DE112016002132T5

DE112016002132T5 - Basis mit einem Film mit geringer Reflexion

Info

Publication number: DE112016002132T5
Application number: DE112016002132.1T
Authority: DE
Inventors: Kensuke Fujii
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2015-05-12
Filing date: 2016-05-11
Publication date: 2018-01-25
Anticipated expiration: 2036-05-12
Also published as: TW201706628A; TWI695184B; US11249223B2; DE112016002132B4; JP6729565B2; WO2016181983A1; CN107615100A; CN107615100B; CN114578461A; JPWO2016181983A1; US20180038995A1

Abstract

Eine Basis mit einem Film mit geringer Reflexion umfasst: eine transparente Basis; einen Film mit geringer Reflexion, der auf einer ersten Hauptoberfläche der transparenten Basis ausgebildet ist; und einen schwarz gedruckten Teil, der auf einem Teil einer zweiten Hauptoberfläche der transparenten Basis gegenüber der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, wobei die Lichtreflexion R der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion bezüglich des einfallenden Lichts von der Seite des Films mit geringer Reflexion 2% oder weniger in einem Bereich der transparenten Basis beträgt, der den schwarz gedruckten Teil aufweist, und ein Verhältnis R1/R2 zwischen einer Lichtreflexion R1 einer Oberfläche des Films mit geringer Reflexion und einer Lichtreflexion R2 an einer Grenzfläche des schwarz gedruckten Teils mit der transparenten Basis 1/6 oder mehr beträgt.

Description

GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Basis mit einem Film mit geringer Reflexion.
HINTERGRUND
In den letzten Jahren wird in Anzeigevorrichtungen, wie z. B. einem PC (Personalcomputer) des Tablettyps, einem Smartphone, einem Kraftfahrzeugnavigationssystem und einem Berührungsbildschirm, ein Vorderseitensubstrat, wie z. B. ein Abdeckglas, auf einer sichtbaren Seite eines Anzeigefelds zum Schützen des Anzeigefelds bereitgestellt. Ferner wird ein Film mit geringer Reflexion, der die Reflexion von Licht unterdrückt, auf einer Oberfläche einer sichtbaren Seite des Vorderseitensubstrats bereitgestellt, um die Sichtbarkeit einer Anzeige durch Unterdrücken des Blendens, das durch die Reflexion von Licht verursacht wird, zu erhöhen. Ferner ist in der Vorderseitenbasis mit dem vorstehend genannten Film mit geringer Reflexion ein Lichtabschirmungsteil, wie z. B. ein schwarz gedruckter Teil, auf einem Randteil einer Oberfläche auf der nicht sichtbaren Seite bereitgestellt, auf welcher der Film mit geringer Reflexion nicht bereitgestellt ist, um die Gestaltung zu verbessern und ein schönes Aussehen bereitzustellen (vgl. z. B. das Patentdokument 1).
RELEVANTE DOKUMENTE
PATENTDOKUMENTE

Patentdokument 1: JP 2005-242265 A

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
DURCH DIE ERFINDUNG ZU LÖSENDE PROBLEME
Bei einem Vorderseitensubstrat für eine Anzeige, das mit einem Film mit geringer Reflexion und einem schwarz gedruckten Teil versehen ist, bestand jedoch ein Problem dahingehend, dass, da eine Reflexion von Licht durch den Film mit geringer Reflexion unterdrückt wird, wenn der schwarz gedruckte Teil von einer Seite einer Oberfläche betrachtet wird, auf welcher der Film mit geringer Reflexion bereitgestellt ist, eine Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils visuell sichtbar ist. Es kann davon ausgegangen werden, dass dies durch ein Versagen eines gekneteten Zustands eines Druckmaterials, ein Druckversagen aufgrund einer Verschlechterung einer Druckoberfläche einer transparenten Basis in dem Vorderseitensubstrat, eine Beschichtungsungleichmäßigkeit beim Drucken oder dergleichen verursacht wird. Ferner sind zum Lösen des Problems bezüglich des Knetversagens oder des Druckversagens eine Verbesserung der Vorrichtung zur Herstellung des Druckmaterials und der Druckvorrichtung, eine Umwandlung der Oberfläche der transparenten Basis, eine Verbesserung der Druckgenauigkeit und dergleichen erforderlich, und folglich war es schwierig, das Problem bezüglich der Drucktechniken und der Kosten zu lösen.
Die vorliegende Erfindung wurde zur Lösung der vorstehend beschriebenen Probleme gemacht und eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer Basis mit einem Film mit geringer Reflexion, bei dem eine Druckungleichmäßigkeit eines schwarz gedruckten Teils kaum visuell sichtbar ist, die ein sehr gutes Anzeigevermögen und ein schönes Aussehen aufweist, und die für ein Vorderseitensubstrat einer Anzeigevorrichtung oder dergleichen geeignet ist.
MITTEL ZUM LÖSEN DER PROBLEME
Eine Basis mit einem Film mit geringer Reflexion ist dadurch gekennzeichnet, dass sie umfasst: eine transparente Basis; einen Film mit geringer Reflexion, der auf einer ersten Hauptoberfläche der transparenten Basis ausgebildet ist; und einen schwarz gedruckten Teil, der auf einem Teil einer zweiten Hauptoberfläche der transparenten Basis gegenüber der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, wobei die Lichtreflexion R der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion bezüglich des einfallenden Lichts von der Seite des Films mit geringer Reflexion 2% oder weniger in einem Bereich der transparenten Basis beträgt, der den schwarz gedruckten Teil aufweist, und ein Verhältnis R₁/R₂ zwischen einer Lichtreflexion R₁ einer Oberfläche des Films mit geringer Reflexion und einer Lichtreflexion R₂ an einer Grenzfläche des schwarz gedruckten Teils mit der transparenten Basis 1/6 oder mehr beträgt.
Bei der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung beträgt die Lichtreflexion R der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion vorzugsweise 1,2% oder weniger. Ferner beträgt die Lichtreflexion R₁ der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion vorzugsweise 1% oder weniger. Ferner beträgt die Lichtreflexion R₂ an der Grenzfläche des schwarz gedruckten Teils mit der transparenten Basis 0,8% oder weniger. Ferner weist die transparente Basis vorzugsweise eine vorragende und vertiefte Form auf der ersten Hauptoberfläche auf. Ferner beträgt eine Oberflächenrauheit RMS der vorragenden und vertieften Form vorzugsweise nicht weniger als 0,01 μm und nicht mehr als 0,5 μm. Ferner beträgt eine durchschnittliche Länge RSm eines Rauheitskurvenelements der vorragenden und vertieften Form vorzugsweise nicht weniger als 5 μm und nicht mehr als 30 μm. Ferner beträgt ein Trübungswert, der durch JIS K 7136 festgelegt ist, der transparenten Basis vorzugsweise nicht weniger als 1% und nicht mehr als 30%. Ferner ist es bevorzugt, dass die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion ferner einen Antiverschmutzungsfilm umfasst, der auf dem Film mit geringer Reflexion ausgebildet ist und eine Dicke von nicht weniger als 2 nm und nicht mehr als 20 nm aufweist. Ferner ist es bevorzugt, dass der Film mit einer geringen Reflexion mindestens eine Schicht, die aus Nioboxid oder Siliziumnitrid hergestellt ist, und mindestens eine Schicht aufweist, die aus Siliziumoxid hergestellt ist. Ferner ist die transparente Basis vorzugsweise ein Glassubstrat.
In der vorliegenden Erfindung gibt „ein Bereich der transparenten Basis, der den schwarz gedruckten Teil aufweist” einen Bereich an, bei dem die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion den schwarz gedruckten Teil in einem schrägen Querschnitt (einem Querschnitt entlang einer Dickenrichtung) aufweist. In der nachstehenden Beschreibung wird der „Bereich, der den schwarz gedruckten Teil aufweist” auch als „Bereich, der mit dem schwarz gedruckten Teil versehen ist” bezeichnet. Ferner wird ein Bereich, bei dem die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion den schwarz gedruckten Teil im schrägen Querschnitt nicht aufweist, auch als „ein Bereich, der keinen schwarz gedruckten Teil aufweist” bezeichnet.
VORTEILE DER ERFINDUNG
Eine Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung weist den Film mit geringer Reflexion auf, dessen Lichtreflexion bezüglich einfallendem Licht von der Seite des Films mit geringer Reflexion in einem Bereich, der einen schwarz gedruckten Teil aufweist, eingestellt ist, so dass die Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils kaum visuell sichtbar ist, und folglich weist die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung ein hervorragendes Anzeigevermögen und ein schönes Aussehen auf. Daher kann durch die Verwendung einer solchen Basis mit einem Film mit geringer Reflexion als Vorderseitensubstrat die Sichtbarkeit einer Anzeige einer Anzeigevorrichtung verbessert werden und es können eine hervorragende Gestaltung und ein schönes Aussehen bereitgestellt werden.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
1 ist eine Schnittansicht, die schematisch eine Ausführungsform einer Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung zeigt.
2 ist eine Ansicht, die schematisch Wege von Licht in der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung zeigt, das von der Seite des Films mit geringer Reflexion einfällt.
AUSFÜHRUNGSFORMEN ZUR AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNG
Nachstehend werden Ausführungsformen zur Ausführung der vorliegenden Erfindung beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die folgenden Ausführungsformen beschränkt und die folgenden Ausführungsformen können in verschiedenartiger Weise modifiziert und ersetzt werden, ohne von dem Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
Die 1 ist eine Schnittansicht, die schematisch eine Ausführungsform einer Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie es in der 1 gezeigt ist, umfasst eine Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion einer Ausführungsform eine transparente Basis 2, einen Film mit geringer Reflexion 4, der auf einer ersten Hauptoberfläche 3 ausgebildet ist, die eine Hauptoberfläche der transparenten Basis 2 ist, und einen schwarz gedruckten Teil 6, der auf einem Teil einer zweiten Hauptoberfläche 5 ausgebildet ist, welche die andere Hauptoberfläche der transparenten Basis 2 ist. Die erste Hauptoberfläche 3 und die zweite Hauptoberfläche 5 liegen einander gegenüber. Ferner beträgt bei der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der Ausführungsform die Lichtreflexion R der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion bezüglich Licht, das von der Seite des Films mit geringer Reflexion 4 einfällt, 2% oder weniger in einem Bereich der transparenten Basis 2, der den schwarz gedruckten Teil 6 aufweist, und das Verhältnis (R₁/R₂) zwischen einer Lichtreflexion R₁ einer Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 4 und einer Lichtreflexion R₂ an einer Grenzfläche des schwarz gedruckten Teils 6 mit der transparenten Basis 2 beträgt 1/6 oder mehr.
Dabei ist die Lichtreflexion ein Anregungswert Y der Reflexion, der durch JIS Z 8701 festgelegt ist. In der vorliegenden Erfindung wird ein spektrophotometrisches Kolorimeter (hergestellt von KONICA MINOLTA, INC., Modell: CM-2600d) verwendet und reflektiertes Licht wird durch einen SCI-Modus gemessen, bei dem regulär reflektiertes Licht und gestreutes reflektiertes Licht zusammen mit einer D65-Lichtquelle gemessen werden und die gemessene Reflexion zur Berechnung der Lichtreflexion verwendet wird.
Bei der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung beträgt die Lichtreflexion der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion, die bezüglich einfallendem Licht von der Seite des Films mit geringer Reflexion 4 gemessen wird (wird nachstehend auch als Lichtreflexion R bezeichnet), 2% oder weniger, und R₁/R₂ beträgt 1/6 oder mehr, so dass eine Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils 6 von der Seite des Films mit geringer Reflexion 4 kaum visuell sichtbar ist.
Die Lichtreflexion R beträgt vorzugsweise 1,5 oder weniger, mehr bevorzugt 1,2% oder weniger und noch mehr bevorzugt1 1% oder weniger. Ferner beträgt die Lichtreflexion R₁ im Hinblick auf eine Erhöhung der Sichtbarkeit einer Anzeige durch Unterdrücken der Lichtreflexion vorzugsweise 1% oder weniger, vorzugsweise 0,8% oder weniger und mehr bevorzugt 0,7% oder weniger.
