JP2010027294A - 透明導電性フィルム及びタッチパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の透明導電性フィルム(10)は、透明導電層(4)の厚みが31nm以上であり、第1透明誘電体層(2)の厚みが7〜16nmであり、第2透明誘電体層(3)の厚みが30〜60nmであり、第1透明誘電体層(2)の屈折率をn1、第2透明誘電体層(3)の屈折率をn2、透明導電層(4)の屈折率をn3とした場合に、n2<n3≦n1の関係を満足する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。図1に示すように、透明導電性フィルム10は、透明フィルム基材1と、この透明フィルム基材1の片面に順次形成された、第1透明誘電体層2、第2透明誘電体層3及び透明導電層4とを含む。また、透明導電層4はパターン化されており、これによりパターン部Pとパターン開口部Oとが形成されている。
次に、本発明の第2実施形態に係る透明導電性フィルムについて説明する。図2は、本発明の第2実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。図2に示すように、透明導電性フィルム20は、透明フィルム基材1と、この透明フィルム基材1の図中上方に順次形成された第1透明誘電体層2a、第2透明誘電体層3a及び透明導電層4aと、透明フィルム基材1の図中下方に順次形成された第1透明誘電体層2b、第2透明誘電体層3b及び透明導電層4bとを含む。また、透明導電層4a,4bはパターン化されており、これによりパターン部Pとパターン開口部Oとが形成されている。
次に、本発明の第3実施形態に係る透明導電性フィルムについて説明する。図3は、本発明の第3実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。図3に示すように、透明導電性フィルム30は、上述した透明導電性フィルム10の透明フィルム基材1の図中下面に透明粘着剤層5を介してセパレータSが設けられている。
次に、本発明の第4実施形態に係る透明導電性フィルムについて説明する。図4は、本発明の第4実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。図4に示すように、透明導電性フィルム40は、上述した透明導電性フィルム20の透明導電層4bの図中下面に透明粘着剤層5を介してセパレータSが設けられている。これにより、上述した透明導電性フィルム20や透明導電性フィルム30と同様の効果が得られる。
次に、本発明の第5実施形態に係る透明導電性フィルムについて説明する。図5は、本発明の第5実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。図5に示すように、透明導電性フィルム50は、上述した透明導電性フィルム10の透明フィルム基材1の図中下面(即ち、透明フィルム基材1における第1透明誘電体層2とは反対側の面)に、透明粘着剤層6を介して透明基体7が設けられている。透明粘着剤層6の構成材料には、上述した透明粘着剤層5と同様のものが使用できる。
次に、本発明の第6実施形態に係る透明導電性フィルムについて説明する。図6は、本発明の第6実施形態に係る透明導電性フィルムの断面図である。図6に示すように、透明導電性フィルム60は、上述した透明導電性フィルム20の透明導電層4bの図中下面(即ち、透明導電層4bにおける第2透明誘電体層3bとは反対側の面)に、透明粘着剤層6を介して透明基体7が設けられている。これにより、上述した透明導電性フィルム20や透明導電性フィルム50と同様の効果が得られる。
次に、本発明の第7実施形態に係るタッチパネルについて説明する。図8は、本発明の第7実施形態に係る静電容量方式のタッチパネルの概略断面図である。図8に示すように、タッチパネル200は、上述した透明導電性フィルム10と、この透明導電性フィルム10の透明導電層4の周縁部に一定のピッチで設けられた電極端子210と、透明導電層4の上方かつ電極端子210の内側に設けられた透明保護層220とを含む。透明保護層220としては、上述した透明フィルム基材1と同様の材料が使用できる。
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、各測定面に対して測定光を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。
透明フィルム基材の厚みは、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。その他の層の厚みについては、日立製作所製の透過型電子顕微鏡H−7650により断面観察して測定した。
(第1透明誘電体層(第1層)の形成)
厚み23μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)からなる透明フィルム基材(屈折率nf=1.65)の一方の面に、アルゴンガス95%と酸素ガス5%の混合ガスの雰囲気下、酸化インジウム100重量部、酸化錫3重量部及び酸化セリウム44重量部の混合物の焼結体から、下記条件の反応スパッタリング法により、酸化インジウム100重量部に対して、酸化錫3重量部及び酸化セリウム44重量部を有する複合酸化物(屈折率n1=2.20)の第1透明誘電体層(厚み:12nm)を形成した。なお、成膜雰囲気内に上記混合ガスを導入する前に、成膜雰囲気を到達真空度5.0×10−4Pa以下の状態にして不純物ガスを除去した。
ターゲットサイズ:200mm×500mm
出力:3.0kW
電圧値:450V
放電時間:1分
真空度:0.5Pa
次いで、第1透明誘電体層上に、メラミン樹脂、アルキド樹脂及び有機シラン縮合物からなる熱硬化型樹脂(重量比で、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物=2:2:1)を塗工し、これを硬化させて、厚み40nmの第2透明誘電体層(屈折率n2=1.54)を形成した。
次いで、第2透明誘電体層上に、アルゴンガス98%と酸素ガス2%の混合ガス(0.4Pa)の雰囲気下、酸化インジウム97重量%、酸化錫3重量%の焼結体材料を用いて反応性スパッタリング法により、透明導電層として厚み40nmのITO膜(屈折率n3=2.00)を形成した。
