JP2011076932A - 透明導電性フィルム及びタッチパネル - Google Patents
透明導電性フィルム及びタッチパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011076932A JP2011076932A JP2009228540A JP2009228540A JP2011076932A JP 2011076932 A JP2011076932 A JP 2011076932A JP 2009228540 A JP2009228540 A JP 2009228540A JP 2009228540 A JP2009228540 A JP 2009228540A JP 2011076932 A JP2011076932 A JP 2011076932A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent
- transparent conductive
- layer
- dielectric layer
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
Abstract
【課題】透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基材(1)上に第1透明誘電体層(2)及び透明導電層(4)がこの順に形成されており、パターン部(P)に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* P及びb* Pとし、パターン開口部(O)の直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* O及びb* Oとしたとき、0≦|a* P−a* O|≦4.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦5.00の関係を満足することを特徴とする透明導電性フィルム(10)とする。
【選択図】図1
【解決手段】透明基材(1)上に第1透明誘電体層(2)及び透明導電層(4)がこの順に形成されており、パターン部(P)に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* P及びb* Pとし、パターン開口部(O)の直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* O及びb* Oとしたとき、0≦|a* P−a* O|≦4.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦5.00の関係を満足することを特徴とする透明導電性フィルム(10)とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、透明導電性フィルム、及びこれを用いたタッチパネルに関する。
可視光線領域で透明であり、かつ導電性を有する透明導電性部材は、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのディスプレイやタッチパネルなどにおける透明電極のほか、物品の帯電防止や電磁波遮断などのために用いられている。
従来、透明導電性部材としては、ガラス上に酸化インジウム薄膜を形成した、いわゆる導電性ガラスがよく知られているが、導電性ガラスは基材がガラスであるために可撓性、加工性に劣り、用途によっては使用が困難な場合がある。そのため、近年では可撓性、加工性に加えて、耐衝撃性に優れ、軽量であることなどの利点から、ポリエチレンテレフタレートをはじめとする各種のプラスチックフィルムを基材とした透明導電性フィルムが使用されている。
タッチパネルなどにおいて入力位置を検出するための透明導電性フィルムとして、所定のパターン形状を有する透明導電層を備えた透明導電性フィルムが知られている。しかし、透明導電層をパターン化すると、パターン部とパターン開口部(非パターン部)との相違が明確化して、表示素子としての見栄えが悪くなるおそれがあった。
透明導電層をパターン化した場合の見栄えを改善するために、例えば、下記特許文献1には、透明基材と透明導電層の間に透明誘電体層を形成することが提案されている。
しかしながら、従来の透明導電性フィルムでは、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違により、パターン部とパターン開口部の境界が明確化し、その結果、表示素子としての見栄えが悪くなるおそれがあった。
そこで、本発明は、透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。
前記目的を達成するため、本発明の透明導電性フィルムは、透明基材上に第1透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、前記透明導電層は、パターン化されることによって、パターン部とパターン開口部が形成されており、前記パターン部に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* P及びb* Pとし、前記パターン開口部の直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* O及びb* Oとしたとき、0≦|a* P−a* O|≦4.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦5.00の関係を満足することを特徴とする透明導電性フィルムである。なお、上記「反射光」は、透明導電層側からパターン部又はパターン開口部直下へタングステンヨウ素ランプにより白色光を入射角10度で照射したときの反射光を指す。
本発明の透明導電性フィルムによれば、パターン部とパターン開口部直下との間における反射光の色相の相違が抑制されるため、パターン部とパターン開口部の判別が困難となり、見栄えの良好な透明導電性フィルムを提供できる。
本発明の透明導電性フィルムは、前記第1透明誘電体層と前記透明導電層の間に配置された、前記第1透明誘電体層と屈折率が相違する第2透明誘電体層を更に有することが好ましい。パターン部とパターン開口部直下との間の反射率差を低減できるため、パターン部とパターン開口部との相違を更に抑制できるからである。
本発明の透明導電性フィルムが前記第2透明誘電体層を更に有する場合は、前記第1透明誘電体層の光学厚みが3〜45nmであり、前記第2透明誘電体層の光学厚みが3〜50nmであり、前記透明導電層の光学厚みが20〜100nmであり、前記第2透明誘電体層の屈折率をn1、前記透明導電層の屈折率をn2としたとき、n1<n2の関係を満足することが好ましい。パターン部とパターン開口部直下との間における反射光の色相の相違を更に抑制できるからである。また、パターン部とパターン開口部直下との間の反射率差をより低減できるため、パターン部とパターン開口部との相違をより一層抑制することができる。なお、各層の「光学厚み」とは、それぞれの層の物理的な厚み(厚み計等で測定される厚み)に当該層の屈折率を乗じた値である。また、本発明における屈折率は、波長589.3nmの光に対する屈折率である。なお、本発明において、物理的な厚みは単に「厚み」とする。
前記第2透明誘電体層は、パターン化されることによって、パターン部とパターン開口部が形成されていることが好ましい。パターン部とパターン開口部直下との間における反射光の色相の相違を更に抑制できるからである。この場合、前記透明導電層のパターン部と前記第2透明誘電体層のパターン部が一致していることが好ましい。パターン部とパターン開口部直下との間における反射光の色相の相違をより一層抑制できる上、パターン部とパターン開口部直下との間の反射率差を更に低減できるからである。
