CN101263564B - 透明导电性膜、触摸面板用电极板及触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种透明导电性膜，是在透明的膜基材的一个面上经由具有微细凹凸形状的树脂层而层叠透明导电性薄膜的透明导电性膜，透明导电性薄膜的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为0.11～0.18μm，最大高度(Ry)为0.9～1.6μm，并且局部顶峰的平均间隔(S)为0.05～0.11mm。该透明导电性膜是在透明的膜基材的一方的面上，经由具有微细凹凸形状的树脂层而层叠透明导电性薄膜的透明导电性膜，可以抑制牛顿环的产生，并且可以满足耐久性，特别是可以满足笔输入耐久性以及耀眼等显示特性。

Description

透明导电性膜、触摸面板用电极板及触摸面板
技术领域
本发明涉及一种透明导电性膜。另外，本发明涉及使用了上述透明导电性膜的触摸面板用电极板。另外，本发明涉及使用了上述触摸面板用电极板的触摸面板。 
背景技术
在可见光线区域透明并且具有导电性的薄膜除了用于液晶显示器、电致发光显示器等新型的显示器方式或触摸面板等的透明电极以外，还用于透明物品的防静电干扰或电磁波屏蔽等中。 
以往，作为此种透明导电性薄膜，已知在玻璃上形成了氧化铟薄膜的所谓导电性玻璃，然而由于基材是玻璃，因此在挠曲性、加工性方面差，有时会因用途限制而无法使用。 
为此，近年来，由于除了在挠曲性、加工性方面，在耐冲击性方面也很优良，并且质轻等优点，而使用在以聚对苯二甲酸乙二醇酯膜为首的各种塑料膜的基材上设置了透明导电性薄膜的透明导电性膜。 
但是，在使用了上述透明导电性膜的触摸面板中，在对触摸面板进行手指按压等情况下，会有产生条纹状的牛顿环的问题。为了防止该牛顿环的产生，例如提出过使用：在透明塑料与透明导电层薄膜之间设置了以数均密度500～3000个/mm2含有平均粒径1～4μm的填充剂的膜厚1～3μm的涂覆层的透明导电性薄膜(专利文献1)；在透明树脂膜上，依次形成了膜厚20～55nm的氧化硅薄膜层和透明薄膜电极层，将透明薄膜电极层的表面设为中心线平均粗糙度(Ra)为0.05～2μm，将其最大高度(Rmax)设为0.6～2.5μm的透明导电性膜(专利文献2)。在将上述透明导电性膜作为触摸面板用电极板使用的触摸面板中，可以抑制牛顿环的产生。 
另一方面，透明导电性膜在导电性薄膜的耐擦伤性或耐弯曲性方面 差，从而有在使用中受到损伤而使电阻增大或产生断线的问题。特别是在触摸面板用的导电性薄膜中，由于经由间隔物相面对的一对薄膜之间因来自其一方的面板侧的按压触点而强烈地接触，因此希望具有能够与之相抗衡的良好的耐久性，也就是触点特性，特别是具有输入耐久性。但是，在如上述专利文献的公布所示那样，为了防止牛顿环的发生而控制了透明导电层薄膜的凹凸形状的透明导电性膜中，无法满足耐久性。由此，在对透明导电性膜抑制了牛顿环的发生的情况下，耐久性差，其结果是，由此会有作为触摸面板的寿命变短的问题。 
另外，透明导电性膜由于薄膜表面的光线反射率大，因此有透明性差的问题。但是，即使向上述那样控制了透明导电层薄膜的凹凸形状，对于耀眼、映像性等显示特性也不能说是充分地满足。 
专利文献1：特开平10一323931号公报 
专利文献2：特开平11-250764号公报 
发明内容
本发明的目的在于，提供一种透明导电性膜，是在透明的膜基材的一方的面上，经由具有微细凹凸形状的树脂层，层叠有透明导电性薄膜的透明导电性膜，可以抑制牛顿环的产生，并且可以满足耐久性，特别是可以满足笔输入耐久性，以及满足耀眼等显示特性。 
另外，本发明的目的在于，提供使用了该导电性叠层膜的触摸面板用电极板，以及提供使用了该触摸面板用电极板的触摸面板。 
本发明人等为了解决上述问题进行了反复的深入研究，结果发现了下述透明导电性膜，从而完成了本发明。 
即，本发明涉及一种透明导电性膜，是在透明的膜基材的一方的面上，至少经由具有微细凹凸形状的树脂层，层叠有透明导电性薄膜的透明导电性膜，其特征在于， 
透明导电性薄膜的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为0.11～0.18μm， 
最大高度(Ry)为0.9～1.6μm，并且 
局部顶峰的平均间隔(S)为0.05～0.11mm。 
在上述透明导电性膜中，透明导电性薄膜的表面的十点平均表面粗糙度(Rz)优选为0.6～1μm。
在上述透明导电性膜中，通过使具有微细凹凸形状的树脂层含有微粒，就可以由该微粒形成微细凹凸形状。 
在上述透明导电性膜中，微粒是平均粒径为2±0.4μm并且标准偏差在平均粒径的20％以内的微粒与平均粒径为3±0.4μm并且标准偏差在平均粒径的20％以内的微粒的混合物 
在上述透明导电性膜中，树脂层的涂敷厚度为0.5～2μm。 
