JP2018192710A - 透明導電性フィルムおよび画像表示装置 - Google Patents

透明導電性フィルムおよび画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】電磁波シールド効果を備え、電極パターンの視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える透明導電性フィルムの提供。【解決手段】第１透明導電層５、第１光学調整層４、透明基材２、第２光学調整層７および第２透明導電層８を順に備え、第２透明導電層８の表面抵抗値は、第１透明導電層５の表面抵抗値よりも大きく、第１透明導電層５の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であり、第２透明導電層８の表面抵抗値は、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であり、第２光学調整層７の屈折率は、第１光学調整層４の屈折率よりも低い透明導電性フィルム１。【選択図】図１

Description

本発明は、透明導電性フィルム、および、それを備える画像表示装置に関する。
従来から、タッチパネルおよび画像表示素子を備える画像表示装置は、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電層が透明基材に形成されたタッチパネル用フィルムを備えることが知られている。そのようなタッチパネル用フィルムとして、透明基材の両面にＩＴＯ層が配置されている両面透明導電性フィルムが、例えば、特許文献１に記載されている。
ところで、液晶セルなどの画像表示素子は、電磁波を発生するため、画像表示装置には、電磁波を遮蔽する電磁波シールド効果が望まれている。そして、抵抗膜方式タッチパネルにおいて、２枚のＩＴＯ膜を対向配置したＩＴＯ構造は、電磁波シールド効果があることが知られている（例えば、非特許文献１参照。）。
特に、非特許文献１では、ＩＴＯ膜の抵抗値を小さくするためには、ＩＴＯ膜の厚膜化が必要であるが、その結果、光透過率が低下することが記載されている。また、一方のＩＴＯ膜のみの抵抗値（例えば、１０Ω程度）を低くすれば、他方のＩＴＯ膜の抵抗値を高くしても、良好な電磁波シールド効果があることが記載されている。
そして、これらの結果から、非特許文献１は、一方のＩＴＯ膜のみの抵抗値を低くし、他方のＩＴＯ膜の抵抗値を高くすることによって、良好な電磁波シールド効果を発現しながら、光透過率低下を抑制できることを開示している。
特開２０１３−９９９２４号公報
原田望著、「抵抗膜方式タッチパネルセンサの電磁波シールド効果」、電学論Ｅ、１２８巻７号、２００８年、ｐ．３１２〜３１３
ところで、耐久性が良好であり、誤作動が少ない静電容量方式に用いられるタッチパネル用フィルム（両面透明導電性フィルム）では、両面に配置される２枚のＩＴＯ層は、電極パターン形状にエッチングされる。そして、電極パターンの視認を抑制するため、ＩＴＯ層と透明基材との間に、光学調整層が設けられる。
この場合、両面透明導電性フィルムが光学調整層をさらに備えるため、光透過性が低下する。
本発明は、電磁波シールド効果を備え、電極パターンの視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える透明導電性フィルムおよび画像表示装置を提供する。
本発明［１］は、第１透明導電層、第１光学調整層、透明基材、第２光学調整層および第２透明導電層を順に備え、前記第２透明導電層の表面抵抗値は、前記第１透明導電層の表面抵抗値よりも大きく、前記第１透明導電層の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であり、前記第２透明導電層の表面抵抗値は、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であり、前記第２光学調整層の屈折率は、前記第１光学調整層の屈折率よりも小さい、透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［２］は、前記第２透明導電層の厚さは、前記第１透明導電層の厚さよりも薄い、［１］に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［３］は、前記第１光学調整層の屈折率は、１．６５以上、１．７５以下であり、前記第２光学調整層の屈折率は、１．６０以上、１．７０以下である、［１］または［２］に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［４］は、前記第１光学調整層および前記第２光学調整層の厚さは、ともに、１００ｎｍ以下であることを特徴とする、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［５］は、前記第１透明導電層および前記第２透明導電層は、ともにパターニングされており、前記第１透明導電層は、一方向に長い第１パターンを備え、前記第２透明導電層は、前記一方向と直交する直交方向に長い第２パターンを備え、前記第１パターンの一方向長さは、前記第２パターンの直交方向長さよりも長い、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。
本発明［６］は、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムと、前記透明導電性フィルムの前記第１透明導電層側に配置される画像表示素子とを備える、画像表示装置を含んでいる。
本発明の透明導電性フィルムによれば、第１透明導電層、第１光学調整層、透明基材、第２光学調整層および第２透明導電層を順に備える。このため、第１透明導電層および第２透明導電層がパターニングされた場合に、その第１透明導電層および第２透明導電層の視認を抑制することができる。
また、第１透明導電層の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であるため、透明導電性フィルムは、表面抵抗値が小さい透明導電層を備える。このため、透明導電性フィルムは、良好な電磁波シールド効果を発現することができる。
また、第２透明導電層の表面抵抗値は、第１透明導電層の表面抵抗値よりも大きく、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であるため、第２透明導電層を、第１透明導電層よりも相対的に薄膜化できる。また、第２光学調整層の屈折率は、第１光学調整層の屈折率よりも低い。このため、透明導電性フィルムの光透過性を向上させることができる。
本発明の画像表示装置によれば、電磁波シールド効果を備え、パターニングされた第１透明導電層および第２透明導電層の視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える。