本発明のタッチパネルは、上述した本発明の透明導電性フィルムを含むタッチパネルである。本発明のタッチパネルによれば、上述した本発明の透明導電性フィルムの効果と同様の効果が得られる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
図1は、本発明の透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。図1に示す透明導電性フィルム10は、透明基材1と、この透明基材1上に順次形成された、第1透明誘電体層2、第2透明誘電体層3及び透明導電層4とを含む。透明導電層4及び第2透明誘電体層3はパターン化されており、それぞれパターン部Pとパターン開口部Oとが形成されている。また、透明導電層4のパターン部Pと第2透明誘電体層3のパターン部Pは一致している。
そして、透明導電性フィルム10は、透明導電層4のパターン部Pに白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* P及びb* Pとし、透明導電層4のパターン開口部Oの直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* O及びb* Oとしたとき、0≦|a* P−a* O|≦4.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦5.00の関係を満足する。これにより、パターン部Pとパターン開口部Oの直下との間における反射光の色相の相違が抑制されるため、パターン部Pとパターン開口部Oの判別が困難となり、見栄えの良好な透明導電性フィルム10とすることができる。なお、「パターン開口部Oの直下」とは、図1の場合は、パターン開口部Oに面した第1透明誘電体層2の表面を指す。透明導電性フィルム10において、上記反射光の色相の相違をより抑制するには、0≦|a* P−a* O|≦3.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦4.50の関係を満足することが好ましい。同様の観点から、|a* P−a* O|の値が、0〜2.00であることがより好ましく、0〜1.00であることが更に好ましく、0〜0.70であることが更により好ましい。
透明導電性フィルム10において、パターン部Pとパターン開口部Oの直下との間における反射光の色相の相違を更に抑制する観点、及びパターン部Pとパターン開口部Oの直下との間の反射率差を低減して、パターン部Pとパターン開口部Oとの相違を更に抑制する観点から、透明導電性フィルム10は以下の条件を満たすことが好ましい。つまり、透明導電性フィルム10において、第1透明誘電体層2の光学厚みが3〜45nmであり、第2透明誘電体層3の光学厚みが3〜50nmであり、透明導電層4の光学厚みが20〜100nmであり、第2透明誘電体層3の屈折率をn1、透明導電層4の屈折率をn2としたとき、n1<n2の関係を満足することが好ましい。各層の光学厚みのより好ましい範囲は、第1透明誘電体層2については3〜22nmであり、第2透明誘電体層3については3〜40nmであり、透明導電層4については20〜75nmである。
透明基材1としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。例えば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。
また、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載の高分子フィルムを使用することもできる。例えば、側鎖に置換及び/又は非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換及び/又は非置換フェニル並びにニトリル基を有する熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物が例示できる。具体的には、イソブチレン及びN−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物の高分子フィルムを用いることもできる。
透明基材1の厚みは、2〜200μmの範囲内であることが好ましく、2〜100μmの範囲内であることがより好ましい。この範囲内であれば、機械的強度を確保した上で、透明導電性フィルム10の薄膜化が容易となるからである。
透明基材1は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、この上に設けられる第1透明誘電体層2の透明基材1に対する密着性を向上させるようにしてもよい。また、第1透明誘電体層2を設ける前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化してもよい。
第1及び第2透明誘電体層2,3は、無機物や有機物、又は無機物と有機物との混合物により形成することができる。例えば、無機物として、NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、Al2O3(1.63)などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は屈折率である。〕があげられる。また、上記の他、酸化インジウム及び酸化セリウムを少なくとも含む複合酸化物を用いることもできる。また有機物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物、及びこれらの混合物などがあげられる。
なかでも第2透明誘電体層3は、無機物により形成されていることが好ましい。光劣化を防ぐことができるため、透明導電性フィルム10の耐久性を向上させることができるからである。この場合、上記無機物がSiO2であることが好ましい。SiO2は安価で入手しやすい上、耐酸性が高いため、透明導電層4を酸によりエッチングしてパターン化する場合は、第2透明誘電体層3の劣化を防ぐことができる。
第1及び第2透明誘電体層2,3は、透明基材1と透明導電層4の間に設けられるものであり、導電層としての機能を有しないものである。即ち、第1及び第2透明誘電体層2,3は、透明導電層4のパターン部P,P間で絶縁できるように誘電体層として設けられる。従って、第1及び第2透明誘電体層2,3は、表面抵抗が、例えば1×106Ω/□以上であり、好ましくは1×107Ω/□以上、より好ましくは1×108Ω/□以上である。なお、第1及び第2透明誘電体層2,3の表面抵抗の上限は特にない。一般的には、第1及び第2透明誘電体層2,3の表面抵抗の上限は測定限界である1×1013Ω/□程度であるが、1×1013Ω/□を超えるものであってもよい。
透明導電層4の構成材料としては特に限定されず、例えばインジウム、錫、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム及びタングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属(又は半金属)の酸化物が用いられる。当該酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属元素や、その酸化物が添加されていてもよい。例えば酸化錫を含有する酸化インジウムや、アンチモンを含有する酸化錫などが好ましく用いられる。