在上述透明导电性膜中，可以使用在树脂层与透明导电性薄膜之间具有透明电介质薄膜的透明导电性膜。 
在上述透明导电性膜中，在透明的膜基材的未设置透明导电性薄膜的一侧的面上，经由透明的粘着剂层贴合有透明基体。透明基体可以使用将至少两片透明的基体膜经由透明的粘着剂层层叠的叠层透明基体。 
另外，本发明涉及一种使用了上述透明导电性膜的触摸面板用电极板。 
另外，本发明涉及一种触摸面板，是将具有透明导电性薄膜的触摸侧的触摸面板用电极板与具有透明导电性薄膜的显示器侧的触摸面板用电极板，按照使透明导电性薄膜彼此对置的方式经由间隔物对置配置而成的触摸面板，其特征在于，触摸面板用电极板的至少一方由上述本发明的触摸面板用电极板制成。 
在上述触摸面板中，优选将本发明的触摸面板用电极板至少用于显示器侧的触摸面板用电极板中。 
本发明的透明导电性膜是利用具有微细凹凸形状的树脂层控制了透明导电性薄膜的表面凹凸形状的膜，该表面形状由中心线平均粗糙度(Ra)、最大高度(Ry)、局部顶峰的平均间隔(S)来确定。本发明中，通过将这些值控制在非常窄的范围内，就可以抑制牛顿环的产生，并且对于耐久性，尤其是笔输入耐久性，以及耀眼、映像性等显示特性也可以满足。 
附图说明
图1是表示本发明的透明导电性膜的一个例子的剖面图。 
图2是表示本发明的透明导电性膜的一个例子的剖面图。 
图3是表示本发明的透明导电性膜的一个例子的剖面图。 
图4是表示本发明的透明导电性膜的一个例子的剖面图。 
图5是表示使用了本发明的透明导电性膜的触摸面板的剖面图。 
图6是表示线性度测定的概略情况的说明图。 
其中，1透明的膜基材，2具有微细凹凸形状的树脂层，3透明导电性薄膜，4微粒，5透明介电体薄膜，6透明基体，7粘着剂层，P1面板，P2面板，s间隔物 
具体实施方式
下面将在参照附图的同时对本发明的透明导电性膜进行说明。图1是表示了本发明的透明导电性膜的一个例子的图，在透明的膜基材1的一方的面上，经由具有微细凹凸形状的树脂层2层叠有透明导电性薄膜3。图1中，在树脂层2中含有微粒4，从而在树脂层2的表面形成微细凹凸形状，这样在透明导电性薄膜3的表面就也形成微细凹凸形状。 
透明导电性薄膜的表面形状被控制为，中心线平均粗糙度(Ra)为0.11～0.18μm，最大高度(Ry)为0.9～1.6μm，并且局部顶峰的平均间隔(S)为0.05～0.11mm。 
上述Ra是从可以抑制牛顿环的产生、满足耐久性的方面考虑而被控制的值，上述Ra更优选0.12～0.17μm，进一步优选0.13～0.16μm。上述Ry是从可以抑制牛顿环的产生、满足耐久性的方面考虑而被控制的值，上述Ry更优选1～1.5μm，进一步优选1.1～1.5μm。另外，上述S是从抑制耀眼的方面考虑而被控制的值，上述范围更优选0.06～0.10mm，进一步优选0.07～0.10mm。 
另外，透明导电性薄膜的表面形状的十点平均表面粗糙度(Rz)优选为0.6～1μm。上述Rz更优选0.7～1μm，进一步优选0.8～1μm。 
另外，本发明的透明导电性膜从透明性的观点考虑，雾值优选为2.5％，更优选为2％。 
本发明的透明的膜基材对其材质没有特别限定，可以适当地选择使用。具体来说，可以举出聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚 碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂、聚偏氯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂等。它们当中特别优选的是聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚烯烃系树脂等。 
这些膜基材的厚度没有特别限制，然而优选处于2～300μm的范围，特别优选处于10～130μm的范围。如果厚度小于2μm，则作为膜基材的机械的强度有可能不足，很难进行将该基材制成卷筒状而连续地形成透明导电性薄膜等薄膜的操作。另外，如果厚度超过300μm，则容易在卷绕性方面产生问题，有可能使得透明导电性薄膜的卷绕加工变得困难。 
此种膜基材也可以对其表面预先实施溅射、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子射线照射、化成、氧化等蚀刻处理或底涂处理，提高设于其上的具有微细凹凸形状的树脂层与膜基材的密接性。另外，也可以在设置具有微细凹凸形状的树脂层之前，根据需要，利用溶剂清洗或超声波清洗等进行除尘、洁净化。 
本发明中，在如此构成的膜基材的一方的面上，经由具有微细凹凸形状的树脂层，设置透明导电性薄膜。 
