CN107750354B - 触摸传感器及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种触摸传感器及其制造方法，根据本申请的触摸传感器包括：基板；以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，其中，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元分别包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案。

Description

触摸传感器及其制造方法
技术领域
本申请要求2015年6月14日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0083804的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用包含在本文中。
本申请涉及一种触摸传感器及其制造方法。
背景技术
通常，显示装置总体上指TV或计算机的显示器，并且包括形成图像的显示元件和支撑该显示元件的壳体。
显示元件的实例可以包括等离子显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、电泳显示器和阴极射线管(CRT)。显示元件可以包括用于实现图像的RGB像素图案和附加滤光器。
滤光器可以包括防止从外部入射的外部光线被再次反射至外部的防反射膜、为了防止诸如遥控器等的电子设备的误操作而屏蔽在显示元件中产生的近IR的近IR屏蔽膜、通过包含颜色控制染料而控制色调来提高色纯度的颜色校正膜，以及当启动显示设备时屏蔽在显示元件中产生的电磁波的电磁波屏蔽膜中的至少一种。此处，电磁波屏蔽膜包括透明基板和设置在所述基板上的金属网格图案。
同时，关于显示设备，随着IPTV的普及的加速，对于没有诸如遥控器的单独的输入设备而使用手作为直接输入设备的触摸功能的需求正在增长。此外，还需要能够识别特定点和书写的多点触摸功能。
执行上述功能的触摸传感器可以根据信号检测方式分为以下类型。
换言之，触摸传感器包括：基于电流或电压值的变化来感应在施加直流电压的状态下被压力按压的位置的电阻型；在施加交流电压的状态下利用电容耦合的电容型；基于在施加磁场的状态下电压的变化感应选择的位置的电磁型等。
其中，最广泛普及的电阻型和电容型触摸传感器通过使用诸如ITO膜的透明导电膜，通过电触点或电容的变化来识别触摸。然而，由于透明导电膜具有100Ω/□以上高电阻，所以，在大规模制造透明导电膜时，灵敏度降低，并且随着屏幕尺寸增大，ITO膜的成本迅速增加，因此触摸传感器的商业化并不容易。为了克服该问题，试图通过使用具有高电导率的金属图案实现透明导电膜。
发明内容
技术问题
本申请旨在改善触摸传感器的制造工艺，降低触摸传感器的制造成本，提高触摸传感器的轻薄度。
技术方案
本申请的一个示例性实施方案提供一种触摸传感器，包括：基板；以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，其中，所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应(non-sensing)区域，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元分别包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案，所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式：n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复，所述第二布线电极单元设置在：被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中。
本申请的另一示例性实施方案提供一种包括所述触摸传感器的显示设备。
有益效果
根据本申请的示例性实施方案，可以提供单面一片型触摸传感器，从而可以使触摸传感器的厚度最小化，并且所有的导电图案在一个表面上形成，使得制造方法容易。此外，由于触摸传感器是一片型，因此，与使用两片以上的基板形成触摸传感器的现有技术相比，本申请具有不需要层压的优点。此外，感应电极单元和驱动电极单元位于相同表面上，使得易于安装和粘附柔性印刷电路板(FPCB)。此外，由于触摸传感器为一片型，因此与两片型的触摸传感器相比，透光率优异。另外，当在触摸传感器的表面上层压功能性表面膜时，梯级不大，因此具有不产生气泡的优点。
根据本申请的一个具体实例，能够改进触摸传感器的制造工艺以降低触摸传感器的制造成本，并且改善触摸传感器的轻薄度。
附图说明
图1至图3是示意性地示出现有技术中的触摸传感器的图；
图4是示意性地示出现有技术中的触摸传感器的布线电极单元的图；
图5至图16是示意性地示出根据本申请的一个示例性实施方案的触摸传感器的图。
具体实施方案
在下文中，将详细描述本申请。
在现有触摸传感器的情况下，将用于随电压驱动的驱动电极图案(Tx图案)和接收相对于驱动电极图案的互电容信号并且将接收到的信号传输至电路的感应电极图案(Rx图案)分别在单独的基板上形成，或者驱动电极图案和感应电极图案分别在基板的两个表面上形成的产品，即，驱动电极图案和感应电极图案在空间上分离的产品是主流。为了使触摸灵敏度和电容值最大化，考虑层结构和在层结构中插入的电介质的介电常数的触摸传感器的设计和制造被认为是核心技术。然而，在上述方法中，在使用对应于电介质的光学透明粘合剂(OCA)和两片用作透明电极的氧化铟锡(ITO)膜的方面，传感器的成本是一个持续问题，并且为了解决成本问题，新提出一种用于设计和制造具有在一个表面中存在驱动电极图案(Tx图案)和感应电极图案(Rx图案)的具有一个单一表面层的触摸传感器的技术。
具有一个单一表面层的触摸传感器通常可以分为：通过使用自电容的方法的触摸传感器、通过使用互电容的方法的触摸传感器以及通过使用金属桥的Fxy方法的触摸传感器等。然而，由于性能问题(在自电容的情况下，鬼影现象(ghost phenomenon)以及多点触摸的限制)、制造工艺之间的产率问题等，事实上，使用自电容的方法和使用金属桥的方法都没有引起较大关注。
除了上述两种方法之外，最近利用互电容方法的触摸传感器受到较大的关注，原因在于使用互电容的方法具有下述要点：形成电容的区域在相同空间的平面中形成，因此，存在诸如灵敏度的问题，以及在屏幕部中形成布线区域方面的图案制造问题，但是使用互电容的方法与其它方法相比在性能方面具有最优异的特性。因此，在积极进行实现ITO中使用互电容的方法的开发。然而，使用互电容的方法由于使用具有较高电阻的ITO材料，因此也具有电阻问题，使得适用性事实上被限制为5英寸以下。
为了解决上述问题，本申请提出一种具有一个单一表面层的触摸传感器，其使用导电金属线作为驱动电极图案和感应电极图案。
现有技术中使用ITO电极的具有一个单一表面层的触摸传感器示意性地示在下面的图1和图2中。此外，现有技术中使用ITO电极的具有一个单一表面层的触摸传感器的驱动电极图案和感应电极图案更详细地示在图3中。
图3示出了感应电极图案(Rx图案)和X形图案的驱动电极图案(Tx图案)。换言之，感应电极图案(Rx图案)被设计为具有比驱动电极图案(Tx图案)的面积更大的面积，并且通过公共电极施加信号。同时，驱动电极图案(Tx图案)实现为X形图案，并且布线单元通过死区形成，用于向各个驱动电极图案(Tx图案)施加信号。
在触摸分辨率方面，最优选地，根据布线单元的区域使死区最小化，为此，必须适当地调整导电金属线和/或死区的空间的宽度。此时，当空间的宽度等于或大于预定数值时，图案会被认为是在互信号干扰方面有利的图案。此外，为了确保电导率，导电金属线的宽度需要较大，并且较小的空间的宽度有利于确保电导率。因此，优选地，适当地调整导电金属线和/或死区的空间的宽度。
此外，图3中除了感应电极图案、驱动电极图案和死区之外的部分是与没有形成虚拟电极或图案的区域相对应的区域，并且可以是对实质电连接性没有发挥大的影响的区域。
在本申请中，下面提供利用导电金属线构造具有单一表面层的触摸传感器的驱动电极图案和感应电极图案的具体内容。
在常规ITO图案的情况下，将线和空间的概念引入布线单元的形成中，使得通常形成具有图4所示形状的布线图案。因此，本申请介绍一种确保导电金属线的连接性并且提高产率，使空间最小化的设计。
根据本申请的一个示例性实施方案的触摸传感器包括：基板；以及设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元分别包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案，所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，构成触摸感应区域的导电图案包括如下形式：n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复，所述第二布线电极单元设置在：被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中。
在本申请中，n可以为2至100的整数，但是不限于此。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元分别包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案。遮蔽部指在基板上设置构成驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的材料(例如，导电金属线)的区域，并且敞开部指在基板上没有设置导电金属线的区域。即，遮蔽部可以指光学上不透明的区域，并且例如，遮蔽部的透光率可以为20％以下，并且可以为10％以下。
