JP5598428B2 - モスアイフィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
透明基材フィルムはモスアイフィルムの基材(ベース材)となるものであって、透明樹脂フィルム等が用いられる。モスアイフィルムを形成する樹脂材料としては、透明樹脂であれば特に限定されず、例えばポリ(メタ)アクリル系樹脂、トリアセテートセルロース(TAC)系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)系樹脂、ポリカーボネート(PC)系樹脂等が挙げられる。それらの中でも、汎用性などの観点からトリアセテートセルロース(TAC)系樹脂又はポリエチレンテレフタレート(PET)系樹脂が好ましい。透明基材フィルムの厚みは、通常10〜500μm、好ましくは25〜200μmである。
モスアイ層は透明基材フィルムの直上に積層される層であり、その表面にモスアイ構造を有する。モスアイ構造とは、複数の円錐ないし角錐状の突起が密に乱立した凹凸構造である。本実施形態で形成されるモスアイ構造の周期(凸部又は凹部同士の距離)は、少なくとも可視光線の波長以下(380nm程度以下)となっている。これにより、反射防止効果やロータス効果が高くなる。具体的には、モスアイ層の算術平均粗さRa(JIS B0601−1994)が0.05〜0.30μmであり、且つ、凹凸の平均間隔Sm(JIS B0601−1994)が0.001mm以下である。モスアイ層のRaが0.05μm未満でSmが0.001mm以下の場合、空気の屈折率から透明基材フィルムの屈折率へと連続的に屈折率が増大していくには不十分となり、反射防止効果を得ることが出来ない。また、モスアイ層のRaが0.30μmより大きい場合は、Smが0.001mmより大きくなり、可視光線の波長より大きい周期の凹凸構造しか形成できず、十分な反射防止効果を得ることが出来ない。更に、Raが0.05〜0.30μmであってもSmが0.001mmよりも大きい場合は、可視光線の波長より大きい周期の凹凸構造しか形成できず、十分な反射防止効果を得ることが出来ない。
活性エネルギー線硬化型樹脂は、凹凸性を発現するためのモスアイ層用塗液の主成分である。そのような活性エネルギー線硬化型樹脂としては、単官能単量体、多官能単量体の中から1種又は2種以上が選択して用いられる。単官能単量体として具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸(ポリ)エチレングリコール基含有(メタ)アクリル酸エステル等が好ましい。多官能単量体としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。なお、本明細書において「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。「(メタ)アクリロイル基」や「(メタ)アクリル系樹脂」も同様である。
ポリマー成分は、モスアイ層用塗液に溶解する化合物である。そのようなポリマー成分としては、重量平均分子量1,000〜500,000の熱可塑性樹脂や、(メタ)アクリロイル基を有する重合体等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、スチレン系樹脂、スチレン・(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、セルロース誘導体などが挙げられる。(メタ)アクリロイル基を有する重合体としては、例えば(メタ)アクリルモノマーを重合または共重合した樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびエポキシ基を有するモノマーとを反応させた樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびイソシアネート基を有するモノマーとを反応させた樹脂などが挙げられる。中でも、スチレン・(メタ)アクリル系樹脂がモスアイ構造(反射防止効果)を最適に発現する観点から好ましい。
光重合開始剤は、紫外線(UV)等の活性エネルギー線によりモスアイ層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフェリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
モスアイ層は、次の工程により作製される。
工程1:透明基材フィルム上にモスアイ層用塗液を塗布する塗布工程
工程2:透明基材フィルム上のモスアイ層用塗液を乾燥して、モスアイ構造を形成するモスアイ層形成工程
工程3:モスアイ構造の形成されたモスアイ層を、活性エネルギー線の照射によりモスアイ層を硬化するモスアイ層硬化工程
モスアイ層用塗液の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用される。尚、密着性を向上させるために、予め透明基材フィルム表面にコロナ放電処理等の前処理を施すことも可能である。
