JP6328984B2 - 両面透明導電性フィルムおよびタッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、両面透明導電性フィルムおよびタッチパネルに関する。

近年、投影型静電容量方式のタッチパネルや、マトリックス型の抵抗膜方式タッチパネルは、多点入力（マルチタッチ）が可能であるため、操作性に優れ、その需要が急速に高まっている。このようなタッチパネルの電極部材として、透明フィルム基材の両面に透明導電性薄膜が形成された両面透明導電性フィルムが提案されている。

上述のようなタッチパネルでは、パターン化された透明導電層を有する両面透明導電性フィルムが用いられる。透明導電層の材料としてインジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）が可視光透過率の観点から広く用いられているものの、その屈折率が高いことから、ＩＴＯを含む透明導電層をパターン化した際には、透明導電層がパターンを形成する部分（パターン形成部）と透明導電層が除去された部分（パターン開口部）においてパターンの視認性に差異が生じ、外部からパターンが観察されて見栄えが悪化したり、色味が生じたりすることがある。このようなパターンを目立たなくするために、両面に透明導電層が設けられた両面透明導電性フィルムにおいて、フィルム基材と透明導電層との間に光学調整層を設けた技術も提案されている（特許文献１）。

国際公開第２０１１／０６５０３２号

上記技術では、光学調整層の形成にはスパッタリング等の乾式法を採用しているものの、ロール・トゥー・ロール方式での連続生産が可能となりコスト低減を図ることができる観点から湿式塗工法が望まれている。しかしながら、ロール・トゥー・ロール方式では重なり合うフィルム同士が密着して剥がれにくくなり（いわゆるブロッキング）、場合によってはフィルムに破断やキズが発生して生産性が低下するおそれがある。

これに対し、ブロッキングを抑制するために、表面に凹凸を形成したアンチブロッキング層を形成する方策を採用することができる。しかしながら、光学調整層を湿式塗工法で形成すると、アンチブロッキング層の隆起が塗布液により消失してブロッキング防止性が発揮されず、ブロッキングが発生する場合がある。

上記観点に鑑み、本発明は、透明導電層をパターン化しても見栄えが良好であるとともに、耐ブロッキング性を有し、これにより低コストでの製造が可能な両面透明導電性フィルム及びその巻回体、並びにタッチパネルを提供することを目的とする。

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、アンチブロッキング層の粒子の粒径と光学調整層の厚さとを特定の関係に置くことにより上記目的を達成し得ることを見出し本発明にいたった。

すなわち、本発明は、基材フィルムの両面に、光学調整層および透明導電層がこの順に形成されており、
前記基材フィルムと一方の前記光学調整層との間及び前記基材フィルムと他方の前記光学調整層との間の少なくとも一方に、粒子を含むアンチブロッキング層が形成されており、
前記アンチブロッキング層は、平坦部と、前記粒子に起因する隆起部とを有し、
前記粒子の最頻粒子径から前記アンチブロッキング層の平坦部の厚さを減じた値が、前記光学調整層の厚さよりも大きい両面透明導電性フィルムである。

当該両面透明導電性フィルムでは、基材フィルムの両面に形成された透明導電層との関係でそれぞれ光学設計が可能なように基材フィルムと各透明導電層との間に光学調整層を設けているので、透明導電層をパターン化した場合でもパターンを目立ちにくくし、色味の発生を抑制して良好な見栄えを達成することができる。また、アンチブロッキング層に含まれる粒子の最頻粒子径から前記アンチブロッキング層の平坦部の厚さを減じた値を前記光学調整層の厚さよりも大きくしているので、光学調整層を湿式コーティングにより形成した場合であってもアンチブロッキング層の隆起部が消失することがなく、言い換えると光学調整層においても下層のアンチブロッキング層の隆起部に起因する隆起が存在するようになり、その結果、優れた耐ブロッキング性を発揮することができる。さらに、当該両面透明導電性フィルムは、光学調整層を湿式コーティングで形成する場合であっても耐ブロッキング性を維持することができるので、光学調整層の形成を含めてロール・トゥー・ロール方式での連続生産が可能となり、低コストでの製造が可能となる。

前記光学調整層の厚さは５０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。これにより透明導電層をパターン化した場合であってもパターンを目立ちにくくすることができ、見栄えを良好なものとすることができる。

前記光学調整層は、湿式コーティングにより形成された層であることが好ましい。これにより光学調整層のロール・トゥー・ロール方式での形成が可能となり、製造コスト削減に資することができる。

前記アンチブロッキング層の隆起部の高さから前記アンチブロッキング層の平坦部の厚さを減じた値が、前記光学調整層の厚みよりも大きいことが好ましい。このような構成を採用することにより、光学調整層を湿式コーティングで形成する場合のアンチブロッキング層の隆起部の消失を防止することができ、ロール・トゥー・ロール方式での生産時に求められる耐ブロッキング性を発揮することができる。

両面透明導電性フィルムのヘイズは５％以下であることが好ましい。これにより高い透明性を発揮して良好な視認性を確保することができる。

前記透明導電層がパターン化されていることが好ましく、当該両面透明導電性フィルムは該透明導電層がパターンを形成するパターン形成部と、該透明導電層が除去されたパターン開口部とを有することが好ましい。透明導電層を具体的にパターン化することにより、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に適用することができる。

