JP5829746B1 - 導電膜及びその製造方法並びにめっき皮膜付樹脂製品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
紫外線レーザによるパターン状の照射と、前記紫外線レーザの照射後の前記紫外線レーザが照射された部分を含む領域に対する酸化処理と、により親水性を有するように形成された改質部を表面に備える樹脂製品と、
めっきにより前記紫外線レーザが照射された前記改質部上に設けられた導電体と、
を備えることを特徴とする。
図5に示すように、本発明の一実施形態に係る導電膜100は、表面に凹部140を有する樹脂製品110と、この凹部140に設けられた導電体520と、を備える。図5において、導電体520は無電解めっき皮膜130及び電解めっき皮膜120により構成されているが、後述するように、導電体520が複数の皮膜により構成されている必要はない。以下に、図面を参照して、これらについて詳しく説明する。図5に示すように、導電体520は、樹脂製品110上に予め形成された凹部140に、その一部又は全部が入り込んでいる。
樹脂製品110は特に限定されず、例えば樹脂材料のフィルムであって、導電膜100の用途に応じて適宜選択することができる。透明導電膜を作製する場合には、樹脂材料としては透明性を有する樹脂材料が選択される。一実施形態において、透明性を有する樹脂材料の全光線透過率(JIS K7361−1:1997)は、80%以上である。透明性を有する樹脂材料の例としては、シクロオレフィンポリマー及びポリスチレンのようなポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル樹脂、並びにポリ塩化ビニルのようなビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂材料のフィルムに対しては、後述するように、紫外線レーザを照射することにより凹部を形成することができる。また、これらの樹脂材料のフィルムに紫外線を照射することにより、照射部に選択的にめっきが析出するようにフィルムを改質することができる。したがって、これらの樹脂材料のフィルムを用いることで、容易に本実施形態に係る導電膜を作製することができる。樹脂製品110の形状がフィルムに限定されるわけではなく、樹脂製品110は任意の3次元形状を有していてもよい。例えば、樹脂製品110は基板状であってもよく、導電膜100も基板状であってもよい。
樹脂製品110の表面には、導電体520が設けられている。導電体520の材料は、無電解めっきで形成可能で電気を通すことができるのであれば特に限定されない。導電体の材料の例としては、銅、ニッケル等、又は銅−ニッケル等の合金が挙げられる。また、ZnO等の透明材料を用いることもできる。さらに導電体520は、無電解めっき後に電解めっきにより増厚したものであってもよい。電解めっきによる増厚に用いる材料は、電解めっき可能で、電気を通すものであれば特に限定はされない。例としては、銅、ニッケル、銅−ニッケル合金、酸化亜鉛、亜鉛、銀、カドミウム、鉄、コバルト、クロム、ニッケル−クロム合金、スズ、スズ−鉛合金、スズ−銀合金、スズ−ビスマス合金、スズ−銅合金、金、白金、ロジウム、パラジウム、又はパラジウム−ニッケル合金等が挙げられる。また、電気を通す材料であれば、必要に応じて銀などの置換めっき処理を追加しても差し支えない。
導電膜100が金属メッシュパターンによる透明導電膜である場合、一般的に導電体520は光反射率が高いため、光は導電体520により反射される。この場合、透明導電膜100の視認性を損なう恐れがある。このため、一実施形態においては、光反射率の低い黒色層540が透明導電膜100に設けられる。この黒色層540により、光反射を抑え、視認性を向上させることができる。
1.黒色の導電体520を形成することにより、導電体520を黒色層540として働かせる。例えば、後述するように、凹部140内に黒色層540としての働きも有する無電解めっき皮膜130を形成することができる(1層構成)。
本実施形態に係る導電膜100の製造方法は特に限定されず、例えばフォトリソグラフィー法、蒸着法、及びめっき法等を適宜組み合わせることにより製造することができる。以下には、本実施形態に係る導電膜100の製造方法の一例(以下、本実施形態に係る製造方法と呼ぶ)について説明する。本実施形態に係る製造方法は、照射工程と、酸化工程と、形成工程と、を有する。以下に、これらの工程について図4のフローチャートを参照しながら詳しく説明する。
