KR20200022029A - 반사 방지 필름 - Google Patents

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KR20200022029A
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film
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미노루 가나타니
도모타케 나시키
요시히토 다카미
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

광대역에 있어서 우수한 반사 특성 (저반사성) 을 갖고, 또한, 착색이 억제된 반사 방지 필름을 제공한다. 본 발명의 반사 방지 필름은, 투명 기재와, 그 투명 기재로부터 순서대로, 밀착층과, 제 1 Nb2O5 층과, 제 1 SiO2 층과, 제 2 Nb2O5 층과, 제 2 SiO2 층을 이 순서대로 갖고, 제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께가 28 ㎚ ∼ 33 ㎚ 이고, 제 1 SiO2 층의 광학 막두께가 46 ㎚ ∼ 59 ㎚ 이고, 제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께가 262 ㎚ ∼ 286 ㎚ 이고, 제 2 SiO2 층의 광학 막두께가 122 ㎚ ∼ 135 ㎚ 이다.

Description

반사 방지 필름
본 발명은, 반사 방지 필름에 관한 것이다.
종래부터, CRT, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 패널 등의 디스플레이 화면에 대한 외광의 비침를 방지하기 위하여, 디스플레이 화면의 표면에 배치되는 반사 방지 필름이 널리 사용되고 있다. 반사 방지 필름으로는, 예를 들어, 굴절률이 상이한 복수의 층을 갖는 다층 필름이 알려져 있다. 이와 같은 다층 필름을 사용함으로써 높은 반사 방지 성능 (광대역에 있어서 낮은 반사율) 을 얻을 수 있는 것이 알려져 있다. 반사 방지 필름의 반사 방지 성능은 일반적으로는 시감 반사율 Y (％) 로 평가되고, 당해 시감 반사율이 낮을수록 반사 방지 성능이 우수하다. 그러나, 시감 반사율을 낮게 하려고 하면, 반사 색상이 착색되기 쉽다는 문제가 있다.
일본 공개특허공보 평11-204065호 일본 특허공보 제5249054호
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 광대역에 있어서 우수한 반사 특성 (저반사성) 을 갖고, 또한, 착색이 억제된 반사 방지 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 반사 방지 필름은, 투명 기재와, 그 투명 기재로부터 순서대로, 밀착층과, 제 1 Nb2O5 층과, 제 1 SiO2 층과, 제 2 Nb2O5 층과, 제 2 SiO2 층을 이 순서대로 갖고, 제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께가 28 ㎚ ∼ 33 ㎚ 이고, 제 1 SiO2 층의 광학 막두께가 46 ㎚ ∼ 59 ㎚ 이고, 제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께가 262 ㎚ ∼ 286 ㎚ 이고, 제 2 SiO2 층의 광학 막두께가 122 ㎚ ∼ 135 ㎚ 이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 반사 방지 필름은, 파장 420 ㎚ ∼ 660 ㎚ 의 범위에 있어서의 반사율의 최대치가, 0.5 ％ 이하이다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 투명 기재가, 하드 코트층을 포함한다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 반사 방지 필름은, 상기 제 2 SiO2 층의 제 2 Nb2O5 층과는 반대측의 면에, 방오층을 추가로 구비한다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 반사 방지 필름은, 상기 투명 기재의 상기 밀착층과는 반대측의 면에, 광학 필름을 추가로 구비한다.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는, 상기 반사 방지 필름을 구비한다.
본 발명에 의하면, 복수 배치된 Nb2O5 층, SiO2 층의 광학 막두께를 적절히 조정함으로써, 광대역에 있어서 우수한 반사 특성 (저반사성) 을 갖고, 또한, 착색이 억제된 반사 방지 필름을 제공할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 반사 방지 필름의 개략 단면도이다.
도 2 는, 실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 반사율 스펙트럼이다.
A. 반사 방지 필름의 개요
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 의한 반사 방지 필름의 개략 단면도이다. 이 반사 방지 필름 (100) 은, 투명 기재 (10) 와, 투명 기재 (10) 로부터 순서대로, 밀착층 (20) 과, 제 1 Nb2O5 층 (30) 과, 제 1 SiO2 층 (40) 과, 제 2 Nb2O5 층 (50) 과, 제 2 SiO2 층 (60) 을 이 순서대로 갖는다. 또한, 도 1 에 대해, 보기 쉽게 하기 위하여, 도면에 있어서의 두께 등의 축척은 실제와는 상이하다.