当該両面透明導電性フィルムの透明導電層をパターン化し、これを平面視にて透視した際に、両面のパターン形成部が重複する両面パターン領域の反射率と、一方の面はパターン形成部で、かつ他方の面はパターン開口部である片面パターン領域の反射率との差の絶対値が１％以下であることが好ましい。これにより、パターンの有無による視認性の差によるパターン観察が抑制されて、より見栄えの良い両面透明導電性フィルムを得ることができる。

前記両面パターン領域の反射色相ｂ^＊が−１０≦ｂ^＊≦０を満たすことが好ましい。これにより、両面透明導電性フィルムにおける色味（特に、黄色味）の発生を効率良く抑制することができる。

前記基材フィルムがシクロオレフィン系樹脂を含むことが好ましい。これにより、当該両面透明導電性フィルムの透明性をより高めることができ、良好な見栄えを達成することができる。

本発明には、当該両面導電性フィルムの長尺体がロール状に巻き取られた両面透明導電性フィルム巻回体も含まれる。

本発明には、当該両面透明導電性フィルムを備えるタッチパネルも含まれる。

本発明の一実施形態に係る両面透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の他の実施形態に係る両面透明導電性フィルムの模式的断面図である。 透明導電層のパターンの一例を模式的に示す一部透視平面図である。

本発明の一実施形態について、図面を参照しながら以下に説明する。なお、図面に示した形態は実寸比ではなく、説明の便宜上、部分的に拡大又は縮小して示している箇所がある。また、本明細書における上下左右、表裏等の位置関係を示す用語は、単なる説明を容易にするための用語であり、実際の具体的構成の位置関係を特定する意図は一切ない。

＜両面透明導電性フィルム＞
図１は、本発明の両面透明導電性フィルムの一実施形態を模式的に示す断面図である。両面透明導電性フィルム１０では、基材フィルム１の両面に、粒子５を含むアンチブロッキング層２ａ、２ｂ（以下、両者を合わせて「アンチブロッキング層２」ともいう。）、光学調整層３ａ、３ｂ（以下、両者を合わせて「光学調整層３」ともいう。）、及び透明導電層４ａ、４ｂ（以下、両者を合わせて「透明導電層４」ともいう。）が順に形成されている。図１ではアンチブロッキング層２ａ、２ｂが基材フィルム１の両面に形成されているが、基材フィルム１の上面側又は下面側のいずれか一方にのみアンチブロッキング層が形成されていてもよい。なお、アンチブロッキング層２、光学調整層３、及び透明導電層４の構成については、基材フィルム１の一方の面側の構成と同様の構成を他方の面側でも採用することができるので、以下では主に図１における基材フィルム１の上面側の構成について説明する。

アンチブロッキング層２ａは、表面に平坦部２１及び隆起部２２を有する。隆起部２２は粒子５に起因して形成されている。ここで、両面透明導電性フィルム１０では、粒子５の最頻粒子径ｄからアンチブロッキング層２ａの平坦部２１の厚さＴ_Ａを減じた値が、光学調整層３ａの厚さＴ_Ｏよりも大きくなっている。光学調整層３ａを湿式コーティングにより形成する場合、アンチブロッキング層２ａの平坦部２１が光学調整層３ａにより埋められ、相対的に隆起部２２の高さが低減されて耐ブロッキング性が消失することがある。両面透明導電性フィルム１０では、粒子５の最頻粒子径ｄ、平坦部２１の厚さＴ_Ａ、及び光学調整層３ａの厚さＴ_Ｏを特定の関係を満たすように形成しているので、湿式コーティングによる光学調整層３ａの形成の際にもアンチブロッキング層２ａの隆起部２２が消失することを防止することができる。その結果、光学調整層３ａの表面にも隆起部２２に起因する隆起を生じさせることができ、良好な耐ブロッキング性を発揮することができる。なお、図１では、最頻粒子径ｄを有する粒子５を図示しているものの、本発明の作用効果を損なわない限りアンチブロッキング層２ａは最頻粒子径ｄ以外の粒子径を有する粒子５を含んでいてもよい。

両面透明導電性フィルム１０では、通常、アンチブロッキング層２ａの厚さをマイクロメートルオーダーとするのに対し、光学調整層３ａ及び透明導電層４ａの各厚さをナノメートルオーダーと薄くしているので、最表面層である透明導電層４ａは、光学調整層３ａの隆起に追従して隆起を有することとなる。図１における基材フィルム１の下面側でも同様である。

両面透明導電性フィルムのヘイズは、要求される透明性を確保可能であれば特に限定されないものの、５％以下が好ましく、４％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましい。なお、ヘイズの下限は０％が好ましいものの、最表面層の隆起部等の存在により、一般的に０．３％以上となることが多い。

＜基材フィルム＞
基材フィルム１としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。例えば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂などのポリシクロオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で好ましいのは、シクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂であり、特に好ましいのはシクロオレフィン系樹脂である。

基材フィルム１の厚さは、２〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、２０〜１８０μｍの範囲内であることがより好ましい。基材フィルム１の厚さが２μｍ未満であると、基材フィルム１の機械的強度が不足し、フィルム基材をロール状にして光学調整層３及び透明導電層４を連続的に形成する操作が困難になる場合がある。一方、厚さが２００μｍを超えると、透明導電層４の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性の向上が図れない場合がある。

