KR20220023965A - 점착제층 구비 편광 필름 및 액정 패널 - Google Patents

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KR20220023965A
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도모유키 기무라
사토시 야마모토
유스케 도야마
마사쿠니 후지타
요시히토 다카미
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지함과 함께, 액정 표시 장치의 시인성의 악화를 억제할 수 있는 점착제층 구비 편광 필름을 제공한다. 본 발명에 의한 점착제층 구비 편광 필름은, 편광 필름과 점착제층을 구비한다. 점착제층 구비 편광 필름은, 도전층을 더 구비하고, 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.9％ 이하이다. 도전층의 표면 저항률은 1.0×106Ω/□ 이하이다.

Description

점착제층 구비 편광 필름 및 액정 패널
본 발명은, 점착제층 구비 편광 필름 및 액정 패널에 관한 것이다.
액정 표시 장치는, 예를 들어 편광 필름이 액정 셀보다도 시인측에 배치된 구조를 갖는 액정 패널과, 액정 패널에 광을 조사하는 조명 시스템을 구비한다. 액정 표시 장치는, 액정 셀에 전압을 인가하고, 액정 셀에 포함되는 액정 분자의 배향을 조절함으로써 화상을 표시한다.
액정 표시 장치에서는, 그 제조 시, 예를 들어 점착제층을 개재하여 편광 필름을 액정 셀에 접합할 때, 또는 사용 시, 예를 들어 사용자가 액정 표시 장치에 접촉할 때 정전기가 발생한다. 이 정전기에 의해, 액정 표시 장치가 대전되는 경우가 있다. 액정 표시 장치가 대전되면, 액정 셀에 포함되는 액정 분자의 배향이 흐트러져, 표시 불량이 발생할 수 있다. 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지하기 위해, 예를 들어 편광 필름측의 액정 셀의 표면에 ITO(산화인듐 주석)층을 배치하는 것이 알려져 있다.
특허문헌 1 및 2는, 편광 필름과 도전성 고분자를 포함하는 도전층을 구비한 적층 구조를 개시하고 있다.
일본 특허 공개 제2016-39132호 공보 일본 특허 공표 제2015-509615호 공보
본 발명자들의 검토에 의하면, 정전기가 특히 발생하기 쉬운 환경, 예를 들어 차량의 내부와 같이 다른 전자 기기가 주위에 존재하는 환경에서 액정 표시 장치를 사용하는 경우, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 충분히 방지하기 위해, 도전층의 표면 저항률을 낮은 값으로 조절할 필요가 있는 것을 알 수 있었다. 그러나, 도전층의 표면 저항률을 낮은 값으로 조절하면, 도전층의 투과율이 저하되어 액정 표시 장치의 시인성이 악화되어 버린다.
그래서 본 발명은, 높은 대전 방지성이 요구되는 액정 표시 장치, 예를 들어 차량 탑재용 디스플레이라도, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지함과 함께, 액정 표시 장치의 시인성의 악화를 억제할 수 있는 점착제층 구비 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은,
편광 필름과 점착제층을 구비한 점착제층 구비 편광 필름이며,
상기 점착제층 구비 편광 필름은, 도전층을 더 구비하고,
상기 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.9％ 이하이고,
상기 도전층의 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인, 점착제층 구비 편광 필름을 제공한다.
본 발명에 따르면, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지함과 함께, 액정 표시 장치의 시인성의 악화를 억제할 수 있는 점착제층 구비 편광 필름을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 점착제층 구비 편광 필름의 단면도이다.
도 2는 점착제층 구비 편광 필름의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 3은 반사 방지막의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 4는 반사 방지막의 다른 일례를 도시하는 단면도이다.
도 5는 점착제층 구비 편광 필름의 다른 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 점착제층 구비 편광 필름을 구비한 액정 패널의 단면도이다.
도 7은 본 발명이 다른 실시 형태에 관한 액정 패널의 단면도이다.
도 8은 실시예 1 내지 12, 비교예 1, 2 및 4의 점착제층 구비 편광 필름에 대하여, 도전층의 표면 저항률과 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실의 관계를 도시하는 그래프이다.
도 9는 실시예 13 내지 26, 비교예 5 및 6의 점착제층 구비 편광 필름으로부터의 반사광의 a*값 및 b*값의 관계를 도시하는 그래프이다.
본 발명의 일 형태에서는, 편광 필름, 도전층 및 점착제층이 이 순서로 적층되어 있다.
본 발명의 일 형태에서는, 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.5％ 이하이다.
본 발명의 일 형태에서는, 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.4％ 이하이다.
본 발명의 일 형태에서는, 도전층의 표면 저항률이 5.0×105Ω/□ 이하이다.
본 발명의 일 형태에서는, 도전층의 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하이다.
본 발명의 일 형태에서는, 도전층의 표면 저항률이 5.0×102Ω/□보다 크다.
본 발명의 일 형태에서는, (i) 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.5％ 이하이고, 또한 도전층의 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 것, 및 (ii) 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.9％ 이하이고, 또한 도전층의 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하인 것의 적어도 하나가 성립된다.
본 발명의 일 형태에서는, 점착제층이 도전 재료를 포함한다.
본 발명의 일 형태에서는, 점착제층 구비 편광 필름은, 반사 방지막을 더 구비하고, 반사 방지막, 편광 필름 및 점착제층이 적층 방향으로 이 순으로 배열되어 있다.
본 발명의 일 형태에서는, 반사 방지막을 구비한 점착제층 구비 편광 필름은, 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 무알칼리 유리와 적층된 상태로, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 점착제층과는 반대측의 표면으로부터 입사한 때, 시감 반사율 Y가 1.1％ 이하인 반사광을 발생한다.
본 발명의 일 형태에서는, 상기한 반사광의 L*a*b* 표색계에 있어서의 a*값 및 b*값이 하기 관계식 (1) 및 (2)를 충족시킨다.
Figure pct00001
본 발명의 일 형태에서는, 반사 방지막은, 제1 고굴절률층, 제1 저굴절률층, 제2 고굴절률층 및 제2 저굴절률층을 적층 방향으로 이 순으로 갖는다.
본 발명의 일 형태에서는, 제1 고굴절률층의 광학막 두께가 20㎚ 내지 35㎚이고, 제1 저굴절률층의 광학막 두께가 38㎚ 내지 50㎚이고, 제2 고굴절률층의 광학막 두께가 230㎚ 내지 290㎚이고, 제2 저굴절률층의 광학막 두께가 100㎚ 내지 128㎚이다.
또한, 본 발명은,
점착제층 구비 편광 필름과,
액정 셀을 구비하고,
점착제층 구비 편광 필름과 액정 셀 사이에는 도전층이 마련되어 있지 않은, 액정 패널을 제공한다.
이하, 본 발명의 상세를 설명하지만, 이하의 설명은, 본 발명을 특정한 실시 형태에 제한하는 취지는 아니다.
(점착제층 구비 편광 필름의 실시 형태)
도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태의 점착제층 구비 편광 필름(10)은, 편광 필름(1), 도전층(2) 및 점착제층(3)을 구비한다. 편광 필름(1), 도전층(2) 및 점착제층(3)은, 예를 들어 이 순서로 적층되어 있고, 도전층(2)이 편광 필름(1) 및 점착제층(3)의 각각에 접하고 있다. 도전층(2)이 편광 필름(1)과 점착제층(3) 사이에 배치되어 있는 경우, 도전층(2)의 열화가 억제되는 경향이 있다. 단, 도전층(2)은, 편광 필름(1)과 점착제층(3) 사이 이외에 배치되어 있어도 되고, 예를 들어 편광 필름(1)이 도전층(2)과 점착제층(3) 사이에 배치되어 있어도 된다. 점착제층(3)의 표면은, 예를 들어 점착제층 구비 편광 필름(10)의 외부에 노출되어 있다.
점착제층 구비 편광 필름(10)에 있어서, 도전층(2)에 의한 전체 광선 투과율의 손실 A는, 0.9％ 이하이다. 본 발명자들의 검토에 의하면, 손실 A가 이 정도로 억제되어 있는 경우, 액정 표시 장치의 시인성의 악화를 충분히 억제할 수 있다. 손실 A는, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 편광 필름(1)의 전체 광선 투과율 T1과, 편광 필름(1) 및 도전층(2)으로 이루어지는 적층체 L의 전체 광선 투과율 T2를 측정한다. 본 명세서에 있어서, 「전체 광선 투과율」은, 파장 380㎚ 내지 700㎚인 범위의 광 투과율을 의미한다. 전체 광선 투과율은, JIS K7361-1:1997의 규정에 준거하여 측정할 수 있다. 전체 광선 투과율의 측정에는, D65 광원을 사용한다. 적층체 L의 전체 광선 투과율 T2는, 편광 필름(1)측으로부터 광을 입사시킨 경우의 값이다. 전체 광선 투과율 T1과 전체 광선 투과율 T2의 차(T1－T2)를 손실 A로서 특정할 수 있다.
전체 광선 투과율 T1 및 T2를 측정함에 있어서, 편광 필름(1)의 표면에는, 손실 A의 값에 영향을 끼치지 않는 층(예를 들어, 하드 코트층)이 배치되어 있어도 된다. 예를 들어, 손실 A는, 하드 코트층 H 및 편광 필름(1)으로 이루어지는 적층체 L1의 전체 광선 투과율 T3과, 하드 코트층 H, 편광 필름(1) 및 도전층(2)으로 이루어지는 적층체 L2의 전체 광선 투과율 T4의 차(T3－T4)로서 특정되어도 된다. 적층체 L2에 있어서, 하드 코트층 H, 편광 필름(1) 및 도전층(2)은, 이 순서로 적층되어 있다. 적층체 L1의 전체 광선 투과율 T3 및 적층체 L2의 전체 광선 투과율 T4는, 모두 하드 코트층 H측으로부터 광을 입사시킨 경우의 값이다.
상기한 손실 A는, 바람직하게는 0.8％ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.6％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.5％ 이하이고, 특히 바람직하게는 0.4％ 이하이고, 특히 바람직하게는 0.2％ 미만이다. 손실 A의 하한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 0.01％이다.
점착제층 구비 편광 필름(10)에 있어서, 도전층(2)의 표면 저항률은, 1.0×106Ω/□ 이하이다. 이 정도로 낮은 표면 저항률을 갖는 도전층(2)은, 정전기가 발생하기 쉬운 환경 하라도, 점착제층 구비 편광 필름(10)을 구비하는 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지할 수 있다. 도전층(2)의 표면 저항률은, 다음 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 도전층(2)의 표면이 외부에 노출되어 있는 적층체를 준비한다. 이러한 적층체로서는, 예를 들어 편광 필름(1) 및 도전층(2)으로 이루어지는 적층체 L, 그리고 하드 코트층 H, 편광 필름(1) 및 도전층(2)으로 이루어지는 적층체 L2를 들 수 있다. 이어서, 준비한 적층체에 있어서의 도전층(2)의 표면에 대하여, 표면 저항률을 측정한다. 표면 저항률의 측정은, JIS K7194:1994 또는 JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 행할 수 있다. 일례로서, 도전층(2)의 표면 저항률이 1.0×105Ω/□ 미만인 경우, 도전층(2)의 표면 저항률은, 로레스타 GP MCP-T600(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제)을 사용하여, JIS K7194:1994에 규정된 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 도전층(2)의 표면 저항률이 1.0×105Ω/□ 이상인 경우, 도전층(2)의 표면 저항률은, 하이레스타 UP MCP-HT450(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제)을 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 상기한 측정에 의해 얻어진 측정값을 점착제층 구비 편광 필름(10)에 있어서의 도전층(2)의 표면 저항률이라고 간주할 수 있다.
도전층(2)의 표면 저항률은, 바람직하게는 5.0×105Ω/□ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0×105Ω/□ 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0×104Ω/□ 이하이고, 특히 바람직하게는 1.0×103Ω/□ 이하이다. 도전층(2)의 표면 저항률의 하한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1.0×102Ω/□이다. 터치 센서 또는 터치 패널을 구비하는 액정 표시 장치에 점착제층 구비 편광 필름(10)을 사용하는 경우, 액정 표시 장치에 마련되는 터치 센서 또는 터치 패널의 감도를 충분히 확보하는 관점에서, 도전층(2)의 표면 저항률은, 5.0×102Ω/□보다 커도 된다.
점착제층 구비 편광 필름(10)에서는, 상기한 손실 A가 0.5％보다 큰 경우에, 도전층(2)의 표면 저항률이 특히 낮은 값이어도 된다. 일례로서, 점착제층 구비 편광 필름(10)에 있어서, (i) 상기한 손실 A가 0.5％ 이하이고, 또한 도전층(2)의 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 것, 및 (ii) 상기한 손실 A가 0.9％ 이하이고, 또한 도전층(2)의 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하인 것의 적어도 하나가 성립되어 있어도 된다.
[편광 필름]
편광 필름(1)은, 편광자 및 투명 보호 필름을 포함하는 적층체이다. 투명 보호 필름은, 예를 들어 층 형상의 편광자의 주면(가장 넓은 면적을 갖는 표면)에 접하여 배치되어 있다. 편광자는, 2개의 투명 보호 필름 사이에 배치되어 있어도 된다. 편광자로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드, 2색성 염료 등의 2색성 물질을 흡착시켜 1축 연신한 것; 폴리비닐알코올의 탈수 처리물, 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 편광자는, 폴리비닐알코올계 필름 및 요오드 등의 2색성 물질로 이루어지는 것이 바람직하다.
편광자의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 80㎛ 이하이다. 편광자의 두께는, 10㎛ 이하, 바람직하게는 1 내지 7㎛여도 된다. 이러한 박형의 편광자는, 두께 불균일이 적어, 시인성이 우수하다. 박형의 편광자는, 치수 변화가 억제되어 있어, 내구성이 우수하다. 박형의 편광자에 의하면, 편광 필름(1)을 박형화할 수 있다.
투명 보호 필름의 재료로서는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이러한 열가소성 수지의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 환상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지 및 이것들의 혼합물을 들 수 있다. 투명 보호 필름의 재료는, (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지여도 된다. 편광 필름(1)이 2개의 투명 보호 필름을 갖는 경우, 2개의 투명 보호 필름의 재료는, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다. 예를 들어, 편광자의 한쪽의 주면에 대하여, 접착제를 개재하여, 열가소성 수지로 구성된 투명 보호 필름이 접합되고, 편광자의 다른 쪽 주면에 대하여, 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 구성된 투명 보호 필름이 접합되어 있어도 된다. 투명 보호 필름은, 임의의 첨가제를 1종류 이상 포함하고 있어도 된다.
투명 보호 필름은, 방현 특성, 반사 방지 특성 등의 광학 특성을 갖고 있어도 된다. 투명 보호 필름은, 위상차 막으로서 기능하는 필름이어도 된다. 본 명세서에 있어서, 위상차 막은, 면내 방향 또는 두께 방향으로 복굴절을 갖는 막을 의미한다. 위상차 막으로서 기능하는 필름으로서는, 예를 들어 고분자 필름을 연신시킨 것, 액정 재료를 배향시켜, 고정화시킨 것 등을 들 수 있다.
편광자와 투명 보호 필름을 접합하기 위한 접착제는, 광학적으로 투명하다면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 수계, 용제계, 핫 멜트계, 라디칼 경화형, 양이온 경화형 등의 접착제, 바람직하게는 수계 접착제 및 라디칼 경화형 접착제를 들 수 있다.
편광 필름(1)의 두께는, 예를 들어 10㎛ 내지 500㎛이다. 편광 필름(1)의 전체 광선 투과율은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 30％ 내지 50％이다.
편광 필름(1)에 대하여 CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 입사한 때의 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 a값은, －6.0 내지 0이 바람직하고, －3.0 내지 －0.5가 보다 바람직하고, －1.8 내지 －1.2가 특히 바람직하다. 상기한 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 b값은, 1.0 내지 10이 바람직하고, 1.5 내지 5.0이 보다 바람직하고, 2.2 내지 4.0이 특히 바람직하다. 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 a값 및 b값은, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 분광 광도계의 적분구를 사용하여, 편광 필름(1)에 있어서의 CIE 표준 광원 D65로부터의 광의 투과율을 측정한다. 얻어진 투과율에 대하여, JIS Z8701:1999에 규정된 2도 시야 XYZ계에 의해 시감도 보정(780 내지 380㎚: 5㎚마다)을 행함으로써, 투과광의 헌터 Lab 표색계에 있어서의 a값 및 b값을 특정할 수 있다.