본 발명에 있어서, 제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께 (굴절률 × 물리 막두께) 는, 28 ㎚ ∼ 33 ㎚ 이다. 또, 제 1 SiO2 층의 광학 막두께는, 46 ㎚ ∼ 59 ㎚ 이다. 또, 제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께는, 262 ㎚ ∼ 286 ㎚ 이다. 또, 제 2 SiO2 층의 광학 막두께는, 122 ㎚ ∼ 135 ㎚ 이다.
본 발명에 있어서는, 제 1 Nb2O5 층 (30) 과, 제 1 SiO2 층 (40) 과, 제 2 Nb2O5 층 (50) 과, 제 2 SiO2 층 (60) 을 이 순서대로 적층함으로써, 우수한 반사 특성 (저반사성) 을 갖는 반사 방지 필름을 얻을 수 있다. 또한, 상기와 같이 각 층의 광학 막두께를 특정한 범위로 조정함으로써, 뉴트럴한 반사 색상을 갖는 반사 방지 필름으로 할 수 있다. 또, 각 층의 광학 막두께를 특정한 범위로 조정함으로써, 단파장, 장파장의 입사광에 대해서도 낮은 반사율을 나타내는 반사 방지 필름으로 할 수 있다. 광대역에 있어서 우수한 반사 특성 (저반사성) 과, 뉴트럴한 반사 색상을 양립할 수 있는 것은, 본 발명의 성과 중 하나이다.
상기 반사 방지 필름의 파장 420 ㎚ ∼ 660 ㎚ 의 범위에 있어서의 반사율의 최대치는 0.5 ％ 이하이고, 바람직하게는 0.4 ％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.3 ％ 이하이다. 「파장 420 ㎚ ∼ 660 ㎚ 의 범위에 있어서의 반사율의 최대치」는 낮을수록 바람직하지만, 그 하한은, 예를 들어, 0.1 ％ (바람직하게는, 0.05 ％) 이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 반사율이란, 시감 반사율 Y 를 의미한다. 측정 방법은, 후술한다.
도시하고 있지 않지만, 상기 반사 방지 필름은, 임의의 적절한 그 밖의 층, 필름을 추가로 구비할 수 있다. 예를 들어, 제 2 SiO2 층의 제 2 Nb2O5 층과는 반대측의 면에, 방오층이 배치될 수 있다. 방오층은, 반사 방지 필름의 최외측에 형성되는 것이 바람직하다. 또, 일 실시형태에 있어서는, 투명 기재의 밀착층과는 반대측의 면에, 광학 필름이 배치될 수 있다.
일 실시형태에 있어서는, 상기 반사 방지 필름을 구비하는 화상 표시 장치가 제공된다. 화상 표시 장치로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, CRT, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 등을 들 수 있다. 일 실시형태에 있어서는, 상기 화상 표시 장치에 있어서, 반사 방지 필름은, 시인측 최외측에 형성된다.
B. 투명 기재
상기 투명 기재는, 본 발명의 효과가 얻어지는 한에 있어서, 임의의 적절한 수지 필름으로 구성될 수 있다. 수지 필름을 구성하는 수지의 구체예로는, 폴리올레핀계 수지 (예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌), 폴리에스테르계 수지 (예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트), 폴리아미드계 수지 (예를 들어, 나일론-6, 나일론-66), 폴리스티렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리이미드 수지, 폴리비닐알코올 수지, 에틸렌비닐알코올 수지, (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴로니트릴 수지, 셀룰로오스계 수지 (예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀로판) 를 들 수 있다. 투명 기재는, 단일층이어도 되고, 복수의 수지 필름의 적층체여도 되고, 수지 필름 (단일층 또는 적층체) 과 하기의 하드 코트층의 적층체여도 된다. 투명 기재 (실질적으로는, 투명 기재를 형성하기 위한 조성물) 는, 임의의 적절한 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제의 구체예로는, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 가소제, 활제, 착색제, 산화 방지제, 난연제를 들 수 있다. 또한, 투명 기재를 구성하는 재료는 당업계에 있어서 주지된 것이기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.