基材フィルム１には、表面に予めスパッタリング、プラズマ処理、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、フィルム基材上に形成されるアンチブロッキング層や光学調整層等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、アンチブロッキング層や光学調整層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、フィルム基材表面を除塵、清浄化してもよい。

＜アンチブロッキング層＞
アンチブロッキング層２は、上述のように、表面に平坦部２１と隆起部２２とを有する。隆起部２２は、アンチブロッキング層２に含まれる粒子５に起因して形成されている。隆起部２２の高さは、光学調整層３の厚さＴ_Ｏより大きいことが好ましく、具体的には、平坦部２１を基準として好ましくは１００ｎｍ以上３μｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上２μｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１．５μｍ以下である。隆起部２２の高さを上記範囲に設定することで、最表面層（図１では透明導電層４）に所定の隆起部を付与することができ、その結果、両面透明導電性フィルム１０の耐ブロッキング性を満足すると同時に、ギラツキを十分に低減し、かつヘイズの上昇を十分に抑えることができる。

アンチブロッキング層２の平坦部２１の厚さは、特に限定されないものの、２００ｎｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、８００ｎｍ以上５μｍ以下であることがさらに好ましい。アンチブロッキング層の平坦部の厚さが過度に小さいと、基材フィルムからのオリゴマー等の低分子量成分の析出を抑止することができず、両面透明導電性フィルムや、これを用いたタッチパネルの視認性が悪化する傾向がある。一方、アンチブロッキング層の平坦部の厚さが過度に大きいと、透明導電層の結晶化時やタッチパネルの組み立て時の加熱によって、アンチブロッキング層形成面を内側として両面透明導電性フィルムがカールする傾向がある。そのため、アンチブロッキング層の平坦部の厚さが大きい場合は、耐ブロッキング性や易滑性とは別の問題で、フィルムの取り扱い性に劣る傾向がある。なお、本明細書において、アンチブロッキング層の平坦部の厚さとは、アンチブロッキング層の平坦部における平均厚さを指す。

粒子の最頻粒子径は、最表面層の隆起部のサイズやアンチブロッキング層２の平坦部２１の厚さとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、両面透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつヘイズの上昇を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は５００ｎｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、８００ｎｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置（Ｓｙｓｍｅｘ社製、製品名「ＦＰＴＡ−３０００Ｓ」）を用いて、所定条件下（Ｓｈｅａｔｈ液：酢酸エチル、測定モード：ＨＰＦ測定、測定方式：トータルカウント）で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで１．０重量％に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。

粒子は多分散粒子及び単分散粒子のいずれでもよいが、隆起部の付与の容易性やギラツキ防止性を考慮すると単分散粒子が好ましい。単分散粒子の場合は、粒子の粒径と最頻粒子径とが実質的に同一と見なすことができる。

アンチブロッキング層中の粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分１００重量部に対して０．０１〜５重量部であることが好ましく、０．０２〜１重量部であることがより好ましく、０．０５〜０．５重量部であることがさらに好ましい。アンチブロッキング層中の粒子の含有量が小さいと、アンチブロッキング層の表面に耐ブロッキング性を付与するのに十分な隆起部が形成され難くなる傾向がある。一方、粒子の含有量が大きすぎると、粒子による光散乱に起因して両面透明導電性フィルムのヘイズが高くなり、視認性が低下する傾向がある。また、粒子の含有量が大きすぎると、アンチブロッキング層の形成時（溶液の塗布時）に、スジが発生し、視認性が損なわれたり、導電性層の電気特性が不均一となったりする場合がある。

（樹脂組成物）
アンチブロッキング層２を形成する樹脂組成物としては粒子の分散が可能で、アンチブロッキング層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。用いる樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく光拡散層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。

紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を２個以上、特に３〜６個有するアクリル系のモノマーやオリゴマー成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。

樹脂層の形成材料には、前記材料に加えて、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピー剤を用いると、微細凹凸形状表面における突出粒子の形成に有利である。チクソトロピー剤としては、０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００重量部に対して、１５重量部以下程度、好ましくは０．０１〜１５重量部、とするのが好適である。

（粒子）
アンチブロッキング層２に含有される粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。

（コーティング組成物）
アンチブロッキング層を形成するのに用いられるコーティング組成物は、上記の樹脂、粒子、および溶媒を含む。また、コーティング組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤として、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、及び紫外線吸収剤などの常用の添加剤が挙げられる。

コーティング組成物は、上記の樹脂および粒子を、必要に応じて溶媒、添加剤、触媒等と混合することにより調製される。コーティング組成物中の溶媒は、特に限定されるものではなく、用いる樹脂や塗装の下地となる部分の材質および組成物の塗装方法などを考慮して適時選択される。溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また２種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒およびケトン系溶媒が好ましく使用される。

コーティング組成物において、粒子は溶液中に分散されていることが好ましい。溶液中に粒子を分散させる方法としては、樹脂組成物溶液に粒子を添加して混合する方法や、予め溶媒中に分散させた粒子を樹脂組成物溶液に添加する方法等、各種公知の方法を採用することができる。

コーティング組成物の固形分濃度は、１重量％〜７０重量％が好ましく、２重量％〜５０重量％がより好ましく、５重量％〜４０重量％が最も好ましい。固形分濃度が低くなりすぎると、塗布後の乾燥工程でアンチブロッキング層表面の隆起部のばらつきが大きくなり、アンチブロッキング層表面の隆起部が大きくなった部分のヘイズが上昇する場合がある。一方、固形分濃度が大きくなりすぎると、含有成分が凝集しやすくなり、その結果、凝集部分が顕在化して両面透明導電性フィルムの外観を損ねる場合がある。