図１は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の断面図を示す。 図１は、図１に示す透明導電性フィルムをパターニングしたタッチパネル用フィルムの断面図を示す。 図３Ａ〜図３Ｂは、図３に示すタッチパネル用フィルムであって、図３Ａは、第１透明導電層の電極パターンを示す平面図、図３Ｂは、第２透明導電層の電極パターンを示す底面図を示す。 図４は、図２に示す透明導電性フィルムを備える画像表示装置を示す。 図５Ａ〜図５Ｂは、本発明のタッチパネル用フィルムの変形例（透明導電層の電極パターンが、複数の連続した矩形パターンを備える形態）であって、図５Ａは、第１透明導電層の電極パターンを示す平面図、図５Ｂは、第２透明導電層の電極パターンを示す底面図を示す。
＜透明導電性フィルムの一実施形態＞
本発明の透明導電性フィルムの一実施形態について、図を参照しながら以下に説明する。図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向、第１方向）であって、紙面上側が、上側（厚み方向一方側、第１方向一方側）、紙面下側が、下側（厚み方向他方側、第１方向他方側）である。また、紙面左右方向は、左右方向（第２方向、第１方向と直交する直交方向）であって、紙面左側が、左側（第２方向一方側）、紙面右側が、右側（第２方向他方側）である。また、紙面紙厚方向は、奥行き方向（第３方向、第１方向および第２方向と直交する直交方向）であって、紙面手前が、前側（第３方向一方側）、紙面奥側が、後側（第３方向他方側）である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
１．透明導電性フィルム
透明導電性フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、厚み方向と直交する所定方向（面方向）に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材などを作製するための一部品であり、つまり、画像表示装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム１は、液晶セルなどの画像表示素子を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
具体的には、図１に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の上面（一方面）に配置される第１ハードコート層３と、第１ハードコート層３の上面に配置される第１光学調整層４と、第１光学調整層４の上面に配置される第１透明導電層５と、透明基材２の下面（他方面）に配置される第２ハードコート層６と、第２ハードコート層６の下面に配置される第２光学調整層７と、第２光学調整層７の下面に配置される第２透明導電層８とを備える。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４、および、第１透明導電層５を備える。
透明導電性フィルム１は、好ましくは、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４および第１透明導電層５からなる。以下、各層について詳述する。
（透明基材）
透明基材２は、透明導電性フィルム１の機械強度を確保する基材である。透明基材２は、第１透明導電層５および第２透明導電層８を、第１ハードコート層３、第２ハードコート層６、第１光学調整層４および第２光学調整層７とともに、支持している。
透明基材２は、例えば、透明性を有する高分子フィルムである。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。
透明性、耐熱性、機械的強度などの観点から、好ましくは、オレフィン樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＣＯＰが挙げられる。
透明基材２の厚みは、機械的強度、耐擦傷性、タッチパネル用フィルム１ａの打点特性などの観点から、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。
透明基材２の厚みは、例えば、マイクロゲージ式厚み計を用いて測定することができる。
なお、透明基材２の上面および／または下面には、必要に応じて、易接着層、接着剤層などが設けられていてもよい。
（第１ハードコート層）
第１ハードコート層３は、透明導電性フィルム１に擦り傷を生じ難くするための擦傷保護層である。
第１ハードコート層３は、フィルム形状を有しており、例えば、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面と接触するように、配置されている。より具体的には、第１ハードコート層３は、透明基材２と第１光学調整層４との間に、透明基材２の上面および第１光学調整層４の下面と接触するように、配置されている。
第１ハードコート層３は、例えば、ハードコート組成物から形成されている。
第１ハードコート層３のハードコート組成物は、樹脂を含有し、好ましくは、樹脂のみからなる。
樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。
また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などの熱硬化性樹脂が挙げられる。
樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。
ハードコート組成物は、粒子を含有することができる。これにより、第１ハードコート層３を、耐ブロッキング特性を有するアンチブロッキング層とすることができる。
粒子としては、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。
また、ハードコート組成物には、さらに、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を含有することができる。
第１ハードコート層３の屈折率は、例えば、１．４０以上、好ましくは、１．４５以上であり、また、例えば、１．６０未満、好ましくは、１．５５以下である。第１ハードコート層３を上記範囲とすることにより、第１ハードコート層３の屈折率を、第１光学調整層４の屈折率よりも低くすることができ、電極パターンの視認をより一層抑制することができる。
ハードコート層（第１ハードコート層３および第２ハードコート層６）の屈折率は、例えば、分光エリプソメーターを用いて測定することができる。
第１ハードコート層３の厚みは、耐擦傷性、電極パターンの視認抑制の観点から、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。
ハードコード層（第１ハードコート層３および第２ハードコート層６）の厚みは、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ２０００」）を用い、干渉スペクトルの波形を基礎に算出することができる。