[도전층]
도전층(2)은, 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하이고, 상기한 손실 A가 0.9％ 이하로 조절되는 한, 특별히 한정되지 않는다. 도전층(2)은, 도전 재료를 포함하는 층이다. 도전 재료는, ITO 이외의 재료여도 되고, 예를 들어 도전성 폴리머, 도전성 폴리머와 도펀트의 복합체, 이온성 계면 활성제, 도전성 미립자, 이온성 화합물 등이다. 도전층(2)은, 투명성, 전체 광선 투과율, 외관, 대전 방지 효과 및 고온 또는 다습 환경 하에서의 대전 방지 효과의 안정성의 관점에서, 도전성 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다. 도전층(2)이 도전 재료로서 도전성 폴리머를 포함하는 경우, 도전성 미립자를 포함하는 경우에 비해, 도전층(2)의 두께를 비교적 크게 조정해도 헤이즈가 발생하기 어렵다. 그 때문에, 도전층(2)이 액정 셀과 편광자 사이에 배치되어 있는 경우라도, 도전성 폴리머를 포함하는 도전층(2)은, 편광 해소를 발생시키기 어렵고, 액정 표시 장치가 표시하는 화상의 콘트라스트를 저하시키기 어렵다. 도전층(2)이 도전 재료로서 도전성 폴리머를 포함하는 경우, 도전성 미립자를 포함하는 경우에 비해, 도전층(2)의 굴절률이 낮은 경향이 있다. 그 때문에, 도전성 폴리머를 포함하는 도전층(2)은, 액정 패널의 광 반사율을 저하시키는 데 적합하다.
도전성 폴리머로서는, 예를 들어 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리퀴녹살린, 폴리아세틸렌, 폴리페닐렌비닐렌, 폴리나프탈렌 및 이것들의 유도체를 들 수 있다. 도전 재료는, 이들 도전성 폴리머를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 도전성 폴리머로서는, 폴리티오펜, 폴리아닐린 및 이것들의 유도체가 바람직하고, 폴리티오펜 유도체가 특히 바람직하다. 폴리티오펜, 폴리아닐린 및 이것들의 유도체는, 예를 들어 수용성 또는 수분산성을 갖는 도전성 폴리머로서 기능한다. 도전성 폴리머가 수용성 또는 수분산성을 갖는 경우, 도전성 폴리머의 수용액 또는 수분산액을 사용하여 도전층(2)을 제작할 수 있다. 이 경우, 도전층(2)의 제작에 비수계의 유기 용제를 사용할 필요가 없기 때문에, 유기 용제에 의한 편광 필름(1) 등의 변질을 억제할 수 있다.
도전성 폴리머는, 친수성 관능기를 갖고 있어도 된다. 친수성 관능기로서는, 예를 들어 술폰기, 아미노기, 아미드기, 이미노기, 히드록실기, 머캅토기, 히드라지노기, 카르복실기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 및 이것들의 염(예를 들어, 4급 암모늄염기)을 들 수 있다. 도전성 폴리머가 친수성 관능기를 갖는 경우, 도전성 폴리머가 물에 녹기 쉽거나, 또는 미립자상의 도전성 폴리머가 물에 분산되기 쉬운 경향이 있다.
도전성 및 화학적 안정성의 관점에서, 도전성 폴리머는, 폴리(3,4-2 치환 티오펜)인 것이 바람직하다. 폴리(3,4-2 치환 티오펜)으로서는, 예를 들어 폴리(3,4-알킬렌디옥시티오펜) 및 폴리(3,4-디알콕시티오펜)을 들 수 있고, 바람직하게는 폴리(3,4-알킬렌디옥시티오펜)이다. 폴리(3,4-알킬렌디옥시티오펜)은, 예를 들어 이하의 식(I)로 표현되는 구조 단위를 갖는다.
Figure pct00002
식(I)에 있어서, R1은, 예를 들어 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기이다. 알킬렌기는, 직쇄상이어도 되고, 분지쇄상이어도 된다. 알킬렌기로서는, 예를 들어 메틸렌기, 1,2-에틸렌기, 1,3-프로필렌기, 1,4-부틸렌기, 1-메틸-1,2-에틸렌기, 1-에틸-1,2-에틸렌기, 1-메틸-1,3-프로필렌기 및 2-메틸-1,3-프로필렌기를 들 수 있고, 바람직하게는 메틸렌기, 1,2-에틸렌기, 1,3-프로필렌기이고, 보다 바람직하게는 1,2-에틸렌기이다. 도전성 폴리머는, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT)인 것이 바람직하다.
도펀트로서는, 예를 들어 다가 음이온을 들 수 있다. 도전성 폴리머가 폴리티오펜(또는 그의 유도체)인 경우, 다가 음이온은, 폴리티오펜(또는 그의 유도체)과 이온쌍을 형성하고, 폴리티오펜(또는 그의 유도체)을 수중에 안정적으로 분산시킬 수 있다. 다가 음이온으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리아크릴산, 폴리말레산, 폴리메타크릴산 등의 카르복실산 폴리머류; 폴리스티렌술폰산, 폴리비닐술폰산, 폴리이소프렌술폰산 등의 술폰산 폴리머류 등을 들 수 있다. 다가 음이온은, 비닐카르복실산류 또는 비닐술폰산류와, 다른 모노머류와의 공중합체여도 된다. 다른 모노머류로서는, 예를 들어 (메트)아크릴레이트 화합물; 스티렌, 비닐나프탈렌 등의 방향족 비닐 화합물을 들 수 있다. 다가 음이온은, 폴리스티렌술폰산(PSS)인 것이 특히 바람직하다. 도전성 폴리머와 도펀트의 복합체로서는, 예를 들어 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)과 폴리스티렌술폰산의 복합체(PEDOT/PSS)를 들 수 있다.
이온성 계면 활성제로서는, 예를 들어 4급 암모늄염형, 포스포늄염형, 술포늄염형 등의 양이온계 계면 활성제; 카르복실산형, 술포네이트형, 술페이트형, 포스페이트형, 포스파이트형 등의 음이온계 계면 활성제; 술포베타인형, 알킬베타인형, 알킬이미다졸륨베타인형 등의 양성 이온계 계면 활성제; 다가 알코올 유도체, β-시클로덱스트린 포접 화합물, 소르비탄 지방산 모노에스테르, 소르비탄 지방산 디에스테르, 폴리알킬렌옥시드 유도체, 아민옥시드 등의 비이온계 계면 활성제를 들 수 있다.
도전성 미립자로서는, 예를 들어 산화주석계, 산화안티몬계, 산화인듐계, 산화아연계 등의 금속 산화물 미립자를 들 수 있고, 산화주석계 미립자가 바람직하다. 산화주석계 미립자의 재료로서는, 예를 들어 산화주석, 안티몬 도프 산화주석, 인듐 도프 산화주석, 알루미늄 도프 산화주석, 텅스텐 도프 산화주석, 산화티타늄-산화세륨-산화주석의 복합체, 산화티타늄-산화주석의 복합체 등을 들 수 있다. 도전성 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 1 내지 100㎚이고, 바람직하게는 2 내지 50㎚이다. 도전성 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 레이저 회절식 입도계 등에 의해 측정되는 입도 분포에 있어서, 체적 누적 50％에 상당하는 입경(d50)을 의미한다.
이온성 화합물로서는, 예를 들어 알칼리 금속염 및/또는 유기 양이온-음이온염을 들 수 있다. 알칼리 금속염으로서는, 예를 들어 알칼리 금속의 유기염 및 무기염을 들 수 있다. 본 명세서에 있어서, 유기 양이온-음이온염은, 유기 양이온을 포함하는 유기염을 의미한다. 유기 양이온-음이온염에 포함되는 음이온은, 유기 음이온이어도 되고, 무기 음이온이어도 된다. 유기 양이온-음이온염은, 이온성 액체 또는 이온성 고체라고 불리는 경우가 있다.
알칼리 금속염에 포함되는 알칼리 금속 이온으로서는, 예를 들어 리튬 이온, 나트륨 이온 및 칼륨 이온을 들 수 있고, 리튬 이온이 바람직하다.
알칼리 금속의 유기염에 포함되는 음이온으로서는, 예를 들어 CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, -O3S(CF2)3SO3 -, (CN)2N- 및 하기 일반식 (a) 내지 (d)로 표현되는 음이온을 들 수 있다.
(a) (CnF2n＋1SO2)2N-(단, n은 1 내지 10의 정수)
(b) CF2(CmF2mSO2)2N-(단, m은 1 내지 10의 정수)
(c) -O3S(CF2)lSO3 -(단, l은 1 내지 10의 정수)
(d) (CpF2p＋1SO2)N-(CqF2q＋1SO2)(단, p 및 q는, 서로 독립적으로 1 내지 10의 정수)
알칼리 금속의 유기염에 포함되는 음이온은, 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온에 의하면, 알칼리 금속의 유기염은, 이온 해리성이 우수한 이온 화합물로서 기능한다.
알칼리 금속의 무기염에 포함되는 음이온으로서는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (FSO2)2N-, CO3 2- 등을 들 수 있다.
알칼리 금속염에 포함되는 음이온으로서는, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N- 등의 상기한 일반식 (1)로 표현되는 (퍼플루오로알킬술포닐)이미드가 바람직하고, 특히 (CF3SO2)2N-로 표현되는 (트리플루오로메탄술포닐)이미드가 바람직하다.
알칼리 금속의 유기염으로서는, 예를 들어 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C, KO3S(CF2)3SO3K, LiO3S(CF2)3SO3K 등을 들 수 있고, 바람직하게는 LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N, Li(CF3SO2)3C이고, 보다 바람직하게는 Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(C4F9SO2)2N이다. 알칼리 금속의 유기염은, 불소 함유 리튬 이미드염인 것이 바람직하고, (퍼플루오로알킬술포닐)이미드리튬염인 것이 특히 바람직하다.
알칼리 금속의 무기염으로서는, 예를 들어 과염소산리튬 및 요오드화리튬을 들 수 있다.
유기 양이온-음이온염에 포함되는 유기 양이온으로서는, 예를 들어 피리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피롤린 골격을 갖는 양이온, 피롤 골격을 갖는 양이온, 이미다졸륨 양이온, 테트라히드로피리미디늄 양이온, 디히드로피리미디늄 양이온, 피라졸륨 양이온, 피라졸리늄 양이온, 테트라알킬암모늄 양이온, 트리알킬술포늄 양이온, 테트라알킬포스포늄 양이온 등을 들 수 있다.
유기 양이온-음이온염에 포함되는 음이온으로서는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, (CN2)N-, C4F9SO3 -, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, (FSO2)2N-, -O3S(CF2)3SO3 - 및 상술한 일반식 (a) 내지 (d)로 표현되는 음이온을 들 수 있다. 유기 양이온-음이온염에 포함되는 음이온은, 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온에 의하면, 유기 양이온-음이온염은, 이온 해리성이 우수한 이온 화합물로서 기능한다.
이온성 화합물로서는, 상술한 알칼리 금속염 및 유기 양이온-음이온염에 한정되지 않고, 예를 들어 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화제1철, 염화제2철, 황산암모늄 등의 무기염도 들 수 있다. 도전 재료는, 상술한 이온성 화합물을 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다.
도전 재료로서는, 상술한 재료에 한정되지 않고, 예를 들어 아세틸렌 블랙, 케첸 블랙, 천연 그래파이트, 인조 그래파이트 등의 탄소 재료; 티타늄 블랙; 4급 암모늄염 등의 양이온형 도전성 기, 베타인 화합물 등의 양성 이온형 도전성 기, 술폰산염 등의 음이온형 도전성 기 혹은 글리세린 등의 비이온형 도전성 기를 갖는 단량체의 단독 중합체, 또는 당해 단량체와 다른 단량체의 공중합체(예를 들어, 4급 암모늄염기를 갖는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 유래의 구조 단위를 갖는 중합체 등의 이온 도전성을 갖는 중합체); 에틸렌 및 메타크릴레이트의 공중합체 등의 친수성 폴리머를 아크릴계 수지 등에 알로이화시킨 것(영구 대전 방지제)도 들 수 있다.
도전층(2)은, 도전 재료 이외에, 바인더 등의 다른 재료를 더 포함하고 있어도 된다. 바인더는, 예를 들어 도전 재료의 피막 형성성을 향상시킴과 함께, 편광 필름(1)에 대한 도전층(2)의 밀착성 및 접착성(투묘력)을 향상시키는 경향이 있다. 바인더로서는, 예를 들어 옥사졸린기 함유 폴리머, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 에폭시 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨 등을 들 수 있고, 바람직하게는 옥사졸린기 함유 폴리머, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지이고, 특히 바람직하게는 폴리우레탄계 수지이다. 도전층(2)은, 이들 바인더를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 도전층(2)에 있어서의 바인더의 함유율은, 예를 들어 1wt％ 내지 90wt％이고, 바람직하게는 10wt％ 내지 80wt％이다.
도전층(2)의 두께는, 예를 들어 5㎚ 내지 180㎚이고, 바람직하게는 150㎚이고, 보다 바람직하게는 120㎚ 이하이고, 더욱 바람직하게는 100㎚ 이하이고, 특히 바람직하게는 80㎚ 이하이고, 특히 바람직하게는 50㎚ 이하이다. 도전층(2)의 두께는, 10㎚ 이상이어도 되고, 20㎚ 이상이어도 된다.
도전층(2)과 편광 필름(1)의 투묘력은, 예를 들어 10.0N/25㎜ 이상이고, 바람직하게는 12.0N/25㎜ 이상이고, 보다 바람직하게는 14.0N/25㎜ 이상이고, 더욱 바람직하게는 18.0N/25㎜ 이상이다. 상기한 투묘력은, 다음의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 평가 대상인 점착제층 구비 편광 필름(10)을 폭 25㎜×길이 150㎜로 잘라내어 시험편으로 한다. 이어서, 양면 테이프를 개재하여, 시험편이 구비하는 편광 필름(1)의 표면 전체를 스테인리스제 시험판에 중첩하고, 2㎏의 롤러를 1왕복시켜, 이것들을 압착시킨다. 이어서, 시험편이 구비하는 점착제층(3)을 평가용 시트에 중첩하고, 2㎏의 롤러를 1왕복시켜, 이것들을 압착시킨다. 평가용 시트는, 폭 30㎜×길이 150㎜의 사이즈를 갖고, 시험 중에 점착제층(3)으로부터 박리되지 않는 것인 한 특별히 한정되지 않는다. 평가용 시트로서는, 예를 들어 ITO 필름(125 테트라이트 OES(오이케 고교사제) 등)을 사용할 수 있다. 이어서, 시판되는 인장 시험기를 사용하여, 평가용 시트를 파지한 상태로, 박리 각도 180°, 인장 속도 300㎜/min으로 점착제층(3) 및 도전층(2)을 편광 필름(1)으로부터 떼었을 때의 박리력의 평균값을 도전층(2)과 편광 필름(1)의 투묘력으로서 특정한다. 또한, 상기한 시험은, 23℃의 분위기 하에서 행한다.
도전층(2)의 표면 저항률 및 상기한 손실 A는, 도전층(2)에 포함되는 도전 재료의 조성뿐만 아니라, 도전층(2)에 있어서의 도전 재료의 함유율, 도전층(2)의 두께 등에 따라 변화된다. 특허문헌 1 및 2는, 도전층의 표면 저항률을 1.0×106Ω/□ 이하로 유지하면서, 손실 A를 0.9％ 이하로 조정하는 것에 대하여 기재도 시사도 하고 있지 않다. 예를 들어, 특허문헌 1에는, 투명 보호 필름 상에 도전층을 형성하기 위한 코팅 조성물을 도포한 상태에서의 전체 광선 투과율의 측정값이, 모두 98.5％ 정도 이하인 것이 개시되어 있다(실시예 1-53). 이 결과로부터, 특허문헌 1의 구성에서는, 손실 A를 1.5％보다도 작은 값으로 조정하는 것은 어려울 것으로 예상된다.
[점착제층]
점착제층(3)은, 점착제를 포함하는 층이다. 점착제층(3)에 포함되는 점착제로서는, 예를 들어 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있다. 점착제층(3)에 포함되는 점착제로서는, 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 습윤성, 응집성, 접착성 등의 점착 특성을 갖고, 내후성, 내열성 등이 우수한 점에서, 아크릴계 점착제가 바람직하다.
