CN104290407B - 双面透明导电性膜及触控面板 - Google Patents

双面透明导电性膜及触控面板 Download PDF

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Abstract

本发明的课题在于提供双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板，所述双面透明导电性膜即使将透明导电层图案化也具有良好的外观，且具有抗粘连性，由此能以低成本制造。本发明的解决手段是一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧的所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧的所述光学调整层之间的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。

Description

双面透明导电性膜及触控面板
技术领域
本发明涉及双面透明导电性膜及触控面板。
背景技术
近年来，由于投影型静电容量式触控面板、矩阵型电阻膜式触控面板能多点输入(多点触控)，因此操作性优异，其需求急速上升。作为这样的触控面板的电极构件，提出了在透明膜基材的两面形成有透明导电性薄膜的双面透明导电性膜。
在如上的触控面板中，使用具有图案化了的透明导电层的双面透明导电性膜。虽然从可见光透射率的观点考虑广泛使用铟-锡复合氧化物(ITO)作为透明导电层的材料，但由于其折射率高，因此在将含有ITO的透明导电层图案化时，在透明导电层形成图案的部分(图案形成部)和除去了透明导电层的部分(图案开口部)产生图案的可视性的差异，有时从外部观察图案时外观恶化、或产生色调。为了不使这样的图案引人注意，提出了下述技术：在双面设置有透明导电层的双面透明导电性膜中，在膜基材与透明导电层之间设置光学调整层(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2011/065032号
发明内容
发明要解决的课题
在上述技术中，虽然在光学调整层的形成中采用了溅射等干式法，但从利用卷对卷法(ロール·トゥー·ロール方式)的连续生产成为可能且可以实现成本降低的观点考虑，优选湿式涂敷法。但是，卷对卷法的话重合的膜彼此密合而变得不易剥离(所谓的粘连)，根据情况膜发生断裂或产生伤痕而存在生产率降低的可能性。
与此相对，为了抑制粘连，可以采用形成在表面形成有凹凸的抗粘连层的对策。但是，若以湿式涂敷法形成光学调整层，则由于涂布液而抗粘连层的隆起消失，不能发挥抗粘连性，有时发生粘连。
鉴于上述观点，本发明的目的在于提供双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板，所述双面透明导电性膜即使将透明导电层图案化，外观也良好，且具有抗粘连性，由此能以低成本制造。
解决课题的手段
本发明人为了解决所述课题而潜心研究，结果发现，通过将抗粘连层的粒子的粒径和光学调整层的厚度设置为特定的关系而能够达成上述目的，从而完成了本发明。
即，本发明提供一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧的所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧的所述光学调整层之间中的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。
在该双面透明导电性膜中，以能够以与在基材膜的两面形成的透明导电层的关系分别进行光学设计的方式在基材膜与各透明导电层之间设置了光学调整层，因此即使在将透明导电层图案化的情况下也难以使图案引人注意，能够抑制色调的产生而达成良好的外观。另外，由于将从抗粘连层中所含的粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度后的值设置为比所述光学调整层的厚度大，因此即使在通过湿式涂布形成光学调整层的情况下抗粘连层的隆起部也不会消失，换言之，变得在光学调整层中也存在起因于下层的抗粘连层的隆起部的隆起，其结果是，能发挥优异的抗粘连性。进一步，由于即使在通过湿式涂布形成光学调整层的情况下该双面透明导电性膜也能维持抗粘连性，因此包括光学调整层的形成在内能够实现卷对卷法的连续生产，从而低成本的制造成为可能。
所述光学调整层的厚度优选50nm～300nm。由此，即使在将透明导电层图案化的情况下也可以使图案不易引人注意，可以使外观良好。
所述光学调整层优选为通过湿式涂布形成的层。由此，光学调整层的利用卷对卷法的形成成为可能，可以有助于削减制造成本。
从所述抗粘连层的隆起部的高度减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值优选比所述光学调整层的厚度大。通过采用这样的构成，可以防止通过湿式涂布形成光学调整层时的抗粘连层的隆起部的消失，能发挥出利用卷对卷法的生产时所要求的抗粘连性。
双面透明导电性膜的雾度优选5％以下。由此，可以发挥出高透明性、确保良好的可视性。
优选所述透明导电层已被图案化，对于该双面透明导电性膜，该透明导电层优选具有形成图案的图案形成部和除去了该透明导电层的图案开口部。通过将透明导电层具体地图案化，可以特别适宜地应用于静电容量式触控面板。
将该双面透明导电性膜的透明导电层图案化，对其以俯视方式透视时，两面的图案形成部重叠的双面图案区域的反射率、与一个面为图案形成部且另一个面为图案开口部的单面图案区域的反射率之差的绝对值优选为1％以下。由此，基于图案的有无引起的可视性之差的图案观察被抑制，可以获得外观更好的双面透明导电性膜。
