CN103210454B - 透明导电性膜及触控面板 - Google Patents

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Abstract

本发明的透明导电性膜在折射率为1.61～1.70的基材膜的单面或双面上，按以下顺序具有：折射率为1.50～1.60、且基材膜每一单面侧的光学厚度为(1/4)λ的第1层，折射率为1.61～1.80的第2层，折射率为1.50以下的第3层，及折射率为1.81以上、且被图案化的透明导电膜，基材膜每一单面侧的上述第1层的光学厚度和上述第2层的光学厚度的总计为(1/4)λ(其中，λ为380～780nm的范围)。通过本发明，提供一种透明导电膜图案的目视辨认(透视)被充分抑制的透明导电性膜及具有该透明导电性膜的触控面板。

Description

透明导电性膜及触控面板
技术领域
本发明涉及目视辨认性良好的透明导电性膜及具有该透明导电性膜的触控面板。
背景技术
近年来，触控面板用途等中正在使用在聚酯膜等基材膜上设有透明导电膜的透明导电性膜。作为透明导电膜，通常使用氧化铟锡(ITO)等金属氧化物的薄膜，通过溅射法或真空蒸镀而层合在基材膜上。
作为触控面板的工作方式，电阻膜式为主流，但是近年来，静电电容式正迅速扩大。电阻膜式触控面板中使用的透明导电性膜一般由未被图案(pattern)化的透明导电膜(覆盖在基材一面上的透明导电性膜)构成。另一方面，对于静电电容式触控面板，通常使用层合有被图案化的透明导电膜的透明导电性膜。
对于静电电容式触控面板中使用的透明导电性膜，通常利用光蚀刻等将透明导电膜图案化，俯视图上存在透明导电膜的图案部和非图案部。
使用了上述透明导电膜被图案化的透明导电性膜的静电电容式触控面板中，能够目视辨认透明导电膜的图案部的、所谓的“透视”现象成为问题。该“透视”现象使作为显示装置的品质下降。
提出了抑制透明导电膜图案的透视的方法(例如专利文献1～6)。
专利文献1：日本特开2011-84075号公报
专利文献2：日本特开2010-228295号公报
专利文献3：日本特开2009-76432号公报
专利文献4：日本特开2006-301510号公报
专利文献5：日本特许第4661995号公报
专利文献6：日本特许第4364938号公报
发明内容
但是，专利文献1～6中公开的技术中，尚未达到充分满足抑制透明导电膜图案透视的效果。特别是在静电电容式的触控面板中，透明导电膜被用于光的入射表面侧，所以上述透视现象使作为显示装置的品质下降，因而正在寻求进一步的改善。
因此，本发明的目的在于提供一种透明导电膜图案的目视辨认(透视)被充分抑制的透明导电性膜。另外，本发明的另一个目的在于提供一种具有透明导电膜图案的目视辨认(透视)被充分抑制的透明导电性膜的触控面板。
能够实现上述课题的本发明的透明导电性膜，在折射率为1.61～1.70的基材膜的单面或双面上，按以下顺序具有：折射率为1.50～1.60、且基材膜每一单面侧的光学厚度为(1/4)λ的第1层；折射率为1.61～1.80的第2层；折射率为1.50以下的第3层；及折射率为1.81以上、且被图案化的透明导电膜，基材膜每一单面侧的上述第2层的光学厚度和上述第3层的光学厚度的总计为(1/4)λ，
其中，λ为380～780nm。
另外，本发明的触控面板具有本发明的透明导电性膜。
根据本发明，能够提供一种透视现象被充分抑制的透明导电性膜。本发明的透明导电性膜适合用于触控面板，特别适合用于静电电容式的触控面板。
具体实施方式
本发明的透明导电性膜在基材膜的单面或双面上按以下顺序设置有第1层、第2层、第3层、及透明导电膜。
本发明中，包括第1层、第2层、第3层、透明导电膜、及根据需要设置的SiO2膜或硬涂层仅设置在基材膜的单面上的方案、及设置在双面上的方案。
以下，针对构成本发明的透明导电性膜的各个构成要素进行详细说明。
[基材膜]
本发明的基材膜的折射率(nf)为1.61～1.70。作为这样的基材膜，优选使用聚酯膜，特别优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
基材膜的折射率(nf)优选1.62～1.69的范围，更优选1.63～1.68的范围，特别优选1.64～1.67的范围。
基材膜的厚度在20～300μm的范围较适当，优选为50～250μm的范围，更优选为50～200μm的范围。
[第1层]
本发明的第1层的折射率(n1)为1.50～1.60的范围。第1层的折射率(n1)优选1.51～1.60的范围，更优选1.52～1.59的范围，特别优选1.55～1.59的范围。
第1层的基材膜每一单面侧的光学厚度满足(1/4)λ是重要的。此处，基材膜每一单面侧的光学厚度是第1层的折射率(n1)和基材膜每一单面侧的厚度(d1)的积，λ是指可见光区域的波长范围即380～780nm。第1层的厚度(d1)的单位为nm。本发明中，光学厚度的单位为nm，是将小数点以后四舍五入得到的值。
即，第1层的光学厚度需要满足以下的关系式1。
(380nm/4)≤(n1×d1)≤(780nm/4)
95nm≤(n1×d1)≤195nm…(式1)
即，第1层的折射率为1.50时，厚度d1为63～130nm的范围，第1层的折射率为1.60时，厚度d1为59～122nm的范围。
进而，λ的范围优选为450～650nm。也就是说，第1层的光学厚度优选满足以下关系式2。
(450nm/4)≤(n1×d1)≤(650nm/4)
113nm≤(n1×d1)≤163nm…(式2)。
进而，λ的范围更优选为500～600nm。也就是说，第1层的光学厚度进一步优选满足以下关系式3。
(500nm/4)≤(n1×d1)≤(600nm/4)
125nm≤(n1×d1)≤150nm…(式3)。
第1层优选为以树脂作为主要成分的层。即，相对于第1层的固态成分总量100质量％，优选含有50质量％以上的树脂，更优选含有60质量％以上，特别优选含有70质量％以上，最优选含有80质量％以上。上限优选为99质量％以下，更优选为98质量％以下，特别优选为95质量％以下。
作为这样的树脂，优选使用聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂。上述树脂中，优选聚酯树脂，进一步优选使用分子中具有萘环的聚酯树脂。
从对第1层赋予下述的易粘合功能的观点出发，第1层优选含有交联剂。作为这样的交联剂，可以举出三聚氰胺类交联剂、噁唑啉类交联剂、碳化二亚胺类交联剂、异氰酸酯类交联剂、氮杂环丙烷类交联剂、环氧类交联剂。其中，优选使用三聚氰胺类交联剂、噁唑啉类交联剂、碳化二亚胺类交联剂。
相对于第1层的固态成分总量100质量％，第1层中的交联剂的含量优选为1～40质量％的范围，更优选为3～35质量％的范围，特别优选为5～30质量％的范围。
为了进一步提高易滑性和耐粘连性，第1层优选含有有机粒子或无机粒子。作为这样的粒子没有特别限定，例如可以举出胶体二氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化锆、碳酸钙、炭黑、沸石粒子等无机粒子；丙烯酸粒子、聚硅氧烷粒子、聚酰亚胺粒子、Teflon(注册商标)粒子、交联聚酯粒子、交联聚苯乙烯粒子、交联聚合物粒子、核壳粒子等有机粒子。这些粒子中，优选使用胶体二氧化硅。