在本申请中，作为网格图案，可以使用本领域已知的图案形状如网格图案。网格图案可以包括：包括三角形、四边形、五边形、六边形和八边形中的一种或多种形状的多边形图案。
在本申请中，所述第一布线电极单元的至少一些束可以连接至设置在如下的所述触摸非感应区域中的所述第二布线电极单元：该触摸非感应区域被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻，所述第一布线电极单元的其它束可以连接至设置在如下的所述触摸非感应区域中的所述第二布线电极单元：该触摸非感应区域被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻。
在本申请中，基于平分所述触摸传感器的水平直轴，设置在所述触摸感应区域和所述触摸非感应区域中的导电图案可以彼此对称。
在本申请中，重复单元图案可以包括驱动电极单元的导电图案、感应电极单元的导电图案以及第一布线电极单元的导电图案。
在本申请中，重复单元图案的宽度D可以用下面的式1表示。
[式1]
D＝A/(n×m)
在式1中，A是触摸感应区域的宽度，n是重复单元图案的数目，m是n的约数。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图5和图6中。
如图5中所示，根据本申请，可以在触摸感应区域的水平方向(宽度方向)上周期性地设置重复单元图案。在本说明书中，将触摸感应区域的水平方向称为x轴方向，将触摸感应区域的垂直方向称为y轴方向。
如图5中所示，为了使Tx图案将信号施加至Rx图案，通过死区形成迹线(trace)。当假定触摸传感器的触摸感应区域的宽度是“A”时，可以在x轴方向上存在重复单元图案。当假定重复单元图案内作为触摸非感应区域的死区的宽度为“D”时，从FPCB接合部连接的迹线通过节点通过重复单元图案的死区在y轴方向上连接至重复单元图案内的各迹线，所述节点的数目被定义为“n”，位于重复单元图案中的地线(grounds)的数目被定义为“g”，可以位于死区内的导线的最大数目是(n+g)。图5是示出重复单元图案内存在的节点和死区的详细形状等的图。特别地，在本申请中，如图6所示，为了最大限度地利用死区的空间，构想出半反射镜的设计。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图7中。图7是示出为了使死区内的迹线的面积最大化而构想出的半反射镜设计与初始图之间的比较的图。在根据本申请的半反射镜设计中，死区内的迹线的面积被最大化。更特别地，当假定重复单元图案周期性排列的方向为“x”并且与触摸感应区域连接的迹线的数目为“n”时，半反射镜设计是如下的设计：基于当n是奇数时的位置(n/2±1/2)以及当n是偶数时的位置n/2，垂直隔离迹线布线以将迹线布线连接至FPCB接合部分。通过上述方法，通过使限定的死区内位于x轴方向上的迹线的数目最小化，可以使各迹线线的宽度最大化。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图8中。当在图7的初始图中所允许的死区的宽度足够大时，没有必要引入半反射镜设计，但是通常，随着死区的宽度减小，触摸感应区域增加，因此触摸性能得到改善。但是，为了实现目标触摸透光率，形成网格的基本图形(晶格)的间距受到限制，极端地，交点的数目为一的设计可以如图8的第一幅图所示。在本申请中，为了确认交点数目和产率(yield)之间的相关性，比较评价通道产率(channel yield)随着设计的变化，并且可以看出，如图8中所示，产率随着交点的数目而变化，并且可以确认交点的最小数目需要为1.5以上。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图9中。基于单位死区内一个预定交点，当相同段中存在的交点的数目被称为“C”并且C/2被定义为位于死区内的交点的数目时，当在触摸感应区域内的迹线的交点的数目以最小1.5以上得到时，可以稳定地确保迹线的产率。更特别地，当定义触摸感应区域内的单位布线单元的宽度(单位死区的宽度)为“D”(mm)并且每单位面积的交点的数目是“P”(ea/mm2)时，通过等式P＝4.4/D1.99(ea/mm2)确保每单位面积存在P个以上的交点时，可以稳定地得到产率。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图10中。当规定连接单位死区的断开点的线是U、U1、U2、...、时，U和U1可以分成U和U1位于多边形网格的交点中的情况和U和U1不位于多边形网格的交点中的情况。如图10中所示，在交点的数目为1.5的情况下，当断开点位于交点处时，即使表现相同的断开线和多边形网格的间距，交点的数目也减少。换言之，除了交点的数目是1.5并且断开点位于交点处的情况之外，当确保布线单元的迹线内存在1.5个以上的交点时，可以确保在触摸感应区域内的迹线的产率。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图11中。如图11所示，当网格的交点的形式改变时，网格的相同节距处的每单位面积的交点的数目增加，从而确保触摸感应区域内布线单元的产率。此外，当触摸感应区域内的布线单元的交点的数目为一个以上时，带电载流的流动被平分，从而提高产率。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图12和图13中。如图12所示，在本申请中，假设重复单元图案中的任意一个图案的垂直末端为“S”，并且另一重复单元图案的垂直末端为“S1”。
如图12和图13中所示，当在重复单元图案内部在S和S1周围包括断开线的多边形中绘制同时平分断开点所在的各边的虚拟线时，S和S1的图案的形状可以彼此相同，并且由断开线形成的S和S1的闭合图形的图案可以彼此相同，这是由重复单元图案的周期性引起的。此时，断开点可以被分成包括多边形网格图案的交点的情况或不包括多边形网格图案的交点的情况。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图14和图15中。
在本申请中，当考虑断开点不包括多边形网格图案的交点的情况时，当包括断开线的闭合图形的整体形状不改变时，断开点的位置可以允许具有任何断开线形式。包括不同多边形网格图案的触摸传感器的结构可以被允许具有规则性。然而，当考虑到触摸传感器的设计上的便利性时，在设计的重复性和根据设计的重复性的便利性方面，在S和S1周围包括断开线的封闭图形内部，基于同时平分包括断开线的各边的虚拟线，断开点位于S和S1中的相同位置的情况会是最合理的。
根据本申请的示例性实施方案的触摸传感器示意性地示在图16中。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案由正多边形网格图案形成，并且重复单元图案可以满足下面的式5。
[式5]
0<As+As1<2AL
在式5中，As表示设置在所述重复单元图案内的一个第一多边形的面积，并且包括所述重复单元图案的任意一个垂直末端，AS1表示设置在所述重复单元图案内的一个第二多边形的面积，并且包括所述重复单元图案的另一垂直末端，AL表示所述一个正多边形的面积，并且所述第一多边形和所述第二多边形被设置为共享所述重复单元图案的相同水平轴线。
此外，重复单元图案可以满足下面的式6。
[式6]
0<As+As1＝AL
在本申请中，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，各导线由网格图案形成，在所述束中包括最大数目的导线的束中，束的宽度W、束中所包括的导线的数目n2和形成所述导线的网格图案中共享至少一边的相邻网格结构的中心点之间的距离中的最小值P满足下面的式2。
[式2]
Figure BDA0001507809170000091
在本申请中，在形成导线的网格图案中共享至少一边的相邻网格结构的中心点之间的距离可以相当于当网格图案是规则的网格图案时网格图案的间距，并且可以相当于当网格图案包括具有不同形式的多边形图案时，共享至少一边的相邻多边形图案的中心点之间的距离或重力中心点之间的距离。
在本申请的示例性实施方案中，式2可以用下面的式3表示。
[式3]
Figure BDA0001507809170000092
在式3中，W、n2和P与式2中定义的那些相同，并且θ1表示用最短距离在所述束的宽度方向上连续的直线，与用最短距离连接共享至少一边的相邻网格结构的中心点的直线之间的角度中的较小值。
在本申请的示例性实施方案中，触摸传感器的触摸感应区域可以包括驱动电极单元、感应电极单元和第一布线电极单元。此外，触摸传感器的触摸非感应区域可以包括第二布线电极单元。在本申请中，还可以用诸如触敏区域、触摸允许区域和触摸激活区域等术语来表示触摸感应区域。
在本申请中，所述束形成为图案形状，其中，具有两个断开点的闭合图形连续设置在从所述基板的与所述第二布线电极的端部相邻的一侧到所述基板面向所述一侧的另一侧的方向上，用最短距离连接所述连续设置的闭合图形的相邻断开点的虚拟直线具有一个以上的拐点，由所述拐点处的虚拟直线形成的角度为90°以上，与所述虚拟直线接触的图案将所述驱动电极单元或所述感应电极单元电连接至所述第二布线电极单元。
在本申请中，断开点是指闭合图形的边界图案的一部分被断开以切断边界图案的电连接的区域，并且可以用诸如断开点和断开部的术语来表示。换言之，当布线电极单元包括由导电金属线形成的图案时，图案可以包括通过断开点在导电金属线的纵向方向上彼此间隔开的两条以上的金属线。