아크릴계 점착제는, 베이스 폴리머로서 (메트)아크릴계 폴리머를 포함한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 예를 들어 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위를 주성분으로서 함유한다. 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」은, 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 의미한다. 「주성분」은, 폴리머에 중량 기준으로 가장 많이 포함되는 구조 단위를 의미한다.
(메트)아크릴계 폴리머의 주골격을 형성하기 위한 (메트)아크릴산에스테르에 포함되는 에스테르 부분((메트)아크릴 산기 이외의 부분)의 탄소수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1 내지 18이다. (메트)아크릴산에스테르의 에스테르 부분은, 페닐기, 페녹시기 등의 방향족환을 포함하고 있어도 되고, 알킬기를 포함하고 있어도 된다. 이 알킬기는, 직쇄상이어도 되고, 분지쇄상이어도 된다. (메트)아크릴계 폴리머는, (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위를 1종 또는 2종 이상 포함하고 있어도 된다. (메트)아크릴계 폴리머에 있어서, (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위에 포함되는 에스테르 부분의 탄소수의 평균값은, 3 내지 9인 것이 바람직하다. (메트)아크릴계 폴리머는, 점착 특성, 내구성, 위상차의 조정, 굴절률의 조정 등의 관점에서, 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다. 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에 의해 점착제층(3)의 위상차를 조정함으로써, 편광 필름(1)이 열 수축하고, 점착제층(3)이 연신됨으로써 발생하는 액정 표시 장치의 광 누설을 억제할 수 있다. 또한, 이 (메트)아크릴산에스테르는, 점착제층(3)의 굴절률을 조정하여, 점착제층(3)과 피착체(예를 들어, 액정 셀)의 굴절률의 차를 저감시키는 데 적합하다. 굴절률의 차가 저감되면, 점착제층(3)과 피착체의 계면에서의 광의 반사가 억제되어, 디스플레이의 시인성을 향상시킬 수 있다.
방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, o-페닐페놀(메트)아크릴레이트, 페녹시(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 크레졸(메트)아크릴레이트, 페놀에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 메톡시벤질(메트)아크릴레이트, 클로로벤질(메트)아크릴레이트, 크레실(메트)아크릴레이트, 스티릴(메트)아크릴레이트 등의 벤젠환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르; 히드록시에틸화β-나프톨아크릴레이트, 2-나프토에틸(메트)아크릴레이트, 2-나프톡시에틸아크릴레이트, 2-(4-메톡시-1-나프톡시)에틸(메트)아크릴레이트 등의 나프탈렌환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르; 비페닐(메트)아크릴레이트 등의 비페닐환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 점착제층(3)의 점착 특성이나 내구성을 향상시키는 관점에서, 벤질(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트가 바람직하다.
방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에 의해 점착제층(3)의 굴절률을 조정하는 경우, (메트)아크릴계 폴리머의 전구성 단위에 있어서의 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 3중량％ 내지 25중량％인 것이 바람직하다. 이 함유율은, 22중량％ 이하가 보다 바람직하고, 20중량％ 이하가 더욱 바람직하다. 이 함유율은, 8중량％ 이상이 보다 바람직하고, 12중량％ 이상이 더욱 바람직하다. 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위의 함유율이 25중량％ 이하이면, 편광 필름(1)의 수축에 의한 액정 표시 장치의 광 누설을 억제할 수 있음과 함께, 점착제층(3)의 리워크성을 향상시킬 수 있는 경향이 있다. 이 함유율이 3중량％ 이상이면, 액정 표시 장치의 광 누설을 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.
(메트)아크릴계 폴리머는, 접착성 및 내열성을 향상시키는 관점에서, 상술한 방향족환을 포함하는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위 이외에, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 포함하는 중합성 관능기를 갖는 공중합 모노머에서 유래하는 구조 단위를 1종류 이상 갖고 있어도 된다. 이 공중합 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴, (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸아크릴레이트 등의 히드록실기 함유 모노머; (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기 함유 모노머; 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머; 아크릴산의 카프로락톤 부가물; 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미도프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머; 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머 등을 들 수 있다.
상기한 공중합 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메트)아크릴아미드 등의(N-치환)아미드계 모노머; (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 (메트)아크릴산알킬아미노알킬에스테르계 모노머; (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 (메트)아크릴산알콕시알킬계 모노머; N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머; N-아크릴로일모르폴린 등의 모르폴린계 모노머; N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머; N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머 등도 들 수 있다.
상기한 공중합 모노머로서는, 예를 들어 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 들 수 있다. 또한, 공중합 모노머로서는, 예를 들어 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀 모노머; 비닐에테르 등의 에테르기 함유 비닐모노머도 들 수 있다.
상기한 공중합 모노머로서는, 예를 들어 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 4-비닐부틸트리메톡시실란, 4-비닐부틸트리에톡시실란, 8-비닐옥틸트리메톡시실란, 8-비닐옥틸트리에톡시실란, 10-메타크릴로일옥시데실트리메톡시실란, 10-아크릴로일옥시데실트리메톡시실란, 10-메타크릴로일옥시데실트리에톡시실란, 10-아크릴로일옥시데실트리에톡시실란 등의 실란계 모노머도 들 수 있다.
상기한 공중합 모노머로서는, 예를 들어 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물((메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 갖는 다관능성 모노머); 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물이 2개 이상 부가한 화합물(예를 들어, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트 및 우레탄(메트)아크릴레이트) 등을 사용할 수도 있다.
(메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 상술한 공중합 모노머에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 0wt％ 내지 20wt％이고, 바람직하게는 0.1wt％ 내지 15wt％이고, 보다 바람직하게는 0.1wt％ 내지 10wt％이다.
공중합 모노머로서는, 접착성 및 내구성의 관점에서, 히드록실기 함유 모노머 및 카르복실기 함유 모노머가 바람직하다. 공중합 모노머로서, 히드록실기 함유 모노머 및 카르복실기 함유 모노머를 병용해도 된다. 공중합 모노머는, 예를 들어 점착제층(3)을 형성하기 위한 점착제 조성물이 가교제를 포함하는 경우에, 가교제와의 반응점으로서 기능한다. 히드록실기 함유 모노머, 카르복실기 함유 모노머 등은, 분자간 가교제와의 반응성이 우수하기 때문에, 얻어지는 점착제층(3)의 응집성 및 내열성을 향상시키는 데 적합하다. 특히, 히드록실기 함유 모노머는, 점착제층(3)의 리워크성을 향상시키는 데 적합하다. 카르복실기 함유 모노머는, 점착제층(3)의 내구성과 리워크성을 양립시키는 데 적합하다.
공중합 모노머로서 히드록실기 함유 모노머를 사용하는 경우, (메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 히드록실기 함유 모노머에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 0.01wt％ 내지 15wt％인 것이 바람직하고, 0.03wt％ 내지 10wt％인 것이 보다 바람직하고, 0.05wt％ 내지 7wt％인 것이 더욱 바람직하다. 공중합 모노머로서 카르복실기 함유 모노머를 사용하는 경우, (메트)아크릴계 폴리머에 있어서의 카르복실기 함유 모노머에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 0.05wt％ 내지 10wt％인 것이 바람직하고, 0.1wt％ 내지 8wt％인 것이 보다 바람직하고, 0.2wt％ 내지 6wt％인 것이 더욱 바람직하다.
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 예를 들어 50만 내지 300만이고, 내구성, 특히 내열성의 관점에서, 바람직하게는 70만 내지 270만이고, 보다 바람직하게는 80만 내지 250만이다. (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이 50만 이상인 경우, 점착제층(3)은, 실용상 충분한 내열성을 갖는 경향이 있다. (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량이 300만 이하인 경우, 점착제층(3)을 제작하기 위한 도공액의 점도를 용이하게 조절할 수 있는 경향이 있다. 도공액의 점도를 용이하게 조절할 수 있으면, 도공액에 다량의 희석 용제를 첨가할 필요가 없기 때문에, 점착제층(3)의 제조 비용을 억제할 수 있다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량은, GPC(겔·투과·크로마토그래피)에 의한 측정 결과를 폴리스티렌 환산한 값을 말한다.
(메트)아크릴계 폴리머는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지의 중합 반응에 의해 제작할 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체여도 되고, 블록 공중합체여도 되고, 그라프트 공중합체여도 된다.
점착제층(3)에 포함되는 점착제는, 베이스 폴리머가 가교제에 의해 가교된 구조를 갖고 있어도 된다. 예를 들어, 베이스 폴리머로서 (메트)아크릴계 폴리머를 사용하는 경우에는, 가교제로서, 유기계 가교제 또는 다관능성 금속 킬레이트를 사용할 수 있다. 유기계 가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트란, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합되어 있는 것을 의미한다. 다가 금속을 구성하는 원자로서는, 예를 들어 Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트에 포함되는 유기 화합물은, 예를 들어 산소 원자 등을 포함한다. 이 유기 화합물로서는, 예를 들어 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.
점착제에 있어서, 가교제의 사용량은, (메트)아크릴계 폴리머 100중량부에 대하여, 3중량부 이하가 바람직하고, 0.01 내지 3중량부가 보다 바람직하고, 0.02 내지 2중량부가 더욱 바람직하고, 0.03 내지 1중량부가 특히 바람직하다.
점착제층(3)은, 점착제 이외의 다른 재료를 더 포함하고 있어도 된다. 다른 재료로서는, 예를 들어 도전 재료, 실란 커플링제 및 기타의 첨가제를 들 수 있다. 도전 재료는, 점착제층(3)의 표면 저항률을 저하시켜, 액정 표시 장치의 대전에 의한 표시 불량을 방지하는 데 적합하다. 도전 재료로서는, 도전층(2)으로 상술한 것을 들 수 있다. 점착제층(3)에 포함되는 도전 재료는, 베이스 폴리머와의 상용성 및 점착제층(3)의 투명성의 관점에서, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 특히, 점착제층(3)이 (메트)아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로서 포함하는 아크릴계 점착제를 포함하는 경우, 도전 재료로서 이온성 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 이온성 화합물은, 대전 방지 성능의 관점에서 이온성 액체인 것이 바람직하다.
점착제층(3)은, 점착제의 베이스 폴리머(예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머 100중량부에 대하여, 도전 재료(예를 들어, 이온성 화합물)를 0.05 내지 20중량부 포함하는 것이 바람직하다. 점착제층(3)이 도전 재료를 0.05중량부 이상 포함함으로써, 점착제층(3)의 표면 저항률이 충분히 저하되고, 점착제층(3)의 대전 방지 성능이 충분히 향상되는 경향이 있다. 점착제층(3)은, 점착제의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 도전 재료를 0.1중량부 이상 포함하는 것이 바람직하고, 0.5중량부 이상 포함하는 것이 보다 바람직하다. 점착제층(3)에 실용상 충분한 내구성을 부여하는 관점에서, 점착제층(3)은, 점착제의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 도전 재료를 20중량부 이하 포함하는 것이 바람직하고, 10중량부 이하 포함하는 것이 보다 바람직하다.
기타의 첨가제로서는, 예를 들어 폴리알킬렌글리콜(예를 들어, 폴리프로필렌글리콜) 등의 폴리에테르 화합물, 착색제, 안료, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 충전제, 유기 충전제, 금속 분말 등을 사용하는 용도에 따라 적절히 사용할 수 있다. 첨가제는, 분체여도 되고, 입자상이어도 되고, 박상이어도 된다. 첨가제로서, 제어 가능한 범위 내에서 환원제를 사용함으로써 산화 환원계를 구성해도 된다. 점착제층(3)에 착색제 등의 색소를 첨가함으로써, 점착제층 구비 편광 필름(10)으로부터의 반사광의 색상을 조절할 수 있는 경우가 있다. 점착제층(3)은, 점착제의 베이스 폴리머(예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머 100중량부에 대하여, 기타의 첨가제를 5중량부 이하 포함하는 것이 바람직하고, 3중량부 이하 포함하는 것이 보다 바람직하고, 1중량부 이하 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
점착제층(3)의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 5 내지 100㎛이고, 바람직하게는 10 내지 50㎛이다.
점착제층 구비 편광 필름(10)에 있어서, 점착제층(3)의 표면 저항률은, 특별히 한정되지 않지만, 1.0×1014Ω/□ 미만이어도 되고, 1.0×1012Ω/□ 이하인 것이 바람직하다. 점착제층(3)의 표면 저항률의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 내구성의 관점에서, 예를 들어 1.0×108Ω/□이다. 점착제층(3)의 표면 저항률은, 도전층(2)과 동일한 방법에 의해 측정할 수 있다.
[다른 층]
점착제층 구비 편광 필름(10)은, 편광 필름(1), 도전층(2) 및 점착제층(3) 이외의 다른 층을 더 구비하고 있어도 된다. 점착제층 구비 편광 필름(10)은, 1개 또는 2개 이상의 기타의 층을 포함하고 있어도 된다. 다른 층은, 예를 들어 편광 필름(1)보다도 시인측에 배치되어, 편광 필름(1)에 접하고 있다. 다른 층으로서는, 예를 들어 표면 처리층, 표면 보호 필름 및 위상차 막을 들 수 있다. 표면 처리층으로서는, 예를 들어 하드 코트층, 방현 처리층, 반사 방지층, 스티킹 방지층 등을 들 수 있다.
하드 코트층의 재료로서는, 예를 들어 열가소성 수지, 열 또는 방사선에 의해 경화되는 재료 등을 사용할 수 있다. 열 또는 방사선에 의해 경화되는 재료로서는, 예를 들어 열경화형 수지; 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지 등의 방사선 경화형 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지에 의하면, 자외선 조사에 의한 경화 처리에 의해, 간단한 가공 조작으로 효율적으로 경화 수지층을 형성할 수 있다. 경화형 수지로서는, 예를 들어 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 멜라민계 수지 등을 들 수 있다. 경화형 수지는, 예를 들어 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 에폭시계, 멜라민계 등의 모노머, 올리고머, 폴리머 등을 포함한다. 가공 속도가 빠르고, 기재에 대한 열의 대미지가 적은 점에서, 하드 코트층의 재료로서는, 방사선 경화형 수지가 바람직하고, 특히 자외선 경화형 수지가 바람직하다. 자외선 경화형 수지는, 예를 들어 자외선 중합성의 관능기를 갖는 화합물, 특히, 당해 관능기를 2개 이상, 바람직하게는 3 내지 6개 갖는 아크릴계의 모노머 또는 올리고머를 포함하는 것이 바람직하다. 자외선 경화형 수지에는, 예를 들어 광중합 개시제가 배합되어 있다.
방현 처리층 및 반사 방지층은, 액정 표시 장치의 시인성을 향상시키는 데 적합하다. 표면 처리층이 하드 코트층과, 방현 처리층 또는 반사 방지층을 갖고 있고, 방현 처리층 또는 반사 방지층이 하드 코트층보다도 시인측에 배치되어 있어도 된다. 방현 처리층의 재료는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 방사선 경화형 수지, 열경화형 수지, 열가소성 수지 등을 사용할 수 있다. 반사 방지층의 재료로서는, 예를 들어 산화티타늄, 산화지르코늄, 산화규소, 불화마그네슘 등이 사용된다. 표면 처리층은, 복수의 반사 방지층을 갖고 있어도 된다.
표면 처리층은, 도전 재료를 포함함으로써 도전성을 갖고 있어도 된다. 도전 재료로서는, 도전층(2)으로 상술한 것을 들 수 있다.
표면 보호 필름은, 상기한 표면 처리층 위에 배치되어 있어도 되고, 편광 필름(1) 위에 배치되어 있어도 된다. 표면 보호 필름은, 예를 들어 지지 필름과, 지지 필름의 적어도 편면에 배치된 점착제층을 갖는다. 표면 보호 필름의 점착제층은, 경박리제, 도전 재료 등을 포함하고 있어도 된다. 표면 보호 필름의 점착제층이 도전 재료를 포함하는 경우, 표면 보호 필름을 표면 처리층에 접합하고, 그 후, 표면 보호 필름을 박리함으로써, 표면 처리층에 도전 재료를 함유시켜, 그 표면에 도전 기능을 부여할 수 있다. 도전 재료로서는, 도전층(2)으로 상술한 것을 들 수 있다. 표면 보호 필름의 박리에 의해 표면 처리층의 표면에 도전 기능을 부여하기 위해서는, 표면 보호 필름의 점착제층이 도전 재료와 함께, 경박리제를 포함하는 것이 바람직하다. 경박리제로서는, 예를 들어 폴리오르가노실록산 등의 실리콘 수지를 들 수 있다. 표면 처리층의 표면에 부여하는 도전 기능은, 도전 재료 및 경박리제의 사용량에 의해 적절히 조정할 수 있다.
