JP2004184579A - 導電性を有する多層反射防止膜付透明基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板上に透明誘電体の薄膜と透明導電体の薄膜とを積層する導電性を有する多層反射防止膜付透明基板において、透明基板上に反射防止効果を持たせるための4層からなる誘電膜層と、最外層に透明導電体の導電膜層との少なくとも5層を有し、導電膜層の光学膜厚は所望する表面抵抗値が得られる膜厚にて決定され、4層の誘電膜層の光学膜厚は透明基板の屈折率と各誘電膜層の屈折率とを考慮し、L*a*b*表色系による標準光Cに対するクロマティクネス指数a*、b*が−2.0〜2.0の範囲内となるように決定され、透明基板上に各々積層される。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は高透過率が得られる導電性を有する多層反射防止膜付透明基板に関する。
【0002】
【従来技術】
従来、ガラス板等の透明基板にインジウム錫酸化物(ITO)やSnO2等の透明導電膜を形成して、太陽電池などの光電変換素子の電極や液晶等の表示装置またはタッチパネルの電極、静電防止フィルターや電磁波カットフィルターとして利用するものが知られている。特にタッチパネル、静電防止フィルターや電磁波カットフィルター等で使用される場合、可視領域での高透過率を確保することが必要となってくる。ガラス基板の場合、さまざまな研究が行なわれ、最適な抵抗値を確保しながら高透過率を得ることができる多層膜が多数提案されているが、重く割れ易いという欠点を持つために、軽くて割れ難い透明のプラスチック基板に同じように多層膜を形成して利用することが多くなってきている。このため本出願人は特願2000−53642号にて、基板上に屈折率の異なる2層の透明誘電膜層を形成し、さらに最表面にITO等の透明導電体からなる透明導電膜層を形成することにより、プラスチック基板を用いても高透過率を得ることができる導電性を有する多層反射防止膜付透明基板を提案している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した膜構成では高透過率が得られるものの、可視領域(400nm〜700nm程度)にてフラットな透過率が得られ難く、透過光に黄色がかった色目(色相)がついてしまうという問題があった。
【0004】
本発明では上記従来技術の問題点に鑑み、高い透過率が得られるとともにその透過光を無色に近づけることのできる導電性を有する多層膜付透明基板を提供することを技術課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
(1) 透明基板上に透明誘電体の薄膜と透明導電体の薄膜とを積層する導電性を有する多層反射防止膜付透明基板において、前記透明基板側から順に、前記透明基板の屈折率より高い屈折率である透明誘電体からなる第1誘電膜層と、前記透明基板の屈折率より低い屈折率である透明誘電体からなる第2誘電膜層と、前記透明基板の屈折率より高い屈折率である透明誘電体からなる第3誘電膜層と、前記透明基板の屈折率より低い屈折率である透明誘電体からなる第4誘電膜層と、最外層に透明導電体の導電膜層との少なくとも5層を有し、導電膜層の光学膜厚は所望する表面抵抗値が得られる膜厚にて決定され、前記第1誘電膜層〜第4誘電膜層の光学膜厚は前記透明基板の屈折率と各誘電膜層の屈折率とを考慮し、L*a*b*表色系による標準光Cに対するクロマティクネス指数a*、b*が−2.0〜2.0の範囲内となるように決定され、前記透明基板上に各々積層してなることを特徴とする。
(2) (1)の多層膜付透明基板において、前記多層膜付透明基板の視感度透過率が90%以上であることを特徴とする。
(3) (1)又は(2)の多層反射防止膜付透明基板において、前記第1及び第3誘電膜層はZrO2又はTiO2主成分とし、前記第2及び第4誘電膜層はSiO2を主成分とすることを特徴とする。
(4) (1)〜(3)の多層反射防止膜付透明基板において、表面抵抗値が100以上5000Ω/□以下であることを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態における導電性を有する多層反射防止膜付透明基板について、図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の実施の形態における導電性を有する多層反射防止膜付透明基板の積層構成を示す概略図である。
1は透明の基板である。基板1は通常に入手できるものであればよく、屈折率は1.48以上1.7以下程度のものを使用する。具体的に、基板材料としてはガラス類(屈折率1.48〜1.70)、プラスチック類(ポリカーボネイト(屈折率1.59)、ポリエチレンテレフタレート(屈折率1.63)等)が用いられ、光学的に透明であれば特に限定されない。また、本実施形態で述べる基板とは板状に限らず、フィルム基板を含むものとしている。
【0007】
2は基板1上に多層膜の成膜前に事前に形成される薄膜層である。この薄膜層2は、多層膜を成膜する前に基板1にコーティングすることにより、基板1の表面を硬化させ、傷等から保護するためや、基板1と多層膜との間の密着力を上げるために形成される層である(以下、ハードーコート層と記す)。一般的に、ハードコート層2においては、基板1の表面を保護するとともに、基板1と多層膜との間の密着力を上げることが可能なアクリル系ハードコートがよく利用される。