（塗布および硬化）
アンチブロッキング層は、基材上に、上記のコーティング組成物を塗布することにより形成される。本実施形態では、基材フィルム１上へのコーティング組成物の塗布は基材の両面に行う。なお、コーティング組成物は、基材フィルム１上に直接行ってもよく、基材フィルム１上に形成されたアンダーコート層等の上に行うこともできる。

コーティング組成物の塗布方法は、コーティング組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法やエクストルージョンコート法などにより塗布することができる。

コーティング組成物を塗布後、塗膜を硬化させることによって、アンチブロッキング層を形成することができる。樹脂組成物が光硬化性である場合は、必要に応じた波長の光を発する光源を用いて光を照射することによって、硬化させることができる。照射する光として、例えば、露光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上の光、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００Ｊ／ｃｍ^２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば３８０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。なお、光硬化処理の際に、または光硬化処理後に加熱を行ってもよい。

アンチブロッキング層２には、表面に予めスパッタリング、プラズマ処理、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、アンチブロッキング層上に形成される光学調整層等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、光学調整層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、アンチブロッキング層表面を除塵、清浄化してもよい。

＜光学調整層＞
本実施形態の両面透明導電性フィルム１０においては、アンチブロッキング層２と透明導電層４との間に、透明導電層の密着性や反射特性の制御等を目的として光学調整層３が設けられている。光学調整層は１層でもよく、２層あるいはそれ以上設けてもよい。光学調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。光学調整層を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ_３ＡｌＦ_６、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｉＯ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯ_ｘ（ｘは１．５以上２未満）などの無機物や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。光学調整層は、上記の材料を用いて、グラビアコート法やバーコート法などの塗工法などにより形成できる。このように少なくとも１層の光学調整層は塗工法により形成することが好ましいが、光学調整層を２層以上形成する場合には、上述の塗工法に加えて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などによっても光学調整層を形成できる。

光学調整層３の厚さは、パターン形成部とパターン開口部との反射率差やフィルムの色相等を考慮して適宜設定することができる。光学調整層３の厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。特に、光学調整層の屈折率が１．５８以上１．６４以下である場合、光学調整層の厚さは、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましく、光学調整層の屈折率が１．６５以上１．７以下である場合、８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。また、光学調整層を２層形成する場合、基材フィルム側の第１光学調整層の厚さは１０ｎｍ〜６０ｎｍが好ましく、透明導電層（ＩＴＯ膜）側の第２光学調整層の厚さは１０ｎｍ〜６０ｎｍが好ましい。さらに、光学調整層を２層形成する場合、上記第１光学調整層の屈折率は１．６〜１．８が好ましく、上記第２光学調整層の屈折率は１．３〜１．６が好ましい。光学調整層の厚さに加え屈折率を考慮することにより、パターン形成部とパターン開口部との反射率差やフィルムの色相をより効率的に抑制することができる。また、光学調整層がこのようなナノオーダーレベルの厚さで形成されれば、光学調整層の透明導電層４側の表面は、その下地層であるアンチブロッキング層２表面の隆起形状をほぼ維持する。そして、透明導電層４の表面においてもその隆起形状が維持されるために、耐ブロッキング性を有する両面透明導電性フィルムとすることができる。

光学調整層は、平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。光学調整層中のナノ微粒子の含有量は０．１重量％〜９０重量％であることが好ましい。光学調整層に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。また、光学調整層中のナノ微粒子の含有量は１０重量％〜８０重量％であることがより好ましく、２０重量％〜７０重量％であることがさらに好ましい。光学調整層中にナノ微粒子を含有することによって、光学調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。

ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

＜透明導電層＞
透明導電層４の構成材料は特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）などが好ましく用いられる。

透明導電層４の厚さは特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０^３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚さを１０ｎｍ以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、１５〜３５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜３０ｎｍの範囲内である。透明導電層４の厚さが１５ｎｍ未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電層４の厚さが３５ｎｍを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。

透明導電層４の屈折率としては、透明導電層４がパターン化された場合において、パターン形成部Ｐとパターン開口部Ｏ（図２参照）との反射率差を抑制することに加えて、両者の色相の差を抑制する観点から、透明導電層５の屈折率は、１．８５〜２．１程度が好ましい。

透明導電層４の形成方法は特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、透明導電層４がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、図１に示すように、透明導電層４の表面は、その下地層であるアンチブロッキング層２ａ（及び光学調整層３）表面の平坦部及び隆起部の形状をほぼ維持する。そのため、アンチブロッキング層２上に光学調整層３及び透明導電層４が形成されている場合においても、透明導電層４表面にも耐ブロッキング性を好適に付与することができる。

透明導電層４は、必要に応じて加熱アニール処理（例えば、大気雰囲気下、８０〜１５０℃で３０〜９０分間程度）を施して結晶化することができる。透明導電層を結晶化することで、透明導電層が低抵抗化されることに加えて、透明性および耐久性が向上する。両面透明導電性フィルム１０においてアンチブロッキング層２ａの厚さを上記範囲とすることにより、加熱アニール処理の際にもカールの発生が抑制され、ハンドリング性に優れる。

