WO2018235808A1 - ガラス板 - Google Patents

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WO2018235808A1
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三代　均
雄彦 野瀬
稔 玉田
洋平 河合
和田　直哉
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Ａｇｃ株式会社
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    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/34—Masking

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate.
  • a cover made of glass is disposed on the display surface side of a display device such as an LCD (Liquid Crystal Display) device to protect the display device.
  • a display device such as an LCD (Liquid Crystal Display) device
  • LCD Liquid Crystal Display
  • reflection of what is often placed around may occur. is there.
  • a viewer of the display image has difficulty in viewing the display image and receives an unpleasant impression.
  • For anti-glare treatment for example, means such as etching the surface of a glass plate (see, for example, Patent Document 1), forming a film having an uneven shape on the surface of the glass plate (see, for example, Patent Document 2), and the like are described. ing.
  • a system for monitoring a driver's condition with a camera as a countermeasure against driver drowsiness of a car or a train is installed in an instrument panel, particularly in a cluster for storing a meter or the like installed in front of the driver. In that case, anti-glare processing has become unnecessary on the portion of the glass plate serving as the cover that corresponds to the camera view.
  • An object of the present invention is to provide a glass plate having an antiglare portion and a non-antiglare portion and having an excellent touch feeling and appearance.
  • the glass plate which concerns on one form of this invention has a 1st main surface and the 2nd main surface which opposes the said 1st main surface, and an anti-glare part and a non-anti glare part in the said 1st main surface
  • the average length (RSm) of the elements of the roughness curve of the anti-glare portion and the non-anti-glare portion is 1 ⁇ m or more, and the difference between the RSm of the anti-glare portion and the RSm of the non-anti-glare portion Is 100 ⁇ m or less.
  • the embodiment of the present invention it is possible to provide a glass plate having an antiglare portion and a non-antiglare portion which is excellent in feel and appearance.
  • FIG. 1 is the perspective view which represented typically the one aspect
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a region including the anti-glare portion and the non-anti-glare portion along the line AA 'in FIG.
  • FIG. 3 is a perspective view schematically showing another aspect of the glass sheet according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of a region including the anti-glare portion and the non-anti-glare portion along the line B-B 'in FIG.
  • FIG. 5 is the perspective view which represented typically the one aspect
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of a region including the anti-glare portion and the non-anti-glare portion along the line CC ′ in FIG.
  • FIG. 7 is a perspective view schematically showing one aspect of a glass sheet according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of a region including the anti-glare portion and the non-anti-glare portion along the line DD 'in FIG.
  • the glass plate of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1: is the perspective view which represented typically the glass plate of this embodiment.
  • the upper surface is the first main surface
  • the lower surface opposite to the first main surface is the second main surface.
  • the glass plate 10A of the present embodiment has an anti-glare (AG) portion 20 and a non-anti-glare (non-AG) portion 30 on the first main surface.
  • AG anti-glare
  • non-AG non-anti-glare
  • the haze ratio of the transmitted light in the visible light region is used as one of the antiglare indexes.
  • the term “haze ratio” refers to the haze ratio of transmitted light in the visible light region.
  • the AG portion 20 has a higher haze ratio than the non-AG portion 30.
  • the haze ratio of the AG portion 20 is preferably 2% or more and 40% or less. If the haze ratio is 2% or more, reflection of light can be visually checked and reduced significantly as compared to a substrate without antiglare processing, but if it is more than 40%, light may be irregularly reflected. When used as a substrate integrated with the cover member of the display device or the touch panel, the visibility of the display of the display device may be reduced.
  • the haze ratio of the AG portion 20 is more preferably 2% or more and 35% or less, and still more preferably 3% or more and 30% or less.
  • the haze ratio of the non-AG portion 30 is preferably 0.01% or more and less than 2%, more preferably 1% or less, and still more preferably 0.5% or less. If the haze is less than 2%, the antiglare effect is not recognized, and the visibility is good even when viewed through the glass plate. In order to make the haze ratio less than 0.01%, it is necessary to thoroughly clean the manufacturing process. By setting the haze ratio to 0.01% or more, the manufacturing cost can be reduced.
  • the above-mentioned AG portion 20 can be formed by surface treatment on the surface of the first main surface of the glass plate to form an uneven shape.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 taken along the line AA 'in FIG.
  • the AG portion 20 a large number of fine recesses 12 are formed on the first main surface of the glass plate 10A to form an uneven shape.
  • the non-AG portion 30 the visible light transmitting ink 40 is applied to the concave portion 12, and the convex portion forming the boundary between the concave portions is slightly exposed.
  • the non-AG portion 30 is not a flat surface, and the convex portion forming the boundary between the concave portions 12 is exposed from the first main surface, whereby the first main surface of the glass plate 10A
  • various functional films such as an antifouling film and a low reflection film.
  • blurring of the optical characteristics is less likely to occur.
  • even when various functional films are not formed a difference in touch feeling hardly occurs between the AG portion 20 and the non-AG portion 30.
  • the first main surface of the glass plate 10A is formed into an uneven shape.
  • the As surface treatment implemented for the above-mentioned purpose a method of performing frost processing to the 1st principal surface of glass board 10A is mentioned, for example.
  • the frost treatment for example, the first main surface of the glass plate 10A to be treated is dipped in a mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, a mixed solution of hydrofluoric acid and potassium fluoride, or the like. And the surface to be immersed can be chemically treated.
  • microcracks hardly occur on the surface to be treated and a decrease in mechanical strength does not easily occur. It can be preferably used as a surface treatment method in which a large number of fine recesses 12 are formed on the main surface of 1.
  • so-called sandblasting treatment in which, for example, crystalline silicon dioxide powder, silicon carbide powder, aluminum oxide powder or the like is sprayed to the first main surface of the glass plate 10A with pressurized air.
  • so-called wet blast treatment or crystalline silicon dioxide powder in which crystalline silicon dioxide powder, silicon carbide powder, aluminum oxide powder and the like are dispersed in water and sprayed to the first main surface of glass plate 10A with pressurized air.
  • a physical surface treatment method such as polishing with a brush wetted with silicon carbide powder, aluminum oxide powder or the like with water is also used to form fine recesses 12 in the first main surface of the glass plate 10A.
  • the first main surface of glass plate 10A may be chemically etched in order to adjust the surface shape.
  • the haze ratio can be adjusted to a desired value by the amount of etching, and it is possible to remove cracks generated by sand blasting and the like, and to suppress glare.
  • etching a method of immersing a glass plate to be treated in a solution containing hydrofluoric acid as a main component is preferably used.
  • hydrofluoric acid hydrochloric acid, nitric acid, citric acid and the like may be contained. By containing these, the alkali component contained in the glass can be reacted with hydrogen fluoride to suppress local occurrence of the precipitation reaction, and the etching can be uniformly progressed in the plane.
  • the glass plate of this embodiment is not limited to this.
  • FIG. 3 is the perspective view which represented typically the glass plate of another one aspect
  • the upper surface is the first main surface
  • the lower surface opposite to the first main surface is the second main surface.
  • the glass plate 10B has an AG portion 20 and a non-AG portion 30 on the first main surface.
  • FIG. 3 shows a large number of fine protrusions 13 formed on the first main surface of the glass plate 10B, and the haze ratio of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is the same as the range described for the glass plate 10A. is there.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 taken along the line BB ′ in FIG.
  • the first main surface has a concavo-convex shape by forming many fine convex portions 13 on the first main surface of the glass plate 10B by surface treatment.
  • fine-particles which have a silica as a main component in a 1st main surface is mentioned.
  • to have silica as a main component means to contain 50% by mass or more of SiO 2 , and more preferably to contain 90% by mass or more.
  • the fine particles containing silica as a main component may contain a small amount of components other than silica.
  • the component Li, B, C, N, F, Na, Mg, Al, P, S, K, Ca, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Sr Y, Zr, Nb, Ru, Pd, Ag, In, Sn, Hf, Ta, W, Pt, Au, Bi, and one or more ions and / or oxides selected from the group consisting of lanthanoid elements, etc. Compounds are mentioned.
  • the fine particles containing silica as a main component may be solid particles or hollow particles.
  • the visible light transmitting ink 40 is applied to the concave portion 12 forming the boundary between the convex portions 13 provided on the first main surface of the glass plate 10B. Only the upper part of is slightly exposed from the first main surface.
  • the ink 40 is shown in black in FIG. 4 in order to facilitate identification with other components, it is a visible light transmissive ink.
  • FIG. 5 is the perspective view which represented typically the glass plate of another one aspect
  • the upper surface is the first main surface
  • the lower surface opposite to the first main surface is the second main surface.
  • the glass plate 10C has an AG portion 20 and a non-AG portion 30 on the first main surface.
  • the haze ratio of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is the same as the range described for the glass plate 10A.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 taken along the line CC 'in FIG.
  • the AG portion 20 of the glass plate 10C shown in FIG. 6 has a concavo-convex shape formed on the first main surface of the glass plate 10C by the same method as the surface treatment applied to the glass plate 10A.