Nachstehend wird ein Berechnungsverfahren von R₁ und R₂ auf der Basis von 2 beschrieben. Die 2 ist eine Ansicht, die schematisch Wege (optische Wege) von einfallendem Licht zeigt, das auf die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung von der Seite des Films mit geringer Reflexion 4 einfällt. In der 2 werden Komponenten, die mit denjenigen in der 1 identisch sind, mit denselben Bezugszeichen bezeichnet.
In einem Bereich der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion, der keinen schwarz gedruckten Teil 6 aufweist, wird ein Teil von einfallendem Licht L₁, das von der Seite der ersten Hauptoberfläche 3, d. h., von der Seite, die der zweiten Hauptoberfläche 5 gegenüberliegt, auf den Film mit geringer Reflexion 4 einfällt, durch die Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 4 reflektiert, so dass reflektiertes Licht L₂ erhalten wird und der Rest des einfallenden Lichts L₁ zu durchgelassenem Licht L₃ wird, das durch den Film mit geringer Reflexion 4 und die transparente Basis 2 in dieser Reihenfolge durchgelassen wird. Ein Teil des durchgelassenen Lichts L₃ wird durch die zweite Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 reflektiert und das reflektierte Licht wird durch die transparente Basis 2 und den Film mit geringer Reflexion 4 in dieser Reihenfolge durchgelassen und wird als emittiertes Licht L₄ nach außen emittiert. Die Wege des Lichts (L₁ → L₂ und L₁ → L₃ → L₄) sind auf einen ersten Weg festgelegt.
Eine Lichtreflexion R_G des Lichts des ersten Wegs entspricht der Summe einer Lichtreflexion bezüglich des reflektierten Lichts 12, nämlich der Lichtreflexion R₁ des Films mit geringer Reflexion 4, und einer Lichtreflexion R₄ bezüglich des emittierten Lichts 14.
Dabei wird die Lichtreflexion R₄ durch die Formel (I) mittels Reflexionen entlang des Lichtwegs dargestellt und die Lichtreflexion R_G des Lichts des ersten Wegs wird durch die Formel (II) dargestellt. Es sollte beachtet werden, das R₀ eine einseitige Lichtreflexion ist, die von der zweiten Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 erhalten wird. R₄ = (1 – R₁) × R₀ × (1 – R₁) (I) R_G = R₁ + (1 – R₁) × R₀ × (1 – R₁) (II)
Andererseits wird in einem Bereich der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion, der mit dem schwarz gedruckten Teil 6 versehen ist, ein Teil von einfallendem Licht L₅, das auf den Film mit geringer Reflexion 4 von der Seite der ersten Hauptoberfläche 3 einfällt, d. h., von der Seite, die der zweiten Hauptoberfläche 5 gegenüberliegt, durch die Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 4 reflektiert, so dass reflektiertes Licht L₆ erhalten wird und der Rest des einfallenden Lichts L₅ zu durchgelassenem Licht L₇ wird, das durch den Film mit geringer Reflexion 4 und die transparente Basis 2 in dieser Reihenfolge durchgelassen wird. Ein Teil des durchgelassenen Lichts L₇ wird durch eine Grenzfläche zwischen der zweiten Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 und dem schwarz gedruckten Teil 6 reflektiert und das reflektierte Licht wird durch die transparente Basis 2 und den Film mit geringer Reflexion 4 in dieser Reihenfolge durchgelassen und wird dann als emittiertes Licht L₈ nach außen emittiert. Die Wege des Lichts (L₅ → L₆ und L₅ → L₇ → L₈) sind auf einen zweiten Weg festgelegt.
Eine Lichtreflexion R_tot des Lichts des zweiten Wegs entspricht der Summe einer Lichtreflexion bezüglich des reflektierten Lichts L₆, nämlich der Lichtreflexion R₁ des Films mit geringer Reflexion 4 und einer Lichtreflexion R₈ bezüglich des emittierende Lichts L₈.
Dabei wird die Lichtreflexion R₈ durch die Formel (III) unter Verwendung von Reflexionen entlang des Lichtwegs dargestellt und die Lichtreflexion R_tot des Lichts des zweiten Wegs wird durch die Formel (IV) dargestellt. Es sollte beachtet werden, dass R₂ eine Lichtreflexion des schwarz gedruckten Teils 6 an der Grenzfläche mit der transparenten Basis 2 ist. R₈ = (1 – R₁) × R₂ × (1 – R₁) (III) R_tot = R1 + (1 – R₁) × R₂ × (1 – R₁) (IV)
Bei der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion sind die Lichtreflexion R_G in dem Bereich ohne schwarz gedruckten Teil 6 und die Lichtreflexion R_tot in dem Bereich, der mit dem schwarz gedruckten Teil 6 versehen ist, messbare Größen. Daher ist es dadurch, dass die gegebene Lichtreflexion R₀ der transparenten Basis 2 vorausgesetzt wird, möglich, R₁ und R₂ unter Verwendung der Formel (II) und der Formel (IV), die vorstehend genannt worden sind, zu berechnen. Es sollte beachtet werden, dass, wie es vorstehend beschrieben worden ist, R_tot der Lichtreflexion R entspricht, die bezüglich des einfallenden Lichts von der Seite des Films mit geringer Reflexion 4 in dem Bereich, der den schwarz gedruckten Teil 6 aufweist, gemessen wird, und in der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung 2% oder weniger beträgt. Ferner kann die Lichtreflexion R₀ durch Bestimmen, z. B. mit einem Ellipsometer, eines Brechungsindex einer Rückfläche der transparenten Basis 2 in dem Bereich, der keinen schwarz gedruckten Teil 6 aufweist, nämlich der transparenten Basis 2 auf der Seite, auf welcher der Film mit geringer Reflexion 4 nicht bereitgestellt ist, berechnet werden.
Ferner können, wenn der Film mit geringer Reflexion 4 eine Absorption mit einem Absorptionsgrad A₁ aufweist, R₁ und R₂ in einer ähnlichen Weise wie vorstehend durch Festlegen von (1 – R₁) auf (1 – R₁ – A₁) in den Formeln (II) und (IV) berechnet werden. Der Absorptionsgrad A, des Films mit geringer Reflexion 4 kann durch Berechnen einer Durchlässigkeit T_g in dem Bereich, bei dem die zweite Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 den schwarz gedruckten Teil 6 nicht aufweist, und einer Durchlässigkeit T₀ nur der transparenten Basis 2 berechnet werden.
Es sollte beachtet werden, dass bezüglich des Lichts z. B. von dem durchgelassenen Licht L₃, das durch die zweite Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 reflektiert wird und das durch die transparente Basis 2 und den Film mit geringer Reflexion 4 in dieser Reinhenfolge hindurchtritt, ein Teil davon von dem Inneren der transparenten Basis 2 als das emittierte Licht L₄ emittiert wird, und ein Teil davon einem Weg folgt, so dass durch eine Grenzfläche zwischen dem Film mit geringer Reflexion 4 und der Luft reflektiert wird, wodurch es zu dem Inneren der transparenten Basis 2 zurückkehrt, durch die transparente Basis 2 hindurchtritt, und ein Teil davon durch die zweite Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 reflektiert wird, so dass es von dem Inneren der transparenten Basis 2 emittiert wird. Ferner kann ein Weg berücksichtigt werden, in dem dieser Zyklus beliebig oft wiederholt wird. Solange jedoch R₁ und R₂ in dem vorstehend beschriebenen Bereich liegen, ist ein Beitrag von den Wegen nach L₈ in einem vernachlässigbaren Ausmaß ausreichend klein.
Die Lichtreflexion R₁ des Films mit geringer Reflexion 4 ist auf der Basis des Zusammensetzungsmaterials jeder Schicht, die den Film mit geringer Reflexion 4 bildet, der Stapelanzahl, der Dicke jeder Schicht, der Stapelreihenfolge und dergleichen beliebig einstellbar. Die Lichtreflexion R₂ des schwarz gedruckten Teils 6 an der Grenzfläche mit der transparenten Basis 2 kann durch die Art des Materials (einer schwarzen Druckfarbe oder dergleichen), die den schwarz gedruckten Teil 6 bildet, die Filmdicke und dergleichen eingestellt werden. Es sollte beachtet werden, dass R₂ normalerweise in einem Bereich von nicht weniger als 0,3% und nicht mehr als 0,8% liegt, und da die Einstellung durch die Art der Druckfarbe, die Filmdicke und dergleichen schwierig ist und es die Möglichkeit einer Beeinträchtigung des schwarzen Farbtons gibt, ist es bevorzugt, das Verhältnis von R₁/R₂ durch Einstellen des Werts von R₁ einzustellen.
Wenn ein Film mit einem Absorptionsvermögen als Film mit geringer Reflexion 4 verwendet wird, wird R_tot verglichen mit einem Fall vermindert, bei dem ein Film verwendet wird, dessen R₁ bzw. R₂ jeweils die gleichen Werte aufweisen und der keine Absorption aufweist, so dass ein Schwärzeeindruck bei der Betrachtung durch einen Anwender verbessert wird. Daher kann der Film mit geringer Reflexion 4 in einer vorteilhaften Weise für ein Produkt verwendet werden, das keine hohe Durchlässigkeit der Öffnung (des nicht gedruckten Teils) aufweisen muss. In diesem Fall kann in einer vorteilhaften Weise ein Film verwendet werden, der durch Stapeln eines Lichtabsorptionsfilms, der z. B. einen Nitridfilm von Titan, Zirkonium oder dergleichen als ein Hauptmaterial nutzt, und eines Siliziumoxidfilms in dieser Reihenfolge hergestellt wird. Die geometrische Filmdicke des Lichtabsorptionsfilms beträgt vorzugsweise 5 bis 25 nm und die geometrische Filmdicke des Siliziumoxidfilms beträgt vorzugsweise 70 bis 110 nm. Gegebenenfalls kann eine Schicht, deren geometrische Filmdicke 1 bis 20 nm beträgt und die Silizium oder Siliziumnitrid als eine Hauptkomponente nutzt, zwischen dem Lichtabsorptionsfilm und dem Siliziumoxidfilm bereitgestellt werden. Es sollte beachtet werden, dass sich ein Film, der eine bestimmte Komponente als ein Hauptmaterial nutzt, auf einen Film bezieht, in dem der Anteil der Komponente 50 Massen-% oder mehr beträgt.
Als nächstes wird jedes der Elemente, welche die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der Ausführungsform bilden, beschrieben.
(TRANSPARENTE BASIS)
Die transparente Basis 2 ist nicht speziell beschränkt, solange sie aus einem transparenten Material hergestellt ist, bei dem das Verleihen von geringen Reflexionseigenschaften durch den Film mit geringer Reflexion 4 allgemein erforderlich ist. Beispielsweise wird in vorteilhafter Weise eine transparente Basis 2 verwendet, die aus einem Glas, einem Harz oder einer Kombination davon hergestellt ist (einem Verbundmaterial, einem gestapelten Material oder dergleichen). Ferner ist auch die Form der transparenten Basis 2 nicht speziell beschränkt und z. B. kann sie eine Plattenform mit einer Steifigkeit, eine Filmform mit einer Flexibilität oder dergleichen sein.
Als Harzsubstrat, das als die transparente Basis 2 verwendet wird, kann z. B. ein Harzsubstrat auf Acrylbasis aus Polymethylmethacrylat oder dergleichen, ein Harzsubstrat auf der Basis eines aromatischen Polycarbonats aus einem Carbonat von Bisphenol A oder dergleichen, ein Harzsubstrat auf der Basis eines aromatischen Polyesters aus Polyethylenterephthalat oder dergleichen genannt werden.
