JP2013065305A - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル - Google Patents
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Abstract
透明導電膜パターンの視認(骨見え)が十分に抑制された透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルを提供すること。
【解決手段】
屈折率が1.61〜1.70の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が1.50〜1.60で基材フィルム片面当たりの光学厚みが(1/4)λである第1層、屈折率が1.61〜1.80である第2層、屈折率が1.50以下である第3層、および屈折率が1.81以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第1層の光学厚みと前記第2層の光学厚みの合計が(1/4)λである(但し、λは380〜780nmの範囲)、透明導電性フィルム。
【選択図】なし
Description
但し、λは380〜780nmである。
本発明の基材フィルムは、その屈折率(nf)が1.61〜1.70である。このような基材フィルムとしては、ポリエステルフィルムが好ましく用いられ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく用いられる。
本発明の第1層は、その屈折率(n1)が1.50〜1.60の範囲である。第1層の屈折率(n1)は、1.51〜1.60の範囲が好ましく、1.52〜1.59の範囲がより好ましく、1.55〜1.59の範囲が特に好ましい。
(380nm/4)≦(n1×d1)≦(780nm/4)
95nm≦(n1×d1)≦195nm ・・・(式1)
つまり、第1層の屈折率が1.50の場合、厚みd1は63〜130nmの範囲となり、第1層の屈折率が1.60の場合、厚みd1は59〜122nmの範囲となる。
(450nm/4)≦(n1×d1)≦(650nm/4)
113nm≦(n1×d1)≦163nm ・・・(式2)。
(500nm/4)≦(n1×d1)≦(600nm/4)
125nm≦(n1×d1)≦150nm ・・・(式3)。
第2層は、その屈折率(n2)が1.61〜1.80である。第2層の屈折率(n2)は、1.63〜1.79の範囲が好ましく、1.65〜1.78の範囲がより好ましく、1.65〜1.75の範囲が特に好ましい。
これらの中でもS,S’−エチレンビス(チオメタクリレート)、S,S’−(チオジエチレン)ビス(チオメタクリレート)が好適に用いられる。S,S’−エチレンビス(チオメタクリレート)は、1,2−エタンジチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる1,2−エタンジチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。またS,S’−(チオジエチレン)ビス(チオメタクリレート)は日本触媒社製の商品名S2EGとして市販されているものを用いることができる。
第3層は、その屈折率(n3)が1.50以下である。第3層の屈折率(n3)は、1.46以下が好ましく、1.40以下がより好ましく、1.38以下が特に好ましい。下限は1.25以上が好ましく、1.30以上がより好ましい。
基材フィルム片面当たりの第2層の光学厚みと第3層の光学厚みの合計は、(1/4)λを満足することが重要である。光学厚みは前述したように屈折率と厚みの積であり、λについても前述したように可視光領域の波長範囲である380〜780nmである。厚みの単位はnmである。
(380nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)≦(780nm/4)
95nm≦(n2×d2)+(n3×d3)≦195nm ・・・(式4)。
第2層と第3層をウェットコーティング法により塗布し積層する方法について説明する。
透明導電膜の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO(酸化インジウム錫)、ATO(酸化アンチモン錫)等の金属酸化物が挙げられる。これらの中でもITOが好ましく用いられる。
本発明において、第3層と透明導電膜との間にSiO2膜を設けることが好ましい。このようなSiO2膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等のドライプロセスを用いて積層する方法、あるいはシリカゾル等をウェットコーティング法により塗布し積層する方法などにより形成することができる。これらの中でも、ドライプロセス法が好ましい。
(380nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦(780nm/4)
95nm≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦195nm ・・・(式5)。
(450nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦(650nm/4)
113nm≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦163nm ・・・(式6)。
(500nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦(600nm/4)
125nm≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦150nm ・・・(式7)。
本発明において、第1層と第2層の間にハードコート層を設けることができる。ハードコート層の厚みは0.5μm以上が好ましく、1μm以上がより好ましい。厚みの上限は10μm以下が好ましく、8μm以下がより好ましく、さらに5μm以下が好ましく、3μm以下が特に好ましい。
(1)ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜
(2)透明導電膜/第3層/第2層/ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜
ハードコート層の屈折率(nh)は、1.46〜1.55の範囲が適当であり、1.48〜1.54の範囲が好ましく、1.50〜1.53の範囲がより好ましい。
本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの片面もしくは両面に、第1層、第2層、第3層、および透明導電膜をこの順に有する。また、基材フィルムの片面もしくは両面に必要に応じてSiO2膜やハードコート層を設けることができる。特に両面にハードコート層を設けることが好ましい。
(a)基材フィルム/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
(b)第1層/基材フィルム/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