  • the non-AG portion 30 of the present embodiment the visible light transmitting ink 40 covers the surface of the glass plate 10C over the entire region, and the convex portion 13 of the surface of the glass plate 10C which forms the boundary between the concave portions 12 Is not exposed.
  • the non-AG portion 30 has some unevenness according to the unevenness of the surface of the glass plate 10C.
  • the entire region is covered with the visible light transmitting ink 40 for the following reason.
  • the film thickness of the visible light transmitting ink can be increased, and the control of the surface shape is easy.
  • the mean length (RSm) of the elements of the roughness curve and the arithmetic mean surface roughness (Ra) can be controlled to the desired range.
  • the surface reflectance can be made uniform, and when the camera is incorporated in the non-AG portion, the camera field of view The brightness uniformity of can be improved.
  • FIG. 7 is a perspective view schematically showing a glass plate according to another aspect of the present embodiment.
  • the upper surface is the first main surface
  • the lower surface opposite to the first main surface is the second main surface.
  • Glass plate 10D has AG part 20 and non-AG part 30 in the 1st principal surface.
  • the haze ratio of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is the same as the range described for the glass plate 10A.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 taken along the line DD ′ in FIG.
  • the AG portion 20 of the glass plate 10D shown in FIG. 8 can form an uneven shape on the surface of the first main surface of the glass plate 10D by the same method as the surface treatment applied to the glass plate 10B.
  • the non-AG portion 30 of the present embodiment the visible light transmissive ink 40 covers the surface of the glass plate 10D over the entire region, and the convex portion 13 is not exposed.
  • the non-AG portion 30 has some unevenness according to the unevenness of the surface of the glass plate 10D.
  • the entire region is covered with the visible light transmitting ink 40 for the following reason.
  • the film thickness of the visible light transmitting ink can be increased, and the control of the surface shape is easy.
  • the mean length (RSm) of the elements of the roughness curve and the arithmetic mean surface roughness (Ra) can be controlled to the desired range.
  • the surface reflectance can be made uniform, and when the camera is incorporated in the non-AG portion, the camera field of view The brightness uniformity of can be improved.
  • the ink applied to the first main surface of the glass plates 10A, 10B, 10C, 10D for the purpose of forming the non-AG portion 30 is a visible light transmitting ink It is not particularly limited, and may be inorganic or organic.
  • the inorganic ink for example, one or more selected from the group consisting of SiO 2 , ZnO, B 2 O 3 , Bi 2 O 3 , Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O, CuO, Al 2
  • the composition may include one or more selected from the group consisting of O 3 , ZrO 2 , SnO 2 , and CeO 2 , Fe 2 O 3 , and TiO 2 .
  • the organic ink various inks in which a resin is dissolved in a solvent can be used.
  • the resin acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, polyamide resin, vinyl acetate resin, phenol resin, olefin resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyvinyl acetal resin, natural rubber, styrene-butadiene copolymer Resins such as polymers, acrylonitrile-butadiene copolymers, polyester polyols, polyether polyurethane polyethers, etc. may be selected and used.
  • the above-mentioned resin is preferably transparent.
  • water, alcohols, esters, ketones, aromatic hydrocarbon solvents, and aliphatic hydrocarbon solvents may be used.
  • isopropyl alcohol, methanol, ethanol or the like can be used as the alcohol
  • ethyl acetate can be used as the ester
  • methyl ethyl ketone can be used as the ketone.
  • toluene, xylene, Solvesso 100, Solvesso 150, etc. can be used as the aromatic hydrocarbon solvent
  • hexane etc. can be used as the aliphatic hydrocarbon solvent.
  • these inks may contain a colorant such as a pigment or a dye as long as the visible light transmittance is not impaired, but it is preferable not to include these colorants.
  • the means for applying the visible light transmitting ink to the first main surface of the glass plates 10A, 10B, 10C, 10D is not particularly limited, but it is preferable to print the visible light transmitting ink on the first main surface .
  • a printing method for example, spray printing or screen printing can be used.
  • the difference in height between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 in the thickness direction of the glass plates 10A, 10B, 10C, 10D The absolute value h is preferably 20 ⁇ m or less.
  • the absolute value h of the difference in height between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 in the thickness direction of the glass plates 10A, 10B, 10C, and 10D is the height of the AG portion 20
  • the difference in height between the highest portion and the lowest portion in the non-AG portion 30 is referred to.
  • the lowest height portion in the non-AG portion 30 is higher than the highest portion, it has a negative value, and the lowest height in the non-AG portion 30 If the site is lower than the highest site, it is calculated with a positive value, and this absolute value is taken as the absolute value h of the difference in height.
  • the absolute value h of the difference in height is more than 20 ⁇ m, the feel of touch when touched with a finger becomes worse and the feeling of touch deteriorates. Also, the appearance is degraded because the boundaries are noticeable.
  • the absolute value h of the difference in height is 20 ⁇ m or less, although the AG portion 20 and the non-AG portion 30 are provided on the first main surface, the feel and the appearance are felt. Can be good. 10 micrometers or less are preferable, as for absolute value h of the difference of height, 8 micrometers or less are more preferable, and 5 micrometers or less are more preferable.
  • the absolute value h of the height difference is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and still more preferably 1 ⁇ m or more, in order to stabilize the process of forming the non-AG portion.
  • the absolute value h of the height difference is more than 0 ⁇ m.
  • the average length (RSm) of the elements of the roughness curve at these portions and the arithmetic average surface roughness (Ra) are used.
  • RSm in each of the AG unit 20 and the non-AG unit 30 is 1 ⁇ m or more. That is, RSm measured about AG part 20 is 1 micrometer or more, and RSm measured about non AG part 30 is 1 micrometer or more.
  • the reason why RSm in each of the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is preferably 1 ⁇ m or more is as described below.
  • RSm When RSm is less than 1 ⁇ m, when the surface of the glass plate is touched with a finger, the finger and the surface of the glass plate are in surface contact, the resistance is increased, and as a result, there is a possibility that the finger touching property is impaired. On the other hand, if RSm is 1 micrometer or more, a finger and the glass plate surface will be point contact, and it will become difficult for a finger to feel resistance of a glass plate. As for RSm of AG section 20, 3 micrometers or more are more preferred, and 5 micrometers or more are still more preferred. Moreover, 40 micrometers or less are preferable, as for RSm of AG part 20, 30 micrometers or less are more preferable, and 25 micrometers or less are more preferable.
  • the RSm of the non-AG portion 30 is more preferably 5 ⁇ m or more, further preferably 10 ⁇ m or more. Moreover, 150 micrometers or less are preferable, as for RSm of the non-AG part 30, 100 micrometers or less are more preferable, 70 micrometers or less are more preferable, and 60 micrometers or less are especially preferable.
  • the difference between RSm in the AG unit 20 and RSm in the non-AG unit 30 is 100 ⁇ m or less.
  • the reason why the difference between the two RSm is preferably in the above range is as described below.
  • the difference in RSm is more than 100 ⁇ m, the light scattering properties of the AG portion and the non-AG portion are significantly different, and these cause a noticeable difference in appearance. As a result, the design of the glass plate may be impaired.
  • the difference between RSm to 100 ⁇ m or less, it is possible to reduce the difference in light scattering between the AG portion and the non-AG portion.
  • the difference in touch feeling between the AG part and the non-AG part can be reduced. 50 micrometers or less are preferable and, as for the difference of RSm of both, 30 micrometers or less are more preferable.
  • the lower limit of the difference in RSm is preferably 1 ⁇ m or more.
  • the non-AG unit 30 protects an area provided on the front of a camera, an area provided with a fingerprint sensor, and other sensors. When used as a member, it is provided in an area through which visible light and radio waves for sensing are transmitted. Therefore, in the present embodiment, the non-AG unit 30 preferably has Ra of less than 100 nm because it does not interfere with the camera function, fingerprint sensor function, etc., and more preferably less than 40 nm, and less than 20 nm. It is more preferable that the ratio be less than 15 nm.
  • Ra is preferably 20 nm or more, more preferably 40 nm or more, and still more preferably 100 nm or more. If Ra is 20 nm or more, the antiglare performance of the AG portion can be sufficiently exhibited.
  • the boundary between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is preferably a smooth line in terms of appearance. Therefore, the degree of contour of the non-AG portion 30 forming the boundary between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is preferably 0.5 mm or less per 10 mm, and more preferably 0.3 mm or less.
  • the degree of contour in the present specification conforms to the degree of contour of a line in JIS B-0621 (2001).
  • the non-AG unit 30 is, for example, an area provided on the front of the camera, an area provided with a fingerprint sensor, and an area through which visible light and radio waves for sensing are transmitted.
  • the parallelism between the non-AG portion 30 and the second main surface is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and particularly preferably 2 ⁇ m or less, per 20 mm.
  • the parallelism between the non-AG portion 30 and the second main surface is preferably 0.1 ⁇ m or more per 20 mm to stabilize the non-AG portion formation process, and is preferably 0.5 ⁇ m or more More preferable.