（第１光学調整層）
第１光学調整層４は、第１透明導電層５をパターニングした際に、そのパターン（例えば、電極パターン）の視認を抑制しつつ、透明導電性フィルム１に優れた透明性を確保するために、透明導電性フィルム１の光学物性（例えば、屈折率）を調整する層である。
第１光学調整層４は、フィルム形状を有しており、例えば、第１ハードコート層３の上面全面に、第１ハードコート層３の上面に接触するように、配置されている。より具体的には、第１光学調整層４は、第１ハードコート層３と第１透明導電層５との間に、第１ハードコート層３の上面および第１透明導電層５の下面に接触するように、配置されている。
第１光学調整層４は、光学調整組成物から形成されている。
光学調整組成物は、例えば、樹脂を含有する。光学調整組成物は、好ましくは、樹脂と粒子とを含有し、より好ましくは、樹脂と粒子とのみからなる。
樹脂としては特に限定されないが、ハードコート組成物で用いる樹脂と同一のものが挙げられる。樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。
樹脂の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、１０質量％以上、好ましくは、２５質量％以上であり、また、例えば、９５質量％以下、好ましくは、６０質量％以下である。
粒子としては、第１光学調整層４の求める屈折率に応じて好適な材料を選択することができ、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化などからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。
粒子としては、好ましくは、無機粒子、より好ましくは、金属酸化物粒子が挙げられ、さらに好ましくは、酸化ジルコニウム粒子（ＺｎＯ２）が挙げられる。
粒子の平均粒子径（メジアン径）は、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。
粒子の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、５質量％以上、好ましくは、４０質量％以上であり、また、例えば、９０質量％以下、好ましくは、７５質量％以下である。
第１光学調整層４の屈折率は、第２光学調整層７の屈折率よりも高く、例えば、１．６５以上であり、好ましくは、１．７０以上である。また、上限については、例えば、１．８０以下、好ましくは、１．７５以下である。第１光学調整層４の屈折率が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の光透過性をより一層良好にすることができる。
光学調整層（第１光学調整層４および第２光学構成層７）屈折率は、例えば、分光エリプソメーターを用いて測定することができる。
第１光学調整層４の厚みは、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、８５ｎｍ以下であり、また、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上である。第１光学調整層４の厚みが上記上限以下であれば、透明導電性フィルム１の色相（特に、Ｌａ＊ｂ＊の色空間）をより確実にニュートラルにできる。すなわち、透明導電性フィルム１の着色（例えば、黄色）を低減し、無色透明の透明導電性フィルム１を確実に得ることができる。
光学調整層（第１光学調整層４および第２光学調整層７）の厚みは、例えば、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ２０００」）を用い、干渉スペクトルの波形を基礎に算出することができる。
（第１透明導電層）
第１透明導電層５は、エッチングなどの後工程で、所定のパターン（例えば、電極パターン）に形成するための透明な導電層である。
第１透明導電層５は、透明導電性フィルム１の最上層であって、フィルム形状を有しており、第１光学調整層４の上面全面に、第１光学調整層４の上面に接触するように、配置されている。
第１透明導電層５の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。
第１透明導電層５の材料は、好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモン−スズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、より好ましくは、インジウム含有酸化物が挙げられ、さらに好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。これにより、第１透明導電層５は、優れた透明性および導電性を両立することができる。
第１透明導電層５の材料としてＩＴＯを用いる場合、酸化スズ（ＳｎＯ２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。
「ＩＴＯ」は、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含むこともできる。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｇａなどが挙げられる。
第１透明導電層５は、結晶質および非晶質のいずれであってもよい。第１透明導電層５は、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。これにより、第１透明導電層５の透明性を向上させ、また、第１透明導電層５の表面抵抗値をより一層低減させることができる。
透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）が結晶質であることは、例えば、透明導電層がＩＴＯ層である場合は、２０℃の塩酸（濃度５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。具体的は、塩酸（２０℃、濃度：５質量％）への浸漬・水洗・乾燥後に、１５ｍｍ間の端子間抵抗が１０ｋΩ以下である場合、ＩＴＯ層が結晶質であるものとする。
第１透明導電層５の表面抵抗値は、第２透明導電層８の表面抵抗値よりも低く、具体的には、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下である。好ましくは、２０Ω／□以上、より好ましくは、３０Ω／□以上であり、また、好ましくは、６０Ω／□以下、より好ましくは、５０Ω／□以下である。第１透明導電層５の表面抵抗値が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１が、優れた電磁波シールド性および導電性を発現することができる。
透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）の表面抵抗値は、例えば、４端子法を用いて測定することができる。