第1透明誘電体層2の屈折率(n0)は、好ましくは1.3〜2.5であり、より好ましくは1.4〜2.3である。第2透明誘電体層3の屈折率(n1)は、好ましくは1.3〜2.0であり、より好ましくは1.3〜1.6である。透明導電層4の屈折率(n2)は、好ましくは1.9〜2.1である。各層が前記範囲内であれば、透明性を確保できる上、パターン部Pとパターン開口部Oの直下との間における反射光の色相の相違を効果的に抑制できる。
なお、厚みの均一性、クラック発生防止及び透明性向上の観点から、第1透明誘電体層2の厚みは2〜30nmが好ましく、2〜12nmがより好ましい。同様の観点から、第2透明誘電体層3の厚みは2〜30nmが好ましい。同様の観点から、透明導電層4の厚みは10〜50nmが好ましく、10〜40nmがより好ましく、10〜30nmが更に好ましい。
透明導電性フィルム10の製造方法としては、例えば、透明基材1の片面に、透明基材1側から、第1透明誘電体層2、第2透明誘電体層3及び透明導電層4をこの順に形成する工程と、透明導電層4をエッチング液によりエッチングしてパターン化する工程と、第2透明誘電体層3をエッチング液によりエッチングしてパターン化する工程とを有する方法が例示できる。
第1透明誘電体層2、第2透明誘電体層3及び透明導電層4の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、塗工法等が挙げられ、材料の種類および必要とする厚みに応じて適宜の方法を採用することができる。
透明導電層4のエッチングに際しては、パターンを形成するためのマスクにより透明導電層4を覆って、酸等のエッチング液により透明導電層4をエッチングすればよい。上記酸としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。
第2透明誘電体層3のエッチングに際しては、透明導電層4をエッチングした場合と同様のパターンを形成するためのマスクにより透明導電層4を覆って、エッチング液により第2透明誘電体層3をエッチングすればよい。上述したように第2透明誘電体層3は、SiO2等の無機物が好適に用いられるため、エッチング液としては、アルカリが好適に用いられる。アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水溶液、およびこれらの混合物があげられる。
なお、透明導電層4をパターン化した後、必要に応じて、パターン化された透明導電層4を熱処理してもよい。透明導電層4の構成成分が結晶化されるため、透明性及び導電性を向上させることができるからである。この際の加熱温度は、例えば100〜150℃の範囲内であり、加熱時間は、例えば15〜180分の範囲内である。
透明導電層4及び第2透明誘電体層3のパターンの態様については、特に限定されず、透明導電性フィルム10が適用される用途に応じて、ストライプ状等の各種のパターンを形成することができる。
次に、本発明の別の一例である透明導電性フィルムについて、図2を参照しながら説明する。図2に示すように、透明導電性フィルム20は、上述した透明導電性フィルム10の透明基材1の図中下面(即ち、透明基材1における第1透明誘電体層2とは反対側の面)に、透明粘着剤層5を介して透明基体6が設けられている。
透明粘着剤層5の構成材料としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性及び接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
また、透明粘着剤層5は、通常、ベースポリマー又はその組成物を溶剤に溶解又は分散させた粘着剤溶液(固形分濃度が10〜50重量%程度)から形成される。前記溶剤としては、トルエン、酢酸エチル等の有機溶剤や水等の粘着剤の種類に応じたものを適宜に選択して用いることができる。
透明基体6の厚みは、10〜300μmであるのが好ましく、より好ましくは20〜250μmである。また、透明基体6を複数の基体フィルムにより形成する場合、各基体フィルムの厚みは10〜200μmであるのが好ましく、20〜150μmであるのがより好ましい。透明基体6や前記基体フィルムとしては、上述した透明基材1と同様のものが使用できる。
透明基材1と透明基体6との貼り合わせは、透明基体6側に透明粘着剤層5を設けておき、これに透明基材1を貼り合わせるようにしてもよいし、逆に透明基材1側に透明粘着剤層5を設けておき、これに透明基体6を貼り合わせるようにしてもよい。後者の方法では、ロール状の透明基材1に対して、透明粘着剤層5を連続的に形成できるため、生産性の面で一層有利である。また、透明基材1に、順次に複数の基体フィルムを透明粘着剤層(図示せず)により貼り合せることによっても、透明基体6を形成することができる。なお、基体フィルムの積層に用いる透明粘着剤層には、上述した透明粘着剤層5と同様のものを用いることができる。
透明粘着剤層5は、例えば、透明基体6の接着後に於いては、そのクッション効果により、透明基材1の一方の面に設けられた透明導電層4の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性(所謂ペン入力耐久性や面圧耐久性)を向上させる機能を有する。この機能をより効果的に発揮させる観点から、透明粘着剤層5の弾性係数を1〜100N/cm2の範囲、厚みを1μm以上(より好ましくは5〜100μm)の範囲に設定するのが好ましい。この範囲内であれば、上記効果が十分発揮され、透明基体6と透明基材1との密着力も十分となる。
この様な透明粘着剤層5を介して貼り合わされる透明基体6は、透明基材1に対して良好な機械的強度を付与し、ペン入力耐久性や面圧耐久性を向上させることができる。
また必要に応じて、透明基体6の外表面に、外表面の保護を目的としたハードコート層(図示せず)を設けるようにしてもよい。このハードコート層としては、例えば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂などの硬化型樹脂からなる硬化被膜が好ましく用いられる。前記ハードコート層の厚みとしては、硬度の観点、及びクラックやカールの発生を防止する観点から、0.1〜30μmが好ましい。
以上、本発明の一例である透明導電性フィルムについて説明したが、本発明は上記実施形態には限定されない。例えば、上記実施形態では、第2透明誘電体層がパターン化されている場合について例示したが、第2透明誘電体層はパターン化されていなくてもよい。
また、本発明では、第2透明誘電体層を設けなくても良い。その場合、第1透明誘電体層の屈折率をn0、透明導電層の屈折率をn2としたとき、n0<n2の関係を満足するように構成材料を選択することが好ましい。
また、本発明では、図3A〜Cに示すように、第2透明誘電体層3と透明導電層4の間に第3透明誘電体層7が形成されていてもよい。この場合、図3Aの透明導電性フィルム30のように各透明誘電体層がパターン化されていなくてもよく、図3B,Cのように一部の透明誘電体層がパターン化されていてもよい。即ち、図3Bの透明導電性フィルム40のように第3透明誘電体層7がパターン化されていてもよく、図3Cの透明導電性フィルム50のように第2及び3透明誘電体層3,7がパターン化されていてもよい。また、図示はしないが、透明誘電体層が4層以上設けられていてもよい。