  • the flatness between the non-AG portion 30 and the second main surface is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and particularly preferably 2 ⁇ m or less per 20 mm.
  • the flatness between the non-AG portion 30 and the second main surface is preferably 0.1 ⁇ m or more per 20 mm to stabilize the non-AG portion formation process, and is preferably 0.5 ⁇ m or more More preferable.
  • the parallelism and the flatness in the present specification conform to the parallelism and the flatness of JIS B-0621 (2001).
  • the non-AG portion 30 in the present embodiment is formed by applying the visible light transmitting ink 40, the non-AG portion 30 has good visible light transmission.
  • the visible light transmittance of the non-AG portion 30 is preferably 88% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 92% or more.
  • various functional films may be formed on the first main surface of the glass plates 10A, 10B, 10C, and 10D.
  • An antifouling film is mentioned as an example of a functional film formed for this purpose.
  • the antifouling film can be formed, for example, as a film of a fluorine-containing organic silicon compound on the first main surface of a glass plate.
  • the fluorine-containing organic silicon compound used to form the film is not particularly limited as long as it imparts antifouling property, water repellency and oil repellency, and can be used.
  • fluorine-containing organosilicon compound having one or more groups selected from the group consisting of commercially available polyfluoropolyether groups, polyfluoroalkylene groups and polyfluoroalkyl groups, KP-801 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Product names), KY-178 (product name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-130 (product name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-185 (product name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) OPTUL (registered trademark) DSX and OPTOOL AES (manufactured by Daikin Industries, Ltd., all trade names), S-550 (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), etc. can be preferably used.
  • the film thickness of the fluorine-containing organic silicon compound film is not particularly limited, but is preferably 1 to 20 nm, and more preferably 2 to 10 nm.
  • the glass plates 10A, 10B, 10C, and 10D of the present embodiment have preferable characteristics for forming a fluorine-containing organic silicon compound film.
  • the absolute value h of the difference in height in the thickness direction between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is large, aggregation of the fluorine-containing organosilicon compound may occur at the boundary between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 Increase.
  • the fluorine-containing organic silicon compound is aggregated, the hydrophobic groups of the fluorine-containing organic silicon compound are bonded to each other at the boundary, and the function as the antifouling agent may be impaired.
  • the glass plates 10A, 10B, 10C, 10D since the absolute value h of the height difference between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 in the thickness direction of the glass plates 10A, 10B, 10C, 10D is 20 ⁇ m or less, the glass plates 10A, 10B When a fluorine-containing organic silicon compound film is formed on the first main surfaces of 10C, 10D, the possibility of the occurrence of aggregation of the fluorine-containing organic silicon compound being low at the boundary between the AG portion 20 and the non-AG portion 30 is low. , The above problems are less likely to occur.
  • a low reflective film is mentioned as another example of the functional film formed for the said objective.
  • the material of the low reflection film is not particularly limited, and various materials can be used as long as the material can suppress reflection.
  • a high refractive index layer and a low refractive index layer can be stacked.
  • the high refractive index layer and the low refractive index layer may each include one layer, but may each include two or more layers. When two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are included, it is preferable that the high refractive index layers and the low refractive index layers be alternately laminated.
  • the low reflection film is preferably a laminate in which a plurality of films (layers) are laminated.
  • the laminate preferably has a film of 2 or more and 6 or less in total, and more preferably a film of 2 or more and 4 or less.
  • the laminate here is preferably a laminate in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated as described above, and the total number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer is the above. It is preferable that it is a range.
  • the materials of the high refractive index layer and the low refractive index layer are not particularly limited, and can be selected in consideration of the required degree of antireflection, productivity and the like.
  • Examples of the material constituting the high refractive index layer include niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), tantalum oxide (Ta 2 O) One or more selected from 5 ) can be preferably used.
  • the material constituting low refractive index layer a silicon oxide (SiO 2) can be preferably used.
  • niobium oxide can be preferably used as the high refractive index layer from the viewpoint of productivity and the refractive index.
  • the low reflection film is more preferably a laminate of a niobium oxide layer and a silicon oxide layer.
  • the film thickness is preferably 40 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 100 nm or more and 300 nm or less.
  • Both the fluorine-containing organosilicon compound coating and the low reflection film may be formed on the first main surface of the glass plates 10A, 10B, 10C, and 10D.
  • the low reflective film and the fluorine-containing organic silicon compound film are laminated in this order from the first main surface side.
  • Example The present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples. Examples 1 to 6 are Examples, and Examples 7 to 11 are Comparative Examples.
  • Example 1 The glass plate of the present embodiment was manufactured by the following procedure.
  • an aluminosilicate glass not reinforced as a glass plate (trade name: Dragontrail (trade name) made by Asahi Glass Co., Ltd. size: 300 mm ⁇ 300 mm, thickness 1.3 mm was used.
  • the acid resistant protective film was bonded to the main surface of the glass plate on which the AG portion was not formed.
  • antiglare treatment was performed according to the following procedure to form an AG portion on the glass plate.
  • the glass plate is immersed in a 3% by mass hydrofluoric acid solution for 3 minutes to remove dirt attached to the main surface of the glass plate on the side where the protective film is not bonded, and as a pre-processing, the thickness of the glass plate was removed by 10 .mu.m.
  • the glass plate is immersed in a mixed solution of 8 mass% hydrofluoric acid and 8 mass% potassium fluoride for 3 minutes, and frost treatment is performed on the main surface of the glass plate on which the protective film is not bonded. It carried out and formed many fine recessed parts in the main surface of a glass plate.
  • the haze ratio was adjusted to 15% by immersing the glass plate after the frost treatment in a 10% by mass hydrofluoric acid solution for 3 minutes (etching time 4 minutes).
  • the protective film was peeled off, and the glass plate was immersed in a molten salt of potassium nitrate heated to 450 ° C. for 1 hour, and then the glass plate was pulled from the molten salt and gradually cooled to room temperature for 1 hour. Thereby, the chemical strengthening process of the glass plate was performed.
  • a visible light transmitting ink manufactured by Seiko Advance Co., Ltd., trade name: HF-GV3 RX01-800 medium
  • a screen using a screen printing machine One layer was applied so as to form a circle of ⁇ 10 mm by printing method.
  • the visible light transmitting ink it was kept at 150 ° C. for 30 minutes for curing to form a non-AG portion on the main surface of the glass plate.
  • the portion coated with the visible light transmitting ink is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion in the main surface on the antiglare side.
  • Example 2 A glass plate was obtained in the same manner as Example 1 except that the antiglare treatment was performed as follows. The glass plate is immersed in a 3% by mass hydrofluoric acid solution for 3 minutes to remove dirt attached to the main surface of the glass plate on the side where the protective film is not bonded, and as a pre-processing, the thickness of the glass plate was removed by 10 .mu.m. Furthermore, the glass plate is immersed in a mixed solution of 8 mass% hydrofluoric acid and 8 mass% potassium fluoride for 3 minutes, and frost treatment is performed on the main surface of the glass plate on which the protective film is not bonded. It carried out and formed many fine recessed parts in the main surface of a glass plate.
  • the haze rate was adjusted to 25% by immersing the glass plate after the frost treatment in a 10% by mass hydrofluoric acid solution for 2 minutes (etching time 3 minutes).
  • a non-AG portion was formed on the main surface of the glass plate in the same manner as in Example 1 except that only two layers of visible light transmitting ink were applied by screen printing.
  • the portion coated with the visible light transmitting ink is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion on the main surface on the antiglare side.
  • Example 3 The glass plate (The Asahi Glass Co., Ltd. make, brand name: Dragontrail (trademark) size: 300 mm x 300 mm, thickness 1.3 mm) chemically strengthened by the method similar to Example 1 was used. Spray antiglare treatment was performed on this glass plate according to the following procedure. The surface of the glass plate was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate, rinsed with ion exchanged water and dried.
  • the glass plate is heated in an oven so that the surface temperature is 80 ° C., and the hollow silica fine particle dispersion is sprayed by a spray method: spray pressure: 0.4 MPa, coating liquid volume: 7 mL / min, nozzle moving speed: It applied by 750 mm / min, spray pitch: 22 mm, distance of nozzle tip and glass plate: 115 mm, droplet diameter: 6.59 micrometers, and many fine convex parts were formed in the main surface of a glass plate.
  • the amount of application was such that the height of the projections became 10 ⁇ m.
  • Example 3 an ink transparent to visible light was applied to the main surface of the glass plate subjected to the spray antiglare treatment in the same manner as in Example 2 and cured to form a non-AG portion on the main surface of the glass plate .
  • the portion coated with the visible light transmitting ink is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion in the main surface on the side subjected to the spray antiglare treatment.
  • Example 4 A glass plate was obtained in the same manner as in Example 3 except that the spray antiglare treatment conditions were changed as follows. The surface of the glass plate was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate, rinsed with ion exchanged water and dried.