투명 기재는, 일 실시형태에 있어서는, 하드 코트층으로서 기능할 수 있다. 즉, 투명 기재는, 상기와 같이, 수지 필름 (단일층 또는 적층체) 과 이하에 설명하는 하드 코트층의 적층체여도 되고, 당해 하드 코트층 단독으로 투명 기재를 구성해도 된다. 투명 기재가 수지 필름과 하드 코트층의 적층체로 구성되는 경우, 하드 코트층은 상기 밀착층에 인접하여 배치될 수 있다. 일 실시형태에 있어서는, 하드 코트층은, 임의의 적절한 전리선 경화형 수지의 경화층이다. 전리선으로는, 예를 들어, 자외선, 가시광, 적외선, 전자선을 들 수 있다. 바람직하게는 자외선이고, 따라서, 전리선 경화형 수지는 바람직하게는 자외선 경화형 수지이다. 자외선 경화형 수지로는, 예를 들어, (메트)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴계 수지의 대표예로는, (메트)아크릴로일옥시기를 함유하는 다관능성 모노머가 자외선에 의해 경화된 경화물 (중합물) 을 들 수 있다. 다관능성 모노머는 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다. 다관능성 모노머에는, 임의의 적절한 광중합 개시제가 첨가 될 수 있다. 또한, 하드 코트층을 구성하는 재료는 당업계에 있어서 주지이기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.
하드 코트층에는, 임의의 적절한 무기 또는 유기 미립자를 분산시킬 수 있다. 미립자의 입경은, 예를 들어 0.01 ㎛ ∼ 3 ㎛ 이다. 혹은, 하드 코트층의 표면에 요철 형상을 형성할 수 있다. 이와 같은 구성을 채용함으로써, 일반적으로 안티비침로 불리는 광확산성 기능을 부여할 수 있다. 하드 코트층에 분산시키는 미립자로는, 굴절률, 안정성, 내열성 등의 관점에서, 산화규소 (SiO2) 가 바람직하게 사용될 수 있다. 또한, 하드 코트층 (실질적으로는, 하드 코트층을 형성하기 위한 조성물) 은, 임의의 적절한 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제의 구체예로는, 레벨링제, 충전제, 분산제, 가소제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 산화 방지제, 틱소트로피화제를 들 수 있다.
하드 코트층은, 연필 경도 시험에서 바람직하게는 H 이상, 보다 바람직하게는 3H 이상의 경도를 갖는다. 연필 경도 시험은, JIS K 5400 에 준하여 측정될 수 있다.
투명 기재의 두께는, 목적, 투명 기재의 구성 등에 따라 적절히 설정될 수 있다. 투명 기재가 수지 필름의 단일층 또는 적층체로서 구성되는 경우에는, 두께는, 예를 들어 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이다. 투명 기재가 하드 코트층을 포함하는 경우 또는 하드 코트층 단독으로 구성되는 경우에는, 하드 코트층의 두께는, 예를 들어 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이다.
투명 기재의 광 투과율은, 바람직하게는 60 ％ ∼ 99 ％ 이고, 보다 바람직하게는 80 ％ ∼ 99 ％ 이다.
투명 기재의 굴절률 (투명 기재가 적층 구조를 갖는 경우에는 밀착층에 인접하는 층의 굴절률) 은, 바람직하게는 1.45 ∼ 1.65 이고, 보다 바람직하게는 1.50 ∼ 1.60 이다. 또한, 본 명세서에 있어서「굴절률」은, 특별히 언급하지 않는 한, 온도 25 ℃, 파장 λ ＝ 580 ㎚ 에 있어서의 JIS K 7105 에 기초하여 측정한 굴절률을 말한다.
C. 밀착층
상기 밀착층은, 인접하는 층간 (예를 들어, 투명 기재와 제 1 Nb2O5 층) 의 밀착성을 높이기 위하여 형성될 수 있는 층이다. 밀착층은, 예를 들어 규소 (실리콘) 로 구성될 수 있다. 밀착층의 두께는, 예를 들어 2 ㎚ ∼ 5 ㎚ 이다.
밀착층은, 투명 기재와 제 1 Nb2O5 층 사이 외에, 제 1 Nb2O5 층과 제 1 SiO2 층 사이, 제 1 SiO2 층과 제 2 Nb2O5 층 사이, 제 2 Nb2O5 층과 제 2 SiO2 층 사이 중 어느 곳에 형성되어 있어도 된다.
밀착층은, 대표적으로는 드라이 프로세스에 의해 형성된다. 드라이 프로세스의 구체예로는, PVD (Physical Vapor Deposition) 법, CVD (Chemical Vapor Deposition) 법을 들 수 있다. PVD 법으로는, 진공 증착법, 반응성 증착법, 이온 빔 어시스트법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 들 수 있다. CVD 법으로는, 플라즈마 CVD 법을 들 수 있다. 인라인 처리를 실시하는 경우에는, 스퍼터링법이 바람직하게 이용될 수 있다.