図２及び３に示すように、透明導電層４は、エッチング等によりパターン化してもよい。図２は、透明導電層４がパターン化された両面透明導電性フィルム１０を示している。ただし、説明の便宜上、図２では、アンチブロッキング層２に含まれる粒子及びそれに起因する隆起部は省略し、各層の厚さは図１に示す態様と異なる。図２に示す両面透明導電性フィルムは、透明導電層４がパターンを形成するパターン形成部Ｐと、透明導電層４が除去されたパターン開口部Ｏを有する。静電容量方式のタッチパネルやマトリックス式の抵抗膜方式のタッチパネルに用いられる両面透明導電性フィルムにおいては、図３に示すように、透明導電層４ａ、４ｂがストライプ状にパターン化されることが好ましく、透明導電層４ａ、４ｂが互いに直交する格子状マトリクスパターンを形成することが好ましい。なお、図３では、パターン形成部Ｐの幅がパターン開口部Ｏの幅より大きく図示されているが、本発明は、かかる形態に制限されるものではない。

図２及び３に示すように、両面透明導電性フィルム１０の透明導電層４ａ、４ｂがパターン化された場合、パターン形状によっては、両面透明導電性フィルム１０を平面視にて透視した際に、両面のパターン形成部が重複する両面パターン領域Ｘと、一方の面はパターン形成部で、かつ他方の面はパターン開口部である片面パターン領域Ｙ（Ｙ１及びＹ２）が存在することがある。このとき、両面パターン領域Ｘの反射率と片面パターン領域Ｙの反射率との差ΔＲの絶対値は１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。また、両面パターン領域Ｘの反射色相ｂ^＊が−１０≦ｂ^＊≦０を満たすことが好ましく、−８≦ｂ^＊≦０を満たすことがより好ましく、−５≦ｂ^＊≦０を満たすことが特に好ましい。反射率差ΔＲの絶対値や反射色相ｂ^＊を上記範囲内とすることで、パターン観察及び色味（特に黄色味）の発生を抑制してより見栄えの良好な透明導電性フィルムを得ることができる。

なお、本明細書において、「反射率」とはＣＩＥ表色系のＤ６５光源の視感反射率Ｙを表す。また、「色相」とは、ＪＩＳ Ｚ８７２９に規定されているＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における、Ｄ６５光源のＬ^＊値、ａ^＊値、ｂ^＊値のことであり、「反射色相」は反射光より求めた色相である。

一般に、透明導電層は金属酸化物から形成されるために、屈折率が高く、表面での反射率が高い。そのため、パターン形成部Ｐとパターン開口部Ｏとの間に反射率差が生じて、パターンが視認され易くなる傾向がある。これに対して、本発明では、表裏面における基材フィルム１と透明導電層４との間に光学調整層をそれぞれ設けることで、界面多重反射により、透明導電層表面での反射光を干渉により打ち消して、パターン形成部Ｐでの反射率が低減される。そのため、パターン形成部Ｐとパターン開口部Ｏとの、反射率差が低減され、パターンが視認され難くなる。

＜両面透明導電性フィルム巻回体＞
本実施形態では、両面透明導電性フィルム１０を長尺体とし、これをロール状に巻回した両面透明導電性フィルム巻回体とすることができる。両面透明導電性フィルムの長尺シートの巻回体は、基材フィルムとして長尺シートのロール状巻回体を用い、前述のアンチブロッキング層、光学調整層、および透明導電層を、いずれもロール・トゥー・ロール法により形成することによって形成し得る。このような巻回体の形成にあたっては、両面透明導電性フィルムの表面に、弱粘着層を備える保護フィルム（セパレータ）を貼り合わせた上で、ロール状に巻回してもよいが、本実施形態の両面透明導電性フィルムは、耐ブロッキング性が改善されているために、保護フィルムを用いずとも両面透明導電性フィルムの長尺シートの巻回体を形成し得る。すなわち、耐ブロッキング性が付与されていることによって、ハンドリング時のフィルム表面へのキズの発生が抑止されるとともにフィルムの巻取性に優れるため、表面に保護フィルムを貼り合わせずとも、長尺シートをロール状に巻回した巻回体を得られ易い。このように、本実施形態の両面透明導電性フィルムは、保護フィルムを用いることなく長尺シートの巻回体を形成し得るために、その後のタッチパネルの形成等に用いる際の作業性に優れる。また、工程部材である保護フィルムを不要とすることによって、コスト削減や廃棄物低減にも寄与し得る。

＜タッチパネル＞
両面透明導電性フィルム１０は、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルに好適に適用できる。特に、透明導電層がパターン化された場合であっても、パターン形成部とパターン開口部の視認性の差、特に反射率の差が小さく抑えられることから、投影型静電容量方式のタッチパネルや、多点入力が可能な抵抗膜方式のタッチパネルのように、所定形状にパターン化された透明導電層を備えるタッチパネルに好適に用いられる。

タッチパネルの形成に際しては、両面透明導電性フィルムの一方または両方の主面に透明な粘着剤層を介して、ガラスや高分子フィルム等の他の基材等を貼り合わせることができる。透明基体は、１枚の基体フィルムからなっていてもよく、２枚以上の基体フィルムの積層体（例えば透明な粘着剤層を介して積層したもの）であってもよい。また、両面透明導電性フィルムに貼り合わせる透明基体の外表面にハードコート層を設けることもできる。

両面透明導電性フィルムと基材との貼り合わせに用いられる粘着剤層としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性及び接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。