第１透明導電層５の厚みは、好ましくは、第２透明導電層８の厚みよりも厚く、例えば、３０ｎｍ以上、好ましくは、３５ｎｍ以上であり、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、６０ｎｍ以下である。第１透明導電層５の厚みが上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の電磁波シールド性をより一層良好にすることができる。
透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）の厚みは、例えば、透明導電層の断面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより、測定することができる。
（第２ハードコート層）
第２ハードコート層６は、透明導電性フィルム１に擦り傷を生じ難くするための擦傷保護層である。
第２ハードコート層６は、フィルム形状を有しており、例えば、透明基材２の下面全面に、透明基材２の下面と接触するように、配置されている。より具体的には、第２ハードコート層６は、透明基材２と第２光学調整層７との間に、透明基材２の下面および第２光学調整層７の上面と接触するように、配置されている。
第２ハードコート層６は、第１ハードコート層３と同様の層であり、例えば、第１ハードコート層３と同一の材料から、同一の構成（厚み、屈折率など）を有する。そのため、第２ハードコート層６も、第１ハードコート層３と同一形状、同一寸法を有する。
（第２光学調整層）
第２光学調整層７は、第２透明導電層８をパターニングした際に、そのパターン（例えば、電極パターン）の視認を抑制しつつ、透明導電性フィルム１に優れた透明性を確保するために、透明導電性フィルム１の光学物性（例えば、屈折率）を調整する層である。
第２光学調整層７は、フィルム形状を有しており、例えば、第２ハードコート層６の下面全面に、第２ハードコート層６の下面と接触するように、配置されている。より具体的には、第２光学調整層７は、第２ハードコート層６と第２透明導電層８との間に、第２ハードコート層６の下面および第２透明導電層８の上面と接触するように、配置されている。
第２光学調整層７は、光学調整組成物から形成されている。光学調整組成物としては、第１光学調整層４で上記したものと同様のものが挙げられる。
第２光学調整層７の屈折率は、第１光学調整層４の屈折率よりも低く、例えば、１．７０以下であり、好ましくは、１．６５未満、さらに好ましくは、１．６４以下である。また、下限については、例えば、１．５５以上、好ましくは、１．６０以上である。第２光学調整層７の屈折率が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の光透過性をより一層良好にすることができる。
第２光学調整層７と第１光学調整層４との屈折率の差は、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．０５以上であり、また、例えば、０．２０以下、好ましくは、０．１５以下である。屈折率の差が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の透過性を良好にしたり、色相をニュートラルにできる。
第２光学調整層７の厚みは、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、８５ｎｍ以下であり、また、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上である。第２光学調整層７の厚みが上記上限以下であれば、色相をより確実にニュートラルにできる。
（第２透明導電層）
第２透明導電層８は、エッチングなどの後工程で、所定のパターン（例えば、電極パターン）に形成するための透明な導電層である。
第２透明導電層８は、透明導電性フィルム１の最下層であり、フィルム形状を有しており、第２光学調整層７の下面全面に、第２光学調整層７の下面と接触するように、配置されている。
第２透明導電層８を構成する材料としては、第１透明導電層５で上記したものと同様のものが挙げられる。好ましくは、ＩＴＯである。また、第２透明導電層８は、結晶質および非晶質のいずれであってもよいが、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。
第２透明導電層８の表面抵抗値は、第１透明導電層５の表面抵抗値よりも高く、具体的には、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下である。好ましくは、６０Ω／□以上、より好ましくは、７０Ω／□以上、さらに好ましくは、１００Ω／□以上であり、また、好ましくは、１２０Ω／□以下である。第２透明導電層８の表面抵抗値が上記範囲であれば、第２透明導電層８の厚みを薄くすることができ、透明導電性フィルム１の光透過性を良好にすることができる。
第１透明導電層５と第２透明導電層８の表面抵抗値の差は、例えば、１０Ω／□以上、好ましくは、２０Ω／□以上、より好ましくは、４０Ω／□以上であり、また、例えば、１００Ω／□以下、好ましくは、７０Ω／□以下である。
第２透明導電層８の厚みは、好ましくは、第１透明導電層５の厚みよりも薄く、例えば、３５ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下であり、また、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、１０ｎｍ以上である。第２透明導電層８の厚みが上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の光透過性をより一層良好にすることができる。
２．透明導電性フィルムの製造方法
透明導電性フィルム１を製造するには、まず、透明基材２を用意し、続いて、透明基材２の両面に、ハードコート層（第１ハードコート層３および第２ハードコート層６）、光学調整層（第１光学調整層４および第２光学調整層７）および透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）を順に設ける。
例えば、まず、第１ハードコート層３または第２ハードコート層６を形成するハードコート組成物を溶媒で希釈した希釈液を調製する。続いて、その希釈液を透明基材２の上面または下面に塗布して、各希釈液を乾燥して、必要に応じてハードコート組成物を硬化させる。これにより、透明基材２の上面に第１ハードコート層３を設け、透明基材２の下面に第２ハードコート層６を設ける。
次いで、第１光学調整層４または第２光学調整層７を形成する光学調整組成物を溶媒で希釈した希釈液を調製する。続いて、その希釈液を第１ハードコート層３の上面または第２ハードコート層６の下面に塗布して、希釈液を乾燥して、必要に応じて光学調整組成物を硬化させる。これにより、第１ハードコート層３の上面に第１光学調整層４を設け、第２ハードコート層６の下面に第２光学調整層７を設ける。すなわち、第２光学調整層７／第２ハードコート層６／透明基材２／第１ハードコート層３／第１光学調整層４の積層体を得る。