다른 층은, 부재간의 밀착성을 향상시키기 위한 접착 용이층을 포함하고 있어도 된다. 다른 층이 접착 용이층인 경우, 당해 접착 용이층은, 편광 필름(1) 및 도전층(2) 사이에 배치되어 있어도 된다. 또한, 접착 용이층 대신에, 편광 필름(1)의 도전층(2)측의 표면에, 코로나 처리, 플라스마 처리 등의 접착 용이화 처리가 실시되어 있어도 된다.
[점착제층 구비 편광 필름의 제조 방법]
점착제층 구비 편광 필름(10)은, 예를 들어 다음의 방법에 의해 제작할 수 있다. 먼저, 도전 재료의 용액 또는 분산액을 조제한다. 용액 또는 분산액의 용매는, 예를 들어 물이고, 수용성의 유기 용매를 더 포함하고 있어도 된다. 수용성의 유기 용매로서는, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, sec-부탄올, tert-부탄올, n-아밀알코올, 이소아밀알코올, sec-아밀알코올, tert-아밀알코올, 1-에틸-1-프로판올, 2-메틸-1-부탄올, n-헥산올, 시클로헥산올 등의 알코올류를 들 수 있다.
이어서, 도전 재료의 용액 또는 분산액을 편광 필름(1)의 표면에 도포한다. 얻어진 도포막을 건조시킴으로써, 편광 필름(1) 위에 도전층(2)이 형성된다. 이에 의해, 편광 필름(1) 및 도전층(2)으로 이루어지는 적층체 L이 얻어진다.
이어서, 점착제를 포함하는 용액을 조제한다. 이 용액을 세퍼레이터의 표면에 도포함으로써 도포막이 얻어진다. 세퍼레이터는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용할 수 있다. 이어서, 도포막을 건조시킴으로써, 세퍼레이터 위에 점착제층(3)이 형성된다. 얻어진 점착제층(3)을 적층체 L의 도전층(2) 위에 전사함으로써, 점착제층 구비 편광 필름(10)을 제작할 수 있다.
(점착제층 구비 편광 필름의 변형예)
점착제층 구비 편광 필름(10)은, 편광 필름(1), 도전층(2) 및 점착제층(3) 이외의 다른 부재를 더 구비하고 있어도 된다. 도 2에 도시한 바와 같이, 본 변형예에 관한 점착제층 구비 편광 필름(11)은, 반사 방지막(40)을 더 구비하고 있다. 점착제층 구비 편광 필름(11)에 있어서, 반사 방지막(40), 편광 필름(1) 및 점착제층(3)은, 적층 방향으로 이 순으로 배열되어 있다. 반사 방지막(40)은, 편광 필름(1)에 접하고 있어도 된다. 반사 방지막(40)을 제외하고, 점착제층 구비 편광 필름(11)의 구조는, 점착제층 구비 편광 필름(10)의 구조와 동일하다. 따라서, 점착제층 구비 편광 필름(10)과 변형예의 점착제층 구비 편광 필름(11)에서 공통되는 요소에는 동일한 참조 부호를 붙이고, 그것들의 설명을 생략하는 경우가 있다. 즉, 이하의 각 실시 형태에 관한 설명은, 기술적으로 모순되지 않는 한, 서로 적용된다. 이하의 각 실시 형태는, 기술적으로 모순되지 않는 한, 서로 조합되어도 된다.
일례로서, 점착제층 구비 편광 필름(11)은, 점착제층(3)이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 무알칼리 유리와 적층된 상태로, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 점착제층(3)과는 반대측의 표면(전형적으로는, 반사 방지막(40)의 표면)으로부터 입사한 때, 시감 반사율 Y가 1.1％ 이하인 반사광을 발생한다. 이러한 반사광이 생기는 점착제층 구비 편광 필름(11)은, 액정 패널에서의 광의 반사를 억제하고, 이에 의해 액정 표시 장치의 시인성을 향상시키는 데 적합하다. 또한, 시감 반사율 Y는, XYZ 표색계(CIE1931)에 있어서의 3자극값(X, Y 및 Z)의 Y값을 의미한다. 3자극값은, JIS Z8701:1999에 상세하게 규정되어 있다.
상세하게는, 상기한 시감 반사율 Y는, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 점착제층(3)에 의해, 점착제층 구비 편광 필름(11)을 무알칼리 유리에 첩부한다. 무알칼리 유리는, 알칼리 성분(알칼리 금속 산화물)을 실질적으로 포함하지 않는 유리이고, 상세하게는, 유리에 있어서의 알칼리 성분의 중량 비율이, 예를 들어 1000ppm 이하이고, 나아가 500ppm 이하이다. 무알칼리 유리는, 예를 들어 판 형상이고, 0.5㎜ 이상의 두께를 갖는다. 이어서, 점착제층 구비 편광 필름(11)과 접합된 표면과는 반대측의 무알칼리 유리 표면에 흑색 필름을 첩부한다. 이어서, 반사 방지막(40)측의 점착제층 구비 편광 필름(11)의 표면에, 5°의 입사각에서 CIE 표준 광원 D65로부터의 광을 입사시킨다. 이때 발생한 정반사 광에 대하여, 파장 360㎚ 내지 740㎚의 범위에 있어서의 분광 반사율을 특정하고, 당해 분광 반사율로부터 XYZ 표색계(CIE1931)에 있어서의 시감 반사율 Y를 특정할 수 있다.
시감 반사율 Y는, 바람직하게는 1.0％ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.9％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.8％ 이하이고, 특히 바람직하게는 0.7％ 이하이다. 시감 반사율 Y의 하한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 0.1％이다.
상기한 반사광의 L*a*b* 표색계(CIE1976)에 있어서의 a*값 및 b*값은, 특별히 한정되지 않지만, 하기 관계식 (1) 및 (2)를 충족시키는 것이 바람직하다.
Figure pct00003
상기한 a*값 및 b*값은, 반사광의 XYZ 표색계에 있어서의 3자극값(X, Y 및 Z)을 사용하여, JIS Z8781-4:2013에서 규정된 하기 식(i) 및 (ii)에 의해 특정할 수 있다.
Figure pct00004
상기한 a*값은, 바람직하게는 －6 이상 6 이하이고, 보다 바람직하게는 －3 이상 3 이하이다. 상기한 b*값은, 바람직하게는 －15 이상 3 이하이고, 보다 바람직하게는 －10 이상 2 이하이고, 더욱 바람직하게는 －6 이상 2 이하이고, 특히 바람직하게는 －5 이상 2 이하이다. 경우에 따라서는, a*값 및 b*값은, 하기 관계식 (3) 및 (4)를 충족시키고 있어도 된다.
Figure pct00005
또한, a*값 및 b*값은, 하기 관계식 (5) 및 (6)을 충족시키고 있어도 된다.
Figure pct00006
상기한 반사광의 L*값은, 예를 들어 12 이하이고, 바람직하게는 10 이하이고, 보다 바람직하게는 8 이하이고, 더욱 바람직하게는 7 이하이다. L*값의 하한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 3이다. L*값은, 상기한 3자극값을 사용하여, JIS Z8781-4:2013에서 규정된 하기 식(iii)에 의해 특정할 수 있다.
Figure pct00007
L*값＝0, a*값＝0 및 b*값＝0을 충족시키는 광(색상이 완전히 중립인 광)과, 상기한 반사광의 색차 ΔE는, 예를 들어 22 이하이고, 바람직하게는 18 이하이고, 보다 바람직하게는 15 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 이하이고, 특히 바람직하게는 8 이하이다. 색차 ΔE의 하한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 3이다. 색차 ΔE는, 반사광의 L*값, a*값 및 b*값을 사용하여, 하기 식(iv)에 기초하여 산출할 수 있다.
Figure pct00008
[반사 방지막]
도 3에 도시한 바와 같이, 반사 방지막(40)은, 제1 고굴절률층(41), 제1 저굴절률층(42), 제2 고굴절률층(43) 및 제2 저굴절률층(44)을 적층 방향으로 이 순으로 갖는다. 제1 고굴절률층(41)은, 예를 들어 편광 필름(1)에 접하고 있다. 제2 저굴절률층(44)은, 예를 들어 이들 층 중, 가장 시인측에 위치한다.
고굴절률층(41 및 43)은, 저굴절률층(42 및 44)보다도 높은 굴절률을 갖는 층이고, 그 굴절률은, 예를 들어 1.6 내지 3.2의 범위에 있다. 제1 고굴절률층(41)의 굴절률은, 제2 고굴절률층(43)과 동일해도 되고, 달라도 된다. 본 명세서에 있어서, 「굴절률」은, 특별히 언급하지 않는 한, 온도 25℃에서 파장 λ＝550㎚의 광을 사용하여, JIS K0062:1992의 규정에 준거하여 측정된 값을 의미한다.
본 발명의 바람직한 일 형태에서는, 고굴절률층(41 및 43)은, 예를 들어 바인더 수지와 당해 바인더 수지 중에 분산된 무기 미립자를 포함한다. 바인더 수지는, 대표적으로는 전리선 경화형 수지의 경화물이고, 더 구체적으로는 자외선 경화형 수지의 경화물이다. 자외선 경화형 수지로서는, 라디칼 중합이 가능한 치환기를 갖는 중합체 또는 올리고머를 포함하는 수지, 예를 들어 (메트)아크릴레이트 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지로서의 (메트)아크릴레이트 수지는, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 아크릴(메트)아크릴레이트, 에테르(메트)아크릴레이트 등의 중합체 또는 올리고머를 포함한다. (메트)아크릴레이트 수지는, 상기한 중합체 또는 올리고머에 더하여, 라디칼 중합성 모노머(전구체)를 더 포함하고 있어도 된다. 이 모노머의 분자량은, 예를 들어 200 내지 700이다. 이 모노머의 구체예로서는, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA: 분자량 298), 네오펜틸글리콜디아크릴레이트(NPGDA: 분자량 212), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA: 분자량 632), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(DPPA: 분자량 578), 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(TMPTA: 분자량 296)를 들 수 있다. 전리선 경화형 수지는, 필요에 따라, 개시제를 포함하고 있어도 된다. 개시제로서는, 예를 들어 UV 라디칼 발생제(시바·스페셜티·케미컬사제 이르가큐어 907, 동 127, 동 192 등)나 과산화벤조일을 들 수 있다. 상기한 바인더 수지는, 전리선 경화형 수지의 경화물 이외에 다른 수지를 포함하고 있어도 된다. 다른 수지는, 열경화성 수지여도 되고, 열가소성 수지여도 된다. 다른 수지로서는, 지방족계 수지(예를 들어, 폴리올레핀), 우레탄계 수지 등을 들 수 있다.
바인더 수지의 굴절률은, 예를 들어 1.40 내지 1.60이다. 바인더 수지의 배합량은, 형성되는 고굴절률층 100중량부에 대하여, 예를 들어 10중량부 내지 80중량부이고, 바람직하게는 20중량부 내지 70중량부이다.
무기 미립자의 재료는, 예를 들어 금속 산화물이다. 금속 산화물의 구체예로서는, 산화지르코늄(지르코니아)(굴절률: 2.19), 산화알루미늄(굴절률: 1.56 내지 2.62), 산화티타늄(굴절률: 2.49 내지 2.74), 산화규소(굴절률: 1.25 내지 1.46)를 들 수 있다. 이들 금속 산화물은, 광의 흡수가 작을뿐만 아니라, 전리선 경화형 수지나 열가소성 수지 등의 유기 재료보다도 높은 굴절률을 갖고 있기 때문에, 고굴절률층(41 및 43)의 굴절률의 조정에 적합하다. 무기 미립자는, 산화지르코늄 또는 산화티타늄을 포함하는 것이 바람직하다.
무기 미립자의 굴절률은, 예를 들어 1.60 이상이고, 바람직하게는 1.70 내지 2.80이고, 보다 바람직하게는 2.00 내지 2.80이다. 1.60 이상의 굴절률을 갖는 무기 미립자는, 고굴절률층(41 및 43)의 굴절률을 조정하는 데 적합하다. 무기 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 1㎚ 내지 100㎚이고, 바람직하게는 10㎚ 내지 80㎚이고, 보다 바람직하게는 20㎚ 내지 70㎚이다. 무기 미립자의 평균 입경은, 예를 들어 레이저 회절식 입도계 등에 의해 측정되는 입도 분포에 있어서, 체적 누적 50％에 상당하는 입경(d50)을 의미한다.
무기 미립자는, 표면 개질되어 있지 않아도 되지만, 표면 개질되어 있는 것이 바람직하다. 표면 개질된 무기 미립자는, 바인더 수지 중에 양호하게 분산되는 경향이 있다. 표면 개질은, 예를 들어 무기 미립자의 표면에 표면 개질제를 도포하고, 표면 개질제층을 형성함으로써 행해진다. 표면 개질제로서는, 예를 들어 실란계 커플링제, 티타네이트계 커플링제 등의 커플링제; 지방산계 계면 활성제 등의 계면 활성제를 들 수 있다. 이러한 표면 개질제를 사용하면, 바인더 수지와 무기 미립자의 습윤성이 향상되어, 바인더 수지와 무기 미립자의 계면이 안정화되는 경향이 있다.
무기 미립자의 배합량은, 형성되는 고굴절률층 100중량부에 대하여, 예를 들어 10중량부 내지 90중량부이고, 보다 바람직하게는 20중량부 내지 80중량부이다. 무기 미립자의 배합량이 상기한 범위 내이면, 반사 방지막은, 충분한 기계 특성을 가짐과 함께, 반사광의 시감 반사율 Y를 충분히 저감시킬 수 있는 경향이 있다.
바인더 수지와 무기 미립자를 포함하는 고굴절률층(41 및 43)의 굴절률은, 예를 들어 1.6 내지 2.6이고, 바람직하게는 1.7 내지 2.2이다.
본 발명의 다른 바람직한 일 형태에서는, 고굴절률층(41 및 43)은, 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하고, 바람직하게는 실질적으로 금속 산화물 또는 금속 질화물로 이루어진다. 금속 산화물의 구체예로서는, 산화티타늄(TiO2), 인듐/주석 산화물(ITO), 산화니오븀(Nb2O5), 산화이트륨(Y2O3), 산화인듐(In2O3), 산화주석(SnO2), 산화지르코늄(ZrO2), 산화하프늄(HfO2), 산화안티몬(Sb2O3), 산화탄탈(Ta2O5), 산화아연(ZnO), 산화텅스텐(WO3)을 들 수 있다. 금속 질화물의 구체예로서는, 질화규소(Si3N4)를 들 수 있다. 고굴절률층(41 및 43)은, 바람직하게는 산화니오븀(Nb2O5)또는 산화티타늄(TiO2)을 포함한다. 금속 산화물 또는 금속 질화물로 구성되는 고굴절률층의 굴절률은, 예를 들어 2.00 내지 2.60이고, 바람직하게는 2.10 내지 2.45이다.
제1 고굴절률층(41)의 재료는, 제2 고굴절률층(43)과 동일해도 되고, 달라도 된다.
제1 고굴절률층(41)의 물리막 두께는, 예를 들어 9㎚ 내지 15㎚이고, 바람직하게는 11㎚ 내지 13㎚이다. 제1 고굴절률층(41)의 광학막의 두께는, 예를 들어 20㎚ 내지 35㎚이고, 바람직하게는 25㎚ 내지 30㎚이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 광학막 두께는, 파장 550㎚의 광의 굴절률과 물리막 두께의 곱으로 표현되는 값이다.
제2 고굴절률층(43)의 물리막 두께는, 예를 들어 98㎚ 내지 124㎚이고, 바람직하게는 111㎚ 내지 120㎚이다. 제2 고굴절률층(43)의 광학막 두께는, 예를 들어 230㎚ 내지 290㎚이고, 바람직하게는 260㎚ 내지 280㎚이다.
저굴절률층(42 및 44)은, 고굴절률층(41 및 43)보다도 낮은 굴절률을 갖는 층이고, 그 굴절률은, 예를 들어 1.35 내지 1.55이고, 바람직하게는 1.40 내지 1.50이다. 저굴절률층(42 및 44)과, 고굴절률층(41 및 43)의 굴절률의 차를 적절하게 조절함으로써, 광의 반사를 억제할 수 있는 경향이 있다. 제1 저굴절률층(42)의 굴절률은, 제2 저굴절률층(44)과 동일해도 되고, 달라도 된다.