具有微细凹凸形状的树脂层的形成方法没有特别限制，可以采用适当的方式。例如，可以举出利用将上述树脂层的形成中所用的膜的表面预先用喷砂、压花辊、化学蚀刻等适当的方式进行粗糙化处理而在膜表面赋予微细凹凸形状的方法等，将形成树脂层的材料本身的表面制成微细凹凸系形状的方法。另外，还可以举出在树脂层上另外涂敷附加树脂层，在该树脂层表面用利用模具的转印方式等赋予微细凹凸形状的方法。另外，还可以举出像图1那样在树脂层中分散含有微粒而赋予微细凹凸形状的方法等。这些微细凹凸形状的形成方法也可以将两种以上的方法组合，作为混合了不同状态的微细凹凸形状表面的层来形成。上述树脂层的形成方法当中，从微细凹凸形状表面的形成性等观点考虑，优选设置分散含有微粒的树脂层的方法。 
下面，对分散含有微粒地设置树脂层的方法进行说明。作为形成该树脂层的树脂，可以没有特别限制地使用能够分散微粒，且作为树脂形成后的覆盖膜具有足够的强度，并具有透明性的材料。作为上述树脂可以举出 热硬化型树脂、热塑性树脂、紫外线硬化型树脂、电子射线硬化型树脂、二液混合型树脂等，它们当中优选可以利用紫外线照射的硬化处理以简单的加工操作有效地形成光扩散层的紫外线硬化型树脂。 
作为紫外线硬化型树脂，可以举出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、酰胺系、硅系、环氧系等各种树脂，包括紫外线硬化型的单体、低聚物、聚合物等。优选使用的紫外线硬化型树脂例如可以举出具有紫外线聚合性的官能基的树脂，其中优选包含具有2个以上，特别是具有3～6个该官能基的丙烯酸系的单体或低聚物成分的树脂。另外，在紫外线硬化型树脂中，配合有紫外线聚合引发剂。 
在树脂层的形成材料中，除了上述材料以外，还可以使用调平剂、触变剂、防静电干扰剂等添加剂。如果使用触变剂，则对于微细凹凸形状的表面上的突出粒子的形成是有利的。作为触变剂，可以举出0.1μm以下的硅石、云母等。这些添加剂的含量通常来说相对于紫外线硬化型树脂100重量份为15重量份以下左右，优选设为0.1～15重量份。 
作为微粒，可以没有特别限制地使用各种金属氧化物、玻璃、塑料等具有透明性的材料。例如可以举出硅石、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化钙等无机系微粒；由聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸系树脂、丙烯酸-苯乙烯共聚物、苯胍胺、蜜胺、聚碳酸酯等各种聚合物构成的交联或未交联的有机系微粒或硅系微粒等。上述微粒可以适当地选择一种或两种以上使用，然而优选有机系微粒。作为有机系微粒，从折射率的观点考虑，优选丙烯酸系树脂。 
微粒的平均粒径只要是可以形成上述Ra、Ry、S等的微细凹凸形状的表面的，就没有特别限制，通常可以使用具有1～10μm左右，优选1～4μm左右的范围的微粒。另外，微粒可以组合使用不同粒径的微粒。特别优选组合使用标准偏差在平均粒径的20％以内的单分散的微粒。本发明中，作为微粒，特别优选组合使用平均粒径为2±0.4μm并且标准偏差在平均粒径的20％以内的微粒与平均粒径为3±0.4μm并且标准偏差在平均粒径的20％以内的微粒的混合物。上述平均粒径为2±0.4μm的微粒优选平均粒径为2±0.3μm，更优选2±0.2μm，进一步优选2±0.1μm。上述平均粒径为3±0.4μm的微粒优选平均粒径为3±0.3μm，更优选3± 0.2μm，进一步优选3±0.1μm。上述标准偏差在任意的情况下，都优选在平均粒径的15％以内，更优选在平均粒径的10％以内。另外，上述平均粒径为2±0.4μm的微粒与平均粒径为3±0.4μm的微粒的混合物的比例(重量比)通常为前者∶后者＝50∶50～99∶1，更优选80∶20～99∶1。 
含有微粒的树脂层的形成方法没有特别限制，可以采用适当的方式。例如通过进行如下操作来进行，即，在上述透明的膜基材上，涂敷含有微粒的树脂(例如紫外线硬化型树脂：涂敷液)，干燥后进行硬化处理，利用在表面呈现出凹凸形状的树脂层来形成。而且，涂敷液可以利用喷雾、模具涂覆机、浇注、旋转涂覆、喷雾计量(fountain metering)、凹版印刷等适当的方式来涂敷。 
上述涂敷液中所含的微粒的比例没有特别限制，然而从形成上述Ra、Ry、S等的微细凹凸形状的表面方面考虑，相对于100重量份树脂优选设为0.1～20重量份，更优选设为0.1～10重量份。 
树脂层的厚度虽然没有特别限制，但是从裂纹、卷曲特性方面考虑，优选设为0.5～7μm左右，特别优选设为0.5～2μm。树脂层的厚度是由树脂层的形成中所用的材料和涂敷面积算出的值。而且，在树脂层的形成中使用涂敷液的情况下，可以由涂敷涂敷液前后的重量差求出树脂层的膜厚。 
透明导电性薄膜的形成被设于上述树脂层上。透明导电性薄膜的形成例如可以适当地选择真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、喷雾热分解法、化学镀膜法、电镀法或它们的组合方法等各种薄膜形成法。从透明导电性薄膜的形成速度或大面积膜的形成性、生产性等方面考虑，作为上述薄膜形成法优选采用真空蒸镀法或溅射法。 