【0008】
また、基板1にハードコート層2を形成しないで、基板1上に直接多層膜を成膜することも可能であるが、前述したように多層膜の保護や密着力向上のために、基板1上に事前にハードコート処理を行なっておくことが好ましい。また、ハードコートではなく、単に基板1と多層膜との間での密着力向上のために真空蒸着等にて基板上にアンダーコートを行なうこともある。
何れの場合においても、ハードコート(アンダーコート)の膜厚は、光学的な阻害が起こらないように基板の屈折率と同程度の屈折率を有するようにしておくことが好ましい。
【0009】
3はハードコート層2上に屈折率の異なる透明誘電体からなる誘電膜層を複数積層することにより反射防止効果をもたせるための反射防止層帯である。本実施形態における反射防止層帯3は4つの誘電膜層3a〜3dにより形成されている。
3aは基板1の屈折率よりも高い屈折率をもつ透明誘電体からなる第1誘電膜層である。第1誘電膜層3aに使用される透明誘電体は、使用する基板1に応じて適宜選択されるが、基板1の屈折率よりも高い屈折率が必要なため、基板1の最低屈折率1.48より高い必要がある。また同時に、安価に入手可能でかつ安定した成膜が確認されているものが好ましいため、それらを考慮して屈折率が1.50以上2.50以下程度の範囲のものが使用される。具体的には、第1誘電膜層3aの主成分にはZrO2(屈折率1.9)や、TiO2(屈折率2.2)、Al2O3(屈折率1.6)等が挙げられる。第1誘電膜層3の光学的膜厚nd(以後、単に膜厚と記す)は10nm以上600nm以下が好ましく、より好ましくは50nm以上550nm以下である。
【0010】
3bは第1誘電膜層3a上に積層され、基板1の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明誘電体からなる第2誘電膜層である。第2誘電膜層3bに使用される透明誘電体は、使用する基板1に応じて適宜選択されるが、基板1の屈折率よりも低い屈折率が必要なため、基板1の最高屈折率1.70より低くする必要がある。また同時に、安価に入手可能でかつ安定した成膜が確認されているものが好ましいため、それらを考慮して屈折率が屈折率1.35以上1.60以下程度の範囲のものが使用される。具体的には、第2誘電膜層3bの主成分にはSiO2(屈折率1.46)やMgF2(屈折率1.38)が挙げられる。また、第2誘電膜層3bの膜厚は10nm以上600nm以下が好ましく、より好ましくは50nm以上550nm以下である。膜厚がこれ以上薄くても厚くても、反射防止効果が得られにくい。
【0011】
3cは第2誘電膜層3b上に積層され、基板1の屈折率よりも高い屈折率をもつ透明誘電体からなる第3誘電膜層である。第3誘電膜層3cに使用される透明誘電体は、第1誘電膜層3aと基本的に同じ材料のものが使用可能であるが、反射防止効果を向上させるためには第1誘電膜層3aにて用いられる材料の屈折率と同じか、それより高い屈折率を有する材料を用いることが好ましい。第3誘電膜層3cの膜厚は10nm以上600nm以下が好ましく、より好ましくは50nm以上550nm以下である。
【0012】
3dは第3誘電膜層3c上に積層され、基板1の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明誘電体からなる第4誘電膜層である。第4誘電膜層3dに使用される透明誘電体は、第2誘電膜層3bと基本的に同じ材料のものが使用可能である。また、第4誘電膜層3dの膜厚は10nm以上600nm以下が好ましく、より好ましくは50nm以上550nm以下である。
4は第4誘電膜層3d上に積層され、導電性を有する導電膜層である。導電膜層4の透明導電体にはITOやATO、SnO2、IZO等が挙げられる。
【0013】
また、表面抵抗値は使用目的に応じて適宜決定すれば良いが、電気光学素子用、光電変換素子用、液晶用、タッチパネル用等に用いるのであれば、好ましくは表面抵抗値が100Ω/□以上5000Ω/□以下であり、より好ましくは100Ω/□以上1000Ω/□以下である。
【0014】
また、各層の最適な膜厚は以下の方法により決定される。
初めに、用途に応じて必要な表面抵抗値が得られるような導電膜層の膜厚を決定させておく。次に反射防止層帯3(誘電体層3a〜3d)に使用する材料の屈折率を固定値とし、最適化アルゴリズムを用いながら誘電体層3a〜3dの物理膜厚を変化させていく。このような手法により、視野2°、標準光CにおけるL*a*b*表色系のクロマティクネス指数a*、b*を−2〜+2の範囲以内としつつ、このようなクロマティクネス指数a*、b*の範囲内において最も高い透過率若しくは最も低い反射率が得られるような各誘電体層3a〜3dの膜厚を求める。最適化アルゴリズムは例えば、Adaptive Random SearchやModified Gardient、Monte Carilo method、Simurated Annealing等、メリット関数を使用した様々な最適化手法を基に与えられる。
【0015】