D. 제 1 Nb 2 O 5 층
상기 제 1 Nb2O5 층은, Nb2O5 (굴절률 : 2.34) 로 구성된다. 본 발명에 있어서는, 제 1 Nb2O5 층 (그리고, 하기 제 1 SiO2 층, 제 2 Nb2O5 층 및 제 2 SiO2 층) 에 대해, 굴절률을 적절한 값으로 하는 것뿐만 아니라, 층을 구성하는 재료를 특정함으로써, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 1 Nb2O5 층 (그리고, 하기 제 1 SiO2 층, 제 2 Nb2O5 층 및 제 2 SiO2 층) 은, 이른바 드라이 프로세스에 의해 형성될 수 있다. 드라이 프로세스의 구체예로는, PVD (Physical Vapor Deposition) 법, CVD (Chemical Vapor Deposition) 법을 들 수 있다. PVD 법으로는, 진공 증착법, 반응성 증착법, 이온 빔 어시스트법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 들 수 있다. CVD 법으로는, 플라즈마 CVD 법을 들 수 있다. 일 실시형태에 있어서는, 스퍼터링법이 바람직하게 이용될 수 있다. 스퍼터링법을 이용하면, 반사 색미의 편차를 저감시킬 수 있다.
상기와 같이, 제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께는, 28 ㎚ ∼ 33 ㎚ 이다. 제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께는, 바람직하게는 28 ㎚ ∼ 32 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 28 ㎚ ∼ 30 ㎚ 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께의 제 1 SiO2 층의 광학 막두께에 대한 비는, 바람직하게는 1.4 ∼ 2.1 이고, 보다 바람직하게는 1.7 ∼ 2.1 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 특성이 우수하고, 또한, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 1 Nb2O5 층의 두께는, 바람직하게는 12.0 ㎚ ∼ 14.1 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 12.0 ㎚ ∼ 13.7 ㎚ 이고, 더욱 바람직하게는 12.0 ㎚ ∼ 12.8 ㎚ 이다.
E. 제 1 SiO 2 층
상기 제 1 SiO2 층은, SiO2 (굴절률 : 1.46) 로 구성된다.
상기와 같이, 제 1 SiO2 층의 광학 막두께는, 46 ㎚ ∼ 59 ㎚ 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 1 SiO2 층의 광학 막두께의 제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께에 대한 비는, 바람직하게는 4.8 ∼ 6.2 이고, 보다 바람직하게는 4.8 ∼ 5.6 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 특성이 우수하고, 또한, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 1 SiO2 층의 두께는, 바람직하게는 31.5 ㎚ ∼ 40.4 ㎚ 이다.
F. 제 2 Nb 2 O 5 층
상기 제 2 Nb2O5 층은, Nb2O5 (굴절률 : 2.34) 로 구성된다.
상기와 같이, 제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께는, 262 ㎚ ∼ 286 ㎚ 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께의 제 2 SiO2 층의 광학 막두께에 대한 비는, 바람직하게는 0.43 ∼ 0.51 이고, 보다 바람직하게는 0.44 ∼ 0.48 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 특성이 우수하고, 또한, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 2 Nb2O5 층의 두께는, 바람직하게는 112.0 ㎚ ∼ 122.2 ㎚ 이다.
G. 제 2 SiO 2 층
상기 제 2 SiO2 층은, SiO2 (굴절률 : 1.46) 로 구성된다.
상기와 같이, 제 2 SiO2 층의 광학 막두께는, 122 ㎚ ∼ 135 ㎚ 이다. 이와 같은 범위이면, 반사 색상이 뉴트럴한 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.
제 1 SiO2 층의 두께는, 바람직하게는 83.6 ㎚ ∼ 92.5 ㎚ 이다.
H. 방오층
필요에 따라 형성되는 방오층은, 반사 방지 필름의 표면에 발수성, 발유성, 내한성, 방오성 등을 부여할 수 있는 층이다. 방오층을 구성하는 재료로는, 예를 들어, 불소 함유 유기 화합물이 사용된다. 불소 함유 유기 화합물로는, 플루오로카본, 퍼플루오로실란, 또는 이들의 고분자 화합물 등을 들 수 있다. 또, 방오층의 형성 방법은, 형성하는 재료에 따라, 증착, 스퍼터링 등의 물리적 기상 성장법, 화학적 기상 성장법, 습식 코팅법 등을 사용할 수 있다. 방오층의 두께는, 바람직하게는 1 ㎚ ∼ 50 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 3 ㎚ ∼ 35 ㎚ 이다.