作为上述透明导电性薄膜的形成材料，适当地选择使用能够形成透明的导电性的膜的材料。优选使用例如金、银、铂、钯、铜、铝、镍、铬、钛、铁、钴、锡及由它们的合金等构成的金属或氧化铟、氧化锡、氧化钛、氧化镉及由它们的混合物等构成的金属氧化物、由碘化铜等构成的其他的金属化合物等。它们当中，优选使用含有氧化锡的氧化铟、含有锑的氧化锡等。特别优选含有氧化锡的氧化铟。 
透明导电性薄膜的厚度可以根据使用目的适当地决定。厚度通常为 10～300nm，优选10～200nm。如果厚度小于10nm，则难以成为具有表面电阻在103Ω/□以下的良好的导电性的连续覆盖膜，如果过厚，则容易导致透明性的降低等。 
本发明的透明导电性膜只要在透明的膜基材1的一方的面上，至少经由具有微细凹凸形状的树脂层2，层叠透明导电性薄膜3即可，可以具有它们以外的层。如图2所示，例如可以在树脂层2与透明导电性薄膜3之间，使用至少一层透明电介质薄膜(透明介电层)5.另外，在透明的膜基材1中，可以在未设置树脂层2及透明导电性薄膜3的一侧设置硬质涂层或以提高识认性为目的的防眩光处理层或防反射层等。 
透明电介质薄膜的形成可以提高树脂层与透明导电性薄膜的密接性，并且提高透明导电性薄膜的耐擦伤性或耐弯曲性，对于作为触摸面板用途的触点特性的提高是有效的。另外，在使用两层以上透明电介质薄膜的情况下，可以控制各透明电介质薄膜的折射率，进一步提高上述特性。 
透明电介质薄膜可以利用无机物、有机物或无机物与有机物的混合物来形成。作为无机材料，例如优选使用NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、A12O3(1.63)等无机物[上述各材料的()内的数值为光的折射率]等。另外，作为有机物可以举出丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、蜜胺树脂、醇酸树脂、硅氧烷系聚合物等有机物。作为有机物，特别优选使用由蜜胺树脂、醇酸树脂和有机硅烷缩合物的混合物构成的热硬化型树脂。 
透明电介质薄膜可以使用上述的材料，利用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、涂敷法等来形成。透明电介质薄膜的各层的厚度可以适当地设定，通常为10～200nm左右，优选15～100nm，更优选20～60nm。 
在使用两层上述透明电介质薄膜5的情况下，优选从树脂层一侧开始，依次形成下述的第一透镜电介质薄膜及第二透明电介质薄膜。即，该第一透明电介质薄膜是利用真空蒸镀法、溅射法或离子镀法形成，并且第一透明电介质薄膜由相对于100重量份氧化铟含有0～20重量份氧化锡、10～40重量份氧化铈的复合氧化物构成，在将第一透明电介质薄膜的折射率设为n1，将第二透明电介质薄膜的折射率设为n2，将透明导电性薄膜的折 射率设为n3时，优选满足n2＜n3≤n1的关系。 
第一透明电介质薄膜由相对于氧化铟含有特定量的氧化锡、氧化铈的复合氧化物形成。该复合氧化物是透明导电性材料，是在氧化铟和氧化锡的复合体中，又添加了氧化铈的物质，这样就可以实现透明导电性薄膜的折射率以上的高折射率。其结果是，第一透明电介质薄膜与第二透明电介质薄膜的折射率的差变大，可以容易地进行光学的调整，可以获得透明性等光学特性良好的透明导电性膜。 
另外，利用上述复合氧化物形成的第一透明电介质薄膜的表面电阻值高，可以控制为对透明导电性薄膜的导电性不造成不良影响的程度的高电阻值。第一透明电介质薄膜的表面电阻值为了不对透明导电性薄膜的导电性造成不良影响，优选为绝缘性(高电阻值)，优选在1×106(Ω/□)以上，更优选在1×108(Ω/□)以上。 
另外，在具有第一透明电介质薄膜及第二透明电介质薄膜两层透明电介质薄膜的情况下，由于耐擦伤性、弯曲性良好，而且如上所述，由于在第一透明电介质薄膜中，使用以特定比例含有特定成分的高折射率、具有高电阻值的复合氧化物，并且利用干式工艺形成第一透明电介质薄膜，因此可以抑制透过光的着色，另外生产性良好，可以很容易地进行光学调整。 
在设置上述第一透明电介质薄膜及第二透明电介质薄膜的情况下，第一透明电介质薄膜的光的折射率n1、第二透明电介质薄膜的光的折射率n2、透明导电性薄膜3的光的折射率n3优选满足n2＜n3≤n1的关系。通常来说，由于透明导电性薄膜3的光的折射率n3约为2左右(通常为1.9～2.1)，因此该情况下第一透明电介质薄膜的光的折射率n1通常为1.9～2.3左右，更优选2.0～2.2，第二透明电介质薄膜的光的折射率n2通常为1.3～1.7左右，更优选1.4～1.6。 