所述双面图案区域的反射色调b*优选满足-10≤b*≤0。由此，可以有效抑制双面透明导电性膜中的色调(特别是黄色调)的产生。
所述基材膜优选含有环烯烃系树脂。由此，可以使该双面透明导电性膜的透明性进一步提高、实现良好的外观。
在本发明中，该双面透明导电性膜的长尺寸体也包括卷绕为卷筒状的双面透明导电性膜卷绕体。
在本发明中，也包括具备该双面透明导电性膜的触控面板。
附图说明
图1是本发明的一个实施方式所涉及的双面透明导电性膜的剖面示意图。
图2是本发明的其他实施方式所涉及的双面透明导电性膜的剖面示意图。
图3是示意性地示出透明导电层的图案的一例的部分透视俯视图。
符号说明
1 基材膜
2a、2b 抗粘连层
3a、3b 光学调整层
4a、4b 透明导电层
5 粒子
10 双面透明导电性膜
21 平坦部
22 隆起部
31 平坦部
32 隆起部
O 图案开口部
P 图案形成部
TA 抗粘连层的厚度
TO 光学调整层的厚度
X 双面图案区域
Y1、Y2 单面图案区域
具体实施方式
对于本发明的一个实施方式，参照附图说明如下。需要说明的是，附图中显示的形态并非实际尺寸比，为了便于说明，有局部放大或缩小来显示的部位。另外，表示本说明书中的上下左右、正反等位置关系的用语只是用于便于说明的用语，都没有限定实际的具体构成的位置关系的意图。
<双面透明导电性膜>
图1是示意性地表示本发明的双面透明导电性膜的一个实施方式的剖面图。双面透明导电性膜10中，在基材膜1的两面依次形成有含有粒子5的抗粘连层2a、2b(以下，也将两者统称为“抗粘连层2”。)、光学调整层3a、3b(以下，也将两者统称为“光学调整层3”。)及透明导电层4a、4b(以下，也将两者统称为“透明导电层4”。)。图1中虽然在基材膜1的两面形成有抗粘连层2a、2b，但也可以仅在基材膜1的上面侧或下面侧中任一侧形成抗粘连层。需要说明的是，关于抗粘连层2、光学调整层3及透明导电层4的构成，由于也可以在另一个面侧采用与基材膜1的一个面侧的构成同样的构成，因此以下主要对图1的基材膜1的上面侧的构成进行说明。
抗粘连层2a在表面具有平坦部21及隆起部22。隆起部22由粒子5形成。此处，双面透明导电性膜10中，从粒子5的最频粒径d减去抗粘连层2a的平坦部21的厚度TA而得的值比光学调整层3a的厚度TO大。通过湿式涂布形成光学调整层3a时，抗粘连层2a的平坦部21被光学调整层3a掩埋，隆起部22的高度相对降低，有时抗粘连性消失。双面透明导电性膜10中，由于粒子5的最频粒径d、平坦部21的厚度TA及光学调整层3a的厚度TO以满足特定的关系的方式形成，因此通过湿式涂布形成光学调整层3a时也可以防止抗粘连层2a的隆起部22消失。其结果是，在光学调整层3a的表面也可以使起因于隆起部22的隆起产生，可以发挥良好的抗粘连性。需要说明的是，图1中，虽然图示出具有最频粒径d的粒子5，但只要不损害本发明的作用效果，抗粘连层2a就可以含有具有最频粒径d以外的粒径的粒子5。
双面透明导电性膜10中，通常，将抗粘连层2a的厚度设为微米级，与此相对，将光学调整层3a及透明导电层4a的各厚度设得较薄，为纳米级，因此作为最外表面层的透明导电层4a追随光学调整层3a的隆起而变得具有隆起。图1中的基材膜1的下面侧也同样。
虽然双面透明导电性膜的雾度只要能确保所要求的透明性就没有特别限定，但优选5％以下，更优选4％以下，进一步优选3％以下。需要说明的是，虽然雾度的下限优选0％，但由于最外表面层的隆起部等的存在，一般多为0.3％以上。
<基材膜>
作为基材膜1，虽然没有特别限制，但可以使用具有透明性的各种塑料膜。例如，作为其材料，可举出聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、聚降冰片烯系树脂等聚环烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。它们之中优选环烯烃系树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚烯烃系树脂，特别优选环烯烃系树脂。
基材膜1的厚度优选为2～200μm的范围内，更优选为20～180μm的范围内。若基材膜1的厚度低于2μm，则基材膜1的机械强度不足，有时难以实现将膜基材制成卷筒状而连续形成光学调整层3及透明导电层4的操作。另一方面，若厚度超过200μm，则有时不能实现透明导电层4的耐擦伤性、作为触控面板用的手指操作特性(打点特性)的提高。
可以对基材膜1在表面预先实施溅射、等离子体处理、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化成、氧化等蚀刻处理、底涂处理，使其与在膜基材上形成的抗粘连层、光学调整层等的密合性提高。另外，在形成抗粘连层、光学调整层前，可以根据需要通过溶剂清洗、超声波清洗等对膜基材表面进行除尘、清洁化。
<抗粘连层>
抗粘连层2如上所述，在表面具有平坦部21和隆起部22。隆起部22由抗粘连层2中所含的粒子5形成。隆起部22的高度优选比光学调整层3的厚度TO大，具体而言，以平坦部21为基准，优选100nm以上且3μm以下，更优选200nm以上且2μm以下，进一步优选300nm以上且1.5μm以下。通过将隆起部22的高度设定为上述范围，可以对最外表面层(图1中透明导电层4)赋予规定的隆起部，其结果是，可以在满足双面透明导电性膜10的抗粘连性的同时，充分降低波动(バラツキ)，且充分抑制雾度的上升。