저굴절률층(42 및 44)의 재료로서는, 예를 들어 금속 산화물 및 금속 불화물을 들 수 있다. 금속 산화물의 구체예로서는, 산화규소(SiO2)를 들 수 있다. 금속 불화물의 구체예로서는, 불화마그네슘, 불화규소산을 들 수 있다. 저굴절률층(42 및 44)의 재료는, 굴절률의 관점에서 불화마그네슘 및 불화규소산이 바람직하고, 제조 용이성, 기계적 강도, 내습성 등의 관점에서 산화규소가 바람직하고, 각종 특성을 종합적으로 고려하면 산화규소가 바람직하다. 제1 저굴절률층(42)의 재료는, 제2 저굴절률층(44)과 동일해도 되고, 달라도 된다.
저굴절률층(42 및 44)의 재료는, 경화성의 불소 함유계 수지의 경화물이어도 된다. 경화성의 불소 함유계 수지는, 예를 들어 불소 함유 모노머 유래의 구성 단위와 가교성 모노머 유래의 구성 단위를 갖는다. 불소 함유 모노머의 구체예로서는, 예를 들어 플루오로올레핀류(플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등), 부분적으로 또는 완전히 불소화된 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 유도체류(비스코트 6FM(오사카 유키 가가쿠사제), M-2020(다이킨사제) 등), 완전히 또는 부분적으로 불소화된 비닐에테르류 등을 들 수 있다. 가교성 모노머로서는, 예를 들어 글리시딜메타크릴레이트 등의 분자 내에 가교성 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머; 카르복실기, 히드록실기, 아미노기, 술폰산기 등의 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머((메트)아크릴산, 메틸올(메트)아크릴레이트, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트 등)를 들 수 있다. 불소 함유계 수지는, 상술한 화합물 이외의 다른 모노머(예를 들어, 올레핀계 모노머, (메트)아크릴레이트계 모노머, 스티렌계 모노머) 유래의 구성 단위를 갖고 있어도 된다.
제1 저굴절률층(42)의 물리막 두께는, 예를 들어 26㎚ 내지 34㎚이고, 바람직하게는 27㎚ 내지 31㎚이다. 제1 저굴절률층(42)의 광학막 두께는, 예를 들어 38㎚ 내지 50㎚이고, 바람직하게는 40㎚ 내지 45㎚이다.
제2 저굴절률층(44)의 물리막 두께는, 예를 들어 68㎚ 내지 88㎚이고, 바람직하게는 72㎚ 내지 79㎚이다. 제2 저굴절률층(44)의 광학막 두께는, 예를 들어 100㎚ 내지 128㎚이고, 바람직하게는 105㎚ 내지 115㎚이다.
고굴절률층 및 저굴절률층의 제작 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 이들 층이 수지를 포함하는 경우, 소위 웨트 프로세스(수지 조성물을 도포한 후에 경화)에 의해, 이들 층을 형성할 수 있다. 이들 층이 금속 산화물, 금속 불화물, 금속 질화물 등으로 구성되는 경우, 소위 드라이 프로세스에 의해, 이들 층을 형성할 수 있다. 드라이 프로세스의 구체예로서는, PVD(Physical Vapor Deposition)법, CVD(Chemical Vapor Deposition)법을 들 수 있다. PVD법으로서는, 예를 들어 진공 증착법, 반응성 증착법, 이온빔 어시스트법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 들 수 있다. CVD법으로서는, 예를 들어 플라스마 CVD법을 들 수 있다. 반사광의 색상의 변동을 저감시키는 관점에서, 드라이 프로세스로서는, 스퍼터링법이 바람직하다.
도 3의 반사 방지막(40)은, 고굴절률층 및 저굴절률층 이외의 다른 부재를 더 갖고 있어도 된다. 도 4는, 반사 방지막의 다른 일례를 도시하고 있다. 도 4의 반사 방지막(47)은, 기재(45) 및 점착제층(46)을 더 갖는다. 기재(45)는, 예를 들어 제1 고굴절률층(41)과 편광 필름(1) 사이에 배치되어, 제1 고굴절률층(41)에 접하고 있다. 점착제층(46)은, 예를 들어 기재(45)와 편광 필름(1) 사이에 배치되어, 기재(45) 및 편광 필름(1)의 각각에 접하고 있다.
기재(45)는, 예를 들어 투명성을 갖는 수지 필름을 포함한다. 이러한 수지 필름의 재료로서는, 예를 들어 셀룰로오스계 수지(트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 니트로셀룰로오스 등), 폴리아미드계 수지(나일론-6, 나일론-66 등), 폴리이미드계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복실레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등), 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 등), 폴리술폰계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리에테르이미드계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리염화비닐수지, 폴리비닐알코올 수지, 에틸렌비닐알코올 수지, (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴로니트릴 수지 등을 들 수 있다. 기재(45)는, 단일의 수지 필름의 층이어도 되고, 복수의 수지 필름의 적층체여도 되고, 수지 필름과 후술하는 하드 코트층의 적층체여도 된다. 기재(45)는, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 가소제, 활제, 착색제, 산화 방지제, 난연제등을 들 수 있다.
본 발명의 바람직한 일 형태에서는, 기재(45)는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름이다. 트리아세틸셀룰로오스 필름은, 편광자의 보호 필름으로서도 기능할 수 있다. 그 때문에, 트리아세틸셀룰로오스 필름으로 이루어지는 기재(45)를 갖는 반사 방지막(47)을 사용함으로써, 편광 필름(1)이 시인측에 갖고 있는 투명 보호 필름을 생략할 수 있는 경우가 있다.
본 발명의 다른 바람직한 일 형태에서는, 기재(45)는, 하드 코트층을 포함한다. 기재(45)는, 하드 코트층으로 구성되어 있어도 되고, 수지 필름 및 하드 코트층의 적층체여도 된다. 하드 코트층은, 예를 들어 전리선 경화형 수지의 경화층이다. 전리선으로서는, 예를 들어 자외선, 가시광, 적외선, 전자선을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선이다. 즉, 전리선 경화형 수지는, 바람직하게는 자외선 경화형 수지이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예를 들어 (메트)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. (메트)아크릴계 수지로서는, 예를 들어 (메트)아크릴로일옥시기를 포함하는 다관능성 모노머가 자외선에 의해 경화된 경화물(중합물)을 들 수 있다. 다관능성 모노머는, 예를 들어 1종 또는 2종 이상을 조합하여 사용된다. 다관능성 모노머는, 예를 들어 광중합 개시제와 혼합하여 사용된다.
하드 코트층에는, 무기 미립자 또는 유기 미립자가 분산되어 있어도 된다. 미립자의 평균 입경(d50)은, 예를 들어 0.01㎛ 내지 3㎛이다. 하드 코트층에 분산되어 있는 미립자로서는, 굴절률, 안정성, 내열성 등의 관점에서, 산화규소(SiO2)가 바람직하다. 하드 코트층은, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 레벨링제, 충전제, 분산제, 가소제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 산화 방지제, 틱소트로피화제를 들 수 있다. 또한, 하드 코트층의 표면에는, 요철 형상이 형성되어 있어도 된다. 표면에 요철 형상을 갖는 하드 코트층은, 광 확산 기능(안티글레어)을 갖는다.
기재(45)의 물리막 두께는, 특별히 한정되지 않는다. 기재(45)가 단일의 수지 필름의 층 또는 복수의 수지 필름의 적층체인 경우, 기재(45)의 물리막 두께는, 예를 들어 10㎛ 내지 200㎛의 범위에 있다. 기재(45)가 하드 코트층을 포함하는 경우, 하드 코트층의 물리막 두께는, 예를 들어 1㎛ 내지 50㎛의 범위에 있다.
기재(45)의 굴절률(기재(45)가 적층 구조를 갖는 경우는, 가장 제1 고굴절률층(41)측의 층의 굴절률)은, 예를 들어 1.3 내지 1.8이고, 바람직하게는 1.4 내지 1.7이다.
점착제층(46)은, 점착제를 포함하는 층이다. 점착제층(46)에 포함되는 점착제로서는, 예를 들어 점착성을 갖는 수지를 들 수 있다. 이러한 수지로서는, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있다. 점착제층(46)은, 아크릴계 수지로 구성된 아크릴계 점착제를 포함하는 것이 바람직하다.
점착제층(46)은, 필요에 따라, 첨가제를 더 포함하고 있어도 된다. 첨가제로서는, 예를 들어 가교제, 점착 부여제, 가소제, 안료, 염료, 충전제, 노화 방지제, 도전재, 자외선 흡수제, 광 안정제, 박리 조정제, 연화제, 계면 활성제, 난연제, 산화 방지제 등을 들 수 있다. 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 과산화물계 가교제, 멜라민계 가교제, 요소계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 금속염계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 아민계 가교제 등을 들 수 있다.
점착제층(46)의 물리막 두께는, 예를 들어 5㎛ 내지 100㎛이고, 바람직하게는 10㎛ 내지 50㎛이다.
반사 방지막(47)은, 기재(45) 및 점착제층(46) 이외의 다른 부재를 더 갖고 있어도 된다. 반사 방지막(47)은, 예를 들어 기재(45) 및 제1 고굴절률층(41) 사이에 배치된 안티글레어층을 더 갖고 있어도 된다. 반사 방지막(47)은, 특정의 부재 사이(예를 들어, 기재(45)와 제1 고굴절률층(41) 사이, 또는 안티글레어층과 제1 고굴절률층(41) 사이)에 배치된 밀착층을 더 갖고 있어도 된다. 밀착층은, 부재끼리의 밀착성을 향상시키는 층이고, 예를 들어 실리콘이나 SiOx(x<2)를 포함한다. 밀착층의 물리막 두께는, 예를 들어 1㎚ 내지 10㎚이고, 바람직하게는 2㎚ 내지 5㎚이다. 밀착층의 굴절률은, 예를 들어 1 내지 2.5이다.
반사 방지막(40 및 47)은, 제2 저굴절률층(44)보다도 시인측에 배치되어, 제2 저굴절률층(44)에 접하는 방오층을 더 갖고 있어도 된다. 방오층은, 방오 효과를 갖는 층이고, 예를 들어 불소계 수지, 실리콘계 수지로부터 선택되는 적어도 하나를 포함한다. 방오층의 물리막 두께는, 예를 들어 5㎚ 내지 13㎚이고, 바람직하게는 5㎚ 내지 10㎚이다. 방오층의 굴절률은, 예를 들어 1 내지 2이다.
반사 방지막(40 및 47)에 대하여 CIE 표준 광원 D65로부터 광이 입사한 때 발생하는 반사광은, L*a*b* 표색계에 있어서의 a1 *값 및 b1 *값의 절댓값이 작은 것이 바람직하다. a1 *값은, 예를 들어 －6 이상 6 이하이고, 보다 바람직하게는 －3 이상 3 이하이다. b1 *값은, 예를 들어 －15 이상 3 이하이고, 바람직하게는 －10 이상 2 이하이고, 보다 바람직하게는 －5 이상 2 이하이다. a1 *값 및 b1 *값은, 다음의 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 반사 방지막(40)의 제1 고굴절률층(41), 제1 저굴절률층(42), 제2 고굴절률층(43) 및 제2 저굴절률층(44)을 이 순으로 흑색 필름에 적층시키거나, 또는 반사 방지막(47)의 점착제층(46)에 의해, 반사 방지막(47)을 흑색 필름에 첩부한다. 이어서, 제2 저굴절률층측의 반사 방지막(40 또는 47)의 표면에, 5°의 입사각에서 CIE 표준 광원 D65로부터의 광을 입사시킨다. 이때 발생한 정반사 광에 대하여, 파장 360㎚ 내지 740㎚의 범위에 있어서의 분광 반사율을 특정하고, 당해 분광 반사율로부터 XYZ 표색계에 있어서의 3자극값을 특정한다. 얻어진 3자극값을 사용하여, 상술한 식(i) 및 (ii)에 의해 a1 *값 및 b1 *값을 특정한다.
상기한 반사광의 시감 반사율 Y1은, 예를 들어 0.3％ 이하이고, 바람직하게는 0.2％ 이하이다.
(점착제층 구비 편광 필름의 다른 변형예)
점착제층 구비 편광 필름(11)은, 상술한 부재 이외의 다른 부재를 더 구비하고 있어도 된다. 도 5에 도시한 바와 같이, 본 변형예에 관한 점착제층 구비 편광 필름(12)은, 반사 방지막(40)과 편광 필름(1) 사이에 배치된 투명 기판(50) 및 점착제층(55)을 더 구비하고 있다. 투명 기판(50) 및 점착제층(55)을 제외하고, 점착제층 구비 편광 필름(12)의 구조는, 점착제층 구비 편광 필름(11)의 구조와 동일하다.
투명 기판(50)은, 예를 들어 반사 방지막(40)의 제1 고굴절률층(41)에 접하고 있다. 단, 점착제층 구비 편광 필름(12)은, 반사 방지막(40) 대신에, 도 4에서 설명한 반사 방지막(47)을 갖고 있어도 된다. 이때, 반사 방지막(47)의 점착제층(46)이 투명 기판(50)에 접하고 있다. 점착제층(46)은, 예를 들어 투명 기판(50)과 편광 필름(1) 사이에 배치되어, 투명 기판(50) 및 편광 필름(1)의 각각에 접하고 있다.
투명 기판(50)으로서는, 후술하는 액정 셀(20)이 구비하는 제1 투명 기판(6) 및 제2 투명 기판(7)으로서 예시되는 것을 사용할 수 있다. 투명 기판(50)은, 바람직하게는 유리로 구성되어 있다. 본 명세서에서는, 유리로 구성된 투명 기판(50)을 「커버 유리」라고 칭하는 경우가 있다.
점착제층(55)으로서는, 점착제층(3)에 대하여 상술한 것을 사용할 수 있다. 특히, 점착제층(55)은, 시판되고 있는 광학 투명 점착제(OCA: Optical Clear Adhesive)를 포함하는 것이 바람직하다. 점착제층(55)은, 예를 들어 LUCIACS(등록 상표) CS9621T 등의 점착 테이프를 사용하여 형성할 수 있다.
(액정 패널의 실시 형태)
도 6에 도시한 바와 같이, 액정 패널(100)은, 점착제층 구비 편광 필름(10) 및 액정 셀(20)을 구비하고 있다. 액정 패널(100)에서는, 점착제층 구비 편광 필름(10) 대신에, 점착제층 구비 편광 필름(11 또는 12)도 사용 가능하다. 점착제층 구비 편광 필름(10)은, 액정 셀(20)에 직접적 또는 간접적으로 접하고 있다. 예를 들어, 점착제층 구비 편광 필름(10)과 액정 셀(20) 사이에는 새로운 도전층, 예를 들어 ITO층이 마련되어 있지 않다. 점착제층 구비 편광 필름(10)과 액정 셀(20) 사이에는, 도전층 이외의 다른 층이 배치되어 있어도 된다. 액정 셀(20)은, 점착제층 구비 편광 필름(10)의 점착제층(3)과 접합되어 있고, 점착제층 구비 편광 필름(10)에 직접 접하고 있어도 된다.
액정 셀(20)은, 예를 들어 액정층(5), 제1 투명 기판(6) 및 제2 투명 기판(7)을 구비하고 있다. 액정층(5)은, 예를 들어 제1 투명 기판(6) 및 제2 투명 기판(7) 사이에 배치되어 있고, 제1 투명 기판(6) 및 제2 투명 기판(7)의 각각에 접하고 있다. 제1 투명 기판(6)은, 예를 들어 점착제층 구비 편광 필름(10)의 점착제층(3)과 접하고 있다. 액정 셀(20)은, 예를 들어 제1 투명 기판(6)과 점착제층 구비 편광 필름(10)의 점착제층(3) 사이에 ITO층을 갖고 있지 않다. 바꾸어 말하면, 액정 패널(100)은, 예를 들어 제1 투명 기판(6)과 점착제층(3) 사이에 ITO층을 갖고 있지 않다.
액정층(5)은, 예를 들어 전계가 존재하지 않는 상태로 호모지니어스 배향한 액정 분자를 포함한다. 이러한 액정 분자를 포함하는 액정층(5)은, IPS(In-Plane-Switching) 방식에 적합하다. 단, 액정층(5)은, TN(Twisted Nematic)형, STN(Super Twisted Nematic)형, π형, VA(Vertical Alig㎚ent)형 등에 사용되어도 된다. 액정층(5)의 두께는, 예를 들어 1.5㎛ 내지 4㎛이다.