また、本発明の透明導電性フィルムには、視認性の向上を目的とした防眩処理層や反射防止層を設けることもできる。特に抵抗膜方式のタッチパネルに用いる場合には、上述したハードコート層と同様に透明基体の外表面(透明粘着剤層とは反対側の面)に、防眩処理層や反射防止層を設けることができる。また、ハードコート層上に、防眩処理層や反射防止層を設けることもできる。一方、静電容量方式のタッチパネルに用いる場合には、防眩処理層や反射防止層は、透明導電層上に設けられることもある。
上記防眩処理層の構成材料としては特に限定されず、例えば電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。防眩処理層の厚みは、0.1〜30μmが好ましい。
上記反射防止層としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム等が用いられる。反射防止機能を一層大きく発現させる為には、酸化チタン層と酸化ケイ素層との積層体を用いることが好ましい。前記積層体は、透明基体やハードコート層上に屈折率の高い酸化チタン層(屈折率:約2.35)が形成され、該酸化チタン層上に屈折率の低い酸化ケイ素層(屈折率:約1.46)が形成された2層積層体が好ましい。更に、この2層積層体上に、酸化チタン層及び酸化ケイ素層がこの順序で形成された4層積層体がより好ましい。この様な2層積層体又は4層積層体の反射防止層を設けることにより、可視光線の波長領域(380〜780nm)の反射を均一に低減させることが可能となる。
本発明の透明導電性フィルムは、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルに好適に適用できる。
以下、本発明の実施例について比較例と併せて説明するが、本発明は下記の実施例に限定して解釈されるものではない。なお、実施例及び比較例における評価は、下記に示す方法で行った。
<各層の屈折率>
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、25.0℃の条件下、各測定面に対して測定光(波長:589.3nm)を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、25.0℃の条件下、各測定面に対して測定光(波長:589.3nm)を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。
<各層の厚み>
透明基材の厚みは、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。その他の層の厚みについては、日立製作所製の透過型電子顕微鏡H−7650により断面観察して測定した。
透明基材の厚みは、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。その他の層の厚みについては、日立製作所製の透過型電子顕微鏡H−7650により断面観察して測定した。
<可視光線透過率>
島津製作所製の分光分析装置UV−240を用いて、波長550nmにおける可視光線の透過率を測定した。
島津製作所製の分光分析装置UV−240を用いて、波長550nmにおける可視光線の透過率を測定した。
<反射率差>
日立製作所製の分光光度計U4100の積分球測定モードを用いて、入射角を10度として反射スペクトルを測定し、波長450〜650nmの領域におけるパターン部とパターン開口部直下の平均反射率を算出した。そして、これらの平均反射率の値からパターン部とパターン開口部直下との間の反射率差の絶対値を算出した。なお、前記測定は、透明導電性フィルム(サンプル)の裏面側(透明基材側)に黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面からの反射や裏面側からの光の入射が殆どない状態で測定を行った。
日立製作所製の分光光度計U4100の積分球測定モードを用いて、入射角を10度として反射スペクトルを測定し、波長450〜650nmの領域におけるパターン部とパターン開口部直下の平均反射率を算出した。そして、これらの平均反射率の値からパターン部とパターン開口部直下との間の反射率差の絶対値を算出した。なお、前記測定は、透明導電性フィルム(サンプル)の裏面側(透明基材側)に黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面からの反射や裏面側からの光の入射が殆どない状態で測定を行った。
<色相の相違>
パターン部又はパターン開口部直下へ透明導電層側から入射角10度で白色光を照射し、その際の波長380〜780nmの反射光の色相a*値及びb*値を日立製作所製の分光光度計U4100を用いて測定した。得られた測定値から、以下の式にてΔa*及びΔb*を算出した。反射色彩の計算は、JIS Z 8720に規定される標準の光D65を採用し、2度視野の条件で行った。なお、以下の式において、a* P及びb* Pは、それぞれパターン部に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値を指し、a* O及びb* Oは、それぞれパターン開口部直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値を指す。
Δa*=|a* P−a* O|
Δb*=|b* P−b* O|
パターン部又はパターン開口部直下へ透明導電層側から入射角10度で白色光を照射し、その際の波長380〜780nmの反射光の色相a*値及びb*値を日立製作所製の分光光度計U4100を用いて測定した。得られた測定値から、以下の式にてΔa*及びΔb*を算出した。反射色彩の計算は、JIS Z 8720に規定される標準の光D65を採用し、2度視野の条件で行った。なお、以下の式において、a* P及びb* Pは、それぞれパターン部に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値を指し、a* O及びb* Oは、それぞれパターン開口部直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値を指す。
Δa*=|a* P−a* O|
Δb*=|b* P−b* O|
<見栄え評価>
太陽光の下で、黒い板の上にサンプルを透明導電層側が上になるように置き、目視により下記基準で見栄えの評価を行った。
◎:パターン部とパターン開口部の判別が困難。
○:パターン部とパターン開口部とをわずかに判別できる。
×:パターン部とパターン開口部とをはっきりと判別できる。
太陽光の下で、黒い板の上にサンプルを透明導電層側が上になるように置き、目視により下記基準で見栄えの評価を行った。
◎:パターン部とパターン開口部の判別が困難。
○:パターン部とパターン開口部とをわずかに判別できる。
×:パターン部とパターン開口部とをはっきりと判別できる。
<実施例1>
(第1透明誘電体層の形成)
厚み125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)からなる透明基材(屈折率nf=1.66)の一方の面に、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物(重量比2:2:1)の熱硬化型樹脂を塗工し、これを硬化させて、第1透明誘電体層(屈折率n0=1.54、厚み:4nm)を形成した。
(第1透明誘電体層の形成)
厚み125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)からなる透明基材(屈折率nf=1.66)の一方の面に、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物(重量比2:2:1)の熱硬化型樹脂を塗工し、これを硬化させて、第1透明誘電体層(屈折率n0=1.54、厚み:4nm)を形成した。
