。
本発明では、第一離型層の凹凸形状において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１１が下記の条件（１）’を満たす。
θａ_１１＞１．０度 （１）’

上記条件（１）’を満たすことにより、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層が、上述の条件（１）を満たし、加飾成形品に十分な防眩性を付与することができる。また、十分なマット感が得られ、意匠性を向上させることができる。
上記θａ_１１の上限値は特に限定されないが、好ましくは３．００度以下、より好ましくは２．５０度以下、更に好ましくは２．００度以下である。

また、第一離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１１）が、下記の条件（２）’を満たす。
０．４５≦（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１ （２）’

上記条件（２）’を満たすことにより、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層が、上述の条件（２）を満たし、白化を抑制することができる。
なお、高周波成分の凹凸は剥離を重くする傾向にある。このため、上記条件（２）’を満たすことにより、保護層からその他の層（基材、凹凸層等）を剥離しやすくできる。

（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１は、より好ましくは０．５０以上である。
また、（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１の上限値は、好ましくは０．９０未満、より好ましくは０．８０以下、更に好ましくは０．７０以下である。

なお、Ｒａ_ｘ１１は、好ましくは０．１２〜０．２０、より好ましくは０．１２〜０．１８である。また、Ｒａ_ｙ１１は、好ましくは０．０５〜０．１０、より好ましくは０．０６〜０．０９である。

また、第一離型層の凹凸表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１のスキューネス（Ｒｓｋ_ｘ１１）が下記の条件（５）’を満たすことが好ましい。
０＜Ｒｓｋ_ｘ１ （５）’

上記条件（５）’を満たすことにより、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層が、上述の条件（５）を満たすことができる。

なお、Ｒａ_ｘ１１、Ｒａ_ｙ１１、θａ_１１、及びＲｓｋ_ｘ１１の値は、それぞれ２０点測定し、測定した２０点の平均で算出する。

凹凸層の厚みＴ_１と第一離型層の乾燥後の厚みＴ_２（以下、第一離型層の厚みＴ_２と称する）との比（Ｔ_１／Ｔ_２）は、好ましくは０．２〜２００、より好ましくは１．０〜１００、更に好ましくは２．０〜５０、より更に好ましくは３．０〜１０である。０．２以上とすることで、低周波成分の凹凸による防眩性を付与しやすくすることができ、２００以下とすることで、加飾成形品のコントラストが向上するとともに、ギラツキを抑制し、意匠性を高めることができる。
なお、凹凸層の厚みＴ_１及び第一離型層の厚みＴ_２は、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶとすることが好ましい。ＳＴＥＭの倍率は、測定膜厚がミクロンオーダーの場合は１０００〜７０００倍とすることが好ましく、測定膜厚がナノオーダーの場合は５万〜３０万倍とすることが好ましい。

第一離型層は、保護層との接着力が低く、基材から転写層を容易に剥離し得る材料であれば特に限定されず、例えば、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂（例えば、アクリル−メラミン系樹脂が含まれる。）、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体樹脂、硝化綿などの熱可塑性樹脂、該熱可塑性樹脂を形成するモノマーの共重合体、あるいはこれらの樹脂を（メタ）アクリル酸やウレタンで変性したものを、単独で又は複数を混合した樹脂組成物を用いて形成することができる。
本発明では、特に、エステル基含有硬化性樹脂を用いて形成することが好ましい。エステル基含有硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、側鎖にエステル基を有する電離放射線硬化性樹脂であればよく、側鎖にエステル基を有するアクリル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、およびポリエーテル（メタ）アクリレートが挙げられる。熱硬化性樹脂としては、側鎖にエステル基および水酸基を有するポリマーとイソシアネートとを反応してなる樹脂であればよく、例えば、側鎖にエステル基および水酸基を有するアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、並びにフェノール樹脂とイソシアネートとを反応してなる樹脂を用いることでき、特にアクリルポリオールとイソシアネートとを反応してなる樹脂を用いることが好ましい。

第一離型層は、平均粒子径０．５μｍ以上のフィラーを含まないことが好ましく、平均粒子径０．２μｍ以上のフィラーを含まないことがより好ましい。第一離型層が平均粒子径０．５μｍ以上のフィラーを含まないことで第一離型層上の凹凸の高周波成分を減少させることができる。したがって、本発明の転写シートを用いて得られる加飾成形品は、その表面に第一離型層によって凹凸層の高周波成分の凹凸が緩和された凹凸形状（第一離型層の表面の凹凸形状）が形成されることにより、凹凸形状部分のコントラストが向上し、意匠性を高めることができる。また、凹凸形状部分のギラツキを抑制することができる。