照射工程(S410)においては、樹脂製品110上の導電体520を形成する部分に紫外線レーザが照射される。図1(A)は樹脂製品110の断面図である。また、図3(A)は樹脂製品110の上面図である。図3(A)に示すように、導電体520を形成する部分310に紫外線レーザを照射することにより、図1(B)に示すように、樹脂製品110上の紫外線レーザが照射された部分が改質されるとともに凹部140が形成される。
E=Nhc/λ(KJ・mol−1)
N=6.022×1023mol−1(アボガドロ数)
h=6.626×10−37KJ・s(プランク定数)
c=2.988×108m・s−1(光速)
λ=光の波長(nm)
O2+hν(243nm以下)→O(3P)+O(3P)
O2+O(3P)→O3(オゾン)
O3+hν(310nm以下)→O2+O(1D)(活性酸素)
O(3P):基底状態酸素原子
O(1D):励起酸素原子(活性酸素)
F2エキシマレーザ :波長157nm
ArFエキシマレーザ :波長193nm
KrClエキシマレーザ:波長222nm
照射工程の後に、樹脂製品110に対して酸化処理を行う酸化工程(S420)が行われる。具体的には、導電体520を形成する部分を包含する樹脂製品110上の領域に対して、酸化処理が行われる。
Xe2エキシマランプ :波長172nm
KrBrエキシマランプ:波長206nm
KrClエキシマランプ:波長222nm
照射工程における紫外線レーザの照射量、及び酸化工程における紫外線の照射量は、紫外線レーザが照射された部分についてはめっきが析出し、紫外線レーザが照射されていない部分についてはめっきが析出しないように、調整される。この析出状態を実現するために、例えばシクロオレフィンポリマーのようなオレフィン系樹脂を用いる一実施形態において、レーザが照射された部分については、照射工程の後に樹脂製品110表面の酸素原子存在比が3.0%以上となるように、又は3.8%以上となるように、紫外線レーザの照射量が調整される。ただし、水素原子の存在比については無視し計算に入れていない。
形成工程においては、樹脂製品110のうち紫外線レーザを照射した部分に導電体520を形成する。この形成工程には、酸化工程の後に樹脂製品110に対して無電解めっきを行う無電解めっき工程(S430)が含まれる。
1.(アルカリ処理)樹脂製品110をアルカリ溶液に浸漬し、脱脂を行い、親水性を高める。アルカリ溶液の例としては、水酸化ナトリウム水溶液等が挙げられる。
2.(コンディショナー処理)樹脂製品110と触媒イオンとのバインダーを含有する溶液に樹脂製品110を浸漬する。バインダーの例としては、カチオンポリマー等が挙げられる。
3.(アクチベーター処理)樹脂製品110を触媒イオン入りの溶液に浸漬する。触媒イオンの例としては、塩酸酸性パラジウム錯体のようなパラジウム錯体等が挙げられる。
4.(アクセレレーター処理)還元剤を含有する溶液に樹脂製品110を浸漬し、触媒イオンを還元及び析出させる。還元剤の例としては、水素ガス、ジメチルアミンボラン及び水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
5.(無電解めっき処理)析出した触媒上に無電解めっき皮膜130を析出させる。
金属皮膜のようなめっき皮膜は金属特有の光沢を有するため、透明樹脂基材上に金属細線のようなめっき皮膜のパターンを形成すると、金属特有の光沢のために見る角度によっては外光が強く反射され、得られた樹脂製品を介した視認性が低下する可能性がある。この課題は、特に得られた樹脂製品をタッチパネル等の表示素子に利用する場合に顕著になる。
黒色を呈するめっき皮膜の形成方法としては、以下の例が挙げられる。
1.樹脂製品610の表面上に無電解めっき皮膜621を形成する。具体的には、図10(A)に示すように樹脂製品610と無電解めっき皮膜621との界面における樹脂製品610の表面粗さRaが1.50nm以上となるように樹脂製品610を改質する。そして、その後無電解めっきを行うことにより、図10(B)に示すように改質された部位に無電解めっき皮膜621が形成されためっき皮膜樹脂製品600が作製される。樹脂製品610と、こうして形成された無電解めっき皮膜621との界面は、黒色として視認される。すなわち、無電解めっき皮膜621を含むめっき皮膜620(1層構成)は、樹脂製品610との界面において黒色を呈する。一実施形態において、めっき皮膜620が設けられている樹脂製品610の表面は、光透過性を有する材料で形成されている。