次いで、乾式法により、上記積層体の両面に第１透明導電層５および第２透明導電層８を順次形成する。
乾式方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法によって薄膜の透明導電層を形成することができる。
スパッタリング法としては、例えば、２極スパッタリング法、ＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などが挙げられる。好ましくは、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。
スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材料としては、透明導電層を構成する上述の金属酸化物などが挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。ＩＴＯの酸化スズ濃度は、ＩＴＯ層の耐久性、結晶化などの観点から、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。
ガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。
スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性などの観点から、例えば、１Ｐａ以下であり、好ましくは、０．１Ｐａ以上０．７Ｐａ以下である。
電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。
この際、例えば、積層体に設けられる第１透明導電層５および第２透明導電層８の厚みをそれぞれ別個に調整することにより、各透明導電層の表面抵抗値を調整することができる。すなわち、透明導電層の厚みを厚くすることにより、その表面抵抗値を低くし、逆に、透明導電層の厚みを薄くすることにより、その表面抵抗値を高くすることができる。本発明では、好ましくは、第２透明導電層８の厚みを、第１透明導電層５の厚みよりも薄くなるように、各透明導電層の形成を調整する。
これにより、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４および第１透明導電層５をこの順で備える透明導電性フィルム１が得られる。
必要に応じて、次いで、透明導電性フィルム１に大気下で加熱処理を実施する。
加熱処理は、例えば、赤外線ヒーター、オーブンなどを用いて実施することができる。
加熱温度は、例えば、１００℃以上、好ましくは、１２０℃以上であり、また、例えば、２００℃以下、好ましくは、１６０℃以下である。
加熱時間は、加熱温度に応じて適宜決定されるが、例えば、１０分以上、好ましくは、３０分以上であり、また、例えば、５時間以下、好ましくは、３時間以下である。
この加熱処理により、各透明導電層を結晶化でき、所望の表面抵抗値にすることができる。
また、この製造方法では、各層を、例えば、ロールトゥロール方式で、透明基材２に対して設けることができ、または、これらの層の一部または全部をバッチ方式（枚葉方式）で設けることもできる。
透明導電性フィルム１の光透過率（視感度平均透過率）は、例えば、８６．０％以上、好ましくは、８６．５％以上である。光透過率が上記範囲であれば、透明の透明導電性フィルム１を確実に得ることができる。
透明導電性フィルム１の色相Ｌａ＊は、例えば、−１．５以上、好ましくは、−１．０以上であり、また、例えば、好ましくは、１．５以下、好ましくは、０．５以下である。色相Ｌｂ＊は、例えば、−４．０以上、好ましくは、−０．５以上であり、また、例えば、好ましくは、４．０以下、好ましくは、１．０以下である。色相が上記範囲であれば、無色透明の透明導電性フィルム１を確実に得ることができる。
この透明導電性フィルム１は、例えば、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネル用フィルムとして使用できる。特に、静電容量方式（具体的には、投影型静電容量方式）のタッチパネル用フィルムとして好適に使用できる。
３．タッチパネル用フィルム
次いで、透明導電性フィルム１の一実施形態であるタッチパネル用フィルム１ａについて、説明する。
タッチパネル用フィルム１ａは、図２に示すように、透明基材２と、透明基材２の上面に配置される第１ハードコート層３と、第１ハードコート層３の上面に配置される第１光学調整層４と、第１光学調整層４の上面に配置されるパターニング第１透明導電層５ａと、透明基材２の下面に配置される第２ハードコート層６と、第２ハードコート層６の下面に配置される第２光学調整層７と、第２光学調整層７の下面に配置されるパターニング第２透明導電層８ａとを備える。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、パターニング第２透明導電層８ａ、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４、および、パターニング第１透明導電層５ａを備える。タッチパネル用フィルム１ａは、好ましくは、パターニング第２透明導電層８ａ、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４およびパターニング第１透明導電層５ａからなる。
タッチパネル用フィルム１ａは、図３Ａ〜図３Ｂに示すように、左右方向（一方向、長辺方向）に長く、前後方向（他方向、短辺方向）に短い平面視略長方形状を有する。
タッチパネル用フィルム１ａは、上記した透明導電性フィルム１の透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）をパターン化（パターニング）することにより得られるパターニング透明導電性フィルムである。よって、タッチパネル用フィルム１ａの第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３および第１光学調整層４は、上記した透明導電性フィルム１の各層と同様である。
パターニング第１透明導電層５ａは、図３Ａに示すように、平面視略中央部に、第１パターンの一例として、左右方向に長く延びる第１長方形状パターン１１を備えている。具体的には、パターニング第１透明導電層５ａは、前後方向に互いに間隔を隔てて配置される第１長方形状パターン１１を複数備えている。また、第１長方形状パターン１１を集積回路（図示せず）に電気的に接続するための配線１２が、第１長方形状パターン１１の右端に一体的に接続されている。
パターニング第２透明導電層８ａは、図３Ｂに示すように、底面視略中央部に、第２パターンの一例として、前後方向（左右方向に直交する直交方向）に長く延びる第２長方形状パターン１３を備えている。具体的には、パターニング第２透明導電層８ａは、左右方向に互いに間隔を隔てて配置される第２長方形状パターン１３を複数備えている。また、第２長方形状パターン１３を集積回路（図示せず）に電気的に接続するための配線１２が、前端または後端に一体的に接続されている。