  • the glass plate is heated in an oven so that the surface temperature is 80 ° C., and the hollow silica fine particle dispersion is sprayed by a spray method: spray pressure: 0.4 MPa, coating liquid volume: 7 mL / min, nozzle moving speed: Coating was performed at 500 mm / min, spray pitch: 22 mm, distance between nozzle tip and glass plate: 115 mm, droplet diameter: 6 ⁇ m, and many fine convex portions were formed on the main surface of the glass plate. The amount of application was such that the height of the projections became 10 ⁇ m.
  • a visible light transmitting ink was applied and cured in the same manner as in Example 3 to form a non-AG portion on the main surface of the glass plate.
  • the portion coated with the visible light transmitting ink is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion in the main surface on the side subjected to the spray antiglare treatment.
  • Example 5 a glass plate not reinforced (made by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: Dragontrail (registered trademark) size: 300 mm ⁇ 300 mm, thickness 1.3 mm) was used.
  • the anti-glare process was performed to one main surface of this glass plate as follows. First, wet blasting was performed on the main surface on which the AG portion is to be formed, using a wet blasting device (Mako Co., Ltd., device name: W8MN-Q062 Jr. Type II). White alumina particles (# 2000) were used for the abrasive grains, and the pressure was 0.25 MPa.
  • the acid resistant protective film was immersed in a 10 mass% hydrofluoric acid solution, and it etched aiming 43 micrometers in depth. Thereafter, the protective film was peeled off, and the glass plate was immersed in a molten salt of potassium nitrate heated to 450 ° C. for 1 hour, and then the glass plate was pulled from the molten salt and gradually cooled to room temperature for 1 hour. Thereby, the chemical strengthening process of the glass plate was performed.
  • a visible light transmitting silicone-based ink was applied in a single layer so as to have a circular shape of ⁇ 10 mm by a screen printing method using a screen printer. After applying the visible light transmitting ink, it was kept at 200 ° C. for 60 minutes for curing to form a non-AG portion on the main surface of the glass plate.
  • the portion coated with the visible light transmitting ink is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion in the main surface on the antiglare side.
  • Example 6 A glass plate was obtained in the same manner as in Example 5 except that the antiglare treatment was performed as follows. First, wet blasting was performed on the main surface on which the AG portion is to be formed, using a wet blasting device (Mako Co., Ltd., device name: W8MN-Q062 Jr. Type II). White alumina particles (# 1500) were used for the abrasive grains, and the pressure was 0.25 MPa. Next, after bonding the acid resistant protective film to the main surface of the side which does not form AG part of a glass plate, it was immersed in a 10 mass% hydrofluoric acid solution, and it etched aiming for 38 micrometers in depth.
  • Example 6 chemical strengthening treatment of the glass plate is carried out in the same manner as in Example 5, and then a visible light transmitting ink is applied and cured in the same manner as in Example 5 to make the non-AG portion on the main surface of the glass plate Formed.
  • the portion coated with the visible light transmitting ink is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion in the main surface on the antiglare side.
  • Example 7 Anti-glare treatment and chemical strengthening treatment in the same manner as in Example 1 with the protective film of acid resistant protective film cut out at ⁇ 20 mm almost on the central part of the main surface on the side of forming the AG part of the glass plate Carried out.
  • the glass plate is immersed in a 3% by mass hydrofluoric acid solution for 3 minutes to remove dirt attached to the main surface of the glass plate on the side where the protective film is not bonded, and as a pre-processing, glass The thickness of the plate was removed by 10 ⁇ m. Furthermore, the glass plate is immersed in a mixed solution of 8 mass% hydrofluoric acid and 8 mass% potassium fluoride for 3 minutes, and frost treatment is performed on the main surface of the glass plate on which the protective film is not bonded. went. The haze ratio was adjusted to 15% by immersing the glass plate after the frost treatment in a 10% hydrofluoric acid solution for 3 minutes (etching time 4 minutes).
  • the glass plate of Example 7 has a non-AG portion at the central portion on which the protective film with a diameter of 20 mm is stuck, and an AG portion at the main surface on the antiglare side.
  • Example 8 The antiglare treatment is carried out in the same manner as in Example 1. Then, the approximate center of the antiglare treatment is polished using a conical grinding wheel having a diameter of 5 mm and a cerium oxide abrasive having a Knoop hardness of 3000. Then, the antiglare-treated surface was removed at a depth of 15 ⁇ m in the range of ⁇ 20 mm. Thereafter, chemical strengthening was performed in the same manner as in Example 1. Of the main surface on the antiglare-treated side of the glass plate of Example 8, the polished portion is the non-AG portion, and the portion other than the non-AG portion is the AG portion.
  • Example 9 After performing antiglare treatment in the same procedure as in Example 1, except for the range of ⁇ 20 mm at about the center of the antiglare treated surface, a protective film is attached and polishing is performed with a tape using # 10000 ceramic abrasive grains. The antiglare-treated surface was removed at a depth of 12 ⁇ m. Thereafter, chemical strengthening was performed in the same manner as in Example 1.
  • the central portion of 20 mm in diameter with no protective film attached is the AG portion, and the portions other than the AG portion are non-AG portions.
  • Example 10 Spray anti-glare treatment and chemical strengthening treatment in the same manner as in Example 3 with the protective film of acid resistant protective film cut out at ⁇ 20 mm almost past the center of the main surface on the side forming AG part of the glass plate Carried out.
  • the central portion on which the protective film with a diameter of 20 mm is attached is the non-AG portion, and the portions other than the non-AG portion are the AG portions.
  • Example 11 After performing antiglare treatment and chemical strengthening in the same manner as in Example 1, a transparent film processed into a circle with a diameter of 10 mm is attached to the main surface of the glass plate subjected to antiglare treatment to form a non-antiglare (AG) portion Formed.
  • AG antiglare
  • the portion to which the transparent film is attached is the non-AG portion and the portion other than the non-AG portion is the AG portion.
  • a fluorine-containing organosilicon compound film was formed on the first main surface on which the AG portion and the non-AG portion were formed, according to the following procedure.
  • a fluorine-containing organosilicon compound coating material manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KY-185
  • KY-185 a fluorine-containing organosilicon compound coating material
  • the heating container containing the composition for forming a fluorine-containing organosilicon compound film was heated to 270 ° C. After reaching 270 ° C., it was kept for 10 minutes until the temperature stabilized. Then, from the nozzle connected to the heating container containing the composition for forming a fluorine-containing organosilicon compound film on the first main surface of a glass plate installed in a vacuum chamber, a fluorine-containing organosilicon compound film A composition for formation was supplied to form a film.
  • film thickness measurement is performed while measuring the film thickness with a quartz oscillator monitor installed in a vacuum chamber, and film formation is performed until the film thickness of the fluorine-containing organic silicon compound film formed on the glass plate becomes 10 nm.
  • the supply of the raw material from the nozzle was stopped, and then it was removed from the vacuum chamber.
  • the removed glass plate was placed on a hot plate with the film surface facing upward, and heat treatment was performed in the air at 150 ° C. for 60 minutes.
  • fingerprint wiping properties were confirmed by the following procedure on the fluorine-containing organosilicon compound film formed in the above-described procedure. Fingerprints were applied using artificial sweat with equal pressure on the step of each sample. Thereafter, using a gauze with ethanol, a wiping test was performed to confirm the number of wipings until the fingerprints disappeared. When the fingerprint was wiped off within 10 times, it was evaluated as ⁇ , those removed by 11 to 50 times of wiping were evaluated as ⁇ , and when 50 times of wiping could not be removed, it was evaluated as x.