(第2透明誘電体層の形成)
次いで、第1透明誘電体層上に、SiO2(屈折率n1=1.46)を電子ビーム加熱法により、1×10-2〜3×10-2Paの真空度で真空蒸着して、厚み20nmの第2透明誘電体層を形成した。
次いで、第1透明誘電体層上に、SiO2(屈折率n1=1.46)を電子ビーム加熱法により、1×10-2〜3×10-2Paの真空度で真空蒸着して、厚み20nmの第2透明誘電体層を形成した。
(透明導電層の形成)
次いで、第2透明誘電体層上に、アルゴンガス98%と酸素ガス2%の混合ガス(0.4Pa)の雰囲気下、酸化インジウム97重量%、酸化錫3重量%の焼結体材料を用いて反応性スパッタリング法により、透明導電層として厚み22nmのITO層(屈折率n2=2.00)を形成した。
次いで、第2透明誘電体層上に、アルゴンガス98%と酸素ガス2%の混合ガス(0.4Pa)の雰囲気下、酸化インジウム97重量%、酸化錫3重量%の焼結体材料を用いて反応性スパッタリング法により、透明導電層として厚み22nmのITO層(屈折率n2=2.00)を形成した。
(ITO層のエッチングによるパターン化)
上記ITO層上に、ストライプ状にパターン化されたフォトレジスト膜を形成した後、これを25℃、5重量%の塩酸(塩化水素水溶液)に1分間浸漬して、ITO層のエッチングを行った。得られたITO層のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
上記ITO層上に、ストライプ状にパターン化されたフォトレジスト膜を形成した後、これを25℃、5重量%の塩酸(塩化水素水溶液)に1分間浸漬して、ITO層のエッチングを行った。得られたITO層のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
(第2透明誘電体層のエッチングによるパターン化)
上記ITO層の全てのパターン部上にフォトレジスト膜を形成した後、これを50℃、2重量%の水酸化ナトリウム水溶液に1分間浸漬して、ITO層のパターン開口部直下の第2透明誘電体層のエッチングを行った。得られた第2透明誘電体層のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
上記ITO層の全てのパターン部上にフォトレジスト膜を形成した後、これを50℃、2重量%の水酸化ナトリウム水溶液に1分間浸漬して、ITO層のパターン開口部直下の第2透明誘電体層のエッチングを行った。得られた第2透明誘電体層のパターン幅は5mmであり、パターンピッチは1mmであった。
<実施例2〜6>
実施例1において、第1透明誘電体層及び第2透明誘電体層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1透明誘電体層及び第2透明誘電体層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
<実施例7>
実施例1において、第1透明誘電体層を下記に示す方法で形成したことと、透明導電層(ITO層)の厚みを40nmにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1透明誘電体層を下記に示す方法で形成したことと、透明導電層(ITO層)の厚みを40nmにしたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
(実施例7の第1透明誘電体層の形成方法)
厚み125μmのPETフィルムからなる透明基材(屈折率nf=1.66)の一方の面に、アルゴンガス50%と酸素ガス50%の混合ガス(0.5Pa)の雰囲気下、チタンターゲットを用いて反応性スパッタリング法により、酸化チタンからなる第1透明誘電体層(屈折率n0=2.35、厚み:8nm)を形成した。
厚み125μmのPETフィルムからなる透明基材(屈折率nf=1.66)の一方の面に、アルゴンガス50%と酸素ガス50%の混合ガス(0.5Pa)の雰囲気下、チタンターゲットを用いて反応性スパッタリング法により、酸化チタンからなる第1透明誘電体層(屈折率n0=2.35、厚み:8nm)を形成した。
<比較例1〜4>
実施例1において、第1透明誘電体層及び第2透明誘電体層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1透明誘電体層及び第2透明誘電体層の厚みを表1に示す数値に調整したこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
<比較例5>
実施例7において、透明導電層(ITO層)の厚みを55nmにしたこと以外は、実施例7と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例7において、透明導電層(ITO層)の厚みを55nmにしたこと以外は、実施例7と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
<比較例6>
実施例1において、第1透明誘電体層の厚みを35nmにしたことと、第2透明誘電体層を設けなかったこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
実施例1において、第1透明誘電体層の厚みを35nmにしたことと、第2透明誘電体層を設けなかったこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、透明導電性フィルムを得た。
上記実施例及び比較例の透明導電性フィルム(サンプル)について、上記評価を行った。結果を表1に示す。
表1に示すように、実施例では、いずれもΔa*及びΔb*の値が抑制され、見栄えの良好な透明導電性フィルムが得られることが分かった。
1 透明基材
2 第1透明誘電体層
3 第2透明誘電体層
4 透明導電層
5 透明粘着剤層
6 透明基体
7 第3透明誘電体層
10,20,30,40,50 透明導電性フィルム
O パターン開口部
P パターン部
2 第1透明誘電体層
3 第2透明誘電体層
4 透明導電層
5 透明粘着剤層
6 透明基体
7 第3透明誘電体層
10,20,30,40,50 透明導電性フィルム
O パターン開口部
P パターン部
Claims (6)
- 透明基材上に第1透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記透明導電層は、パターン化されることによって、パターン部とパターン開口部が形成されており、
前記パターン部に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* P及びb* Pとし、前記パターン開口部の直下に白色光を照射した際の反射光の色相a*値及び色相b*値をそれぞれa* O及びb* Oとしたとき、0≦|a* P−a* O|≦4.00の関係を満足し、かつ0≦|b* P−b* O|≦5.00の関係を満足することを特徴とする透明導電性フィルム。 - 前記第1透明誘電体層と前記透明導電層の間に配置された、前記第1透明誘電体層と屈折率が相違する第2透明誘電体層を更に有する請求項1に記載の透明導電性フィルム。
- 前記第1透明誘電体層の光学厚みが3〜45nmであり、
前記第2透明誘電体層の光学厚みが3〜50nmであり、
前記透明導電層の光学厚みが20〜100nmであり、