上述第一透明电介质薄膜由相对于100重量份氧化铟含有特定量的氧化锡及氧化铈的复合氧化物形成。作为形成材料，优选使用各氧化物成分的混合物的烧结体。在上述复合氧化物中，从光学特性的方面考虑，氧化锡的比例相对于100重量份氧化铟为0～20重量份。另外，优选为3～15重量份。在氧化锡的比例超过20重量份的情况下，当作为形成材料使用烧结体时，则由于其烧结密度降低，因此难以稳定地保持膜形成时的放电 (放电稳定性差)。另外，从高电阻值(绝缘性)及光学特性的方面考虑，氧化铈的比例相对于100重量份氧化铟为10～40重量份。更优选15～30重量份。如果氧化铈的比例小于10重量份，则第一透明电介质薄膜的表面电阻值降低，从而具有导电性。另一方面，在氧化铈的比例超过40重量份的情况下，则生产性(制膜生产能力)降低。 
上述第一透明电介质薄膜的厚度虽然没有特别限制，然而优选为10～200nm。更优选为15～60nm。如果小于10nm，则难以形成连续覆盖膜。另一方面，从光学的调整的方面考虑，优选设为200nm以下。 
作为第二透明电介质薄膜的材料，例如可以举出在上述所例示的透明电介质薄膜中例示的无机材料、光的折射率为1.4～1.6左右的丙烯酸系树脂、氨基甲酸酯系树脂、硅氧烷系聚合物、醇酸树脂、蜜胺树脂等有机物。从它们当中适当地选择材料，或者组合使用，形成满足上述折射率n2的第二透明电介质薄膜。 
第二透明电介质薄膜的厚度虽然没有特别限制，但是为了形成连续覆盖膜，提高透明性或耐擦伤性，优选设为10nm以上，更优选为10～200nm，特别优选为20～120nm。而且，由于将第一透明电介质薄膜的厚度与第二透明电介质薄膜的厚度合计后的总厚度如果过大，则无法期待透明性的提高，另外有可能产生裂纹，所以上述总厚度优选在300nm以下，更优选设为200nm以下。 
作为第一透明电介质薄膜的形成方法，例如可以举出真空蒸镀气相蒸镀法、溅射法、离子镀法等，可以根据材料的种类及所必需的膜厚采用恰当的方法，而它们当中溅射法是一般所用的。另外，作为第二透明电介质薄膜的形成方法，除了上述的方法以外，还可以采用涂敷法等。 
硬质涂层是通过对膜基材的一面实施硬质涂覆处理而得到的。硬质涂覆处理例如可以利用涂布丙烯酸·氨基甲酸酯系树脂或硅氧烷系树脂等硬质树脂而硬化处理的方法等来进行。也可以在进行硬质涂覆处理之时，在上述丙烯酸·氨基甲酸酯系树脂或硅氧烷系树脂等硬质树脂中配合硅树脂等而将表面粗糙化，同时地形成在作为触摸面板等实际使用时能够防止由镜面作用造成的写入的非眩光面。 
硬质涂层的厚度如果很薄，则会硬度不足，而如果过厚，则会有产生 裂纹的情况。另外，如果还考虑卷曲的防止特性等，则优选的硬质涂层的厚度为0.1～30μm左右。 
另外，如图3、图4所示，可以在上述膜基材1的未设置透明导电性薄膜3的一侧面上，夹隔粘着剂层7地贴合与上述膜基材1不同的透明基体6。该贴合既可以是在透明基体6的一方设置粘着剂层7而将膜基材1贴合在其上，也可以反过来在膜基材1的一方设置粘着剂层7而将透明基体6贴合在其上。如果是后者的方法，则可以将膜基材1制成卷筒状连续地进行粘着剂层7的形成，在生产性的方面更为有利。 
粘着剂层只要是具有透明性的层即可，例如可以使用丙烯酸系粘着剂、硅系粘着剂、橡胶系粘着剂等。粘着剂层因粘接透明基体后的它的缓冲效果，而具有提高设于膜基材的一方的面上的导电性薄膜的耐擦伤性或作为触摸面板用途的触点特性的功能。为了更好地发挥该功能，优选将粘着剂层的弹性模量设为1～100N/cm2的范围，将厚度设1μm以上，通常优选设定为5～100μm的范围。 
如果粘着剂层的弹性模量小于1N/cm2，则由于粘着剂层变成非弹性，因此容易因加压而变形在膜基材以至导电性薄膜中产生凹凸，另外还容易产生粘着剂从加工切割面中的渗出等，另外导电性薄膜的耐擦伤性或作为触摸面板的触点特性的提高效果降低。另外，如果超过100N/cm2，则粘着剂层变硬，无法期待其缓冲效果，无法提高导电性薄膜的耐擦伤性或作为触摸面板的触点特性。 
如果粘着剂层的厚度小于1μm，则由于无法期待其缓冲效果，因此不能获得导电性薄膜的耐擦伤性或作为触摸面板的触点特性的提高。另外，如果使粘着剂层过厚，则会损害透明性，在粘着剂层的形成或透明基体的贴合作业性以及成本方面难以得到好的结果。 
此种借助粘着剂层贴合的透明基体对膜基材赋予良好的机械强度，特别是有助于防止卷曲等的产生。 
如图3所示，透明基体6除了可以设为单层构造以外，还可以设为将2片以上的透明的基体膜利用透明的粘着剂层贴合的复合构造，可以进一步提高叠层体整体的机械强度等。图4中，作为透明基体6，记载有将2片透明的基体膜61、62利用透明的粘着剂层63贴合的例子。在将透明基 体6设为复合构造的情况下，可以提高对面压力的耐久性。而且，虽然图3、4中，在图1中记载的膜上贴合透明基体，然而对于图2中记载的膜也可以同样地贴合透明基体。 
对作为上述透明基体采用单层构造的情况进行说明。在贴合了单层构造的透明基体后也要求透明导电性膜为挠曲性的情况下，使用透明基体的厚度通常为6～300μm左右的塑料膜。在不特别要求挠曲性的情况下，使用透明基体的厚度通常为0.05～10mm左右的玻璃板或膜状以及板状的塑料。作为塑料的材质，可以举出与上述的膜基材相同的材料。 
