CN107533402B - 透明导电体及其制造方法以及触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种透明导电体，其具备：具有透明树脂基材和透射率调整层的第一层叠部；和依次具有透明树脂基材、透射率调整层、包含银或银合金的金属层和金属氧化物层的第二层叠部。第一层叠部和第二层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，第一层叠部的层叠方向的透射率T1与第二层叠部的层叠方向的透射率T2的差(T2‑T1)为4％以上。

Description

透明导电体及其制造方法以及触摸面板
技术领域
本发明涉及透明导电体及其制造方法以及使用该透明导电体的触 摸面板。
背景技术
透明导电体被用作液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP) 和电致发光面板(有机EL、无机EL)等的显示器以及太阳能电池等 的透明电极。另外，除了这些以外，还被用于电磁波屏蔽膜和防红外 线膜等。作为透明导电体中的金属氧化物层的材料，广泛使用在氧化 铟(In2O3)中添加有锡(Sn)的ITO。
近年来，智能手机和平板电脑终端等具有触摸面板的终端快速普 及。它们具有在液晶面板上设置触摸传感器部并在最外表面具有玻璃 盖板的结构。触摸传感器部通过在玻璃或膜基材的一个面或两面粘贴1 片或2片利用溅射形成ITO膜所得到的膜而构成。
随着触摸面板的大型化和触摸传感器功能的高精度化，要求具有 高透射率且低电阻的透明导电体。为了降低使用了ITO膜的透明导电 体的电阻，需要使ITO膜的膜厚变厚，或者需要通过热退火进行ITO 膜的结晶化。然而，使ITO膜厚膜化时，透射率会下降。另外，通常 难以在高温下对膜基材进行热退火。因此，在设置于膜基材上的ITO 膜的情况下，存在难以维持高的透射率并且降低电阻的状况。
在这种的情况下，提出了具有含有与ITO不同的成分的金属氧化 物层和金属层的层叠结构的透明导电膜(例如专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-157929号公报
发明内容
发明所要解决的课题
在触摸面板等用途中，为了对所触摸的位置进行检测，进行图案 化过程，在透明导电体中形成导电部分和绝缘部分。形成了导电部分 和绝缘部分后，用玻璃层覆盖它们来制造触摸面板等。在使用了ITO 的透明导电膜中，导电部分和绝缘部分的光学特性大致相同，因此， 几乎不会产生图案的浓淡花纹。另外，使用了ITO的透明导电膜的导 电部分和绝缘部分的光学特性在用玻璃层覆盖前的状态(膜状态)和 用玻璃层覆盖后的状态这两种状态下大致相同。
然而，在以夹着金属层的方式层叠金属氧化物层的透明导电体的 情况下，如果在图案化过程中，利用蚀刻将金属层和夹着金属层的金 属氧化物层完全除去，则蚀刻前的导电部分和蚀刻后的绝缘部分的透 射率不同，因此，会产生图案的浓淡花纹。另外，导电部分和绝缘部 分的透射率在用玻璃层覆盖前的状态下和用玻璃层覆盖后的状态下不 同，因此，即使在用玻璃层覆盖前的状态下使导电部分和绝缘部分的 透射率差变小，在用玻璃层覆盖后的状态下透射率差也会变大，产生 图案的浓淡花纹。
因此，在一个方面，本发明的目的在于提供一种具有金属氧化物 层和金属层的层叠结构的透明导电体，该透明导电体能够充分抑制因 导电部分与绝缘部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹的产生。另外， 在另一方面，本发明的目的在于提供一种能够以高的生产率制造这样 的透明导电体的制造方法。进一步，在其他的方面，本发明的目的在 于提供一种通过使用上述的透明导电体从而充分抑制了因导电部分与 绝缘部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹的触摸面板。
用于解决课题的技术手段
本发明在一个方面提供一种透明导电体，是具备透明树脂基材的 透明导电体，并且具备：具有透明树脂基材和透射率调整层的第一层 叠部；和依次具有透明树脂基材、透射率调整层、包含银或银合金的 金属层和金属氧化物层的第二层叠部，第一层叠部和第二层叠部在与 它们的层叠方向垂直的方向上邻接，第一层叠部的层叠方向的透射率 T1与第二层叠部的层叠方向的透射率T2的差(T2-T1)为4％以上。
这样的透明导电体不仅在作为导电部分的第二层叠部具有透射率 调整层，而且在作为绝缘部分的第一层叠部也具有透射率调整层。通 过设置透射率调整层，能够增大第一层叠部与第二层叠部的层叠方向 的透射率的差(T2-T1)，并使之成为4％以上。如果以覆盖第一层叠部 的透射率调整层和第二层叠部的金属氧化物层的方式设置玻璃层，则 第一层叠部的透射率变高，接近于第二层叠部的透射率。因此，在用 玻璃层覆盖前的状态下，通过预先设定透射率的差(T2-T1)，能够减 小设置玻璃层后的导电部分与不包含导电部分的部分、即绝缘部分的 透射率的差。因此，能够充分抑制基于导电部分和绝缘部分的形状的浓淡花纹的产生。这样的透明导电体能够适用于触摸面板等要求高画 质的用途。
上述T2可以为80％以上。由此，能够制成具有高的透射率的透明 导电体，并能够制成特别适于要求极力降低导电部分和绝缘部分的图 案的浓淡花纹的触摸面板等的用途的透明导电体。
在几个实施方式中，透射率调整层的折射率可以为1.8～2.5，金属 氧化物层的折射率可以为1.8～2.3。通过具备具有这样的折射率的透射 率调整层，能够充分地提高设置玻璃层后的导电部分(第四层叠部) 和绝缘部分(第三层叠部)的透射率，并且能够进一步减小它们的差。 由此，能够进一步降低浓淡花纹，并且能够进一步提高画质。
在几个实施方式中，第一层叠部和第二层叠部可以在透明树脂基 材与透射率调整层之间具有高折射率层。此时，高折射率层的折射率 可以为1.55～1.8。通过设置这样的高折射率层，能够进一步减小波长 450nm～650nm下的透射率差。
在几个实施方式中，第一层叠部和第二层叠部可以在透明树脂基 材与透射率调整层之间从透明树脂基材侧开始依次具有低折射率层和 高折射率层。此时，高折射率层的折射率可以为1.55～1.8，低折射率 层的折射率可以小于高折射率层的折射率，并且为1.4～1.6。通过一并 设置这样的高折射率层和低折射率层，从而能够进一步减小可见光区 域整体的透射率差。
关于上述透明导电体的金属层，在几个实施方式中，第一层叠部 和第二层叠部可以在透明树脂基材的与透射率调整层侧相反侧具有硬 涂层。通过具有硬涂层，能够充分抑制透明树脂基材上产生的损伤。
在几个实施方式中，透射率调整层可以包含氧化锌和氧化锡中的 至少一种。金属氧化物层具有与透射率调整层不同的组成，可以包含 选自氧化锌、氧化镓、氧化锗、氧化铟、氧化钛和氧化锡中的至少一 种。
在几个实施方式中，第一层叠部和第二层叠部可以是通过部分蚀 刻除去金属层和金属氧化物层并且不蚀刻除去透射率调整层而形成 的。由此形成的透明导电体能够以高的生产率制造。
关于上述透明导电体，在几个实施方式中，第一层叠部和第二层 叠部可以在与透明树脂基材侧相反侧具有玻璃层，具有第一层叠部和 玻璃层的第三层叠部的层叠方向的透射率T3可以为90％以下，具有第 二层叠部和玻璃层的第四层叠部的层叠方向的透射率T4可以为85％以 上。
通过将具有绝缘部分的第三层叠部的透射率T3设定为90％以下， 能够充分地减小与具有导电部分的第四层叠部的透射率的差的绝对值 |T4-T3|。由此，能够制成充分抑制了因导电部分与绝缘部分的透射率 的差异而导致的浓淡花纹的透明导电体。
在几个实施方式中，透射率T3与透射率T4的差(T4-T3)的绝对 值可以为1％以下。由此，能够更进一步降低因导电部分与绝缘部分的 透射率的差异而导致的浓淡花纹。
本发明在其他方面，提供一种具备透明树脂基材的透明导电体， 该透明导电体是通过对依次具有透明树脂基材、透射率调整层、包含 银或银合金的金属层和金属氧化物层的层叠体进行蚀刻，不除去透射 率调整层，除去金属层和金属氧化物层的一部分而获得的，并且具备： 具有透明树脂基材和透射率调整层的第一层叠部；和依次具有透明树 脂基材、透射率调整层、包含银或银合金的金属层和金属氧化物层的 第二层叠部，第一层叠部和第二层叠部在与它们的层叠方向垂直的方 向上邻接。这样的透明导电体能够充分抑制因导电部分与绝缘部分的 透射率的差异而导致的浓淡花纹的产生。
本发明在另外其他的方面，提供一种具备透明树脂基材的透明导 电体，该透明导电体具备：依次具有透明树脂基材、透射率调整层和 玻璃层的第三层叠部；和依次具有透明树脂基材、透射率调整层、包 含银或银合金的金属层、金属氧化物层和玻璃层的第四层叠部，第三 层叠部和第四层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，第三层 叠部的层叠方向的透射率T3为90％以下，第四层叠部的层叠方向的透 射率T4为85％以上。
这样的透明导电体能够充分地减小具有绝缘部分的第三层叠部的 透射率T3与具有导电部分的第四层叠部的透射率T4的差的绝对值。 因此，能够充分抑制浓淡花纹的产生。这样的透明导电体能够适用于 触摸面板等要求高画质的用途。