第一離型層は、塗工液にチキソ性を付与するため、０．５μｍ未満のフィラーを添加してもよい。ただし、高周波成分の凹凸を少なくする観点から、該フィラーの平均粒子径は０．２μｍ未満であることが好ましく、その含有量は樹脂成分１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。

第一離型層は、第一離型層を構成する樹脂と適当な溶媒等を含む第一離型層用塗工液を調製し、これを凹凸層の凹凸形状の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、スリットリバース法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により塗布、乾燥して形成することができる。

第一離型層の厚みＴ_２は、好ましくは０．０５〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍである。

（第二離型層）
第二離型層は、基材及び緩和層から転写層を容易に剥離するために設けられる層であり、基材の領域（Ｑ’）上に設けられる。
本発明では、第一離型層における平均傾斜角θａ_１１と、第二離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_２２とが、下記の条件（３）’を満たすことが好ましい。
０．５０度≦θａ_１１−θａ_２２ （３）’

上記条件（３）’を満たすことにより、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層が、上述の条件（３）を満たし、加飾成形品の意匠性を高めることができる。
θａ_１１−θａ_２２は、より好ましくは０．７０度以上、更に好ましくは０．９０度以上である。
θａ_１１は、好ましくは１．５〜２．０、より好ましくは１．６〜１．８である。また、θａ_２２は、好ましくは０．５〜１．２、より好ましくは０．６〜１．０である。

また、第二離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ２２）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ２２）が、下記の条件（４）’を満たすことが好ましい。
０．９０≦（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２ （４）’

上記条件（４）’を満たすことにより、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層が、上述の条件（４）を満たすことができる。
（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２は、より好ましくは１．２０以上、更に好ましくは１．５０以上である。
また、（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２の上限値は特に限定されないが、好ましくは２．５０以下、より好ましくは２．００以下である。

なお、Ｒａ_ｘ２２は、好ましくは０．１０〜０．１７、より好ましくは０．１１〜０．１６である。また、Ｒａ_ｙ２２は、好ましくは０．０３〜０．０６、より好ましくは０．０４〜０．０６である。

（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１と（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２との比〔（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１〕／〔（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２〕は、好ましくは０．５６以下、より好ましくは０．５０以下である。０．５６以下とすることで、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層の領域（Ｑ）は、領域（Ｐ）とは異なる光沢感やマット感、質感等を得ることができる。

また、｛（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２｝−｛（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１｝＞０．３０とすることで、本発明の転写シートを用いて得られる上述の加飾成形品の保護層の領域（Ｑ）は、領域（Ｐ）とは異なる光沢感やマット感、質感等を得ることができ好ましい。領域（Ｐ）と領域（Ｑ）との対比を鮮明にするという観点からは、より好ましくは０．４０以上、更に好ましくは０．６０以上である。

なお、Ｒａ_ｘ２２、Ｒａ_ｙ２２、及びθａ_２２の値は、それぞれ２０点測定し、測定した２０点の平均で算出する。

第二離型層は、保護層との接着力が低く、基材から転写層を容易に剥離し得る材料であれば特に限定されず、例えば、第一離型層の項で例示した樹脂を用いて形成することができ、上記第一離型層に用いられる樹脂組成物と同じであってもよく、異なっていてもよい。

第二離型層は、平均粒子径０．５μｍ以上のフィラーを含まないことが好ましく、平均粒子径０．２μｍ以上のフィラーを含まないことがより好ましい。第二離型層が平均粒子径０．５μｍ以上のフィラーを含まないことで、該第二離型層の表面の平滑性が向上し、それによって、第二離型層上に設けた保護層の面の平滑性を向上させることができる。その結果、保護層を備える転写層が被転写体に転写された時、加飾成形品の表面に保護層の平滑な面が形成されるため、凹凸層及び第一離型層により形成される凹凸形状と異なる風合いを表現できる。

第二離型層は、塗工液にチキソ性を付与するため、０．５μｍ未満のフィラーを添加してもよい。ただし、高周波成分の凹凸を少なくする観点から、該フィラーの平均粒子径は０．２μｍ未満であることが好ましく、その含有量は樹脂成分１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。