パターニング第１透明導電層５ａの第１長方形状パターン１１と、パターニング第２透明導電層８ａの第２長方形状パターン１３とは、厚み方向（上下方向）に投影したときに、互いに直交するように配置されている。
パターニング第１透明導電層５ａの第１長方形状パターン１１の左右方向長さ（長辺長さ）は、パターニング第２透明導電層８ａの第２長方形状パターン１３の前後方向長さ（長辺長さ）よりも長い。これにより、電流の移動距離が長いパターニング第１透明導電層５ａの表面抵抗値を低減することができるため、パターニング第１透明導電層５ａの電流の伝達速度を向上させたり、ノイズを低減することができる。その結果、画像表示装置２０の大型化を図ることができる。
パターニング方法としては、例えば、電極パターンを形成するためのマスクによって各透明導電層を被覆して、エッチング液により各透明導電層をエッチングすることにより実施される。エッチング液としては、酸が好適に用いられる。酸としては、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。
４．作用効果
この透明導電性フィルム１は、第１透明導電層５、第１光学調整層４、透明基材２、第２光学調整層７および第２透明導電層８を順に備えるため、第１透明導電層５および第２透明導電層８がパターニングされた場合に、パターニング第１透明導電層５ａおよびパターニング第２透明導電層８ａ（例えば、電極パターン）の視認を抑制することができる。
また、第１透明導電層５の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であるため、透明導電性フィルム１は、表面抵抗値が小さい第１透明導電層５を片面に備える。このため、この透明導電性フィルム１は、表面抵抗値が高い透明導電層を両面に備える透明導電性フィルムよりも相対的に、良好な電磁波シールド性を発現することができる。
また、第２透明導電層８の表面抵抗値は、第１透明導電層５の表面抵抗値よりも大きく、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であるため、第２透明導電層８を、第１透明導電層５よりも相対的に薄膜化できる。また、第２光学調整層７の屈折率は、第１光学調整層４の屈折率よりも低い。これらの表面抵抗値および屈折率によって、透明導電性フィルム１の光透過性を向上させることができる。
また、この透明導電性フィルム１の各透明導電層がともにパターニングされているタッチパネル用フィルム１ａでは、パターニング第１透明導電層５ａが、左右方向に長い第１長方形状パターン１１を備え、パターニング第２透明導電層８ａは、前後方向に長い第２長方形状パターン１３を備えている。また、第１長方形状パターン１１の左右方向長さは、前記第２パターンの前後方向長さよりも長い。そのため、電流の移動距離が長いパターニング第１透明導電層５ａの表面抵抗値を低減することができるため、パターニング第１透明導電層５ａの電流の伝達速度を向上させたり、ノイズを低減することができる。その結果、透明導電性フィルム１全体としての電流速度の向上、ノイズの低減を達成できるため、画像表示装置２０の大型化を図ることができる。
＜画像表示装置＞
次いで、画像表示装置２０の一実施形態について、説明する。画像表示装置２０の一実施形態は、図４に示すように、透明保護板２１と、第１透明粘着剤層２２と、タッチパネル用フィルム１ａと、第２透明粘着剤層２３と、画像表示素子２４とを順に備えている。なお、図４では、上側が素子側であり、下側が視認側である。
透明保護板２１は、外部からの衝撃や汚れに対して、画像表示素子２４などの画像表示装置２０の内部部材を保護するための層である。
透明保護板２１としては、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの硬質性樹脂からなる樹脂板、例えば、ガラス板などが挙げられる。
透明保護板２１の厚みは、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、５００μｍ以上であり、また、例えば、１０ｍｍ以下、より好ましくは、５ｍｍ以下である。
第１透明粘着剤層２２は、透明保護板２１とタッチパネル用フィルム１ａとを接着するための層である。第１透明粘着剤層２２は、フィルム形状を有しており、透明保護板２１の上に配置されている。より具体的には、第１透明粘着剤層２２は、透明保護板２１およびタッチパネル用フィルム１ａの間に、透明保護板２１の上面およびタッチパネル用フィルム１ａの下面（パターニング第２透明導電８ａ）と接触するように、配置されている。
第１透明粘着剤層２２は、透明な粘着剤組成物から形成されている。粘着性組成物の組成は限定されないが、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤（ブチルゴムなど）、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素樹脂系粘着剤などが挙げられる。
第１透明粘着剤層２２の厚み（透明保護板２１の上面からパターニング第２透明導電８ａの下面までの距離）は、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下、より好ましくは、５０μｍ以下である。
タッチパネル用フィルム１ａは、上側にパターニング第１透明導電層５ａが位置し、下側にパターニング第２透明導電層８ａが位置するように、第１透明粘着剤層２２の上に配置されている。より具体的には、タッチパネル用フィルム１ａは、第１透明粘着剤層２２および第２透明粘着剤層２３の間に、パターニング第２透明導電層８ａが第１透明粘着剤層２２に接触し、パターニング第１透明導電層５ａが第２透明粘着剤層２３に接触するように、配置されている。
また、タッチパネル用フィルム１ａの上面において、パターニング第１透明導電層５ａの第１長方形状パターン１１の上面および側面、ならびに、パターニング第１透明導電層５ａから露出する第１光学調整層４の上面が、第１透明粘着剤層２２に接触している。タッチパネル用フィルム１ａの下面において、パターニング透明導電層第２８ａの第２長方形状パターン１３の下面および側面、ならびに、パターニング第２透明導電層８ａから露出する第２光学調整層７の上面が、第２透明粘着剤層２３に接触している。
第２透明粘着剤層２３は、画像表示素子２４とタッチパネル用フィルム１ａとを接着するための層である。第２透明粘着剤層２３は、フィルム形状を有しており、タッチパネル用フィルム１ａの上に配置されている。より具体的には、第２透明粘着剤層２３は、タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示素子２４の間に、タッチパネル用フィルム１ａの上面および画像表示素子２４の下面と接触するように、配置されている。