抗粘连层2的平坦部21的厚度虽然没有特别限定，但优选200nm以上且30μm以下，更优选500nm以上且10μm以下，进一步优选800nm以上且5μm以下。若抗粘连层的平坦部的厚度过小，则不能抑制低聚物等低分子量成分从基材膜析出，双面透明导电性膜、使用了其的触控面板的可视性有恶化的倾向。另一方面，若抗粘连层的平坦部的厚度过大，则由于在透明导电层的结晶化时、触控面板的组装时的加热，双面透明导电性膜有以抗粘连层形成面为内侧地进行卷曲的倾向。因此，抗粘连层的平坦部的厚度大时，由于与抗粘连性、易滑性不同的其他问题，膜的操作性有变差的倾向。需要说明的是，本说明书中，抗粘连层的平坦部的厚度是指抗粘连层的平坦部的平均厚度。
粒子的最频粒径可以考虑最外表面层的隆起部的尺寸、与抗粘连层2的平坦部21的厚度的关系等适当设定，没有特别限定。需要说明的是，从对双面透明导电性膜充分赋予抗粘连性，且充分抑制雾度的上升的观点考虑，粒子的最频粒径优选500nm以上且30μm以下，更优选800nm以上且20μm以下，进一步优选1μm以上且10μm以下。需要说明的是，本说明书中，“最频粒径(最頻粒子径)”是指表示粒子分布的极大值的粒径，通过使用流动式粒子图像分析装置(Sysmex公司制，产品名“FPTA-3000S”)，在规定条件下(鞘液：乙酸乙酯，测定模式：HPF测定，测定方式：总计数)测定来求出。测定试样使用：用乙酸乙酯将粒子稀释至1.0重量％，使用超声波清洗机使其均匀分散而成的试样。
粒子可以是多分散粒子及单分散粒子的任一种，但若考虑隆起部的赋予的容易性、防波动性，则优选单分散粒子。单分散粒子的情况下，可将粒子的粒径和最频粒径视为实质相同。
相对于树脂组合物的固体成分100重量份，抗粘连层中的粒子的含量优选0.01～5重量份，更优选0.02～1重量份，进一步优选0.05～0.5重量份。若抗粘连层中的粒子的含量小，则有变得难以为对抗粘连层的表面赋予抗粘连性而形成充分的隆起部的倾向。另一方面，若粒子的含量过大，则由于粒子的光散射而有双面透明导电性膜的雾度变高、可视性降低的倾向。另外，若粒子的含量过大，则在抗粘连层的形成时(溶液的涂布时)产生条纹，有时可视性受损、或导电性层的电特性变得不均匀。
(树脂组合物)
作为形成抗粘连层2的树脂组合物，只要能进行粒子的分散、作为抗粘连层形成后的被膜具有充分的强度、有透明性，就可以没有特别限制地使用。作为使用的树脂，可举出热固型树脂、热塑型树脂、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂、二液混合型树脂等，但其中，优选可以通过利用紫外线照射的固化处理，以简单的加工操作有效地形成光扩散层的紫外线固化型树脂。
作为紫外线固化型树脂，可举出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、酰胺系、硅酮系、环氧系等各种树脂，包括紫外线固化型的单体、低聚物、聚合物等。优选使用的紫外线固化型树脂可举出例如具有紫外线聚合性的官能团的树脂，尤其是包含具有2个以上该官能团、特别是具有3～6个该官能团的丙烯酸系的单体、低聚物成分的树脂。另外，在紫外线固化型树脂中配合有紫外线聚合引发剂。
在树脂层的形成材料中，除了所述材料以外，还可以使用流平剂、触变剂、抗静电剂等添加剂。若使用触变剂，则有利于在微细凹凸形状表面形成突出粒子。作为触变剂，可举出0.1μm以下的二氧化硅、云母等。这些添加剂的含量通常相对于紫外线固化型树脂100重量份适合为15重量份以下左右、优选设为0.01～15重量份。
(粒子)
作为抗粘连层2中含有的粒子，可以没有特别限制地使用各种金属氧化物、玻璃、塑料等具有透明性的粒子。可举出例如二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锆、氧化钙等无机系粒子；包含聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸系树脂、丙烯酸-苯乙烯共聚物、苯并胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各种聚合物的交联或未交联的有机系粒子、硅酮系粒子等。所述粒子可以适当地选择1种或两种以上来使用，但优选有机系粒子。作为有机系粒子，从折射率的观点考虑，优选丙烯酸系树脂。
(涂布组合物)
用于形成抗粘连层的涂布组合物包含上述的树脂、粒子及溶剂。另外，涂布组合物根据需要可以添加各种添加剂。作为这样的添加剂，可举出抗静电剂、增塑剂、表面活性剂、抗氧化剂及紫外线吸收剂等常用的添加剂。
涂布组合物通过将上述树脂及粒子与根据需要的溶剂、添加剂、催化剂等混合来制备。涂布组合物中的溶剂没有特别限定，考虑使用的树脂、成为涂饰的基底的部分的材质及组合物的涂饰方法等来适当选择。作为溶剂的具体例，可举出例如甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂；甲乙酮、丙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；二乙醚、异丙醚、四氢呋喃、二噁烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚、苯甲醚、苯乙醚等醚系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异丙酯、乙二醇二乙酸酯等酯系溶剂；二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等溶纤剂系溶剂；甲醇、乙醇、丙醇等醇系溶剂；二氯甲烷、氯仿等卤素系溶剂；等。这些溶剂可以单独使用，或将两种以上组合使用。这些溶剂之中，优选使用酯系溶剂、醚系溶剂、醇系溶剂及酮系溶剂。