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Abstract

本発明は、第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有し、前記第１の主面にアンチグレア部と非アンチグレア部とを有し、前記アンチグレア部および前記非アンチグレア部の粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）が、それぞれ１μｍ以上であり、前記アンチグレア部のＲＳｍと、前記非アンチグレア部のＲＳｍとの差が１００μｍ以下であるガラス板に関する。

Description

ガラス板
　本発明は、ガラス板に関する。
　近年、例えば、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等の表示装置の表示面側には、該表示装置の保護のため、ガラスで構成されたカバーが配置される。しかしながら、表示装置上にこのようなガラス板を設置した場合、ガラス板を介して表示装置の表示画を視認しようとした際に、しばしば、周辺に置かれているものの映り込みが発生する場合がある。ガラス板にそのような映り込みが生じると、表示画の視認者は、表示画を視認することが難しくなる上、不快な印象を受けるようになる。
　そこで、このような映り込みを抑制するため、例えば、ガラス板の表面に、凹凸形状を形成するアンチグレア処理を施すことが試みられている。
　アンチグレア処理には、例えば、ガラス板表面をエッチングする（例えば、特許文献１参照。）、ガラス板表面に凹凸形状を有する膜を形成する（例えば、特許文献２参照。）等の手段が記載されている。
　ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）装置等が普及する中、新たな機能が要求されてきている。たとえば、自動車や電車などの運転手の居眠り対策として運転者の状態をカメラで監視するシステムなどがインストルメントパネル、特に運転者の前に設置されるメーター等を収納するクラスター等に搭載されることがあり、その場合、カバーとなるガラス板のうち、カメラ視野に当たる部分にはアンチグレア処理が不要となってきた。
　このようなアンチグレア処理が施された部位と施されていない部位とを備えたガラス板では、ガラス板上に異なる部位が存在することで、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる場合がある。
国際公開第２０１４／１１９４５３号 米国特許第８００３１９４号明細書
　アンチグレア部と、非アンチグレア部とを有し、手触り感、および外観に優れたガラス板の提供を目的とする。
　本発明の一形態に係るガラス板は、第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有し、前記第１の主面にアンチグレア部と非アンチグレア部とを有し、前記アンチグレア部および前記非アンチグレア部の粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）が、それぞれ１μｍ以上であり、前記アンチグレア部のＲＳｍと、前記非アンチグレア部のＲＳｍとの差が１００μｍ以下であることを特徴とする。
　本発明の実施の形態によれば、手触り感、および外観に優れた、アンチグレア部と、非アンチグレア部とを有するガラス板を提供できる。
図１は、本発明の実施形態のガラス板の一態様を模式的に表した斜視図である。 図２は、図１におけるＡ－Ａ´線に沿ってアンチグレア部と非アンチグレア部を含む領域を切断した断面図である。 図３は、本発明の実施形態のガラス板の別の一態様を模式的に表した斜視図である。 図４は、図３におけるＢ－Ｂ´線に沿ってアンチグレア部と非アンチグレア部を含む領域を切断した断面図である。 図５は、本発明の別の実施形態のガラス板の一態様を模式的に表した斜視図である。 図６は、図５におけるＣ－Ｃ´線に沿ってアンチグレア部と非アンチグレア部を含む領域を切断した断面図である。 図７は、本発明の別の実施形態のガラス板の一態様を模式的に表した斜視図である。 図８は、図７におけるＤ－Ｄ´線に沿ってアンチグレア部と非アンチグレア部を含む領域を切断した断面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
　本明細書において、特に断りが無い限り、ＡＧとの用語はアンチグレアを意味し、非ＡＧとの用語は非アンチグレアを意味する。
　本実施形態のガラス板について図１を用いて説明する。図１は本実施形態のガラス板を模式的に表した斜視図である。図１に示すガラス板１０Ａにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。本実施形態のガラス板１０Ａは、第１の主面に、アンチグレア（ＡＧ）部２０と、非アンチグレア（非ＡＧ）部３０とを有する。
　本願明細書では、アンチグレア性の指標の一つとして、可視光領域の透過光のヘイズ率を用いる。以下、本明細書において、ヘイズ率と記載した場合、可視光領域の透過光のヘイズ率を指す。
　本実施形態のガラス板１０Ａでは、ＡＧ部２０が非ＡＧ部３０よりもヘイズ率が高い。ＡＧ部２０のヘイズ率は２％以上４０％以下であることが好ましい。ヘイズ率が２％以上であれば、光の映りこみを、防眩加工が施されていない基板に比べて目視で確認して有意に抑制できるが、４０％より大きいと光を乱反射するようになり、表示装置のカバー部材やタッチパネルと一体化した基板として用いた場合に、表示装置の表示の視認性を低下させる可能性がある。
　ＡＧ部２０のヘイズ率は、２％以上３５％以下がより好ましく、３％以上３０％以下がさらに好ましい。
　一方、非ＡＧ部３０のヘイズ率は０．０１％以上２％未満であることが好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましい。ヘイズが２％未満であると防眩効果が認められず、ガラス板を通して見ても視界が良好となる。ヘイズ率０．０１％未満にするためには、徹底した製造工程のクリーン化が必要である。ヘイズ率０．０１％以上とすることにより、製造コストを低減できる。
　上記のＡＧ部２０は、ガラス板の第１の主面の表面に表面処理を施して、凹凸形状を形成することによって形成できる。
  図２は、図１におけるＡ－Ａ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。図２において、ＡＧ部２０では、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２が多数形成されて凹凸形状をなしている。一方、非ＡＧ部３０では、この凹部１２に可視光透過性のインク４０が塗布されて、凹部間の境界をなす凸部がわずかに表出している。　　　
　本実施形態のガラス板では、非ＡＧ部３０が平坦面ではなく、凹部１２間の境界をなす凸部が第１の主面から表出していることにより、ガラス板１０Ａの第１の主面に、防汚膜、低反射膜等の各種機能膜を形成することが容易になる。また、各種機能膜を形成した際に、光学特性にぶれが生じにくい。
　さらに各種機能膜を形成しない場合も、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とで手触り感に差が生じにくい。
　図２に示すＡＧ部２０は、例えば、物理的或いは化学的な表面処理により、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を多数形成することにより、第１の主面を凹凸形状としたものである。上記の目的で実施する表面処理としては、たとえば、ガラス板１０Ａの第１の主面にフロスト処理を施す方法が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液、あるいは、フッ化水素酸とフッ化カリウムの混合溶液等に、被処理体であるガラス板１０Ａの第１の主面を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することでできる。特に、フッ化水素酸等の薬液を用いて化学的に表面処理するフロスト処理を施す方法では、被処理面にマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じ難いため、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を多数形成する表面処理方法として好ましく利用できる。
　また、このような化学的処理による方法以外にも、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉、酸化アルミニウム粉等を加圧空気でガラス板１０Ａの第１の主面に吹きつけるいわゆるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉、酸化アルミニウム粉等を水に分散させ、加圧空気でガラス板１０Ａの第１の主面に吹きつけるいわゆるウェットブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉、酸化アルミニウム粉等を付着させたブラシを水で湿らせたもので磨く等の物理的な表面処理方法も、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を形成するための表面処理方法として利用できる。
　このようにして、ガラス板１０Ａの第１の主面に微細な凹部１２を多数形成した後に、表面形状を整えるために、ガラス板１０Ａの第１の主面を化学的にエッチングしてもよい。こうすることで、エッチング量によりヘイズ率を所望の値に調整でき、サンドブラスト処理等で生じたクラックを除去でき、またギラツキを抑えることができる。
　エッチングとしては、フッ化水素酸を主成分とする溶液に、被処理体であるガラス板を浸漬する方法が好ましく用いられる。フッ化水素酸以外の成分としては、塩酸、硝酸、クエン酸などを含有してもよい。これらを含有することで、ガラスに入っているアルカリ成分とフッ化水素とが反応して析出反応の局所的発生を抑えることができ、エッチングを面内均一に進行させることができる。
　図２では、ガラス板１０Ａの第１の主面に多数の凹部１２を形成して、第１の主面を凹凸形状にしているが、本実施形態のガラス板はこれに限定されない。
　図３は、本実施形態の別の一態様のガラス板を模式的に表した斜視図である。図３に示すガラス板１０Ｂにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。ガラス板１０Ｂは、第１の主面に、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とを有する。図３はガラス板１０Ｂの第１の主面に微細な凸部１３を多数形成したものであって、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０のヘイズ率は、ガラス板１０Ａについて記載した範囲と同様である。　
　図４は、図３におけるＢ－Ｂ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。
　図４に示すＡＧ部２０は、表面処理により、ガラス板１０Ｂの第１の主面に微細な凸部１３を多数形成することにより、第１の主面を凹凸形状としたものである。上記の目的で実施する表面処理としては、第１の主面にシリカを主成分とする微粒子を含有する塗布液を塗布する方法が挙げられる。本明細書中において、シリカを主成分とするとは、ＳｉＯ2を５０質量％以上含むことを意味し、より好ましくは９０質量％以上含む。
　シリカを主成分とする微粒子は、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。その成分としては、Ｌｉ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｆ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉおよびランタノイド元素からなる群より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよび／または酸化物等の化合物が挙げられる。
　また、シリカを主成分とする微粒子は、中実粒子であってもよく、中空粒子であってもよい。
　図４に示す非ＡＧ部３０では、ガラス板１０Ｂの第１の主面に設けられた凸部１３間の境界をなす凹部１２に可視光透過性のインク４０が塗布されており、凸部１３の上部のみがわずかに第１の主面から表出している。なお、図４では、インク４０が他の構成要素との識別を容易にするため黒色で示されているが、可視光透過性のインクである。
　図５は、本実施形態の別の一態様のガラス板を模式的に表した斜視図である。図５に示すガラス板１０Ｃにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。ガラス板１０Ｃは、第１の主面に、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とを有する。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０のヘイズ率は、ガラス板１０Ａについて記載した範囲と同様である。