此时，由于在布线电极单元的导电图案的线宽被分割为不同线宽度以制造导电图案之后，对于导电图案的莫列波纹(moiré)的评价，证实当断开点的平均直径或断开部的宽度在13μm以内时，不会由布线电极单元产生莫列波纹，同时将布线电极单元充分接合到显示器上，并且确认断开点的平均直径或者断开部的宽度为7μm以下的情况是最有利的。
在本申请中，断开点的平均直径或断开部的宽度可以指两条以上的间隔的导电金属线的最接近的末端之间的距离。两条以上的间隔的导电金属线的最接近的末端之间的距离指彼此间隔的两条以上导电金属线中彼此最接近的末端之间的距离。
在本申请的示例性实施方案中，式2可以用下面的式4表示。
[式4]
Figure BDA0001507809170000101
在式4中，W、n2和P与式2中定义的那些相同，并且θ2表示相对于用最短距离连接所述断开点的虚拟直线的垂直方向上的直线，与用最短距离连接共享至少一边的相邻网格结构的中心点的直线之间的角度中的较小值。
在本申请的示例性实施方案中，所述虚拟直线中在所述拐点之间具有最长距离的部分平行于构成所述闭合图形的至少一边或者形成大于0°且小于90°的角度。
在本申请的示例性实施方案中，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的至少一部分可以另外包括上述断开点或断开部。此时，断开点的平均直径或断开部的宽度可以为13μm以下，可以为10μm以下，可以为7μm以下，但是不限于此。
在本申请中，当假设束的宽度是“W”时，基于W×W的面积，与W×W的面积对应的所述触摸传感器的预定区域之间的开口率的偏差在10％以下、5％以下、3％以下，但是不限于此。触摸传感器的预定区域可以包括驱动电极单元内部的区域、感应电极单元内部的区域、布线电极单元内部的区域、驱动电极单元和感应电极单元的组合区域、驱动电极单元和布线电极单元的组合区域，以及感应电极单元和布线电极单元的组合区域。
在本申请的示例性实施方案中，驱动电极单元和感应电极单元可以由导电金属线形成，并且断开点或断开部可以设置在交点区域中，其中，驱动电极单元或感应电极单元内的导电金属线彼此相交，但是本申请不限于此。当在驱动电极单元或感应电极单元内的导电金属线彼此相交的交点区域中设置断开点时，考虑到条纹特性和可视性等，断开点的直径可以为40μm以下，并且可以为20μm以下，但是不限于此。
此外，基于断开点或断开部的中心，可以在预定距离内附加地设置电绝缘的导电金属线。电绝缘的导电金属线的长度没有特别限制，并且可以在断开点的平均直径或断开部的宽度的10％的偏差内。此外，电绝缘的导电金属线也可以设置为平行于断开点或断开部，并且也可以垂直于断开点或断开部或不规则地设置。此外，电绝缘的导电金属线可以具有断开点的平均直径或断开部的宽度与导电金属线的线宽的乘积的80％至120％的面积。此外，电绝缘的导电金属线的末端和与电绝缘的导电金属线的末端相邻的导电金属线的末端之间的距离可以为13μm以下。电绝缘的导电金属线的尺寸、形式、长度等可以被适当地调整，使得触摸传感器的预定区域之间的开口率的偏差在10％以内。
与隐藏导电图案一起的重点可以是如上所述的布线电极单元内的死区的最小化。
在本申请中，为了确保使死区最小化的设计，通过在固定布线电极单元的束的宽度的同时改变布线电极单元的导电金属线图案的间距和角度，来观察布线电极单元的导电金属线图案的间距和角度。
结果，在构成布线电极单元的导电图案是网格图案并且网格图案是正方形的情况下，当假定束的宽度是“W”，网格图案的间距是“P”，束中包含的导线的数目是“n”时，可以看出，当满足式1的关系时，形成束的宽度与网格图案的角度的变化无关。
此时，可以看出，即使当用于形成布线电极单元的断开线的方向性不是直线时，形成布线电极单元也没有很大的困难，并且可以看出，莫列波纹回避角(moiré avoidanceangle)是45°的情况是最好的情况，在每种情况下都有利。
此处，断开线的方向性指当用最短距离连接相邻断开点或断开部时表现出的线的方向。即使当用于形成布线电极单元的断开线的方向性不是直线，例如，锯齿线以及直线与锯齿线的组合时，也能够通过适当设计断开线的位置而将电流的流动方向设置为与断开线的方向性为直线的情况类似。
此外，根据本申请的触摸传感器可以通过使用互电容方法来识别触摸输入。特别地，根据本申请的触摸传感器旨在通过使用断开点或断开部、虚拟图案等使驱动电极单元和感应电极单元之间电断开，而不在驱动电极单元和感应电极单元之间插入单独的绝缘材料，并且不同于现有技术中使用金属桥、绝缘层等的触摸传感器。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案也可以分别通过独立的印刷工艺形成，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案也可以通过一次性印刷工艺同时形成。
因此，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案可以具有相同的线高度。
此外，驱动电极单元和布线电极单元的导电图案的至少一部分包括连接区域，并且连接区域可以没有接合点。此外，感应电极单元和布线电极单元的导电图案的至少一部分包括连接区域，并且连接区域可以没有接合点。
在本申请中，没有接合点指在物理连接的导电图案中不存在人为连接痕迹。通常，触摸单元和布线单元的图案形式和尺寸是不同的，因此触摸单元和布线单元通过现有技术中的不同方法形成，因此在触摸单元和布线单元的导电图案被连接的区域中不可避免地形成接合点。然而，在本申请中，能够通过使用一次工艺来形成触摸单元、线单元等，使得本申请可以具有如下特征：不存在接合点并且触摸单元、布线单元等的图案的线高度相同。
在本申请中，相同的线高度是指线高度的标准偏差小于10％，优选小于5％，或者更优选小于2％。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案设置在基板上，并且驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的全部导电图案可以设置在基板的相同表面上。
在基板的至少一个表面上还可以包括高硬度硬涂层。此时，高硬度硬涂层设置在基板的任意一个表面上，并且驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案可以设置在基板的另一表面上，但是本申请不限于此。此外，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案可以设置在高硬度硬涂层上，但是本申请不限于此。
高硬度硬涂层可以包含：包含3至6官能丙烯酸酯类单体的用于粘合剂的单体；无机颗粒；光引发剂；以及有机溶剂，并且高硬度硬涂层可以通过使用硬涂层组合物形成，其中，对于包含用于粘合剂的单体、无机颗粒和光引发剂的固体，固体：有机溶剂的重量比为70：30至99：1。
此外，高硬度硬涂层可以通过使用无溶剂形式的硬涂层组合物形成，所述硬涂层组合物包含：包含3至6官能丙烯酸酯类单体的用于粘合剂的单体；无机颗粒；以及光引发剂。
以下提供硬涂层组合物的具体内容。
术语“丙烯酸酯类”指所有的甲基丙烯酸酯或者取代基被引入到丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯中的衍生物，以及丙烯酸酯。
3至6官能丙烯酸酯类单体可以包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、三羟甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯(TMPEOTA)、丙氧基化甘油三丙烯酸酯(GPTA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETA)或二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)。3至6官能丙烯酸酯类单体可以单独使用或可以与不同类型组合并使用。
根据本发明的示例性实施方案，用于粘合剂的单体还可以包含1至2官能丙烯酸酯类单体。
1至2官能丙烯酸酯类单体可以包括，例如，丙烯酸羟乙酯(HEA)、甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)、二丙烯酸己二醇酯(HDDA)、三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)或乙二醇二丙烯酸酯(EGDA)。1至2官能丙烯酸酯类单体可以单独使用或者可以与不同类型组合并使用。
根据本发明的示例性实施方案，相对于100重量份的包含用于粘合剂的单体、无机颗粒和光引发剂的固体，用于粘合剂的单体的含量可以为约35重量份至约85重量份或约45重量份至约80重量份。当用于粘合剂的单体具有上述范围时，可以形成表现出高硬度和优异的加工性能并且几乎没有卷曲或裂纹产生的硬涂膜。
另外，当用于粘合剂的单体还包含1至2官能丙烯酸酯类单体时，1至2官能丙烯酸酯类单体与3至6官能丙烯酸酯类单体的含量比例没有特别限制，但是根据本发明的示例性实施方案，可以包含1至2官能丙烯酸酯类单体和3至6官能丙烯酸酯类单体使得具有约1：99至约50：50、约10：90至约50：50、或约20：80至约40：60的重量比。当包含上述重量比的1至2官能丙烯酸酯类单体和3至6官能丙烯酸酯类单体时，可以赋予高硬度和柔韧性而不降低卷曲特性或其它性能如耐光性。
根据本申请的另一示例性实施方案，用于粘合剂的单体还可以包含可光固化的弹性聚合物。
在整个本说明书中，可光固化的弹性聚合物是指包含可以通过紫外线辐射而聚合的官能团并且表现出弹性的聚合物材料。
根据本申请的示例性实施方案，当通过ASTM D638测量时，可光固化的弹性聚合物的伸长率可以为约15％以上，例如，约15％至约200％、约20％至约200％或约20％至约150％。