제1 투명 기판(6) 및 제2 투명 기판(7)의 재료로서는, 예를 들어 유리 및 폴리머를 들 수 있다. 본 명세서에서는, 폴리머로 구성된 투명 기판을 폴리머 필름이라고 칭하는 경우가 있다. 투명 기판을 구성하는 폴리머로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리시클로올레핀, 폴리카르보네이트 등을 들 수 있다. 유리로 구성된 투명 기판의 두께는, 예를 들어 0.1㎜ 내지 1㎜이다. 폴리머로 구성된 투명 기판의 두께는, 예를 들어 10㎛ 내지 200㎛이다.
액정 셀(20)은, 액정층(5), 제1 투명 기판(6) 및 제2 투명 기판(7) 이외의 다른 층을 더 포함하고 있어도 된다. 다른 층으로서는, 예를 들어 컬러 필터, 접착 용이층 및 하드 코트층을 들 수 있다. 컬러 필터는, 예를 들어 액정층(5)보다도 시인측에 배치되어 있고, 바람직하게는 제1 투명 기판(6)과 점착제층 구비 편광 필름(10)의 점착제층(3) 사이에 위치한다. 접착 용이층 및 하드 코트층은, 예를 들어 제1 투명 기판(6) 또는 제2 투명 기판(7)의 표면 위에 배치되어 있다.
액정 패널(100)은, 도전층(2)의 측면에 전기적으로 접속되어 있는 도통 구조(도시하지 않음)를 더 구비하고 있어도 된다. 도통 구조를 접지에 접속하면, 점착제층 구비 편광 필름(10)이 정전기에 의해 대전하는 것을 더 억제할 수 있다. 도통 구조는, 도전층(2)의 측면 전체를 덮고 있어도 되고, 도전층(2)의 측면을 부분적으로 덮고 있어도 된다. 도전층(2)의 측면 전체의 면적에 대한 도통 구조에 의해 덮인 도전층(2)의 측면의 면적의 비율은, 예를 들어 1％ 이상이고, 바람직하게는 3％ 이상이다. 도통 구조는, 도전층(2)의 측면뿐만 아니라, 편광 필름(1) 및 점착제층(3)의 측면에도 전기적으로 접속되어 있어도 된다.
도통 구조의 재료로서는, 예를 들어 은, 금 등의 금속으로 구성된 도전성 페이스트; 도전성 접착제; 다른 도전 재료를 들 수 있다. 도통 구조는, 도전층(2)의 측면으로부터 연신되는 배선이어도 된다.
액정 패널(100)은, 편광 필름(1) 이외의 다른 광학 필름을 더 구비하고 있어도 된다. 다른 광학 필름으로서는, 예를 들어 편광 필름, 반사판, 반투과판, 위상차 필름, 시야각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치에 사용되는 필름을 들 수 있다. 위상차 필름은, 예를 들어 1/2 파장판, 1/4 파장판 등을 포함한다. 액정 패널(100)은, 이들 중 1종 또는 2종 이상의 다른 광학 필름을 구비하고 있어도 된다.
다른 광학 필름이 편광 필름인 경우, 당해 편광 필름은, 예를 들어 점착제층을 개재하여, 액정 셀(20)의 제2 투명 기판(7)과 접합된다. 이 편광 필름은, 예를 들어 편광 필름(1)에 대하여 상술한 구성을 갖는다. 다른 광학 필름으로서의 편광 필름에 있어서, 편광자의 투과축(또는 흡수축)은, 예를 들어 편광 필름(1)에 있어서의 편광자의 투과축(또는 흡수축)과 직교하고 있다. 편광 필름과 제2 투명 기판(7)을 접합하기 위한 점착제층의 재료로서는, 점착제층(3)에 대하여 상술한 것을 사용할 수 있다. 이 점착제층의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1 내지 100㎛이고, 바람직하게는 2 내지 50㎛이고, 보다 바람직하게는 2 내지 40㎛이고, 더욱 바람직하게는 5 내지 35㎛이다.
점착제층 구비 편광 필름(10)을 구비한 액정 패널(100)은, ESD(Electro-Static Discharge) 시험을 행한 경우에 양호한 결과를 나타낸다. ESD 시험은, 예를 들어 다음의 방법에 의해 실시된다. 먼저, 액정 패널(100)을 백라이트 장치 위에 세트한다. 이어서, 액정 패널(100)의 시인측(편광 필름(1)측)에 정전기를 부여한다. 정전기의 부여는, 인가 전압이 15㎸로 조절된 정전기 방전 총(Electrostatic discharge Gun)을 사용한다. 정전기를 부여하면, 액정 패널(100)의 일부가 백색 누락된다. 정전기를 부여하고 나서, 백색 누락된 부분이 소실될 때까지의 시간 T를 측정한다. 액정 패널(100)에 있어서, 시간 T는, 예를 들어 10초 이하이고, 바람직하게는 1초 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5초 이하이다. 또한, ESD 시험은, 23℃, 55％RH의 조건에서 행한다.
액정 패널(100)은, 터치 센서를 필요로 하지 않는 용도, 예를 들어 차량용의 클러스터 패널이나 미러 디스플레이에 적합하다. 클러스터 패널은, 차량의 주행 속도나 엔진 회전수 등을 표시하는 패널이다.
(액정 패널의 변형예)
도 6의 액정 패널(100)은, 터치 센서 또는 터치 패널을 더 구비하고 있어도 된다. 도 7은, 터치 패널(30)을 구비한 액정 패널(110)을 도시하고 있다. 터치 패널(30)을 제외하고, 액정 패널(110)의 구조는, 액정 패널(100)의 구조와 동일하다. 따라서, 액정 패널(100)과 액정 패널(110)에서 공통되는 요소에는 동일한 참조 부호를 붙여, 그것들의 설명을 생략하는 경우가 있다.
액정 패널(110)에 있어서, 터치 패널(30)은, 예를 들어 편광 필름(1)보다도 시인측에 배치되어 있다. 터치 패널(30)은, 점착제층 구비 편광 필름(10)에 접하고 있지 않고, 터치 패널(30)과 점착제층 구비 편광 필름(10) 사이에는 공극(공기층)이 형성되어 있다. 액정 패널(110)은, 소위 아웃 셀형 액정 패널이다. 터치 패널(30)로서는, 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등을 채용할 수 있다. 터치 패널(30)이 저항막 방식인 경우, 터치 패널(30)은, 예를 들어 스페이서를 개재하여, 투명 도전성 박막을 갖는 2개의 전극판이 대향하도록 배치된 구조를 갖는다. 터치 패널(30)이 정전 용량 방식인 경우, 터치 패널(30)은, 예를 들어 소정의 패턴 형상을 갖는 투명 도전성 박막을 구비한 투명 도전성 필름으로 구성되어 있다.
(액정 표시 장치의 실시 형태)
본 실시 형태의 액정 표시 장치는, 예를 들어 액정 패널(100) 및 조명 시스템을 구비하고 있다. 액정 표시 장치에서는, 액정 패널(100) 대신에, 도 7을 참조하여 설명한 액정 패널(110)도 사용 가능하다. 액정 표시 장치에 있어서, 액정 패널(100)은, 예를 들어 조명 시스템보다도 시인측에 배치되어 있다. 조명 시스템은, 예를 들어 백라이트 또는 반사판을 갖고, 액정 패널(100)에 광을 조사한다.
실시예
이하, 실시예에 의해, 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 본 발명은, 이하에 나타내는 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 이하에는, 특별히 설명이 없는 경우, 「％」는 「중량％」를 나타내고, 「부」는 「중량부」를 나타내고, 「두께」는 「물리막 두께」를 나타낸다. 특별히 설명이 없는 경우, 실내의 온도 및 습도는, 23℃, 65％RH이다.
<(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량>
이하의 실시예에 있어서, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량(Mw)은, GPC(겔·투과·크로마토그래피)에 의해 측정했다. (메트)아크릴계 폴리머의 Mw/Mn에 대해서도, 마찬가지로 측정했다.
· 분석 장치: 도소사제, HLC-8120GPC
· 칼럼: 도소사제, G7000HXL＋GMHXL＋GMHXL
· 칼럼 사이즈: 각 7.8㎜φ×30㎝ 총 90㎝
· 칼럼 온도: 40℃
· 유량: 0.8mL/min
· 주입량: 100μL
· 용리액: 테트라히드로푸란
· 검출기: 시차 굴절계(RI)
· 표준 시료: 폴리스티렌
<반사 방지막을 구비하고 있지 않은 점착제층 구비 편광 필름에 관한 실시예 및 비교예>
(실시예 1)
[하드 코트층을 갖는 TAC 필름]
먼저, 우레탄아크릴레이트를 주성분으로서 포함하는 자외선 경화형 수지 모노머 또는 올리고머가 아세트산부틸에 용해되어 있는 수지 용액(DIC사제, 상품명:유니딕 17-806, 고형분 농도: 80％)을 준비했다. 이 수지 용액의 고형분 100부에 대하여, 광중합 개시제(BASF사제, 상품명: IRGACURE907) 5부 및 레벨링제(DIC사제, 상품명: GRANDIC PC4100) 0.1부를 수지 용액에 첨가했다. 이어서, 수지 용액 중의 고형분 농도가 36％로 조절되도록, 수지 용액에 시클로펜타논과 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 45:55의 중량 비율로 첨가했다. 이에 의해, 하드 코트층 형성 재료를 제작했다. 얻어진 형성 재료를 두께 40㎛의 트리아세틸셀룰로오스를 포함하는 투명 보호 필름(코니카 미놀타사제의 TAC 필름, 상품명 「KC4UY」) 위에 도포하여 도막을 형성했다. 이때, 형성 재료를 경화함으로써 얻어지는 하드 코트층의 두께가 7㎛로 조절되도록 도막의 두께를 조절했다. 이어서, 도막을 90℃에서 1분간 건조시키고, 다시 고압 수은 램프에 의해 적산 광량 300mJ/㎠의 자외선을 도막에 조사했다. 이에 의해, 도막이 경화되어, 하드 코트층(HC)을 갖는 TAC 필름이 얻어졌다.
[편광 필름]
먼저, 속도비가 서로 다른 복수의 롤 사이에 있어서, 두께 80㎛의 폴리비닐알코올 필름을 농도 0.3％의 요오드 용액(온도 30℃) 중에서 1분간 염색하면서, 연신 배율이 3배로 되도록 연신했다. 이어서, 얻어진 연신 필름을 붕산의 농도가 4％이고, 요오드화칼륨의 농도가 10％인 수용액(온도 60℃) 중에 0.5분간 침지하면서, 총 연신 배율이 6배로 되도록 연신했다. 이어서, 연신 필름을 농도 1.5％의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액(온도 30℃) 중에 10초간 침지함으로써 세정했다. 이어서, 연신 필름을 50℃에서 4분간 건조시킴으로써, 두께 30㎛의 편광자를 얻었다. 얻어진 편광자의 한쪽의 주면에는, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여, 락톤환 구조를 갖는 변성 아크릴계 폴리머로 이루어지는 투명 보호 필름(두께 30㎛)을 접합시켰다. 편광자의 다른 쪽의 주면에는, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여, 상술한 하드 코트층을 갖는 TAC 필름(두께 47㎛)을 접합시켰다. 이때, 편광자의 다른 쪽의 주면을 투명 보호 필름과 접합시켰다. 편광자와 투명 보호 필름의 접합은, 롤 접합기를 사용하여 행하였다. 편광자와 투명 보호 필름을 접합시킨 후에, 오븐을 사용하여, 얻어진 적층체를 70℃에서 5분간 가열 건조시킴으로써 하드 코트층 및 편광 필름으로 이루어지는 적층체 L1을 얻었다.
[도전층]
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 PT-436) 50부 및 물 50부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 0.5중량％인 도포액을 조제했다. 이어서, 도포액을 적층체 L1의 편광 필름측의 표면에 도포했다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작했다. 이에 의해, 하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 얻었다. 도전층의 두께는 30㎚였다.
[점착제층]
먼저, 교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관 및 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 76.9부, 벤질아크릴레이트 18부, 아크릴산 5부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.1부를 투입함으로써 모노머 혼합물을 얻었다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸 100부와 함께 투입했다. 혼합물을 완만하게 교반하면서, 플라스크 내에 대하여 질소 가스를 도입하여 질소 치환했다. 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행함으로써, 중량 평균 분자량(Mw) 190만, Mw/Mn＝3.7의 아크릴계 폴리머의 용액을 조제했다.
이어서, 아크릴계 폴리머의 용액의 고형분 100부에 대하여, 이소시아네이트 가교제(도소사제의 코로네이트 L, 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트) 0.45부, 벤조일퍼옥사이드(닛폰 유시사제의 나이퍼 BMT) 0.1부 및 γ-글리시독시프로필메톡시실란(신에쯔 가가쿠 고교사제: KBM-403) 0.2부를 더 배합함으로써, 아크릴계 점착제 조성물의 용액을 조제했다.
이어서, 얻어진 용액을 세퍼레이터(미쯔비시 가가쿠 폴리에스테르 필름사제의 MRF38)의 편면에 도포했다. 세퍼레이터는, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이었다. 얻어진 도포막을 155℃에서 1분간 건조시킴으로써, 세퍼레이터의 표면에 점착제층을 형성했다. 점착제층의 두께는 20㎛였다.
[점착제층 구비 편광 필름]
이어서, 얻어진 점착제층을 적층체 L2의 도전층 위에 전사함으로써, 실시예 1의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 2)
아크릴계 폴리머의 용액에, 이온성 화합물로서, 미쓰비시 마테리얼사제의 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 1부를 더 배합하고, 아크릴계 점착제 조성물의 용액을 제작한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 2의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 3 및 4)
도전층의 두께가, 각각 20㎚ 및 90㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름에 도포한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 3 및 4의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 5)
이하의 방법에 의해 하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 제작한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 5의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 P-580W) 9부 및 물 91부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 0.27중량％인 도포액을 조제했다. 이어서, 도포액을 상술한 적층체 L1의 편광 필름측의 주면에 도포했다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작했다. 이에 의해, 하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 얻었다. 도전층의 두께는 100㎚였다.
(실시예 6)
도전층을 제작하기 위한 도포액에, 바인더로서 폴리우레탄계 수지(다이이치 고교 세야쿠사제의 슈퍼 플렉스 210)를 더 첨가한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 6의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 실시예 6의 도전층에 있어서의 폴리우레탄계 수지의 함유율은 50중량％였다.
(실시예 7)
도전층을 제작하기 위한 도포액에, 바인더로서 폴리우레탄계 수지(다이이치 고교 세야쿠사제의 슈퍼 플렉스 210)를 더 첨가한 것을 제외하고, 실시예 2와 동일한 방법에 의해 실시예 7의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 실시예 7의 도전층에 있어서의 폴리우레탄계 수지의 함유율은 50중량％였다.
(실시예 8)
도전층을 제작하기 위한 도포액에, 바인더로서 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머를 포함하는 용액(닛폰 쇼쿠바이사제의 에포크로스 WS-700)을 더 첨가한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 8의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 실시예 8의 도전층에 있어서의 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머의 함유율은 50중량％였다.
(실시예 9)
도전층을 제작하기 위한 도포액에, 바인더로서 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머를 포함하는 용액(닛폰 쇼쿠바이사제의 에포크로스 WS-700)을 더 첨가한 것을 제외하고, 실시예 2와 동일한 방법에 의해 실시예 9의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 실시예 9의 도전층에 있어서의 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머의 함유율은 50중량％였다.
(실시예 10)
도전층의 두께가 5㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름에 도포한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 10의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 11)
도전층의 두께가 5㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름에 도포한 것을 제외하고, 실시예 2와 동일한 방법에 의해 실시예 11의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 12)
도전층의 두께가 150㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름에 도포한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 실시예 12의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(비교예 1)
도전층의 두께가 15㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름에 도포한 것을 제외하고, 실시예 5와 동일한 방법에 의해 비교예 1의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(비교예 2)
이하의 방법에 의해 하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 제작한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 비교예 2의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 P-580W) 36.5부 및 물 63.5부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 1.1중량％인 도포액을 조제했다. 이어서, 도포액을 상술한 적층체 L1의 편광 필름측의 주면에 도포했다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작했다. 이에 의해, 하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 얻었다. 도전층의 두께는 350㎚였다.