第二離型層は、上述の樹脂と適当な溶媒等を含む第二離型層用塗工液を調製し、これを基材上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、スリットリバース法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により塗布、乾燥して形成することができる。

基材の領域（Ｑ’）上に凹凸層を有さない場合、並びに基材の領域（Ｑ’）上に凹凸層及び緩和層を有する場合の第二離型層の乾燥後の厚みＴ_３（以下、第二離型層の厚みＴ_３と称する）は、好ましくは０．０５〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍである。また、基材の領域（Ｑ’）上に凹凸層を有し、緩和層を有さない場合の第二離型層の厚みＴ_３は、好ましくは０．０５〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍである。

（緩和層）
本発明の転写シートは、基材の領域（Ｑ’）上に凹凸層を形成した場合には、該凹凸層の凹凸形状をより滑らかにするために、該凹凸層と第二離型層との間に、さらに緩和層を設けることが好ましい。
緩和層は、ポリビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、セルロース系樹脂などの樹脂のみから形成してもよいし、これらの樹脂をバインダーとし、適当な色の顔料又は染料を着色剤として含有する着色インキにより形成してもよい。緩和層が着色剤を含むことで、転写層に図柄を印刷する場合の位置あわせ、及び被転写体との位置あわせをするためのマーカーを、緩和層形成と同時に形成することができる。この場合、色とは、人の感じられる色に限らず、赤外線等、機械的に検知できる色を含む。中でも緩和層は、光電管の光源の種類によらず確実に検出される観点から黒色が好ましい。印刷方法としては、グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、転写印刷、昇華転写印刷、インクジェット印刷などの公知の印刷法が挙げられる。なお、第二離型層に着色剤を含有させず、緩和層に着色剤を含有させることにより、第二離型層の表面に着色剤に起因する凹凸を形成させにくくできるとともに、第二離型層と保護層との剥離性を良好にしやすくできる。

緩和層の厚みは、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。着色剤の平均粒径は５ｎｍ〜５００ｎｍであることが、凹凸を緩和させる観点から好ましい。ここで、平均粒子径は、溶液中の該着色剤を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０：メジアン径）であり、Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計（日機装株式会社製）を用いて測定することができる。

基材の領域（Ｑ’）上に凹凸層を形成する場合の凹凸層の厚みと凹凸層上に存在する離型シートを構成する層の厚みの合計との比［凹凸層の厚み／凹凸層上に存在する離型シートを構成する層の厚みの合計］は、好ましくは０．０１〜７０であり、より好ましくは０．１〜１５である。

（剥離層）
本発明の転写シートは、第一離型層及び第二離型層と、保護層との間に、さらに剥離層を設けてもよい。剥離層を設けることで、転写シートから離型シートを剥離して、該剥離層を含む転写層を確実かつ容易に被転写体へ転写させることができる。

剥離層は、アクリル系樹脂を含んでなり、ビニル系樹脂およびポリエステル系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種をさらに含んでもよい。アクリル系樹脂としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、およびポリ（メタ）アクリル酸ブチル等が挙げられる。ビニル系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、およびポリビニルブチラール等が挙げられる。剥離層は、アクリル系樹脂と、ビニル系樹脂および／またはポリエステル系樹脂とを組み合わせて含むことで、離型層との密着強度を向上させることができる。

剥離層は、離型剤をさらに含んでもよい。離型剤としては、合成ワックスや天然ワッス等のワックス類が挙げられる。合成ワックスとしては、ポリエチレンワックスやポリプピレンワックス等のポリオレフィンワックスが好ましい。剥離層は離型剤を含むことで、離型性を向上させることができる。

本発明の転写シートは、保護層の基材とは反対側の面上に、さらに、アンカー層、印刷層、接着層等の機能層を有していてもよい。アンカー層、印刷層、及び接着層の材料等は「加飾成形品」の項で説明したとおりである。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。

１．平均傾斜角（θａ）、算術平均粗さ（Ｒａ）、及びスキューネス（Ｒｓｋ）の測定
１−１．カットオフ値０．８ｍｍによる測定
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、実施例及び比較例で作製した加飾成形品の保護層の領域（Ｐ）（転写シートの領域（Ｐ’）に対応する部分）の表面について、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１のＲａ、及びＲｓｋを測定した。また、同様に、領域（Ｑ）（転写シートの領域（Ｑ’）に対応する部分）の表面について、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１のＲａを測定した。また、明細書本文に記載の手法に基づき、領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）のθａを算出した。
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
・評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍

１−２．カットオフ値０．０８ｍｍによる測定
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、実施例及び比較例で作製した加飾成形品の保護層の領域（Ｐ）（転写シートの領域（Ｐ’）に対応する部分）の表面について、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１のθａ、Ｒａ、及びＲｓｋを測定した。また、同様に、領域（Ｑ）（転写シートの領域（Ｑ’）に対応する部分）の表面について、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１のθａ、及びＲａを測定した。
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．０８ｍｍ
・評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：０．４ｍｍ
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
なお、実施例１で得られた加飾成形品の保護層の領域（Ｑ）は、略平滑であることからθａ_２、Ｒａ_ｘ２、及びＲａ_ｙ２の測定を省略した。

２．コントラスト
実施例及び比較例で得られた加飾成形品の透明アクリルシート側の面を、画像が印刷された黒色アクリル樹脂板の印刷面上に貼り合わせた。蛍光灯のついた明るい室内で、加飾成形品の保護層の領域（Ｐ）上の凹凸部分を目視で観察し、黒色の背景と画像とのコントラストが極めてよいものを３点、黒色の背景と画像とのコントラストがよいものを２点、黒色の背景と画像とのコントラストが悪いものを１点として、２０人の被験者が評価を行い、平均点を算出した。
＜評価基準＞
○：平均点が２．５以上
△：平均点が１．５以上２．５未満
×：平均点が１．５未満

３．ギラツキ
実施例及び比較例で得られた加飾成形品の透明アクリルシート側の面を表示装置の画面に貼り合わせ、表示装置の画面の領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）について、正面から目視により観察し、映像光に微細な輝度のばらつきが全くなかったものを３点、映像光に微細な輝度のばらつきがほとんどなかったものを２点、映像光に微細な輝度のばらつきがみられたものを１点として、２０人の被験者が評価を行い、平均点を算出した。
＜評価基準＞
○：平均点が２．５以上
△：平均点が１．５以上２．５未満
×：平均点が１．５未満

４．意匠性
実施例及び比較例で得られた加飾成形品の保護層の領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）について、該保護層側から目視により観察し、領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）の光沢感に極めて差があり、且つ領域（Ｐ）の正反射が強すぎないものを３点、領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）の光沢感に差があり、且つ領域（Ｐ）の正反射が強すぎないものを２点、領域（Ｐ）及び領域（Ｑ）の光沢感に差がないものを１点として、２０人の被験者が評価を行い、平均点を算出した。
＜評価基準＞
○：平均点が２．５以上
△：平均点が１．５以上２．５未満
×：平均点が１．５未満

（実施例１）
（１）転写シートの製造
基材として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材（東レ（株）製、Ｓ１０５、コロナ処理）を準備し、ＰＥＴ基材の一方の面の領域（Ｐ’）上に、下記処方の凹凸層用塗工液を乾燥後の塗布量が３．０ｇ／ｍ^２となるように塗布し、塗膜を形成した後、室温（２５℃）で７２時間エージングし、プレ硬化させた凹凸層を形成した。
＜凹凸層用塗工液＞
・アクリルポリオール（綜研化学（株）製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ 固形分：５０％ 溶剤：トルエン／酢酸エチル混合溶剤）：４０質量部
・フィラー（（株）日本触媒製、商品名：エポスターＳ１２、平均粒子径１．２μｍ）：４質量部
・イソシアネート（三井化学（株）製、タケネートＤ−１１０Ｎ 固形分：７５％ 溶剤：酢酸エチル）（タケネートは登録商標）：１４質量部
・酢酸エチル：４０質量部