本发明在另外其他的方面，提供一种具备透明树脂基材的透明导 电体，该透明导电体具备：依次具有透明树脂基材、透射率调整层和 玻璃层的第三层叠部；和依次具有透明树脂基材、透射率调整层、包 含银或银合金的金属层、金属氧化物层和玻璃层的第四层叠部，第三 层叠部和第四层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，透射率 调整层为绝缘层。这样的透明导电体能够充分抑制因导电部分与绝缘 部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹的产生。
本发明在另外其他的方面，提供一种触摸面板，其是在面板上具 有1个或多个传感器膜的触摸面板，传感器膜的至少一个由上述的透 明导电体构成。这样的触摸面板具有由上述的透明导电体构成的传感 器膜，因此，能够充分抑制因导电部分与绝缘部分的透射率的差异而 导致的浓淡花纹。
本发明在另外其他的方面，提供一种透明导电体的制造方法，其 是制造上述的透明导电体的方法，并且具有：对依次具有透明树脂基 材、透射率调整层、包含银或银合金的金属层和金属氧化物层的层叠 体进行蚀刻，不除去透射率调整层而除去金属层和金属氧化物层的一 部分，形成第一层叠部和第二层叠部的工序。由此，能够以高的生产 效率制造能够充分抑制基于导电部分与绝缘部分的形状的浓淡花纹的 产生的透明导电体。
发明的效果
根据本发明，能够提供一种能够充分抑制因导电部分与绝缘部分 的透射率的差异而导致的浓淡花纹的产生的透明导电体。另外，能够 提供一种能够以高的生产率制造这样的透明导电体的制造方法。进一 步，通过使用这样的透明导电体，能够提供一种充分抑制了因导电部 分与绝缘部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹的触摸面板。
附图说明
图1是示意地表示透明导电体的一个实施方式的截面图。
图2是示意地表示透明导电体的其他实施方式的截面图。
图3是示意地表示透明导电体的另外其他的实施方式的截面图。
图4是示意地表示透明导电体的另外其他的实施方式的截面图。
图5是示意地表示透明导电体的另外其他的实施方式的截面图。
图6是示意地表示透明导电体的另外其他的实施方式的截面图。
图7是示意地表示透明导电体的另外其他的实施方式的截面图。
图8是示意地表示透明导电体的另外其他的实施方式的截面图。
图9是放大表示触摸面板的一个实施方式的截面的一部分的示意 截面图。
图10是构成触摸面板的一个实施方式的传感器膜的俯视图。
图11是构成触摸面板的一个实施方式的传感器膜的俯视图。
符号的说明：
10、10a、10b、10c…第一层叠部，11…透明树脂基材，12…透射 率调整层，13…高折射率层，14…金属氧化物层，15a、15b…传感器 电极，16…金属层，17…低折射率层，18…硬涂层，19…玻璃层，20、 20a、20b、20c…第二层叠部，30、30a、30b、30c…第三层叠部，40、40a、40b、40c…第四层叠部，50…导体线路，70…面板，76…玻璃盖 板，80…电极，90…粘接剂，92…隔离物，100、101、102、103、104、 105、106、107…透明导电体，100a、100b…传感器膜，200…触摸面 板。
具体实施方式
以下，参照附图并对本发明的实施方式进行详细地说明。但是， 以下的实施方式是用于说明本发明的示例，宗旨不在于将本发明限定 于以下的内容。在说明中，对相同要素或具有相同功能的要素使用相 同的符号，并根据情况省略重复的说明。另外，上下左右等位置关系 只要没有特别说明，就是基于附图所示的位置关系。另外，附图的尺 寸比率并不限于图示的比率。
图1是表示透明导电体的一个实施方式的示意截面图。透明导电 体100具备：层叠有膜状的透明树脂基材11和透射率调整层12的第 一层叠部10；和依次层叠有透明树脂基材11、透射率调整层12、金属 层16和金属氧化物层14的第二层叠部20。第一层叠部10和第二层叠 部20在与它们的层叠方向(图1的上下方向)垂直的方向(图1的左 右方向)上邻接设置。第一层叠部10和第二层叠部20也可以沿着上 述垂直方向交替设置。
本说明书中的“透明”是指可见光透过，也可以在某种程度上散 射光。关于光的散射度，根据透明导电体100的用途，所要求的水平 不同。一般而言，存在如被称为半透明这样的光的散射的情况也包含 于本说明书中的“透明”的概念。优选光的散射度小，优选透明性高。
第一层叠部10成为通过例如图案化工艺而形成的不具有导电体的 绝缘部分。在透射率调整层12上不具有玻璃层的第一层叠部10的层 叠方向的透射率T1例如可以为80％以上，也可以为82％以上。如此， 通过提高T1，能够制成显示性能优异的透明导电体。透射率调整层12 上不具有玻璃层的第一层叠部10的透射率T1可以为90％以下，也可 以为85％以下。另外，本说明书中的“透射率”是使用市售的雾度计 (Haze meter)测得的550nm波长下的透射率。该透射率是使用积分球 求得的包含漫射透射光的透射率。
第二层叠部20成为通过例如图案化工艺而形成的导电部分。金属 氧化物层14上不具有玻璃层的第二层叠部20的层叠方向的透射率T2 例如可以为80％以上，也可以为85％以上。如此，通过提高T2，能够 制成显示性能优异的透明导电体。金属氧化物层14上不具有玻璃层的 第二层叠部20的透射率T2可以为93％以下，也可以为91％以下。
T1与T2的差(T2-T1)可以为4％以上，也可以为5％以上。由此， 能够充分地减小在第一层叠部10的透射率调整层12上设置玻璃层所 得到的第三层叠部的透射率T3与在第二层叠部的金属氧化物层14上 设置玻璃层所得到的第四层叠部的透射率T4的差的绝对值|T4-T3|。 |T4-T3|可以为1％以下，也可以为0.8％以下。从使上述绝对值变小的观 点考虑，T1与T2的差(T2-T1)可以为10％以下，也可以为8％以下。
作为透明树脂基材11，没有特别限定，可以是具有挠性的有机树 脂膜。有机树脂膜也可以是有机树脂片。作为有机树脂膜，例如可以 列举聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等 聚酯膜、聚乙烯和聚丙烯等聚烯烃膜、聚碳酸酯膜、丙烯酸膜、降冰 片烯膜、聚芳酯膜、聚醚砜膜、二乙酰纤维素膜以及三乙酰纤维素膜 等。这些中，优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚萘二甲酸乙二 醇酯(PEN)等聚酯膜。
从刚性的观点考虑，优选透明树脂基材11较厚。另一方面，从将 透明导电体100薄膜化的观点考虑，优选透明树脂基材11较薄。从这 样的观点考虑，透明树脂基材11的厚度例如为10～200μm。从制成光 学特性优异的透明导电体的观点考虑，透明树脂基材的折射率例如为 1.50～1.70。另外，本说明书中的折射率是在λ＝633nm、温度20℃的条 件下使用市售的椭偏仪测定的值。
透明树脂基材11可以是实施过选自电晕放电处理、辉光放电处理、 火焰处理、紫外线照射处理、电子束照射处理和臭氧处理中的至少一 种表面处理而得到的。透明树脂基材也可以是树脂膜。通过使用树脂 膜，能够将透明导电体100制成柔软性优异的透明导电体。由此，不 于触摸面板用途的透明导电体，也可以用作挠性的有机EL照明等的透 明电极用或电磁波屏蔽。
例如，将透明导电体100用作构成触摸面板的传感器膜时，为了 能够对于手指和笔等的外部输入进行适度地变形，透明树脂基材11也 可以使用具有挠性的有机树脂膜。
关于透射率调整层12，其材质没有限定。例如，可以是氧化物层、 氮化物层、或涂布树脂组合物后固化而得到的树脂层。从使图案化工 艺变得容易的观点考虑，要求透射率调整层12是不溶于除去金属层16 和金属氧化物层14时所使用的蚀刻液的。由此，能够在蚀刻时不除去 透射率调整层12而容易地制造具有第一层叠部10和第二层叠部20的 透明导电体100。另外，透射率调整层12要求绝缘性。
作为构成透射率调整层12的氧化物，可以列举含有氧化锌和氧化 锡作为主要成分的氧化物。通过包含这样的氧化物，能够制成兼具导 电性和高的透明性的透射率调整层12。氧化锌例如为ZnO，氧化锡例 如为SnO2。上述各金属氧化物中的金属原子与氧原子的比也可以偏离 化学计量比。
作为构成透射率调整层12的其他氧化物，可以是含有氧化锌作为 主要成分，含有10mol％以上的选自氧化锡、氧化铌和氧化铬中的至少 一种作为副成分，并且含有选自氧化铝、氧化镓、氧化钛和氧化锗中 的至少一种作为其他成分的氧化物。含有上述的副成分的氧化物在酸 中不溶解。因此，在蚀刻过程中，包含银或银合金的金属层16和金属 氧化物层14被蚀刻除去，与之相对，由上述的氧化物构成的透射率调 整层12能够不被蚀刻而仍然残留。进一步，由氧化钛和氧化铌构成的 氧化物也能够不被蚀刻而仍然残留。
透射率调整层12的折射率例如可以为1.8～2.5，也可以为1.95～ 2.05。通过设定为这样的折射率，能够充分地提高导电部分和绝缘部分 的透射率，并且能够进一步减小它们的差。由此，能够进一步降低浓 淡花纹，并且能够进一步提高画质。
透射率调整层12的厚度例如可以为10～100nm，也可以为20～ 80nm。通过设定为这样的厚度，能够降低第一层叠部10的透射率T1。 因此，能够使第三层叠部的透射率T3为90％以下。通过改变透射率调 整层12的厚度与折射率的积(厚度×折射率)，能够调整第一层叠部 10(第三层叠部)和第二层叠部20(第四层叠部)的透射率。
在透射率调整层12是氧化物层或氮化物层的情况下，透射率调整 层12可以利用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法或CVD法等真空成膜 法进行制作。这些中，从能够将成膜室小型化的方面和成膜速度快的 方面而言，优选溅射法。作为溅射法，可以列举DC磁控溅射。作为 靶材，可以使用氧化物靶材、金属或半金属靶材。
