WO2012176481A1 - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル - Google Patents

透明導電性フィルムおよびタッチパネル Download PDF

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WO2012176481A1
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桐本高代志
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東レフィルム加工株式会社
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    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the touch panel of the present invention is a touch panel provided with the transparent conductive film of the present invention.
  • the thickness of the base film is suitably in the range of 20 to 300 ⁇ m, preferably in the range of 50 to 250 ⁇ m, and more preferably in the range of 50 to 200 ⁇ m.
  • the range of ⁇ is preferably 450 to 650 nm. That is, the optical thickness of the first layer preferably satisfies the following relational expression 2. (450 nm / 4) ⁇ (n1 ⁇ d1) ⁇ (650 nm / 4) 113 nm ⁇ (n1 ⁇ d1) ⁇ 163 nm (Formula 2).
  • Biaxial stretching may be longitudinal, transverse sequential stretching, or simultaneous biaxial stretching, and may be re-stretched in either the longitudinal or transverse direction after longitudinal and transverse stretching.
  • thermosetting resin or an active energy ray curable resin is preferable, and an active energy ray curable resin is particularly preferable.
  • the content ratio of the resin component to the metal oxide in the composition preferably includes the metal oxide in the range of 50 to 900 parts by mass, and in the range of 100 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. Is more preferable.
  • the third layer has a refractive index (n3) of 1.50 or less.
  • the refractive index (n3) of the third layer is preferably 1.46 or less, more preferably 1.40 or less, and particularly preferably 1.38 or less.
  • the lower limit is preferably 1.25 or more, and more preferably 1.30 or more.
  • the third layer is preferably a thin film having a thickness (d3) of 50 nm or less.
  • the active layer is an active energy ray curable composition.
  • a composition containing an energy beam curable resin and a fluorine-containing compound is preferably used.
  • a fluorine-containing monomer and / or a fluorine-containing oligomer described later can be used as all or part of the active energy ray-curable resin.
  • fluorine-containing monomers and fluorine-containing oligomers examples include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2- (perfluorobutyl).
  • the transparent conductive film of the present invention is a patterned transparent conductive film. Other layers other than the transparent conductive film are not patterned.
  • Hard coat layer / first layer / base film / first layer / second layer / third layer / transparent conductive film (d) first layer / base film / first layer / hard coat layer / second layer / 3rd layer / transparent conductive film (e) hard coat layer / first layer / base film / first layer / hard coat layer / second layer / third layer / transparent conductive film
  • nt represents the refractive index of the transparent conductive film
  • n2 represents the refractive index of the second layer
  • nf represents the refractive index of the base film
  • n1 represents the refractive index of the first layer
  • n3 represents the refractive index of the third layer.
  • the transparent conductive film of the present invention can be used for transparent electrodes, antistatic films, electromagnetic wave shielding films, etc. in displays such as liquid crystal displays and electroluminescence displays, touch panels and the like.
  • the transparent conductive film of the present invention is suitable for a touch panel, and particularly suitable for a capacitive touch panel.
  • the transparent conductive film of the present invention includes, for example, an electrophoresis method, a twist ball method, a thermal rewritable method, a light writing liquid crystal method, a polymer dispersion type liquid crystal method, a guest / host liquid crystal method, a toner display method, and a chromism method. It can be used for flexible display elements such as field deposition.
  • the reflectance is determined by uniformly scratching the surface of the PET film opposite to the surface on which the transparent conductive film or SiO 2 film is laminated with # 320 to 400 water-resistant sandpaper, and then applying black paint (black magic ink ( (Registered Trademark) solution) is applied to completely eliminate reflection from the opposite surface, and the reflectance at 550 nm is measured using a spectrophotometer UV-3150 manufactured by Shimadzu Corporation.
  • black paint black magic ink (Registered Trademark) solution
  • Coating composition 1a for the first layer 100 parts by weight of a naphthalene ring-containing polyester resin, 5 parts by weight of a melamine-based crosslinking agent (methylol-type melamine-based crosslinking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), colloidal silica (Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) Manufactured “Snowtex OL”) in an aqueous dispersion containing 1 part by mass.