相对于第1层的固态成分总量100质量％，第1层中的粒子的含量优选为0.05～8质量％的范围，更优选为0.1～5质量％的范围。
第1层优选具有作为易粘合层的功能。也就是说，第1层优选具有下述作用，即，作为用于增强基材膜与比第1层更靠近上方的层(例如第2层、第3层、及透明导电膜)的密合性(粘合性)的易粘合层的作用。因此，第1层优选直接设置在基材膜上。
第1层优选通过湿式涂布法被层合在基材膜上。特别优选利用在基材膜的制造工序中层合的、所谓的“在线涂布法”来层合第1层。在基材膜上涂布第1层时，作为用于提高涂布性和密合性的预处理，优选事先对基材膜表面实施电晕放电处理、火焰处理、等离子体处理等。
作为上述湿式涂布法，例如可以使用逆转辊涂布法、喷涂法、棒涂法、凹版涂布法、棒式涂布法(rod coat method)、模涂布法、旋涂法、挤压涂布法等涂布方法。
对于上述在线涂布法，以下说明使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下简称为PET)膜作为基材膜的方案，但本发明并不限定于此。
将作为PET膜的原料的、特性粘度为0.5～0.8dl/g的PET颗粒真空干燥。将真空干燥的颗粒供给至挤出机，在260～300℃下熔融。将熔融的PET聚合物由T字型喷嘴挤出成片状，使用施加静电流延法缠绕在表面温度10～60℃的镜面流延鼓上，冷却固化，制作未拉伸PET膜。将该未拉伸PET膜在加热至70～100℃的辊之间沿纵向(是指膜的前进方向，也称作“长度方向”)拉伸2.5～5倍。对通过该拉伸得到的单轴拉伸PET膜的至少一面在空气中施行电晕放电处理，使其表面的润湿张力为47mN/m以上。在该处理面涂布第1层的涂布液。
接下来，用夹子夹持涂布有涂布液的单轴拉伸PET膜，引导至干燥区，在小于单轴拉伸PET膜的Tg的温度下干燥。接着提高至Tg以上的温度，再次在Tg附近的温度下干燥膜。接着连续地在70～150℃的加热区将膜沿横向(是指与膜的前进方向垂直的方向，也称作“宽度方向”)拉伸2.5～5倍。接着，在180～240℃的加热区对膜实施热处理5～40秒，得到在结晶取向完成的PET膜上层合有第1层的PET膜。需要说明的是，根据需要可以在上述热处理中实施3～12％的松弛处理。双轴拉伸可以为纵、横依次拉伸或同时双轴拉伸的任一种，另外，也可以在纵、横拉伸后沿纵、横的任一方向再拉伸。
[第2层]
第2层的折射率(n2)为1.61～1.80。第2层的折射率(n2)优选为1.63～1.79的范围，更优选为1.65～1.78的范围，特别优选为1.65～1.75的范围。
第2层的基材膜每一单面侧的厚度(d2)优选为20nm以上，更优选为25nm以上，特别优选为30nm以上。上限优选为80nm以下，更优选为70nm以下，特别优选为60nm以下，最优选为50nm以下。
第2层优选为含有树脂和金属氧化物的层、含有高折射率树脂的层、或含有金属氧化物和高折射率树脂的层，特别优选为含有树脂和金属氧化物的层。
进而，第2层优选为下述层，即，通过湿式涂布法涂布含有树脂和金属氧化物的组合物、含有高折射率树脂的组合物、或含有金属氧化物和高折射率树脂的组合物，使其固化而得到的层。特别优选为通过湿式涂布法涂布含有树脂和金属氧化物的组合物、使其固化而得到的层。作为湿式涂布法，可以使用上述涂布方法。
以下，针对用于形成含有树脂和金属氧化物的层的组合物进行说明。
作为树脂成分，优选热固性树脂或活性能量射线固化性树脂，特别优选活性能量射线固化性树脂。
上述活性能量射线固化性树脂为用紫外线或电子射线等活性能量射线固化的树脂，优选使用分子中具有至少一个乙烯性不饱和基团的单体或低聚物。此处，作为乙烯性不饱和基团，可以举出丙烯酸基团、甲基丙烯酸基团、乙烯基、烯丙基等。
作为上述单体的例子，可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、乙氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三甘醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基酯等单官能丙烯酸酯；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸苯甲酸酯、三羟甲基丙烷苯甲酸酯等多官能丙烯酸酯；丙三醇二(甲基)丙烯酸酯六亚甲基二异氰酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯六亚甲基二异氰酸酯等氨基甲酸酯丙烯酸酯等。
作为上述低聚物的例子，可以举出聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、醇酸(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、聚硅氧烷(甲基)丙烯酸酯等。
上述单体或低聚物可以单独或混合几种使用，优选使用3官能以上的多官能单体或多官能低聚物。
作为金属氧化物，优选使用折射率为1.65以上的金属氧化物微粒，特别优选使用折射率为1.7～2.8的金属氧化物微粒。作为这样的金属氧化物微粒，可以举出钛、锆、锌、锡、锑、铈、铁、铟等的金属氧化物粒子。作为金属氧化物微粒的具体例子，例如可以举出氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化锡、氧化锑、氧化铈、氧化铁、锑酸锌、氧化锡掺杂氧化铟(ITO)、锑掺杂氧化锡(ATO)、磷掺杂氧化锡、铝掺杂氧化锌、镓掺杂氧化锌、氟掺杂氧化锡等，这些金属氧化物微粒可以单独使用，也可以并用多种。上述金属氧化物微粒中，特别是氧化钛及氧化锆能够提高第2层的折射率而不会降低透明性，故优选。
相对于组合物的固态成分总量100质量％，组合物中的金属氧化物的含量优选为30质量％以上，更优选为40质量％以上，特别优选为50质量％以上，最优选为55质量％以上。上限优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下，特别优选为85质量％以下。
对于组合物中的树脂成分和金属氧化物的含有比率，相对于树脂成分100质量份，优选含有50～900质量份的范围的金属氧化物，进一步优选含有100～800质量份的范围的金属氧化物。
组合物优选含有光聚合引发剂。作为这样的光聚合引发剂的具体例，例如可以使用苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯乙酮、对二甲基氨基苯丙酮、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4，4’-二氯二苯甲酮、4，4’-双二乙基氨基二苯甲酮、米蚩酮、苯偶酰、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯甲酰甲酸甲酯、对异丙基-α-羟基异丁基苯酮、α-羟基异丁基苯酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮等羰基化合物；一硫化四甲基秋兰姆、二硫化四甲基秋兰姆、噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮等硫化合物等。这些光聚合引发剂可以单独使用，也可以组合2种以上使用。