上記ITO膜上に、ストライプ状にパターン化されたフォトレジスト膜を形成した後、これを25℃、5重量%の塩酸(塩化水素水溶液)に1分間浸漬して、ITO膜のエッチングを行った。得られたITO膜のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
上記ITO膜のパターン化後、このITO膜を140℃(90分間)の条件で加熱処理し、ITO膜の構成成分を結晶化して透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1層(第1透明誘電体層)の厚みを表1に示す数値に調整したことと、第2層(第2透明誘電体層)を以下に示す方法で形成したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、ITO膜をパターン化した透明導電性フィルムを得た。
メラミン樹脂、アルキド樹脂及び有機シラン縮合物からなる熱硬化型樹脂(重量比で、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物=2:2:1)にTiO2(屈折率=2.35)の微粒子を混合した樹脂組成物を調製した。この際、上記樹脂組成物の屈折率が1.70となるようにTiO2微粒子の混合量を調整した。そして、第1透明誘電体層上に上記樹脂組成物を塗工し、これを硬化させて、厚み50nmの第2透明誘電体層(屈折率n2=1.70)を形成した。
実施例1において、第1層(第1透明誘電体層)の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、ITO膜をパターン化した透明導電性フィルムを得た。
第1層として実施例2の第2層の構成材料を用い、その厚みを表1に示す数値に調整したことと、第2層を以下に示す方法で形成したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、ITO膜をパターン化した透明導電性フィルムを得た。
第1層上に、SiO2(屈折率n2=1.46)を電子ビーム加熱法により、1×10-2〜3×10-2Paの真空度で真空蒸着して、厚み20nmの第2層を形成した。
実施例1において、第1層(第1透明誘電体層)の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、ITO膜をパターン化した透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第2層(第2透明誘電体層)の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、ITO膜をパターン化した透明導電性フィルムを得た。
第1層として実施例2の第2層と同じものを用いたことと、第2層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、ITO膜をパターン化した透明導電性フィルムを得た。
二端子法を用いて、第3層の表面抵抗値(Ω/□)を測定した。
日立製作所製の分光光度計U4100の積分球測定モードを用いて、入射角を10度として反射スペクトルを測定し、波長450〜650nmの領域におけるパターン部とパターン開口部の直下の平均反射率を算出した。そして、これらの平均反射率の値からパターン部とパターン開口部の直下との間の反射率差を算出した。なお、前記測定は、透明導電性フィルム(サンプル)の裏面側(PETフィルム側)に黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面からの反射や裏面側からの光の入射が殆どない状態で測定を行った。
黒い板の上に、サンプルを透明導電層側が上になるように置き、目視によりパターン部とパターン開口部の判別が困難な場合を○とし、パターン部とパターン開口部とを判別できる場合を×として評価した。
2,2a,2b 第1透明誘電体層
3,3a,3b 第2透明誘電体層
4,4a,4b 透明導電層
5,6,8 透明粘着剤層
7 透明基体
10,20,30,40,50,60 透明導電性フィルム
70 透明導電性積層体
200 タッチパネル
210 電極端子
220 透明保護層
O パターン開口部
P パターン部
S セパレータ
Claims (8)
- 透明フィルム基材の片面又は両面に、当該透明フィルム基材側から、第1透明誘電体層、第2透明誘電体層、及びパターン化された透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記透明導電層の厚みが31nm以上であり、
前記第1透明誘電体層の厚みが7〜16nmであり、
前記第2透明誘電体層の厚みが30〜60nmであり、
前記第1透明誘電体層の屈折率をn1、前記第2透明誘電体層の屈折率をn2、前記透明導電層の屈折率をn3とした場合に、n2<n3≦n1の関係を満足する透明導電性フィルム。 - 前記n1は、1.90〜2.40であり、
前記n2は、1.40〜1.90であり、
前記n3は、1.90〜2.10である請求項1に記載の透明導電性フィルム。 - 前記n1から前記n2を引いた値が、0.3〜0.9である請求項1又は2に記載の透明導電性フィルム。
- 前記透明フィルム基材は、厚みが2〜200μmである請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前記透明フィルム基材は、屈折率が1.50〜1.70である請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- タッチパネルに用いられるものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前記タッチパネルは、静電容量方式のタッチパネルである請求項6に記載の透明導電性フィルム。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
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