Als Polymerfilm (die transparente Basis 2 in einer Filmform) kann z. B. ein Film auf Polyesterbasis aus Polyethylenterephthalat oder dergleichen, ein Film auf Polyolefinbasis aus Polypropylen oder dergleichen, ein Polyvinylchloridfilm, ein Film auf Acrylharzbasis, ein Polyethersulfonfilm, ein Polyarylatfilm, ein Polycarbonatfilm oder dergleichen genannt werden.
Als Glassubstrat, das für die transparente Basis 2 verwendet wird, kann z. B. ein Substrat genannt werden, das aus einem allgemeinen Glas, dessen Hauptkomponente Siliziumdioxid ist, und einem Glas, wie z. B. einem Natronkalksilikatglas, einem Aluminosilikatglas, einem Borosilikatglas, einem Nicht-Alkaliglas oder einem Quarzglas, hergestellt ist.
Wenn ein Glassubstrat als die transparente Basis 2 verwendet wird, ist die Zusammensetzung des Glases vorzugsweise eine Zusammensetzung, mit der ein Formen und ein chemisches Härten durchgeführt werden können, und es enthält vorzugsweise Natrium.
Die Zusammensetzung des Glases ist nicht speziell beschränkt und Gläser mit verschiedenen Zusammensetzungen können verwendet werden. Beispielsweise können Aluminosilikatgläser mit den folgenden Zusammensetzungen in mol-% auf Oxidbasis genannt werden:

(i) Ein Glas, das nicht weniger als 50% und nicht mehr als 80% SiO₂, nicht weniger als 2% und nicht mehr als 25% Al₂O₃, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 10% Li₂O, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 18% Na₂O, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 10% K₂O, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 15% MgO, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 5% CaO und nicht weniger als 0% und nicht mehr als 5% ZrO₂ enthält;
(ii) ein Glas, das nicht weniger als 50% und nicht mehr als 74% SiO₂, nicht weniger als 1% und nicht mehr als 10% Al₂O₃, nicht weniger als 6% und nicht mehr als 14% Na₂O, nicht weniger als 3% und nicht mehr als 11% K₂O, nicht weniger als 2% und nicht mehr als 15% MgO, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 6% CaO und nicht weniger als 0% und nicht mehr als 5% ZrO₂ enthält, wobei die Summe der Gehalte von SiO₂ und Al₂O₃ 75% oder weniger beträgt, die Summe der Gehalte von Na₂O und K₂O nicht weniger als 12% und nicht mehr als 25% beträgt und die Summe der Gehalte von MgO und CaO nicht weniger als 7% und nicht mehr als 15% beträgt;
(iii) ein Glas, das nicht weniger als 68% und nicht mehr als 80% SiO₂, nicht weniger als 4% und nicht mehr als 10% Al₂O₃, nicht weniger als 5% und nicht mehr als 15% Na₂O, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 1% K₂O, nicht weniger als 4% und nicht mehr als 15% MgO und nicht weniger als 0% und nicht mehr als 1% ZrO₂ enthält; und
(iv) ein Glas, das nicht weniger als 67% und nicht mehr als 75% SiO₂, nicht weniger als 0% und nicht mehr als 4% Al₂O₃, nicht weniger als 7% und nicht mehr als 15% Na₂O, nicht weniger als 1% und nicht mehr als 9% K₂O, nicht weniger als 6% und nicht mehr als 14% MgO und nicht weniger als 0% und nicht mehr als 1,5% ZrO₂ enthält, wobei die Summe der Gehalte von SiO₂ und Al₂O₃ nicht weniger als 71% und nicht mehr als 75% beträgt, die Summe der Gehalte von Na₂O und K₂O nicht weniger als 12% und nicht mehr als 20% beträgt, und wenn CaO enthalten ist, der Gehalt von CaO weniger als 1% beträgt.

Das Glassubstrat ist als die transparente Basis 2 bevorzugt.
Ein Herstellungsverfahren für das Glassubstrat ist nicht speziell beschränkt. Das Glassubstrat kann in einer Weise hergestellt werden, dass die gewünschten Glasmaterialien in einen Schmelzofen eingebracht, erwärmt und bei nicht weniger als 1500°C und nicht mehr als 1600°C geschmolzen werden, einer Läuterung unterzogen werden und dann einer Formvorrichtung zum Formen des geschmolzenen Glases zu einer Plattenform zugeführt werden, und das resultierende Produkt langsam abgekühlt wird. Es sollte beachtet werden, dass das Formverfahren des Glassubstrats nicht speziell beschränkt ist und z. B. ein Abziehverfahren („Down-draw”-Verfahren) (z. B. ein Überlauf-Abziehverfahren („Overflow-Down-draw”-Verfahren), ein Schlitzabziehverfahren, ein Rückzugsverfahren („Redraw”-Verfahren) oder dergleichen), ein Floatverfahren, ein Ausrollverfahren („Rolling-out”-Verfahren), ein Pressverfahren oder dergleichen verwendet werden können.
Wenn das Glassubstrat als die transparente Basis 2 verwendet wird, ist es zur Erhöhung der Härte bzw. der Festigkeit der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion, die erhalten werden soll, bevorzugt, ein chemisches Härten auf einer Hauptoberfläche des Glassubstrats durchzuführen (z. B. einer Hauptoberfläche nach der Durchführung einer Blendschutzbehandlung, die später beschrieben wird).
Ein Verfahren des chemischen Härtens ist nicht speziell beschränkt und die Hauptoberfläche des Glassubstrats wird einem Ionenaustausch zur Bildung einer Oberflächenschicht unterzogen, wobei eine Druckspannungsschicht auf dem Glassubstrat verbleibt. Insbesondere werden Alkalimetallionen, deren Ionenradius klein ist (z. B. Li-Ionen, Na-Ionen) und die in dem Glas in der Nähe der Hauptoberfläche des Glassubstrats enthalten sind, durch Alkalimetallionen, deren Ionenradius größer ist (z. B. Na-Ionen oder K-Ionen relativ zu Li-Ionen und K-Ionen relativ zu Na-Ionen), bei einer Temperatur ausgetauscht, die gleich einem Glasübergangspunkt oder niedriger als dieser ist. Folglich verbleibt die Druckspannungsschicht an der Hauptoberfläche des Glassubstrats und die Härte bzw. die Festigkeit des Glassubstrats wird verbessert.
Das Glassubstrat als transparente Basis 2 erfüllt vorzugsweise die folgenden Bedingungen. Durch Durchführen des vorstehend beschriebenen chemischen Härtens kann das Glassubstrat solche Bedingungen erfüllen.
Insbesondere beträgt die Oberflächendruckspannung (nachstehend als CS bezeichnet) des Glassubstrats vorzugsweise nicht weniger als 400 MPa und nicht mehr als 1200 MPa, und mehr bevorzugt nicht weniger als 700 MPa und nicht mehr als 900 MPa. Eine CS von 400 MPa oder mehr ist als praxistaugliche Festigkeit ausreichend. Ferner kann, wenn die CS 1200 MPa oder weniger beträgt, das Substrat dessen Druckspannung verkraften und es gibt keine Probleme bezüglich eines natürlichen Auftretens eines Brechens. Wenn die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung als Vorderseitensubstrat (Abdeckglas) einer Anzeigevorrichtung verwendet wird, beträgt die CS des Glassubstrats besonders bevorzugt nicht weniger als 700 MPa und nicht mehr als 850 MPa.
Ferner beträgt die Tiefe einer Spannungsschicht (nachstehend als DOL bezeichnet) des Glassubstrats vorzugsweise nicht weniger als 15 μm und nicht mehr als 50 μm, und mehr bevorzugt nicht weniger als 20 μm und nicht mehr als 40 μm. Wenn die DOL 15 μm oder mehr beträgt, bestehen selbst dann, wenn ein scharfes Werkzeug wie z. B. ein Glasschneider verwendet wird, keine Bedenken dahingehend, dass das Glassubstrat leicht beschädigt wird und bricht. Ferner kann, wenn die DOL 50 μm oder weniger beträgt, das Substrat dessen Druckspannung verkraften, und es bestehen keine Bedenken dahingehend, dass ein natürliches Brechen auftritt. Wenn die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung als Vorderseitensubstrat (Abdeckglas) einer Anzeigevorrichtung verwendet wird, beträgt die DOL des Glassubstrats besonders bevorzugt nicht weniger als 25 μm und nicht mehr als 35 μm.
Die Dicke der transparenten Basis 2 kann gemäß dem Zweck in einer geeigneten Weise ausgewählt werden. Beispielsweise beträgt die Dicke der transparenten Basis 2 in einem Fall der transparenten Basis 2 mit einer Plattenform, wie z. B. einem Harzsubstrat oder einem Glassubstrat, vorzugsweise nicht weniger als 0,1 mm und nicht mehr als 5 mm und mehr bevorzugt nicht weniger als 0,2 mm und nicht mehr als 2 mm. Wenn die transparente Basis 2 eine Filmform aufweist, wie z. B. ein Polymerfilm, beträgt deren Dicke vorzugsweise nicht weniger als 50 μm und nicht mehr als 200 μm, und mehr bevorzugt nicht weniger als 75 μm und nicht mehr als 150 μm. Wenn ein Glassubstrat als die transparente Basis 2 verwendet wird und das vorstehend genannte chemische Härten durchgeführt wird, beträgt die Dicke des Glassubstrats normalerweise bevorzugt 5 mm oder weniger und mehr bevorzugt 3 mm oder weniger, so dass das chemische Härten effektiv durchgeführt wird.
Ferner kann, wenn die transparente Basis 2 ein Glassubstrat ist, dessen Größe gemäß dem Zweck in einer geeigneten Weise ausgewählt werden. Wenn die transparente Basis 2 als Abdeckglas einer mobilen Vorrichtung verwendet wird, ist es bevorzugt, dass deren Größe 30 mm × 50 mm bis 300 mm × 400 mm beträgt und deren Dicke nicht weniger als als 0,1 mm und nicht mehr als 2,5 mm beträgt, und wenn die transparente Basis 2 als Abdeckglas einer Anzeigevorrichtung verwendet wird, beträgt deren Größe vorzugsweise 50 mm × 100 mm bis 2000 mm × 1500 mm, und deren Dicke beträgt vorzugsweise nicht weniger als 0,5 mm und nicht mehr als 4 mm.
(BLENDSCHUTZBEHANDLUNG)
Um die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion mit Blendschutzeigenschaften zu versehen, weist die transparente Basis 2 vorzugsweise eine vorragende und vertiefte Form auf deren Hauptoberfläche auf. Es sollte beachtet werden, dass die Hauptoberfläche mit der vorragenden und vertieften Form mindestens eine Hauptoberfläche der transparenten Basis 2 ist, und mindestens die erste Hauptoberfläche, die eine Oberfläche auf einer Seite ist, die mit einem Film mit geringer Reflexion 4 versehen ist, ist vorzugsweise als eine Oberfläche festgelegt, welche die vorragende und vertiefte Form aufweist.
Als Verfahren zur Bildung der vorragenden und vertieften Form auf der Hauptoberfläche der transparenten Basis 2 kann ein bekanntes Verfahren eingesetzt werden, und beispielsweise kann eine Blendschutzbehandlung angewandt werden. Als Blendschutzbehandlung kann ein bekanntes Verfahren verwendet werden und beispielsweise ist es dann, wenn ein Glassubstrat als die transparente Basis 2 verwendet wird, möglich, ein Verfahren, bei dem eine Oberflächenbehandlung chemisch oder physikalisch auf der Hauptoberfläche des Glassubstrats durchgeführt wird, so dass eine vorragende und vertiefte Form mit der gewünschten Oberflächenrauheit gebildet wird, ein Nassbeschichten oder dergleichen zu verwenden.
Als Verfahren zum chemischen Durchführen der Blendschutzbehandlung kann insbesondere z. B. ein Verfahren des Durchführens einer Mattierungsbehandlung genannt werden. Die Mattierungsbehandlung kann z. B. durch Eintauchen des Glassubstrats, wobei es sich um einen Behandlungsgegenstand handelt, in eine Mischlösung aus Fluorwasserstoff und Ammoniumfluorid durchgeführt werden.