相对于组合物的固态成分总量100质量％，上述光聚合引发剂的含量在0.1～10质量％的范围是恰当的，优选为0.5～8质量％的范围。
针对用于形成含有高折射率树脂的层的组合物进行说明。
作为高折射率树脂，可以举出含有除氟以外的卤素原子的树脂(例如含有溴原子的树脂、含有氯原子的树脂、含有碘原子的树脂)、含有硫原子的树脂、含有氮原子的树脂、含有磷原子的树脂、含有芳香族环的树脂(例如含有芴骨架的树脂、含有苯基的树脂等)。这些树脂只要是具有透明性的树脂即可，可使用公知或市售的树脂，另外也可与其他树脂并用。
作为含有除氟以外的卤素原子、例如溴原子、氯原子的树脂，可以使用溴化丙烯酸树脂、溴化聚氨酯树脂、溴化聚酯树脂、溴化聚醚树脂、溴化环氧树脂、溴化螺缩醛树脂、溴化聚丁二烯树脂、溴化多硫醇多烯树脂、氯化丙烯酸树脂、氯化聚氨酯树脂、氯化聚酯树脂、氯化聚醚树脂、氯化环氧树脂等。作为含有溴原子的树脂的原料成分，例如可以使用将丙烯酸酯的苯基的邻位、对位溴化而得到的化合物。其作为市售品，例如可以使用第一工业制药公司制的BR-42。作为其他的市售品，可以使用第一工业制药公司制的BR-42M、BR-30M、BR-31等、DAICEL-CYTEC公司制的RDX51027等。另外，作为含有氯原子的树脂，可以使用甲基丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯的苄基氯化物盐等，可以混合它们中的2种以上使用。
作为含有硫原子的树脂，例如可以使用S，S’-亚乙基双(硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-(硫二亚乙基)双(硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[硫双(二亚乙基硫醚)]双(硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-(氧二亚乙基)双(硫代(甲基)丙烯酸酯)等。此处，所谓硫代(甲基)丙烯酸酯表示硫代甲基丙烯酸酯及硫代丙烯酸酯。
其中，优选使用S，S’-亚乙基双(硫代甲基丙烯酸酯)、S，S’-(硫二亚乙基)双(硫代甲基丙烯酸酯)。S，S’-亚乙基双(硫代甲基丙烯酸酯)可以通过下述方法制造：使1，2-乙二硫醇和碱金属化合物反应得到1，2-乙二硫醇的碱金属盐，使1，2-乙二硫醇的碱金属盐与甲基丙烯酰氯在非极性有机溶剂中反应。另外，S，S’-(硫二亚乙基)双(硫代甲基丙烯酸酯)可以使用日本触媒公司制的以商品名S2EG市售的商品。
另外，作为含有硫原子和芳香族环的树脂，例如可以使用S，S’-(硫二对亚苯基)双(硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3-氯苯)]双(硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3，5-二氯苯)](硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3-溴苯)](硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3，5-二溴苯)](硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3-甲基苯)]双(硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3，5-二甲基苯)](硫代(甲基)丙烯酸酯)、S，S’-[4，4’-硫双(3-甲基苯)]双(硫代(甲基)丙烯酸酯)等。其中，优选使用S，S’-(硫二对亚苯基)双(硫代甲基丙烯酸酯)(住友精化公司制MPSMA)，其可以通过下述方法等来制造：使4，4’-硫二苯硫醇和碱金属化合物反应得到4，4’-硫二苯硫醇的碱金属盐，使4，4’-硫二苯硫醇的碱金属盐与甲基丙烯酰氯在非极性有机溶剂中反应。
作为含有芳香族环的树脂，可以使用具有9，9-双苯氧基芴骨架的丙烯酸树脂、具有联苯基的丙烯酸树脂、环氧树脂等。例如，可以使用新中村化学公司制9，9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴(NK ESTER A-BPEF)、邻苯基苯酚缩水甘油醚丙烯酸酯(NK ESTER 401P)、羟基乙基化邻苯基苯酚丙烯酸酯(NK ESTERA-LEN-10)、JFE化学公司制9，9-双(3-甲基-4-羟基苯基)芴(BCF)、9，9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴(BPEF)、大阪气体化学公司制双苯酚芴二缩水甘油醚(BPFG)、双苯氧基乙醇芴二缩水甘油醚(BPEFG)、双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯(BPEF-A)、OGSOL PG系列、OGSOL EG系列、OGSOL EA系列、OGSOLEA-F系列、长濑产业公司制ONCOAT EX系列、共荣社化学公司制HIC-G系列、ADEKA公司制RF(X)系列等。
作为高折射率树脂，如上述所例示，更优选含有丙烯酰基或环氧基等聚合性基团的聚合性单体或聚合性低聚物。
组合物优选除了含有高折射率树脂之外，还含有用于形成含有上述树脂和金属氧化物的层的组合物中使用的树脂成分(优选活性能量射线固化性树脂)。相对于高折射率树脂100质量份，该树脂成分的含量优选为5～50质量份的范围，更优选为10～40质量份的范围。
相对于组合物的固态成分总量100质量％，组合物中的高折射率树脂的含量优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，特别优选为70质量％以上。上限优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下。
组合物优选进一步含有光聚合引发剂，其含量相对于组合物的固态成分总量100质量％在0.1～10质量％的范围是适当的，优选为0.5～8质量％的范围。
接下来，针对用于形成含有金属氧化物和高折射率树脂的层的组合物进行说明。该组合物组合使用上述金属氧化物和高折射率树脂。金属氧化物和高折射率树脂的含有比率(质量比)优选金属氧化物∶高折射率树脂＝9∶1～1∶9的范围，更优选8∶2～2∶8的范围，特别优选7∶3～3∶7的范围。
该组合物优选进一步含有上述用于形成含有树脂和金属氧化物的层的组合物中所使用的树脂成分(优选活性能量射线固化性树脂)。相对于组合物的固态成分总量100质量％，该树脂成分的含量优选为5～50质量％的范围，更优选为10～40质量％的范围，特别优选为20～40质量％的范围。