上記で示した各薄膜層(導電膜層、誘電膜層)を基板1上に形成する方法としては、物理的気層成長方法(PVD)では真空蒸着方法やスパッタ方法、イオンプレーティング方法等が挙げられる。また、化学的気層成長方法(CVD)ではめっき方法や化学的気層成長方法等が挙げられる。これらの成膜方法は、本実施の形態としてすべて使用可能であるが、成膜に際して高温を伴うような方法では熱によるプラスチック基板の変形等が考えられるため、プラスチック基板での多層膜の成膜は高熱を必要としない真空蒸着方法やスパッタ方法が好適に用いられる。
【0016】
多層反射防止膜付透明基板において上述したような膜構成とすることにより、視感度透過率を90%以上に保ちつつ、視野2°、標準光CにおけるL*a*b*表色系のクロマティクネス指数a*、b*を−2〜+2の範囲以内とすることができる。したがって多層反射防止膜付透明基板を透過する光束を無色に近づけることができ、視認性が向上する。これにより例えばカラー表示のタッチパネル等にてより好適に用いることができる。
【0017】
<実施例1>
ハードコート付きポリカーボネイト基板(屈折率1.59)を用意し、真空蒸着法により、誘電膜層を基板上に4層形成した。第1誘電膜層としては、オプトロン社製ZrO2タブレットを使用し、アンダーコート層であるハードコート上にZrO2を主成分とする薄膜層を形成した。このときの第1誘電体層の膜厚(光学膜厚nd)は80nmとした。第2誘電膜層としては、オプトロン社製SiO2顆粒を使用し、第1誘電膜層上にSiO2を主成分とする薄膜層を形成した。このときの第2誘電膜層の膜厚は35nmとした。第3誘電膜層としては、オプトロン社製TiO2顆粒を使用し、第2誘電膜層上にTiO2を主成分とする薄膜層を形成した。このときの第3誘電膜層の膜厚は85nmとした。第4誘電膜層としては、オプトロン社製SiO2顆粒を使用し、第3誘電膜層上にSiO2を主成分とする薄膜層を形成した。このときの第4誘電膜層の膜厚は100nmとした。
【0018】
次に真空治金(株)製ITOターゲットを使用し、導電膜層としてITOを主成分とする薄膜層をスパッタ法により第4誘電膜層上に形成した。このときの導電膜層の膜厚は24nmとした。
【0019】
このようにして得られた導電性を有する多層膜付透明基板の視感度透過率を測定した。測定装置は朝日分光社製 視感度透過率計MODEL304を用いた。得られた視感透過率は94.1%であった。また、表面抵抗値は500Ω/□であった。また、2°の視野で標準光Cにおけるクロマティクネス指数a*、b*を測定した。測定装置は島津製作所製UV−2400PCを用いた。このときのクロマティクネス指数a*は−0.80、b*は0.70であった。
また、実施例1で得られる多層反射防止膜付透明基板の可視域の透過率を図2に、以上の結果を表1に示す。
【0020】
<実施例2>
第1誘電膜層の材料をTiO2とした以外は、実施例と同じ基板、膜構成として多層反射防止膜付透明基板を作成した。ただし、この条件にて多層膜付透明基板の透過率ができるだけ高く得られるように、最適化アルゴリズムを用いて各誘電膜層の膜厚を調整した。この結果、第1誘電膜層〜第4誘電膜層の各膜厚は順に55nm、32nm、130nm、88nmとした。最表面の導電膜層(ITO層)の膜厚は、実施例1と同様に24nmとし、表面抵抗値500Ω/□が得られるようにした。なお、実施例1と同様に誘電膜層の形成は真空蒸着法で行い、導電膜層の形成はスパッタ法にて行った。
【0021】
このようにして得られた導電性を有する多層膜付透明基板の視感度透過率は94.3%であった。また、クロマティクネス指数a*は−0.99、b*は0.82であった。
また、実施例2で得られる多層反射防止膜付透明基板の可視域の透過率を図3に、以上の結果を表1に示す。
【0022】
<比較例1>
実施例1と同一の基板を用い、第1誘電膜層をZrO2、第2誘電膜層をSiO2とし、第2誘電膜層の上にITOからなる導電膜層を1層形成した。最表面のITOの導電膜層の膜厚は、表面抵抗値500Ω/□が得られるように24nmとして成膜を行った。また、この条件にて多層膜付透明基板の透過率ができるだけ高く得られるように、最適化アルゴリズムを用いて各誘電膜層の膜厚を調整した。この結果、第1誘電膜層及び第2誘電膜層の各膜厚は順に140nm、90nmとした。なお、実施例1と同様に誘電膜層の形成は真空蒸着法で行い、導電膜層の形成はスパッタ法にて行った。
【0023】
このようにして得られた導電性を有する多層膜付透明基板の視感度透過率は92.9%であった。また、クロマティクネス指数a*は−2.80、b*は5.35であった。
また、実施例2で得られる多層反射防止膜付透明基板の可視域の透過率を図4に、以上の結果を表1に示す。
【0024】
<比較例2>
実施例1と同一の基板を用い、第1誘電膜層をTiO2、第2誘電膜層をSiO2とし、第2誘電膜層の上にITOからなる導電膜層を1層形成した。最表面のITOの導電膜層の膜厚は、表面抵抗値500Ω/□が得られるように24nmとして成膜を行った。また、この条件にて多層膜付透明基板の透過率ができるだけ高く得られるように、最適化アルゴリズムを用いて各誘電膜層の膜厚を調整した。この結果、第1誘電膜層及び第2誘電膜層の各膜厚は順に60nm、120nmとした。なお、実施例1と同様に誘電膜層の形成は真空蒸着法で行い、導電膜層の形成はスパッタ法にて行った。