在涂布组合物中，优选将粒子分散在溶液中。作为使粒子分散在溶液中的方法，可以采用在树脂组合物溶液中添加粒子并混合的方法、将预先分散在溶剂中的粒子添加到树脂组合物溶液中的方法等各种公知的方法。
涂布组合物的固体成分浓度优选1重量％～70重量％，更优选2重量％～50重量％，最优选5重量％～40重量％。若固体成分浓度变得过低，则有时在涂布后的干燥工序中抗粘连层表面的隆起部的波动变大，抗粘连层表面的隆起部变大的部分的雾度上升。另一方面，若固体成分浓度变得过大，则含有成分变得易凝聚，其结果是，有时凝聚部分显现而损害双面透明导电性膜的外观。
(涂布及固化)
抗粘连层通过在基材上涂布上述涂布组合物而形成。本实施方式中，在基材的两面进行向基材膜1上的涂布组合物的涂布。需要说明的是，涂布组合物可以直接在基材膜1上进行涂布，也可以在形成在基材膜1上的中间涂层等上进行涂布。
涂布组合物的涂布方法可以根据涂布组合物及涂饰工序的状况适当选择，可以通过例如浸涂法、气刀涂布法、帘涂法、辊涂法、线棒涂布法、凹版涂布法、模缝涂布法或挤出涂布法等来涂布。
将涂布组合物涂布后使涂膜固化，由此可以形成抗粘连层。树脂组合物为光固化性时，可以通过使用发出根据需要的波长的光的光源来照射光，使其固化。作为照射的光，可使用例如曝光量150mJ/cm2以上的光，优选200mJ/cm2～1000J/cm2的光。另外该照射光的波长没有特别限定，但可以使用具有例如380nm以下的波长的照射光等。需要说明的是，可以在光固化处理时或光固化处理后进行加热。
可以对抗粘连层2在表面预先实施溅射、等离子体处理、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化成、氧化等蚀刻处理、底涂处理，使其与在抗粘连层上形成的光学调整层等的密合性提高。另外，在形成光学调整层前，可以根据需要通过溶剂清洗、超声波清洗等对抗粘连层表面除尘、清洁化。
<光学调整层>
在本实施方式的双面透明导电性膜10中，在抗粘连层2与透明导电层4之间，出于控制透明导电层的密合性、反射特性等的目的而设置有光学调整层3。光学调整层可以设置1层，也可以设置两层或两层以上。光学调整层可以用无机物、有机物或无机物与有机物的混合物形成。作为形成光学调整层的材料，可举出NaF、Na3AlF6、LiF、MgF2、CaF2、SiO2、LaF3、CeF3、Al2O3、TiO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、ZnS、SiOx(x为1.5以上且低于2)等无机物；丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、硅氧烷系聚合物等有机物。特别是作为有机物，优选使用包含三聚氰胺树脂、醇酸树脂和有机硅烷缩合物的混合物的热固型树脂。光学调整层可以使用上述材料，通过凹版涂布法、棒涂法等涂敷法等形成。优选像这样通过涂敷法形成至少1层光学调整层，但形成两层以上光学调整层时，除了上述的涂敷法以外，也可以通过真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等形成光学调整层。
光学调整层3的厚度可以考虑图案形成部与图案开口部的反射率差、膜的色调等适当设定。光学调整层3的厚度优选50nm～300nm。特别是光学调整层的折射率为1.58以上且1.64以下时，光学调整层的厚度优选50nm以上且150nm以下，光学调整层的折射率为1.65以上且1.7以下时，优选80nm以上且300nm以下。另外，形成两层光学调整层时，基材膜侧的第1光学调整层的厚度优选10nm～60nm，透明导电层(ITO膜)侧的第2光学调整层的厚度优选10nm～60nm。进一步，形成两层光学调整层时，上述第1光学调整层的折射率优选1.6～1.8，上述第2光学调整层的折射率优选1.3～1.6。通过考虑光学调整层的厚度、以及折射率，可以有效抑制图案形成部与图案开口部的反射率差、膜的色调。另外，若光学调整层以这样的纳米级的厚度形成，则光学调整层的透明导电层4侧的表面大体上维持作为其基底层的抗粘连层2表面的隆起形状。而且，透明导电层4的表面也维持其隆起形状，因此可以制成具有抗粘连性的双面透明导电性膜。
光学调整层可以具有平均粒径为1nm～500nm的纳米微粒。光学调整层中的纳米微粒的含量优选0.1重量％～90重量％。光学调整层中所用的纳米微粒的平均粒径如上所述优选1nm～500nm的范围，更优选5nm～100nm。另外，光学调整层中的纳米微粒的含量更优选10重量％～80重量％，进一步优选20重量％～70重量％。通过在光学调整层中含有纳米微粒，可以容易地调整光学调整层本身的折射率。
作为形成纳米微粒的无机氧化物，可举出例如氧化硅(二氧化硅)、中空纳米二氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆等的微粒。它们之中，优选氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆的微粒。它们可以单独使用1种，也可以两种以上并用。
<透明导电层>
透明导电层4的构成材料没有特别限定，可适宜使用选自由铟、锡、锌、镓、锑、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨构成的组中的至少1种金属的金属氧化物。该金属氧化物中，根据需要可以进一步含有上述组所示的金属原子。优选使用例如含有氧化锡的氧化铟(ITO)、含有锑的氧化锡(ATO)等。