组合物优选进一步含有光聚合引发剂，相对于组合物的固态成分总量100质量％，其含量在0.1～10质量％的范围是适当的，优选为0.5～8质量％的范围。
[第3层]
第3层的折射率(n3)为1.50以下。第3层的折射率(n3)优选为1.46以下，更优选为1.40以下，特别优选为1.38以下。下限优选为1.25以上，更优选为1.30以上。
第3层的基材膜每一单面侧的厚度(d3)优选为5～50nm的范围，更优选为10～40nm的范围。
第3层优选为通过湿式涂布法涂布热固性或活性能量射线固化性的组合物并使其固化所得的层。作为湿式涂布法，可以使用前述的涂布方法。
作为热固性组合物，例如可以举出以与二氧化硅类微粒结合而形成的硅氧烷聚合物作为主要成分的组合物。详细而言，这样的组合物为二氧化硅类微粒的二氧化硅成分与基体的硅氧烷聚合物反应并均质化而得到的组合物，与二氧化硅类微粒结合而成的硅氧烷聚合物可如下得到：在该二氧化硅类微粒的存在下，使多官能性硅烷化合物在溶剂中、利用酸催化剂、通过公知的水解反应暂时形成硅烷醇化合物，利用公知的缩合反应而得到。
作为活性能量射线固化性组合物，例如可以举出含有通过紫外线或电子射线等活性能量射线而固化的活性能量射线固化性树脂、和作为低折射率材料的低折射率无机粒子及/或含氟化合物的组合物。
第3层优选厚度(d3)为50nm以下的薄膜，从利用湿式涂布法均匀且精度良好地涂布形成上述薄膜的观点出发，作为活性能量射线固化性组合物，优选使用含有活性能量射线固化性树脂和含氟化合物的组合物。该组合物可以使用后述的含氟单体及/或含氟低聚物作为活性能量射线固化性树脂的全部或一部分。
作为活性能量射线固化性树脂，可以使用与上述第2层中使用的活性能量射线固化性树脂相同的树脂(分子中具有至少一个乙烯性不饱和基团的单体或低聚物)，故省略此处的说明。另外，可以与活性能量射线固化性树脂并用的光聚合引发剂也可以使用与上述第2层中使用的光聚合引发剂相同的光聚合引发剂，故省略此处的说明。
在活性能量射线固化性组合物中，相对于组合物的固态成分总量100质量％，活性能量射线固化性树脂的含量在5～90质量％的范围是适当的，优选为5～80质量％的范围，更优选为10～70质量％的范围。
作为低折射率无机粒子，优选二氧化硅或氟化镁等无机粒子。进而，这些无机粒子优选为中空状或多孔质的粒子。上述无机粒子的折射率更优选为1.2～1.35的范围。
在活性能量射线固化性组合物中，相对于组合物的固态成分总量100质量％，低折射率无机粒子的含量优选为20～80质量％的范围，更优选为30～70质量％的范围。
作为含氟化合物，可以举出含氟单体、含氟低聚物、含氟高分子化合物。此处，含氟单体、含氟低聚物为分子中具有乙烯性不饱和基团和氟原子的单体或低聚物。
作为含氟单体、含氟低聚物，例如可以举出(甲基)丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2，2，3，3，3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙基酯、(甲基)丙烯酸β-(全氟辛基)乙基酯等含氟(甲基)丙烯酸酯类；二(α-氟丙烯酸)-2，2，2-三氟乙基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，3-五氟丙基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，4-六氟丁基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，5，5，5-九氟戊基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，6-十一氟己基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，7-十三氟庚基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十五氟辛基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十三氟辛基乙二醇酯、二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，9-十七氟壬基乙二醇酯等二(α-氟丙烯酸)氟烷基酯类。
作为含氟高分子化合物，例如可以举出将含氟单体和用于赋予交联性基团的单体作为结构单元的含氟共聚物。作为含氟单体单元的具体例，例如为氟烯烃类(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2，2-二甲基-1，3-间二氧杂环戊烯等)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物类(例如Viscoat 6FM(大阪有机化学制)或M-2020(DAIKIN制)等)、完全或部分氟化乙烯基醚类等。作为用于赋予交联性基团的单体，除了如甲基丙烯酸缩水甘油酯那样在分子内事先具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸酯单体之外，可以举出具有羧基或羟基、氨基、磺酸基等的(甲基)丙烯酸酯单体(例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟甲酯、(甲基)丙烯酸羟基烷基酯、丙烯酸烯丙酯等)。
在活性能量射线固化性组合物中，相对于组合物的固态成分总量100质量％，含氟化合物的含量优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上，特别优选为60质量％以上。上限优选为100质量％以下，更优选为99质量％以下，特别优选为98质量％以下。
[第2层的光学厚度和第3层的光学厚度的总计]
基材膜每一单面侧的第2层的光学厚度和第3层的光学厚度的总计满足(1/4)λ很重要。光学厚度如前所述为折射率与厚度的积，对于λ也如前所述地为可见光区域的波长范围即380～780nm。厚度的单位为nm。
即，第2层的光学厚度和第3层的光学厚度的总计需要满足以下的关系式4。
(380nm/4)≤(n2×d2)+(n3×d3)≤(780nm/4)
95nm≤(n2×d2)+(n3×d3)≤195nm…(式4)。
也就是说，第2层的光学厚度(n2×d2)和第3层的光学厚度(n3×d3)的总计需要为95nm以上195nm以下。
进而，第2层的光学厚度和第3层的光学厚度的总计优选为95～163nm的范围，更优选为95～150nm的范围，特别优选为100～140nm的范围。
[第2层和第3层的形成方法]
针对利用湿式涂布法涂布而层合第2层和第3层的方法进行说明。
对于第2层和第3层，可以利用湿式涂布法分别逐层涂布而层合，也可以利用湿式涂布法同时层合涂布，或者可以利用1次湿式涂布法涂布1种涂布液后使其层分离而形成。
利用湿式涂布法逐层涂布而层合的方法如下所述：湿式涂布第2层，根据需要使其干燥及固化而形成后，湿式涂布第3层，根据需要使其干燥及固化而形成。第2层和第3层的形成可以在不同的工序中进行，也可以在一个工序中连续地进行。
