JP6398624B2 - 透明導電体及びタッチパネル - Google Patents
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Description
寸法変化率(%)=100×(L−Lo)/Lo
(透明導電体101の作製)
図2に示すような透明導電体を作製した。透明導電体は、一対のハードコート層に挟まれた透明樹脂基材、第1の金属酸化物層、金属層及び第2の金属酸化物層がこの順で積層された積層構造を有していた。各実施例の透明導電体を以下の要領で作製した。
以下の手順でエッチング特性を評価した。まず、リン酸、酢酸、硝酸を含有するPAN系エッチング液を準備した。このエッチング液に各実施例の透明導電体を室温で1分間浸漬してエッチングを行った。その後、全光線透過率測定を行って、第1の金属酸化物層、金属層及び第2の金属酸化物層が溶解されているか否かを判定した。具体的には、エッチング後のサンプルの全光線透過率が、透明樹脂基材のみの全光線透過率と一致した場合は「A」、一致しなかった場合は「B」と判定した。全光線透過率(透過率)は、ヘイズメーター(商品名:NDH−7000、日本電色工業社製)を用いて測定した。評価結果は表1に示すとおりであった。
金属層を作製する際のターゲットの組成を変えて、表3に示すとおり、金属層の組成を変更したこと、及び/又は、金属層の厚みを変更したこと以外は、実施例6と同様にして、透明導電体を作製した。すなわち、実施例19〜実施例26では、金属層の厚みを変更した。実施例27では、AgNdCu(Ag:Nd:Cu=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。実施例28では、AgInSn(Ag:In:Sn=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。実施例29では、AgSnSb(Ag:Sn:Sb=99.0:0.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。実施例30では、AgCu(Ag:Cu=99.5:0.5(質量%))ターゲットを用いて金属層を形成した。
第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層を形成する際のターゲットとして、表4に示す組成を有するターゲットを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、比較例1〜4の透明導電体を作製した。比較例1では、ZnO−TiO2−Nb2O5ターゲットを用いて、第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層を形成した。比較例2では、ZnO−In2O3−Cr2O3ターゲットを用いた。比較例3では、ZnO−SnO2−In2O3ターゲットを用いた。比較例4では、ZnO−SnO2−Cr2O3ターゲットを用いた。それぞれの比較例において、第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層は、同一組成を有するターゲットを用いて形成した。各比較例における第1の金属酸化物層及び第2の金属酸化物層の組成は、表4に示すとおりであった。各比較例の透明導電体のエッチング特性を、実施例1と同様にして評価した。結果は、表4に示すとおりであった。
Claims (5)
- 透明樹脂基材、第1の金属酸化物層、銀合金を含む金属層、及び第2の金属酸化物層が
この順で積層されており、
前記第2の金属酸化物層は、主成分としてZnOを含有し、副成分としてGa2O3及びGeO2を含有し、
前記第1の金属酸化物層は、主成分としてZnOを含有し、副成分としてGa 2 O 3 及びGeO 2 を含有する透明導電体。 - 前記第2の金属酸化物層において、
ZnO、Ga2O3及びGeO2の3成分の合計に対するZnOの含有量が70〜90mol%であり、
前記3成分の合計に対するGa2O3の含有量が5〜15mol%であり、
前記3成分の合計に対するGeO2の含有量が5〜20mol%である、請求項1に記載の透明導電体。 - 前記金属層の厚みが4〜11nmである、請求項1又は2に記載の透明導電体。
- 前記銀合金が、Agと、Pd,Cu,Nd,In,Sn及びSbからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属との合金である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の透明導電体。
- パネル板の上にセンサフィルムを有するタッチパネルであって、
前記センサフィルムが請求項1〜4のいずれか一項に記載の透明導電体で構成されるタッチパネル。
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