【0025】
このようにして得られた導電性を有する多層膜付透明基板の視感度透過率は92.6%であった。また、クロマティクネス指数a*は−3.11、b*は5.63であった。
また、実施例2で得られる多層反射防止膜付透明基板の可視域の透過率を図5に、以上の結果を表1に示す。
【0026】
【表1】
【0027】
<結果>
図2及び図3に示すように、実施例1、2の多層反射防止膜付透明基板においては、可視領域(400nm〜700nm程度)にてある程度の透過率が得られており、透過光は無色に近づいた色相となった。また、図4及び図5に示すように、比較例1、2の多層反射防止膜付透明基板においては、可視領域400nm〜450nm付近の透過率が極端に少ないため、その透過光は黄色味がついた色相となった。また、表1に示すように、実施例1、2では、非常に高い視感度透過率が得られているとともに、クロマティクネス指数は−1.0〜1.0の範囲内にあり、この結果においても無色に近い透過光が得られていることが示された。
【0028】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば高い透過率を有しながら、高い視認性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態における膜構成を示した図である。
【図2】実施例1における透過率を示した図である。
【図3】実施例2における透過率を示した図である。
【図4】比較例1における透過率を示した図である。
【図5】比較例2における透過率を示した図である。
【符号の説明】
1 基板
2 ハードコート層
3 反射防止層帯
4 導電膜層
Claims (4)
- 透明基板上に透明誘電体の薄膜と透明導電体の薄膜とを積層する導電性を有する多層反射防止膜付透明基板において、前記透明基板側から順に、前記透明基板の屈折率より高い屈折率である透明誘電体からなる第1誘電膜層と、前記透明基板の屈折率より低い屈折率である透明誘電体からなる第2誘電膜層と、前記透明基板の屈折率より高い屈折率である透明誘電体からなる第3誘電膜層と、前記透明基板の屈折率より低い屈折率である透明誘電体からなる第4誘電膜層と、最外層に透明導電体の導電膜層との少なくとも5層を有し、導電膜層の光学膜厚は所望する表面抵抗値が得られる膜厚にて決定され、前記第1誘電膜層〜第4誘電膜層の光学膜厚は前記透明基板の屈折率と各誘電膜層の屈折率とを考慮し、L*a*b*表色系による標準光Cに対するクロマティクネス指数a*、b*が−2.0〜2.0の範囲内となるように決定され、前記透明基板上に各々積層してなることを特徴とする導電性を有する多層反射防止膜付透明基板。
- 請求項1の多層膜付透明基板において、前記多層膜付透明基板の視感度透過率が90%以上であることを特徴とする導電性を有する多層膜付透明基板。
- 請求項1又は請求項2の多層反射防止膜付透明基板において、前記第1及び第3誘電膜層はZrO2又はTiO2主成分とし、前記第2及び第4誘電膜層はSiO2を主成分とすることを特徴とする導電性を有する多層反射防止膜付透明基板。
- 請求項1〜3の多層反射防止膜付透明基板において、表面抵抗値が100以上5000Ω/□以下であることを特徴とする導電性を有する多層反射防止膜付透明基板。
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006221142A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-08-24 | Sony Corp | 光学素子、レンズ鏡筒、撮像装置及び電子機器 |
JP2006268085A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | タッチパネル |
JP2010027294A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
JP2010027567A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
JP4499180B1 (ja) * | 2009-05-13 | 2010-07-07 | 旭硝子株式会社 | 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ |
JP2010151752A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Nikon Corp | 視感度フィルタ、受光装置、及び視感度フィルタの製造方法 |
JP2011060617A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性積層体およびその製造方法並びに静電容量タッチパネル |
KR101114024B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2012-02-22 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 패널 |