樹脂製品610は、紫外線照射部に選択的にめっきが析出するように改質可能な樹脂材料を表面に有するものであれば特に限定されない。樹脂材料の例としては、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、又はポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。樹脂材料としては、実施形態1で挙げたものと同様のものを用いることができる。
めっき皮膜620の材料は、電気を通すことができるのであれば特に限定されず、任意の金属材料を用いることができる。例えば、めっき皮膜620を無電解めっきにより形成する場合には、めっき皮膜620の材料として、限定されるわけではないが、銅、ニッケル、銅−ニッケル等の合金、又は酸化亜鉛等を用いることができる。
本実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品600の製造方法は特に限定されず、例えばフォトリソグラフィー法、蒸着法、及びめっき法等を適宜組み合わせることにより製造することができる。以下には、本実施形態に係るめっき皮膜付樹脂製品600の製造方法の一例(以下、本実施形態に係る製造方法と呼ぶ)について説明する。本実施形態に係る製造方法は、改質工程と、形成工程と、を有する。以下に、これらの工程について、図7のフローチャートを参照しながら詳しく説明する。
改質工程(S710)においては、樹脂製品610の表面、例えば透明な表面の一部分、すなわちめっき皮膜620を形成する部分810に紫外線レーザ又は紫外線ランプを照射することにより、この部分が改質及び粗面化される。このように、改質工程は、紫外線を照射することにより樹脂製品610の表面の一部分を粗面化する工程を含んでいる。図8(A)は透明樹脂フィルムである樹脂製品610の上面図である。また、図8(B)は図8(A)に示す樹脂製品610の断面図である。図8(A)に示すように、樹脂製品610上のめっき皮膜620を形成する部分810に紫外線を照射することにより、この部分810が改質される。一実施形態においては、243nm以下の波長の紫外線が照射される。波長が243nm以下であることにより、樹脂製品610の表面の改質がより促進される。
一実施形態によれば、改質工程において、継続的に紫外線を放射する紫外線ランプ又は紫外線LED等を用いて紫外線を照射することにより、樹脂製品610の改質が行われる。例えば、紫外線の光学系に、めっき皮膜620の形状に対応するフォトマスクやメタルマスク等を挿入することにより、樹脂製品610上のめっき皮膜620を形成する部分810に紫外線を選択的に照射することができる。
別の実施形態においては、2つ以上の異なる改質方法を組み合わせて樹脂製品610の表面のめっき皮膜620を形成する部分810が改質される。すなわち、一実施形態においては、樹脂製品610の表面の一部分に対して異なる方法で2回以上の改質処理が行われる。より高い精度で所望の範囲のみを改質可能な第1の改質処理と、より大きな改質量を得ることが可能な第2の改質処理と、を組み合わせることにより、所望の範囲のみにめっき皮膜620を析出させることができる。
形成工程(S720)においては、めっきにより、樹脂製品610の表面の一部分に黒色を呈する皮膜が形成される。例えば、形成工程においては、樹脂製品610に対して無電解めっきが行われる。この形成工程により、図6(B)に示すように、樹脂製品610の表面の改質された部分810に、裏面が黒色を呈するめっき皮膜620が選択的に形成される。本実施形態によれば、めっき皮膜の形成後にエッチング等の方法でめっき皮膜をパターニングすることは必須ではない。
以下において、樹脂表面に導入された酸素原子量は、XPS分析により測定した。測定された酸素原子量は、表面改質の進行度合いを示す。XPS分析装置としては、Thermo Fisher Scientific社製のTheta Probeを用いた。励起X線としては、Alをターゲットとする単色X線(Al Kα 1486.6eV)を用いた。測定にあたっては、帯電を中和する目的で、電子線及びアルゴンイオン照射を行った。表1に分析条件を示す。