I. 광학 필름
필요에 따라 형성되는 광학 필름으로는, 편광판, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 확산 필름, 도전성 필름 등을 들 수 있다. 광학 필름은, 임의의 적절한 점착제 또는 접착제를 개재하여 투명 기재에 적층될 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에는 한정되지 않는다. 실시예에 있어서의 시험 및 평가 방법은 이하와 같다. 또, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예에 있어서의「％」는 중량 기준이다.
＜평가 방법＞
(1) 물리 두께
각 층의 두께를, TEM 단면 관찰에 의해 측정하였다.
(2) 굴절률
각 층에 따른 평가용 샘플을 사용하여 분광 엘립소미터에 의해 각 층의 굴절률을 측정하였다.
(3) 광학 막두께
물리 두께와 굴절률을 곱함으로써 광학 막두께를 산출하였다.
(4) 반사 특성 E
반사 방지 필름의 투명 기재측에, 점착제를 개재하여, 차광성의 흑색 아크릴판을 첩합 (貼合) 시켜 평가용 샘플을 제작하였다.
이어서, 반사 방지면의 시감 반사율 Y, 반사 L, 반사 색상 a*, 반사 색상 b* 의 값을 히타치 제작소 제조 분광 광도계「U4100」를 사용하여, 5°정반사 (파장 : 380 ㎚ ∼ 780 ㎚) 의 조건에서 측정을 실시하였다.
E 값을, 하기 식으로 산출하였다. E 값은, 색감를 평가하기 위한 지표이고, E 값이 낮을수록 반사 색상이 뉴트럴에 가까워지는 것을 의미한다.
Figure pct00001
또한, 상기 평가에서 취득한 반사율의 스펙트럼을 도 2 에 나타낸다.
[실시예 1]
(투명 기재의 제조)
우레탄아크릴레이트 수지 (다이닛폰 잉크 화학 공업사 제조, 상품명「UNIDIC V4025」, 굴절률 1.52) 100 중량부와, 무기 입자로서 나노 실리카 입자 (닛산 화학공업사 제조, 상품명「MEK-ST-L」, 평균 입자경 50 ㎚) 가 50 중량부와, UV 개시제로서 BASF 사 제조, 상품명「Irgacure184」5 중량부를 혼합하였다. 이어서, 희석 용제로서 MEK 와 PGM 의 혼합 용액을 상기 용액에 첨가하여 용제 비율이 MEK/PGM ＝ 40/60 이 되도록 조정하고, 하드 코트층 형성용 조성물을 얻었다.
그 하드 코트층 형성용 조성물을, 수지 필름 (TAC : 후지 필름사 제조, 상품명「TD80UL」) 의 편면에 건조 후의 두께가 5 ㎛ 가 되도록 도포하고, 80 ℃, 2 분간 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프를 사용하여, 적산 광량 300 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 도포층을 경화시켜 수지 필름 상에 하드 코트층을 형성하였다.
(무기층의 형성)
Si 스퍼터링 타깃을, 마그네트론 스퍼터링 장치에 세트하고, 반응성 스퍼터링을 실시하여, 상기 하드 코트층 상에 SiOx 층으로 구성되는 밀착층 (두께 5 ㎚) 을 형성하였다.
이어서, Nb 타깃을 마그네트론 스퍼터링 장치에 세트하고, 반응성 스퍼터링을 실시하여, 상기 밀착층 상에, 제 1 Nb2O5 층 (두께 12 ㎚, 굴절률 2.34) 을 형성하였다.
이어서, Si 타깃을 마그네트론 스퍼터링 장치에 세트하고, 반응성 스퍼터링을 실시하여, 제 1 Nb2O5 층 상에, 제 1 SiO2 층 (두께 40 ㎚, 굴절률 1.46) 을 형성하였다.