金属层16是包含银或银合金作为主要成分的层。通过金属层16 具有高的导电性，能够充分地降低透明导电体100的表面电阻。作为 与Ag一起构成银合金的添加元素，可以列举选自Pd、Cu、Nd、In、 Sn和Sb中的至少1种。作为银合金的例子，可以列举Ag-Pd、Ag-Cu、Ag-Pd-Cu、Ag-Nd-Cu、Ag-In-Sn和Ag-Sn-Sb。
金属层16中的上述添加元素的含量优选为0.5质量％以上，优选 为5质量％以下。小于0.5质量％时，有Ag的耐腐蚀性提高效果小的 倾向。另一方面，超过5质量％时，有吸收率变高、透射率下降的倾向。 金属层16的厚度例如为3～20nm。从充分地降低透明导电体100的表 面电阻并且充分地提高透射率的观点考虑，金属层16的厚度优选为 4～15nm。金属层16的厚度过大时，有透射率下降的倾向。另一方面， 金属层16的厚度过小时，有表面电阻变高的倾向。
金属层16具有调节透明导电体100的透射率和表面电阻的功能。 金属层16可以利用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法或CVD法等真空 成膜法进行制作。这些中，从能够将成膜室小型化的方面和成膜速度 快的方面出发，优选溅射法。作为溅射法，可以列举DC磁控溅射。 作为靶材，可以使用金属靶材。
金属氧化物层14是包含氧化物的透明的层，其组成没有特别限定。 作为氧化物，可以列举含有氧化锌、氧化铟、氧化钛和氧化锡这4种 成分作为主要成分的氧化物。通过将包含上述4种成分作为主要成分 的金属氧化物层14和金属层16层叠，不需要热退火，就能够形成兼 具高的导电性和高的透明性的金属氧化物层14和金属层16。另外，能 够通过酸性的蚀刻液容易地除去，另一方面，由于具有优异的耐碱性， 因此，能够有效地进行图案化。
氧化锌例如为ZnO，氧化铟例如为In2O3。氧化钛例如为TiO2，氧 化锡例如为SnO2。上述各金属氧化物中的金属原子与氧原子的比也可 以偏离化学计量比。
在金属氧化物层14中，从充分地提高透射率和导电性的观点考虑， 相对于上述4种成分的合计，氧化锌的含量例如为20mol％以上。在金 属氧化物层14中，从充分地提高保存稳定性的观点考虑，相对于上述 4种成分的合计，氧化锌的含量例如为68mol％以下。
在金属氧化物层14中，从充分地降低表面电阻并且充分地提高透 射率的观点考虑，相对于上述4种成分的合计，氧化铟的含量例如为 35mol％以下。在金属氧化物层14中，从充分地提高保存稳定性的观 点考虑，相对于上述4种成分的合计，氧化铟的含量例如为15mol％以 上。
在金属氧化物层14中，从充分地提高透射率的观点考虑，相对于 上述4种成分的合计，氧化钛的含量例如为15mol％以下。在金属氧化 物层14中，从充分地提高耐碱性的观点考虑，相对于上述4种成分的 合计，氧化钛的含量例如为5mol％以上。
在金属氧化物层14中，从充分地提高透射率的观点考虑，相对于 上述4种成分的合计，氧化锡的含量例如为40mol％以下。在金属氧化 物层14中，从充分地提高保存稳定性的观点考虑，相对于上述4种成 分的合计，氧化锡的含量例如为5mol％以上。另外，上述4种成分各 自的含量是将氧化锌、氧化铟、氧化钛和氧化锡分别换算成ZnO、In2O3、 TiO2和SnO2而求得的值。
关于金属氧化物层14中作为主要成分包含的其他氧化物，可以列 举包含氧化锌、氧化镓和氧化锗这3种成分的氧化物。3种成分中，优 选包含氧化锌最多。这样的氧化物由于包含氧化锌最多，因此，经济 性优异。
从充分地提高透射率和导电性的观点考虑，相对于上述3种成分 的合计，氧化锌的含量例如为70mol％以上，优选为75mol％以上。从 充分地提高保存稳定性的观点考虑，相对于上述3种成分的合计，氧 化锌的含量例如为90mol％以下，优选为84mol％以下。如果氧化锌的 含量过多，则在高温高湿环境下保存时，有容易发生白浊的倾向。另 一方面，如果氧化锌的含量过少，则有透射率和导电性下降的倾向。
从充分地降低表面电阻并且充分地提高透射率的观点考虑，相对 于上述3种成分的合计，氧化镓的含量例如为15mol％以下，优选为 11mol％以下。从充分地提高保存稳定性的观点考虑，相对于上述3种 成分的合计，氧化镓的含量例如为5mol％以上，优选为8mol％以上。 氧化镓的含量过多时，有表面电阻变高的倾向和透射率下降的倾向。 另一方面，氧化镓的含量过少时，在高温高湿环境下保存的情况下， 有容易发生白浊且表面电阻变高的倾向。
从充分地降低表面电阻并且充分地提高透射率的观点考虑，相对 于上述3种成分的合计，氧化锗的含量例如为20mol％以下，优选为 14mol％以下。从充分地提高保存稳定性的观点考虑，相对于上述3种 成分的合计，氧化锗的含量例如为5mol％以上，优选为8mol％以上。 氧化锗的含量过多时，有表面电阻变高的倾向和透射率下降的倾向。 另一方面，氧化锗的含量过少时，在高温高湿环境下保存的情况下， 有表面电阻变高的倾向。另外，上述3种成分各自的含量是将氧化锌、 氧化镓和氧化锗分别换算成ZnO、Ga2O3和GeO2而求得的值。
金属氧化物层14兼具光学特性的调节、金属层16的保护和导电 性的确保这样的功能。在不会很大地损害其功能的范围内，金属氧化 物层14除了上述4种成分或3种成分以外，还可以包含微量成分或不 可避免的成分。但是，从制成具有充分高的特性的透明导电体100的 观点考虑，优选金属氧化物层14中的该4种成分的合计的比例、或该 3种成分的合计的比例高。该比例例如为95mol％以上，优选为97mol％ 以上。金属氧化物层14可以由上述4种成分或上述3种成分构成，但 并不限定于上述4种成分或上述3种成分。
透射率调整层12和金属氧化物层14具有互相不同的组成。通过 透射率调整层12和金属氧化物层14具有互相不同的组成，如果对依 次具有透明树脂基材11、透射率调整层12、金属层16和金属氧化物 层14的层叠体进行蚀刻，则能够只除去金属氧化物层14和金属层16 的一部分(未被掩盖的部分)，并且原样残留透射率调整层12。
金属氧化物层14的折射率例如可以为1.8～2.3，也可以为1.9～ 2.3。通过设定为这样的折射率，能够充分地提高导电部分(第四层叠 部)和绝缘部分(第三层叠部)的透射率，并且能够进一步减小它们 的差。由此，能够进一步降低浓淡花纹，并且进一步提高画质。
金属氧化物层14的厚度例如可以为10～100nm，也可以为20～ 80nm。通过以这样的厚度使金属氧化物层14的膜厚最优化，能够对透 射率进行调节。因此，能够使第二层叠部20的透射率T2为80％以上。 通过改变金属氧化物层14的厚度与折射率的积(厚度×折射率)，能 够调节第一层叠部10(第三层叠部)和第二层叠部20(第四层叠部) 的透射率。
金属氧化物层14可以利用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法或CVD 法等真空成膜法进行制作。这些中，从能够将成膜室小型化的方面和 成膜速度快的方面出发，优选溅射法。作为溅射法，可以列举DC磁 控溅射。作为靶材，可以使用氧化物靶材、金属或半金属靶材。
可以在金属氧化物层14上设置配线电极等。导通金属层16的电 流从设置于金属氧化物层14上的配线电极等经由金属氧化物层14而 导通。因此，金属氧化物层14优选具有高的导电性。
图2是表示透明导电体的其他实施方式的示意截面图。从在透明 树脂基材11的背面上具有硬涂层18的方面出发，透明导电体101与 透明导电体100不同。即，透明导电体101在与透射率调整层12侧相 反侧具有硬涂层18。硬涂层18以外的结构与透明导电体100相同。
透明导电体101具备：依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11 和透射率调整层12的第一层叠部10a；和依次层叠有硬涂层18、透明 树脂基材11、透射率调整层12、金属层16和金属氧化物层14的第二 层叠部20a。第一层叠部10a和第二层叠部20a在与它们的层叠方向(图 2的上下方向)垂直的方向(图2的左右方向)上邻接设置。
通常，硬涂层18对第一层叠部10a和第二层叠部20a的透射率几 乎没有影响。第一层叠部10a和第二层叠部20a的透射率T1、T2的范 围以及两者的透射率的关系与图1的第一层叠部10和第二层叠部20 相同。因此，能够充分地减小在第一层叠部10a的透射率调整层12上 设置玻璃层而得到的第三层叠部的透射率T3与在第二层叠部20a的金 属氧化物层14上设置玻璃层而得到的第四层叠部的透射率T4的差的 绝对值|T4-T3|。
通过设置硬涂层18，能够充分抑制透明树脂基材11上发生的损 伤。硬涂层18含有使树脂组合物固化而得到的树脂固化物。树脂组合 物优选含有选自热固化性树脂组合物、紫外线固化性树脂组合物和电 子束固化性树脂组合物中的至少一种。热固化性树脂组合物可以包含 选自环氧类树脂、苯氧基类树脂和三聚氰胺类树脂中的至少一种。
树脂组合物例如是包含具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基等能量射 线反应性基团的固化性化合物的组合物。另外，作为(甲基)丙烯酰 基的表述是指包含丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少一者。固化性化 合物优选含有在1个分子内包含2个以上、优选为3个以上的能量射 线反应性基团的多官能单体或低聚物。