KR101114028B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2012-02-22 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 패널 |
JP2012058956A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Sony Corp | 電極フィルム及び座標検出装置 |
WO2012015284A3 (en) * | 2010-07-30 | 2012-04-19 | Lg Innotek Co., Ltd. | Touch panel |
WO2012091410A2 (ko) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 전자부품연구원 | 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법 |
US9075276B2 (en) | 2011-07-22 | 2015-07-07 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus with a pixel that transmits light with peak transmittances in the wavelength ranges of red, green, and blue |
WO2016067337A1 (ja) * | 2014-10-27 | 2016-05-06 | リンテック株式会社 | 透明導電膜積層用フィルムおよび透明導電性フィルム |
CN106157581A (zh) * | 2015-04-14 | 2016-11-23 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | 太阳能式触控遥控器 |
KR101786112B1 (ko) | 2011-11-18 | 2017-10-16 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 스크린 패널 |
CN109164528A (zh) * | 2018-11-05 | 2019-01-08 | 无锡泓瑞航天科技有限公司 | 五通道多色滤光片的光学膜层制备方法 |
CN112543563A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-23 | 深圳市沃阳精密科技有限公司 | 电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101802744B1 (ko) | 2015-08-28 | 2017-11-29 | 한국과학기술연구원 | 초박형 실리콘 태양전지를 위한 비대칭적 나노격자 구조 및 이의 제조방법 |
-
2002
- 2002-12-02 JP JP2002349583A patent/JP4349794B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006221142A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-08-24 | Sony Corp | 光学素子、レンズ鏡筒、撮像装置及び電子機器 |
JP2006268085A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | タッチパネル |
JP4532316B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2010-08-25 | 日本板硝子株式会社 | タッチパネル |
JP2010027294A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
JP2010027567A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
JP2010151752A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Nikon Corp | 視感度フィルタ、受光装置、及び視感度フィルタの製造方法 |
JP4499180B1 (ja) * | 2009-05-13 | 2010-07-07 | 旭硝子株式会社 | 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ |
JP2010266605A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ |
JP2011060617A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性積層体およびその製造方法並びに静電容量タッチパネル |
KR101114024B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2012-02-22 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 패널 |