Ferner kann als Verfahren zum physikalischen Durchführen der Blendschutzbehandlung beispielsweise ein sogenanntes Sandstrahlverfahren verwendet werden, bei dem ein kristallines Siliziumdioxidpulver, ein Siliziumcarbidpulver, usw., mittels Druckluft auf die Hauptoberfläche des Glassubstrats geblasen wird, ein Verfahren, bei dem eine Bürste, an der das kristalline Siliziumdioxidpulver, das Siliziumcarbidpulver, usw., haftet, mit Wasser befeuchtet wird und die Hauptoberfläche des Glassubstrats mit der Bürste poliert wird, usw.
Von diesen Verfahren ist die Mattierungsbehandlung als Verfahren zum Durchführen der Blendschutzbehandlung auf dem Glassubstrat bevorzugt, da Mikrorisse an der Oberfläche des Behandlungsgegenstands kaum vorkommen und kaum eine Verminderung der mechanischen Festigkeit vorkommt.
Es ist bevorzugt, dass auf der Hauptoberfläche des Glassubstrats, nachdem sie der Blendschutzbehandlung in einer chemischen oder physikalischen Weise unterzogen worden ist, wie es vorstehend beschrieben ist, ein Ätzverfahren durchgeführt wird, um die Oberflächenform einzustellen. Als Ätzverfahren kann z. B. ein Verfahren verwendet werden, bei dem das Glassubstrat in eine Ätzlösung eingetaucht wird, bei der es sich um eine wässrige Lösung von Fluorwasserstoff handelt, um das Ätzen chemisch durchzuführen. Die Ätzlösung kann abgesehen von Fluorwasserstoff auch Säuren, wie z. B. Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure und Zitronensäure, enthalten. Wenn die Ätzlösung diese Säuren enthält, kann eine lokale Erzeugung von Ausfällungen aufgrund einer Reaktion zwischen Kationen, wie z. B. Na-Ionen und K-Ionen, die in dem Glassubstrat enthalten sind, und Fluorwasserstoff unterdrückt werden, und darüber hinaus kann das Ätzen in einer Behandlungsoberfläche des Behandlungsgegenstands einheitlich ablaufen.
Wenn das Ätzverfahren durchgeführt wird, wird das Ätzausmaß durch Einstellen der Konzentration der Ätzlösung, der Eintauchzeit des Glassubstrats in die Ätzlösung und dergleichen eingestellt und demgemäß kann der Trübungswert einer Blendschutzbehandlungsoberfläche des Glassubstrats auf einen gewünschten Wert eingestellt werden. Ferner können dann, wenn die Blendschutzbehandlung durch die physikalische Oberflächenbehandlung, wie z. B. das Sandstrahlen, durchgeführt wird, Risse auftreten, jedoch können solche Risse durch das Ätzverfahren entfernt werden. Ferner kann auch ein Effekt dahingehend erhalten werden, dass ein Glitzern der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion durch das Ätzverfahren unterdrückt werden kann.
Die Hauptoberfläche des Glassubstrats, nachdem sie der Blendschutzbehandlung und dem Ätzverfahren in einer Weise unterzogen worden ist, die vorstehend beschrieben ist, mit anderen Worten, die Oberfläche der vorragenden und vertieften Form, weist vorzugsweise eine Oberflächenrauheit (quadratischer Mittenrauwert, RMS) von nicht weniger als 0,01 μm und nicht mehr als 0,5 μm auf. Die Oberflächenrauheit (RMS) beträgt mehr bevorzugt nicht weniger als 0,01 μm und nicht mehr als 0,3 μm, und noch mehr bevorzugt nicht weniger als 0,01 μm und nicht mehr als 0,2 μm. Durch Einstellen der Oberflächenrauheit (RMS) der Hauptoberfläche des Glassubstrats, so dass sie in den vorstehend beschriebenen Bereich fällt, kann der Trübungswert des Glassubstrats, nachdem es der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, auf nicht weniger als 1% und nicht mehr als 30% eingestellt werden, und als Ergebnis dessen können der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion, die erhalten werden soll, hervorragende Blendschutzeigenschaften verliehen werden. Es sollte beachtet werden, dass der Trübungswert ein Wert ist, der durch JIS K 7136 festgelegt ist.
Die Oberflächenrauheit (RMS) kann auf der Basis eines Verfahrens gemessen werden, das in JIS B 0601: (2001) festgelegt ist. Insbesondere wird ein Lasermikroskop (Produktbe-zeichnung: VK-9700, hergestellt von KEYENCE CORPORATION) zum Einstellen einer Sichtfeldgröße von 300 μm × 200 μm bezogen auf eine Messoberfläche des Glassubstrats verwendet, nachdem es der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, wobei es sich um eine Probe handelt, und die Höhenmerkmale des Glassubstrats werden gemessen. Bezüglich des Messwerts wird eine Obergrenzenkorrektur durchgeführt und durch Bestimmen des quadratischen Mittelwerts der erhaltenen Höhen kann die Oberflächenrauheit (RMS) berechnet werden. Es ist bevorzugt, 0,08 mm als Obergrenzenwert zu verwenden.
Ferner ist es bevorzugt, eine Einstellung derart vorzunehmen, dass die Hauptoberfläche des Glassubstrats, nachdem sie der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, mit anderen Worten, die Oberfläche mit der vorragenden und vertieften Form, eine RSm, wobei es sich um eine durchschnittliche Länge eines Rauheitskurvenelements handelt, von nicht weniger als 5 μm und nicht mehr als 30 μm aufweist. Dabei ist die durchschnittliche Länge RSm des Rauheitskurvenelements eine Länge, die derart erhalten wird, dass in einer Rauheitskurve, die in eine Referenzlänge auf einer Referenzebene einbezogen ist, der Durchschnitt von Längen auf der Referenzebene, in der Vorwölbungen und Vertiefungen, die einem Zyklus entsprechen, erzeugt werden, gebildet wird. Die durchschnittliche Länge RSm des Rauheitskurvenelements kann mit einem Verfahren auf der Basis des Verfahrens gemessen werden, das durch JIS B 0601 (2001) festgelegt ist.
Gemäß den Untersuchungen, die durch die vorliegenden Erfinder durchgeführt worden sind, ist es bevorzugt, dass die Oberflächenrauheit RMS innerhalb des vorstehend beschriebenen Bereichs liegt und dass die durchschnittliche Länge RSm des Rauheitskurvenelements nicht weniger als 5 μm und nicht mehr als 30 μm beträgt, da es dann möglich ist, das Glitzern der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion effektiver zu unterdrücken, und es auch möglich ist, die Sichtbarkeit einer Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils 6 zu unterdrücken.
Die Oberfläche des Glassubstrats weist, nachdem sie der Blendschutzbehandlung und dem Ätzverfahren unterzogen worden ist, die vorragende und vertiefte Form auf, und wenn die vorragende und vertiefte Form von oberhalb der Oberfläche des Glassubstrats betrachtet wird, scheint sie kreisförmige Poren aufzuweisen. Die Größe (Durchmesser) jeder kreisförmigen Pore, die in der vorstehend beschriebenen Weise betrachtet wird, beträgt vorzugsweise nicht weniger als 1 μm und nicht mehr als 10 μm. Wenn die Größe der Pore innerhalb dieses Bereichs liegt, können sowohl die Verhinderung eines Glitzerns als auch die Blendschutzeigenschaften der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion realisiert werden.
Es sollte beachtet werden, dass bei einer normalen Gebrauchsumgebung Licht von verschiedenen Winkeln auf die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion einfällt. Die Bewertung der Sichtbarkeit der Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils 6 wird ebenfalls bei solchen Bedingungen durchgeführt. Es wurde gefunden, dass die Sichtbarkeit der Druckungleichmäßigkeit bei der normalen Gebrauchsumgebung mit der Lichtreflexion korreliert, die durch den vorstehend beschriebenen SCI-Modus gemessen worden ist. Ferner ändert sich diese Lichtreflexion nicht abhängig von der Gegenwart/dem Fehlen der Blendschutzbehandlung bezüglich der transparenten Basis 2. Daher kann davon ausgegangen werden, dass die Sichtbarkeit der Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils 6 durch die Gegenwart/das Fehlen der Blendschutzbehandlung bezüglich der transparenten Basis 2 nicht beeinflusst wird.
(FILM MIT GERINGER REFLEXION)
In der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung ist der Film mit geringer Reflexion 4 auf der ersten Hauptoberfläche 3 der transparenten Basis 2 ausgebildet. Wenn die vorstehend genannte Blendschutzbehandlung mit der transparenten Basis 2 durchgeführt wird, ist es bevorzugt, dass der Film mit geringer Reflexion 4 auf der Hauptoberfläche ausgebildet wird, nachdem sie der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist.
Der Aufbau des Films mit geringer Reflexion 4 ist nicht speziell beschränkt, solange es sich um einen Aufbau handelt, der die Reflexion von Licht so unterdrücken kann, dass sie in einen vorgegebenen Bereich fällt, und beispielsweise kann der Film mit geringer Reflexion 4 durch Stapeln einer Schicht mit hohem Brechungsindex und einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex gebildet werden. Dabei steht z. B. die Schicht mit hohem Brechungsindex für eine Schicht, deren Brechungsindex für Licht mit einer Wellenlänge von 550 nm 1,9 oder mehr beträgt, und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex steht z. B. für eine Schicht, deren Brechungsindex für Licht mit einer Wellenlänge von 550 nm 1,6 oder weniger beträgt.
Bezüglich der Anzahl von Schichten der Schicht mit hohem Brechungsindex und der Schicht mit niedrigem Brechungsindex in dem Film mit geringem Brechungsindex 4 kann ein Modus verwendet werden, bei dem eine Schicht der Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht der Schicht mit niedrigem Brechungsindex einbezogen sind, und alternativ kann auch ein Aufbau eingesetzt werden, bei dem zwei Schichten oder mehr der Schichten mit hohem Brechungsindex und zwei Schichten oder mehr der Schichten mit niedrigem Brechungsindex einbezogen sind. Wenn der Aufbau eingesetzt wird, bei dem eine Schicht der Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht der Schicht mit niedrigem Brechungsindex einbezogen sind, handelt es sich vorzugsweise um einen Aufbau, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex in dieser Reihenfolge auf der Hauptoberfläche der transparenten Basis 2 gestapelt sind. Ferner handelt es sich, wenn der Aufbau eingesetzt wird, bei dem zwei Schichten oder mehr der Schichten mit hohem Brechungsindex und zwei Schichten oder mehr der Schichten mit niedrigem Brechungsindex einbezogen sind, bevorzugt um einen Modus, in dem die Schichten mit hohem Brechungsindex und die Schichten mit niedrigem Brechungsindex abwechselnd in dieser Reihenfolge gestapelt sind.
Um die Eigenschaften einer geringen Reflexion zu verbessern, ist der Film mit geringer Reflexion 4 vorzugsweise ein Stapel, der durch Stapeln einer Mehrzahl von Schichten gebildet wird, und beispielsweise ist der Stapel vorzugsweise ein Stapel, der durch Stapeln von insgesamt nicht weniger als zwei Schichten und nicht mehr als acht Schichten gebildet wird, mehr bevorzugt handelt es sich um einen Stapel, der durch Stapeln von nicht weniger als zwei Schichten und nicht mehr als sechs Schichten gebildet wird, und noch mehr bevorzugt handelt es sich um einen Stapel, der durch Stapeln von nicht weniger als zwei Schichten und nicht mehr als vier Schichten gebildet wird. Der hier beschriebene Stapel ist vorzugsweise ein Stapel, der durch abwechselndes Stapeln der Schichten mit hohem Brechungsindex und der Schichten mit niedrigem Brechungsindex gebildet wird, wie es vorstehend beschrieben ist, und die Summe der Anzahl von Schichten der Schichten mit hohem Brechungsindex und der Schichten mit niedrigem Brechungsindex vorzugsweise innerhalb des vorstehend beschriebenen Bereichs liegt. Ferner kann auch ein Film innerhalb eines Bereichs hinzugefügt werden, der die optischen Eigenschaften nicht beeinträchtigt. Beispielsweise kann auch ein SiO₂-Film zwischen das Glas und die erste Schicht, die den Film mit geringer Reflexion 4 bildet, eingebracht werden, so dass die Diffusion von Na von der Glasbasis verhindert wird.