表2に、低圧水銀ランプを紫外線源として用い、紫外線を樹脂に照射した場合における、無電解めっきの析出状況と、XPS(X−ray Photoelectron Spectroscopy)測定による表面改質状況の分析結果を示す。具体的には、低圧水銀ランプからの紫外線をシクロオレフィンポリマー材(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,膜厚100μm,表面粗さ1.01nm)に所定時間照射した後に、XPS測定を行った。低圧水銀ランプとしては、後述する実験1と同様のものを用いた。低圧水銀ランプの出力は、波長185nmにおいて1.35mW/cm2であった。さらに、照射後の樹脂に対して、後述する実験1のめっき工程と同様に無電解めっきを行った。
表3に、ArFエキシマレーザを樹脂に照射した場合の、無電解めっきの析出状況と、XPS測定による表面改質状況の分析結果を示す。具体的には、ArFエキシマレーザ(主波長193nm)をシクロオレフィンポリマー材(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,膜厚100μm,表面粗さ1.01nm)に所定のパルス数照射した後に、XPS測定を行った。この際の1パルスあたりのエネルギー密度は1000mJ/cm2であった。ArFエキシマレーザとしては、後述する実験1と同様のものを用いた。表3に示す各項目は、表2に示す各項目と同様のものである。さらに、照射後の樹脂に対して、後述する実験1のめっき工程と同様に無電解めっきを行った。
ArFエキシマレーザ(主波長193nm)を、シクロオレフィンポリマー材(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,膜厚100μm,表面粗さ1.01nm)に照射した。この際の1パルスあたりのエネルギー密度は、100mJ/cm2又は1000mJ/cm2であった。ArFエキシマレーザとしては、後述する実験1と同様のものを用いた。その後、触針段差計(KLAテンコール社製,アルファステップ)を用いて、レーザが照射された部分に形成された凹部の深さを測定した。測定は、レーザの入射範囲のうち、中央部付近(2回目測定)及び双方の端部付近(1,3回目測定)について行った。測定結果を表5に示す。
(基板処理)
実験1においては、無電解めっき用基板として、樹脂材料であるシクロオレフィンポリマー材(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,膜厚100μm,表面粗さ1.01nm)を用いた。
1.50℃の純水で3分間超音波洗浄
2.50℃のアルカリ洗浄液(水酸化ナトリウム3.7%含有)に3分間浸漬
3.50℃の純水で3分間超音波洗浄
4.乾燥
次に、基板の所望部分に対して紫外線レーザを照射する照射工程を行った。実験1で用いた紫外線レーザの詳細について以下に示す。
紫外線レーザ:ArFエキシマレーザ(主波長193nm)
紫外線レーザ照射機:コヒレント社製LPXpro305
照射条件:周波数50Hz,パルス幅25ns,200パルス
1パルス当たりの照射面エネルギー密度:100mJ/cm2
次に、レーザ照射後の基板の所望部分に対して紫外線ランプを照射する酸化工程を行った。実験1で用いた紫外線ランプ(低圧水銀ランプ)の詳細について以下に示す。
低圧水銀ランプ:サムコ社製UV−300(主波長185nm,254nm)
照射距離3.5cmにおける照度:5.40mW/cm2(254nm)
1.35mW/cm2(185nm)
次に、酸化工程において紫外線を照射した基板に対し、無電解めっきを行うめっき工程を行った。無電解めっき液としては、JCU社製Cu−Niめっき液セット「AISL」を使用した。めっき工程における具体的な処理を表6に示す。
照射工程においてレーザの照射回数を変えたことを除いては、実験1と同様に、照射工程、酸化工程、及びめっき工程を行い、レーザを照射した部位にめっき皮膜が形成されるか否かを観察した。結果を表7に示す。表7において、○はめっきが析出したことを、×はめっきが析出しなかったことを示す。