另一方面，在作为上述透明基体采用多层构造的情况下，透明基体的厚度与上述相同。多层构造的透明基体的厚度是将2片以上的透明的基体膜利用透明的粘着剂层贴合后的总厚度。即，在贴合了多层构造的透明基体后也要求透明导电性膜为挠曲性的情况下，多层构造的透明基体的厚度通常为6～300μm左右。该情况下，作为2片以上的透明的基体膜，可以使用与膜基材相同的塑料膜。在不特别要求挠曲性的情况下，透明基体的厚度通常为0.05～10mm左右。该情况下，作为2片以上的透明的基体膜，可以使用玻璃板或膜状以及板状的塑料。也可以将它们组合。作为塑料的材质，可以举出与上述的膜基材相同的材料。 
在多层构造的透明基体中，2片以上的透明的基体膜的贴合中所用的透明的粘着剂层中，优选使用与在透明基体与膜基材的贴合中所说明的相同的材料。 
而且，根据需要，也可以在上述的透明基体的外表面(与粘着剂层相反一侧的面)上，设置以提高识认性为目的的防眩光处理层或防反射层，或设置以保护外表面为目的的硬质涂层。作为后者的硬质涂层，例如优选使用由蜜胺系树脂、氨基甲酸酯系树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、硅树脂等硬化型树脂构成的硬化覆盖膜。 
本发明的透明导电性膜可以用于触摸面板或液晶显示器等各种装置的形成等中。特别是可以作为触摸面板用电极板理想地使用。 
触摸面板将具有透明导电性薄膜的触摸侧的触摸面板用电极板与具有透明导电性薄膜的显示器侧的触摸面板用电极板，按照使透明导电性薄膜彼此对置的方式经由间隔物对置配置，由本发明的透明导电性膜构成的触摸面板用电极板可以用于触摸侧、显示器侧的任意一方的触摸面板用电极板中。特别是，由本发明的透明导电性膜构成的触摸面板用电极板由于可以抑制牛顿环的产生，满足耐久性、显示特性，可以实现触摸面板的薄型化，因此优选作为显示器侧的触摸面板用电极板使用。 
图5是表示了将由图1所示的本发明的透明导电性膜构成的触摸面板用电极板作为显示器侧的触摸面板用电极板使用时的触摸面板的例子的图。即，在将具有透明导电性薄膜3a、3b的一对面板(触摸面板用电极板)P1、P2，以使相互正交地设置的透明导电性薄膜3a、3b彼此对置的方式，经由间隔物s对置配置而成的触摸面板中，作为显示器侧(下侧)的面板P1，使用了上述的图1中所示的透明导电性膜。而且，图5中，省略了图1中所示的透明导电性膜的树脂层2中的微粒4。 
在该触摸面板中，作为如下的透明开关发挥作用，即，在从面板P2侧用输入笔进行按压触点后，则透明导电性薄膜3a、3b之间接触，形成电路的ON状态，一旦解除上述按压，即回到原来的OFF状态。此时，由于面板P1由上述的透明导电性膜构成，因此可以抑制牛顿环的产生，可以满足耐久性、显示特性。 
而且，在上述的图5中，虽然面板P2是在由塑料膜或玻璃板等构成的透明基体5上设置了透明导电性薄膜3b的构件，但是也可以使用与上述的面板P1相同的图1中所示的透明导电性膜。 
实施例 
下面，将与比较例对比地记载本发明的实施例，进行更为具体的说明。而且，以下说明中带有份的是指重量份。 
实施例1 
(涂敷液的配制) 
作为微粒，使用了平均粒径为2.2μm的单分散的填充剂(材料：交联丙烯酸系树脂，标准偏差0.22μm，综研化学(株)制的商品商标：MX-Type)0.5份及平均粒径为3μm的单分散的填充剂(材料：交联丙烯酸系树脂，标准偏差0.3μm，综研化学(株)制的商品商标：MX-Type)0.1份的混合物。配制了将该微粒的混合物、紫外线硬化型树脂(丙烯酸·氨基甲酸酯系树脂，大日本油墨化学工业(株)制的商品名UNIDIC 17-806) 100重量份、光聚合引发剂(汽巴精化公司制的商品名Irgacure 184)5重量份及以使其固体成分达到50重量％的方式计量的溶剂(甲苯)的溶液。 
(树脂层的形成) 
在厚100μm的由聚对苯二甲酸乙二醇酯膜构成的透明的膜基材的一方的面上，利用拉丝锭涂布了上述涂敷液，使得干燥后的涂敷厚度达到1.1μm后，在100℃干燥3分钟后，利用紫外线照射进行硬化处理，形成了微细凹凸形状的表面的树脂层。 
(透明导电性膜的制成) 
然后，在上述树脂层上，在由氩气80％和氧气20％构成的4×10-1Pa的气氛中，利用使用了氧化铟及氧化锡的混合物的烧结体(氧化铟97重量％，氧化锡3重量％)的溅射法，形成厚20nm的由氧化铟和氧化锡的复合氧化物构成的透明导电性薄膜(ITO薄膜：折射率2.0)，制成了透明导电性膜。 
实施例2 
使用了实施例1中配制的涂敷液。除了在实施例1的树脂层的形成中，将树脂层的涂敷厚度变为1.4μm以外，与实施例1相同地形成了树脂层。另外，与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
实施例3 