Zum Einstellen der Lichtreflexion R₁ des Films mit geringer Reflexion 4 auf einen gewünschten Bereich und zum Einstellen der Lichtreflexion R der Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion, die bezüglich des einfallenden Lichts von der Seite des Films mit geringer Reflexion 4 in dem Bereich mit dem schwarz gedruckten Teil 6 gemessen wird, auf 2% oder weniger ist es bevorzugt, dass die Schichtdicke der Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schichtdicke der Schicht mit niedrigem Brechungsindex des Films mit geringer Reflexion 4 in einer geeigneten Weise eingestellt werden.
Materialien, welche die Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex bilden, sind nicht speziell beschränkt, und sie können unter Berücksichtigung des Grads einer erforderlichen Eigenschaft einer geringen Reflexion, der Produktivität, usw., ausgewählt werden. Als Material, das die Schicht mit hohem Brechungsindex bildet, können z. B. Nioboxid (Nb₂O₅), Titanoxid (TiO₂), Zirkoniumoxid (ZrO₂), Tantaloxid (Ta₂O₅), Aluminiumoxid (Al₂O₃), Siliziumnitrid (SiN) und dergleichen genannt werden. Es ist möglich, in vorteilhafter Weise eine Art oder mehr von Materialien zu verwenden, die aus diesen Materialien ausgewählt sind. Als Material, das die Schicht mit niedrigem Brechungsindex bildet, können z. B. ein Siliziumoxid (insbesondere Siliziumdioxid SiO₂), ein Material, das ein Mischoxid aus Si und Sn enthält, ein Material, das ein Mischoxid aus Si und Zr enthält, ein Material, das ein Mischoxid aus Si und Al enthält, und dergleichen genannt werden. Es ist möglich, in vorteilhafter Weise eine Art oder mehr von Materialien zu verwenden, die aus diesen Materialien ausgewählt sind.
Im Hinblick auf die Produktivität und den Brechungsindex ist es bevorzugt, einen Aufbau einzusetzen, bei dem die Schicht mit hohem Brechungsindex eine Schicht ist, die aus einer Art von Material hergestellt ist, das aus Nioboxid, Tantaloxid und Siliziumnitrid ausgewählt ist, und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex eine Schicht ist, die aus Siliziumoxid hergestellt ist.
Ein Verfahren zur Durchführung der Filmbildung von jeder Schicht, die den Film mit geringer Reflexion 4 bildet, ist nicht speziell beschränkt und verschiedene Filmbildungsverfahren können eingesetzt werden. Beispielsweise können ein Vakuumabscheidungsverfahren, ein ionenstrahlunterstütztes Gasphasenabscheidungsverfahren, ein Ionenplattierungsverfahren, ein Sputterverfahren, ein Plasma-CVD-Verfahren, usw., eingesetzt werden. Von diesen Filmbildungsverfahren wird das Sputterverfahren bevorzugt verwendet, da es damit möglich ist, einen Film mit einer hohen Dichte und einer hohen Dauerbeständigkeit zu bilden. Insbesondere ist es bevorzugt, eine Filmbildung durch das Sputterverfahren, wie z. B. ein Pulssputterverfahren, ein Wechselstromsputterverfahren oder ein digitales Sputterverfahren, zu bilden.
Beispielsweise wenn die Filmbildung durch das Pulssputterverfahren durchgeführt wird, wird die transparente Basis 2, wie z. B. das Glassubstrat, in einer Kammer in einer Mischgasatmosphäre aus einem Inertgas und Sauerstoff angeordnet, und ein Target wird so zur Filmbildung ausgewählt, dass es eine gewünschte Zusammensetzung realisiert. Dabei ist die Gasart des Inertgases in der Kammer nicht speziell beschränkt, und es können verschiedene Inertgase, wie z. B. Argon und Helium, verwendet werden.
Ferner ist der Druck in der Kammer durch das Mischgas aus dem Inertgas und dem Sauerstoffgas nicht speziell beschränkt, jedoch wird es, wenn er innerhalb eines Bereichs von 0,5 Pa oder weniger eingestellt wird, einfach, die Oberflächenrauheit des zu bildenden Films innerhalb eines vorgegebenen Bereichs einzustellen. Es kann davon ausgegangen werden, dass dies auf die nachstehend beschriebenen Gründe zurückzuführen ist. Insbesondere wenn der Druck in der Kammer durch das Mischgas aus dem Inertgas und dem Sauerstoffgas 0,5 Pa oder weniger beträgt, ist die mittlere freie Weglänge der filmbildenden Moleküle sichergestellt, und die filmbildenden Moleküle erreichen die transparente Basis 2 mit einer höheren Energie. Demgemäß kann davon ausgegangen werden, dass die Umverteilung der filmbildenden Moleküle beschleunigt wird, was dazu führt, dass ein Film mit einer relativ dichten und glatten Oberfläche gebildet wird. Der untere Grenzwert des Drucks in der Kammer durch das Mischgas aus dem Inertgas und dem Sauerstoffgas ist nicht speziell beschränkt, beträgt jedoch beispielsweise bevorzugt 0,1 Pa oder mehr.
Wenn die Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex durch das Pulssputterverfahren gebildet werden, kann die Schichtdicke jeder Schicht z. B. durch Einstellen der Entladungsleistung, Einstellen der Filmbildungszeit, usw., eingestellt werden.
(ANTIVERSCHMUTZUNGSFILM)
Es ist bevorzugt, dass die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung ferner einen Antiverschmutzungsfilm umfasst, der auf dem Film mit geringer Reflexion 4 ausgebildet ist. Als Filmbildungsverfahren des Antiverschmutzungsfilms kann entweder ein Trockenverfahren, wie z. B. das Vakuumabscheidungsverfahren, das ionenstrahlunterstützte Gasphasenabscheidungsverfahren, das Ionenplattierungsverfahren, das Sputterverfahren oder das Plasma-CVD-Verfahren, oder ein Nassverfahren, wie z. B. ein Schleuderbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Gießverfahren, ein Schlitzbeschichtungsverfahren oder ein Sprühverfahren verwendet werden. Im Hinblick auf die Kratzfestigkeit ist es bevorzugt, ein Trockenfilmbildungsverfahren zu verwenden.
Ein Zusammensetzungsmaterial des Antiverschmutzungsfilms kann in einer geeigneten Weise aus Materialien ausgewählt werden, die eine Antiverschmutzungseigenschaft, eine Wasserabstoßung und eine Ölabstoßung verleihen können. Insbesondere kann eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung genannt werden. Die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung kann ohne spezielle Beschränkung verwendet werden, solange sie die Antiverschmutzungseigenschaft, die Wasserabstoßung und die Ölabstoßung verleihen kann.
Als Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung kann z. B. in einer vorteilhaften Weise eine Organosiliziumverbindung mit einer oder mehreren Gruppe(n), ausgewählt aus einer Gruppe, bestehend aus einer Polyfluorpolyethergruppe, einer Polyfluoralkylengruppe und einer Polyfluoralkylgruppe, verwendet werden. Es sollte beachtet werden, dass die Polyfluorpolyethergruppe eine zweiwertige Gruppe mit einer Struktur angibt, in der eine Polyfluoralkylengruppe und ein Ethersauerstoffatom abwechselnd gebunden sind.
Als handelsübliches Produkt der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung mit einer oder mehreren Gruppe(n), ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus der Polyfluorpolyethergruppe, der Polyfluoralkylengruppe und der Polyfluoralkylgruppe, können in einer vorteilhaften Weise KP-801, KY178, KY-130 und KY185 (jeweils eine Produktbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), OPTOOL DSX und OPTOOL AES (jeweils eine Produktbezeichnung, hergestellt von DAIKIN Industries, Ltd.), usw., verwendet werden.
Es sollte beachtet werden, dass die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung im allgemeinen durch Mischen mit einem Lösungsmittel auf Fluorbasis oder dergleichen konserviert wird, um eine Zersetzung aufgrund einer Reaktion mit der Luftfeuchtigkeit und dergleichen zu unterdrücken, und wenn sie einem Filmbildungsverfahren unterzogen wird, während sie diese Lösungsmittel enthält, besteht die Möglichkeit, dass ein nachteiliger Effekt auf die Dauerbeständigkeit und dergleichen eines erhaltenen Dünnfilms ausgeübt wird. Aus diesem Grund ist es dann, wenn der Antiverschmutzungsfilm durch das Vakuumabscheidungsverfahren gemäß einem später beschriebenen Verfahren einer Filmbildung unterzogen wird, bevorzugt, eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung zu verwenden, bei der vor der Durchführung eines Erwärmens mit einem Erwärmungsbehälter eine Lösungsmittelentfernungsverarbeitung durchgeführt wird.
Dabei können als Lösungsmittel, das zum Konservieren der vorstehend beschriebenen Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung verwendet wird, z. B. Lösungsmittel auf Fluorbasis, wie z. B. Polyfluorhexan, meta-Xylolhexafluorid (C₆H₄(CF₃)₂), Hydrofluorpolyether und HFE7200/7100 (Produktbezeichnung, hergestellt von Sumitomo 3M Ltd., wobei HFE7200 durch die Formel C₄F₉C₂H₅ dargestellt wird und HFE7100 durch die Formel C₄F₉CH₃ dargestellt wird) genannt werden. Beispielsweise beträgt die Konzentration des Lösungsmittels, das in der Lösung der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung enthalten ist, vorzugsweise 1 mol-% oder weniger und mehr bevorzugt 0,2 mol-% oder weniger. Es ist besonders bevorzugt, die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung zu verwenden, die kein Lösungsmittel enthält.
Die Entfernungsverarbeitung des Lösungsmittels auf Fluorbasis von der Lösung der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung, die das vorstehend beschriebene Lösungsmittel auf Fluorbasis enthält, kann z. B. durch Evakuieren eines Behälters durchgeführt werden, der die Lösung der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung enthält. Der Zeitraum zur Durchführung der Evakuierung ist nicht beschränkt, da er gemäß der Absaugleitung, dem Absaugvermögen der Vakuumpumpe und dergleichen, der Menge der Lösung und dergleichen verändert werden kann, wobei es z. B. jedoch lediglich erforderlich ist, eine Evakuierung für 10 Stunden oder mehr durchzuführen.
Wenn der Antiverschmutzungsfilm, der aus der vorstehend genannten Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung hergestellt ist, gebildet wird, ist es bevorzugt, für die Filmbildung ein Vakuumabscheidungsverfahren zu verwenden. Wenn das Vakuumabscheidungsverfahren verwendet wird, kann die Entfernungsverarbeitung des Lösungsmittel, die vorstehend beschrieben ist, auch in einer Weise durchgeführt werden, bei der die Lösung der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung in einen Erwärmungsbehälter einer Filmbildungsvorrichtung eingebracht wird, die eine Filmbildung des Antiverschmutzungsfilms durchführt, und dann vor der Temperaturerhöhung eine Evakuierung des Erwärmungsbehälters bei Raumtemperatur durchgeführt wird. Ferner kann die Lösungsmittelentfernung auch durch die Verwendung eines Verdampfers im Vorhinein vor dem Einbringen der Lösung in den Erwärmungsbehälter durchgeführt werden.
Es sollte beachtet werden, dass die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung, die einen geringen Gehalt des Lösungsmittels aufweist oder kein Lösungsmittel enthält, verglichen mit der Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung, die das Lösungsmittel enthält, durch Inkontaktbringen mit der Atmosphäre leicht zersetzt wird. Demgemäß ist bezüglich eines Lagerbehälters für die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung, die einen geringen Gehalt des Lösungsmittels aufweist (oder die kein Lösungsmittel enthält), die Verwendung eines Behälters bevorzugt, wobei das Innere des Behälters durch ein Inertgas aus Stickstoff oder dergleichen ersetzt ist und der verschlossen ist, und wenn der Lagerbehälter gehandhabt wird, ist es bevorzugt, die Zeit des Aussetzens gegenüber der Atmosphäre zu vermindern.