  図６は、図５におけるＣ－Ｃ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。
　図６に示すガラス板１０ＣのＡＧ部２０は、ガラス板１０Ａに施した表面処理と同様の方法によって、ガラス板１０Ｃの第１の主面に凹凸形状を形成したものである。一方、本実施形態の非ＡＧ部３０は、領域全体にわたって、可視光透過性のインク４０がガラス板１０Ｃの表面を覆っており、凹部１２間の境界をなすガラス板１０Ｃの表面の凸部１３が表出していない。また、非ＡＧ部３０は、図示しないが、ガラス板１０Ｃの表面の凹凸に倣って多少の凹凸を有する。
　本実施形態のガラス板では、非ＡＧ部３０において、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることが以下の理由から好ましい。ガラス板１０Ｃ表面の凹部１２のみに可視光透過性のインクを塗布する場合と比べて、可視光透過性のインクの膜厚を厚くすることができ、表面形状の制御が容易である。とくに、粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）と、算術平均表面粗さ（Ｒａ）を所望の範囲に制御することができる。また、非ＡＧ部３０の領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることにより、表面反射率を均一にすることができ、非ＡＧ部にカメラを内蔵する場合には、カメラ視野の明るさの均一性を向上できる。
　図７は、本実施形態の別の一態様のガラス板を模式的に表した斜視図である。図７に示すガラス板１０Ｄにおいて、上面が第１の主面、第１の主面に対向する下面が第２の主面である。ガラス板１０Ｄは、第１の主面に、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とを有する。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０のヘイズ率は、ガラス板１０Ａについて記載した範囲と同様である。
　図８は、図７におけるＤ－Ｄ´線に沿ってＡＧ部２０と非ＡＧ部３０を切断した断面図である。
  図８に示すガラス板１０ＤのＡＧ部２０は、ガラス板１０Ｂに施した表面処理と同様の方法によって、ガラス板１０Ｄの第１の主面の表面に凹凸形状を形成できる。一方、本実施形態の非ＡＧ部３０は、領域全体にわたって、可視光透過性のインク４０がガラス板１０Ｄの表面を覆っており、凸部１３が表出していない。また、非ＡＧ部３０は、図示しないが、ガラス板１０Ｄの表面の凹凸に倣って多少の凹凸を有する。
　本実施形態のガラス板では、非ＡＧ部３０において、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることが以下の理由から好ましい。凸部１３間の境界をなす凹部１２のみに可視光透過性のインクを塗布する場合と比べて、可視光透過性のインクの膜厚を厚くすることができ、表面形状の制御が容易である。とくに、粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）と、算術平均表面粗さ（Ｒａ）を所望の範囲に制御することができる。また、非ＡＧ部３０の領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われていることにより、表面反射率を均一にすることができ、非ＡＧ部にカメラを内蔵する場合には、カメラ視野の明るさの均一性を向上できる。
　ガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄにおいて、非ＡＧ部３０を形成する目的でガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの第１の主面に塗布されるインクは可視光透過性のインクである限り特に限定されず、無機系でも有機系であってもよい。
　無機系のインクとしては例えば、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、及びＫ2Ｏからなる群より選択される１種以上、ＣｕＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、及びＣｅＯ2からなる群より選択される１種以上、Ｆｅ2Ｏ3、及びＴｉＯ2を含む組成物であってもよい。
　有機系のインクとしては樹脂を溶剤に溶解した種々のインクを使用できる。例えば、樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、オレフィン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、天然ゴム、スチレン－ブタジエン共重合体、アクリルニトリル－ブタジエン共重合体、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリエール等の樹脂を選択して用いるようにしてよい。前記した樹脂は透明であることが好ましい。
　これらインクの溶媒としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。また、芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ１００、ソルベッソ１５０等を用いることができ、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々のインクを使用できる。
　これらインクは、可視光透過性を損なわない限り、顔料や染料といった着色剤を含んでいてもよいが、これらの着色剤を含まないことが好ましい。
　ガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの第１の主面に可視光透過性のインクを塗布する手段は特に限定されないが、第１の主面に可視光透過性のインクを印刷することが好ましい。印刷方法としては、例えば、スプレー印刷やスクリーン印刷を使用できる。
　本実施形態において、ガラス板１０の板厚方向における高さに着目した場合、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であることが好ましい。なお、本明細書において、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈとは、ＡＧ部２０において高さが最も高い部位と、非ＡＧ部３０において高さが最も低い部位との高さの差を指す。ＡＧ部２０における高さが最も高い部位を基準として、非ＡＧ部３０において高さが最も低い部位が前記最も高い部位よりも高い場合は負の値で、非ＡＧ部３０において高さが最も低い部位が前記最も高い部位よりも低い場合は正の値で、算出され、この絶対値を前記高さの差の絶対値ｈとする。
　高さの差の絶対値ｈが２０μｍ超だと、指で触った時のさわり心地が悪くなり手触り感が悪化する。また境界が目立つため外観が悪くなる。これに対し、高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であることにより、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０とを第１の主面に有しているにもかかわらず、手触り感、および外観を良好にできる。
　高さの差の絶対値ｈは１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。
　高さの差の絶対値ｈは、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、１μｍ以上がさらに好ましい。
　なお、ガラス板１０Ａ、１０Ｂにおける非ＡＧ部３０では、凹部１２間の境界をなす凸部１３のみがわずかに第１の主面から表出する。ガラス板１０Ｃ、１０Ｄにおける非ＡＧ部３０では、領域全体が可視光透過性のインク４０で覆われている。いずれの場合においても、高さの差の絶対値ｈは０μｍ超である。
　本実施形態では、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０の表面性状を特定するのに、これらの部位における粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）と、算術平均表面粗さ（Ｒａ）を用いる。
　本実施形態において、ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０におけるＲＳｍがそれぞれ１μｍ以上である。すなわち、ＡＧ部２０について測定したＲＳｍが１μｍ以上であり、かつ非ＡＧ部３０について測定したＲＳｍが１μｍ以上である。ＡＧ部２０および非ＡＧ部３０におけるＲＳｍがそれぞれ１μｍ以上であることが好ましい理由は以下に記載する通りである。
　ＲＳｍが１μｍ未満である場合、ガラス板表面に指で触れた際、指とガラス板表面とが面接触となり、抵抗が大きくなり、その結果、指ざわり性が損なわれるおそれがある。一方、ＲＳｍが１μｍ以上であれば、指とガラス板表面とが点接触となり、指がガラス板の抵抗を感じにくくなる。
　ＡＧ部２０のＲＳｍは、３μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上がさらに好ましい。また、ＡＧ部２０のＲＳｍは、４０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下がさらに好ましい。
　非ＡＧ部３０のＲＳｍは５μｍ以上であることがより好ましく、１０μｍ以上であることがさらに好ましい。また、非ＡＧ部３０のＲＳｍは、１５０μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、７０μｍ以下がさらに好ましく、６０μｍ以下が特に好ましい。
　本実施形態において、ＡＧ部２０におけるＲＳｍと、非ＡＧ部３０におけるＲＳｍとの差が１００μｍ以下である。
　両者のＲＳｍの差が上記範囲であることが好ましい理由は以下に記載する通りである。
　ＲＳｍの差が１００μｍ超では、ＡＧ部と非ＡＧ部での光の散乱性が顕著に異なり、これらが見た目において顕著な差異が生じる。その結果、ガラス板のデザイン性を損なうおそれがある。ＲＳｍの差を１００μｍ以下とすることによって、ＡＧ部と非ＡＧ部での光の散乱性の差異を低減できる。また、ＡＧ部と非ＡＧ部での手触り感の差異を低減できる。
　両者のＲＳｍの差は、５０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましい。なお、ＲＳｍの差の下限は、１μｍ以上が好ましい。
　非ＡＧ部３０は、例えば、本実施形態のガラス板が携帯用電子機器のカバーガラスに使用する場合には、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、その他のセンサー用の保護部材として使用する場合には、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられるものである。そのため、本実施形態では、非ＡＧ部３０はＲａが１００ｎｍ未満であることが、カメラ機能、指紋センサー機能等に支障となることがないため好ましく、４０ｎｍ未満であることがより好ましく、２０ｎｍ未満であることがさらに好ましく、１５ｎｍ未満であることが特に好ましい。また、非ＡＧ部３０のＲａは、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、７ｎｍ以上がさらに好ましい。
　一方、ＡＧ部２０はＲａが２０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。Ｒａが２０ｎｍ以上であれば、ＡＧ部の防眩性能を十分に発揮できる。
　本実施形態において、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０との境界は、平滑な線であることが外観上好ましい。そのため、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０との境界をなす非ＡＧ部３０の輪郭度が１０ｍｍあたり、０．５ｍｍ以下であることが好ましく、０．３ｍｍ以下であることがより好ましい。
　なお、本明細書における輪郭度は、ＪＩＳＢ－０６２１（２００１）の線の輪郭度に準ずる。
　上述したように、非ＡＧ部３０は、例えば、本実施形態のガラス板の用途により、カメラの前面に設けられる領域や指紋センサーが設けられる領域、センシングのための可視光や電波が透過する領域に設けられる。そのため、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度や平面度が低いと、ガラス板１０の外観が悪化する、非ＡＧ部３０の光学特性が悪化する等の問題が生じる。
　本実施形態において、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