固化性化合物优选含有丙烯酸类单体。作为丙烯酸类单体，具体 而言，可以列举1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基) 丙烯酸酯、环氧乙烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷 三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸 酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲 基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五 (甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲 基)丙烯酸酯和3-(甲基)丙烯酰氧基甘油单(甲基)丙烯酸酯等。但是，不一定限定于这些。例如，也可以列举聚氨酯改性丙烯酸酯和 环氧改性丙烯酸酯等。
作为固化性化合物，也可以使用具有乙烯基的化合物。作为具有 乙烯基的化合物，例如可以列举乙二醇二乙烯基醚、季戊四醇二乙烯 基醚、1,6-己二醇二乙烯基醚、三羟甲基丙烷二乙烯基醚、环氧乙烷改 性氢醌二乙烯基醚、环氧乙烷改性双酚A二乙烯基醚、季戊四醇三乙 烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚和二-三羟甲基丙烷聚乙烯基醚等。但 是，并不一定限定于这些。
在利用紫外线使固化性化合物固化的情况下，树脂组合物包含光 聚合引发剂。作为光聚合引发剂，可以使用各种光聚合引发剂。例如， 可以从苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类和噻吨酮类等公知的化合物 中适当选择。更具体而言，可以列举DAROCUR 1173、IRGACURE 651、 IRGACURE 184、IRGACURE 907(以上为商品名，BASF日本株式会 社制造)和KAYACURE DETX-S(商品名，日本化药株式会社制造)。
光聚合引发剂相对于固化性化合物的质量可以设定为0.01～20质 量％或0.5～5质量％左右。树脂组合物可以是向丙烯酸类单体中添加 光聚合引发剂而成的公知的组合物。作为向丙烯酸类单体中添加光聚 合引发剂而成的组合物，例如可以列举作为紫外线固化型树脂的 SD-318(商品名，DIC株式会社制造)和XNR 5535(商品名，长濑产 业株式会社制造)等。
为了提高涂膜的强度和/或对折射率进行调节等，树脂组合物也可 以包含有机微粒和/或无机微粒。作为有机微粒，例如可以列举有机硅 微粒、交联丙烯酸微粒和交联聚苯乙烯微粒等。作为无机微粒，例如 可以列举氧化硅微粒、氧化铝微粒、氧化锆微粒、氧化钛微粒和氧化 铁微粒等。这些中，优选氧化硅微粒。
微粒也优选利用硅烷偶联剂对其表面进行处理，并且在表面上膜 状地存在有(甲基)丙烯酰基和/或乙烯基等能量射线反应性基团。如 果使用具有这样的反应性的微粒，则在照射能量射线时，微粒彼此反 应，或者微粒与多官能单体或低聚物反应，能够增强膜的强度。优选 使用以含有(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂处理过的氧化硅微粒。
微粒的平均粒径小于硬涂层18的厚度，从确保充分的透明性的观 点考虑，可以为100nm以下，也可以为20nm以下。另一方面，从胶 体溶液的制造上的观点考虑，可以为5nm以上，也可以为10nm以上。 使用有机微粒和/或无机微粒时，有机微粒和无机微粒的合计量相对于 100质量份的固化性化合物，例如可以为5～500质量份，也可以为20～ 200质量份。
如果使用利用能量射线固化的树脂组合物，则通过照射紫外线等 的能量射线，能够使树脂组合物固化。因此，从制造工序上的观点考 虑，也优选使用这样的树脂组合物。
硬涂层18可以将树脂组合物的溶液或分散液涂布在透明树脂基材 11的一个面(背面)上并进行干燥，使树脂组合物固化来制作。此时 的涂布可以利用公知的方法进行。作为涂布方法，例如可以列举挤压 喷嘴法、刮刀法(Blade method)、刀涂法(Knifemethod)、棒涂法、 轻触式涂布法、逆向轻触式涂布法(Kiss reverse method)、凹版辊涂法、浸涂法、逆向辊涂法、直接辊涂法、帘涂法和挤压涂布法等。
硬涂层18的厚度例如为0.5～10μm。厚度超过10μm时，有容易 发生厚度不均或褶皱等的倾向。另一方面，厚度低于0.5μm时，在透 明树脂基材11中包含相当量的增塑剂或低聚物等低分子量成分的情况 下，有时难以充分抑制这些成分的渗出。
硬涂层18的折射率例如为1.40～1.60。透明树脂基材11与硬涂层 18的折射率的差的绝对值例如为0.15以下。通过减小硬涂层18与透 明树脂基材11的折射率的差的绝对值，能够抑制因硬涂层18的厚度 的不均匀而发生的干涉不均的强度。
图3是表示透明导电体的另外其他的实施方式的示意截面图。从 在透明树脂基材11与透射率调整层12之间具有高折射率层13的方面 出发，透明导电体102与透明导电体101不同。高折射率层13以外的 结构与透明导电体101相同。另外，高折射率层13和硬涂层18以外 的结构与透明导电体100相同。
透明导电体102具备：依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、 高折射率层13和透射率调整层12的第一层叠部10b以及依次层叠有 硬涂层18、透明树脂基材11、高折射率层13、透射率调整层12、金 属层16和金属氧化物层14的第二层叠部20b。第一层叠部10b和第二 层叠部20b在与它们的层叠方向(图3的上下方向)垂直的方向(图3 的左右方向)上邻接设置。
第一层叠部10b和第二层叠部20b的透射率T1、T2的范围以及两 者的透射率的关系与图1的第一层叠部10和第二层叠部20相同。因 此，能够充分地减小在第一层叠部10b的透射率调整层12上设置玻璃 层而得到的第三层叠部的透射率T3与在第二层叠部20b的金属氧化物 层14上设置玻璃层而得到的第四层叠部的透射率T4的差的绝对值 |T4-T3|。
高折射率层13可以由与硬涂层18相同的材料构成。高折射率层 13可以利用与硬涂层18相同的方法进行制造。因此，关于硬涂层18 的说明内容也适用于高折射率层13。
高折射率层13例如与硬涂层18同样地含有利用能量射线使树脂 组合物固化而得到的树脂固化物。树脂组合物可以使用与硬涂层18中 所列举的组合物相同的组合物。例如，可以使用与硬涂层18中说明的 能量射线固化型的树脂组合物相同的组合物。即，树脂组合物是包含 具有选自(甲基)丙烯酰基和乙烯基等中的能量射线反应性基团的固 化性化合物的能量射线固化型的树脂组合物。树脂组合物也可以包含 高折射率的聚合物。
树脂组合物也可以包含金属氧化物的微粒。作为金属氧化物的微 粒，可以列举氧化钛(TiO2，折射率：2.35)、氧化锆(ZrO2，折射率： 2.05)、氧化铈(CeO2，折射率：2.30)、氧化铌(Nb2O3，折射率： 2.15)、氧化锑(Sb2O3，折射率：2.10)、氧化钽(Ta2O5，折射率： 2.10)和将这些组合2种以上而成的物质。
通过将使这样的微粒分散在固化性化合物中而成的树脂组合物涂 布在透明树脂基材11上并使之固化，也能够制作包含树脂固化物和金 属氧化物的微粒的高折射率层13。微粒相对于固化性化合物100质量 份，例如可以为5～500质量份，也可以为20～200质量份。随着微粒 的含量变少，有高折射率层13的折射率变低的倾向。
高折射率层13的折射率小于透射率调整层12，例如可以为1.55～ 1.80，也可以为1.57～1.75。高折射率层13的折射率过低时，有透射 率差变小的波长范围变窄的倾向。另一方面，透射率调整层12的折射 率过高时，有第二层叠部20b(和后述的第四层叠部40b)的总透光率 变低的倾向。
高折射率层13的厚度可以为10～150nm，也可以为15～100nm。 高折射率层13的厚度过小时，有难以通过涂布制作高折射率层13的 倾向。另一方面，高折射率层13的厚度过大时，有第二层叠部20b(和 后述的第四层叠部40b)的总透光率变低的倾向。
高折射率层13可以使用例如将氧化钛(TiO2)分散在丙烯酸类的 能量射线固化型的树脂成分中而成的树脂组合物(商品名：TYT80， 东洋油墨株式会社制造，折射率：1.80)或将氧化锆(ZrO2)分散在丙 烯酸类的能量射线固化型的树脂成分中而成的树脂组合物(商品名： TYZ70，东洋油墨株式会社制造，折射率：1.70)等来形成。高折射率 层13也可以使用含有高折射率的聚合物的树脂组合物来形成。作为高 折射率的聚合物，例如可以列举UR-101(商品名，折射率：1.70，日 产化学工业株式会社制造)。
高折射率层13可以通过在PET基材等的透明树脂基材11上涂布 上述的树脂组合物并干燥，其后进行紫外线照射使之固化来进行制作。 此时的涂布方法可以利用公知的方法进行。作为涂布方法，例如可以 列举挤压喷嘴法、刮刀法、刀涂法、棒涂法、轻触式涂布法、逆向轻 触式涂布法、凹版辊涂法、浸涂法、逆向辊涂法、直接辊涂法、帘涂 法和挤压涂布法等。从制造成本的观点考虑，这样的涂布方法更优选 为使用溅射法等的真空成膜法。
高折射率层13的折射率例如可以通过改变高折射率层所含的微粒 的种类和含量来进行调整。通过设置高折射率层13，能够扩大透射率 差变小的波长范围。