次いで、基材の領域（Ｐ’）上に形成したプレ硬化の凹凸層上、及び基材の領域（Ｑ’）上に、下記処方の離型層用塗工液を乾燥後の塗布量が０．６ｇ／ｍ^２となるように塗布した後、４０℃で９６時間エージングし、硬化させ、プレ硬化の凹凸層を完全に硬化させると共に、離型層（凹凸層上の第一離型層（厚み：０．５μｍ）、及び領域（Ｑ’）上の第二離型層（厚み：０．５μｍ））を形成した。なお、完全硬化後の凹凸層の厚みは２．５μｍであった。
第一離型層におけるθａ_１１、Ｒａ_１１、及びＲａ_ｙ１１の値は、それぞれ表１に示すθａ_１、Ｒａ_１、及びＲａ_ｙ１の値と略同等であった。また、第一離型層におけるＲｓｋ_１１は、表１に示すＲｓｋ_１において正負が逆の値と略同等であった。
＜離型層用塗工液＞
・アクリルポリオール（綜研化学（株）製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ 固形分：５０％ 溶剤：トルエン/酢酸エチル混合溶剤）：７０質量部
・イソシアネート（三井化学（株）製、タケネートＤ−１１０Ｎ 固形分：７５％ 溶剤：酢酸エチル）（タケネートは登録商標）：２５質量部
・酢酸エチル：１６１質量部
・メチルイソブチルケトン：５６質量部

次いで、第一離型層及び第二離型層上に下記処方の保護層用塗工液を乾燥後の塗布量が６．５ｇ／ｍ^２となるように塗布し、塗膜を形成した後、フュージョンＵＶランプシステムを用いて光源をＨバルブ、搬送速度２０ｍ／ｍｉｎ、出力４０％の条件で照射し、保護層を半硬化させた。このときの積算光量を、アイグラフィックス（株）製、照度計ＵＶＰＦ−Ａ１により測定したところ、１５ｍＪ／ｍ^２であった。なお、半硬化後の保護層の厚みは６μｍであった。
＜保護層用塗工液＞
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物（大日精化（株）製、商品名：セイカビームＨＴ−Ｘ 固形分：３５％ 溶剤：トルエン・酢酸エチル混合溶剤）：７０質量部
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物（大日精化（株）製、商品名：セイカビームＥＸＦ−ＨＴ−１ 固形分：４０％ 溶剤：トルエン/メチルエチルケトン混合溶剤） ：３０質量部

次いで、保護層上に下記処方のアンカー層用塗工液を乾燥後の塗布量が３．０ｇ／ｍ^２となるように塗布し、塗膜を形成した後、４０℃で７２時間乾燥し、硬化させ、厚さ２μｍのアンカー層を形成した。
＜アンカー層用塗工液＞
・アクリルポリオール（大日精化（株）製、商品名：ＴＭ−ＶＭＡＣ 固形分２５％ 溶剤：トルエン／酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶剤）：１００質量部
・キサンメチレンジイソシアネート（大日精化（株）製、商品名：ＰＴＣ−ＲＣ３ 固形分：７５％ 溶剤：酢酸エチル）：１０質量部

次いで、アンカー層上に下記処方の接着層用塗工液を塗布量２．５ｇ／ｍ^２で塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を乾燥し、厚み２μｍの接着層を形成し、転写シートを得た。
＜接着層用塗工液＞
・アクリル系樹脂（大日精化（株）製、商品名：ＴＭ−Ｒ６００ 固形分２０％ 溶剤：酢酸エチル／酢酸−ｎ−プロピル／メチルエチルケトン混合溶剤）：１００質量部
・メチルエチルケトン：４０質量部

（２）加飾成形品の製造
得られた転写シートの接着層側の面を透明アクリルシート（クラレ（株）製、商品名：コモグラスＤＫ３、厚み２ｍｍ）に重ね合わせ、転写シートの基材側から加熱転写した。次いで、転写シートの離型シート（基材、凹凸層、第一離型層、及び第二離型層）を剥離した後、樹脂成形体に紫外線照射（大気中、Ｈバルブ、８００ｍＪ／ｃｍ^２）し、保護層（厚み６μｍ）を完全に硬化させ、加飾成形品を得た。

（実施例２）
（１）転写シートの製造
基材として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材（東レ（株）製、Ｓ１０５、コロナ処理）を準備し、ＰＥＴ基材の一方の面上に、下記処方の凹凸層用塗工液を乾燥後の塗布量が３．０ｇ／ｍ^２となるように塗布し、塗膜を形成した後、室温（２５℃）で７２時間エージングし、プレ硬化させた凹凸層を形成した。
＜凹凸層用塗工液＞
・アクリルポリオール（綜研化学（株）製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ 固形分：５０％ 溶剤：トルエン／酢酸エチル混合溶剤）：４０質量部
・フィラー（（株）日本触媒製、商品名：エポスターＳ１２、平均粒子径１．２μｍ）：４質量部
・イソシアネート（三井化学（株）製、タケネートＤ−１１０Ｎ 固形分：７５％ 溶剤：酢酸エチル）（タケネートは登録商標）：１４質量部
・酢酸エチル：４０質量部