使用了实施例1中配制的涂敷液。除了在实施例1的树脂层的形成中，将树脂层的涂敷厚度变为1.8μm以外，与实施例1相同地形成了树脂层。另外，与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
实施例4 
使用了实施例1中配制的涂敷液。除了在实施例1的树脂层的形成中，将树脂层的涂敷厚度变为0.8μm以外，与实施例1相同地形成了树脂层。另外，与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
实施例5 
(透明电介质层的形成) 
在实施例1中形成的树脂层上，在由氩气95％和氧气5％构成的4×10-1Pa的气氛中，利用使用了氧化铟、氧化锡和氧化铈的混合物烧结体(氧化铟68重量％，氧化锡2重量％，氧化铈30重量％)的靶子的溅射法， 形成厚23nm的由氧化铟、氧化锡和氧化铈的复合氧化物构成的高折射率薄膜(折射率2.2)。在该高折射率薄膜上，涂敷以使固体成分浓度达到2％的方式用乙醇将硅溶胶(COLCOAT(株)制的Colcoat P)稀释后的液体，在150℃干燥2分钟，将其硬化，形成了厚度约为50nm的SiO2薄膜(折射率1.45)。而且，上述折射率的测定是使用Atago公司制的阿贝折射率仪(DR-M2/1550)，在589nm的波长下测定的值。 
(透明导电性膜的制成) 
在上述SiO2薄膜上，与实施例1相同地形成透明导电性薄膜(ITO薄膜)，制成了透明导电性膜。 
比较例1 
除了在实施例1的涂敷液的配制中，作为微粒使用了平均粒径为3μm的单分散的填充剂0.6份以外，与实施例1相同地配制了涂敷液。另外，除了使用该涂敷液以外，与实施例1相同地形成树脂层，另外与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
比较例2 
使用了实施例1中配制的涂敷液。在实施例1的树脂层的形成中，除了将树脂层的涂敷厚度变更为2.1μm以外，与实施例1相同地形成了树脂层。另外，与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
比较例3 
除了在实施例1的涂敷液的配制中，作为微粒使用了平均粒径为4μm的单分散的填充剂(材料：交联丙烯酸系树脂，标准偏差0.4μm，综研化学(株)制的商品商标：MX-Type)0.1份以外，与实施例1相同地配制了涂敷液。另外，除了使用该涂敷液以外，与实施例1相同地形成树脂层，另外与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
比较例4 
除了在实施例1的涂敷液的配制中，作为微粒使用了平均粒径为4μm的单分散的填充剂(材料：交联丙烯酸系树脂，标准偏差0.4μm，综研化学(株)制的商品商标：MX-Type)0.1份以外，与实施例1相同地配制了涂敷液。另外，除了在实施例1的树脂层的形成中，将树脂层的涂敷厚度变更为1.4μm以外，与实施例1相同地形成树脂层。另外与实施例1 相同地制成了透明导电性膜。 
比较例5 
除了在实施例1的涂敷液的配制中，作为微粒使用了平均粒径为4μm的单分散的填充剂(材料：交联丙烯酸系树脂，标准偏差0.4μm，综研化学(株)制的商品商标：MX-Type)0.1份和平均粒径为5μm的单分散的填充剂(材料：交联丙烯酸系树脂，标准偏差0.5μm，综研化学(株)制的商品商标：MX-Type)0.1份以外，与实施例1相同地配制了涂敷液。另外，除了在实施例1的树脂层的形成中，将树脂层的涂敷厚度变更为1.4μm以外，与实施例1相同地形成树脂层。另外与实施例1相同地制成了透明导电性膜。 
对于上述的实施例1～4及比较例1～5的各透明导电性膜，进行了下述评价。将结果表示于表1中。 
(透明导电性膜的透明导电性薄膜的表面的形状) 
依照JIS1994-B0601，作为触针式表面粗糙度测定仪使用了(株)小阪研究所制的ET-4000进行测定。而且，测定是借助将由金刚石制成的头端部设为顶角为55度的圆柱形的直径1mm的测定针在凹凸面上沿一定方向以3mm的长度扫描，通过测定该情况下的测定针的上下方向的移动变化来进行的，由记录了它的表面粗糙度曲线，算出中心线平均表面粗糙度(Ra)、最大高度(Ry)、局部顶峰的平均间隔(S)及十点平均表面粗糙度(Rz)。 
(透明导电性膜的雾值的测定) 
依照JIS-K7105，使用Suga试验机(株)制的雾值仪HMG-2DP测定。 
(透明导电性膜的光的透过率的测定) 
使用(株)岛津制作所制的分光分析装置UV-240，测定了光波长550nm下的可见光线透过率。 
(触摸面板的制成) 
将各例的透明导电性膜作为一方(显示器侧)的面板，作为另一方的面板，使用在玻璃板上以上述相同的方法形成了厚度为30nm的ITO薄膜的板，将该两个面板以使ITO薄膜彼此对置的方式经由厚度为20μm的间隔物对置配置，使得两个面板的间隙达到150μm，制作了作为开关构架的触摸面板。而且，两个面板的各ITO薄膜是在上述的对置配置之前，预先以相互正交的方式形成的。 