图4是表示透明导电体的另外其他的实施方式的示意截面图。从 在透明树脂基材11与高折射率层13之间具有低折射率层17的方面出 发，透明导电体103与透明导电体102不同。低折射率层17以外的结 构与透明导电体102相同。另外，低折射率层17、高折射率层13和硬 涂层18以外的结构与透明导电体100相同。
透明导电体103具备：依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、 低折射率层17、高折射率层13和透射率调整层12的第一层叠部10c 以及依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、低折射率层17、高折射 率层13、透射率调整层12、金属层16和金属氧化物层14的第二层叠 部20c。第一层叠部10c和第二层叠部20c在与它们的层叠方向(图4 的上下方向)垂直的方向(图4的左右方向)上邻接设置。
第一层叠部10c和第二层叠部20c的透射率T1、T2的范围以及两 者的透射率的关系与图1的第一层叠部10和第二层叠部20相同。因 此，能够充分地减小在第一层叠部10c的透射率调整层12上设置玻璃 层而得到的第三层叠部的透射率T3与在第二层叠部20c的金属氧化物 层14上设置玻璃层而得到的第四层叠部的透射率T4的差的绝对值 |T4-T3|。
低折射率层17可以由与硬涂层18相同的材料构成。低折射率层 17可以利用与硬涂层18相同的方法制造。因此，关于硬涂层18的说 明内容也适用于低折射率层17。
低折射率层17例如与硬涂层18同样地含有利用能量射线使树脂 组合物固化而得到的树脂固化物。树脂组合物可以使用与硬涂层18中 所列举的组合物相同的组合物。作为树脂组合物，例如可以使用与硬 涂层18中说明的能量射线固化型的树脂组合物相同的组合物。即，树 脂组合物可以是包含具有选自(甲基)丙烯酰基和乙烯基等中的能量 射线反应性基团的固化性化合物的能量射线固化型树脂组合物。
树脂组合物也可以包含金属氧化物的微粒。作为金属氧化物的微 粒，可以列举氧化硅(SiO2，折射率：1.55)。通过将使这样的微粒分 散在固化性化合物中而成的树脂组合物涂布在透明树脂基材11上并使 之固化，也能够制作包含树脂固化物和金属氧化物的微粒的低折射率 层17。微粒相对于固化性化合物100质量份，例如可以为5～500重量 份，也可以为20～200重量份。随着微粒的含量变少，有低折射率层 17的折射率变低的倾向。
低折射率层17的折射率小于透射率调整层12和高折射率层13， 例如可以为1.40～1.60，也可以为1.45～1.55。低折射率层17的折射 率过低时，有透射率差变小的波长范围变窄的倾向。另一方面，低折 射率层17的折射率过高时，有第二层叠部20c(和后述的第四层叠部 40c)的总透光率变低的倾向。
低折射率层17的厚度可以为10～150nm，也可以为15～130nm。 低折射率层17的厚度变得过小时，有难以通过涂布制作低折射率层17 的倾向。另一方面，低折射率层17的厚度过大时，有第二层叠部20c (和后述的第四层叠部40c)的总透光率变低的倾向。
低折射率层17可以通过在PET基材等的透明树脂基材11上涂布 上述的树脂组合物并干燥，其后进行紫外线照射使之固化来进行制作。 此时的涂布方法可以利用公知的方法进行。作为涂布方法，例如可以 列举挤压喷嘴法、刮刀法、刀涂法、棒涂法、轻触式涂布法、逆向轻 触式涂布法、凹版辊涂法、浸涂法、逆向辊涂法、直接辊涂法、帘涂 法和挤压涂布法等。从制造成本的观点考虑，这样的涂布方法更优选 为使用了溅射法等的真空成膜法。
低折射率层17的折射率例如可以通过改变低折射率层17所含的 微粒的种类和含量来进行调整。通过设置低折射率层17，能够在可见 光的宽的波长范围内减小透射率差。
上述的透明导电体100、101、102、103各自的厚度可以为200μm 以下，也可以为150μm以下。只要是这样的厚度，就能够充分地满足 薄化的要求水平。透明导电体100、101、102、103例如可以直接用作 触摸面板等的部件，也可以经由光学胶层叠多个。被层叠的透明导电 体的层结构可以相同，也可以不同。例如，可以将透明导电体100彼 此层叠，也可以将透明导电体101和透明导电体102层叠。还可以经 由光学胶将玻璃层层叠在一个透明导电体或多个层叠而成的透明导电 体上。即使是这样的实施方式，也能够充分降低来自导电部分和绝缘 部分的形状的浓淡花纹。
透明导电体100的制造方法具有对依次具有透明树脂基材11、透 射率调整层12、金属层16和金属氧化物层14的层叠体进行蚀刻，从 而除去金属层16和金属氧化物层14的一部分的工序。在该工序中， 蚀刻时，不将金属层16和金属氧化物层14的其他部分以及透射率调 整层12除去而使之残留。由此，形成第一层叠部10和第二层叠部20。 其他的透明导电体也可以通过对具有各个层叠结构所具有的硬涂层 18、高折射率层13和低折射率层17中的至少一个的层叠体进行蚀刻 来制造。透明导电体101、102、103也可以与透明导电体100同样地 制造。
图5是表示透明导电体的另外其他的实施方式的示意截面图。从 在透射率调整层12和金属氧化物层14上具有玻璃层19的方面出发， 图5的透明导电体104与透明导电体100不同。玻璃层19以外的结构 与透明导电体100相同。因此，透明导电体100可以用作用于制造透 明导电体104的中间体。
透明导电体104具备：依次层叠有透明树脂基材11、透射率调整 层12和玻璃层19的第三层叠部30以及依次层叠有透明树脂基材11、 透射率调整层12、金属层16、金属氧化物层14和玻璃层19的第四层 叠部40。第三层叠部30和第四层叠部40在与它们的层叠方向(图5 的上下方向)垂直的方向(图5的左右方向)上邻接设置。第三层叠 部30和第四层叠部40也可以沿着上述垂直方向交替设置。
第三层叠部30具有在透明导电体100的第一层叠部10的透射率 调整层12上层叠有玻璃层19的结构。玻璃层19可以由1块或多块玻 璃板构成。玻璃层19可以通过未图示的光学胶粘贴在透射率调整层12 上。第四层叠部40具有在透明导电体100的第二层叠部20的金属氧 化物层14上层叠有玻璃层19的结构。玻璃层19可以由1块或多块玻 璃板构成。玻璃层19可以通过未图示的光学胶粘贴在金属氧化物层14 上。
玻璃层19的厚度例如为0.1～5mm。玻璃层19的厚度可以根据用 途进行调整。玻璃层19的折射率例如为1.4～1.6。
第三层叠部30相当于不具有导电部分的绝缘部分。第三层叠部30 的层叠方向的透射率T3例如可以为84％以上，也可以为85％以上。如 此，通过提高T3，能够制成显示性能优异的透明导电体。第三层叠部 30的透射率T3为90％以下，可以为89.5％以下。由此，能够充分地减 小T3与T4的差的绝对值。
第四层叠部40相当于导电部分。第四层叠部40的层叠方向的透 射率T4为85％以上，也可以为87％以上。如此，通过提高T4，能够 制成显示性能优异的透明导电体。第四层叠部40的透射率T4可以为 93％以下，也可以为91％以下。
T4与T3的差的绝对值|T4-T3|为0.1％以上，也可以为1.0％以下。 由此，能够充分抑制因导电部分与绝缘部分的透射率的差异而导致的 浓淡花纹的产生。
图6是表示透明导电体的另外其他的实施方式的示意截面图。从 在透射率调整层12和金属氧化物层14上具有玻璃层19的方面出发， 图6的透明导电体105与图2的透明导电体101不同。玻璃层19以外 的结构与透明导电体101相同。因此，透明导电体101可以用作用于 制造透明导电体105的中间体。
透明导电体105具备：依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、 透射率调整层12和玻璃层19的第三层叠部30a以及依次层叠有硬涂 层18、透明树脂基材11、透射率调整层12、金属层16、金属氧化物 层14和玻璃层19的第四层叠部40a。第三层叠部30a和第四层叠部40a在与它们的层叠方向(图6的上下方向)垂直的方向(图6的左右 方向)上邻接设置。
不具有导电体的相当于绝缘部分的第三层叠部30a具有在图2所 示的透明导电体101的第一层叠部10a的透射率调整层12上层叠有玻 璃层19的结构。相当于导电部分的第四层叠部40a具有在图2所示的 透明导电体101的第二层叠部20a的金属氧化物层14上层叠有玻璃层 19的结构。第三层叠部30a和第四层叠部40a各自的透射率T3、T4 以及两者的关系与透明导电体104相同。
图7是表示透明导电体的另外其他的实施方式的示意截面图。从 在透射率调整层12和金属氧化物层14上具有玻璃层19的方面出发， 图7的透明导电体106与图3的透明导电体102不同。玻璃层19以外 的结构与透明导电体102相同。因此，透明导电体102可以用作用于 制造透明导电体106的中间体。
透明导电体106具备：依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、 高折射率层13、透射率调整层12和玻璃层19的第三层叠部30b以及 依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、高折射率层13、透射率调整 层12、金属层16、金属氧化物层14和玻璃层19的第四层叠部40b。