モスアイ層形成工程で用いられる乾燥方式は、遠赤外線乾燥炉中で波長2〜20μmのいずれかの波長を含む光を輻射する方式が用いられる。ここでいう遠赤外線乾燥炉とは、空気などの流体を媒体として加熱熱風加熱する対流や、熱源と被加熱物を接触させての加熱である伝熱とは異なり、熱源と被加熱物は非接触加熱であり、電磁波を用いた輻射を利用した乾燥炉のことを言う。尚、電磁波の一種である赤外線の中で、特に1〜1000μmの波長領域にあるものを遠赤外線と呼ぶが、モスアイ層を形成するには、波長2〜20μmのいずれかの波長を含む光を用いることが必要である。この波長の光を輻射することで、塗布層が分子運動を起こし、その結果、対流や伝熱を用いる乾燥とは異なり、塗布層の表面温度を上げず、即ち、塗布層の表面温度が低温の状態を保ちながら、短時間で塗布層を乾燥することが出来る。以って、凹凸構造の周期が可視光線の波長以下の微細なモスアイ構造を形成することができる。
モスアイ層を硬化させる活性エネルギー線源としては、例えば高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、窒素レーザ、電子線加速装置、放射性元素等の線源等が使用される。この場合、活性エネルギー線の照射量は、紫外線の波長365nmでの積算光量として50〜5000mJ/cm2であることが好ましい。照射量が50mJ/cm2未満のときには、塗液の硬化が不十分となるため好ましくない。一方、5000mJ/cm2を超えるときには、活性エネルギー線硬化型樹脂が着色する傾向を示すため好ましくない。尚、塗布層の硬化度を向上させるために、窒素雰囲気下で紫外線照射を行うことも可能である。
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗りつぶしたフィルムを、分光光度計〔日本分光(株)製、商品名:U−best560〕により、光の波長380〜780nmの5°、−5°正反射スペクトルを測定した。得られる380〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JIS Z8701で規定されているXYZ表色系における、反射による物体色の三刺激値Yを視感度反射率とした。
表面粗さ測定器〔(株)小坂研究所製、型名 Surfcorder SE500〕を用い走査範囲4mm、走査速度0.2mm/sの条件で、JIS B0601−1994の規定に準拠して算術平均粗さRa(μm)を測定した。
表面粗さ測定器〔(株)小坂研究所製、型名 Surfcorder SE500〕を用い走査範囲4mm、走査速度0.2mm/sの条件で、JIS B0601−1994の規定に準拠して凹凸の平均間隔(mm)を測定した。
モスアイ層用塗液として次の原料を使用し、各原料を表1に記載した組成で混合して、モスアイ層用塗液M−1,2を調整した。尚、表1中の数値はwt%である。
活性エネルギー線硬化型樹脂:6官能ウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製紫光UV−7600B)
ポリマー成分:スチレン・(メタ)アクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製BR−50)
光重合開始剤:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製I−184
溶媒:メチルイソブチルケトン
モスアイ層用塗液(M−1)を、透明基材フィルムとして厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、硬化後のモスアイ層の膜厚が3.0μmとなるようにバーコーターにて塗布した(工程1)。続いて、遠赤外線加熱炉〔ヤマト科学(株)製 DIR631〕により6〜20μmの波長を含む光を輻射して50℃で10秒乾燥した(工程2)。その後、窒素雰囲気下、120W高圧水銀灯〔日本電池(株)製〕により紫外線を照射し(積算光量400mJ/cm2)、モスアイ層を硬化させて(工程3)モスアイフィルムを作製した。
工程2において、遠赤外線加熱炉を熱風乾燥炉〔東京硝子器械(株)製 F0−30W(WT)〕へと変更した以外(乾燥温度と時間も同じ)は、実施例1と同様の方法にてモスアイフィルムを作製した。
工程1において、モスアイ層用塗液をM−2へと変更した以外は、実施例1と同様の方法にて活性エネルギー線硬化フィルムを作製した。
Claims (1)
- 透明基材フィルム上にモスアイ層用塗液を塗布する塗布工程と、
前記透明基材フィルム上のモスアイ層用塗液を乾燥して、モスアイ構造を形成するモスアイ層形成工程と、
前記モスアイ構造の形成されたモスアイ層を、活性エネルギー線の照射により硬化させるモスアイ層硬化工程と、
を有する、透明基材フィルム上にモスアイ層を形成したモスアイフィルムの製造方法であって、
前記モスアイ層は、活性エネルギー線硬化型樹脂を60〜97wt%、ポリマー成分を1〜35wt%、光重合開始剤を1〜10wt%含み、且つ前記活性エネルギー線硬化型樹脂と前記ポリマー成分と前記光重合開始剤との和が99〜100wt%であり、
前記ポリマー成分は、前記モスアイ層用塗液に溶解する化合物であって、重量平均分子量1,000〜500,000の熱可塑性樹脂、又は(メタ)アクリロイル基を有する重合体であり、
前記モスアイ層は、モスアイ層の算術平均粗さRaが0.05〜0.30μmであり、且つ、凹凸の平均間隔Smが0.001mm以下であり、
前記モスアイ層形成工程では、前記モスアイ層用塗液に対して波長2〜20μmのいずれかの波長を含む遠赤外を輻射することを特徴とする、モスアイフィルムの製造方法。
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