当本申请的硬涂层组合物还包含可光固化的弹性聚合物时，可光固化的弹性聚合物与3至6官能丙烯酸酯类单体交联并聚合以在固化后形成硬涂层，并且可以赋予形成的硬涂层柔韧性和抗冲击性。
当用于粘合剂的单体还包含可光固化的弹性聚合物时，可光固化的弹性聚合物和3至6官能丙烯酸酯类单体的含量比例没有具体限制，但是根据本发明的示例性实施方案，可以包含可光固化的弹性聚合物和3至6官能丙烯酸酯类单体以具有约5：95至约20：80的重量比。当以上述重量比包含3至6官能丙烯酸酯类单体和可光固化的弹性聚合物时，能够赋予硬涂层高的硬度和柔韧性而不会降低卷曲特性或其它性能如耐光性，特别地，能够防止硬涂层被外部冲击损坏以确保优异的抗冲击性。
根据本申请的示例性实施方案，可光固化的弹性聚合物可以是重均分子量在约1,000g/mol至约600,000g/mol或约10,000g/mol至约600,000g/mol的范围内的聚合物或低聚物。
例如，可光固化的弹性聚合物可以是选自聚己内酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯类聚合物和聚轮烷中的一种或多种。
可用作可光固化的弹性聚合物的物质中的聚己内酯是通过己内酯的开环聚合形成的，具有优异的性能如柔韧性、抗冲击性和耐久性。
氨基甲酸酯丙烯酸酯类聚合物包含氨基甲酸酯键并且具有优异的弹性和耐久性的特性。
聚轮烷指哑铃状分子与环状化合物(大环)在结构上匹配的化合物。哑铃状分子包括均匀的线性分子和位于线性分子两末端的封端基团(blocking groups)，线性分子穿过环状化合物的内侧，并且环状化合物可以沿着线性分子移动，并且通过封端基团阻止离开。
根据本申请的示例性实施方案，硬涂层组合物可以包括轮烷化合物，轮烷化合物包含：与末端引入(甲基)丙烯酸酯类化合物的内酯类化合物结合的环状化合物；穿过环状化合物的线性分子；以及设置在线性分子的两末端的封端基团以阻止环状化合物离开。
此时，当环状化合物具有足以穿过或围绕线性分子的尺寸时，环状化合物可以以特定的限制使用，并且还可以包含官能团，例如羟基、氨基、羧基、巯基或醛基，其可以与其它聚合物或化合物反应。环状化合物的具体实例可以包括α-环糊精、β-环糊精、γ-环糊精或它们的混合物。
此外，具有预定分子量以上且具有直链形式的化合物可以用作线性分子而没有大的限制，并且可以使用聚亚烷基类化合物或聚内酯类化合物。特别地，可以使用包含碳数为1至8的氧化烯重复单元的聚氧化烯类化合物或具有碳数为3至10的内酯类重复单元的聚内酯类化合物。
同时，封端基团可以根据所制备的轮烷化合物的特性适当调整，例如，可以使用选自二硝基苯基、环糊精基、金刚烷基、三苯甲基、荧光素基(fluorescein group)和芘基中的一种或两种以上。
聚轮烷化合物具有优异的耐擦伤性，从而当产生擦伤或外部损伤时，硬涂层可以表现出自修复性能。
本申请的硬涂层组合物包含无机颗粒。此时，无机颗粒可以以分散在用于粘合剂的单体中的形式被包含。
根据本申请的示例性实施方案，具有纳米级颗粒尺寸的无机粒子，例如，具有约100nm以下、约10nm至约100nm或约10nm至约50nm的粒子尺寸的纳米粒子可以被用作无机粒子。此外，可以使用，例如，二氧化硅粒子、氧化铝粒子、氧化钛粒子或氧化锌粒子作为无机粒子。
硬涂层组合物包含无机粒子，从而可以进一步改善硬涂膜的硬度。
根据本申请的示例性实施方案，相对于100重量份的包含用于粘合剂的单体、无机粒子和光引发剂的固体，无机粒子的含量可以为约10重量份至约60重量份或约20重量份至约50重量份。硬涂层组合物包含具有上述范围的无机颗粒，从而可以在不降低性能的范围内实现由于无机颗粒的添加而提高硬涂膜的硬度的效果。
本申请的硬涂层组合物包含光引发剂。
根据本申请的示例性实施方案，光引发剂可以包括1-羟基-环己基-苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、2-羟基-1-[4-(2-羟乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮(2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxyetoxy)phenyl]-2-methyl-1-propanone)、苯甲酰甲酸甲酯、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、2-苯甲酰基-2-(2-甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦或双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦，但是不限于此。此外，作为光引发剂，目前市售的产品包括Irgacure 184、Irgacure500、Irgacure 651、Irgacure 369、Irgacure 907、Darocur 1173、Darocur MBF、Irgacure 819、Darocur TPO、Irgacure 907、Esacure KIP 100F等。光引发剂可以单独使用，也可以混合使用两种以上不同类型的光引发剂并使用。
根据本发明的示例性实施方案，相对于100重量份的包含用于粘合剂的单体、无机颗粒和光引发剂的固体，包含光引发剂的量可以为约0.5重量份至约10重量份或约1重量份至约5重量份。当光引发剂在上述范围内时，可以实现充分的交联光聚合而不降低硬涂膜的性能。
同时，除了上述用于粘合剂的单体、无机颗粒和光引发剂之外，本申请的硬涂层组合物可以另外包含本申请所属领域通常使用的添加剂，例如表面活性剂、防黄变剂、流平剂和防污剂。此外，可以在不降低本申请的硬涂层组合物的性能的范围内不同地调节添加剂的含量，因此添加剂的含量没有具体限制，但是相对于100重量份的固体成分，添加剂的含量可以为，例如，约0.1重量份至约10重量份。
根据本申请的示例性实施方案，例如，硬涂层组合物可以包含表面活性剂作为添加剂，并且表面活性剂可以是1至2官能氟系丙烯酸酯、氟系表面活性剂或硅系表面活性剂。此时，表面活性剂可以以在交联共聚物内分散或交联的形式被包含。
此外，所述硬涂层组合物可以包含防黄变剂作为添加剂，并且防黄变剂可以包括苯甲酮类化合物或苯并三唑类化合物。
本申请的硬涂层组合物包含有机溶剂。
在根据本申请的示例性实施方案的硬涂层组合物中，相对于包含用于粘合剂的单体、无机颗粒和光引发剂的固体，有机溶剂可以在固体：有机溶剂为约70：30至约99：1的重量比范围内被包含。本发明的硬涂层组合物由于含有上述高含量的固体，因此能够得到高粘度的组合物，因而可以得到厚涂层，从而能够形成高厚度(例如，50μm以上)的硬涂层。
根据本申请的示例性实施方案，可以单独使用或混合使用下列物质作为有机溶剂：醇类溶剂，例如甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇；烷氧基醇类溶剂，例如2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇和1-甲氧基-2-丙醇；酮类溶剂，例如丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲基丙基酮和环己酮；醚类溶剂，例如丙二醇单丙醚、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇-2-乙基己基醚；芳香族溶剂，例如苯、甲苯和二甲苯等。
根据本申请的示例性实施方案，当硬涂层组合物的粘度在具有适当流动性和涂覆性能的范围内时，硬涂层组合物的粘度没有特别限制，但是硬涂层组合物具有相对高含量的固体，从而表现出高粘度。例如，本发明的硬涂层组合物在25℃的温度下的粘度可以为约100cps至1,200cps、约150cps至1,200cps或约300cps至1,200cps。
将包含上述成分的本发明的溶剂型或无溶剂型硬涂层组合物涂覆到支撑基板上，然后光固化以形成硬涂层。
在用作移动通信终端或平板PC的盖板的硬涂膜中，重要的是将硬涂膜的硬度提高到用硬涂膜代替玻璃的水平，并且为了改善硬涂膜的硬度，硬涂层的厚度基本上需要增加预定厚度以上，例如50μm以上、70μm以上或100μm以上。然而，当增加硬涂层的厚度时，固化收缩引起的卷曲现象增加，使得结合力降低并且容易产生硬涂膜的发展(development)。因此，可以额外地执行使支撑基板平坦化的工艺，但是在平坦化的工艺过程中硬涂层具有裂纹，因此使支撑基板平坦化的工艺不优选。
虽然为了形成具有高硬度的硬涂层，根据本申请的硬涂层组合物以高厚度涂覆到支撑基板上并被光固化，但是该硬涂层组合物可以形成具有最少产生卷曲或裂纹并且具有高透明度和高硬度的硬涂层。例如，通过使用本申请的硬涂层组合物，能够形成厚度为约50μm以上，例如，约50μm至约150μm或约70μm至约100μm的硬涂层。
当通过使用本申请的硬涂层组合物形成硬涂层时，硬涂层可以通过本发明所属领域中使用的常规方法来形成。
例如，首先，将根据本申请的硬涂层组合物涂覆到支撑基板的一个表面上。此时，涂覆组合物的方法没有特别限制，只要该方法可用于本发明所属领域即可，可以使用，例如，棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮涂法、模涂法、微凹版涂覆法、逗号涂覆法、狭缝式模具涂覆法、唇涂法或溶液涂覆法等。
在涂覆硬涂层组合物之后，可以选择性地进行使涂覆硬涂层组合物的表面稳定化的操作。稳定化操作可以，例如，通过在预定温度下处理涂覆硬涂层组合物的支撑基板来进行。因此，涂覆硬涂层组合物的表面被平坦化，并且硬涂层组合物中包含的挥发性成分挥发，从而进一步使涂覆硬涂层组合物的表面稳定化。
接下来，可以通过对涂覆的硬涂层组合物照射紫外线使涂覆的硬涂层组合物光固化来形成硬涂层。