(c)ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
(d)第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜
(e)ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜
(f)透明導電膜/第3層/第2層/第1層/基材フィルム/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
(g)透明導電膜/第3層/第2層/ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜
(h)基材フィルム/第1層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
(i)第1層/基材フィルム/第1層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
(j)ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
(k)ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
(l)透明導電膜/SIO2膜/第3層/第2層/ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
[各層の屈折率の関係]
本発明の透明導電性フィルムにおいて、各層の屈折率の関係は以下の関係式8を満足することが好ましい。これによって透明導電膜パターンの骨見え現象が一段と抑制される。
・nt>n2≧nf>n1>n3 ・・・(式8)
式中、ntは透明導電膜の屈折率、n2は第2層の屈折率、nfは基材フィルムの屈折率、n1は第1層の屈折率、n3は第3層の屈折率を表す。
本発明の透明導電性フィルムにおいて、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差は、3.0%以下が好ましく、2.5%以下がより好ましく、2.0%以下が特に好ましく、1.5%以下が最も好ましい。
透明導電膜パターンの視認(骨見え)を抑制するという観点から、透明導電膜のパターン部と非パターン部の反射色の色差ΔEは7以下であることが好ましく、6以下であることがより好ましく、特に5以下であることが好ましい。ここで、ΔEは、下記関係式9で表される。
・ΔE={(ΔL)2+(Δa)2+(Δb)2}1/2 ・・・(式9)
式中
ΔL=(非パターン部におけるL*値)−(パターン部におけるL*値)
Δa=(非パターン部におけるa*値)−(パターン部におけるa*値)
Δb=(非パターン部におけるb*値)−(パターン部におけるb*値)。
基材フィルム、第1層、第2層、および第3層の中から選ばれる少なくとも1層に着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。
本発明の透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのディスプレイやタッチパネル等における透明電極、帯電防止性フィルム、あるいは電磁波シールドフィルム等に用いることができる。特に本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適であり、中でも静電容量式タッチパネルに好適である。また、本発明の透明導電性フィルムは、例えば、電気泳動方式、ツイストボール方式、サーマル・リライタブル方式、光書き込み液晶方式、高分子分散型液晶方式、ゲスト・ホスト液晶方式、トナー表示方式、クロミズム方式、電界析出方式などのフレキシブル表示素子に利用できる。
第1層、第2層、第3層およびハードコート層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で633nmの屈折率を測定した。
基材フィルム(PETフィルム)の屈折率は、JIS K7105(1981)に準じてアッベ屈折率計で測定した。
透明導電膜もしくはSiO2膜を、屈折率が既知のPETフィルム上に実際の積層条件と同条件で厚みが30nmとなるようにそれぞれ積層して屈折率測定用サンプルを作製する。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄もしくはSiO2膜の反射率と厚みをそれぞれ測定する。このようにして得られた反射率、膜厚み、およびPETフィルムの屈折率とから、透明導電膜もしくはSiO2膜の屈折率を算出する。
上記反射率は、透明導電膜もしくはSiO2膜が積層された面とは反対側のPETフィルム面に#320〜400の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所(株)の分光光度計UV−3150を用いて550nmの反射率を測定する。
サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)で加速電圧100kVにて5万倍〜30万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれ層、膜の厚みを測定した。尚、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
黒い板の上にサンプルを置き、目視によりパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。基材フィルムの一方の面のみに透明導電膜が積層されているサンプルの場合、透明導電膜が上になるように置いて評価をした。基材フィルムの両方の面に透明導電膜が積層されているサンプルの場合、それぞれの面の透明導電膜が上になるように置いて、それぞれ評価をした。
A:パターン部が視認できない。
B:パターン部が僅かに視認できる。
C:パターン部が明確に視認できる。
(第1層の塗布組成物1a)
ナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を5質量部、コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製の「スノーテックスOL」)を1質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は1.58であった。
アクリル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を5質量部、コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製の「スノーテックスOL」)を1質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は1.52であった。
(第2層の塗布組成物2a)