Insbesondere wenn der Lagerbehälter geöffnet wird, ist es bevorzugt, die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung sofort in den Erwärmungsbehälter der Filmbildungsvorrichtung, welche die Filmbildung des Antiverschmutzungsfilms durchführt, einzubringen. Ferner ist es bevorzugt, nach dem Einbringen vorzugsweise das Innere des Erwärmungsbehälters zu evakuieren oder das Innere des Erwärmungsbehälters mit einem Inertgas aus Stickstoff, einem Edelgas oder dergleichen zu ersetzen, um dadurch die Atmosphäre (Luft) zu ersetzen, die in dem Erwärmungsbehälter enthalten ist. Um zu bewirken, dass die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung von dem Lagerbehälter (Aufbewahrungsbehälter) in den Erwärmungsbehälter der Filmbildungsvorrichtung eingebracht werden kann, ohne mit der Atmosphäre in Kontakt gebracht zu werden, werden der Lagerbehälter und der Erwärmungsbehälter z. B. mehr bevorzugt mit einer Leitung mit einem Ventil verbunden.
Ferner ist es nach dem Einbringen der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung in den Erwärmungsbehälter und dann dem Evakuieren des Inneren des Behälters oder Ersetzen des Inneren des Behälters durch das Inertgas bevorzugt, sofort mit dem Erwärmen für die Filmbildung zu beginnen.
In der vorliegenden Erfindung ist die Filmdicke des Antiverschmutzungsfilms, der auf dem Film mit geringer Reflexion 4 ausgebildet ist, nicht speziell beschränkt, jedoch beträgt sie vorzugsweise nicht weniger als 2 nm und nicht mehr als 20 nm, mehr bevorzugt nicht weniger als 2 nm und nicht mehr als 15 nm, und noch mehr bevorzugt nicht weniger als 2 nm und nicht mehr als 10 nm. Wenn die Filmdicke des Antiverschmutzungsfilms 2 nm oder mehr beträgt, wird ein Zustand erzeugt, bei dem die Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 4 einheitlich durch den Antiverschmutzungsfilm bedeckt ist, was dazu führt, dass er im Hinblick auf die Kratzfestigkeit in der Praxis angewandt werden kann. Wenn die Filmdicke des Antiverschmutzungsfilms ferner 20 nm oder weniger beträgt, sind die optischen Eigenschaften, wie z. B. der Trübungswert der transparenten Basis 2 in einem Zustand, bei dem der Antiverschmutzungsfilm darauf gestapelt ist, gut.
(SCHWARZ GEDRUCKTER TEIL)
Die Basis 1 mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung ist mit dem schwarz gedruckten Teil 6 auf einem Teil der zweiten Hauptoberfläche 5 der transparenten Basis 2 versehen. Der schwarz gedruckte Teil 6 kann ein Lichtabschirmungsteil sein, der einen Teil, der so sichtbar ist, dass er bei der Betrachtung einer Anzeige ein Hindernis darstellt, wie z. B. Leiterbahnen bzw. Schaltkreise, die in einem äußeren Randteil eines Anzeigefelds angeordnet sind, abschirmt, wodurch die Sichtbarkeit einer Anzeige verbessert wird und ein schönes Aussehen erreicht wird, oder er kann auch ein gedruckter Teil eines Buchstabens, einer Struktur oder dergleichen sein.
Der vorstehend genannte schwarz gedruckte Teil 6 wird durch ein Verfahren des Druckens einer schwarzen Druckfarbe gebildet. Als Druckverfahren gibt es ein Rakelbeschichtungsverfahren, ein Umkehrbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckverfahren, ein Düsenbeschichtungsverfahren, ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Siebdruckverfahren, usw. Das Siebdruckverfahren ist bevorzugt, da ein Drucken einfach durchgeführt werden kann, ein Drucken auf verschiedenen Basismaterialien möglich ist und es ferner möglich ist, ein Drucken gemäß der Größe der transparenten Basis 2 durchzuführen.
Die schwarze Druckfarbe kann ohne spezielle Beschränkung verwendet werden. Als schwarze Druckfarbe kann eine anorganische Druckfarbe, die einen keramischen gebrannten Körper oder dergleichen enthält, oder eine organische Druckfarbe verwendet werden, die ein Farbmaterial, wie z. B. einen Farbstoff oder ein Pigment, und ein organisches Harz enthält.
Als Keramik, die in der schwarzen anorganischen Druckfarbe enthalten ist, gibt es ein Oxid, wie z. B. ein Chromoxid oder ein Eisenoxid, ein Carbid, wie z. B. ein Chromcarbid oder ein Wolframcarbid, Ruß, Glimmer, usw. Der schwarz gedruckte Teil 6 wird derart erhalten, dass eine Druckfarbe, die aus der Keramik und Siliziumoxid hergestellt ist, geschmolzen wird, in einer gewünschten Struktur bzw. einem gewünschten Muster gedruckt wird und dann gebrannt wird. Diese anorganische Druckfarbe erfordert Schmelz- und Brennvorgänge und wird allgemein als spezielle Druckfarbe für ein Glas verwendet.
Die organische Druckfarbe ist eine Zusammensetzung, die einen schwarzen Farbstoff oder ein schwarzes Pigment und ein organisches Harz enthält. Als organisches Harz können ein Harz auf Epoxybasis, ein Harz auf Acrylbasis, Polyethylenterephthalat, Polyethersulfon, Polyarylat, Polycarbonat, ein transparentes ABS-Harz, ein Phenolharz, ein Acrylnitril-Butadien-Styrol-Harz, ein Homopolymer, wie z. B. Polyurethan, Polymethylmethacrylat, Polyvinyl, Polyvinylbutyral, Polyetheretherketon, Polyethylen, Polyester, Polypropylen, Polyamid oder Polyimid, sowie ein Harz, das aus einem Copolymer aus einem Monomer dieser Harze und einem Monomer hergestellt ist, das mit dem Monomer copolymerisiert werden kann. Ferner kann der Farbstoff oder das Pigment ohne spezielle Beschränkung verwendet werden, solange es sich um einen schwarzen Farbstoff oder ein schwarzes Pigment handelt.
Bezüglich der anorganischen Druckfarbe und der organischen Druckfarbe ist die Verwendung der organischen Druckfarbe bevorzugt, da deren Brenntemperatur niedrig ist. Ferner ist die organische Druckfarbe, die ein Pigment enthält, hinsichtlich der chemischen Beständigkeit bevorzugt.
Dabei gibt das Drucken mit einer schwarzen Farbe an, dass die Lichtreflexion R₂, die durch das vorstehend genannte Verfahren bezüglich des schwarz gedruckten Teils 6 berechnet wird, 1% oder weniger, vorzugsweise 0,8% oder weniger und mehr bevorzugt 0,6% oder weniger beträgt, und dass ein Wert der Chromatizität (a*b*), der durch JIS Z 8781-4: 2013 festgelegt ist und mit einer D65-Lichtquelle gemessen wird, (0 ± 2, 0 ± 2) beträgt. Der Wert der Chromatizität (a*b*) des schwarz gedruckten Teils 6 beträgt vorzugsweise (0 ± 1,5, 0 ± 1,5) und mehr bevorzugt (0 ± 1, 0 ± 1).
Die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung weist den Film mit geringer Reflexion auf, dessen Lichtreflexion so eingestellt ist, dass die Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils, der für eine Lichtabschirmung und dergleichen des äußeren Randteils bereitgestellt ist, kaum visuell erkennbar ist. Aus diesem Grund ist es dann, wenn die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung als ein Vorderseitensubstrat, wie z. B. ein Abdeckglas für eine Anzeigevorrichtung, verwendet wird, möglich, die Sichtbarkeit der Anzeige zu verbessern und ferner können eine gute Gestaltung und ein schönes Aussehen bereitgestellt werden.
BEISPIELE
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung mittels Beispielen detailliert beschrieben. Es sollte beachtet werden, dass die vorliegende Erfindung nicht darauf beschränkt ist.
In der folgenden Beschreibung wird zuerst ein Verarbeitungsvorgang eines Glassubstrats beschrieben. In jedem der Beispiele und dem Vergleichsbeispiel wurde Dragontrail (Produktbezeichnung, hergestellt von Asahi Glass Co., Ltd., Dicke 1,3 mm, nachstehend auch als „DT” bezeichnet), wobei es sich um ein Glassubstrat für ein chemisches Härten handelt, als Glassubstrat verwendet.
(1) BLENDSCHUTZBEHANDLUNG
Ein säurebeständiger Schutzfilm wurde auf eine Hauptoberfläche des DT geklebt und dann wurde das DT für drei Minuten zum Ätzen in eine 3 Massen-%ige Fluorwasserstofflösung eingetaucht, wodurch Schmutz entfernt wurde, der an der Oberfläche des DT haftete. Als nächstes wurde das Glassubstrat, nachdem dessen Schmutz entfernt worden ist, für 3 Minuten in eine Mischlösung aus 15 Massen-%igem Fluorwasserstoff und 15 Massen-%igem Kaliumfluorid eingetaucht, um es der Mattierungsbehandlung zu unterziehen, und dann für sechs Minuten in eine 10 Massen-%ige Fluorwasserstofflösung eingetaucht, um dadurch den Trübungswert einzustellen. Als nächstes wurde der säurebeständige Schutzfilm abgelöst, wodurch ein Glassubstrat erhalten wurde, bei dem die Blendschutzbehandlung auf der Hauptoberfläche einer Seite durchgeführt worden ist.
Es sollte beachtet werden, dass der Trübungswert des DT durch ein Trübungsmessgerät (Produktbezeichnung: HZ-V3, hergestellt von Suga Test Instruments Co., Ltd.) auf der Basis von JIS K 7136 gemessen worden ist.
(2) CHEMISCHES HÄRTEN
Das Glassubstrat nach der Blendschutzbehandlung oder das DT in dem Fall, bei dem keine Blendschutzbehandlung durchgeführt wurde, wurde zu einer Größe von 250 mm × 150 mm geschnitten und danach wurde ein chemisches Härten durchgeführt, das nachstehend beschrieben ist.
Insbesondere wurde das Glassubstrat oder das DT für zwei Stunden in Kaliumnitrat (geschmolzenes Salz) eingetaucht, das zum Schmelzen auf 450°C erwärmt worden ist, und danach wurde das Glassubstrat oder das DT aus dem geschmolzenen Salz entnommen und während einer Stunde einem langsamen Abkühlen auf Raumtemperatur unterzogen. Folglich wurde ein chemisch gehärtetes Glassubstrat erhalten, dessen Oberflächendruckspannung (CS) 730 MPa betrug und dessen Tiefe der Spannungsschicht (DOL) 30 μm betrug.
(3) BILDUNG EINES SCHWARZ GEDRUCKTEN TEILS
Nachdem das Glassubstrat dem chemischen Härten unterzogen worden ist, wurde in dem Glassubstrat ein schwarz gedruckter Teil in einem Außenrahmenzustand durch Siebdrucken auf einem äußeren Randteil der Hauptoberfläche gebildet, auf dem keine Blendschutzbehandlung durchgeführt worden ist. Es sollte beachtet werden, dass bei dem Glassubstrat, bei dem keine Blendschutzbehandlung durchgeführt worden ist, der schwarz gedruckte Teil in einem Außenrahmenzustand auf jeder der Hauptoberflächen gebildet wurde.
Es sollte beachtet werden, dass es auch möglich ist, den Schwarz gedruckten Teil zu bilden, nachdem das Glassubstrat, das dem chemischen Härten unterzogen worden ist, einer Behandlung unterzogen worden ist, bei der es für vier Stunden in eine alkalische Lösung (Produktbezeichnung: Sunwash TL-75, hergestellt von Lion Corporation) eingetaucht worden ist (nachstehend auch als Alkalibehandlung bezeichnet).