次いで、基材の領域（Ｑ’）上に形成したプレ硬化の凹凸層上に下記処方の緩和層用塗工液を塗布量１．０ｇ／ｍ^２で塗布し、該塗膜を８０℃で乾燥し、厚さ１μｍの緩和層をグラビア印刷により形成した。
＜緩和層用塗工液＞
・黒色グラビアインキ（（株）昭和インク工業所製、商品名：ＥＩＳ（ＮＴ）黒 固形分：３２％ メチルエチルケトン／酢酸エチル／メチルイソブチルケトン混合溶剤）：１００質量部
・メチルエチルケトン：６５質量部

次いで、基材の領域（Ｐ’）上のプレ硬化した凹凸層上、及び基材の領域（Ｑ’）上の緩和層上に、下記処方の離型層用塗工液を乾燥後の塗布量が０．６ｇ／ｍ^２となるように塗布した後、４０℃で９６時間エージングし、硬化させ、プレ硬化の凹凸層を完全に硬化させると共に、離型層（凹凸層上の第一離型層（厚み：０．５μｍ）、及び緩和層上の第二離型層（厚み：０．５μｍ））を形成した。なお、完全硬化後の凹凸層の厚みは２．５μｍであった。
第一離型層におけるθａ_１１、Ｒａ_１１、及びＲａ_ｙ１１の値は、それぞれ表１に示すθａ_１、Ｒａ_１、及びＲａ_ｙ１の値と略同等であった。また、第一離型層におけるＲｓｋ_１１は、表１に示すＲｓｋ_１において正負が逆の値と略同等であった。第二離型層におけるθａ_２２、Ｒａ_２２、及びＲａ_ｙ２２の値は、それぞれ表１に示すθａ_２、Ｒａ_２、及びＲａ_ｙ２の値と略同等であった。
＜離型層用塗工液＞
・アクリルポリオール（綜研化学（株）製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ 固形分：５０％ 溶剤：トルエン/酢酸エチル混合溶剤）：７０質量部
・イソシアネート（三井化学（株）製、タケネートＤ−１１０Ｎ 固形分：７５％ 溶剤：酢酸エチル）（タケネートは登録商標）：２５質量部
・酢酸エチル：１６１質量部
・メチルイソブチルケトン：５６質量部

次いで、実施例１と同様にして、第一離型層及び第二離型層上に、保護層、アンカー層、及び接着層を順次形成し、転写シートを得た。

（２）加飾成形品の製造
得られた転写シートの接着層側の面を透明アクリルシート（クラレ（株）製、商品名：コモグラスＤＫ３、厚さ２ｍｍ）に重ね合わせ、転写シートの基材側から加熱転写した。転写シートの離型シート（基材、凹凸層、緩和層、第一離型層、及び第二離型層）を剥離した後、樹脂成形体に紫外線照射（大気中、Ｈバルブ、８００ｍＪ／ｃｍ^２）し、保護層（厚み６μｍ）を完全に硬化させ、加飾成形品を得た。

（実施例３）
（１）転写シートの製造
実施例１において、凹凸層用塗工液のフィラーを５．０質量部に変更した以外は実施例１と同様にして転写シートを得た。

（２）加飾成形品の製造
得られた転写シートを用いて、実施例１と同様にして加飾成形品を得た。

（実施例４）
（１）転写シートの製造
実施例２において、凹凸層用塗工液のフィラーを３．５質量部に変更した以外は実施例２と同様にして転写シートを得た。

（２）加飾成形品の製造
得られた転写シートを用いて、実施例２と同様にして加飾成形品を得た。

（比較例１）
（１）転写シートの製造
実施例２で、基材の領域（Ｐ’）上に形成した凹凸層上に第一離型層を形成しなかった以外は実施例２と同様にして転写シートを得た。

（２）加飾成形品の製造
得られた転写シートを用いて、実施例２と同様にして加飾成形品を得た。

（比較例２）
（１）転写シートの製造
実施例２において、凹凸層用塗工液のフィラーを平均粒子径１．０μｍのものとし、３．５質量部に変更した以外は実施例２と同様にして転写シートを得た。