当通过使用本申请的硬涂层组合物在支撑基板的两个表面上形成硬涂层时，硬涂层可以通过两步法形成，第一，将第一硬涂层组合物涂覆到支撑基板的一个表面上并进行第一光固化，第二，将第二硬涂层组合物涂覆到支撑基板的另一表面，即背面上，并且进行第二光固化。
在第二光固化操作中，紫外线照射到与其上涂覆有第一硬涂层组合物的一侧相反的一侧，使得在第一光固化操作中由于硬化和收缩而产生的卷曲在相反的方向上被抵消以得到平坦的硬涂膜。因此，不必进行附加平面化的过程。
当包括使用本申请的硬涂层组合物形成的硬涂层的膜暴露于50℃以上的温度和80％以上的湿度达到70小时以上，然后被放置在平面上时，从膜的各个角或一条边到平面的距离的最大值可以为约1.0mm以下、约0.6mm以下，或约0.3mm以下。更特别地，当包括使用本申请的硬涂层组合物形成的硬涂层的膜暴露于50℃至90℃的温度和80％至90％的湿度达到70小时至100小，然后放置在平面上时，从膜的各个角或一条边到平面的距离的最大值可以为约1.0mm以下、约0.6mm以下，或者约0.3mm以下。
包括使用本申请的硬涂层组合物形成的硬涂层的膜表现出优异的硬度、耐擦伤性、高透明度、耐久性、耐光性和透光率，从而有效地用于多种领域中。
例如，包括使用本申请的硬涂层组合物形成的硬涂层的膜在1kg的重量下可以具有7H以上、8H以上或9H以上的铅笔硬度。
在本申请中，高硬度硬涂层可以设置在基板的任意一个表面上，也可以设置在基板的两个表面上。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案各自可以分别独立地包括由导电金属线形成的图案。由导电金属线形成的图案可以包括由直线、曲线或者直线和曲线形成的闭合曲线。
驱动电极单元和感应电极单元的导电图案也可以独立地是规则图案，也可以是不规则图案。
作为规则图案，可以使用本领域已知的诸如网格图案的图案形状。网格图案可以包括包含三角形、四边形、五边形、六边形和八边形中的一种或多种形状的规则多边形图案。
在本申请中，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案是规则图案并且包括通过使形成图案的线中的多条预定线相交而形成的交点，此时，在3.5cm×3.5cm的面积中的交点的数目可以为3,000至122,500，可以为13,611至30,625，可以为19,600至30,625。此外，根据本申请，确认在显示器中设置硬涂层时交点的数目为4,000至12,3,000的情况下，硬涂层表现出显示器的光学特性未被较大损坏的光特性。
此外，根据本申请，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案是不规则图案并且包括通过使形成图案的导线中的多条预定线相交而形成的交点，此时，在3.5cm×3.5cm的面积中的交点的数目可以为6,000至245,000，可以为3,000至122,500，可以为13,611至30,625，可以为19,600至30,625。此外，根据本申请，确认在显示器中设置硬涂层时交点的数目为4,000至123,000的情况下，硬涂层表现出显示器的光学特性未被较大损坏的光特性。
驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的间距可以为600μm以下，可以为250μm以下，但是本领域的普通技术人员可以根据需要的透光率和电导率来调整间距。
电阻率为1×106Ω·cm至30×106Ω·cm的材料适合作为本申请中使用的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的材料，电阻率为7×106Ω·cm以下的材料更优选。
在本申请中，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案可以是不规则图案。
不规则图案包括连续连接的闭合图形的边界结构，具有相同形状的闭合图形不存在于预定的不规则单位面积(1cm×1cm)中，并且闭合图形的顶点的数目可以不同于具有与闭合图形的数目相同的数目的四边形的顶点的数目。更特别地，闭合图形的顶点的数目可以大于具有与闭合图形的数目相同的数目的四边形的顶点的数目，并且可以比具有与闭合图形的数目相同的数目的四边形的顶点的数目大1.9倍至2.1倍，但是不限于此。
闭合图形互相连续地连接，并且例如，在闭合图形是多边形的情况下，相邻的闭合图形可以具有共享至少一边的形式。
不规则图案包括连续连接的闭合图形的边界结构，具有相同形状的闭合图形不存在于不规则图案中的预定单位面积(1cm×1cm)中，并且闭合图形的顶点的数目可以与通过连接闭合图形的重力中心之间的最短距离而形成的多边形的顶点的数目不同。更特别地，闭合图形的顶点的数目可以大于通过连接闭合图形的重力中心之间的最短距离而形成的多边形的顶点的数目，并且可以比通过连接闭合图形的重力中心之间的最短距离而形成的多边形的顶点的数目大1.9倍至2.1倍，但是不限于此。
不规则图案包括连续连接的闭合图形的边界结构，具有相同形状的闭合图形不存在于不规则图案的预定单位面积(1cm×1cm)中，并且在闭合图形中，下面的式1的值可以为50以上。
[式1]
(顶点之间的距离的标准偏差/顶点之间的距离的平均值)×100
式1的值可以在导电图案的单位面积内计算。单位面积可以是形成导电图案的面积，并且，例如，可以是3.5cm×3.5cm的面积等，但是不限于此。
在本申请中，如下定义：顶点指形成导电图案的闭合图形的边界的线彼此相交的点。
不规则图案可以具有如下形式：通过将预定点设置在规则排列的单位晶格(unitcells)中，然后将所述点连接至与距离其它点的距离相比距离其最近的点而得到的闭合图形的边界结构。
此时，当将不规则性引入到预定点设置在规则排列的单位晶格中的方式中时，可以形成不规则图案。例如，在将不规则性设置为0的情况下，当单位晶格是正方形时，导电图案具有正方形网格结构，当单位晶格是正六边形时，导电图案具有蜂窝状结构。即，不规则图案指不规则性不为0的图案。
通过根据本申请的具有不规则图案形状的导电图案，可以抑制形成图案的线的跳闸现象(tipping phenomenon)等，从显示器得到均匀的透光率，保持相对于单位面积的线密度在相同水平上，并且确保电导率均匀。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的材料没有特别限制，但是可以包括选自金属、金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物和金属合金中的一种或多种。具有优异的导电性能并且容易被蚀刻的材料优选作为驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的材料。
在本申请中，即使使用总反射率为70％至80％以上的材料，也可以降低总反射率，降低导电图案的可视性，并且维持或改善对比度性能。
驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的材料的具体实例可以包括：包含金、银、铝、铜、钕、钼、镍或者它们的合金的单层膜或者多层膜。此处，对驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的厚度没有特别限制，但是就导电图案的导电性和形成过程的经济效率而言，厚度优选为0.01μm至10μm。
在本申请中，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为10μm以下，可以为7μm以下，可以为5μm以下，可以为4μm以下，可以为2μm以下，或者可以为0.1μm以上。更特别地，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为0.1μm至1μm、1μm至2μm、2μm至4μm、4μm至5μm、5μm至7μm等，但是不限于此。
此外，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为10μm以下，并且其厚度可以为10μm以下，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为7μm以下，其厚度可以为1μm以下，或者驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为5μm以下，并且其厚度可以为0.5μm以下。
更特别地，在本申请中，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为10μm以下，并且在驱动电极单元和感应电极单元的导电图案中，在3.5cm×3.5cm的面积内封闭图形的顶点的数目可以为6,000至245,000。此外，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为7μm以下，并且在导电图案中，在3.5cm×3.5cm的面积中封闭图形的顶点的数目可以从7,000至62,000。此外，驱动电极单元和感应电极单元的导电图案的线宽可以为5μm以下，并且在驱动电极单元和感应电极单元的导电图案中，在3.5cm×3.5cm的面积中封闭图形的顶点的数目可以为从15,000至62,000。
驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的开口率，即未被图案覆盖的面积的比例可以为70％以上、85％以上和95％以上。此外，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的开口率可以为90％至99.9％，但是不限于此。
此外，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的1mm×1mm的预定面积包括一个或多个区域，其中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的开口率互相不同，并且开口率的差异可以为0.1％至5％，但是不限于此。