上記の本発明にかかる両面透明導電性フィルムを、タッチパネルの形成に用いた場合、タッチパネル形成時のハンドリング性に優れる。そのため、透明性および視認性に優れたタッチパネルを生産性高く製造することが可能である。

以下、本発明に関して実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。実施例中、特に示さない限り「部」とあるのは「重量部」を意味する。

［実施例１］
最頻粒子径１．３μｍの複数個の単分散粒子（綜研化学社製、商品名「ＳＸ−１３０Ｈ」）とバインダー樹脂（ＤＩＣ社製、商品名「ユニディックＲＳ２９−１２０）とを含み、溶媒を酢酸エチルとするコーティング組成物を準備した。粒子の添加部数は、バインダー樹脂１００部に対して０．２部であった。次に、厚さ１００μｍ（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノア」）からなる長尺基材フィルムの両面に、コーティング組成物をグラビアコーターを用いて乾燥後の厚さが１．０μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、アンチブロッキング層を形成した。

次に、両面のアンチブロッキング層の表面に、屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、商品名「オプスターＺ７４１２」をグラビアコーターを用いて塗布し、６０℃で１分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化処理を施すことで、厚さ１００ｎｍ（０．１μｍ）で屈折率１．６２の光学調整層を両面に形成した。

その後、アンチブロッキング層及び光学調整層を有する長尺基材を巻き取り式スパッタ装置に投入し、両面の光学調整層の表面に、透明導電層として厚さ２６ｎｍのインジウム・スズ酸化物層（アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中、酸化インジウム９７重量％−酸化スズ３重量％からなる焼結体を用いたスパッタリング）を積層した。この際、上記の光学調整層、透明導電層は、上記アンチブロッキング層の平坦部及び隆起部に沿うように積層した。これにより両面透明導電性フィルムを作製した。

得られた両面透明導電性フィルムの積層構成は、透明導電層／光学調整層／アンチブロッキング層／基材フィルム／アンチブロッキング層／光学調整層／透明導電層であった。表１には、粒子の最頻粒子径ｄ、アンチブロッキング層の厚さＴ_Ａ、光学調整層の厚さＴ_Ｏ、粒子の最頻粒子径ｄからアンチブロッキング層の厚さＴ_Ａを減じた値（ｄ−Ｔ_Ａ）を示す。最頻粒子径及び厚さの測定方法は後述する。

［実施例２］
粒子として最頻粒子径１．５μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＸＸ１８４ＡＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．３部としたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例３］
粒子として最頻粒子径１．９μｍの単分散粒子（綜研化学社製、商品名「ＭＸ−１８０ＴＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．２部としたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例４］
粒子として最頻粒子径２．０μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＸＸ１３４ＡＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．２部としたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例５］
粒子として最頻粒子径２．５μｍの単分散粒子（日本触媒社製、商品名「ＫＥＰ−２５０」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．４部としたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例６］
粒子として最頻粒子径３．０μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＸＸ１３３ＡＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．０８部としたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例７］
基材フィルムの一方の面にアンチブロッキング層を形成し、次いで他方の面に塗布するコーティング組成物に粒子を添加せず、アンチブロッキング層をハードコート層として形成した以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。得られた両面透明導電性フィルムの積層構成は、透明導電層／光学調整層／アンチブロッキング層／基材フィルム／ハードコート層（粒子なし）／光学調整層／透明導電層であった。

［実施例８］
アンチブロッキング層用の粒子として最頻粒子径１．５μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＸＸ１８４ＡＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．３部としたこと以外は、実施例７と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例９］
アンチブロッキング層用の粒子として最頻粒子径１．９μｍの単分散粒子（綜研化学社製、商品名「ＭＸ−１８０ＴＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．２部としたこと以外は、実施例７と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例１０］
アンチブロッキング層用の粒子として最頻粒子径２．０μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＸＸ１３４ＡＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．２部としたこと以外は、実施例７と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例１１］
アンチブロッキング層用の粒子として最頻粒子径２．５μｍの単分散粒子（日本触媒社製、商品名「ＫＥＰ−２５０」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．４部としたこと以外は、実施例７と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［実施例１２］
アンチブロッキング層用の粒子として最頻粒子径３．０μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＸＸ１３３ＡＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を０．０８部としたこと以外は、実施例７と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［比較例１］
粒子として最頻粒子径０．８μｍの単分散粒子（積水化成品工業社製、商品名「ＢＭＳＡ」）を用い、バインダー樹脂１００部に対する添加部数を２部としたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［比較例２］
コーティング組成物の調製の際、粒子を添加せず、バインダー樹脂として相分離型樹脂（日本ペイント社製、商品名「ＮＡＢ−０１０」）を用いたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［比較例３］
コーティング組成物の調製の際、粒子を添加せず、バインダー樹脂としてシリカナノ粒子（平均粒径が１００ｎｍのナノ粒子と平均粒径が１０ｎｍのナノ粒子との混合物）含有樹脂（触媒化成社製、商品名「ＥＬＣＯＭ ＮＴ−１１２５ＨＳＣ」）を用いたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