이어서, 상기 제 1 SiO2 층 상에, 제 1 Nb2O5 층의 형성 방법과 동일한 방법으로, 제 2 Nb2O5 층 (두께 120 ㎚, 굴절률 2.34) 을 형성하였다. 또한, 제 2 Nb2O5 층 상에, 제 1 SiO2 층의 형성 방법과 동일한 방법으로 제 2 SiO2 층 (두께 : 84 ㎚, 굴절률 1.46) 을 형성하였다. 이와 같이 하여, 투명 기재 (수지 필름/하드 코트층)/밀착층 (SiOx 층)/제 1 Nb2O5 층/제 1 SiO2 층/제 2 Nb2O5 층/제 2 SiO2 층의 반사 방지 필름을 얻었다. 얻어진 반사 방지 필름을 상기 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[실시예 2 ∼ 4, 비교예 1 ∼ 4]
제 1 Nb2O5 층, 제 1 SiO2 층, 제 2 Nb2O5 층, 제 2 SiO2 층의 두께를 표 1 에 나타내는 두께로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 얻었다. 얻어진 반사 방지 필름을 상기 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[비교예 5]
실시예 1 과 마찬가지로 하여, 투명 기재를 제조하고, 그 투명 기재 상에 밀착층을 형성하였다.
이어서, Zr 타깃을 마그네트론 스퍼터링 장치에 세트하고, 반응성 스퍼터링을 실시하여, 상기 밀착층 상에, 제 1 ZrO2 층 (두께 13 ㎚, 굴절률 2.22) 을 형성하였다.
이어서, MgF2 타깃을 마그네트론 스퍼터링 장치에 세트하고, 스퍼터링을 실시하여, 상기 제 1 ZrO2 층 상에, 제 1 MgF2 층 (두께 34 ㎚, 굴절률 1.38) 을 형성하였다.
이어서, 상기 제 1 MgF2 층 상에, 제 1 ZrO2 층의 형성 방법과 동일한 방법으로, 제 2 ZrO2 층 (두께 118 ㎚, 굴절률 2.22) 을 형성하였다. 또한, 제 2 ZrO2 층 상에, 제 1 MgF2 층의 형성 방법과 동일한 방법으로 제 2 MgF2 층 (두께 91 ㎚, 굴절률 1.38) 을 형성하고, 반사 방지 필름을 얻었다.
얻어진 반사 방지 필름을 상기 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
Figure pct00002
표 1 로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 반사 방지 필름은, 특정한 무기물로 구성된 층을 복수층 형성하고, 각 층의 광학 막두께를 특정한 값으로 제어함으로써, 저반사 특성을 가지면서도, 반사 색상이 뉴트럴하다. 또, 도 2 로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 반사 방지 필름은, 광대역에 있어서 우수한 반사 특성 (구체적으로는, 파장 420 ㎚ ∼ 660 ㎚ 의 범위에 있어서의 반사율의 최대치가 0.5 ％ 이하) 을 갖는다.
산업상 이용가능성
본 발명의 반사 방지 필름은, CRT, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 패널 등의 화상 표시 장치에 있어서의 외광의 비침 방지에 바람직하게 이용할 수 있다.
10 : 투명 기재
20 : 밀착층
30 : 제 1 Nb2O5 층
40 : 제 1 SiO2 층
50 : 제 2 Nb2O5 층
60 : 제 2 SiO2 층
100 : 반사 방지 필름

Claims (6)

  1. 투명 기재와, 그 투명 기재로부터 순서대로, 밀착층과, 제 1 Nb2O5 층과, 제 1 SiO2 층과, 제 2 Nb2O5 층과, 제 2 SiO2 층을 이 순서대로 갖고,
    제 1 Nb2O5 층의 광학 막두께가 28 ㎚ ∼ 33 ㎚ 이고,
    제 1 SiO2 층의 광학 막두께가 46 ㎚ ∼ 59 ㎚ 이고,
    제 2 Nb2O5 층의 광학 막두께가 262 ㎚ ∼ 286 ㎚ 이고,
    제 2 SiO2 층의 광학 막두께가 122 ㎚ ∼ 135 ㎚ 인,
    반사 방지 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    파장 420 ㎚ ∼ 660 ㎚ 의 범위에 있어서의 반사율의 최대치가, 0.5 ％ 이하인, 반사 방지 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 투명 기재가, 하드 코트층을 포함하는, 반사 방지 필름.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 SiO2 층의 제 2 Nb2O5 층과는 반대측의 면에, 방오층을 추가로 구비하는, 반사 방지 필름.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 기재의 상기 밀착층과는 반대측의 면에, 광학 필름을 추가로 구비하는, 반사 방지 필름.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름을 구비하는, 화상 표시 장치.
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