此外，布线电极单元的导电图案的线宽可以为150μm以下，可以为100μm以下，可以为50μm以下，可以为30μm以下，可以为10μm以下，可以为0.1μm以上，但是不限于此。
在本申请中，布线电极单元的导电图案的至少一部分可以具有与驱动电极单元和感应电极单元的线宽不同的线宽。此时，线宽的差异可以为5μm至100μm，可以为5μm至30μm，可以为5μm至15μm，但是不限于此。
在本申请中，使用印刷方法来形成驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案，由此在透明基板上形成驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案，它们具有小的线宽并且是精细的。印刷方法可以通过使用如下方法来进行：将包含导电图案材料的糊剂或油墨转印到透明基板上呈期望的图案形状，然后烧结。印刷方法没有特别限制，可以使用诸如胶版印刷、丝网印刷、凹版印刷、柔版印刷、喷墨印刷、纳米压印等印刷方法，可以使用这些方法中的一种或多种复杂方法。印刷方法可以采用卷至卷方法、卷至板方法、板至卷方法或者板至板方法。
在本申请中，为了实现精细的导电图案，可以应用反向胶版印刷方法。为此，在本申请中，可以进行如下方法：将在蚀刻过程中可以用作抗蚀剂的油墨涂覆到被称为毡的硅类橡胶的整个表面上，通过使用其上形成称为原印模(primary cliché)的图案的凹版除去不需要的部分，然后将留在毡上的印刷图案二次转印到其上沉积有金属等的膜或基板(例如玻璃)上，并且通过烧结和蚀刻工艺形成理想的图案。在使用上述方法的情况下，由于使用了沉积有金属的基板，所以具有电阻在厚度方向上能够均匀地维持的优点，从而能够确保整个区域的线高度的均匀性。除此之外，本申请可以包括直接印刷方法，其中，通过使用上述反向胶版印刷方法直接印刷诸如Ag油墨等的导电油墨，然后烧结以形成理想的图案。此时，可以通过印刷压力使图案的线高度均匀，并且为了通过界面熔合连接银纳米粒子的目的，可以通过热烧结工艺、微波烧结工艺/激光部分烧结工艺等提供导电性。
特别地，当通过印刷工艺形成布线电极单元的导电图案时，为了实现更精细的导电图案，在印刷过程中，可以在与布线电极单元的导电图案的纵向垂直的方向上进行印刷，但是本申请不限于此。换言之，根据本申请的示例性实施方案，具有如下特征：为了确保FPCB接合区域的尺寸稳定性，可以设置印刷方向，使得FPCB接合焊盘沿着膜容易收缩和膨胀的方向设置。布线电极单元的印刷方向的内容示意性地示在图28中。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案可以分别独立地额外包括设置在与各个驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案相对应的区域中的暗化图案。
在本申请中，与除了导电图案由Al形成并且不包括暗化图案之外具有相同构造的触摸传感器相比，通过将从点光源发出的光照射在触摸感应区域的暗化图案可见的一个表面上而得到的反射型衍射图像的反射型衍射强度可以减小60％以上。此处，与除了导电图案由Al形成并且不包括暗化图案之外具有相同构造的触摸传感器相比，反射型衍射强度可以减小60％以上、70％以上以及80％以上。例如，反射型衍射强度可以降低60％至70％、70％至80％和80％至85％。
在本申请中，与除了导电图案由Al形成并且不包括暗化图案之外具有相同构造的触摸传感器相比，通过使用总反射率测量装置(假设触摸感应区域的暗化图案可见的一个表面上的环境光)测量的总反射率可以减少20％以上。此处，与除了导电图案由Al形成并且不包括暗化图案之外具有相同的构造的触摸传感器相比，总反射率可以减小20％以上、25％以上以及30％以上。例如，总反射率可以降低25％至50％。
在本申请中，触摸感应区域的暗化图案可以设置在驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的上表面和/或下表面上，并且可以设置在驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的侧表面的至少一部分上，以及驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的上表面和下表面上，并且可以设置在驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的整个上表面、下表面和侧表面上。
在本申请中，触摸感应区域的暗化图案被设置在驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的整个表面上，从而能够降低根据驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的高反射率的导电图案的可视性。此时，当暗化图案与具有高反射率的层例如导电层结合时，因为暗化图案在特定厚度条件下具有相消干涉和自吸光度，所以通过暗化图案将由暗化图案反射的光量调整为与被驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案反射的光量相似，同时，在特定厚度条件下引导在两个光之间的相互相消干涉，从而表现出降低驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案的反射率的效果。
此时，在由根据本申请的触摸感应区域的暗化图案可见的表面测量的由暗化图案和导电图案形成的图案区域的颜色范围中，基于CIE LAB色坐标，L的值可以为20以下，A的值可以为-10至10，B的值可以为-70至70，L的值可以为10以下，A的值可以为-5至5，B的值可以为0至35，L的值可以为5以下，A的值可以为-2至2，B的值可以为0至15。
此外，基于550nm的外部光，从根据本申请的触摸感应区域的暗化图案可见的表面测量的，驱动电极单元、感应电极单元以及布线电极单元的暗化图案和导电图案形成的图案区域的总反射率可以为17％以下、10％以下或5％以下。
此处，总反射率指考虑漫反射率和镜面反射率两者而得到的反射率。总反射率是通过使用黑色糊剂、胶带等将待测反射率的表面的相反面的反射率设定为0，然后仅测量待测表面的反射率而观察到的值，此时，引入与环境光条件最相似的漫射光源作为提供光源。此外，此时，基于从积分球的半球的垂直线倾斜约7°的位置来设定反射率的测量位置。
在本申请中，驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的暗化图案和导电图案可以被同时地或分别地图案化，但是用于形成各个图案的层被分别形成。然而，为了使导电图案和暗化图案存在于精确对应的表面上，最优选同时形成导电图案和暗化图案。
通过如上所述形成图案，可以实现触摸屏中所需的精细导电图案，同时使暗化图案本身的效果最优化和最大化。在触摸传感器中，当不能实现精细导电图案时，会无法实现触摸传感器所需的诸如电阻等性能。
在本申请中，由于在形成驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的暗化图案和导电图案中，单独的图案层形成层压结构，所以该结构不同于光吸收材料的至少一部分凹进或分散在导电图案中的结构，或者不同于通过对单层的导电层进行表面处理使一部分表面被物理或化学改性的结构。
此外，在根据本申请的触摸传感器中，暗化图案直接设置在基板上，或者直接设置在驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案上，而不需要插入粘附层或粘合层。粘附层或粘合层会影响耐久性或光学性能。另外，根据本申请的触摸传感器中包括的层压体的制造方法完全不同于使用粘附层或粘合层的情况下的方法。此外，在本申请中，与使用粘附层或者粘合层的情况相比，基板或者驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案以及暗化图案的干涉特性优异。
在本申请中，当暗化图案具有作为上述物理性能的相消干涉特性和吸收系数特性，并且当将光的波长定义为λ，并且暗化图案的折射率为n时，只要暗化图案的厚度满足λ/(4×n)＝N(此处，N是奇数)的厚度条件，则可以使用任何厚度的暗化图案。然而，在制造过程中，考虑到与导电图案的蚀刻性能，优选地，厚度选自10nm至400nm，但是优选厚度可以根据使用的材料和制造工艺而不同，并且本申请的范围不限于上述数值范围。
暗化图案也可以由单层形成，或者也可以由两层以上的多层形成。
暗化图案优选地具有接近无彩色的颜色。然而，颜色不需要是无彩色，并且即使暗化图案具有颜色，只要暗化图案具有低反射率，也可以采用暗化图案。此时，无彩色指当入射到物体表面的光没有被选择性地吸收而是相对于各个成分的波长被均匀地反射和吸收时所表现出的颜色。在本申请中，当测量总反射率时，在可见光区域(400nm至800nm)中，暗化图案可以使用各个波长范围的总反射率的标准偏差为50％以下的材料。
暗化图案的材料是光吸收材料，优选地，只要是在形成整个层时由具有上述物理性能的金属、金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物构成的材料即可，所述材料可以使用而没有特别的限制。
例如，在由本领域技术人员设定的沉积条件下，暗化图案可以是使用Ni、Mo、Ti、Cr等形成的氧化物膜、氮化物膜、氧化物-氮化物膜、碳化物膜、金属膜或它们的组合。
作为一个具体实例，暗化图案可以包括Ni和Mo两者。暗化图案还可以包含50原子％至98原子％的Ni和2原子％至50原子％的Mo，并且还可以包含0.01原子％至10原子％的其它金属，例如，如Fe、Ta和Ti。此处，如果需要，暗化图案还可以包含0.01原子％至30原子％的氮或4原子％以下的氧和碳。