Insbesondere wurde ein Drucken in einem schwarzen Rahmenzustand mit einer Breite von 2 cm auf allen Seiten eines äußeren Randteils der Hauptoberfläche des Glassubstrats gemäß dem folgenden Verfahren durchgeführt, wodurch der schwarz gedruckte Teil gebildet wurde. Als erstes wurde eine schwarze Druckfarbe mit einer Dicke von 5 μm durch eine Siebdruckmaschine aufgebracht und zum Trocknen für 10 Minuten bei 150°C gehalten, wodurch eine erste gedruckte Schicht gebildet wurde. Als nächstes wurde, nachdem eine schwarze Druckfarbe mit einer Dicke von 5 μm auf die erste gedruckte Schicht mit demselben Verfahren wie vorstehend aufgebracht worden ist, diese zum Trocknen für 40 Minuten bei 150°C gehalten, wodurch eine zweite gedruckte Schicht gebildet wurde. In der vorstehend beschriebenen Weise wurde der schwarz gedruckte Teil, bei dem die erste gedruckte Schicht und die zweite gedruckte Schicht gestapelt sind, gebildet, und das Glassubstrat, das mit dem schwarz gedruckten Teil an einem äußeren Randteil einer Hauptoberfläche versehen war, wurde erhalten.
Die Art der schwarzen Druckfarbe, die in jedem der Beispiele und dem Vergleichsbeispiel verwendet worden ist, wird in der Erläuterung bezüglich jedes später beschriebenen Beispiels und der TABELLE 1 beschrieben.
(4) BILDUNG EINES FILMS MIT GERINGER REFLEXION
Auf der gesamten Oberfläche der Oberfläche (erste Hauptoberfläche) des Glassubstrats, auf welcher der schwarz gedruckte Teil nicht ausgebildet war, wurde ein Film mit geringer Reflexion mit einer Struktur, in der Schichten mit hohem Brechungsindex und Schichten mit niedrigem Brechungsindex abwechselnd gestapelt waren, gebildet.
Es sollte beachtet werden, dass dann, wenn der Film mit geringer Reflexion in der vorstehend beschriebenen Weise auf dem Substrat gebildet wird, mit dem die Alkalibehandlung und die Bildung der schwarz gedruckten Schicht in dieser Reihenfolge nach dem chemischen Härten durchgeführt worden sind, nicht nur eine Verminderung der Reflexion, sondern auch die Unterdrückung einer Verteilung des Farbtons realisiert werden kann.
Nachstehend werden ein Bildungsverfahren einer Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid (Nb₂O₅) hergestellt ist, ein Bildungsverfahren einer Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Siliziumnitrid (SiN) hergestellt ist, bzw. ein Bildungsverfahren einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (SiO₂) hergestellt ist, beschrieben.
(A) BILDUNG EINER SCHICHT MIT HOHEM BRECHUNGSINDEX, DIE AUS NIOBOXID HERGESTELLT IST
In einer Vakuumkammer wurde ein Pulssputtern unter Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Umkehrpulsbreite von 5 μs unter Verwendung eines Nioboxidtargets (Produktbezeichnung: NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) durchgeführt, während ein Mischgas eingeführt wurde, in dem Sauerstoff so zugemischt war, dass 10 Volumen-% bezogen auf Argongas vorlagen, wodurch eine aus Nioboxid hergestellte Schicht mit hohem Brechungsindex auf der gesamten Oberfläche der Oberfläche des Glassubstrats, auf dem die Schicht mit hohem Brechungsindex gebildet werden soll, gebildet wurde.
(B) BILDUNG EINER SCHICHT MIT HOHEM BRECHUNGSINDEX, DIE AUS SILIZIUMNITRID HERGESTELLT IST
In einer Vakuumkammer wurde ein Pulssputtern unter Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Umkehrpulsbreite von 5 μs unter Verwendung eines Siliziumtargets durchgeführt, während ein Mischgas eingeführt wurde, in dem Stickstoffgas Argongas zur Bildung eines Mischgases so zugemischt war, dass es 50 Volumen-% Stickstoffgas enthielt, wodurch eine aus Siliziumnitrid hergestellte Schicht mit hohem Brechungsindex auf der gesamten Oberfläche der Oberfläche des Glassubstrats, auf dem die Schicht mit hohem Brechungsindex gebildet werden soll, gebildet wurde.
(C) BILDUNG EINER SCHICHT MIT NIEDRIGEM BRECHUNGSINDEX, DIE AUS SILIZIUMOXID HERGESTELLT IST
In einer Vakuumkammer wurde ein Pulssputtern unter Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Umkehrpulsbreite von 5 μs unter Verwendung eines Siliziumtargets durchgeführt, während ein Mischgas eingeführt wurde, in dem Sauerstoffgas Argongas zur Bildung eines Mischgases so zugemischt war, dass es 40 Volumen-% Sauerstoffgas enthielt, wodurch eine aus Siliziumoxid hergestellte Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf der gesamten Oberfläche der Oberfläche des Glassubstrats, auf dem die Schicht mit niedrigem Brechungsindex gebildet werden soll, gebildet wurde.
In den Beispielen und dem Vergleichsbeispiel wurden die Bildung der Schicht mit hohem Brechungsindex des vorstehend beschriebenen (A) oder (B) und die Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex des vorstehend beschriebenen (C) derart abwechselnd in einer Reihenfolge durchgeführt, dass die Bildung (A) oder (B) zuerst durchgeführt wurde und dann die Bildung (C) durchgeführt wurde, wodurch Schichten mit hohem Brechungsindex und die Schichten mit niedrigem Brechungsindex zur Bildung des Films mit geringer Reflexion abwechselnd gestapelt wurden.
Der Aufbau (das Zusammensetzungsmaterial und die Dicke jeder Schicht) des Films mit geringer Reflexion in jedem der Beispiele und dem Vergleichsbeispiel ist in der Erläuterung jedes Beispiels, das später beschrieben wird, und der TABELLE 1 beschrieben. Es sollte beachtet werden, dass in der TABELLE 1 das Nioboxid (Nb₂O₅) als NBO angegeben ist.
(5) BILDUNG EINES ANTIVERSCHMUTZUNGSFILMS
Auf dem Film mit geringer Reflexion, der auf dem Glassubstrat ausgebildet war, wurde mit dem folgenden Verfahren ein Antiverschmutzungsfilm gebildet.
Als erstes wurde ein Bildungsmaterial eines Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms in einen Erwärmungsbehälter als Material des Antiverschmutzungsfilms eingebracht. Danach wurde der Erwärmungsbehälter für 10 Stunden oder mehr einer Evakuierung durch eine Vakuumpumpe unterzogen, wodurch das Lösungsmittel in der Lösung entfernt wurde, so dass eine Bildungszusammensetzung des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms hergestellt wurde (nachstehend als Zusammensetzung zur Bildung des Antiverschmutzungsfilms bezeichnet).
Als nächstes wurde der Erwärmungsbehälter, der die Zusammensetzung zur Bildung des Antiverschmutzungsfilms enthielt, auf 270°C erwärmt, und nachdem die Temperatur 270°C erreicht hatte, wurde der Zustand für 10 Minuten beibehalten, bis die Temperatur stabilisiert war. Als nächstes wurde, nachdem das Glassubstrat, auf dem der Film mit geringer Reflexion ausgebildet worden ist, in die Vakuumkammer eingebracht worden ist, die Zusammensetzung zur Bildung des Antiverschmutzungsfilms von einer Düse, die mit dem Erwärmungsbehälter verbunden war, der die Zusammensetzung zur Bildung des Antiverschmutzungsfilms enthielt, in die Richtung des Films mit geringer Reflexion des Glassubstrats zugeführt, wodurch die Filmbildung durchgeführt wurde.
Die Filmbildung wurde durchgeführt, während die Filmdicke durch eine Quarzresonatorüberwachungseinrichtung, die in der Vakuumkammer angeordnet war, gemessen wurde, und fortgesetzt, bis die Filmdicke des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms auf dem Film mit geringer Reflexion 4 nm erreichte. Als nächstes wurde das Substrat, das aus der Vakuumkammer entnommen worden ist, derart auf einer Heizplatte angeordnet, dass die Oberfläche des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms nach oben zeigte, und eine Wärmebehandlung wurde an der Luft für 60 Minuten bei 150°C durchgeführt.
In der vorstehend beschriebenen Weise wurde der Antiverschmutzungsfilm auf der gesamten Oberfläche auf dem Film mit geringer Reflexion des Glassubstrats gebildet.
Die Art des Bildungsmaterials des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms, das in jedem der Beispiele und des Vergleichsbeispiels verwendet wurde, wird später bei der Erläuterung jedes Beispiels und in der TABELLE 1 beschrieben.
In den folgenden Beispielen und dem Vergleichsbeispiel werden vorwiegend die spezifischen verwendeten Materialien und Kombinationen von Verfahren beschrieben. Das Beispiel 1 bis Beispiel 5 sind Beispiele der vorliegenden Erfindung und das Beispiel 6 ist ein Vergleichsbeispiel.
(BEISPIEL 1)
Mit dem DT wurde das chemische Härten (Schritt 2) durchgeführt, ohne die Blendschutzbehandlung (Schritt 1) durchzuführen. Als nächstes wurde GLSHF (Produktbezeichnung, hergestellt von Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd.) als schwarze Druckfarbe zur Durchführung der Bildung des schwarz gedruckten Teils verwendet (Schritt 3). Als nächstes wurden die Bildung der Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt war (Schritt A) und die Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid hergestellt war (Schritt C), abwechselnd durchgeführt, so dass die Stapelanzahl vier betrug, wodurch die Bildung des Films mit geringer Reflexion durchgeführt wurde (Schritt 4). Bezüglich der Dicke jeder Schicht wurde die Nioboxidschicht der ersten Schicht auf 13 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der zweiten Schicht wurde auf 35 nm eingestellt, die Nioboxidschicht der dritten Schicht wurde auf 120 nm eingestellt und die Siliziumoxidschicht der vierten Schicht wurde auf 85 nm eingestellt. Danach wurde die Bildung des Antiverschmutzungsfilms nicht durchgeführt (Schritt 5). In der vorstehend beschriebenen Weise wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion erhalten.
(BEISPIEL 2)
Auf dem DT wurde die Blendschutzbehandlung (Schritt 1) durchgeführt, so dass der Trübungswert auf 25% eingestellt wurde, und dann (Schritt 2) wurde das chemische Härten durchgeführt. Als nächstes wurde die Bildung des schwarz gedruckten Teils (Schritt 3) in einer entsprechenden Weise wie im Beispiel 1 durchgeführt. Als nächstes wurde die Bildung des Films mit geringer Reflexion (Schritt 4) durchgeführt. Bezüglich der Schichtdicke jeder Schicht wurde die Nioboxidschicht der ersten Schicht auf 10 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der zweiten Schicht wurde auf 41 nm eingestellt, die Nioboxidschicht der dritten Schicht wurde auf 115 nm eingestellt und die Siliziumoxidschicht der vierten Schicht wurde auf 90 nm eingestellt.
Als nächstes wurde KY185 (Produktbezeichnung, hergestellt von Shin-etsu Chemical Co., Ltd.) als Bildungsmaterial des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms zur Durchführung der Bildung des Antiverschmutzungsfilms verwendet (Schritt 5). In der vorstehend beschriebenen Weise wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion erhalten.