  • the refractive index of this coating composition was 1.58.
  • ⁇ Coating composition of the second layer> (Second layer coating composition 2a) 37 parts by mass of active energy ray-curable resin (10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 27 parts by mass of urethane acrylate), 60 parts by mass of zirconium oxide, and photopolymerization initiator (Irgacure (Ciba Specialty Chemicals) (Registered trademark) 184 ”)
  • Example 17 ⁇ Evaluation of Example 17>
  • the total of the optical thickness of the second layer, the optical thickness of the third layer, and the optical thickness of the SiO 2 film per one side of the base film was 135 nm.
  • This transparent conductive film (one provided only on one side and one provided on both sides) had a visibility of the transparent conductive film pattern of “A”.

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Abstract

　本発明の透明導電性フィルムは、屈折率が１．６１～１．７０の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が１．５０～１．６０で基材フィルム片面当たりの光学厚みが（１／４）λである第１層、屈折率が１．６１～１．８０である第２層、屈折率が１．５０以下である第３層、および屈折率が１．８１以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第１層の光学厚みと前記第２層の光学厚みの合計が（１／４）λである（但し、λは３８０～７８０ｎｍの範囲）。　本発明により、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルが提供される。

Description

透明導電性フィルムおよびタッチパネル
　本発明は、視認性の良好な透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルに関する。
　近年、タッチパネル用途等にポリエステルフィルム等の基材フィルム上に透明導電膜を設けた透明導電性フィルムが用いられている。透明導電膜としては酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜が一般的に用いられており、基材フィルム上にスパッタリング法や真空蒸着によって積層されている。
　タッチパネルの動作方式として、抵抗膜式が主流であるが、近年、静電容量式が急速に拡大している。抵抗膜式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、一般的にパターン化されていない透明導電膜（基材上を一面に覆う透明導電性膜）で構成されている。一方、静電容量式タッチパネルには、通常、パターン化された透明導電膜が積層された透明導電性フィルムが用いられている。
　静電容量式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、通常、フォトリソエッチング等によって透明導電膜がパターン化されており、平面視上透明導電膜のパターン部と非パターン部が存在する。
　このような透明導電膜がパターン化された透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルは、透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」という現象が問題となっている。この「骨見え」現象は表示装置としての品質を低下させる。
　透明導電膜パターンの骨見えを抑制することが提案されている（例えば特許文献１～６）。
特開２０１１－８４０７５号公報 特開２０１０－２２８２９５号公報 特開２００９－７６４３２号公報 特開２００６－３０１５１０号公報 特許第４６６１９９５号公報 特許第４３６４９３８号公報
　しかしながら、特許文献１～６に開示されている技術では、透明導電膜パターンの骨見えの抑制効果が十分に満足するまでに至らない。特に、静電容量式のタッチパネルにおいては、透明導電膜が光の入射表面側に用いられているため、上記の骨見え現象は表示装置としての品質を低下させることから、更なる改善が求められている。
　従って、本発明の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを備えたタッチパネルを提供することにある。
　上記課題を達成できる本発明の透明導電性フィルムは、屈折率が１．６１～１．７０の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が１．５０～１．６０で基材フィルム片面当たりの光学厚みが（１／４）λである第１層、屈折率が１．６１～１．８０である第２層、屈折率が１．５０以下である第３層、および屈折率が１．８１以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第２層の光学厚みと前記第３層の光学厚みの合計が（１／４）λの透明導電性フィルムである。
但し、λは３８０～７８０ｎｍである。
　また、本発明のタッチパネルは、本発明の透明導線性フィルムを備えたタッチパネルである。
　本発明によれば、骨見え現象が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することができる。本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適に用いられ、特に静電容量式のタッチパネルに好適に用いられる。
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの片面もしくは両面に第１層、第２層、第３層、および透明導電膜がこの順に設けられている。