透明导电层4的厚度没有特别限制，为了制成其表面电阻为1×103Ω/□以下的具有良好的导电性的连续覆膜，优选使厚度为10nm以上。膜厚过厚时，会造成透明性降低等，因此，优选为15～35nm、更优选在20～30nm的范围内。透明导电层4的厚度不足15nm时，膜表面的电阻变高，并且难以成为连续覆膜。另外，透明导电层4的厚度超过35nm时，有时会造成透明性降低等。
作为透明导电层4的折射率，在透明导电层4被图案化时，从除了抑制图案形成部P与图案开口部O(参照图2)的反射率差，而且抑制两者的色调的差的观点考虑，透明导电层4的折射率优选1.85～2.1左右。
透明导电层4的形成方法没有特别限定，可采用以往公知的方法。具体而言，例如可例示出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干法。另外，也可以根据所需的膜厚采用适宜的方法。需要说明的是，如果透明导电层4通过溅射法等干法形成，则如图1所示，透明导电层4的表面大体上维持作为其底层的抗粘连层2a(及光学调整层3)表面的平坦部及隆起部的形状。因此，抗粘连层2上形成有光学调整层3及透明导电层4的情况下，也可以适宜地对透明导电层4表面赋予抗粘连性。
根据需要，透明导电层4可以实施加热退火处理(例如，在大气气氛下，在80～150℃下进行30～90分钟左右)进行结晶化。通过将透明导电层结晶化，透明导电层低电阻化并且透明性和耐久性提高。通过将双面透明导电性膜10中抗粘连层2a的厚度设为上述范围，加热退火处理时也可以抑制卷曲的发生，处理性优异。
如图2及3所示，透明导电层4可以通过蚀刻等而图案化。图2示出透明导电层4被图案化后的双面透明导电性膜10。其中，为了便于说明，在图2中，省略抗粘连层2中所含的粒子及由其造成的隆起部，各层的厚度与图1所示的样子不同。图2所示的双面透明导电性膜具有透明导电层4形成图案的图案形成部P和透明导电层4被除去后的图案开口部O。在静电容量式触控面板、矩阵式的电阻膜式的触控面板中所用的双面透明导电性膜中，如图3所示，优选透明导电层4a、4b以条纹状图案化，优选形成透明导电层4a、4b相互正交的棋盘格状矩阵图案。需要说明的是，在图3中，图示了图案形成部P的宽度比图案开口部O的宽度大，但本发明并不限于该形态。
如图2及3所示，双面透明导电性膜10的透明导电层4a、4b被图案化时，根据图案形状，以俯视方式透视双面透明导电性膜10时，有时存在两面的图案形成部重叠的双面图案区域X、和一个面为图案形成部且另一个面为图案开口部的单面图案区域Y(Y1及Y2)。此时，双面图案区域X的反射率与单面图案区域Y的反射率之差ΔR的绝对值优选1％以下，更优选0.5％以下。另外，双面图案区域X的反射色调b*优选满足-10≤b*≤0，更优选满足-8≤b*≤0，特别优选满足-5≤b*≤0。通过将反射率差ΔR的绝对值、反射色调b*设为上述范围内，可以抑制图案观察及色调(特别是黄色调)的发生、获得外观更良好的透明导电性膜。
需要说明的是，本说明书中，“反射率”表示CIE表色系统的D65光源的视感反射率Y。另外，“色调”是JIS Z8729中规定的L*a*b*表色系统中的D65光源的L*值、a*值、b*值，“反射色调”是由反射光求出的色调。
一般而言，透明导电层由金属氧化物形成，因此折射率高，表面的反射率高。因此，在图案形成部P与图案开口部O之间产生反射率差，有图案变得易辨认的倾向。与此相对，本发明中，通过在正反面的基材膜1与透明导电层4之间分别设置光学调整层，通过界面多重反射，通过干涉消除透明导电层表面的反射光，图案形成部P的反射率降低。因此，图案形成部P与图案开口部O的反射率差降低，图案变得难以辨认。
<双面透明导电性膜卷绕体>
本实施方式中，可以将双面透明导电性膜10制成长尺寸体，可以制成将其以卷筒状卷绕而成的双面透明导电性膜卷绕体。双面透明导电性膜的长尺寸片的卷绕体能如下形成：使用长尺寸片的卷筒状卷绕体作为基材膜，将上述的抗粘连层、光学调整层及透明导电层都通过卷对卷法来形成。在形成这样的卷绕体时，可以在双面透明导电性膜的表面贴合具备弱粘合层的保护膜(隔片)后，卷绕成卷筒状，但本实施方式的双面透明导电性膜由于改善了抗粘连性，因此即时不使用保护膜也能形成双面透明导电性膜的长尺寸片的卷绕体。即，通过赋予了抗粘连性，可以抑制操作时在膜表面的伤痕的发生，同时膜的卷绕性优异，因此即使不在表面贴合保护膜，也容易得到将长尺寸片卷绕成卷筒状而成的卷绕体。像这样，由于本实施方式的双面透明导电性膜能够不使用保护膜而形成长尺寸片的卷绕体，因此用于之后的触控面板的形成等时的作业性优异。另外，由于不需要作为工序构件的保护膜，因此也能有助于成本削减、废弃物减少。
<触控面板>
双面透明导电性膜10可适宜地用于例如静电容量式、电阻膜式等触控面板。特别是在透明导电层被图案化时，也可以将图案形成部与图案开口部的可视性之差，特别是反射率之差抑制得较小，因此可适宜地用于像投影型静电容量式触控面板、能多点输入的电阻膜式的触控面板那样，具备被图案化为规定形状的透明导电层的触控面板。
在触控面板的形成时，在双面透明导电性膜的一侧或两侧的主面可以利用透明的粘合剂层贴合玻璃、高分子膜等其他基材等。透明基体可以由1张基体膜构成，也可以是两张以上的基体膜的层叠体(例如利用透明的粘合剂层层叠而成的层叠体)。另外，也可以在贴合于双面透明导电性膜的透明基体的外表面设置硬质涂层。
作为在双面透明导电性膜与基材的贴合中所用的粘合剂层，只要具有透明性就可以没有特别限制地使用。具体而言，可以适宜地选择例如以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃、环氧系、氟系、天然橡胶、合成橡胶等橡胶系等聚合物为基础聚合物的物质来使用。特别是从光学的透明性优异，显示出适度的润湿性、凝聚性及粘接性等粘合特性，耐候性、耐热性等也优异方面考虑，优选使用丙烯酸系粘合剂。