［評価］
実施例１〜１２および比較例１〜３で得られたそれぞれの両面透明導電性フィルムについて、下記の評価を行った。各評価結果を表１に示す。

＜光学調整層の屈折率＞
上述の光学調整層形成用の塗布液を準備し、この硬化物についての屈折率をＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定し、光学調整層の屈折率とした。具体的には、未処理のポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという。）上にバーコーターを用いて形成用塗布液を塗布し、８０℃で６０分間乾燥させた。次いで、高圧水銀灯を用いて０．６Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、塗膜を硬化させた。この操作を２回繰り返して２層の硬化膜が積層された硬化物を形成した後、ＰＥＴフィルム上から硬化物を剥がした。得られた硬化物について、アッベ屈折率計を用い、測定光（ナトリウムＤ線）を入射させて２５．０±１．０℃で４回測定し、測定値の平均を光学調整層の屈折率ｎＤ２５とした。

＜各層の厚さ＞
アンチブロッキング層及びハードコート層の厚さは、大塚電子（株）製の瞬間マルチ測光システム「ＭＣＰＤ２０００」（商品名）を用い、フィルムの幅方向に等間隔の５点について測定した干渉スペクトルの波形を基礎に平均値を算出して求めた。光学調整層及び透明導電層の厚さは、透過型電子顕微鏡（日立製作所製、ＨＦ−７６５０）により、断面観察を行って測定した。

＜粒子の最頻粒子径＞
フロー式粒子像分析装置（Ｓｙｓｍｅｘ社製、製品名「ＦＰＴＡ−３０００Ｓ」）を用いて、所定条件下（Ｓｈｅａｔｈ液：酢酸エチル、測定モード：ＨＰＦ測定、測定方式：トータルカウント）で測定した。測定試料は、粒子を酢酸エチルで１．０重量％に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させて調製した。

＜耐ブロッキング性＞
ロール・トゥー・ロール方式での製造の際、いずれかの工程でフィルム同士の貼り付きが発生したか否かを確認した。フィルム同士の貼り付きがなかった場合を「○」、貼り付きが生じた場合を「×」として評価した。併せて、いずれかの工程でのフィルムへの傷付きの有無を確認した。フィルムに傷が付かなかった場合を「○」、傷付きが生じた場合を「×」として評価した。

＜ヘイズ＞
作製した両面透明導電性フィルムのヘイズを、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００年）のヘイズ（濁度）に準じ、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製 型番「ＨＭ−１５０」）を用いて測定した。

実施例で得られた両面透明導電性フィルムでは、耐ブロッキング性が良好であるとともに、ヘイズも全てのサンプルで３％以下であり、透明性にも優れていた。一方、比較例で得られた両面透明導電性フィルムでは、ヘイズは低かったものの、製造工程におけるフィルムの貼り付きや傷付きが生じ、耐ブロッキング性に劣っていた。これは、粒子に起因する隆起部が光学調整層の形成により消失したか、又は十分な隆起部が形成されなかったことが原因であると考えられる。

［実施例１３〜２７］
実施例１３〜２５については、屈折率調整剤として表２に示す屈折率調整剤（全てＪＳＲ社製、表中は商品名）を用い光学調整層の屈折率を変更するとともに、表２に示す光学調整層の厚さとしたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。実施例２６及び２７については、屈折率調整剤として表４に示す屈折率調整剤（全てＪＳＲ社製、表中は商品名）を用いて片側２層の光学調整層（基材フィルム側を第１光学調整層、ＩＴＯ膜側を第２光学調整層とした。）を両面に形成するとともに、表４に示す光学調整層の厚さとしたこと以外は、実施例１と同様に両面透明導電性フィルムを作製した。

次いで、基材フィルムの一方の面側の透明導電層のみパターン化を行い、基材フィルムの両面に透明導電層が形成された両面パターン領域と、基材フィルムの片面にのみ透明導電層が形成された片面パターン領域を有する両面透明導電性フィルムを形成した。具体的には、作製した両面透明導電性フィルムから１００ｍｍ×１００ｍｍでサンプルを切り出し、基材フィルムの一方の面側の透明導電層の半面（５０ｍｍ×１００ｍｍ）がパターン形成部、もう半面がパターン開口部となるように透明導電層の半面にセロハンテープを貼り合わせ、他方の面側の透明導電層の全面にセロハンテープを貼り合わせた後、これを５０℃、１０重量％の塩酸（塩化水素水溶液）に１０分間浸漬して、透明導電層のエッチングを行った。その後、両面のセロハンテープを除去し、１４０℃で９０分間の加熱処理を行って、透明導電層を結晶化させ、一方の面側の透明導電層のみがパターン化された両面透明導電性フィルムを作製した。

［評価］
実施例１３〜２７で得られたそれぞれの両面透明導電性フィルムについて、下記の評価を行った。各評価結果を表２〜５に示す。

＜パターン見栄え（反射率差ΔＲ（Ｙ値））及び反射色相ｂ^＊の評価＞
一方の面側の透明導電層のみをパターン化及び結晶化した両面透明導電性フィルムについて、日立ハイテク社製の分光光度計「Ｕ−４１００」（商品名）の積分球測定モードを用いて、分光反射率（鏡面反射率＋拡散反射率）を測定し、Ｄ６５光源／２°視野の全反射率（Ｙ値）及び反射色相ｂ^＊を計算により求めた。なお、測定は、パターン化していない透明導電層の表面に黒色のアクリル板を貼り合わせて遮光層を形成し、サンプルの最裏面からの反射や裏面側からの光の入射がほとんどない状態で測定を行った。評価結果を表２及び４に示す。さらに、上記同様、パターン化していない透明導電層側に遮光層を形成した後、パターン化した透明導電層側のパターン形成部及びパターン開口部を覆うように厚さ１００μｍの透明フィルム（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノア」）を粘着剤（日東電工社製、商品名「ＬＵＣＩＡＣＳ（登録商標） ＣＳ９６２１７」）を用いて貼り合わせた状態で測定を行った。評価結果を表３及び５に示す。