前記第2透明誘電体層の屈折率をn1、前記透明導電層の屈折率をn2としたとき、n1<n2の関係を満足する請求項2に記載の透明導電性フィルム。 - 前記第2透明誘電体層は、パターン化されることによって、パターン部とパターン開口部が形成されている請求項2又は3に記載の透明導電性フィルム。
- 前記透明導電層のパターン部と前記第2透明誘電体層のパターン部が一致している請求項4に記載の透明導電性フィルム。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明導電性フィルムを含むタッチパネル。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009228540A JP2011076932A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
KR1020127006026A KR20120055626A (ko) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 투명 도전성 필름 및 터치 패널 |
CN201080042102.XA CN102511023B (zh) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 透明导电性薄膜及触摸面板 |
CN201410594622.1A CN104360765A (zh) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 透明导电性薄膜的制造方法 |
KR1020147036411A KR101638278B1 (ko) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 투명 도전성 필름 및 터치 패널 |
CN201410594615.1A CN104375701A (zh) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 透明导电性薄膜及触摸面板 |
KR1020147036410A KR101638277B1 (ko) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 투명 도전성 필름 및 터치 패널 |
PCT/JP2010/066818 WO2011040403A1 (ja) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
CN201410594671.5A CN104484081A (zh) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 透明导电性薄膜及触摸面板 |
US13/498,688 US20120181063A1 (en) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | Transparent conductive film and touch panel |
TW099133426A TWI545591B (zh) | 2009-09-30 | 2010-09-30 | Transparent conductive film and touch panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009228540A JP2011076932A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014090042A Division JP5859598B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
JP2014090037A Division JP5859597B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011076932A true JP2011076932A (ja) | 2011-04-14 |
Family
ID=43826219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009228540A Pending JP2011076932A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 透明導電性フィルム及びタッチパネル |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120181063A1 (ja) |
JP (1) | JP2011076932A (ja) |
KR (3) | KR20120055626A (ja) |
CN (4) | CN104360765A (ja) |
TW (1) | TWI545591B (ja) |
WO (1) | WO2011040403A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140110905A (ko) * | 2012-01-06 | 2014-09-17 | 제이엔씨 주식회사 | 투명 도전성 필름 |
KR20140138775A (ko) | 2012-03-09 | 2014-12-04 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 투명 도전성 필름 기재용 적층체 |
KR20140140626A (ko) | 2012-03-30 | 2014-12-09 | 데이진 가부시키가이샤 | 투명 도전성 적층체 |
JP6082841B2 (ja) * | 2014-04-30 | 2017-02-15 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
CN114637429A (zh) * | 2022-03-31 | 2022-06-17 | 业成科技(成都)有限公司 | 内嵌式触控透明显示设备 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140042318A (ko) * | 2012-09-28 | 2014-04-07 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 투명 도전성 기재 및 이를 포함하는 터치 패널 |
US10241623B2 (en) * | 2013-03-14 | 2019-03-26 | Neodrón Limited | Reduction of touch sensor pattern visibility using beamsplitters |
KR101865685B1 (ko) * | 2013-05-23 | 2018-06-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 투명 전극 패턴 적층체 및 이를 구비한 터치 스크린 패널 |
JP5447728B1 (ja) * | 2013-10-28 | 2014-03-19 | 大日本印刷株式会社 | 中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ |
KR101565855B1 (ko) * | 2014-04-21 | 2015-11-05 | 에스케이씨하스디스플레이필름(유) | 패턴 비시인성이 우수한 투명 전도성 광학시트 |
