JP5859597B2 - 透明導電性フィルム及びタッチパネル - Google Patents
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(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、Al2O3(1.63)などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は屈折率である。〕があげられる。また、上記の他、酸化インジウム及び酸化セリウムを少なくとも含む複合酸化物を用いることもできる。また有機物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物、及びこれらの混合物などがあげられる。
(図示せず)により貼り合せることによっても、透明基体6を形成することができる。なお、基体フィルムの積層に用いる透明粘着剤層には、上述した透明粘着剤層5と同様のものを用いることができる。
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、25.0℃の条件下、各測定面に対して測定光(波長:589.3nm)を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。
透明基材の厚みは、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。その他の層の厚みについては、日立製作所製の透過型電子顕微鏡H−7650により断面観察して測定した。
島津製作所製の分光分析装置UV−240を用いて、波長550nmにおける可視光線の透過率を測定した。
日立製作所製の分光光度計U4100の積分球測定モードを用いて、入射角を10度として反射スペクトルを測定し、波長450〜650nmの領域におけるパターン部とパターン開口部直下の平均反射率を算出した。そして、これらの平均反射率の値からパターン部とパターン開口部直下との間の反射率差の絶対値を算出した。なお、前記測定は、透明導電性フィルム(サンプル)の裏面側(透明基材側)に黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面からの反射や裏面側からの光の入射が殆どない状態で測定を行った。
パターン部又はパターン開口部直下へ透明導電層側から入射角10度で白色光を照射し、その際の波長380〜780nmの反射光の色相a*値及びb*値を日立製作所製の分光光度計U4100を用いて測定した。得られた測定値から、以下の式にてΔa*及びΔb*を算出した。反射色彩の計算は、JIS Z 8720に規定される標準の光D65を採用し、2度視野の条件で行った。なお、以下の式において、a* P及びb* Pは、それぞれパターン部に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値を指し、a* O及びb* Oは、それぞれパターン開口部直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値を指す。
Δa*=|a* P−a* O|
Δb*=|b* P−b* O|
太陽光の下で、黒い板の上にサンプルを透明導電層側が上になるように置き、目視により下記基準で見栄えの評価を行った。
◎:パターン部とパターン開口部の判別が困難。
○:パターン部とパターン開口部とをわずかに判別できる。
×:パターン部とパターン開口部とをはっきりと判別できる。
(第1透明誘電体層の形成)
厚み125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)からなる透明基材(屈折率nf=1.66)の一方の面に、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物(重量比2:2:1)の熱硬化型樹脂を塗工し、これを硬化させて、第1透明誘電体層(屈折率n0=1.54、厚み:4nm)を形成した。
次いで、第1透明誘電体層上に、SiO2(屈折率n1=1.46)を電子ビーム加熱法により、1×10-2〜3×10-2Paの真空度で真空蒸着して、厚み20nmの第2透明誘電体層を形成した。
次いで、第2透明誘電体層上に、アルゴンガス98%と酸素ガス2%の混合ガス(0.4Pa)の雰囲気下、酸化インジウム97重量%、酸化錫3重量%の焼結体材料を用いて反応性スパッタリング法により、透明導電層として厚み22nmのITO層(屈折率n2=2.00)を形成した。
上記ITO層上に、ストライプ状にパターン化されたフォトレジスト膜を形成した後、これを25℃、5重量%の塩酸(塩化水素水溶液)に1分間浸漬して、ITO層のエッチングを行った。得られたITO層のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
上記ITO層の全てのパターン部上にフォトレジスト膜を形成した後、これを50℃、2重量%の水酸化ナトリウム水溶液に1分間浸漬して、ITO層のパターン開口部直下の第2透明誘電体層のエッチングを行った。得られた第2透明誘電体層のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
実施例1において、第1透明誘電体層及び第2透明誘電体層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1透明誘電体層を下記に示す方法で形成したことと、透明導電層
(ITO層)の厚みを40nmにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
厚み125μmのPETフィルムからなる透明基材(屈折率nf=1.66)の一方の面に、アルゴンガス50%と酸素ガス50%の混合ガス(0.5Pa)の雰囲気下、チタンターゲットを用いて反応性スパッタリング法により、酸化チタンからなる第1透明誘電体層(屈折率n0=2.35、厚み:8nm)を形成した。
実施例1において、第1透明誘電体層及び第2透明誘電体層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例7において、透明導電層(ITO層)の厚みを55nmにしたこと以外は、実施例7と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1透明誘電体層の厚みを35nmにしたことと、第2透明誘電体層を設けなかったこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
2 第1透明誘電体層
3 第2透明誘電体層
4 透明導電層
5 透明粘着剤層
6 透明基体
7 第3透明誘電体層
10,20,30,40,50 透明導電性フィルム
O パターン開口部
P パターン部
Claims (4)
- プラスチックフィルムからなる透明基材上に第1透明誘電体層、第2透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記透明導電層は、パターン化されることによって、パターン部とパターン開口部が形成されており、
前記第1透明誘電体層の厚みが2〜10nmであり、
前記第2透明誘電体層の厚みが2〜20nmであり、
前記透明導電層側から前記パターン部に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* P及びb* Pとし、前記パターン開口部の直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* O及びb* Oとしたとき、0≦|a* P−a* O|≦4.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦5.00の関係を満足し、
前記パターン部と前記パターン開口部直下との間の反射率差の絶対値が0.38%以上5.38%以下であることを特徴とする透明導電性フィルム。 - 前記第1透明誘電体層の屈折率をn0、前記第2透明誘電体層の屈折率をn1としたとき、n1<n0の関係を満足する請求項1に記載の透明導電性フィルム。
- 前記第1透明誘電体層の光学厚みが3〜45nmであり、
前記第2透明誘電体層の光学厚みが3〜50nmであり、
前記透明導電層の光学厚みが20〜100nmであり、
前記第2透明誘電体層の屈折率をn1、前記透明導電層の屈折率をn2としたとき、n1<n2の関係を満足する請求項2に記載の透明導電性フィルム。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明導電性フィルムを含むタッチパネル。
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