(비교예 3)
도전층을 제작하지 않은 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 비교예 3의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(비교예 4)
도전층의 두께가 230㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름에 도포한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 비교예 4의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
실시예 1 내지 12 및 비교예 1 내지 4에 대하여 이하의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 1 및 도 8에 나타낸다.
<전체 광선 투과율의 손실 A>
먼저, 하드 코트층 및 편광 필름으로 이루어지는 적층체 L1을 제작한 단계에서, 적층체 L1의 전체 광선 투과율 T3을 측정했다. 전체 광선 투과율 T3의 측정은, JIS K7361-1:1997의 규정에 준거하여, 분광 광도계(닛폰 분코사제의 V7100)를 사용하여 행하였다. 적층체 L1의 전체 광선 투과율은, 하드 코트층측으로부터 광을 입사시켜 측정했다. 동일한 방법으로, 하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 제작한 단계에서, 적층체 L2의 전체 광선 투과율 T4를 측정했다. 적층체 L2의 전체 광선 투과율 T4는, 하드 코트층측으로부터 광을 입사시켜 측정했다. 전체 광선 투과율 T3과 전체 광선 투과율 T4의 차(T3－T4)를 산출하고, 얻어진 산출값을 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실 A라고 간주했다.
<표면 저항률>
하드 코트층, 편광 필름 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L2를 사용하여, 도전층의 표면 저항률을 측정했다. 실시예 5, 비교예 1 및 비교예 2에서는, 도전층의 표면 저항률의 측정은, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타 UP MCP-HT450)를 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 행하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이고, 인가 시간이 10초였다. 실시예 1 내지 4, 6 내지 12 및 비교예 4에서는, 도전층의 표면 저항률의 측정은, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 로레스타 GP MCP-T600)를 사용하여, JIS K7194:1994에 규정된 방법에 준거하여 행하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이고, 인가 시간이 10초였다. 또한, 실시예 1 내지 12 및 비교예 1 내지 4에 대하여, 세퍼레이터 위에 점착제층을 제작한 단계에서, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타 UP MCP-HT450)를 사용하여, 점착제층의 표면 저항률을 측정했다. 측정 조건은, 인가 전압이 250V이고, 인가 시간이 10초였다.
<ESD 시험>
이하의 방법에 의해, 점착제층 구비 편광 필름에 대하여 ESD 시험을 행하였다. 먼저, 점착제층을 개재하여, 점착제층 구비 편광 필름을 액정 셀에 접합함으로써, 액정 패널을 제작했다. 이어서, 액정 패널의 편광 필름, 도전층 및 점착제층의 각각의 측면을 덮도록, 5㎜ 폭으로, 은 페이스트를 도포했다. 은 페이스트를 건조시킴으로써, 은으로 구성된 도통 구조를 형성했다. 이 도통 구조를 통해, 액정 패널을 외부의 접지 전극과 전기적으로 접속시켰다. 이어서, 액정 패널을 백라이트 장치 위에 세트했다. 이어서, 인가 전압이 15㎸로 조절된 정전기 방전총을 사용하여, 액정 패널의 시인측(편광 필름측)에 정전기를 부여했다. 이에 의해, 액정 패널의 일부가 백색 누락되었다. 정전기를 부여하고 나서, 백색 누락된 부분이 소실될 때까지의 시간 T를 측정했다. 표 1에서는, 이하의 시간 T에 관한 기준에 기초하여, ESD 시험의 결과를 평가했다. 또한, ESD 시험은, 23℃, 55％RH의 조건에서 행하였다.
(평가 기준)
A: 0.5초 이하
B: 0.5초를 초과하고, 1초 이하
C: 1초를 초과하고, 10초 이하
D: 10초를 초과한다
<투묘력>
점착제층 구비 편광 필름에 대하여, 도전층과 편광 필름의 투묘력을 상술한 방법에 의해 측정했다. 양면 테이프로서는, 닛토덴코사제의 상품명 「No.531」을 사용했다. 스테인리스제 시험판으로서는, SUS304의 판(폭 40㎜×길이 120㎜)을 사용했다. 평가용 시트로서는, ITO 필름(125 테트라이트 OES, 오이케 고교제)을 사용했다. 인장 시험기로서는, 오토그래프 SHIMAZU AG-I 10KN(시마즈 세이사쿠쇼제)을 사용했다.
Figure pct00009
실시예 1 내지 12의 점착제층 구비 편광 필름에서는, 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실 A가 0.9％ 이하이기 때문에, 액정 표시 장치의 시인성의 악화를 충분히 억제할 수 있는 것이 추정된다. 또한, 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 도전층을 갖는 실시예 1 내지 12의 점착제층 구비 편광 필름은, ESD 시험의 결과가 양호하여, 액정 패널의 대전을 충분히 억제할 수 있다고 추정된다. 표 1 및 도 8로부터는, 전체 광선 투과율의 손실 A 및 도전층의 표면 저항률이, 도전층의 조성, 두께 등의 영향을 받는 것을 알 수 있다.
<반사 방지막을 구비한 점착제층 구비 편광 필름에 관한 실시예 및 비교예>
[점착제층 A]
먼저, 교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관 및 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 76.9부, 벤질아크릴레이트 18부, 아크릴산 5부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.1부를 투입함으로써 모노머 혼합물을 얻었다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸 100부와 함께 투입했다. 혼합물을 완만하게 교반하면서, 플라스크 내에 대하여 질소 가스를 도입하여 질소 치환했다. 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행함으로써, 중량 평균 분자량(Mw) 200만, Mw/Mn＝4.1의 아크릴계 폴리머의 용액을 조제했다.
이어서, 아크릴계 폴리머의 용액 고형분 100부에 대하여, 0.45부의 이소시아네이트 가교제(도소사제의 코로네이트 L, 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트), 0.1부의 과산화물 가교제(닛폰 유시사제의 나이퍼 BMT) 및 0.2부의 실란 커플링제(신에쯔 가가쿠 고교사제의 KBM-403, γ-글리시독시프로필메톡시실란)를 더 배합함으로써, 아크릴계 점착제 조성물의 용액을 조제했다.
이어서, 얻어진 용액을 세퍼레이터(미쯔비시 가가쿠 폴리에스테르 필름사제의 MRF38)의 편면에 도포했다. 세퍼레이터는, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이었다. 얻어진 도포막을 155℃에서 1분간 건조시킴으로써, 세퍼레이터의 표면에 점착제층 A를 형성했다. 점착제층 A의 두께는 20㎛였다.
[점착제층 B]
아크릴계 폴리머의 용액의 고형분 100부에 대하여, 1부의 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬(LiTFSI, 미쓰비시 마테리얼사제)을 더 배합하고, 아크릴계 점착제 조성물의 용액을 조제한 것을 제외하고, 점착제층 A와 동일한 방법에 의해, 점착제층 B를 제작했다.
[점착제층 C]
먼저, 교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관 및 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 94.9부, 아크릴산 5부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 0.1부를 투입함으로써 모노머 혼합물을 얻었다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸 100부와 함께 투입했다. 혼합물을 완만하게 교반하면서, 플라스크 내에 대하여 질소 가스를 도입하여 질소 치환했다. 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행함으로써, 중량 평균 분자량(Mw) 210만, Mw/Mn＝4.0의 아크릴계 폴리머의 용액을 조제했다.
이어서, 아크릴계 폴리머의 용액 고형분 100부에 대하여, 0.45부의 이소시아네이트 가교제(도소사제의 코로네이트 L, 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트), 0.1부의 과산화물 가교제(닛폰 유시사제의 나이퍼 BMT) 및 0.2부의 실란 커플링제(신에쯔 가가쿠 고교사제의 KBM-403, γ-글리시독시프로필메톡시실란)를 더 배합함으로써, 아크릴계 점착제 조성물의 용액을 조제했다.
이어서, 얻어진 용액을 세퍼레이터(미쯔비시 가가쿠 폴리에스테르 필름사제의 MRF38)의 편면에 도포했다. 세퍼레이터는, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이었다. 얻어진 도포막을 155℃에서 1분간 건조시킴으로써, 세퍼레이터의 표면에 점착제층 C를 형성했다. 점착제층 C의 두께는 12㎛였다.
[반사 방지막 AR1]
먼저, 안티글레어층을 형성하기 위한 수지로서, 자외선 경화형 우레탄 아크릴레이트 수지(미쓰비시 케미컬(주)제, 상품명 「UV1700TL」, 고형분 농도 80중량％) 50중량부 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 주성분으로 하는 다관능 아크릴레이트(오사카 유키 가가쿠 고교(주)제, 상품명 「비스코트 #300」, 고형분 농도 100중량％) 50중량부를 준비했다. 이들 수지의 고형분 100중량부당, (메트)아크릴산에스테르와 스티렌의 공중합체를 포함하는 입자(세키스이 가세힌 고교(주)제, 상품명 「테크폴리머 SSX504TNR」, 중량 평균 입경: 3.0㎛)를 4중량부, 틱소트로피 부여제로서 유기 점토인 합성 스멕타이트(쿠니미네 고교(주)제, 상품명 「스메쿠톤SAN」)를 1.5중량부, 광중합 개시제(BASF사제, 상품명 「OMNIRAD907」)를 3중량부, 레벨링제(DIC(주)제, 상품명 「GRANDIC PC4100」, 고형분 농도 10중량％)를 0.015중량부 혼합했다. 이 혼합물에 대하여, 고형분 농도가 50중량％로 되도록, 톨루엔/시클로펜타논 혼합 용매(중량비 80/20)로 희석하여, 안티글레어층을 형성하기 위한 재료(도공액)를 조제했다.
이어서, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(후지 필름(주)제, 상품명 「TD60UL」)을 준비했다. 이 투명 플라스틱 필름(TAC 필름)의 편면에, 바 코터를 사용하여, 안티글레어층을 형성하기 위한 재료(도공액)를 도포하여, 도막을 형성했다. 이어서, 도막이 형성된 투명 플라스틱 필름을 80℃에서 1분간 가열함으로써 도막을 건조시켰다. 이어서, 이 도막에 대하여, 고압 수은 램프에 의해 적산 광량 300mJ/㎠의 자외선을 조사함으로써 경화 처리를 행하였다. 이에 의해, 두께 8.0㎛의 안티글레어층이 형성되어, 안티글레어층을 갖는 TAC 필름이 얻어졌다. 안티글레어층을 갖는 TAC 필름의 헤이즈는 8％였다.
이어서, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 이 안티글레어층을 갖는 TAC 필름을 도입하고, 필름을 주행시킴으로써 안티글레어층의 표면에 봄버드 처리(Ar 가스에 의한 플라스마 처리)를 행하였다. 이어서, 안티글레어층의 표면 위에, 밀착층으로서, 물리막 두께가 3㎚인 SiOx층(x<2)을 성막했다. 이어서, 밀착층 위에, 물리막 두께가 12㎚인 Nb2O5층(제1 고굴절률층), 물리막 두께가 29㎚인 SiO2층(제1 저굴절률층), 물리막 두께가 116㎚인 Nb2O5층(제2 고굴절률층) 및 물리막 두께가 78㎚인 SiO2층(제2 저굴절률층)을 차례로 성막하여, 적층체 a를 제작했다. 이들 산화물 박막을 형성할 때는, 아르곤의 도입량 및 배기량을 조정하여 장치 내의 압력을 일정하게 유지하면서, 플라스마 발광 모니터링(PEM) 제어에 의해, 도입하는 산소의 양을 조정했다.
이어서, 적층체 a의 제2 저굴절률층(SiO2층)의 표면에, 방오층으로서, 불소계 수지로 이루어지는 층(물리막 두께: 9㎚)을 형성했다. 또한, 적층체 a의 TAC 필름의 표면에 점착제층 C를 전사함으로써 반사 방지막 AR1을 제작했다.
[반사 방지막 AR2 내지 AR10]
각 층의 물리막 두께를 표 2에 나타내는 값으로 변경한 것을 제외하고, 반사 방지막 AR1과 동일한 방법에 의해, 반사 방지막 AR2 내지 AR10을 제작했다.
Figure pct00010
[편광 필름 P1]
먼저, 이하의 방법에 의해 아크릴 필름을 제작했다. 교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 구비한 용량 30L의 포트형 반응기에, 8,000g의 메타크릴산메틸(MMA), 2,000g의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸(MHMA), 10,000g의 4-메틸-2-펜타논(메틸이소부틸케톤, MIBK), 5g의 n-도데실머캅탄을 투입했다. 반응기 내에 질소를 도입하면서, 반응기 내의 혼합물을 105℃까지 승온하여 환류시켰다. 이어서, 중합 개시제로서 5.0g의 t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트(카야카르본 BIC-7, 가야쿠아쿠조사제)를 첨가함과 함께, 10.0g의 t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트와 230g의 MIBK로 이루어지는 용액을 4시간에 걸쳐 적하하여, 용액 중합을 행하였다. 용액 중합은, 환류 하에서, 약 105 내지 120℃에서 행하였다. 용액의 적하 후에, 다시 4시간에 걸쳐 숙성을 행하였다.
이어서, 얻어진 중합체 용액에, 30g의 인산스테아릴/인산디스테아릴 혼합물(Phoslex A-18, 사카이 가가쿠 고교제)을 첨가하고, 환류 하에서, 약 90 내지 120℃에서 5시간, 환화 축합 반응을 행하였다. 이어서, 얻어진 용액을, 배럴 온도 260℃, 회전수 100rpm, 감압도 13.3 내지 400hPa(10 내지 300㎜Hg), 리어 벤트수 1개, 포아 벤트수 4개의 벤트 타입 스크류 2축 압출기(φ＝29.75㎜, L/D＝30)에, 수지량 환산으로 2.0㎏/h의 처리 속도로 도입했다. 압출기 내에서는, 가일층의 환화 축합 반응과 함께 탈휘가 진행되었다. 이에 의해, 락톤환 함유 중합체의 투명한 펠릿을 얻었다.
얻어진 락톤환 함유 중합체에 대하여, 다이내믹 TG의 측정을 행한바, 0.17질량％의 질량 감소를 검지했다. 또한, 이 락톤환 함유 중합체는, 중량 평균 분자량이 133,000, 멜트 플로 레이트가 6.5g/10min, 유리 전이 온도가 131℃였다.
얻어진 펠릿과, 아크릴로니트릴-스티렌(AS) 수지(도요 AS AS20, 도요 스티렌사제)를, 질량비 90/10으로, 단축 압출기(스크루 30㎜φ)를 사용하여 혼련 압출함으로써, 투명한 펠릿을 얻었다. 얻어진 펠릿의 유리 전이 온도는 127℃였다.
50㎜φ 단축 압출기를 사용하여, 이 펠릿을 400㎜ 폭의 코트 행어 타입 T다이로부터 용융 압출함으로써, 두께 120㎛의 필름을 제작했다. 2축 연신 장치를 사용하여, 필름을 150℃의 온도 조건 하, 세로 2.0배 및 가로 2.0배로 연신함으로써, 두께 30㎛의 연신 필름(아크릴 필름)을 얻었다. 이 연신 필름의 광학 특성을 측정한바, 전체 광선 투과율이 93％이고, 면 내 위상차 Δnd가 0.8㎚이고, 두께 방향 위상차 Rth가 1.5㎚였다.
이어서, 이하의 방법에 의해 편광 필름 P1을 제작했다. 먼저, 속도비가 서로 다른 복수의 롤 사이에 있어서, 두께 45㎛의 폴리비닐알코올 필름을 농도 0.3％의 요오드 용액(온도 30℃) 중에서 1분간 염색하면서, 연신 배율이 3배로 되도록 연신했다. 이어서, 얻어진 연신 필름을 붕산의 농도가 4％이고, 요오드화칼륨의 농도가 10％인 수용액(온도 60℃) 중에 0.5분간 침지하면서, 총 연신 배율이 6배로 되도록 연신했다. 이어서, 연신 필름을 농도 1.5％의 요오드화칼륨을 포함하는 수용액(온도 30℃) 중에 10초간 침지함으로써 세정했다. 이어서, 연신 필름을 50℃에서 4분간 건조시킴으로써 두께 18㎛의 편광자를 얻었다. 얻어진 편광자의 한쪽의 주면에, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여, 두께 40㎛의 TAC 필름(코니카 미놀타제, 상품명 「KC4UY」)을 접합했다. 편광자의 다른 쪽의 주면에는, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여, 상술한 두께 30㎛의 아크릴 필름을 접합했다. 이에 의해, 편광 필름 P1을 얻었다.