　本発明において、第１層、第２層、第３層、透明導電膜、及び必要に応じて設けられるＳｉＯ２膜やハードコート層は、基材フィルムの片面にのみ設けられる態様、および両面に設けられる態様が含まれる。
　以下、本発明の透明導電性フィルムを構成するそれぞれの構成要素について詳細に説明する。
　［基材フィルム］
　本発明の基材フィルムは、その屈折率（ｎｆ）が１．６１～１．７０である。このような基材フィルムとしては、ポリエステルフィルムが好ましく用いられ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく用いられる。
　基材フィルムの屈折率（ｎｆ）は、１．６２～１．６９の範囲が好ましく、１．６３～１．６８の範囲がさらに好ましく、１．６４～１．６７の範囲が特に好ましい。
　基材フィルムの厚みは、２０～３００μｍの範囲が適当であり、５０～２５０μｍの範囲が好ましく、５０～２００μｍの範囲がより好ましい。
　［第１層］
　本発明の第１層は、その屈折率（ｎ１）が１．５０～１．６０の範囲である。第１層の屈折率（ｎ１）は、１．５１～１．６０の範囲が好ましく、１．５２～１．５９の範囲がより好ましく、１．５５～１．５９の範囲が特に好ましい。
　第１層の基材フィルム片面当たりの光学厚みは、（１／４）λを満足することが重要である。ここで、基材フィルム片面当たりの光学厚みは、第１層の屈折率（ｎ１）と基材フィルム片面当たりの厚み（ｄ１）との積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍを意味する。第１層の厚み（ｄ１）の単位はｎｍである。本発明において、光学厚みの単位はｎｍで小数点以下を四捨五入した値である。
　すなわち、第１層の光学厚みは以下の関係式１を満足する必要がある。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）≦１９５ｎｍ　・・・（式１）
　つまり、第１層の屈折率が１．５０の場合、厚みｄ１は６３～１３０ｎｍの範囲となり、第１層の屈折率が１．６０の場合、厚みｄ１は５９～１２２ｎｍの範囲となる。
　さらに、λの範囲は４５０～６５０ｎｍであることが好ましい。つまり、第１層の光学厚みは以下の関係式２を満足することが好ましい。
（４５０ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）≦（６５０ｎｍ／４）
　　　　１１３ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）≦１６３ｎｍ　・・・（式２）。
　またさらに、λの範囲は５００～６００ｎｍであることがさらに好ましい。つまり、第１層の光学厚みは以下の関係式３を満足することがさらに好ましい。
（５００ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）≦（６００ｎｍ／４）　
　　　　１２５ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）≦１５０ｎｍ　・・・（式３）。
　第１層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、第１層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが特に好ましく、８０質量％以上含むことが最も好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、特に９５質量％以下が好ましい。
　このような樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。
　第１層は、後述する易接着機能を第１層に付与するという観点から、架橋剤を含有することが好ましい。このような架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
　第１層における架橋剤の含有量は、第１層の固形分総量１００質量％に対して、１～４０質量％の範囲が好ましく、３～３５質量％の範囲がより好ましく、５～３０質量％の範囲が特に好ましい。
　第１層は、さらに易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばコロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラック、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
　第１層における粒子の含有量は、第１層の固形分総量１００質量％に対して０．０５～８質量％の範囲が好ましく、０．１～５質量％の範囲がより好ましい。
　第１層は易接着層としての機能を有していることが好ましい。つまり、第１層は、基材フィルムと第１層より上方の層（例えば第２層、第３層、および透明導電膜）との密着性（接着性）を強化するための易接着層としての役目を有していることが好ましい。従って、第１層は基材フィルム上に直接に設けられていることが好ましい。
　第１層は、基材フィルム上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に第１層を基材フィルムの製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム上に第１層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
　上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
　上述のインラインコーティング法について、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）フィルムを用いた態様について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
　ＰＥＴフィルムの原料である極限粘度０．５～０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥する。真空乾燥したペレットを押し出し機に供給し２６０～３００℃で溶融する。溶融したＰＥＴポリマーをＴ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０～６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化して未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０～１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、その表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上にする。その処理面に第１層の塗布液を塗布する。