利用湿式涂布法同时层合涂布的方法是能够同时层合涂布的涂布方法，例如为下述方法：使用多层狭缝式模头挤出涂布机(slot diecoater)、多层滑动珠涂布(slide bead coater)、挤压型模具涂布机等同时层合涂布第2层和第3层，根据需要使其干燥及固化。
对于利用1次湿式涂布法涂布一种涂布液后、使其层分离而形成的方法，例如如日本特开2008-7414号公报、日本特开2008-7415号公报、日本特开2009-58954号公报、日本特开2009-75576号公报、日本特开2009-198748号公报、日本特开2010-39417号公报、日本特开2010-196043号公报、日本特开2010-215746号公报等所记载，可以参照这些方法使用。
[透明导电膜]
作为透明导电膜的材料，可以使用触控面板的电极中使用的公知的材料。例如，可以举出氧化锡、氧化铟、氧化锑、氧化锌、ITO(氧化铟锡)、ATO(氧化锑锡)等金属氧化物。其中，优选使用ITO。
例如从确保表面电阻值为103Ω/□以下的良好的导电性的观点出发，透明导电膜的厚度优选为10nm以上，更优选为15nm以上，特别优选为20nm以上。另一方面，若透明导电膜的厚度变得过大，则有时产生下述不良情况，即透视现象的抑制效果变弱、及透明性降低，因此，透明导电膜的厚度的上限优选为60nm以下，更优选为50nm以下，特别优选为40nm以下。
透明导电膜的折射率(nt)为1.81以上。进而，透明导电膜的折射率(nt)优选为1.85以上，更优选为1.90以上。上限优选为2.20以下，更优选为2.10以下。
作为透明导电膜的形成方法，没有特别限定，可以使用现有公知的方法。具体而言，例如可以使用真空蒸镀法、溅射法、离子电镀法等干法工艺。
本发明的透明导电膜被图案化。例如，将如上所述进行制膜的透明导电膜图案化。根据透明导电性膜所应用的用途，图案化可形成各种图案。需要说明的是，通过透明导电膜的图案化形成图案部和非图案部，作为图案部的形状，例如可以举出条纹状、格子状等。
透明导电膜的图案化通常通过蚀刻进行。例如利用光刻法、激光曝光法、或印刷法在透明导电膜上形成图案状的抗蚀膜之后，通过蚀刻处理将透明导电膜图案化。
作为蚀刻液，可以使用现有公知的蚀刻液。例如，可以使用盐酸、氢溴酸、硫酸、硝酸、磷酸等无机酸、乙酸等有机酸、及它们的混合物、以及它们的水溶液。
[SiO2膜]
本发明中，优选在第3层和透明导电膜之间设置SiO2膜。所述SiO2膜可通过下述方法形成，所述方法为使用真空蒸镀法、溅射法、离子电镀法、等离子体CVD法等干法工艺层合的方法；或者利用湿式涂布法涂布硅溶胶等进行层合的方法等。其中，优选干式工艺法。
SiO2膜的折射率(ns)优选为1.43～1.50的范围，更优选为1.45～1.49的范围。
SiO2膜的基材膜每一单面侧的厚度(ds)优选为5～60nm的范围，更优选为10～50nm的范围，特别优选为10～40nm的范围。
设置SiO2膜时，基材膜每一单面侧的第2层的光学厚度、第3层的光学厚度及SiO2膜的光学厚度的总计优选满足(1/4)λ。光学厚度如前所述为折射率和厚度的积，对于λ也如前所述为可见光区域的波长范围即380～780nm。厚度的单位为nm。
即，第2层的光学厚度、第3层的光学厚度及SiO2膜的光学厚度的总计优选满足以下关系式5。
(380nm/4)≤(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≤(780nm/4)
95nm≤(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≤195nm  …(式5)。
进而，λ的范围优选为450～650nm。也就是说，光学厚度的总计进一步优选满足以下关系式6。
(450nm/4)≤(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≤(650nm/4)
113nm≤(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≤163nm…(式6)。
进而，λ的范围进一步优选为500～600nm。也就是说，光学厚度的总计特别优选满足以下关系式7。
(500nm/4)≤(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≤(600nm/4)
125nm≤(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≤150nm…(式7)。
通过在第3层和透明导电膜之间设置SiO2膜，透明导电膜的密合性提高，进而通过使SiO2膜的光学厚度在上述范围内，能够抑制透视现象。
[硬涂层]
本发明中，可以在第1层和第2层之间设置硬涂层。硬涂层的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上。厚度的上限优选为10μm以下，更优选为8μm以下，进一步优选为5μm以下，特别优选为3μm以下。
在第1层和第2层之间设置硬涂层时，硬涂层的折射率(nh)、第1层的折射率(n1)和基材膜的折射率(nf)优选nf＞n1＞nh。特别地，基材膜与第1层的折射率差(nf-n1)及第1层与硬涂层的折射率差(n1-nh)分别优选为0.1以下，更优选为0.09以下，特别优选为0.08以下。下限优选为0.03以上，更优选为0.04以上。由此，能够减轻透明导电性膜的反射色不均。
本发明中，仅在基材膜的单面设置第1层、第2层、第3层、透明导电膜、及根据需要设置的SiO2膜或硬涂层时，优选在相反面上设置硬涂层。由此，能够抑制低聚物从基材膜析出。此时，从减轻透明导电性膜的反射色不均的观点出发，优选在基材膜和硬涂层之间以满足上述折射率的关系的方式设置第1层。
本发明中进一步优选在基材膜的双面上以第1层、硬涂层的顺序设置第1层和硬涂层，双面均分别优选基材膜的折射率(nf)、第1层的折射率(n1)及硬涂层的折射率(nh)满足上述关系。作为该方案，可以举出以下结构(1)、(2)。需要说明的是，在下述结构例中，透明导电膜为被图案化的透明导电膜，透明导电膜以外的其他层没有被图案化。
(1)硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜
(2)透明导电膜/第3层/第2层/硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜
硬涂层的折射率(nh)在1.46～1.55的范围是适当的，优选为1.48～1.54的范围，更优选为1.50～1.53的范围。
另外，可以通过使上述硬涂层含有着色染料或着色颜料进行着色。由此，可以调整透明导电性膜的反射色和透射色。
硬涂层优选为下述层，即，利用湿式涂布法涂布含有热固性或活性能量射线固化性的树脂的组合物后、根据需要进行干燥、然后使其固化而得到的层。作为硬涂层形成用组合物，特别优选含有活性能量射线固化性树脂的组合物。作为湿式涂布法，可以使用上述涂布方法。