(실시예 13)
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 PT-436) 50부 및 물 50부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 0.5중량％인 도포액을 조제했다. 이어서, 도포액을 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 표면에 도포했다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작했다. 이에 의해, 도전층을 갖는 편광 필름을 얻었다. 도전층의 두께는 30㎚였다.
이어서, 반사 방지막 AR1의 점착제층 C를 편광 필름 P1의 TAC 필름의 표면에 접합했다. 또한, 점착제층 A를 도전층의 표면에 전사함으로써, 반사 방지막 AR1/편광 필름 P1/도전층/점착제층 A의 구조를 갖는 실시예 13의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 14)
도전층의 두께가 90㎚로 되도록, PEDOT/PSS의 도포액을 편광 필름 P1에 도포한 것을 제외하고, 실시예 13과 동일한 방법에 의해 실시예 14의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(실시예 15 내지 24, 26 및 비교예 5)
반사 방지막, 도전층 및 점착제층을 표 3에 나타내는 조합으로 변경한 것을 제외하고, 실시예 13과 동일한 방법에 의해, 실시예 15 내지 24, 26 및 비교예 5의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다. 또한, 비교예 5에서는, 편광 필름 P1에 도전층을 형성하지 않고, 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 표면에 점착제층 A를 직접 접합했다.
(실시예 25)
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 P-580W) 9부 및 물 91부를 혼합함으로써, 고형분 농도가 0.27중량％인 도포액을 조제했다. 이어서, 도포액을 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 표면에 도포했다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작했다. 이에 의해, 도전층을 갖는 편광 필름을 얻었다. 도전층의 두께는 100㎚였다.
이어서, 반사 방지막 AR4의 점착제층 C를 편광 필름 P1의 TAC 필름의 표면에 접합했다. 또한, 점착제층 A를 도전층의 표면에 전사함으로써, 반사 방지막 AR4/편광 필름 P1/도전층/점착제층 A의 구조를 갖는 실시예 25의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
(비교예 6)
먼저, PEDOT/PSS를 포함하는 용액(나가세 켐텍스사제의 데나트론 P-580W) 8.6부, 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머를 포함하는 용액(상품명: 에포크로스 WS-700, 닛폰 쇼쿠바이제) 1부 및 물 90.4부를 혼합하여, 도전층을 형성하기 위한 도포액(고형분 농도 0.5중량％)을 조제했다. 얻어진 도포액에 있어서, 폴리티오펜계 폴리머의 농도가 0.04중량％이고, 옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머의 농도가 0.25중량％였다.
이어서, 얻어진 도포액을 편광 필름 P1의 아크릴 필름측의 주면에 도포했다. 얻어진 도포막을 80℃에서 2분간 건조시킴으로써 도전층을 제작했다. 이에 의해, 도전층을 갖는 편광 필름을 얻었다. 도전층의 두께는 60㎚였다.
이어서, 반사 방지막 AR10의 점착제층 C를 편광 필름 P1의 TAC 필름의 표면에 접합했다. 또한, 점착제층 A를 도전층의 표면에 전사함으로써, 반사 방지막 AR10/편광 필름 P1/도전층/점착제층 A의 구조를 갖는 비교예 6의 점착제층 구비 편광 필름을 제작했다.
<점착제층 구비 편광 필름의 광학 특성>
실시예 13 내지 26 및 비교예 5 내지 6에서 얻어진 점착제층 구비 편광 필름에 대하여, 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 무알칼리 유리와 적층된 상태로, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 반사 방지막으로부터 입사한 때에 발생하는 반사광의 시감 반사율 Y, L*값, a*값 및 b*값, 그리고, L*값＝0, a*값＝0 및 b*값＝0을 충족시키는 광과 반사광의 색차 ΔE를 상술한 방법에 의해 평가했다. 이때, 점착제층 구비 편광 필름은, 한 변이 50㎜인 정사각형으로 잘라내어 사용했다. 무알칼리 유리로서는, 코닝사제의 EG-XG(두께 0.7㎜)를 사용했다. 흑색 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)제의 것을 사용했다. 분광 반사율은, 분광 광도계(코니카 미놀타사제, 상품명 「CM2600D」)를 사용하여 측정했다. 광학 특성을 평가하기 위한 평가 샘플은, 점착제층 구비 편광 필름/무알칼리 유리/흑색 PET 필름의 구성을 갖고 있었다. 단, 실시예 26의 점착제층 구비 편광 필름에 대해서는, 표면에 비정질성의 ITO층(두께 20㎚)이 형성된 무알칼리 유리를 사용하여 반사광을 평가했다. 즉, 실시예 26에 있어서, 평가 샘플은, 점착제층 구비 편광 필름/ITO층/무알칼리 유리/흑색 PET 필름의 구성을 갖고 있었다. ITO층의 제작에는, 스퍼터링을 이용했다. ITO층에 포함되는 ITO의 Sn 비율은 3중량％였다. Sn 비율은, ITO에 있어서의 Sn 원자의 중량/(Sn 원자의 중량＋In 원자의 중량)으로부터 산출했다.
<반사 방지막의 광학 특성>
반사 방지막 AR1 내지 AR10에 대하여, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 입사한 때에 발생하는 반사광의 시감 반사율 Y1, a1 *값 및 b1 *값을 상술한 방법에 의해 평가했다. 흑색 필름, 분광 광도계 등은, 점착제층 구비 편광 필름의 광학 특성의 평가에 이용한 것과 동일한 것을 사용했다.
<점착제층의 표면 저항률>
점착제층 A 및 B의 표면 저항률(Ω/□)은, 점착제층 A 또는 B를 세퍼레이터의 표면에 형성한 단계에서 측정했다. 표면 저항률의 측정에는, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타 UP MCP-HT450)를 사용했다. 측정 조건은, 인가 전압이 250V이고, 인가 시간이 10초였다.
<도전층의 표면 저항률>
실시예 13 내지 26 및 비교예 6에 있어서, 도전층의 표면 저항률(Ω/□)은, 도전층을 편광 필름 P1의 표면에 형성한 단계에서 측정했다. 실시예 25 및 비교예 6에서는, 도전층의 표면 저항률의 측정은, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타 UP MCP-HT450)를 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 행하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이고, 인가 시간이 10초였다. 실시예 13 내지 24 및 26에서는, 도전층의 표면 저항률의 측정은, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 로레스타 GP MCP-T600)를 사용하여, JIS K7194:1994에 규정된 방법에 준거하여 행하였다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이고, 인가 시간이 10초였다.
<편광 필름의 표면 저항률>
비교예 5에서는, 저항률계(미쓰비시 케미컬 애널리테크사제의 하이레스타 UP MCP-HT450)를 사용하여, JIS K6911:1995에 규정된 방법에 준거하여 편광 필름 P1의 표면 저항률을 측정했다. 측정 조건은, 인가 전압이 10V이고, 인가 시간이 10초였다. 편광 필름 P1의 표면 저항률은, 1.0×1014Ω/□를 상회했다.
<도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실 A>
먼저, 편광 필름 P1의 전체 광선 투과율 T1을 JIS K7361-1:1997의 규정에 준거하여, 분광 광도계(닛폰 분코사제의 V7100)를 사용하여 측정했다. 동일한 방법으로, 도전층을 편광 필름 P1의 표면에 형성한 단계에서, 편광 필름 P1 및 도전층으로 이루어지는 적층체 L의 전체 광선 투과율 T2를 측정했다. 적층체 L의 전체 광선 투과율 T2는, 편광 필름 P1측으로부터 광을 입사시켜 측정했다. 편광 필름 P1의 전체 광선 투과율 T1과 전체 광선 투과율 T2의 차(T1－T2)를 산출하여, 얻어진 산출값을 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실 A라고 간주했다.
<ESD 시험>
먼저, 실시예 13 내지 26 및 비교예 5 내지 6에서 얻어진 점착제층 구비 편광 필름을 액정 셀의 시인측의 표면에 접합하여 액정 패널을 제작했다. 단, 실시예 26에 대해서는, 표면에 비정질성의 ITO층(두께 20㎚)이 형성된 액정 셀을 사용했다. 즉, 실시예 26에 있어서, 액정 패널은, 점착제층 구비 편광 필름/ITO층/액정 셀의 구성을 갖고 있었다. ITO층의 제작에는 스퍼터링을 이용했다. ITO층에 포함되는 ITO의 Sn 비율은 3중량％였다. 이어서, 점착제층 구비 편광 필름의 측면을 덮도록, 5㎜ 폭으로, 은 페이스트를 도포했다. 은 페이스트를 건조시킴으로써, 은으로 구성된 도통 구조를 형성했다. 이 도통 구조를 통해, 액정 패널을 외부의 접지 전극과 전기적으로 접속시켰다. 이어서, 액정 패널을 백라이트 장치 위에 세트했다. 이어서, 인가 전압이 10㎸로 조절된 정전기 방전(ESD)총을 사용하여, 액정 패널의 시인측(반사 방지막측)에 정전기를 부여했다. 이에 의해, 액정 패널의 일부가 백색 누락되었다. 정전기를 부여하고 나서, 백색 누락된 부분이 소실될 때까지의 시간 T를 측정했다. 표 3에는, 이하의 시간 T에 관한 기준에 기초하여, ESD 시험의 결과를 평가했다. 또한, ESD 시험은, 23℃, 55％RH의 조건에서 행하였다.
(평가 기준)
A: 0.5초 이하
B: 0.5초를 초과하고, 1초 이하
C: 1초를 초과하고, 10초 이하
D: 10초를 초과한다
<색감>
상기한 ESD 시험에서 제작한 액정 패널을 시인측(반사 방지막측)으로부터 눈으로 보아 관찰하고, 색감을 평가했다. 표 3의 색감의 항목에 있어서, A는, 색감이 확인되지 않은 것을 의미한다. B는, 색감이 매우 약간 확인된 것을 의미한다. C는, 색감이 약간 확인된 것을 의미한다. D는, 색감이 확인된 것을 의미한다.
Figure pct00011
표 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 13 내지 26의 점착제층 구비 편광 필름에서는, 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실 A가 0.9％ 이하이기 때문에, 액정 표시 장치의 시인성의 악화를 충분히 억제할 수 있는 것이 추정된다. 또한, 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 도전층을 갖는 실시예 13 내지 26의 점착제층 구비 편광 필름은, ESD 시험의 결과가 양호하여, 액정 패널의 대전을 충분히 억제할 수 있다고 추정된다. 실시예 15 및 실시예 26의 ESD 시험의 결과로부터는, 도전층과 함께, 도전 재료가 첨가된 점착제층을 사용함으로써, ITO층을 사용하는 경우보다도 액정 패널의 대전을 충분히 억제할 수 있는 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 24 및 26의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 점착제층 구비 편광 필름과 액정 셀 사이에 ITO층이 배치되어 있지 않은 경우에는, 반사광의 시감 반사율 Y의 값이 낮아, 광의 반사가 충분히 억제되어 있었다.
또한, a*값 및 b*값이 관계식 (1) 및 (2)를 충족시키는 반사광이 생기는 실시예 13 내지 23 및 실시예 25 내지 26의 점착제층 구비 편광 필름을 구비한 액정 패널에서는, 실시예 24, 비교예 5 및 6의 점착제층 구비 편광 필름을 구비한 액정 패널에 비해, 색감을 확인할 수 없거나, 확인할 수 있었다고 해도 실용상 문제가 없는 정도였다. 즉, 실시예 13 내지 23 및 실시예 25 내지 26의 점착제층 구비 편광 필름을 구비한 액정 패널로부터의 반사광은, 중립의 색상을 갖고 있었다.
본 발명의 점착제층 구비 편광 필름은, 정전기가 발생하기 쉬운 환경, 특히 차량의 내부와 같이 다른 전자 기기가 주위에 존재하는 환경에서 사용되는 액정 표시 장치에 적합하게 사용할 수 있다.

Claims (15)

  1. 편광 필름과 점착제층을 구비한 점착제층 구비 편광 필름이며,
    상기 점착제층 구비 편광 필름은, 도전층을 더 구비하고,
    상기 도전층에 의한 전체 광선 투과율의 손실이 0.9％ 이하이고,
    상기 도전층의 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인, 점착제층 구비 편광 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 편광 필름, 상기 도전층 및 상기 점착제층이 이 순서로 적층되어 있는, 점착제층 구비 편광 필름.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 손실이 0.5％ 이하인, 점착제층 구비 편광 필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 손실이 0.4％ 이하인, 점착제층 구비 편광 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면 저항률이 5.0×105Ω/□ 이하인, 점착제층 구비 편광 필름.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하인, 점착제층 구비 편광 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면 저항률이 5.0×102Ω/□보다 큰, 점착제층 구비 편광 필름.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, (i) 상기 손실이 0.5％ 이하이고, 또한 상기 표면 저항률이 1.0×106Ω/□ 이하인 것, 및 (ii) 상기 손실이 0.9％ 이하이고, 또한 상기 표면 저항률이 1.0×104Ω/□ 이하인 것의 적어도 하나가 성립되는, 점착제층 구비 편광 필름.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제층이 도전 재료를 포함하는, 점착제층 구비 편광 필름.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 방지막을 더 구비하고,
    상기 반사 방지막, 상기 편광 필름 및 상기 점착제층이 적층 방향으로 이 순으로 배열되어 있는, 점착제층 구비 편광 필름.
  11. 제10항에 있어서, 상기 점착제층이 무알칼리 유리와 직접 접하도록 상기 무알칼리 유리와 적층된 상태로, CIE 표준 광원 D65로부터의 광이 상기 점착제층과는 반대측의 표면으로부터 입사한 때, 시감 반사율 Y가 1.1％ 이하인 반사광을 발생시키는, 점착제층 구비 편광 필름.
  12. 제11항에 있어서, 상기 반사광의 L*a*b* 표색계에 있어서의 a*값 및 b*값이 하기 관계식 (1) 및 (2)를 충족시키는, 점착제층 구비 편광 필름.
    Figure pct00012
  13. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사 방지막은, 제1 고굴절률층, 제1 저굴절률층, 제2 고굴절률층 및 제2 저굴절률층을 적층 방향으로 이 순으로 갖는, 점착제층 구비 편광 필름.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제1 고굴절률층의 광학막 두께가 20㎚ 내지 35㎚이고,
    상기 제1 저굴절률층의 광학막 두께가 38㎚ 내지 50㎚이고,
    상기 제2 고굴절률층의 광학막 두께가 230㎚ 내지 290㎚이고,
    상기 제2 저굴절률층의 광학막 두께가 100㎚ 내지 128㎚인, 점착제층 구비 편광 필름.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층 구비 편광 필름과,
    액정 셀을 구비하고,
    상기 점착제층 구비 편광 필름과 상기 액정 셀 사이에는 도전층이 마련되어 있지 않은, 액정 패널.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015509615A (ja) 2012-02-28 2015-03-30 ヘレウス プレシャス メタルズ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 偏光フィルター用帯電防止保護シールドとしての導電性ポリマー層
JP2016039132A (ja) 2014-08-08 2016-03-22 ナガセケムテックス株式会社 透明導電体、液晶表示装置及び透明導電体の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070096145A (ko) * 2006-03-14 2007-10-02 광 석 서 편광 필름용 대전방지 코팅 조성물 및 이를 이용한대전방지 편광 필름
JP2009199842A (ja) * 2008-02-21 2009-09-03 Sony Corp 透明導電膜の製造方法及び電子装置の製造方法
US9726957B2 (en) * 2013-01-10 2017-08-08 E Ink Corporation Electro-optic display with controlled electrochemical reactions
TWI662102B (zh) * 2014-06-18 2019-06-11 日商住友化學股份有限公司 偏光片、附黏著劑之偏光板及圖像顯示裝置
JP6936009B2 (ja) * 2017-01-20 2021-09-15 日東電工株式会社 偏光板
JP2019032524A (ja) * 2017-08-08 2019-02-28 日東電工株式会社 反射防止フィルム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015509615A (ja) 2012-02-28 2015-03-30 ヘレウス プレシャス メタルズ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 偏光フィルター用帯電防止保護シールドとしての導電性ポリマー層
JP2016039132A (ja) 2014-08-08 2016-03-22 ナガセケムテックス株式会社 透明導電体、液晶表示装置及び透明導電体の製造方法

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