将上述的本发明的双面透明导电性膜用于触控面板的形成时，触控面板形成时的处理性优异。因此，能生产率高地制造透明性及可视性优异的触控面板。
实施例
以下，利用实施例对本发明进行详细地说明，但只要不脱离其要旨，本发明就不限于以下的实施例。实施例中，除非另行说明，“份”是指“重量份”。
[实施例1]
准备含有最频粒径1.3μm的多个单分散粒子(综研化学公司制，商品名“SX-130H”)和粘结剂树脂(DIC公司制，商品名“UNIDIC”RS29-120)，且以乙酸乙酯为溶剂的涂布组合物。相对于粘结剂树脂100份，粒子的添加份数为0.2份。接着，使用凹版涂布机在厚度100μm(日本瑞翁公司制，商品名“Zeonor”)的长尺寸基材膜的两面以干燥后的厚度为1.0μm的方式涂布涂布组合物，通过在80℃加热1分钟而使涂膜干燥。之后，通过用高压汞灯照射累积光量250mJ/cm2的紫外线，形成抗粘连层。
接着，用凹版涂布机在双面的抗粘连层的表面涂布折射率调整剂(JSR公司制，商品名“Opstar Z7412”)，通过在60℃加热1分钟而使涂膜干燥。之后，通过用高压汞灯照射累积光量250mJ/cm2的紫外线来实施固化处理，以厚度100nm(0.1μm)在两面形成折射率1.62的光学调整层。
之后，将具有抗粘连层及光学调整层的长尺寸基材投入卷绕式溅射装置，在两面的光学调整层的表面层叠厚度26nm的铟·锡氧化物层(由氩气98％和氧气2％构成的0.4Pa的气氛中，使用了由氧化铟97重量％-氧化锡3重量％构成的烧结体的溅射)作为透明导电层。此时，上述光学调整层、透明导电层以沿着上述抗粘连层的平坦部及隆起部的方式层叠。由此制作了双面透明导电性膜。
所得的双面透明导电性膜的层叠构成为透明导电层/光学调整层/抗粘连层/基材膜/抗粘连层/光学调整层/透明导电层。在表1中，示出粒子的最频粒径d、抗粘连层的厚度TA、光学调整层的厚度TO、从粒子的最频粒径d减去抗粘连层的厚度TA后的值(d-TA)。在后面叙述最频粒径及厚度的测定方法。
[实施例2]
使用最频粒径1.5μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“XX184AA”)作为粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.3份，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例3]
使用最频粒径1.9μm的单分散粒子(综研化学公司制，商品名“MX-180TA”)作为粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.2份，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例4]
使用最频粒径2.0μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“XX134AA”)作为粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.2份，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例5]
使用最频粒径2.5μm的单分散粒子(日本触媒公司制，商品名“KEP-250”)作为粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.4份，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例6]
使用最频粒径3.0μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“XX133AA”)作为粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.08份，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例7]
在基材膜的一个面形成抗粘连层，接着，在涂布于另一个面的涂布组合物中不添加粒子，将抗粘连层作为硬质涂层形成，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。所得的双面透明导电性膜的层叠构成为透明导电层/光学调整层/抗粘连层/基材膜/硬质涂层(无粒子)/光学调整层/透明导电层。
[实施例8]
使用最频粒径1.5μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“XX184AA”)作为抗粘连层用的粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.3份，除此以外，与实施例7同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例9]
使用最频粒径1.9μm的单分散粒子(综研化学公司制，商品名“MX-180TA”)作为抗粘连层用的粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.2份，除此以外，与实施例7同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例10]