不具有导电体的相当于绝缘部分的第三层叠部30b具有在图3所 示的透明导电体102的第一层叠部10b的透射率调整层12上层叠有玻 璃层19的结构。相当于导电部分的第四层叠部40b具有在透明导电体 102的第二层叠部20b的金属氧化物层14上层叠有玻璃层19的结构。 第三层叠部30b和第四层叠部40b各自的透射率T3、T4以及两者的关 系与透明导电体104、105相同。
图8是表示透明导电体的另外其他的实施方式的示意截面图。从 在透射率调整层12和金属氧化物层14上具有玻璃层19的方面出发， 图8的透明导电体107与图4的透明导电体103不同。玻璃层19以外 的结构与透明导电体103相同。因此，透明导电体103可以用作用于 制造透明导电体107的中间体。
透明导电体107具备：依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、 低折射率层17、高折射率层13、透射率调整层12和玻璃层19的第三 层叠部30c以及依次层叠有硬涂层18、透明树脂基材11、低折射率层 17、高折射率层13、透射率调整层12、金属层16、金属氧化物层14 和玻璃层19的第四层叠部40c。
不具有导电体的相当于绝缘部分的第三层叠部30c具有在图4所 示的透明导电体103的第一层叠部10c的透射率调整层12上层叠有玻 璃层19的结构。具有导电部分的第四层叠部40c具有在图4所示的透 明导电体103的第二层叠部20c的金属氧化物层14上层叠有玻璃层19 的结构。第三层叠部30c和第四层叠部40c各自的透射率T3、T4以及 两者的关系与透明导电体104、105、106相同。
透明导电体104、105、106、107能够充分抑制因导电部分与绝缘 部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹的产生。因此，能够特别适合 用于触摸面板等的用途。透明导电体104可以通过进行以覆盖透明导 电体100的透射率调整层12和金属氧化物层14的方式设置玻璃层19 的工序来制造。透明导电体105、106、107可以与透明导电体104同 样地制造。玻璃层19可以通过光学胶粘贴在透射率调整层12和金属 氧化物层14上。
构成上述的透明导电体的各层的厚度可以按照以下的顺序进行测 定。利用聚焦离子束装置(FIB，Focused Ion Beam)切断透明导电体， 获得截面。使用透射电子显微镜(TEM)观察该截面，测定各层的厚 度。关于测定，优选在任意选择的10个以上的位置进行测定，求出其 平均值。作为获得截面的方法，也可以使用切片机作为聚焦离子束装 置以外的装置。作为测定厚度的方法，也可以使用扫描电子显微镜 (SEM)。另外，使用荧光X射线装置也能够测定膜厚。
图9是放大表示具有一对传感器膜的触摸面板200的截面的一部 分的示意截面图。图10和图11是使用了上述的透明导电体100的传 感器膜100a和100b的俯视图。触摸面板200具有通过光学胶72相对 配置的一对传感器膜100a、100b。触摸面板200构成为能够算出接触 体的触摸位置作为与成为屏幕的面板70平行的二维座标(X-Y座标) 平面中的座标位置(横向位置和纵向位置)。
如图9所示，触摸面板200具有通过光学胶72粘合的纵向位置检 测用的传感器膜100a(以下，称为“Y用传感器膜”)和横向位置检 测用的传感器膜100b(以下，称为“X用传感器膜”)。在X用传感 器膜100b的下表面侧，在X用传感器膜100b与显示装置的面板70之 间设置有隔离物92。
在Y用传感器膜100a的上表面侧(与面板70侧相反侧)通过光 学胶74设置有玻璃盖板76。即，触摸面板200具有在面板70上从面 板70侧开始依次配置有X用传感器膜100b、Y用传感器膜100a和玻 璃盖板76的结构。
检测纵向位置的Y用传感器膜100a和检测横向位置的X用传感 器膜100b由上述的透明导电体100构成。Y用传感器膜100a和X用 传感器膜100b以与玻璃盖板76相对的方式具有作为导电部的传感器 电极15a和传感器电极15b。
这些传感器电极15a、15b由依次具有透射率调整层12、金属层 16和金属氧化物层14的层叠体构成。金属层16和金属氧化物层14 通过蚀刻等被部分除去。如图10所示，传感器电极15a以能够检测纵 向(y方向)的触摸位置的方式在纵向(y方向)上延伸有多个。多个传感器电极15a沿着纵向(y方向)彼此平行地排列配置。传感器电极 15a的一端通过由银膏形成的导体线路50与驱动用IC侧的电极80连 接。
检测横向位置的X用传感器膜100b在与Y用传感器膜100a相对 的面具有传感器电极15b。该传感器电极15b由依次层叠有透射率调整 层12、金属层16和金属氧化物层14的层叠体构成。如图11所示，传 感器电极15b以能够检测横向(x方向)的触摸位置的方式在横向(x 方向)上延伸有多个。多个传感器电极15b沿着横向(x方向)彼此平 行地排列配置。传感器电极15b的一端通过由银膏形成的导体线路50 与驱动用IC侧的电极80连接。
传感器电极15a、15b也可以具有硬涂层18。传感器电极15a、15b 也可以在透明树脂基材11与透射率调整层12之间具有高折射率层13 或低折射率层17。
如图9所示，从Y用传感器膜100a和X用传感器膜100b的层叠 方向来看时，Y用传感器膜100a和X用传感器膜100b以各自的传感 器电极15a、15b彼此正交的方式通过光学胶72而重叠。在Y用传感 器膜100a的与X用传感器膜100b侧相反侧，通过光学胶74设置有玻 璃盖板76(玻璃层19)。光学胶74、玻璃盖板76和面板70可以使用 通常的材料。
图10和图11中的导体线路50和电极80由金属(例如Ag)等导 电性材料构成。导体线路50和电极80例如通过丝网印刷形成图案。 透明树脂基材11也具有作为覆盖触摸面板200的表面的保护膜的功 能。
各传感器膜100a、100b的传感器电极15a、15b的形状和数量并 不限定于图9、图10和图11所示的方式。例如，可以增加传感器电极 15a、15b的数量来提高触摸位置的检测精度。传感器膜100a、100b由 透明导电体100构成。传感器膜100a、100b也可以由透明导电体101、 102、103中的任意种代替透明导电体100来构成。
如图9所示，在X用传感器膜100b的与Y用传感器膜100a侧相 反侧，隔着隔离物92设置有面板70。隔离物92可以设置于与传感器 电极15a、15b的形状相对应的位置和包围全部传感器电极15a、15b 的位置。隔离物92可以由具有透光性的材料、例如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)树脂形成。隔离物92的一端通过光学胶或者丙烯酸类或 环氧类等的具有透光性的粘接剂90与X用传感器膜100b的下表面粘 接。隔离物92的另一端通过粘接剂90与显示装置的面板70粘接。如 此，通过隔着隔离物92将X用传感器膜100b和面板70相对配置，能够在X用传感器膜100b与显示装置的面板70之间设置间隙S。
控制部(IC)可以与图10和图11所示的电极80电连接。分别测 定因指尖与触摸面板200的Y用传感器膜100a之间的静电容量的变化 而产生的各传感器电极15a、15b的容量变化。控制部能够基于测定结 果算出接触体的触摸位置作为座标位置(X轴方向的位置与Y轴方向 的位置的交点)。另外，传感器电极的驱动方法和座标位置的计算方 法除了上述的方法以外，还可以采用公知的各种方法。
关于传感器膜100a的层叠方向的透射率，在具有传感器电极15a 的导电部分与不具有传感器电极15a的绝缘部分有4％以上的差异。关 于传感器膜100b的层叠方向的透射率，在具有传感器电极15b的层叠 部与不具有传感器电极15b的层叠部有4％以上的差异。另一方面，在 传感器膜100b上，通过光学胶层叠于传感器膜100a，进一步在传感器 膜100b、100a上通过光学胶74设置有作为玻璃层的玻璃盖板76的状 态下，包含传感器电极15a、15b的至少一者的层叠部(导电部分)与 不包含传感器电极15a、15b两者的层叠部(绝缘部分)的透射率的差 充分地变小。因此，在触摸面板200中，能够充分抑制因导电部分与绝缘部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹。
触摸面板200可以按照以下的顺序制造。准备透明导电体100后， 对透射率调整层12、金属层16和金属氧化物层14进行蚀刻，进行图 案化。具体而言，使用光刻技术，利用旋涂将抗蚀剂材料涂布于金属 氧化物层14的表面。之后，为了提高密合性，可以进行预烘干。接着， 配置掩模图案并曝光，用显影液进行显影，由此形成抗蚀剂图案。抗 蚀剂图案的形成并不限定于光刻，也可以利用丝网印刷等形成。另外， 也可以使用透明导电体101、102、103的任一者来代替透明导电体100。
接着，将形成有抗蚀剂图案的透明导电体100浸渍于酸性的蚀刻 液中，溶解除去没有形成抗蚀剂图案的部分中的金属氧化物层14和金 属层16。根据需要，也可以溶解除去透射率调整层12。金属氧化物层 14在用于蚀刻的酸中的溶解性优异。因此，通过将金属氧化物层14 和金属层16一起除去，能够顺利地进行电极图案形成。之后，使用碱 溶液除去抗蚀剂，获得形成有传感器电极15a的Y用传感器膜100a和 形成有传感器电极15b的X用传感器膜100b。
通过使透射率调整层12和金属氧化物层14成为不同的组成，透 射率调整层12设定为不能被蚀刻除去的组成，由此能够一并对金属层 16和金属氧化物层14进行蚀刻，在对透射率调整层12进行蚀刻后也 能够原样残留。蚀刻液没有特别限定，例如可以使用无机酸类的蚀刻 液。作为无机酸类的蚀刻液，例如可以列举磷酸类和盐酸类的蚀刻液。