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10質量部とウレタンアクリレート27質量部)37質量部、酸化ジルコニウム60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.70であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10質量部とウレタンアクリレート27質量部)37質量部、酸化チタン60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.75であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10質量部とウレタンアクリレート17質量部)27質量部、五酸化アンチモン70質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.64であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート20質量部とウレタンアクリレート57質量部)77質量部、ATO(酸化アンチモン錫)20質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.54であった。
(第3層の塗布組成物3a)
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比1:3で含有)47質量部、中空シリカ50質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.35であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比1:3で含有)57質量部、中空シリカ40質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.37であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比1:3で含有)82質量部、中空シリカ15質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.43であった。
ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール100質量部、ポリ(アクリル酸−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル)10質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)1質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.36であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート20質量部とウレタンアクリレート62質量部)82質量部、ATO(酸化アンチモン錫)15質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.53であった。
βー(パーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレート30質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー3質量部、および光重合開始剤(2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリプロパン−1−オン)2質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.43であった。
下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。尚、基材フィルム(PETフィルム)の両面に第1層を積層した後、第2層、第3層および透明導電膜は、基材フィルム(PETフィルム)の片面にのみ設けたもの(実施例1a)と、両面に設けたもの(実施例1b)をそれぞれ作製した。
<第1層の積層>
屈折率1.65で厚み125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の両面に、PETフィルムの製膜工程内(インライン)で第1層の塗布組成物1aを乾燥厚みが90nmとなるようにウェットコーティング法(バーコート法)により積層して、PETフィルム上に第1層を積層した。
<第2層の積層>
上記の第1層の上に、第2層の塗布組成物2aをウェットコーティング法(グラビアコート法)により硬化後の厚みが40nmとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて第2層を形成した。
<第3層の積層>
上記の第2層の上に、第3層の塗布組成物3aをウェットコーティング法(グラビアコート法)により硬化後の厚みが35nmとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて第3層を形成した。
<透明導電膜の積層>
上記の第3層の上に、透明導電膜としてITO膜を厚みが30nmとなるようにスパッタリング法で積層した。
<透明導電膜のパターン化>
上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工(エッチング処理)して、透明導電性フィルムを得た。
表1,2に示すような構成に変更する以外は、実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。実施例1と同様に、第2層、第3層および透明導電膜を基材フィルム(PETフィルム)の片面にのみに設けたものを実施例2a〜16a,比較例1a〜6aとし、両面に設けたものを実施例2b〜16b,比較例1b〜6bとした。
上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、透明導電膜パターンの視認性を評価した。その結果を表1,2に示す。尚、第2層、第3層および透明導電膜を基材フィルム(PETフィルム)の片面にのみ設けたもの(実施例1a〜16a、比較例1a〜6a)と、両面に設けたもの(実施例1b〜16b、比較例1b〜6b)とは、同様の評価結果であったので1つにまとめて記載した。
下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。尚、基材フィルム(PETフィルム)の両面に第1層を積層した後、第2層、第3層、SiO2膜および透明導電膜は、基材フィルム(PETフィルム)の片面にのみ設けたもの(17a)と、両面に設けたもの(17b)をそれぞれ作製した。
<第1層の積層>
屈折率1.65で厚み125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の両面に、PETフィルムの製膜工程内(インライン)で第1層の塗布組成物1aを乾燥厚みが90nmとなるようにウェットコーティング法(バーコート法)により積層して、PETフィルム上に第1層を積層した。第1層の光学厚みは142nmである。
<第2層の積層>
上記の第1層の上に、第2層の塗布組成物2aをウェットコーティング法(グラビアコート法)により硬化後の厚みが45nmとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化せしめて、第2層を形成した。第2層の光学厚みは77nmである。