  非ＡＧ部３０と、第２の主面との平行度は、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、２０ｍｍあたり、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
　本実施形態において、非ＡＧ部３０と、第２の主面との平面度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
　非ＡＧ部３０と、第２の主面との平面度は、非ＡＧ部形成のプロセスを安定化させるため、２０ｍｍあたり、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
　なお、本明細書における平行度、および平面度は、ＪＩＳＢ－０６２１（２００１）の平行度、平面度に準ずる。
　上述したように、本実施形態における非ＡＧ部３０は、可視光透過性のインク４０を塗布して形成されるため、非ＡＧ部３０は可視光透過性が良好である。具体的には、非ＡＧ部３０は、可視光透過率が８８％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９２％以上であることが特に好ましい。
　本実施形態において、ガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの第１の主面に各種機能膜が形成されていてもよい。この目的で形成する機能膜の一例としては、防汚膜が挙げられる。防汚膜は、例えば、含フッ素有機ケイ素化合物をガラス板の第１の主面上に被膜形成できる。被膜の形成に用いる含フッ素有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。例えば、市販されているポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有する含フッ素有機ケイ素化合物として、ＫＰ－８０１（信越化学工業株式会社製の商品名）、ＫＹ－１７８（信越化学工業株式会社製の商品名）、ＫＹ－１３０（信越化学工業株式会社製の商品名）、ＫＹ－１８５（信越化学工業株式会社製の商品名）、オプツ－ル（登録商標）ＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（ダイキン工業株式会社製、いずれも商品名）、Ｓ－５５０（旭硝子株式会社製の商品名）などが好ましく使用できる。含フッ素有機ケイ素化合物被膜の膜厚は特に限定されないが、１～２０ｎｍであることが好ましく、２～１０ｎｍであることがより好ましい。
　本実施形態のガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄは含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成するうえで好ましい特性を有する。
　ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との板厚方向における高さの差の絶対値ｈが大きいと、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との境界において含フッ素有機ケイ素化合物の凝集が発生する可能性が高まる。含フッ素有機ケイ素化合物が凝集すると境界において含フッ素有機ケイ素化合物の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤としての機能が損なわれるおそれがある。加えて、含フッ素有機ケイ素化合物が凝集することによる外観の低下も懸念される。
　本実施形態では、ＡＧ部２０と、非ＡＧ部３０とのガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの板厚方向における高さの差の絶対値ｈが２０μｍ以下であるため、ガラス板１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの第１の主面に含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成した際に、ＡＧ部２０と非ＡＧ部３０との境界において、含フッ素有機ケイ素化合物の凝集が発生する可能性が低く、上記の問題が生じにくい。
　また、上記の目的で形成する機能膜の別の一例としては、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とすることができる。
　高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
　十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜（層）が積層された積層体であることが好ましい。例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の膜が積層されていることが好ましく、２層以上４層以下の膜が積層されていることがより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体であることが好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
　高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）から選択された１種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）を好ましく利用できる。高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体であることがより好ましい。膜厚としては４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。
　ガラス板１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄの第１の主面に、含フッ素有機ケイ素化合物被膜と、低反射膜の両方を形成してもよい。この場合、第１の主面側から、低反射膜、および含フッ素有機ケイ素化合物被膜の順に積層させる。
　（実施例）
　以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。例１～６が実施例であり、例７～１１は比較例である。
（１）試料作製
［例１］
　以下の手順により、本実施形態のガラス板を製造した。
　本例では、ガラス板として強化していないアルミノシリケートガラス（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍを用いた。
　まず、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した。
　次いで、以下の手順でアンチグレア処理を行い、ガラス板にＡＧ部を形成した。
　ガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。フロスト処理後のガラス板を、１０質量％のフッ化水素酸溶液に３分間浸漬（エッチング時間４分）することで、ヘイズ率を１５％に調整した。
　その後、保護フィルムを剥がし、ガラス板を、４５０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩に１時間浸漬し、その後、ガラス板を溶融塩より引き上げ、室温まで１時間で徐冷した。これにより、ガラス板の化学強化処理を行った。
　次に、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、可視光透過性のインク（株式会社セイコーアドバンス製、商品名：ＨＦ－ＧＶ３　ＲＸ０１－８００メジューム）を、スクリーン印刷機を用いてスクリーン印刷法でφ１０ｍｍの円形状となるように１層塗布した。可視光透過性のインクを塗布した後、１５０℃で３０分間保持して硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
　例１のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例２］
　アンチグレア処理を以下のように行ったこと以外は、例１と同様にしてガラス板を得た。
　ガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行い、ガラス板の主面に微細な凹部を多数形成した。フロスト処理後のガラス板を、１０質量％のフッ化水素酸溶液に２分間浸漬（エッチング時間３分）することで、ヘイズ率を２５％に調整した。
　次に、可視光透過性インクをスクリーン印刷で２層だけ塗布すること以外は、例１と同様にしてガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
　例２のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例３］
　例１と同様の方法で化学強化したガラス板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を用いた。このガラス板に対して、以下の手順でスプレーアンチグレア処理を実施した。
　ガラス板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレー法にて、スプレー圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：７５０ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６．５９μｍで塗布して、ガラス板の主面に微細な凸部を多数形成した。塗布量は、凸部の高さが１０μｍとなる量とした。
　次に、ガラス板のスプレーアンチグレア処理を行った側の主面に、例２と同様にして可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
　例３のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例４］
　スプレーアンチグレア処理の条件を以下に変更すること以外は例３と同様にしてガラス板を得た。
　ガラス板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス板を表面温度が８０℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレー法にて、スプレー圧力：０．４ＭＰａ、塗布液量：７ｍＬ／分、ノズル移動速度：５００ｍｍ／分、スプレーピッチ：２２ｍｍ、ノズル先端とガラス板との距離：１１５ｍｍ、液滴径：６μｍで塗布して、ガラス板の主面に微細な凸部を多数形成した。塗布量は、凸部の高さが１０μｍとなる量とした。
　例３と同様にして、可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
　例４のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例５］
　本例では、強化していないガラス板（旭硝子株式会社製、商品名：ドラゴントレイル（登録商標）サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を用いた。
　このガラス板の一方の主面に、次のようにしてアンチグレア処理を行った。まず、ＡＧ部を形成する側の主面に、ウェットブラスト装置（マコー株式会社製、装置名：Ｗ８ＭＮ－Ｑ０６２　Ｊｒ.ＴｙｐｅII）を用いて、ウェットブラスト処理を実施した。砥粒にはホワイトアルミナ粒子（＃２０００）を使用し、圧力は０．２５ＭＰａとした。次に、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した後、１０質量％フッ化水素酸溶液に浸漬し、深さ４３μｍを目標としてエッチングした。
　その後、保護フィルムを剥がし、ガラス板を、４５０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩に１時間浸漬し、その後、ガラス板を溶融塩より引き上げ、室温まで１時間で徐冷した。これにより、ガラス板の化学強化処理を行った。
　次に、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、可視光透過性のシリコーン系インクを、スクリーン印刷機を用いてスクリーン印刷法でφ１０ｍｍの円形状となるように１層塗布した。可視光透過性のインクを塗布した後、２００℃で６０分間保持して硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
　例５のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例６］
　アンチグレア処理を以下のように行ったこと以外は、例５と同様にしてガラス板を得た。まず、ＡＧ部を形成する側の主面に、ウェットブラスト装置（マコー株式会社製、装置名：Ｗ８ＭＮ－Ｑ０６２　Ｊｒ.ＴｙｐｅII）を用いて、ウェットブラスト処理を実施した。砥粒にはホワイトアルミナ粒子（＃１５００）を使用し、圧力は０．２５ＭＰａとした。次に、耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成しない側の主面に貼合した後、１０質量％フッ化水素酸溶液に浸漬し、深さ３８μｍを目標としてエッチングした。