作为活性能量射线固化性树脂，可以使用与上述第2层中使用的活性能量射线固化性树脂相同的树脂，故省略此处的说明。另外，可以与活性能量射线固化性树脂并用的光聚合引发剂也可以使用与上述第2层中使用的光聚合引发剂相同的光聚合引发剂，故省略此处的说明。
[透明导电性膜]
本发明的透明导电性膜在基材膜的单面或双面上按以下顺序具有第1层、第2层、第3层、及透明导电膜。另外，根据需要，可以在基材膜的单面或双面上设置SiO2膜或硬涂层。特别优选在双面上设置硬涂层。
以下举出几种本发明的透明导电性膜的优选结构例，但本发明并不限定于这些例子。需要说明的是，在下述结构例中，透明导电膜为被图案化的透明导电膜。透明导电膜以外的其他层未被图案化。
(a)基材膜/第1层/第2层/第3层/透明导电膜
(b)第1层/基材膜/第1层/第2层/第3层/透明导电膜
(c)硬涂层/第1层/基材膜/第1层/第2层/第3层/透明导电膜
(d)第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜
(e)硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜
(f)透明导电膜/第3层/第2层/第1层/基材膜/第1层/第2层/第3层/透明导电膜
(g)透明导电膜/第3层/第2层/硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜
(h)基材膜/第1层/第2层/第3层/SiO2膜/透明导电膜
(i)第1层/基材膜/第1层/第2层/第3层/SiO2膜/透明导电膜
(j)硬涂层/第1层/基材膜/第1层/第2层/第3层/SiO2膜/透明导电膜
(k)硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/SiO2膜/透明导电膜
(l)透明导电膜/SIO2膜/第3层/第2层/硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/SiO2膜/透明导电膜
[各层的折射率的关系]
在本发明的透明导电性膜中，各层的折射率的关系优选满足以下关系式8。由此进一步抑制透明导电膜图案的透视现象。
·nt＞n2≥nf＞n1＞n3…(式8)
式中，nt表示透明导电膜的折射率，n2表示第2层的折射率，nf表示基材膜的折射率，n1表示第1层的折射率，n3表示第3层的折射率。
[视觉反射率]
本发明的透明导电性膜中，透明导电膜的图案部和非图案部的视觉反射率差优选为3.0％以下，更优选为2.5％以下，特别优选为2.0％以下，最优选为1.5％以下。
[透明导电膜的图案部与非图案部的色差]
从抑制透明导电膜图案的目视辨认(透视)的观点出发，透明导电膜的图案部与非图案部的反射色的色差ΔE优选为7以下，更优选为6以下，特别优选为5以下。此处，ΔE用下述关系式9表示。
·ΔE＝{(ΔL)2+(Δa)2+(Δb)2}1/2…(式9)
式中
ΔL＝(非图案部的L*值)-(图案部的L*值)
Δa＝(非图案部的a*值)-(图案部的a*值)
Δb＝(非图案部的b*值)-(图案部的b*值)。
通过采用本发明的层结构，能够使透明导电膜的图案部与非图案部的视觉反射率差和色差如上所述均衡性良好地减小，结果能够充分地抑制透视现象。
[透明导电性膜的调色]
可以通过使选自基材膜、第1层、第2层、及第3层中的至少一层含有着色染料或着色颜料进行着色。由此，可以调整透明导电性膜的反射色和透射色。
另外，如上所述设置硬涂层时，也可通过使硬涂层含有着色染料或着色颜料而进行着色。
通过如上所述调整本发明的透明导电性膜的反射色和透射色，能够进一步抑制透明导电膜图案的透视现象。
[用途]
本发明的透明导电性膜可以用于液晶显示器、电致发光显示器等显示器或触控面板等中的透明电极、防静电性膜、或者电磁屏蔽膜等。特别地，本发明的透明导电性膜适合于触控面板，其中尤其适合于静电电容式触控面板。另外，本发明的透明导电性膜可用于例如电泳方式、扭转球(twist ball)方式、热敏·可重写方式、光写入液晶方式、聚合物分散型液晶方式、宾·主液晶方式、色粉显示方式、变色方式、电场沉积方式等的挠性显示元件。
实施例
以下，利用实施例进一步详细说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。需要说明的是，以下给出本实施例中的测定方法及评价方法。
(1)折射率的测定之一(第1层、第2层、第3层及硬涂层的折射率)
对于使用旋转涂布机将第1层、第2层、第3层及硬涂层的各个涂布组合物涂布在硅晶片上形成的涂布膜(干燥厚度约2μm)，在25℃的温度条件下、使用相位差测定装置(尼康(株)制：NPDM-1000)测定633nm的折射率。
(2)折射率的测定之二(基材膜的折射率)
基材膜(PET膜)的折射率根据JIS K7105(1981)、使用阿贝折射仪测定。
(3)折射率的测定之三(透明导电膜及SiO2膜的折射率)
在与实际的层合条件相同的条件下，在折射率已知的PET膜上分别层合透明导电膜或SiO2膜使厚度为30nm，制作折射率测定用样品。接着，分别测定折射率测定用样品的透明导电膜或SiO2膜的反射率和厚度。由这样得到的反射率、膜厚度、及PET膜的折射率算出透明导电膜或SiO2膜的折射率。
对于上述反射率，在与层合有透明导电膜或SiO2膜的面相反侧的PET膜面上用#320～400的耐水砂纸均匀地打磨后，涂布黑色涂料(Black Magic Ink(注册商标)液)，使其形成完全没有来自相反侧的面的反射的状态，使用岛津制作所(株)的分光光度计UV-3150测定550nm的反射率。
透明导电膜或SiO2膜的厚度采用下述方法(4)测定。
(4)各个层及膜的厚度测定
将样品的截面切成超薄切片，使用透射式电子显微镜(日立制H-7100FA型)、在加速电压100kV下、以5万倍～30万倍的倍率观察样品的截面，分别测定层、膜的厚度。需要说明的是，各层的边界不明确时，根据需要实施染色处理。
(5)透明导电膜图案的目视辨认性
在黑色的板上放置样品，采用以下标准评价能否通过目视来目视辨认图案部。在仅在基材膜的一个面上层合有透明导电膜的样品的情况下，以透明导电膜朝上的方式放置，进行评价。在基材膜的两个面上层合有透明导电膜的样品的情况下，以各个面的透明导电膜朝上的方式放置，分别进行评价。
A：不能目视辨认图案部。
B：能稍微目视辨认图案部。
C：能明确目视辨认图案部。
<第1层的涂布组合物>
(第1层的涂布组合物1a)
第1层的涂布组合物1a是含有100质量份含萘环的聚酯树脂、5质量份三聚氰胺类交联剂(羟甲基型三聚氰胺类交联剂(三和化学(株)制的“NIKALAC MW12LF”))、1质量份胶体二氧化硅(日产化学工业(株)制的“SNOWTEX OL”)的水系分散物。该涂布组合物的折射率为1.58。
(第1层的涂布组合物1b)
第1层的涂布组合物1b为含有100质量份丙烯酸树脂、5质量份三聚氰胺类交联剂(羟甲基型三聚氰胺类交联剂(三和化学(株)制的“NIKALAC MW12LF”))、1质量份胶体二氧化硅(日产化学工业(株)制的“SNOWTEX OL”)的水系分散物。该涂布组合物的折射率为1.52。
<第2层的涂布组合物>
(第2层的涂布组合物2a)