接着，涂布例如银合金膏等的金属膏，形成导体线路50和电极80。 由此，控制部与传感器电极15a、15b电连接。接着，使用光学胶72， 以各自的传感器电极15a、15b向相同方向突出的方式粘贴Y用传感器 膜100a和X用传感器膜100b。在该情况下，从Y用传感器膜100a和 X用传感器膜100b的层叠方向来看时，以传感器电极15a、15b彼此 正交的方式粘贴。然后，使用光学胶74将玻璃盖板76和Y用传感器 膜100a粘贴。由此，能够制造触摸面板200。
Y用传感器膜100a和X用传感器膜100b两者不需要都使用透明 导电体100，任意一者也可以使用其他的透明导电体。即使是这样的触 摸面板，也能够使显示变得充分清晰。
这样，上述的各实施方式所涉及的透明导电体能够适用于触摸面 板。但是，其用途并不限定于触摸面板，例如可以通过蚀刻将金属氧 化物层14和金属层16加工成规定形状，形成具有金属氧化物层14和 金属层16的部分(导电部)以及不具有金属氧化物层14和金属层16 的部分(绝缘部)，在液晶显示器(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)、 电致发光面板(有机EL、无机EL)、电致变色元件和电子纸等各种 显示装置中，可以用作透明电极用、防静电用、电磁波屏蔽用。另外， 也可以用作天线。
以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明并不限 定于上述的实施方式。例如，在各实施方式所涉及的透明导电体中， 在不大大损害其功能的范围内，除了上述的层以外，还可以在任意的 位置设置任意的层。例如，在透明树脂基材11与透射率调整层之间也 可以设置将氧化锑、氧化铋、氧化铬和/或氧化铈等具有吸收的金属氧 化物微粒分散在树脂成分中而构成的吸收层。另外，在玻璃层19与透 射率调整层12和金属氧化物层14之间也可以具有公知的粘合片(光 学胶)。
实施例
以下，列举实施例和比较例对本发明进行更具体地说明，但本发 明并不限定于这些实施例。
[实施例1]
(透明导电体的制作)
准备具有50μm的厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东丽株式会社 制造，产品编号：UH13，折射率：1.61)。使用该PET膜作为透明树 脂基材。按照以下的顺序制备形成于PET膜的背面上的硬涂层制作用 的涂料。
准备以下的原材料。
·用反应性基团修饰后的胶体二氧化硅(分散介质：丙二醇单甲 醚乙酸酯，不挥发成分：40质量％)：100质量份
·二季戊四醇六丙烯酸酯：48质量份
·1,6-己二醇二丙烯酸酯：12重量份
·光聚合引发剂(1-羟基环己基苯酮)：2.5质量份
将上述的原材料用溶剂(丙二醇单甲醚(PGME))稀释并混合， 使各成分分散在溶剂中。由此，制备不挥发成分(NV)为25.5质量％ 的涂料。使用由此得到的涂料作为硬涂层制作用的涂料。
在透明树脂基材的一个面(背面)上涂布硬涂层制作用的涂料， 制作涂布膜。在设定为80℃的热风干燥炉中除去涂布膜中的溶剂后， 使用UV处理装置照射累计光量400mJ/cm2的紫外线，使涂布膜固化。 由此在透明树脂基材的一个面上形成了具有1.5μm的厚度的硬涂层。
在透明树脂基材的另一个面(表面)上，通过DC磁控溅射依次 形成了透射率调整层、金属层和金属氧化物层。使用ZnO-SnO2靶材形 成了透射率调整层。该靶材的组成为ZnO:SnO2＝45:55(摩尔％)。使 用AgPdCu靶材形成金属层。该靶材的组成为Ag:Pd:Cu＝99.0:0.5:0.5 (质量％)。
使用ZnO-Ga2O3-GeO2靶材形成了金属氧化物层。该靶材的组成为 ZnO:Ga2O3:GeO2＝81:9:10(摩尔％)。所形成的各层的组成与所使 用的靶材的组成相同。由此获得了依次层叠有硬涂层、透明树脂基材、 透射率调整层、金属层和金属氧化物层的层叠体。
在所获得的层叠体的金属氧化物层的表面配置掩模图案，使用抗 蚀剂油墨，通过印刷形成抗蚀剂图案。使所获得的抗蚀剂图案在100℃ 和10分钟的条件下干燥。接着，将形成有抗蚀剂图案的层叠体浸渍在 含有磷酸、乙酸、硝酸和盐酸的PAN系蚀刻液中，将没有形成抗蚀剂 图案的部分中的金属氧化物层和金属层溶解除去。最后，使用碱除去 抗蚀剂图案，制作实施例1(玻璃层形成前)的透明导电体。该透明导 电体具有如图2所示的第一层叠部10a和第二层叠部20a。残留的各层 的组成、厚度和折射率如表1所示。
(透明导电体的评价1)
使用雾度计(商品名：NDH-7000，日本电色工业公司制造)，分 别测定所获得的透明导电体的第一层叠部10a和第二层叠部20a的层 叠方向的透射率T1、T2。另外，算出透射率的差(T2-T1)的值。这 些结果如表1所示。
(玻璃层的形成)
在通过上述的蚀刻形成有图案的层叠体的透射率调整层和金属氧 化物层上，粘贴膜状的粘合片即OCA(光学透明粘合剂，Optical Clear Adhesive)。在该OCA上粘贴玻璃板。所形成的玻璃层(玻璃板)的 厚度为1mm，折射率为1.45。由此，获得具有如图6所示的第三层叠 部30a和第四层叠部40a的透明导电体(有玻璃层)。
(透明导电体的评价2)
使用雾度计(商品名：NDH-7000，日本电色工业公司制造)，分 别测定所获得的透明导电体的第三层叠部30a和第四层叠部40a的层 叠方向的透射率T3、T4。另外，算出T4-T3的绝对值。这些结果如表 1所示。
[实施例2]
如表1那样改变透射率调整层和金属氧化物层的厚度，形成金属 氧化物层时使用ZnO-In2O3-TiO2-SnO2靶材，并且在透明树脂基材与透 射率调整层之间形成高折射率层，除此以外，与实施例1同样地制作 透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)。用于形成金属氧化物层的靶材 的组成为ZnO:In2O3:TiO2:SnO2＝44:26:11:19(摩尔％)。所形成的金 属氧化物层的组成与所使用的靶材的组成相同。将各层的组成、厚度 和折射率示于表1中。
按照以下的顺序形成高折射率层。利用作为溶剂的丙二醇单甲醚 (PGME)对含有氧化锆(ZrO2)的树脂组合物(商品名：TYZ70，东 洋油墨株式会社制造，折射率：1.70)进行稀释，制备不挥发成分(NV) 为6质量％的涂料。将所制备的涂料涂布在透明树脂基材的另一个面 (表面)上，形成高折射率层。之后，在所形成的高折射率层上，与 实施例1同样地操作，依次形成透射率调整层、金属层和金属氧化物 层。实施例2的透明导电体(无玻璃层)具有如图3所示的第一层叠 部10b和第二层叠部20b。另外，实施例2的透明导电体(有玻璃层)具有如图7所示的第三层叠部30b和第四层叠部40b。与实施例1同样 地进行评价1、2。评价结果如表1所示。
[表1]
Figure RE-GDA0001441830900000021
表中，*1为ZnO-Ga2O3-GeO2，*2为ZnO-In2O3-TiO2-SnO2。
[实施例3]
如表2那样改变透射率调整层和高折射率层的厚度，并且在透明 树脂基材与高折射率层之间形成低折射率层，除此以外，与实施例2 同样地操作，制作透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)。将各层的组 成、厚度和折射率示于表2中。
按照以下的顺序形成低折射率层。利用作为溶剂的丙二醇单甲醚 (PGME)对含有氧化硅(SiO2)的树脂组合物(商品名：ENS653， DIC株式会社制造，折射率：1.45)进行稀释，制备不挥发成分(NV) 为3质量％的涂料。将所制备的涂料涂布在透明树脂基材的另一个面(表面)上，形成低折射率层。之后，在所形成的低折射率层上，与 实施例2同样地操作，依次形成高折射率层、透射率调整层、金属层 和金属氧化物层。实施例3的透明导电体(无玻璃层)具有如图4所 示的第一层叠部10c和第二层叠部20c。与实施例2同样地进行评价1、 2。评价结果如表2所示。
[表2]
Figure RE-GDA0001441830900000031
表中，*2为ZnO-In2O3-TiO2-SnO2。
[比较例1]
与实施例1同样地操作，在透明树脂基材的一个面(背面)上， 形成具有1.5μm的厚度的硬涂层。
在透明树脂基材的另一个面(表面)上，利用DC磁控溅射依次 形成透射率调整层、金属层和金属氧化物层。使用ZnO-Ga2O3-GeO2靶材形成透射率调整层和金属氧化物层。该靶材的组成为 ZnO:Ga2O3:GeO2＝81:9:10(摩尔％)。使用AgPdCu靶材形成金属层。 该靶材的组成为Ag:Pd:Cu＝99.0:0.5:0.5(质量％)。所形成的各层的 组成与所使用的靶材的组成相同。
由此，获得依次层叠有硬涂层、透明树脂基材、透射率调整层、 金属层和金属氧化物层的层叠体。
在所获得的层叠体中，与实施例1同样地操作，形成抗蚀剂图案， 进行蚀刻。由此，将没有形成抗蚀剂图案的部分中的金属氧化物层、 金属层和透射率调整层溶解除去。由此，制作比较例1的透明导电体 (无玻璃层)。该透明导电体具有：依次具备硬涂层和透明树脂基材 的第一层叠部以及依次具备硬涂层、透明树脂基材、透射率调整层、 金属层和金属氧化物层的第二层叠部。各层的组成、厚度和折射率如 表3所示。
与实施例1同样地进行透明导电体(无玻璃层)的评价1。另外， 与实施例1同样地操作，形成玻璃层，制作透明导电体(有玻璃层)。 然后，与实施例1同样地进行评价2。评价结果如表3所示。