照射工程においてレーザの照射回数を変えたこと、及び酸化工程において紫外線を3分間照射したことを除いては、実験1と同様に、照射工程、酸化工程、及びめっき工程を行い、レーザを照射した部位にめっき皮膜が形成されるか否かを観察した。結果を表8に示す。表8において、○はめっきが析出したことを、×はめっきが析出しなかったことを示す。
樹脂製品610としては、シクロオレフィンポリマー材の透明な絶縁樹脂シート(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,膜厚100μm)を用いた。
低圧水銀ランプ:サムコ社製UV−300(主波長185nm,254nm)
照射距離:3.5cm
照射距離3.5cmにおける照度:5.40mW/cm2(254nm)
1.35mW/cm2(185nm)
照射時間:10分間
この際の積算露光量は、1.35mW/cm2×600秒=810mJ/cm2であった。
紫外線照射前 Ra=0.47nm
紫外線照射後 Ra=0.26nm
アルカリ処理及び水洗後 Ra=0.87nm
コンディショナ処理及び水洗後 Ra=2.42nm
紫外線の照射条件を変えたことを除き、実施例1と同様にめっき皮膜付樹脂製品600を作製した。実施例1においては、樹脂製品610上のめっき皮膜620を形成する部分810に対して、大気中でマスクを介して紫外線レーザを照射し、その後大気中で樹脂製品610の全面に対して紫外線ランプからの紫外線を照射した。
紫外線レーザ:ArFエキシマレーザ(主波長193nm)
紫外線レーザ照射機:コヒレント社製LPXpro305
照射条件:パルス幅25ns,1パルス
1パルス当たりの照射面エネルギー密度:1000mJ/cm2
低圧水銀ランプ:サムコ社製UV−300(主波長185nm,254nm)
照射距離:3.5cm
照射距離3.5cmにおける照度:5.40mW/cm2(254nm)
1.35mW/cm2(185nm)
照射時間:3分30秒間
この際の積算露光量は、1.35mW/cm2×210秒=約284mJ/cm2であった。また、コンディショナ処理を行った後のめっき皮膜620を形成する部分810の表面を原子間力顕微鏡(AFM)(日本電子社製,走査型プローブ顕微鏡JSPM−4210)を用いて測定したところ、表面粗さRaは4.47nmであった。
紫外線レーザの照射条件を変えたことを除き、実施例2と同様にめっき皮膜付樹脂製品600を作製した。実施例3における紫外線レーザの照射条件は以下の通りであった。
紫外線レーザ:ArFエキシマレーザ(主波長193nm)
紫外線レーザ照射機:コヒレント社製LPXpro305
照射条件:周波数50Hz,パルス幅25ns,10パルス
1パルス当たりの照射面エネルギー密度:2000mJ/cm2
樹脂製品110としては、シクロオレフィンポリマー材の絶縁樹脂シート(日本ゼオン株式会社製,ゼオノアフィルムZF−16,膜厚100μm,表面粗さ1.01nm)を用いた。
紫外線レーザ照射機:コヒレント社製LPXpro305
照射条件:周波数50Hz,パルス幅25ns
1パルス当たりの照射面エネルギー密度:2000mJ/cm2
照射エネルギー総量:10パルス,計20000mJ/cm2
低圧水銀ランプ:サムコ社製UV−300(主波長185nm,254nm)
照射距離:3.5cm
ランプ直下の照度:5.40mW/cm2(254nm)
照射時間:3分30秒間
紫外線の照射条件を変えたことを除き、実施例2と同様にめっき皮膜付樹脂製品600を作製した。比較例1における紫外線レーザの照射条件は以下の通りであった。
低圧水銀ランプ:サムコ社製UV−300(主波長185nm,254nm)
照射距離:1.0cm
照射距離1.0cmにおける照度:
最高照度地点:7.30mW/cm2(254nm)
1.83mW/cm2(185nm)
最低照度地点:0.64mW/cm2(254nm)
0.16mW/cm2(185nm)
以上のような照度分布を有するチャンバ内の試料台に樹脂製品610を設置し、UV−300の付属機能である試料台回転機能を使用して回転させつつ、4分15秒間紫外線を照射した。なお、実施例2,3,4においては、照射距離を3.5cmとし、最高照度地点に樹脂製品610を固定して照射を行っている。
110 樹脂製品
120 電解めっき皮膜
130 無電解めっき皮膜
140 凹部
210 凹部を設けない樹脂フィルム
220 平滑表面上にあるめっき皮膜パターン
230 平滑表面上にある電解めっき皮膜