KR101114028B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2012-02-22 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 패널 |
WO2012015284A3 (en) * | 2010-07-30 | 2012-04-19 | Lg Innotek Co., Ltd. | Touch panel |
TWI607349B (zh) * | 2010-07-30 | 2017-12-01 | Lg伊諾特股份有限公司 | 觸控面板 |
US9836144B2 (en) | 2010-07-30 | 2017-12-05 | Lg Innotek Co., Ltd. | Touch panel |
CN103052931A (zh) * | 2010-07-30 | 2013-04-17 | Lg伊诺特有限公司 | 触摸面板 |
JP2013532868A (ja) * | 2010-07-30 | 2013-08-19 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | タッチパネル |
JP2012058956A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Sony Corp | 電極フィルム及び座標検出装置 |
CN102446577A (zh) * | 2010-09-08 | 2012-05-09 | 索尼公司 | 电极薄膜和坐标检测装置 |
WO2012091410A2 (ko) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 전자부품연구원 | 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법 |
KR101427768B1 (ko) * | 2010-12-27 | 2014-08-13 | 전자부품연구원 | 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법 |
WO2012091410A3 (ko) * | 2010-12-27 | 2012-10-04 | 전자부품연구원 | 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법 |
US9075276B2 (en) | 2011-07-22 | 2015-07-07 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus with a pixel that transmits light with peak transmittances in the wavelength ranges of red, green, and blue |
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US10247991B2 (en) | 2011-07-22 | 2019-04-02 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus with a pixel that includes three transparent electrodes |
KR101786112B1 (ko) | 2011-11-18 | 2017-10-16 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 스크린 패널 |
WO2016067337A1 (ja) * | 2014-10-27 | 2016-05-06 | リンテック株式会社 | 透明導電膜積層用フィルムおよび透明導電性フィルム |
JP5933137B1 (ja) * | 2014-10-27 | 2016-06-08 | リンテック株式会社 | 透明導電膜積層用フィルムおよび透明導電性フィルム |
CN106157581A (zh) * | 2015-04-14 | 2016-11-23 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | 太阳能式触控遥控器 |
CN109164528A (zh) * | 2018-11-05 | 2019-01-08 | 无锡泓瑞航天科技有限公司 | 五通道多色滤光片的光学膜层制备方法 |
CN112543563A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-23 | 深圳市沃阳精密科技有限公司 | 电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品 |
CN112543563B (zh) * | 2020-11-27 | 2022-06-21 | 深圳市沃阳精密科技有限公司 | 电子产品的中框及其制作方法、电子产品的外壳和电子产品 |
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