使用最频粒径2.0μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“XX134AA”)作为抗粘连层用的粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.2份，除此以外，与实施例7同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例11]
使用最频粒径2.5μm的单分散粒子(日本触媒公司制，商品名“KEP-250”)作为抗粘连层用的粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.4份，除此以外，与实施例7同样地制作了双面透明导电性膜。
[实施例12]
使用最频粒径3.0μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“XX133AA”)作为抗粘连层用的粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为0.08份，除此以外，与实施例7同样地制作了双面透明导电性膜。
[比较例1]
使用最频粒径0.8μm的单分散粒子(积水化成品工业公司制，商品名“BMSA”)作为粒子，相对于粘结剂树脂100份将添加份数设为2份，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[比较例2]
在制备涂布组合物时，不添加粒子，使用相分离型树脂(日本立邦公司制，商品名“NAB-010”)作为粘结剂树脂，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[比较例3]
在制备涂布组合物时，不添加粒子，使用含二氧化硅纳米粒子(平均粒径为100nm的纳米粒子与平均粒径为10nm的纳米粒子的混合物)的树脂(触媒化成公司制，商品名“ELCOM NT-1125HSC”)作为粘结剂树脂，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
[评价]
对在实施例1～12及比较例1～3中得到的各双面透明导电性膜进行了下述的评价。将各评价结果示于表1。
<光学调整层的折射率>
准备上述光学调整层形成用的涂布液，依据JIS K7105测定其固化物的折射率，将其作为光学调整层的折射率。具体而言，用棒涂机在未处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下，称为PET膜。)上涂布形成用涂布液，在80℃使其干燥60分钟。接着，用高压汞灯照射0.6J/cm2的紫外线，使涂膜固化。将该操作重复两次，形成两层的固化膜层叠而成的固化物后，从PET膜上剥离固化物。用阿贝折射仪，使测定光(钠D线)入射并在25.0±1.0℃对所得的固化物测定4次，将测定值的平均作为光学调整层的折射率nD25。
<各层的厚度>
使用大塚电子(株)制的瞬时多重测光系统“MCPD2000”(商品名)，以在膜的宽度方向对等间隔的5点测定而得的干涉光谱的波形为基础而算出平均值，由此求出抗粘连层及硬质涂层的厚度。通过透射型电子显微镜(日立制作所制，HF-7650)进行剖面观察来测定光学调整层及透明导电层的厚度。
<粒子的最频粒径>
使用流动式粒子图像分析装置(Sysmex公司制，产品名“FPTA-3000S”)，在规定条件下(鞘液：乙酸乙酯，测定模式：HPF测定，测定方式：总计数)进行测定。用乙酸乙酯将粒子稀释至1.0重量％，用超声波清洗机使其均匀分散而制备测定试样。
<抗粘连性>
通过卷对卷法进行制造时，确认在任何工序中是否发生了膜彼此的贴附。将未发生膜彼此的贴附的情况评价为“○”，将发生了贴附的情况评价为“×”。同时，确认了任何工序中对膜的损伤的有无。将未对膜造成损伤的情况评价为“○”，将产生损伤的情况评价为“×”。
<雾度>
依据JIS K7136(2000年)的雾度(浊度)，用雾度计(村上色彩技术研究所公司制型号“HM-150”)测定了制作的双面透明导电性膜的雾度。
[表1]
在实施例所得的双面透明导电性膜中，抗粘连性良好，同时所有的样品的雾度都为3％以下，透明性也优异。另一方面，在比较例所得的双面透明导电性膜中，虽然雾度低，但在制造工序中发生膜的贴附、损伤，抗粘连性差。认为其是因为，起因于粒子的隆起部由于光学调整层的形成而消失，或未形成足够的隆起部。
[实施例13～27]
对于实施例13～25，使用表2所示的折射率调整剂(都为JSR公司制，表中为商品名)作为折射率调整剂，改变光学调整层的折射率，同时设为表2所示的光学调整层的厚度，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。对于实施例26及27，使用表4所示的折射率调整剂(都为JSR公司制，表中为商品名)作为折射率调整剂，在两面形成单侧两层的光学调整层(基材膜侧为第1光学调整层，ITO膜侧为第2光学调整层。)，同时设为表4所示的光学调整层的厚度，除此以外，与实施例1同样地制作了双面透明导电性膜。
接着，仅对基材膜的一个面侧的透明导电层进行图案化，形成了具有在基材膜的两面形成有透明导电层的双面图案区域和仅在基材膜的单面形成有透明导电层的单面图案区域的双面透明导电性膜。具体而言，从制作的双面透明导电性膜以100mm×100mm切割出样品，以在基材膜的一个面侧的透明导电层的半面(50mm×100mm)形成图案形成部，在另一半面形成图案开口部的方式在透明导电层的半面贴合玻璃带，在另一个面侧的透明导电层的整个面贴合玻璃带后，将其浸渍于50℃、10重量％的盐酸(氯化氢水溶液)10分钟，进行了透明导电层的蚀刻。之后，除去双面的玻璃带，在140℃进行90分钟的加热处理，使透明导电层结晶化，制作了仅一个面侧的透明导电层被图案化了的双面透明导电性膜。