作为另一具体实例，暗化图案可以包含选自SiO、SiO2、MgF2和SiNx(x是1以上的整数)的介电材料和选自Fe、Co、Ti、V、Al、Cu、Au和Ag的金属，还可以包含选自Fe、Co、Ti、V、Al、Cu、Au和Ag中的两种以上金属的合金。优选地，随着外部光线从入射方向离开，介电材料以逐渐减少的量分布，金属和合金成分相反地分布。此时，介电材料的含量优选为20重量％至50重量％，金属的含量为50重量％至80重量％。在暗化图案还包含合金的情况下，优选地，暗化图案包含10重量％至30重量％的介电材料、50重量％至80重量％的金属以及5重量％至40重量％的合金。
作为另一具体实例，暗化图案可以由包含镍和钒合金，以及镍和钒的氧化物、氮化物和氧氮化物中的一种或多种的薄膜组成。此时，优选地，钒的含量为26原子％至52原子％，并且优选地，钒与镍的原子比为26/74至52/48。
作为另一具体实例，暗化图案可以包括过渡层，在该过渡层中，包含两种以上元素，并且一种元素的组成比例随着外部光的入射方向，每100埃增加最多约20％。此时，一种元素可以是金属元素，如铬、钨、钽、钛、铁、镍或钼，除了金属元素以外的元素可以是氧、氮或碳。
作为另一具体实例，暗化图案可以包括第一氧化铬层、金属层、第二氧化铬层和铬镜，此时，暗化图案可以包括选自钨、钒、铁、铬、钼和铌的金属代替铬。金属层的厚度可以为10nm至30nm，第一氧化铬层的厚度可以为35nm至41nm，第二氧化铬层的厚度可以为37nm至42nm。
作为另一具体实例，可以使用氧化铝(Al2O3)层、氧化铬(Cr2O3)层和铬(Cr)层的层压结构作为暗化图案。此处，氧化铝层具有改善的反射特性和防光漫射特性，并且氧化铬层可以通过降低镜面反射率来改善对比度特性。
在本申请中，在与驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元的导电图案对应的区域中设置暗化图案。此处，与导电图案对应的区域指具有与导电图案的形状相同的形状的图案的区域。然而，暗化图案的图案尺寸不需要与导电图案的图案尺寸完全相同，并且暗化图案的线宽小于或大于导电图案的线宽的情况也包含在本申请的范围内。例如，优选地，暗化图案具有设置有导电图案的面积的80％至120％的面积。
暗化图案可以具有线宽等于或大于导电图案的线宽的图案形状。
当暗化图案具有线宽大于导电图案的线宽的图案形状时，暗化图案可以更大地赋予在使用者观察过程中暗化图案阻挡导电图案的效果，因此具有的优点在于，暗化图案可以有效地阻挡由导电图案本身的光泽或反射引起的影响。然而，即使当暗化图案的线宽与导电图案的线宽相同时，也可以实现本申请的目标效果。通过根据下面的式2的值，暗化图案的线宽可以大于导电图案的线宽。
[式2]
Tcon×θ3的正切×2
在式2中，Tcon是导电图案的厚度，θ3是当从触摸传感器的使用者的视角的位置入射的光线穿过导电图案和暗化图案的角时，光线与相对于基板的表面的法线之间的角度。
θ3是根据斯奈尔定律(Snell’s law)，由于基板的折射率和暗化图案和导电图案所在的区域的介质(例如，触摸传感器的粘合剂)的折射率，通过改变触摸传感器的使用者的视角与基板之间的角度(θ1)而得到的角度。
例如，当假设观察者观察层压体使得θ3的值为约80°并且导电图案的厚度为约200nm时，优选地，基于侧面，暗化图案的线宽大于导电图案的线宽约2.24μm(200nm×tan(80)×2)。然而，如上所述，即使当暗化图案具有与导电图案的线宽相同的线宽时，也可以实现本申请的目标效果。
根据本申请的一个具体实例，可以改进触摸传感器的制造工艺以降低触摸传感器的制造成本，并且改善触摸传感器的轻薄度。
根据本申请的示例性实施方案，可以提供单表面一片型触摸传感器，使得触摸传感器的厚度可以最小化，并且所有的导电图案在单个表面上形成，因此制造方法容易。此外，由于触摸传感器是一片型，所以与使用两片以上的基板形成触摸传感器的现有技术相比，本申请具有不需要层压的优点。此外，驱动电极单元和感应电极单元存在于相同的表面上，从而易于安装和粘附柔性印刷电路板(FPCB)。此外，由于触摸传感器为一片型，因此与两片型的触摸传感器相比，透光率优异。另外，在触摸传感器的表面上层压功能性表面膜时，梯级不大，因此具有不产生气泡的优点。
根据本申请的一个具体实例，可以改善触摸传感器的制造工艺以降低触摸传感器的制造成本，并且改善触摸传感器的轻薄度。

Claims (21)

1.一种触摸传感器，包括：
基板；以及
设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，
其中，所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域，
所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案，
所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，
构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式：n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复，
所述第二布线电极单元设置在：被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中，以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中，并且
所述重复单元图案的宽度D由下面的式1表示，
[式1]
D＝A/(n×m)
在式1中，A是所述触摸感应区域的宽度，n是重复单元图案的数目，m是n的约数。
2.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第一布线电极单元的至少一些束连接至设置在如下的所述触摸非感应区域中的所述第二布线电极单元：该触摸非感应区域被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻，
所述第一布线电极单元的其它束连接至设置在如下的所述触摸非感应区域中的所述第二布线电极单元：该触摸非感应区域被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻。
3.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，设置在所述触摸感应区域和所述触摸非感应区域中的导电图案基于平分所述触摸传感器的水平直轴彼此对称。
4.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元的导电图案由规则的多边形网格图案形成，以及
所述重复单元图案满足下面的式5，
[式5]
0<As+As1<2AL
在式5中，
As表示设置在所述重复单元图案内，并且包括所述重复单元图案的任意一个垂直末端的一个第一多边形的面积，
AS1表示设置在所述重复单元图案内，并且包括所述重复单元图案的另一垂直末端的一个第二多边形的面积，
AL表示一个所述规则的多边形的面积，并且
所述第一多边形和所述第二多边形被设置为共享所述重复单元图案的相同水平轴。
5.根据权利要求4所述的触摸传感器，其中，所述重复单元图案满足下面的式6，
[式6]
0<As+As1＝AL。
6.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述导电图案由导电金属线形成。
7.根据权利要求6所述的触摸传感器，其中，所述导电金属线包括选自金、银、铝、铜、钕、钼、镍和它们的合金中的一种或多种。
8.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元的导电图案均独立地另外包括在所述导电图案上的暗化图案。
9.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元的导电图案均独立地包括多边形网格图案。
10.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述束的宽度是“W”，并且基于W×W的面积，与所述W×W的面积对应的所述触摸传感器的预定区域之间的开口率偏差在10％以内。
11.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元通过一次印刷工艺同时形成。
12.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述触摸传感器通过利用互电容方法识别触摸输入。
13.一种触摸传感器，包括：
基板；以及
设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，
其中，所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域，
所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案，
所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，
构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式：n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复，