(BEISPIEL 3)
Auf dem DT wurde die Blendschutzbehandlung (Schritt 1) durchgeführt, so dass der Trübungswert auf 2% eingestellt wurde, und dann wurde das chemische Härten (Schritt 2) durchgeführt. Als nächstes wurde die Bildung des schwarz gedruckten Teils (Schritt 3) unter Verwendung von HFGV3RX01 (Produktbezeichnung, hergestellt von Seiko Advance Ltd.) als schwarze Druckfarbe durchgeführt. Als nächstes wurde die Bildung des Films mit geringer Reflexion (Schritt 4) durchgeführt. Bezüglich der Schichtdicke jeder Schicht wurde die Nioboxidschicht der ersten Schicht auf 14 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der zweiten Schicht wurde auf 20 nm eingestellt, die Nioboxidschicht der dritten Schicht wurde auf 80 nm eingestellt und die Siliziumoxidschicht der vierten Schicht wurde auf 80 nm eingestellt. Als nächstes wurde OPTOOL (Produktbezeichnung, hergestellt von DAIKIN Industries, Ltd.) als Bildungsmaterial des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms zur Durchführung der Bildung des Antiverschmutzungsfilms verwendet (Schritt 5). In der vorstehend beschriebenen Weise wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion erhalten.
(BEISPIEL 4)
Auf dem DT wurde das chemische Härten (Schritt 2) durchgeführt, ohne die Blendschutzbehandlung (Schritt 1) durchzuführen. Als nächstes wurde die Bildung des schwarz gedruckten Teils (Schritt 3) in einer entsprechenden Weise wie im Beispiel 1 durchgeführt. Als nächstes wurden die Bildung der Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Siliziumnitrid hergestellt war (Schritt B) und die Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid hergestellt war (Schritt C), abwechselnd durchgeführt, so dass die Stapelanzahl acht betrug, wodurch die Bildung des Films mit geringer Reflexion durchgeführt wurde (Schritt 4). Bezüglich der Schichtdicke jeder Schicht wurde die Siliziumnitridschicht der ersten Schicht auf 13 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der zweiten Schicht wurde auf 68 nm eingestellt, die Siliziumnitridschicht der dritten Schicht wurde auf 17 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der vierten Schicht wurde auf 105 nm eingestellt, die Siliziumnitridschicht der fünften Schicht wurde auf 13 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der sechsten Schicht wurde auf 51 nm eingestellt, die Siliziumnitridschicht der siebten Schicht wurde auf 120 nm eingestellt und die Siliziumoxidschicht der achten Schicht wurde auf 80 nm eingestellt. Als nächstes wurde KY178 (Produktbezeichnung, hergestellt von Shin-etsu Chemical Co., Ltd.) als Bildungsmaterial des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms zur Durchführung der Bildung des Antiverschmutzungsfilms verwendet (Schritt 5). In der vorstehend beschriebenen Weise wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion erhalten.
(BEISPIEL 5)
Auf dem DT wurde die Blendschutzbehandlung (Schritt 1) durchgeführt, so dass der Trübungswert auf 25% eingestellt wurde, und dann wurde das chemische Härten (Schritt 2) durchgeführt. Als nächstes wurde die Bildung des schwarz gedruckten Teils (Schritt 3) in einer entsprechenden Weise wie im Beispiel 1 durchgeführt und dann wurden die Bildung der Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt war (Schritt A) und die Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid hergestellt war (Schritt C), in dieser Reihenfolge durchgeführt, wodurch die Bildung des Films mit geringer Reflexion durchgeführt wurde, bei dem die Stapelanzahl zwei betrug (Schritt 4). Bezüglich der Schichtdicke jeder Schicht wurde die Nioboxidschicht der ersten Schicht auf 13 nm eingestellt und die Siliziumoxidschicht der zweiten Schicht wurde auf 120 nm eingestellt. Als nächstes wurde KY178 (Produktbezeichnung, hergestellt von Shin-etsu Chemical Co., Ltd.) als Bildungsmaterial des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms zur Durchführung (Schritt 5) der Bildung des Antiverschmutzungsfilms verwendet. In der vorstehend beschriebenen Weise wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion erhalten.
(BEISPIEL 6)
Mit dem DT wurde das chemische Härten (Schritt 2) durchgeführt, ohne die Blendschutzbehandlung (Schritt 1) durchzuführen. Als nächstes wurde die Bildung des schwarz gedruckten Teils (Schritt 3) unter Verwendung von HFGV3RX01 (Produktbezeichnung, hergestellt von Seiko Advance Ltd.) als schwarze Druckfarbe durchgeführt. Als nächstes wurden die Bildung der Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt war (Schritt A) und die Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid hergestellt war (Schritt C), abwechselnd durchgeführt, so dass die Stapelanzahl vier betrug, wodurch die Bildung des Films mit geringer Reflexion durchgeführt wurde (Schritt 4). Bezüglich der Schichtdicke jeder Schicht wurde die Nioboxidschicht der ersten Schicht auf 14 nm eingestellt, die Siliziumoxidschicht der zweiten Schicht wurde auf 30 nm eingestellt, die Nioboxidschicht der dritten Schicht wurde auf 110 nm eingestellt und die Siliziumoxidschicht der vierten Schicht wurde auf 90 nm eingestellt. Danach wurde die Bildung des Antiverschmutzungsfilms nicht durchgeführt (Schritt 5). In der vorstehend beschriebenen Weise wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion erhalten.
Die folgende Bewertung wurde mit der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion durchgeführt, die in jedem von Beispiel 1 bis Beispiel 6 erhalten worden ist. Die entsprechenden Ergebnisse sind jeweils in den unteren Zeilen in der TABELLE 1 gezeigt.
(LICHTREFLEXION)
Der Brechungsindex einer Rückfläche der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion wurde in einem Bereich, der keinen schwarz gedruckten Teil aufwies, nämlich auf einer Seite, bei welcher der Film mit geringer Reflexion nicht bereitgestellt war, mit einem Ellipsometer (Produktbezeichnung: M-2000, hergestellt von J. A. Woollam Co., Inc.) gemessen, um dadurch eine Reflexion R₀ zu berechnen. Ferner wurde bezüglich der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion eine Reflexion mit einem spektrophotometrischen Kolorimeter (Produktbezeichnung: CM-2600d, hergestellt von KONICA MINOLTA, INC.) gemessen und von der gemessenen Reflexion wurden eine Lichtreflexion R_G und eine Lichtreflexion R_tot (wobei es sich jeweils um einen Anregungswert Y der Reflexion handelt, wie er durch JIS Z 8701: 1999 festgelegt ist) bestimmt. In der vorstehend beschriebenen Weise wurden R₁ und R₂ gemäß dem vorstehend genannten Verfahren berechnet. Es sollte beachtet werden, dass der Film mit geringer Reflexion von jedem von Beispiel 1 bis Beispiel 6 eine Absorption von im Wesentlichen Null aufwies.
(DRUCKUNGLEICHMÄßIGKEIT)
Die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion wurde bei verschiedenen Winkeln von der Seite, die den Film mit geringer Reflexion aufwies, unter Fluoreszenzlicht (1500 Lx) visuell betrachtet. Dabei wurde die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion, bei dem die Ungleichmäßigkeit aufgrund eines dunklen und hellen Druckens in dem Bereich, der den schwarz gedruckten Teil an dem äußeren Randteil aufwies, erkannt wurde, als B bewertet, und die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion, bei dem die Ungleichmäßigkeit aufgrund eines dunklen und hellen Druckens in dem Bereich, der den schwarz gedruckten Teil an dem äußeren Randteil aufwies, nicht erkannt wurde, wurde als A bewertet.
(KONTAKTWINKEL VON WASSER)
Der Kontaktwinkel von Wasser an einer äußersten Oberfläche auf der Seite des Films mit geringer Reflexion der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion wurde mit einem Kontaktwinkelmessgerät (hergestellt von Kyowa Interface Science Co., Ltd., Produktbezeichnung: PCA-1) gemessen. Insbesondere wurde auf eine Oberfläche des Antiverschmutzungsfilms in der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion mit dem Antiverschmutzungsfilm oder auf eine Oberfläche des Films mit geringer Reflexion in der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion ohne Antiverschmutzungsfilm unter Verwendung einer Zutropfeinrichtung 1 μl reines Wasser getropft und der Kontaktwinkel von Wasser wurde durch ein Dreipunktverfahren aus dem Bild der Tröpfchen bestimmt.
Aus der TABELLE 1 ist ersichtlich, dass in der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion in jedem von Beispiel 1 bis Beispiel 5, bei der die Lichtreflexion R_tot 2% oder weniger betrug und der Wert von R₁/R₂ 1/6 oder mehr betrug, keine Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils festgestellt wurde. Im Gegensatz dazu wurde in der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion im Beispiel 6, bei der die Lichtreflexion R_tot 2% oder weniger betrug, jedoch der Wert von R₁/R₂ weniger als 1/6 betrug, eine Druckungleichmäßigkeit des schwarz gedruckten Teils festgestellt
GEWERBLICHE ANWENDBARKEIT
In einer Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung wird eine Druckungleichmäßigkeit in einem schwarz gedruckten Teil, der zur Lichtabschirmung und dergleichen bereitgestellt wird, kaum visuell erkannt. Daher ist die Basis mit einem Film mit geringer Reflexion der vorliegenden Erfindung für ein Vorderseitensubstrat einer Anzeigevorrichtung geeignet und kann nicht nur eine gute Sichtbarkeit einer Anzeige bereitstellen, sondern auch eine hervorragende Gestaltung und ein schönes Aussehen.
ERLÄUTERUNG DER BEZUGSZEICHEN

1: Basis mit einem Film mit geringer Reflexion; 2: Transparente Basis; 3: Erste Hauptoberfläche; 4: Film mit geringer Reflexion; 5: Zweite Hauptoberfläche; 6: Schwarz gedruckter Teil

Claims

Basis mit einem Film mit geringer Reflexion, umfassend: eine transparente Basis; einen Film mit geringer Reflexion, der auf einer ersten Hauptoberfläche der transparenten Basis ausgebildet ist; und einen schwarz gedruckten Teil, der auf einem Teil einer zweiten Hauptoberfläche der transparenten Basis gegenüber der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist, wobei die Lichtreflexion R der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion bezüglich des einfallenden Lichts von der Seite des Films mit geringer Reflexion 2% oder weniger in einem Bereich der transparenten Basis beträgt, der den schwarz gedruckten Teil aufweist, und ein Verhältnis R₁/R₂ zwischen einer Lichtreflexion R₁ einer Oberfläche des Films mit geringer Reflexion und einer Lichtreflexion R₂ an einer Grenzfläche des schwarz gedruckten Teils mit der transparenten Basis 1/6 oder mehr beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach Anspruch 1, bei der die Lichtreflexion R der Basis mit einem Film mit geringer Reflexion 1,2% oder weniger beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Lichtreflexion R₁ der Oberfläche des Films mit geringer Reflexion 1% oder weniger beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der die Lichtreflexion R₂ an der Grenzfläche des schwarz gedruckten Teils mit der transparenten Basis 0,8% oder weniger beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der die transparente Basis eine vorragende und vertiefte Form auf der ersten Hauptoberfläche aufweist.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach Anspruch 5, bei der eine Oberflächenrauheit RMS der vorragenden und vertieften Form nicht weniger als 0,01 μm und nicht mehr als 0,5 μm beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach Anspruch 5 oder 6, bei der eine durchschnittliche Länge RSm eines Rauheitskurvenelements der vorragenden und vertieften Form nicht weniger als 5 μm und nicht mehr als 30 μm beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach Anspruch 6, bei der ein Trübungswert, der durch JIS K 7136 festgelegt ist, der transparenten Basis nicht weniger als 1% und nicht mehr als 30% beträgt.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach einem der Ansprüche 1 bis 8, die ferner einen Antiverschmutzungsfilm umfasst, der auf dem Film mit geringer Reflexion ausgebildet ist und eine Dicke von nicht weniger als 2 nm und nicht mehr als 20 nm aufweist.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei welcher der Film mit einer geringen Reflexion mindestens eine Schicht, die aus Nioboxid oder Siliziumnitrid hergestellt ist, und mindestens eine Schicht aufweist, die aus Siliziumoxid hergestellt ist.
Basis mit einem Film mit geringer Reflexion nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei der die transparente Basis ein Glassubstrat ist.