第２透明粘着剤層２３は、第１透明粘着剤層２２と同様の粘着剤組成物から形成されている。第２透明粘着剤層２３の厚みは、第１透明粘着剤層２２の厚みと同様である。
画像表示素子２４は、第２透明粘着剤層２３の上に配置されている。より具体的には、画像表示素子２４は、画像表示面２５が下側となり、かつ、画像表示面２５が第２透明粘着剤層２３の上面に接触するように、第２透明粘着剤層２３の上面に配置されている。
画像表示素子２４としては、例えば、液晶セル、有機ＥＬなどが挙げられる。
この画像表示装置２０は、タッチパネル用フィルム１ａを備えるため、電磁波シールド効果を備え、パターニング第１透明導電層５ａおよびパターニング第２透明導電層８ａ（電極パターン）の視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える。よって、大画面化を図ることができる。
また、画像表示装置２０では、画像表示素子２４が、パターニング第１透明導電層５ａ側（上側）に配置されている。このため、電磁波シールド効果が強いパターニング第１透明導電層５ａ（第１透明導電層５）と、電磁波を発生する画像表示素子２４との距離を縮めている。よって、画像表示素子２４の電磁波をより確実に吸収でき、画像表示装置２０としての電磁波シールド効果が優れる。
＜変形例＞
（１）図１に示す実施形態では、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４、第１透明導電層５を備えるが、例えば、図示しないが、第２ハードコート層６および第１ハードコート層３を備えなくてもよい。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層８、第２光学調整層７、透明基材２、第１光学調整層４、および、第１透明導電層５からなる。
好ましくは、擦傷性の観点から、図１に示す実施形態が挙げられる。タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示装置２０についても上記と同様である。
（２）図３Ａ〜Ｂに示す実施形態では、パターニング第１透明導電層５ａが、左右方向に長い第１長方形状パターン１１を備え、パターニング第２透明導電層８ａが、前後方向に長い第２長方形状パターン１３を備えているが、例えば、図示しないが、パターニング第２透明導電層８ａが、左右方向に長い第１長方形状パターン１１を備え、パターニング第１透明導電層５ａが、前後方向に長い第２長方形状パターン１３を備えることもできる。
この実施形態では、パターニング第２透明導電層８ａの第１長方形状パターン１１の左右方向長さは、パターニング第１透明導電層５ａの第２長方形状パターン１３の前後方向長さよりも長い。
好ましくは、電極パターン長さが長い透明導電層の電流速度やノイズを向上させることができる点から、図３Ａ〜Ｂに示す実施形態が挙げられる。
（３）図３Ａ〜Ｂに示す実施形態では、第１パターンの一例として左右方向に延びる第１長方形状パターン１１、第２パターンの一例として前後方向に延びる第２長方形状パターン１３としたが、例えば、図５Ａ〜Ｂに示すように、第１パターンの一例として複数の矩形パターンが左右方向に連続する第１連続矩形状パターン１４とし、第２パターンの一例として複数の矩形パターンが前後方向に連続する第２連続矩形状パターン１５とすることもできる。
すなわち、図５Ａ〜Ｂに示す実施形態では、パターニング第１透明導電層５ａは、左右方向に互いに間隔を隔てて配置される第１連続矩形状パターン１４を複数備えている。第１連続矩形状パターン１４において、複数の略矩形パターンが、それらの対角線が左右方向に沿うように、一直線上に配置されている。
パターニング第２透明導電層８ａは、前後方向に互いに間隔を隔てて配置される第２連続矩形状パターン１５を複数備えている。第２連続矩形状パターン１５において、複数の略矩形パターンが、それらの対角線が前後方向に沿うように、一直線上に配置されている。
パターニング第１透明導電層５ａの第１連続矩形状パターン１４と、パターニング第２透明導電層８ａの第２連続矩形状パターン１５とは、厚み方向に投影したときに、互いに直交するように配置されている。また、厚み方向に投影したときに、第１連続矩形状パターン１４を構成する矩形状パターンが、第２連続矩形状パターン１５を構成する矩形状パターンと重複しないように、第１連続矩形状パターン１４および第２連続矩形状パターン１５は配置されている。また、厚み方向に投影したときに、第１連続矩形状パターン１４および第２連続矩形状パターン１５を合わせたパターンが、タッチパネル用フィルム１ａの略中央部の全面を覆うように、第１連続矩形状パターン１４および第２連続矩形状パターン１５は配置されている。
（４）図４に示す画像表示装置２０では、パターニング第１透明導電層５ａ側に画像表示素子２４が位置するように、タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示素子２４が配置されているが、例えば、図示しないが、パターニング第２透明導電層８ａ側に画像表示素子２４が位置するように、タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示素子２４が配置することもできる。すなわち、画像表示装置２０は、パターニング第１透明導電層５ａが下側となり、パターニング第２透明導電層８ａが上側となるように、透明保護板２１と、第１透明粘着剤層２２と、タッチパネル用フィルム１ａと、第２透明粘着剤層２３と、画像表示素子２４とを下側から順に備えることもできる。
好ましくは、画像表示装置２０全体としての電磁波シールド効果の観点から、図４に示す実施形態が挙げられる。
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
（実施例１）
透明基材（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアＺＦ−１６」、厚さ１００μｍ）の両面に、ハードコート組成物（アクリル系紫外線硬化性樹脂、ＤＩＣ社製、「ユニディックＲＳ２９−１２０」）の希釈液を、グラビアコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間加熱乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射して、第１および第２ハードコート層（各厚さ１．０μｍ、各屈折率１．５３）を形成した。これにより、第１ハードコート層、透明基材および第２ハードコート層の積層体を得た。
次いで、積層体の第１ハードコート層表面に、屈折率が１．７０となる光学調整組成物の希釈液を、グラビアコーターを用いて塗布し、６０℃で１分間加熱乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射して、第１光学調整層（屈折率１．７０、厚さ８０ｎｍ）を形成した。また、屈折率が１．６４となる光学調整組成物を用いた以外は上記と同様にして、第２ハードコート層表面に、第２光学調整層（屈折率１．６４、厚さ８０ｎｍ）を形成した。これにより、第１光学調整層、第１ハードコート層、透明基材および第２ハードコート層および第１光学調整層の積層体を得た。