　次に、例５と同様にしてガラス板の化学強化処理を行い、次に、例５と同様にして可視光透過性のインクを塗布し、硬化させて、ガラス板の主面に非ＡＧ部を形成した。
　例６のガラス板は、アンチグレア処理を行った側の主面のうち、可視光透過性のインクを塗布した部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例７］
　耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成する側の主面のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した保護フィルムを貼った状態で例１と同様の手順でアンチグレア処理、および化学強化処理を実施した。
　次いで、このガラス板を、３質量％のフッ化水素酸溶液に３分浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に付着した汚れを除去するとともに、前加工としてガラス板の厚みを１０μｍ除去した。さらに、ガラス板を８質量％フッ化水素酸と８質量％フッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬し、ガラス板の保護フィルムを貼合していない側の主面に対してフロスト処理を行った。フロスト処理後のガラス板を、１０％フッ化水素酸溶液に３分間浸漬（エッチング時間４分）することで、ヘイズ率を１５％に調整した。
　例７のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、φ２０ｍｍの保護フィルムを貼った中央部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例８］
　例１と同様の手順でアンチグレア処理を実施した後、アンチグレア処理を施した面のほぼ中央部を、φ５ｍｍの円錐形形状の研磨砥石、ヌープ硬度が３０００の酸化セリウムの研磨砥粒を用いて研磨を行い、φ２０ｍｍの範囲を１５μｍの深さでアンチグレア処理を施した面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化を行った。
　例８のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、研磨を行った部分が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外の部分がＡＧ部である。
［例９］
　例１と同様の手順でアンチグレア処理を実施した後、アンチグレア処理を施した面のほぼ中央部のφ２０ｍｍの範囲を除き、保護フィルムを貼り、＃１００００のセラミックス砥粒を用いてテープで研磨を行い１２μｍの深さでアンチグレア処理を施した面の除去を行った。その後、例１と同様に化学強化を行った。
　例９のガラス板は、アンチグレア処理を施した側の主面のうち、保護フィルムを貼らなかったφ２０ｍｍの中央部がＡＧ部で、ＡＧ部以外が非ＡＧ部となる。
［例１０］
　耐酸性の保護フィルムを、ガラス板のＡＧ部を形成する側の主面のほぼ中央部にφ２０ｍｍに切り出した保護フィルムを貼った状態で例３と同様の手順でスプレーアンチグレア処理、および化学強化処理を実施した。
　例１０のガラス板は、スプレーアンチグレア処理を施した側の主面のうち、φ２０ｍｍの保護フィルムを貼った中央部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外がＡＧ部となる。
［例１１］
　例１と同様の手順でアンチグレア処理、および化学強化を実施した後、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面に、φ１０ｍｍの円形に加工した透明フィルムを貼り付けて非アンチグレア（ＡＧ）部を形成した。
　例１１のガラス板は、ガラス板のアンチグレア処理を行った側の主面のうち、透明フィルムを貼り付けた部が非ＡＧ部で、非ＡＧ部以外がＡＧ部となる。
（２）評価方法
　上記の例１～１１で作製したガラス板の特性評価方法について以下に説明する。
（表面形状の測定）
　例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部を有する側の表面形状を、表面粗さ・輪郭形状測定器（株式会社東京精密製、商品名ＳＵＲＦＣＯＭ）にて測定して平面プロファイルを得た。そして、得られた平面プロファイルから、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１（２００１）に基づいて、ＡＧ部と非ＡＧ部との高さの差の絶対値ｈ、ＡＧ部および非ＡＧ部のＲａおよびＲＳｍを得た。
（ヘイズ率）
　例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部における透過へイズ率（％）の測定を行った。ヘイズ率の測定は、ヘイズメーター（スガ試験機株式会社製、商品名：ＨＺ－Ｖ３）を用いて行った。
（輪郭度）
　例１～１１で作製したガラス板について、ＣＮＣ画像測定システム（株式会社ニコンインストルメント製、型式：ＣＮＣ画像測定システムＮＥＸＩＶ　ＶＭＲ－１００８０）を用いて、非ＡＧ部の輪郭度の測定を行った。
(平行度）
　例１～１１で作製したガラス板について、レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス製、商品名：レーザー変異計ＬＫ－ＧＤ５００）を用い、Ｃｕｔ　Ｏｆｆ：０．８～８ｍｍとして、非ＡＧ部と第２の主面（ＡＧ部が形成された側の主面に対向する主面）との平行度の測定を行った。
（平面度）
　例１～１１で作製したガラス板について、表面粗さ・輪郭形状測定器（株式会社東京精密製、商品名：ＳＵＲＦＣＯＭ）を用い、Ｆｉｌｔｅｒ：２ＲＣ、Ｃｕｔ　Ｏｆｆ：０．８～８ｍｍ、Ｃｏｎｔｒｏｌ　ｌｅｎｇｔｈ：２０ｍｍとして、非ＡＧ部と前記第２の主面との平面度の測定を行った。
（触り心地）
　例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部が形成された第１の主面の触り心地を１０人による、１：とても良い、２：良い、３：問題ない、４：悪い、５:非常に悪い、の５段階評価の平均値で評価した。
（映像度）
　例１～１１で作製したガラス板について、非ＡＧ部を通してみた際の映像度を１０人による、○：良い、△：少し悪い、×：悪い、の３段階評価の平均値で評価した。
（指紋拭取りテスト）
　例１～１１で作製したガラス板について、ＡＧ部および非ＡＧ部が形成された第１の主面に以下の手順で含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成した。
　まず、含フッ素有機ケイ素化合物被膜材料として（信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＹ－１８５）を加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで１０時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行って、含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物とした。
　次いで、上記含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物が入った加熱容器を２７０℃まで加熱した。２７０℃に到達した後、温度が安定するまで１０分間その状態を保持した。そして、真空チャンバ内に設置したガラス板の第１の主面に対して、前記含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、含フッ素有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物を供給し、成膜を行った。
　成膜の際には、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより膜厚を測定しながら行い、ガラス板上に形成した含フッ素有機ケイ素化合物被膜の膜厚が１０ｎｍになるまで成膜を行った。含フッ素有機ケイ素化合物被膜の膜厚が１０ｎｍになった時点でノズルから原料の供給を停止し、その後真空チャンバから取り出した。取り出されたガラス板は、ホットプレートに膜面を上向きにして設置し、大気中で１５０℃、６０分間熱処理を行った。
　その後、上記の手順で形成した含フッ素有機ケイ素化合物被膜に対して以下の手順により指紋拭き取り性の確認を行った。各試料の段差部に同等の押しつけ力で、人口汗を使用して指紋を付けた。その後、エタノールを付けたガーゼを用い、指紋が消えるまでの拭き取り回数を確認する拭き取り試験を実施した。１０回以内で指紋を拭き取れた場合○とし、１１回～５０回の拭き取りで取れたものを△とし、５０回拭き取りを実施しても取れなかった場合は×とした。
　例１～１１の評価結果を下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１、２から分かるように、ＡＧ部と非ＡＧ部のＲＳｍがいずれも１μｍ以上で、ＡＧ部と非ＡＧ部のＲＳｍの差が１００μｍ以下の例１～６は、触り心地、指紋拭き取りテスト、映像度が良好であった。これに対して、非ＡＧ部のＲＳｍが１μｍ未満の例７、１０および１１は触り心地がおよび指紋拭き取りテストの結果が悪かった。また、非ＡＧ部のＲＳｍが１μｍ以上であっても、ＡＧ部と非ＡＧ部のＲＳｍの差が１００μｍ超の例８および９は、は触り心地がおよび指紋拭き取りテストの結果が悪かった。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１７年６月２０日出願の日本特許出願２０１７－１２０１７０に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ　ガラス板
１２　　　　　　凹部
１３　　　　　　凸部
２０　　　　　　アンチグレア部
３０　　　　　　非アンチグレア部
４０　　　　　　インク

Claims (13)

  1. 　第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有し、
    　前記第１の主面にアンチグレア部と非アンチグレア部とを有し、
    　前記アンチグレア部および前記非アンチグレア部の粗さ曲線の要素の平均長さ（ＲＳｍ）が、それぞれ１μｍ以上であり、前記アンチグレア部のＲＳｍと、前記非アンチグレア部のＲＳｍとの差が１００μｍ以下であるガラス板。
  2. 　可視光領域の透過光のヘイズ率が、前記アンチグレア部において２％以上４０％以下、前記非アンチグレア部において２％未満である請求項１に記載のガラス板。
  3. 　前記アンチグレア部と前記非アンチグレア部とのガラス板の板厚方向における高さの差の絶対値が２０μｍ以下である、請求項１または２に記載のガラス板。
  4. 　前記非アンチグレア部の算術平均表面粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ未満である請求項１乃至３の何れか一項に記載のガラス板。
  5. 　前記アンチグレア部の算術平均表面粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍ以上である請求項１乃至４の何れか一項に記載のガラス板。
  6. 　前記非アンチグレア部の輪郭度が１０ｍｍあたり、０．５ｍｍ以下である請求項１乃至５の何れか一項に記載のガラス板。
  7. 　前記非アンチグレア部と前記第２の主面との平行度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下である請求項１乃至６の何れか一項に記載のガラス板。
  8. 　前記非アンチグレア部と前記第２の主面との平面度が２０ｍｍあたり、１０μｍ以下である請求項１乃至７の何れか一項に記載のガラス板。
  9. 　前記非アンチグレア部が、可視光透過性のインクの塗布により形成されている請求項１乃至８の何れか一項に記載のガラス板。
  10. 　前記第１の主面に、含フッ素有機ケイ素化合物被膜が形成されている請求項１乃至９の何れか一項に記載のガラス板。
  11. 　前記第１の主面に、低反射膜及び含フッ素有機ケイ素化合物被膜がこの順に積層されている請求項１乃至９の何れか一項に記載のガラス板。
  12. 　第１の主面と、前記第１の主面に対向する第２の主面とを有し、前記第１の主面にアンチグレア部と非アンチグレア部とを有するガラス板の製造方法であって、
    　前記第１の主面にアンチグレア処理が施されたガラス板の前記第１の主面の一部に可視光透過性のインクを印刷して前記非アンチグレア部を形成する、ガラス板の製造方法。
  13. 　前記インクが、樹脂を含み、顔料および／または染料を含まない、請求項１２に記載のガラス板の製造方法。
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