所述第二布线电极单元设置在：被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中，以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中，
其中，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，
各导线由网格图案形成，以及
在所述束中包括最大数目的导线的束中，该束的宽度W、该束中所包括的导线的数目n2、和形成所述导线的网格图案中共享至少一边的相邻网格结构的中心点之间的距离中的最小值P满足下面的式2，
[式2]
Figure FDA0002555006980000041
14.根据权利要求13所述的触摸传感器，其中，所述束形成为图案形状，其中，具有两个第一断开点的闭合图形连续设置在从所述基板的与所述第二布线电极的端部相邻的一侧到所述基板的面向该侧的另一侧的方向上，
用最短距离连接所述连续设置的闭合图形的相邻第一断开点的虚拟直线具有一个以上的拐点，由所述拐点处的虚拟直线形成的角度为90°以上，以及
与所述虚拟直线接触的图案将所述驱动电极单元或所述感应电极单元电连接至所述第二布线电极单元。
15.根据权利要求13所述的触摸传感器，其中，式2由下面的式3表示，[式3]
Figure FDA0002555006980000042
在式3中，W、n2和P与式2中定义的那些量相同，
θ1表示用最短距离在所述束的宽度方向上连续的直线，与用最短距离连接共享至少一边的相邻网格结构的中心点的直线之间的角度中的较小值。
16.根据权利要求14所述的触摸传感器，其中，式2由下面的式4表示，[式4]
Figure FDA0002555006980000043
在式4中，W、n2和P与式2中定义的那些量相同，以及
θ2表示相对于用最短距离连接所述第一断开点的虚拟直线的垂直方向上的直线，与用最短距离连接共享至少一边的相邻网格结构的中心点的直线之间的角度中的较小值。
17.根据权利要求14所述的触摸传感器，其中，所述虚拟直线中在所述拐点之间具有最长距离的部分平行于构成所述闭合图形的至少一边或者形成大于0°且小于90°的角度。
18.根据权利要求14所述的触摸传感器，其中，所述第一断开点的平均直径为13μm以下。
19.一种触摸传感器，包括：
基板；以及
设置在所述基板的相同表面上的驱动电极单元、感应电极单元和布线电极单元，
其中，所述触摸传感器包括触摸感应区域和触摸非感应区域，
所述驱动电极单元、所述感应电极单元和所述布线电极单元均包括包含遮蔽部和敞开部的导电图案，
所述布线电极单元包括位于所述触摸传感器的触摸感应区域中的第一布线电极单元和位于所述触摸传感器的触摸非感应区域中的第二布线电极单元，所述第一布线电极单元包括一束或两束以上的将所述驱动电极单元或所述感应电极单元连接至所述第二布线电极单元的导线，
构成所述触摸感应区域的导电图案包括如下形式：n个重复单元图案在所述触摸感应区域的宽度方向上重复，
所述第二布线电极单元设置在：被设置为与所述触摸感应区域的上部的侧面相邻的触摸非感应区域中，以及被设置为与所述触摸感应区域的下部的侧面相邻的触摸非感应区域中，
其中，所述驱动电极单元和所述感应电极单元的至少一部分导电图案包括第二断开点，并且
所述第二断开点的平均直径为13μm以下。
20.根据权利要求19所述的触摸传感器，其中，所述驱动电极单元和所述感应电极单元由导电金属线形成，和
所述第二断开点设置在所述驱动电极单元或所述感应电极单元内部的导电金属线彼此相交的交点区域中。
21.一种显示设备，包括权利要求1至20中的任意一项所述的触摸传感器。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI559186B (zh) * 2013-12-13 2016-11-21 Ｌｇ化學股份有限公司 觸控感測器及顯示裝置
CN107179150A (zh) * 2017-05-23 2017-09-19 福州大学 一种扇面形机器人触觉传感器及其检测方法
CN107491222A (zh) * 2017-09-01 2017-12-19 业成科技（成都）有限公司 触控面板
CN107765917B (zh) * 2017-10-18 2021-08-27 京东方科技集团股份有限公司 一种触控面板的制备方法、触控面板和触控装置
CN111240531A (zh) * 2018-11-28 2020-06-05 无锡变格新材料科技有限公司 具有无节点图案的触控面板
CN110767699B (zh) * 2018-12-28 2020-11-06 昆山国显光电有限公司 透明oled基板、显示面板、oled基板、显示屏及显示装置
KR20210085958A (ko) * 2019-12-31 2021-07-08 미래나노텍(주) 스크린 장치
KR20220051901A (ko) * 2020-10-19 2022-04-27 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 표시 장치
JP7266955B2 (ja) * 2021-05-20 2023-05-01 Ｎｉｓｓｈａ株式会社 導電シート、タッチセンサ及びタッチセンサの製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120256642A1 (en) * 2011-02-24 2012-10-11 Cypress Semiconductor Corporation Single layer touch sensor
US20140043257A1 (en) * 2012-08-08 2014-02-13 Hannstar Display Corp. Touch module
CN104516584A (zh) * 2013-09-30 2015-04-15 Lg伊诺特有限公司 触控窗口和具有该触控窗口的触控设备

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7663607B2 (en) 2004-05-06 2010-02-16 Apple Inc. Multipoint touchscreen
JP5174745B2 (ja) 2009-06-09 2013-04-03 グンゼ株式会社 タッチスイッチ
US8557610B2 (en) 2011-02-14 2013-10-15 Qualcomm Incorporated Methods of integrated shielding into MTJ device for MRAM
KR101299847B1 (ko) 2011-04-01 2013-08-28 (주)멜파스 접촉 감지 장치 및 방법
US20140168543A1 (en) * 2011-09-27 2014-06-19 Lg Chem, Ltd. Touch panel comprising conductive pattern
US20130081869A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Jae Hong Kim Touch sensing apparatus and method of manufacturing the same
US20130127775A1 (en) 2011-11-22 2013-05-23 Esat Yilmaz Single-Layer Touch Sensor with Crossovers
US20130176238A1 (en) 2012-01-05 2013-07-11 Htc Corporation Touch panel
KR101340026B1 (ko) 2012-02-08 2013-12-10 (주)이엔에이치 정전용량 방식의 터치스크린 패널 및 그 제조방법
JP5347096B1 (ja) * 2012-09-13 2013-11-20 株式会社ワンダーフューチャーコーポレーション タッチパネルの製造方法及びタッチパネル、並びにタッチパネルと表示装置を具備する入出力一体型装置
JP6040317B2 (ja) 2012-11-30 2016-12-07 エルジー・ケム・リミテッド タッチスクリーンおよびその製造方法
JP5750466B2 (ja) 2013-03-04 2015-07-22 アルプス電気株式会社 静電容量式入力装置
KR101506512B1 (ko) 2013-09-27 2015-03-27 주식회사 하이딥 정전 용량성 터치 센서 패널
JP6278388B2 (ja) 2013-11-13 2018-02-14 Ｎｉｓｓｈａ株式会社 タッチセンサおよびその製造方法
JP2015106240A (ja) 2013-11-29 2015-06-08 富士フイルム株式会社 導電性フイルム及びタッチパネル

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120256642A1 (en) * 2011-02-24 2012-10-11 Cypress Semiconductor Corporation Single layer touch sensor
US20140043257A1 (en) * 2012-08-08 2014-02-13 Hannstar Display Corp. Touch module
CN104516584A (zh) * 2013-09-30 2015-04-15 Lg伊诺特有限公司 触控窗口和具有该触控窗口的触控设备

Also Published As

Publication number Publication date
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