（２）加飾成形品の製造
得られた転写シートを用いて、実施例２と同様にして加飾成形品を得た。

本発明の加飾成形品は、携帯電話などの通信機器、自動車内部の情報機器、家電製品などの分野において好適に用いることができる。特に、コントラストが高く、意匠性に優れると共に表面のギラツキが抑制されるため、携帯電話などの通信機器、自動車内部の情報機器などのディスプレイに好適に用いることができる。

１０、２０、３０ 加飾成形品
４０、５０、６０ 転写シート
１、１１、２１ 樹脂成形体
２、１２、２２、３５、４５、５５ 保護層
１３、２３、４７、５７ アンカー層
１４、２４、４８、５８ 印刷層
１５、２５、４９、５９ 接着層
３１、４１、５１ 基材
３２、４２、５２ 凹凸層
３３、４３、５３ 第一離型層
３４、４４、５４ 第二離型層
４６、５６ 緩和層
Ｐ 保護層の領域（Ｐ）
Ｑ 保護層の領域（Ｑ）
Ｐ’ 基材の領域（Ｐ’）
Ｑ’ 基材の領域（Ｑ’）
Ｘ 離型シート
Ｙ 転写層

Claims (9)

1. 樹脂成形体上に、凹凸を有する保護層を備え、
   前記保護層の凹凸において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１が下記の条件（１）を満たし、
   前記保護層の前記凹凸表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１）が、下記の条件（２）を満たす、加飾成形品。
   θａ_１＞１．０度 （１）
   ０．４５≦（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１ （２）
2. 前記保護層が、前記凹凸を有する領域（Ｐ）と、前記領域（Ｐ）に隣接する領域（Ｑ）とを有し、
   前記領域（Ｐ）の平均傾斜角θａ_１と、前記保護層の前記領域（Ｑ）の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_２とが、下記の条件（３）を満たす、請求項１に記載の加飾成形品。
   ０．５０度≦θａ_１−θａ_２ （３）
3. 前記保護層の前記領域（Ｑ）の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ２）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ２）が、下記の条件（４）を満たす、請求項２に記載の加飾成形品。
   ０．９０≦（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２ （４）
4. 前記（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１と前記（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２との比〔（Ｒａ_ｘ１−Ｒａ_ｙ１）／Ｒａ_ｙ１〕／〔（Ｒａ_ｘ２−Ｒａ_ｙ２）／Ｒａ_ｙ２〕が０．５６以下である、請求項３に記載の加飾成形品。
5. 領域（Ｐ’）と、前記領域（Ｐ’）に隣接する領域（Ｑ’）とを有する基材と、
   前記基材の領域（Ｐ’）上に設けられた凹凸形状を有する凹凸層と、
   前記凹凸層の前記凹凸形状の上に形成された第一離型層と、
   前記基材の領域（Ｑ’）上に設けられた第二離型層と、
   前記第一離型層と、前記第二離型層の上に形成された保護層とを有し、
   前記第一離型層において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_１１が下記の条件（１）’を満たし、
   前記第一離型層表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ１１）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ１１）が、下記の条件（２）’を満たす、転写シート。
   θａ_１１＞１．０度 （１）’
   ０．４５≦（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１ （２）’
6. 前記第一離型層における平均傾斜角θａ_１１と、前記第二離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際の平均傾斜角θａ_２２とが、下記の条件（３）’を満たす、請求項５に記載の転写シート。
   ０．５０度≦θａ_１１−θａ_２２ （３）’
7. 前記第二離型層の表面において、カットオフ値を０．８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｘ２２）、及びカットオフ値を０．０８ｍｍとした際のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さ（Ｒａ_ｙ２２）が、下記の条件（４）’を満たす、請求項６に記載の転写シート。
   ０．９０≦（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２ （４）’
8. 前記（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１と前記（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２との比〔（Ｒａ_ｘ１１−Ｒａ_ｙ１１）／Ｒａ_ｙ１１〕／〔（Ｒａ_ｘ２２−Ｒａ_ｙ２２）／Ｒａ_ｙ２２〕が０．５６以下である、請求項７に記載の転写シート。
9. 請求項５乃至８のいずれか一項に記載の転写シートの保護層を被転写体に転写する工程と、
   前記転写シートの基材、凹凸層、第一離型層、及び第二離形層を剥離する工程と、
   を有する、加飾成形品の製造方法。