[评价]
对实施例13～27中得到的各双面透明导电性膜进行了下述的评价。将各评价结果示于表2～5。
<图案外观(反射率差ΔR(Y值))及反射色调b*的评价>
对于仅将一个面侧的透明导电层图案化及结晶化而得的双面透明导电性膜，采用日立高新技术公司制的分光光度计“U-4100”(商品名)的积分球测定模式，测定光谱反射率(镜面反射率+扩散反射率)，通过计算求出D65光源/2°视场的全反射率(Y值)及反射色调b*。需要说明的是，就测定而言，在未图案化的透明导电层的表面贴合黑色的丙烯酸类树脂板而形成遮光层，在几乎没有来自样品的最背面的反射、来自背面侧的光的入射的状态下进行了测定。将评价结果示于表2及4。进一步，与上述同样，在未图案化的透明导电层侧形成遮光层后，以覆盖图案化后的透明导电层侧的图案形成部及图案开口部的方式在用粘合剂(日东电工公司制，商品名“LUCIACS(注册商标)CS96217”)贴合了厚度100μm的透明膜(日本瑞翁公司制，商品名“Zeonor”)的状态下进行了测定。
将评价结果示于表3及5。
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
根据表2的结果，在图案化了的透明导电层露出的状态下，光学调整层的折射率为1.62、厚度分别为100nm、115nm、125nm、130nm、135nm、140nm的实施例17～22中反射率差ΔR(Y值)及反射色调b*的结果都良好。另外，根据表3的结果，知道了：在用粘合剂及透明膜覆盖图案化了的透明导电层的状态下，光学调整层的折射率为1.655、厚度为135nm的实施例15、光学调整层的折射率为1.62、厚度分别为80nm、100nm、115nm、125nm、130nm、135nm、140nm的实施例16～22、光学调整层的折射率为1.6、厚度分别为100nm、120nm的实施例24及25的反射率差ΔR(Y值)及反射色调b*的结果都良好。根据这些结果可知，光学调整层的折射率为1.61～1.65时，从图案辨认的抑制及色调的产生的抑制的观点考虑而优选光学调整层的厚度为90～150nm左右。根据表4及5的结果，知道了：在实施例26及27的两面分别形成了两层光学调整层的状态下，反射率差ΔR(Y值)及反射色调b*的结果都良好。另外，若将实施例26及27与具有与它们同等的光学调整层的(总)厚度的实施例16或23比较，则不管图案状态是露出还是被覆盖，光学调整层为两层结构的实施例26及27尤其是在反射率差方面优异。进一步，与图案化了的透明导电层露出的状态比较，在用粘合剂及透明膜覆盖图案化了的透明导电层状态下，由于掩埋了最表层的图案形成部及图案开口部造成的凹凸，因此两者间的反射率差也被抑制，在广泛的层构成中得到了良好的结果。

Claims (11)

1.一种双面透明导电性膜，其中，
在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，
在所述基材膜与一侧所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧所述光学调整层之间中的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，
所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，
从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。
2.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，所述光学调整层的厚度为50nm～300nm。
3.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，所述光学调整层为通过湿式涂布形成的层。
4.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，从所述抗粘连层的隆起部的高度减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。
5.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其雾度为5％以下。
6.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，所述透明导电层已被图案化，该透明导电层具有形成图案的图案形成部和除去了该透明导电层的图案开口部。
7.根据权利要求6所述的双面透明导电性膜，其中，
以俯视方式透视时，两面的图案形成部重叠的双面图案区域的反射率、与一个面为图案形成部且另一个面为图案开口部的单面图案区域的反射率之差的绝对值为1％以下。
8.根据权利要求7所述的双面透明导电性膜，其中，所述双面图案区域的反射色调b*满足-10≤b*≤0。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的双面透明导电性膜，其中，所述基材膜含有环烯烃系树脂。
10.一种双面透明导电性膜卷绕体，其是将权利要求1～9中任一项所述的双面透明导电性膜的长尺寸体卷绕为卷筒状而得到的。
11.一种触控面板，其具备权利要求1～9中任一项所述的双面透明导电性膜。
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