表２の結果より、パターン化した透明導電層が露出した状態では、反射率差ΔＲ（Ｙ値）及び反射色相ｂ^＊のいずれの結果も良好であったのは、光学調整層の屈折率が１．６２であり、厚さがそれぞれ１００ｎｍ、１１５ｎｍ、１２５ｎｍ、１３０ｎｍ、１３５ｎｍ、１４０ｎｍの実施例１７〜２２であった。また、表３の結果より、パターン化した透明導電層を粘着剤及び透明フィルムで覆った状態では、反射率差ΔＲ（Ｙ値）及び反射色相ｂ^＊のいずれの結果も良好であったのは、光学調整層の屈折率が１．６５５であり、厚さが１３５ｎｍの実施例１５、光学調整層の屈折率が１．６２であり、厚さがそれぞれ８０ｎｍ、１００ｎｍ、１１５ｎｍ、１２５ｎｍ、１３０ｎｍ、１３５ｎｍ、１４０ｎｍの実施例１７〜２２、光学調整層の屈折率が１．６であり、厚さがそれぞれ１００ｎｍ、１２０ｎｍの実施例２４及び２５であった。これらの結果より、光学調整層の屈折率が１．６１〜１．６５の場合、光学調整層の厚さは９０〜１５０ｎｍ程度が、パターン視認の抑制及び色味の発生の抑制の観点から好ましいことが分かる。表４及び５の結果より、実施例２６及び２７における両面に２層ずつ光学調整層を形成した状態では、反射率差ΔＲ（Ｙ値）及び反射色相ｂ^＊のいずれの結果も良好であった。また、実施例２６及び２７と、これらと同等の光学調整層の（合計）厚さを有する実施例１６又は２３とを比較すると、パターン状態が露出及び被覆のいずれであっても、光学調整層が２層構造である実施例２６及び２７の方が特に反射率差の点で優れていた。さらに、パターン化した透明導電層が露出した状態と比較して、パターン化した透明導電層を粘着剤及び透明フィルムで覆った状態では、最表層のパターン形成部及びパターン開口部による凹凸が埋められていることから、両者間の反射率差も抑制されて幅広い層構成で良好な結果が得られたことが分かる。

１ 基材フィルム
２ａ、２ｂ アンチブロッキング層
３ａ、３ｂ 光学調整層
４ａ、４ｂ 透明導電層
５ 粒子
１０ 両面透明導電性フィルム
２１ 平坦部
２２ 隆起部
３１ 平坦部
３２ 隆起部
Ｏ パターン開口部
Ｐ パターン形成部
Ｔ_Ａ アンチブロッキング層の厚さ
Ｔ_Ｏ 光学調整層の厚さ
Ｘ 両面パターン領域
Ｙ１、Ｙ２ 片面パターン領域

Claims (11)

1. 基材フィルムの両面に、光学調整層および透明導電層がこの順に形成されており、
   前記基材フィルムと一方の前記光学調整層との間及び前記基材フィルムと他方の前記光学調整層との間の少なくとも一方に、粒子を含むアンチブロッキング層が形成されており、
   前記アンチブロッキング層は、平坦部と、前記粒子に起因する隆起部とを有し、
   前記粒子の最頻粒子径から前記アンチブロッキング層の平坦部の厚さを減じた値が、前記光学調整層の厚さよりも大きい両面透明導電性フィルム。
2. 前記光学調整層の厚さが５０ｎｍ〜３００ｎｍである請求項１に記載の両面透明導電性フィルム。
3. 前記光学調整層は、湿式コーティングにより形成された層である請求項１又は２に記載の両面透明導電性フィルム。
4. 前記アンチブロッキング層の隆起部の高さから前記アンチブロッキング層の平坦部の厚さを減じた値が、前記光学調整層の厚みよりも大きい請求項１〜３のいずれかに記載の両面透明導電性フィルム。
5. ヘイズが５％以下である請求項１〜４のいずれかに記載の両面透明導電性フィルム。
6. 前記透明導電層がパターン化されており、該透明導電層がパターンを形成するパターン形成部と、該透明導電層が除去されたパターン開口部とを有する請求項１〜５のいずれかに記載の両面透明導電性フィルム。
7. 平面視にて透視した際に、両面のパターン形成部が重複する両面パターン領域の反射率と、一方の面はパターン形成部で、かつ他方の面はパターン開口部である片面パターン領域の反射率との差の絶対値が１％以下である請求項６に記載の両面透明導電性フィルム。
8. 前記両面パターン領域の反射色相ｂ^＊が−１０≦ｂ^＊≦０を満たす請求項７に記載の両面透明導電性フィルム。
9. 前記基材フィルムがシクロオレフィン系樹脂を含む請求項１〜８のいずれかに記載の両面透明導電性フィルム。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の両面導電性フィルムの長尺体がロール状に巻き取られた両面透明導電性フィルム巻回体。
11. 請求項１〜９のいずれかに記載の両面透明導電性フィルムを備えるタッチパネル。

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