<第3層の積層>
上記の第2層の上に、第3層の塗布組成物3dをウェットコーティング法(グラビアコート法)により硬化後の厚みが10nmとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて第3層を形成した。第3層の光学厚みは14nmである。
<SiO2膜の積層>
上記の第3層の上に、厚みが30nmのSiO2膜(屈折率1.46)をスパッタリング法により積層した。SiO2膜の光学厚みは44nmである。
<透明導電膜の積層>
上記のSiO2膜の上に、透明導電膜としてITO膜を厚みが30nmとなるようにスパッタリング法で積層した。
<透明導電膜のパターン化>
上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工(エッチング処理)して、透明導電性フィルムを得た。
実施例17の透明導電性フィルムにおいて、基材フィルム片面当たりの第2層の光学厚み、第3層の光学厚みおよびSiO2膜の光学厚みの合計は135nmであった。この透明導電性フィルム(片面にのみ設けたものと両面に設けたもの)は、いずれも透明導電膜パターンの視認性は「A」であった。
実施例1aにおいて、PETフィルムの第1層,第2層,第3層および透明導電膜が設けられた側の面の第1層と第2層の間、およびその反対側の面の第1層の上に下記のハードコート層を設けた以外は、実施例1aと同様にして透明導電性フィルムを得た。
<ハードコート層の積層>
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比1:3で含有)95質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を含む組成物を、ウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが2μmのハードコート層(屈折率1.50)を形成した。
実施例17aにおいて、PETフィルムの第1層,第2層,第3層,SiO2膜および透明導電膜が設けられた側の面の第1層と第2層の間、およびその反対側の面の第1層の上に、実施例18と同様のハードコート層を設けた以外は、実施例17aと同様にして透明導電性フィルムを得た。
実施例18の透明導電性フィルムの透明導電膜パターンの視認性は「A」であった。
実施例17bにおいて、PETフィルムの両面に設けられる第1層と第2層の間に、それぞれ実施例18と同様のハードコート層を設けた以外は、実施例17bと同様にして透明導電性フィルムを得た。
実施例20の透明導電性フィルムの透明導電膜パターンの視認性は「A」であった。
Claims (18)
- 屈折率が1.61〜1.70の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が1.50〜1.60で基材フィルム片面当たりの光学厚みが(1/4)λである第1層、屈折率が1.61〜1.80である第2層、屈折率が1.50以下である第3層、および屈折率が1.81以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第2層の光学厚みと前記第3層の光学厚みの合計が(1/4)λである、透明導電性フィルム。
但し、λは380〜780nmである。 - 前記第1層、前記第2層および前記第3層はいずれの層も樹脂を含む、請求項1の透明導電性フィルム。
- 前記第1層、前記第2層および前記第3層は、いずれの層もウェットコーティング法により塗布され積層されたものである、請求項1または2の透明導電性フィルム。
- 前記第2層および前記第3層は、それぞれ活性エネルギー線硬化性組成物がウェットコーティング法により塗布され硬化した層である、請求項1〜3のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記第2層は、活性エネルギー線硬化性樹脂と金属酸化物を含む活性エネルギー線硬化性組成物がウェットコーティング法により塗布され硬化した層である、請求項1〜4のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記第3層は、活性エネルギー線硬化性組成物がウェットコーティング法により塗布され硬化した層であり、この活性エネルギー線硬化性組成物は該組成物100質量%に対して含フッ素化合物を30質量%以上含有する、請求項1〜5のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記第2層の基材フィルム片面当たりの厚み(d2)が30nm以上である、請求項1〜6のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記第3層の基材フィルム片面当たりの厚み(d3)が5〜50nmである、請求項1〜7のいずれかの透明導電性フィルム。
- 基材フィルム片面当たりの前記第2層の光学厚みと前記第3層の光学厚みの合計が、95〜163nmの範囲である、請求項1〜8のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項1〜9のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記基材フィルムの屈折率(nf)、前記第1層の屈折率(n1)、前記第2層の屈折率(n2)、前記第3層の屈折率(n3)および前記透明導電膜の屈折率(nt)の関係が、nt>n2≧nf>n1>n3を満足する、請求項1〜10のいずれかの透明導電性フィルム。
- 前記第1層と前記第2層との間にハードコート層を有する、請求項1〜11のいずれかの透明導電性フィルム。
- 下記(1)または(2)の構成である、請求項12の透明導電性フィルム。
(1)ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜
(2)透明導電膜/第3層/第2層/ハードコート層/第1層/基材フィルム/第1層/ハードコート層/第2層/第3層/透明導電膜 - 前記基材フィルムの屈折率(nf)、前記第1層の屈折率(n1)および前記ハードコート層の屈折率(nh)の関係が、nf>n1>nhを満足し、かつ前記基材フィルムと前記第1層の屈折率差(nf−n1)および前記第1層と前記ハードコート層の屈折率差(n1−nh)がそれぞれ0.1以下である、請求項12または13の透明導電性フィルム。
- 前記第3層と前記透明導電膜との間にSiO2膜を有する、請求項1〜14のいずれかの透明導電性フィルム。
- 基材フィルム片面当たりの前記第2層の光学厚み、前記第3層の光学厚みおよび前記SiO2膜の光学厚みの合計が(1/4)λである、請求項15の透明導電性フィルム。
但し、λは380〜780nmである。 - 請求項1〜16のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
- 前記タッチパネルが静電容量式タッチパネルである、請求項17のタッチパネル。
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