第2层的涂布组合物2a是将37质量份活性能量射线固化性树脂(10质量份二季戊四醇六丙烯酸酯和27质量份氨基甲酸酯丙烯酸酯)、60质量份氧化锆、及3质量份光聚合引发剂(Ciba SpecialtyChemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.70。
(第2层的涂布组合物2b)
第2层的涂布组合物2b是将37质量份活性能量射线固化性树脂(10质量份二季戊四醇六丙烯酸酯和27质量份氨基甲酸酯丙烯酸酯)、60质量份氧化钛、及3质量份光聚合引发剂(Ciba SpecialtyChemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.75。
(第2层的涂布组合物2c)
第2层的涂布组合物2c是将27质量份活性能量射线固化性树脂(10质量份二季戊四醇六丙烯酸酯和17质量份氨基甲酸酯丙烯酸酯)、70质量份五氧化锑、及3质量份光聚合引发剂(Ciba SpecialtyChemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.64。
(第2层的涂布组合物2d)
第2层的涂布组合物2d是将77质量份活性能量射线固化性树脂(20质量份二季戊四醇六丙烯酸酯和57质量份氨基甲酸酯丙烯酸酯)、20质量份ATO(氧化锑锡)、及3质量份光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.54。
<第3层的涂布组合物>
(第3层的涂布组合物3a)
第3层的涂布组合物3a是将47质量份活性能量射线固化性树脂(以质量比1∶3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯)、50质量份中空二氧化硅、及3质量份光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.35。
(第3层的涂布组合物3b)
第3层的涂布组合物3b是将57质量份活性能量射线固化性树脂(以质量比1∶3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯)、40质量份中空二氧化硅、及3质量份光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.37。
(第3层的涂布组合物3c)
第3层的涂布组合物3c是将82质量份活性能量射线固化性树脂(以质量比1∶3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯)、15质量份中空二氧化硅、及3质量份光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.43。
(第3层的涂布组合物3d)
第3层的涂布组合物3d是将100质量份二(α-氟丙烯酸)-2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，9-十七氟壬基乙二醇酯、10质量份聚(丙烯酸-3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，10，10，10-十七氟癸酯)、及1质量份光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.36。
(第3层的涂布组合物3e)
第3层的涂布组合物3e是将82质量份活性能量射线固化性树脂(20质量份二季戊四醇六丙烯酸酯和62质量份氨基甲酸酯丙烯酸酯)、15质量份ATO(氧化锑锡)、及3质量份光聚合引发剂(CibaSpecialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.53。
(第3层的涂布组合物3f)
将30质量份(甲基)丙烯酸β-(全氟辛基)乙基酯、3质量份季戊四醇三丙烯酸酯六亚甲基二异氰酸酯氨基甲酸酯预聚物、及2质量份光聚合引发剂(2-甲基-1[4-(甲基硫)苯基]-2-吗啉丙-1-酮)分散或溶解在有机溶剂中而得到的涂布组合物。该涂布组合物的折射率为1.43。
[实施例1]
基于下述要领制作透明导电性膜。需要说明的是，在基材膜(PET膜)的双面层合第1层后，分别制作将第2层、第3层及透明导电膜仅设置在基材膜(PET膜)的单面上的透明导电性膜(实施例1a)和设置在双面上的透明导电性膜(实施例1b)。
<第1层的层合>
在PET膜的制膜工序中(在线)，利用湿式涂布法(棒涂法)在折射率为1.65、厚125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)的双面上层合第1层的涂布组合物1a，使干燥厚度为90nm，在PET膜上层合第1层。
<第2层的层合>
利用湿式涂布法(凹版涂布法)在上述第1层上涂布第2层的涂布组合物2a使得固化后的厚度为40nm，进行干燥，照射紫外线使其固化，形成第2层。
<第3层的层合>
利用湿式涂布法(凹版涂布法)在上述第2层上涂布第3层的涂布组合物3a使得固化后的厚度为35nm，进行干燥，照射紫外线使其固化，形成第3层。
<透明导电膜的层合>
利用溅射法在上述第3层上层合ITO膜作为透明导电膜，使厚度为30nm。
<透明导电膜的图案化>
仅将上述得到的层合体的透明导电膜图案加工(蚀刻处理)成条纹状，得到透明导电性膜。
[实施例2～16、比较例1～6]
除变更为表1、2所示的构成以外，与实施例1同样地制作透明导电性膜。将与实施例1同样地、第2层、第3层及透明导电膜仅设置在基材膜(PET膜)的单面上的透明导电性膜作为实施例2a～16a、比较例1a～6a，将设置在双面上的透明导电性膜作为实施例2b～16b、比较例1b～6b。
<评价>
针对上述制作的各个透明导电性膜，评价透明导电膜图案的目视辨认性。将其结果示于表1、2。需要说明的是，第2层、第3层及透明导电膜仅设置在基材膜(PET膜)的单面上的透明导电性膜(实施例1a～16a、比较例1a～6a)、和设置在双面上的透明导电性膜(实施例1b～16b、比较例1b～6b)为同样的评价结果，因此归纳在一起记载。
Figure BPA00001718601800271
Figure BPA00001718601800281
Figure BPA00001718601800301
由表1～4的结果可知，本发明的实施例不能目视辨认透明导电膜图案，但比较例能目视辨认透明导电膜图案。
[实施例17]
基于下述要领制作透明导电性膜。需要说明的是，在基材膜(PET膜)的双面上层合第1层后，分别制作将第2层、第3层、SiO2膜及透明导电膜仅设置在基材膜(PET膜)的单面上的透明导电性膜(17a)、和设置在双面上的透明导电性膜(17b)。
<第1层的层合>
在PET膜的制膜工序中(在线)，利用湿式涂布法(棒涂法)在折射率为1.65、厚125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)的双面上层合第1层的涂布组合物1a，使干燥厚度为90nm，在PET膜上层合第1层。第1层的光学厚度为142nm。