[比较例2]
如表3那样改变金属氧化物层和透射率调整层的厚度，形成金属 氧化物层和透射率调整层时使用ZnO-In2O3-TiO2-SnO2靶材，并且在透 明树脂基材与透射率调整层之间形成高折射率层，除此以外，与比较 例1同样地操作，制作透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)。用于形 成金属氧化物层和透射率调整层的靶材的组成为 ZnO:In2O3:TiO2:SnO2＝44:26:11:19(摩尔％)。所形成的金属氧化物 层和透射率调整层的组成与所使用的靶材的组成相同。
比较例2的透明导电体(无玻璃层)具有：依次具备硬涂层、透 明树脂基材和高折射率层的第一层叠部以及依次具备硬涂层、透明树 脂基材、高折射率层、透射率调整层、金属层和金属氧化物层的第二 层叠部。比较例2的透明导电体(有玻璃层)在第一层叠部和第二层 叠部上具有玻璃层。各层的组成、厚度、折射率如表3所示。
与实施例1同样地进行透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)的评 价1、2。评价结果如表3所示。
[表3]
Figure BDA0001441830820000321
表中，*1为ZnO-Ga2O3-GeO2，*2为ZnO-In2O3-TiO2-SnO2。
[比较例3]
除了形成透射率调整层时使用ZnO-In2O3-TiO2-SnO2靶材以外，与 实施例3同样地操作，制作透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)。用 于形成透射率调整层的靶材的组成为ZnO:In2O3:TiO2:SnO2＝ 44:26:11:19(摩尔％)。所形成的透射率调整层的组成与所使用的靶 材的组成相同。
比较例3的透明导电体(无玻璃层)具有：依次具备硬涂层、透 明树脂基材、低折射率层和高折射率层的第一层叠部以及依次具备硬 涂层、透明树脂基材、低折射率层、高折射率层、透射率调整层、金 属层和金属氧化物层的第二层叠部。比较例3的透明导电体(有玻璃 层)在第一层叠部和第二层叠部上具有玻璃层。各层的组成、厚度、 折射率如表4所示。
与实施例3同样地进行透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)的评 价1、2。评价结果如表4所示。
[比较例4]
如表4所示那样改变透射率调整层的厚度，并且在透明树脂基材 与透射率调整层之间形成高折射率层，除此以外，与实施例1同样地 操作，制作透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)。与实施例2同样地 操作，形成高折射率层。
比较例4的透明导电体(无玻璃层)具有：依次具备硬涂层、透 明树脂基材和高折射率层的第一层叠部以及依次具备硬涂层、透明树 脂基材、高折射率层、透射率调整层、金属层和金属氧化物层的第二 层叠部。比较例4的透明导电体(有玻璃层)在第一层叠部和第二层 叠部上具有玻璃层。各层的组成、厚度和折射率如表4所示。
与实施例1同样地进行透明导电体(无玻璃层、有玻璃层)的评 价1、2。评价结果如表4所示。
[表4]
Figure BDA0001441830820000331
表中，*1为ZnO-Ga2O3-GeO2，*2为ZnO-In2O3-TiO2-SnO2。
如表1～4所示，可以确认在各实施例中，通过使用第一层叠部与 第二层叠部的透射率的差(T2-T1)为4％以下的透明导电体(无玻璃 层)，能够充分地减小相当于绝缘部分的第三层叠部的透射率T3与相 当于导电部分的第四层叠部的透射率T4的差的绝对值。这样的透明导 电体能够充分抑制因透射率的差异而导致的浓淡花纹。
产业上的可利用性
根据本发明，能够提供一种能够充分抑制因导电部分与绝缘部分 的透射率的差异而导致的浓淡花纹的产生的透明导电体及其制造方 法。另外，通过使用这样的透明导电体，能够提供一种充分抑制了因 导电部分与绝缘部分的透射率的差异而导致的浓淡花纹的触摸面板。

Claims (15)

1.一种透明导电体，其中，
所述透明导电体具备透明树脂基材，并且具备：
具有所述透明树脂基材和透射率调整层的第一层叠部；和
依次具有所述透明树脂基材、所述透射率调整层、包含银或银合金的金属层和金属氧化物层的第二层叠部，
所述第一层叠部和所述第二层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，
作为所述第一层叠部的层叠方向的透射率T1与所述第二层叠部的层叠方向的透射率T2的差，T2-T1为4％以上，
所述透射率调整层与所述金属氧化物层的组成不同，
所述透射率调整层是绝缘性的。
2.如权利要求1所述的透明导电体，其中，
所述T2为80％以上。
3.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，
所述透射率调整层的折射率为1.8～2.5，
所述金属氧化物层的折射率为1.8～2.3。
4.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，
所述第一层叠部和所述第二层叠部在所述透明树脂基材与所述透射率调整层之间具有高折射率层，
所述高折射率层的折射率为1.55～1.8。
5.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，
所述第一层叠部和所述第二层叠部在所述透明树脂基材与所述透射率调整层之间从所述透明树脂基材侧开始依次具有低折射率层和高折射率层，
所述高折射率层的折射率为1.55～1.8，
所述低折射率层的折射率小于所述高折射率层的折射率，并且为1.4～1.6。
6.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，
所述第一层叠部和所述第二层叠部在所述透明树脂基材的与所述透射率调整层侧相反侧具有硬涂层。
7.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，
所述透射率调整层包含氧化锌和氧化锡的至少一种，
所述金属氧化物层具有与所述透射率调整层不同的组成，包含选自氧化锌、氧化镓、氧化锗、氧化铟、氧化钛和氧化锡中的至少一种。
8.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，
所述第一层叠部和所述第二层叠部在与所述透明树脂基材侧相反侧具有玻璃层，
具有所述第一层叠部和所述玻璃层的第三层叠部的层叠方向的透射率T3为90％以下，
具有所述第二层叠部和所述玻璃层的第四层叠部的层叠方向的透射率T4为85％以上。
9.如权利要求8所述的透明导电体，其中，
所述透射率T3与所述透射率T4的差的绝对值为1％以下。
10.一种透明导电体，其中，
所述透明导电体具备透明树脂基材，
通过对依次具有所述透明树脂基材、透射率调整层、包含银或银合金的金属层和金属氧化物层的层叠体进行蚀刻，不除去所述透射率调整层，除去所述金属层和所述金属氧化物层的一部分而获得，
具备：具有所述透明树脂基材和透射率调整层的第一层叠部；和依次具有所述透明树脂基材、所述透射率调整层、包含银或银合金的金属层和金属氧化物层的第二层叠部，
所述第一层叠部和所述第二层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，
所述透射率调整层与所述金属氧化物层的组成不同，
所述透射率调整层是绝缘性的。
11.一种透明导电体，其中，
所述透明导电体具备透明树脂基材，并且具备：
依次具有所述透明树脂基材、透射率调整层和玻璃层的第三层叠部；和
依次具有所述透明树脂基材、所述透射率调整层、包含银或银合金的金属层、金属氧化物层和所述玻璃层的第四层叠部，
所述第三层叠部和所述第四层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，
所述第三层叠部的层叠方向的透射率T3为90％以下，
所述第四层叠部的层叠方向的透射率T4为85％以上，
所述透射率调整层与所述金属氧化物层的组成不同，
所述透射率调整层是绝缘性的。
12.如权利要求11所述的透明导电体，其中，
所述透射率T3与所述透射率T4的差的绝对值为1％以下。
13.一种透明导电体，其中，
所述透明导电体具备透明树脂基材，并且具备：
依次具有所述透明树脂基材、透射率调整层和玻璃层的第三层叠部；和
依次具有所述透明树脂基材、所述透射率调整层、包含银或银合金的金属层、金属氧化物层和所述玻璃层的第四层叠部，
所述第三层叠部和所述第四层叠部在与它们的层叠方向垂直的方向上邻接，
所述透射率调整层为绝缘层，
所述透射率调整层与所述金属氧化物层的组成不同。
14.一种触摸面板，其中，
所述触摸面板在面板上具有1个或多个传感器膜，
所述传感器膜的至少一个由权利要求1～13中任一项所述的透明导电体构成。
15.一种透明导电体的制造方法，其中，
是制造权利要求1～8、10中任一项所述的透明导电体的方法，
具有：
对依次具有所述透明树脂基材、所述透射率调整层、所述金属层和所述金属氧化物层的层叠体进行蚀刻，不除去所述透射率调整层而除去所述金属层和所述金属氧化物层的一部分，形成所述第一层叠部和所述第二层叠部的工序。
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