《牛顿环的产生》 
3：看不到牛顿环的产生。 
2：虽然可以看到牛顿环的产生，然而是没有问题的水平。 
1：可以明显地看到牛顿环的产生。 
《耀眼》 
3：完全没有耀眼。 
2：耀眼很小，在实用上没有问题。 
1：有耀眼。 
<耐久性> 
对于各例的触摸面板，利用下述的方法，测定了笔输入耐久性。 
《高载荷笔输入耐久性》 
(A)：从以透明导电性膜构成的面板侧，使用由聚缩醛制成的笔(鼻尖R为0.8mm)，以载荷500g进行了30万次的滑动。滑动后，如下所示地测定了线性度，评价了高载荷笔输入耐久性。 
[线性度的测定方法] 
对透明导电叠层体施加5V的电压，测定了透明导电叠层体中的施加电压的端子A(测定开始位置)及端子B(测定结束位置)之间的输出电压。 
如果将测定开始位置A的输出电压设为EA，将测定结束位置B的输出电压设为EB，将各测定点X的输出电压设为EX，将理论值设为EXX，则可以由以下的计算来求得线性度。 
EXX(理论值)＝{X·(EB-EA)/(B-A)}+EA
线性度(％)＝[(EXX-EX)/(EB-EA)]×100 
而且，线性度测定的概略情况如图6所示。在使用触摸面板的图像显示装置中，通过用笔按压而由上部面板与下部面板的接触部分的电阻值来决定显示于画面上的笔的位置。使上部及下部面板表面的输出电压分布成为理论线(理想线)而决定电阻值。这时，如果电压值像图6的实测值那样偏离理论线，则实际的笔位置与由电阻值决定的画面上的笔位置就不会很好地一致。从理论线上的偏离为线性度，其值越大，则实际的笔位置与画面上的笔的位置的偏离就越大。 
(B)：另外，从以透明导电性膜构成的面板侧，使用由聚缩醛制成的笔(鼻尖R为0.8mm)，以各种载荷进行了10万次的滑动。求出滑动后的线性度在1.5％以下的最大载荷。该载荷越大，则意味着笔输入耐久性的特性越为优良。 
[表1] 
Figure 2006800333094A00800191
[0146] 可知上述实施例的牛顿环和耀眼的评价都在2以上，另外雾值可以设定为小到2.0％以下，并且在笔耐久性方面也很优良。 
产业上的利用领域 
本发明的透明导电性膜适用于触摸面板用电极板。 

Claims (11)

1.一种透明导电性膜，是在透明的膜基材的一面上至少经由具有微细凹凸形状的树脂层而叠层透明导电性薄膜的透明导电性膜，其特征在于，
透明导电性薄膜的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为0.11～0.18μm，
最大高度(Ry)为0.9～1.6μm，并且，
局部顶峰的平均间隔(S)为0.05～0.11mm。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，透明导电性薄膜的表面的十点平均表面粗糙度(Rz)为0.6～1μm。
3.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，具有微细凹凸形状的树脂层含有微粒，由该微粒形成微细凹凸形状。
4.根据权利要求3所述的透明导电性膜，其特征在于，微粒是平均粒径为2±0.4μm并且标准偏差在平均粒径的20％以内的微粒、和平均粒径为3±0.4μm并且标准偏差在平均粒径的20％以内的微粒的混合物。
5.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，树脂层的涂敷厚度为0.5～2μm。
6.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，在树脂层与透明导电性薄膜之间具有透明电介质薄膜。
7.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其特征在于，在透明的膜基材的未设置透明导电性薄膜的一侧的面上，经由透明的粘着剂层贴合有透明基体。
8.根据权利要求7所述的透明导电性膜，其特征在于，透明基体是将至少两片透明的基体膜经由透明的粘着剂层而叠层的叠层透明基体。
9.一种使用了权利要求1～8中任意一项所述的透明导电性膜的触摸面板用电极板。
10.一种触摸面板，是将具有透明导电性薄膜的触摸侧的触摸面板用电极板、和具有透明导电性薄膜的显示器侧的触摸面板用电极板，按照使透明导电性薄膜彼此对置的方式经由间隔物对置配置而成的触摸面板，其特征在于，触摸面板用电极板的至少一方由权利要求9所述的触摸面板用电极板制成。
11.根据权利要求10所述的触摸面板，其特征在于，权利要求9所述的触摸面板用电极板至少用于显示器侧的触摸面板用电极板中。
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