<第2层的层合>
利用湿式涂布法(凹版涂布法)在上述第1层上涂布第2层的涂布组合物2a使得固化后的厚度为45nm，进行干燥，照射紫外线使其固化，形成第2层。第2层的光学厚度为77nm。
<第3层的层合>
利用湿式涂布法(凹版涂布法)在上述第2层上涂布第3层的涂布组合物3d使得固化后的厚度为10nm，进行干燥，照射紫外线使其固化，形成第3层。第3层的光学厚度为14nm。
<SiO2膜的层合>
利用溅射法在上述第3层上层合厚度为30nm的SiO2膜(折射率为1.46)。SiO2膜的光学厚度为44nm。
<透明导电膜的层合>
利用溅射法在上述SiO2膜上层合ITO膜作为透明导电膜，使厚度为30nm。
<透明导电膜的图案化>
仅将上述得到的层合体的透明导电膜图案加工(蚀刻处理)成条纹状，得到透明导电性膜。
<实施例17的评价>
在实施例17的透明导电性膜中，基材膜每一单面侧的第2层的光学厚度、第3层的光学厚度及SiO2膜的光学厚度的总计为135nm。该透明导电性膜(仅设置在单面上的透明导电性膜和设置在双面上的透明导电性膜)的透明导电膜图案的目视辨认性均为“A”。
[实施例18]
在实施例1a中，在PET膜的设置有第1层、第2层、第3层及透明导电膜一侧的面的第1层和第2层之间、及其相反侧的面的第1层上设置下述硬涂层，除此以外，与实施例1a同样地得到透明导电性膜。
<硬涂层的层合>
利用湿式涂布法(凹版涂布法)涂布含有95质量份活性能量射线固化性树脂(以质量比1∶3含有二季戊四醇六丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯)、5质量份光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals(株)制“IRGACURE(注册商标)184”)的组合物，进行干燥，照射紫外线进行固化，形成厚度为2μm的硬涂层(折射率1.50)。
[实施例19]
在实施例17a中，在PET膜的设置有第1层、第2层、第3层、SiO2膜及透明导电膜一侧的面的第1层和第2层之间、及其相反侧的面的第1层上设置与实施例18同样的硬涂层，除此以外，与实施例17a同样地得到透明导电性膜。
<实施例18、19的评价>
实施例18的透明导电性膜的透明导电膜图案的目视辨认性为“A”。
实施例19的透明导电性膜的透明导电膜图案的目视辨认性为“A”。
[实施例20]
在实施例17b中，在设置于PET膜的双面上的第1层和第2层之间分别设置与实施例18同样的硬涂层，除此以外，与实施例17b同样地得到透明导电性膜。
<实施例20的评价>
实施例20的透明导电性膜的透明导电膜图案的目视辨认性为“A”。

Claims (17)

1.一种透明导电性膜，在折射率为1.61～1.70的基材膜的单面或双面上，按以下顺序具有：
第1层，所述第1层的折射率为1.50～1.60，且基材膜每一单面侧的第1层的光学厚度为(1/4)λ，
第2层，所述第2层的折射率为1.61～1.80，
第3层，所述第3层的折射率为1.50以下，及
透明导电膜，所述透明导电膜的折射率为1.81以上，且所述透明导电膜被图案化；
基材膜每一单面侧的所述第2层的光学厚度和所述第3层的光学厚度总计为(1/4)λ，
并且，在所述第1层与所述第2层之间具有硬涂层，
其中，λ为380～780nm。
2.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第1层、所述第2层及所述第3层中的任一层均含有树脂。
3.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第1层、所述第2层及所述第3层中的任一层均通过湿式涂布法被涂布而层合。
4.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第2层及所述第3层是分别通过湿式涂布法涂布活性能量射线固化性组合物并进行固化而得到的层。
5.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第2层是通过湿式涂布法涂布活性能量射线固化性组合物并进行固化而得到的层，所述活性能量射线固化性组合物包含活性能量射线固化性树脂和金属氧化物。
6.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第3层是通过湿式涂布法涂布活性能量射线固化性组合物并进行固化而得到的层，所述活性能量射线固化性组合物相对于所述组合物100质量％含有30质量％以上的含氟化合物。
7.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第2层的基材膜每一单面侧的厚度d2为30nm以上。
8.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第3层的基材膜每一单面侧的厚度d3为5～50nm。
9.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，基材膜每一单面侧的所述第2层的光学厚度和所述第3层的光学厚度的总计为95～163nm的范围。
10.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述基材膜为聚酯膜。
11.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述基材膜的折射率nf、所述第1层的折射率n1、所述第2层的折射率n2、所述第3层的折射率n3及所述透明导电膜的折射率nt的关系满足nt＞n2≥nf＞n1＞n3。
12.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述硬涂层是利用湿式涂布法涂布含有活性能量射线固化性的树脂的组合物后使其固化而得到的层，并且，所述硬涂层的折射率在1.46～1.55的范围内。
13.如权利要求1所述的透明导电性膜，具有下述(1)或(2)的结构：
(1)硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜
(2)透明导电膜/第3层/第2层/硬涂层/第1层/基材膜/第1层/硬涂层/第2层/第3层/透明导电膜。
14.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述基材膜的折射率nf、所述第1层的折射率n1及所述硬涂层的折射率nh的关系满足nf＞n1＞nh，并且所述基材膜与所述第1层的折射率差nf-n1及所述第1层与所述硬涂层的折射率差n1-nh分别为0.1以下。
15.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述第3层和所述透明导电膜之间具有SiO2膜。
16.一种触控面板，具有权利要求1所述的透明导电性膜。
17.如权利要求16所述的触控面板，其中，所述触控面板为静电电容式触控面板。
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