310 導電体520を形成する部位
320 メッシュ状パターン
S410 照射工程
S420 酸化工程
S430 無電解めっき工程
S440 電解めっき工程
520 導電体
540 黒色層
600 めっき皮膜付樹脂製品
610 樹脂製品
620 めっき皮膜
630 凹部
S710 改質工程
S720 形成工程
810 めっき皮膜を設ける部分
Claims (18)
- 紫外線レーザによるパターン状の照射と、前記紫外線レーザの照射後の前記紫外線レーザが照射された部分を含む領域に対する酸化処理と、により親水性を有するように形成された改質部を表面に備える樹脂製品と、
めっきにより前記紫外線レーザが照射された前記改質部上に設けられた導電体と、
を備えることを特徴とする導電膜。 - 前記樹脂製品上に形成された凹部に、前記導電体の一部又は全部が入り込んでいることを特徴とする、請求項1に記載の導電膜。
- 前記導電膜は透明導電膜であり、
前記樹脂製品は透明樹脂で構成され、
前記導電体は、前記樹脂製品との界面において黒色を呈することを特徴とする、請求項1又は2に記載の導電膜。 - 前記導電体との界面における前記樹脂製品の表面粗さRaが1.5nm以上10nm以下であることを特徴とする、請求項1乃至3の何れか1項に記載の導電膜。
- 前記樹脂製品がフィルム状であることを特徴とする、請求項1乃至4の何れか1項に記載の導電膜。
- 樹脂製品のうち導電体を形成する部分にパターン状に紫外線レーザを照射する照射工程と、
前記照射工程の後に、前記樹脂製品のうち前記紫外線レーザが照射された部分を含む領域に対して酸化処理を行う酸化工程と、
前記酸化工程の後に、前記樹脂製品のうち前記紫外線レーザを照射した部分には無電解めっき皮膜が析出しかつ前記樹脂製品のうち前記紫外線レーザを照射していない部分には無電解めっき皮膜が析出しないように前記樹脂製品に対して無電解めっきを行う無電解めっき工程を含む、前記樹脂製品のうち前記紫外線レーザを照射した部分に導電体を形成する形成工程と、
を含むことを特徴とする、導電膜の製造方法。 - 前記形成工程が、前記無電解めっき工程の後に前記樹脂製品に対して電解めっきを行う電解めっき工程を含むことを特徴とする、請求項6に記載の導電膜の製造方法。
- 前記導電体が黒色を呈することを特徴とする、請求項6又は7に記載の導電膜の製造方法。
- 前記樹脂製品は、前記導電体が設けられている、光透過性を有する材料で形成された表面を有し、
前記導電体は、前記樹脂製品との界面において黒色を呈することを特徴とする、請求項8に記載の導電膜の製造方法。 - 前記導電体との界面における前記樹脂製品の表面粗さRaが1.50nm以上であることを特徴とする、請求項9に記載の導電膜の製造方法。
- 前記樹脂製品と前記導電体との界面における、波長550nmの光の反射率が0.3以下であることを特徴とする、請求項9又は10に記載の導電膜の製造方法。
- 前記導電体は、前記樹脂製品と反対側の表面において黒色を呈することを特徴とする、請求項8乃至11の何れか1項に記載の導電膜の製造方法。
- 前記導電体の、前記樹脂製品と反対側の表面は、黒色めっきにより形成されていることを特徴とする、請求項12に記載の導電膜の製造方法。
- 前記樹脂製品がポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、又はビニル樹脂を含むことを特徴とする、請求項6乃至13の何れか1項に記載の導電膜の製造方法。
- 前記照射工程では、樹脂製品のうち導電体を形成する部分に243nm以下の紫外線レーザを照射することを特徴とする、請求項6乃至14の何れか1項に記載の導電膜の製造方法。
- 前記酸化工程では、243nm以下の波長の紫外線を照射することにより酸化処理を行うことを特徴とする、請求項6乃至15の何れか1項に記載の導電膜の製造方法。
- 前記照射工程及び前記酸化工程は、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で行われることを特徴とする、請求項6乃至16の何れか1項に記載の導電膜の製造方法。
- 前記樹脂製品がフィルム状であることを特徴とする、請求項6乃至17の何れか1項に記載の導電膜の製造方法。
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