US10429964B2 (en) * | 2014-05-01 | 2019-10-01 | Ulvac, Inc. | Touch panel, method of manufacturing touch panel, and optical thin film |
KR101673387B1 (ko) * | 2014-10-21 | 2016-11-07 | 에스케이씨하스디스플레이필름(유) | 패턴 비시인성이 우수한 투명 전도성 광학시트 |
CN106066747A (zh) | 2015-04-22 | 2016-11-02 | 财团法人工业技术研究院 | 具触控功能的光学薄膜 |
CN106066724A (zh) * | 2015-04-22 | 2016-11-02 | 财团法人工业技术研究院 | 感应装置 |
TWI574189B (zh) * | 2015-04-22 | 2017-03-11 | 財團法人工業技術研究院 | 具觸控功能的光學薄膜 |
CN106066720B (zh) | 2015-04-22 | 2019-04-26 | 财团法人工业技术研究院 | 感应装置 |
JP6611471B2 (ja) * | 2015-05-27 | 2019-11-27 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
KR102197435B1 (ko) * | 2016-09-12 | 2020-12-31 | 후지필름 가부시키가이샤 | 도전성 필름, 터치 패널 센서, 및 터치 패널 |
KR101866692B1 (ko) * | 2017-04-25 | 2018-06-11 | 동우 화인켐 주식회사 | 터치 센서 패널 |
CN108008558B (zh) * | 2017-11-28 | 2019-12-10 | 信利光电股份有限公司 | 一种触摸屏及其制作方法 |
TW202121128A (zh) * | 2019-09-24 | 2021-06-01 | 日商琳得科股份有限公司 | 書寫感提升片 |
JP7357503B2 (ja) * | 2019-10-04 | 2023-10-06 | リンテック株式会社 | 書き味向上シート |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009076432A (ja) * | 2007-01-18 | 2009-04-09 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルム、その製造方法及びそれを備えたタッチパネル |
JP2010182528A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性フィルム |
JP2010228295A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電積層体及びタッチパネル |
JP2011037258A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Efun Technology Co Ltd | 透明導電性積層体及びその色度均一性改善法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59148171A (ja) * | 1983-02-15 | 1984-08-24 | Clarion Co Ltd | テ−ププレ−ヤの早送り巻戻し機構 |
JP2763472B2 (ja) * | 1993-01-23 | 1998-06-11 | 日東電工株式会社 | 透明導電性積層体とタツチパネル |
JPH10186104A (ja) * | 1996-10-24 | 1998-07-14 | Takeshi Kamiya | 多層反射防止膜および光素子 |
JP3854392B2 (ja) * | 1996-11-11 | 2006-12-06 | 同和鉱業株式会社 | 光学的フィルター |
JP2003080624A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-19 | Nof Corp | 透明導電材料およびタッチパネル |
JP3675404B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2005-07-27 | セイコーエプソン株式会社 | 半透過・反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
JP2003114764A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | タッチパネルおよびこれを用いた電子機器 |
CN1324447C (zh) * | 2004-06-01 | 2007-07-04 | 日东电工株式会社 | 高耐用性的接触面板 |
JP2006276831A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-10-12 | Sanyo Epson Imaging Devices Corp | カラーフィルタ基板、液晶装置、及び電子機器 |
CN100552606C (zh) * | 2005-05-26 | 2009-10-21 | 郡是株式会社 | 透明平面体和透明接触开关 |
WO2006126604A1 (ja) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Gunze Limited | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
CN100552475C (zh) * | 2005-08-03 | 2009-10-21 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜、偏光板和图像显示装置 |
KR101219042B1 (ko) * | 2005-12-06 | 2013-01-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 반투과형 액정 표시 장치 |
JP4874145B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2012-02-15 | グンゼ株式会社 | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
JP5099893B2 (ja) * | 2007-10-22 | 2012-12-19 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム、その製造方法及びそれを備えたタッチパネル |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009228540A patent/JP2011076932A/ja active Pending
-
2010
- 2010-09-28 WO PCT/JP2010/066818 patent/WO2011040403A1/ja active Application Filing
- 2010-09-28 CN CN201410594622.1A patent/CN104360765A/zh active Pending