なお、各光学調整組成物は、屈折率１．６０の屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、「オプスター」）と、屈折率１．７４の屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、「オプスターＫＺ６７３４」）とを適宜混合することにより、調製した。
次いで、得られた積層体をスパッタ装置に投入し、積層体の両面に、インジウム・スズ酸化物層（ＩＴＯ層）を積層した。ガスとして、アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる混合ガスを用い、雰囲気の圧力を０．４Ｐａとした。また、スパッタリングのターゲットとして、酸化インジウム９０質量％−酸化スズ１０質量％からなる焼結体を用いた。また、第１光学調整層側に積層される第１透明導電層の厚みを４０ｎｍ、第２光学調整層側に積層される第２透明導電層の厚みを３０ｎｍとなるように調整した。
これにより、第１透明導電層、第１光学調整層、第１ハードコート層、透明基材および第２ハードコート層、第１光学調整層および第２透明導電層からなる透明導電性フィルムを得た。
次いで、この透明導電性フィルムを１４０℃のオーブンで９０分間加熱することにより、第１および第２透明導電層を結晶化させて、実施例１の両面透明導電性フィルムを製造した。
（実施例２〜９および比較例１〜５）
光学調整層の厚みおよび屈折率、ならびに、透明導電層の厚みおよび表面抵抗値を、表１に記載の光学調整層の厚みおよび屈折率、ならびに、透明導電層の厚みおよび表面抵抗値に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、透明導電性フィルムを製造した。
（比較例６）
第１光学調整層および第２光学調整層を設けなかった以外は、実施例１と同様の方法で、透明導電性フィルムを製造した。
各実施例および各比較例の透明導電性フィルムについて、下記の測定を実施し、その結果を表１に示す。
＜表面抵抗＞
４端子法を用いて、各実施例および各比較例の透明導電性フィルムの各透明導電層の表面抵抗（Ω／□）を測定した。
＜層の厚み＞
各ハードコート層および各光学調整層の厚みは、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ２０００」）を用い、干渉スペクトルよりの波形を基礎に算出した。
各透明導電層の厚みは、透明導電性フィルムを切断した断面図を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより、測定した。
＜屈折率＞
透明フィルム（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、「ゼオノアＺＦ−１６」）上に、測定対象であるハードコート層のみを製膜し、分光エリプソメーター（ジェーエーウーラム社製、型番ＦＱＴＨ−１００）を用いて屈折率を測定した。
また、透明フィルム（上記と同様）上に、測定対象である光学調整層のみを製膜し、分光エリプソメーター（上記と同様）を用いて屈折率を測定した。
なお、透明フィルムと、ハードコート層または光学調整層との密着性が、不良である場合は、コロナ処理などの表面改質を適宜実施した。
＜透過率、色相＞
各実施例および各比較例の透明導電性フィルムの両面に、透明なアクリル系粘着剤（日東電工製、型番Ｎｏ．７、厚み２５μｍ）を介して、透明フィルム（日本ゼオン製、「ゼオノアＺＦ−１４」、厚み１００μｍ）を貼り合わせた。これにより、透過率測定用のサンプル（透明フィルム／粘着剤／透明導電性フィルム／粘着剤／透明フィルム）を得た。このサンプルを、分光光度計（村上色彩社製、型番「Ｄｏｔ−３」）を用いて、波長３８０〜７００ｎｍにおける視感度平均透過率、および、色相ａ＊、ｂ＊を測定した。結果を表１に示す。
＜電極パターンの視認性＞
各実施例および各比較例の透明導電性フィルムにおいて、第１透明導電層および第２透明導電層を、エッチング液を用いてエッチングして、図３Ａ〜Ｂの電極パターンにパターンニングした。パターニングした透明導電性フィルムを斜め上方から視認した。電極パターンが明確に視認された場合を×と評価し、電極パターンがほとんど視認されなかった場合を○と評価した。結果を表１に示す。
Figure 2018192710
１ 透明導電性フィルム
２ 透明基材
４ 第１光学調整層
５ 第１透明導電層
７ 第２光学調整層
８ 第２透明導電層
１１ 第１長方形状パターン
１３ 第２長方形状パターン
２０ 画像表示装置
２４ 画像表示素子

Claims (6)

  1. 第１透明導電層、第１光学調整層、透明基材、第２光学調整層および第２透明導電層を順に備え、
    前記第２透明導電層の表面抵抗値は、前記第１透明導電層の表面抵抗値よりも大きく、
    前記第１透明導電層の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であり、
    前記第２透明導電層の表面抵抗値は、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であり、
    前記第２光学調整層の屈折率は、前記第１光学調整層の屈折率よりも低いことを特徴とする、透明導電性フィルム。
  2. 前記第２透明導電層の厚さは、前記第１透明導電層の厚さよりも薄いことを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
  3. 前記第１光学調整層の屈折率は、１．６５以上、１．７５以下であり、
    前記第２光学調整層の屈折率は、１．６０以上、１．７０以下であることを特徴とする、請求項１または２に記載の透明導電性フィルム。
  4. 前記第１光学調整層および前記第２光学調整層の厚さは、ともに、１００ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。
  5. 前記第１透明導電層および前記第２透明導電層は、ともにパターニングされており、
    前記第１透明導電層は、一方向に長い第１パターンを備え、
    前記第２透明導電層は、前記一方向と直交する直交方向に長い第２パターンを備え、
    前記第１パターンの一方向長さは、前記第２パターンの直交方向長さよりも長いことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。
  6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムと、
    前記透明導電性フィルムの前記第１透明導電層側に配置される画像表示素子と
    を備えることを特徴とする、画像表示装置。
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