- 2010-09-28 CN CN201410594615.1A patent/CN104375701A/zh active Pending
- 2010-09-28 US US13/498,688 patent/US20120181063A1/en not_active Abandoned
- 2010-09-28 KR KR1020127006026A patent/KR20120055626A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-09-28 KR KR1020147036410A patent/KR101638277B1/ko active IP Right Grant
- 2010-09-28 KR KR1020147036411A patent/KR101638278B1/ko active IP Right Grant
- 2010-09-28 CN CN201080042102.XA patent/CN102511023B/zh active Active
- 2010-09-28 CN CN201410594671.5A patent/CN104484081A/zh active Pending
- 2010-09-30 TW TW099133426A patent/TWI545591B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009076432A (ja) * | 2007-01-18 | 2009-04-09 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フィルム、その製造方法及びそれを備えたタッチパネル |
JP2010182528A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性フィルム |
JP2010228295A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電積層体及びタッチパネル |
JP2011037258A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Efun Technology Co Ltd | 透明導電性積層体及びその色度均一性改善法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140110905A (ko) * | 2012-01-06 | 2014-09-17 | 제이엔씨 주식회사 | 투명 도전성 필름 |
JPWO2013103104A1 (ja) * | 2012-01-06 | 2015-05-11 | Jnc株式会社 | 透明導電性フィルム |
US9756722B2 (en) | 2012-01-06 | 2017-09-05 | Jnc Corporation | Transparent electroconductive film |
KR101998904B1 (ko) * | 2012-01-06 | 2019-07-10 | 제이엔씨 주식회사 | 투명 도전성 필름 |
KR20140138775A (ko) | 2012-03-09 | 2014-12-04 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 투명 도전성 필름 기재용 적층체 |
KR20140140626A (ko) | 2012-03-30 | 2014-12-09 | 데이진 가부시키가이샤 | 투명 도전성 적층체 |
US9886110B2 (en) | 2012-03-30 | 2018-02-06 | Teijin Limited | Transparent electroconductive laminate |
JP6082841B2 (ja) * | 2014-04-30 | 2017-02-15 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
US10186346B2 (en) | 2014-04-30 | 2019-01-22 | Nitto Denko Corporation | Transparent conductive film |
CN114637429A (zh) * | 2022-03-31 | 2022-06-17 | 业成科技(成都)有限公司 | 内嵌式触控透明显示设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201124999A (en) | 2011-07-16 |
KR20120055626A (ko) | 2012-05-31 |
WO2011040403A1 (ja) | 2011-04-07 |
CN102511023A (zh) | 2012-06-20 |
US20120181063A1 (en) | 2012-07-19 |
KR20150008923A (ko) | 2015-01-23 |
CN104375701A (zh) | 2015-02-25 |
CN104360765A (zh) | 2015-02-18 |
CN104484081A (zh) | 2015-04-01 |
KR20150008924A (ko) | 2015-01-23 |
KR101638277B1 (ko) | 2016-07-08 |
TWI545591B (zh) | 2016-08-11 |
KR101638278B1 (ko) | 2016-07-08 |
CN102511023B (zh) | 2014-11-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2011040403A1 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
JP4966924B2 (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性積層体及びタッチパネル、並びに透明導電性フィルムの製造方法 | |
JP5160325B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
KR101800495B1 (ko) | 투명 도전성 필름 및 터치 패널 | |
JP5788129B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
JP5275372B2 (ja) | 透明導電性フィルム、その製造方法およびタッチパネル | |
JP5859598B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
JP5859597B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
JP5889975B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
JP5425423B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル、並びに透明導電性フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130517 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140128 |