　次に、塗布液が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥する。引き続きＴｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度でフィルムを乾燥する。引き続き連続的に７０～１５０℃の加熱ゾーンでフィルムを横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。引き続き１８０～２４０℃の加熱ゾーンでフィルムに５～４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルムに第１層が積層されたＰＥＴフィルムが得られる。尚、上記熱処理中に必要に応じて３～１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。
　［第２層］
　第２層は、その屈折率（ｎ２）が１．６１～１．８０である。第２層の屈折率（ｎ２）は、１．６３～１．７９の範囲が好ましく、１．６５～１．７８の範囲がより好ましく、１．６５～１．７５の範囲が特に好ましい。
　第２層の基材フィルム片面当たりの厚み（ｄ２）は、２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。上限は８０ｎｍ以下が好ましく、７０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下が特に好ましく、５０ｎｍ以下が最も好ましい。
　第２層は、樹脂と金属酸化物を含む層、高屈折率樹脂を含む層、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層であることが好ましく、特に樹脂と金属酸化物を含む層であることが好ましい。
　さらに第２層は、樹脂と金属酸化物を含む組成物、高屈折率樹脂を含む組成物、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。特に、樹脂と金属酸化物を含む組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
　以下、樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物について説明する。
　樹脂成分としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。
　このような活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂であり、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが好ましく用いられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。
　上記モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
　上記オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
　上記した、モノマーやオリゴマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることが好ましい。
　金属酸化物としては、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子が好ましく、特に屈折率が１．７～２．８の金属酸化物微粒子が好ましく用いられる。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに第２層の屈折率を高めることができるので好ましい。
　組成物における金属酸化物の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましく、５５質量％以上が最も好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
　組成物における樹脂成分と金属酸化物との含有比率は、樹脂成分１００質量部に対して金属酸化物を５０～９００質量部の範囲で含むことが好ましく、１００～８００質量部の範囲で含むことがさらに好ましい。
　組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。このような光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
　上記光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物について説明する。
　高屈折率樹脂としては、フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂、ヨウ素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。これらの樹脂は透明性を有するものであればよく、公知または市販のものを使用することができ、また他の樹脂との併用も可能である。
　フッ素以外のハロゲン原子、例えば臭素原子、塩素原子を含む樹脂としては、臭素化アクリル樹脂、臭素化ウレタン樹脂、臭素化ポリエステル樹脂、臭素化ポリエーテル樹脂、臭素化エポキシ樹脂、臭素化スピロアセタール樹脂、臭素化ポリブタジエン樹脂、臭素化ポリチオールポリエン樹脂、塩素化アクリル樹脂、塩素化ウレタン樹脂、塩素化ポリエステル樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂、塩素化エポキシ樹脂等を用いることができる。臭素原子を含む樹脂の原料成分としては、例えばアクリレートのフェニル基のオルト・パラ位をブロモ化した化合物を用いることができる。これは、市販品としては例えば第一工業製薬社製のＢＲ－４２を用いることができる。その他の市販品としては第一工業製薬社製のＢＲ－４２Ｍ、ＢＲ－３０Ｍ、ＢＲ－３１等、ダイセル・サイテック社製のＲＤＸ５１０２７等を用いることができる。また塩素原子を含む樹脂としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルメタクリレートのベンジルクロライド塩などを用いることができ、これらを２種以上混合して用いてもよい。
　硫黄原子を含む樹脂としては、例えばＳ，Ｓ’－エチレンビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［チオビス（ジエチレンスルフィド）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（オキシジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。ここでチオ（メタ）アクリレートとはチオメタクリレートおよびチオアクリレートを示す。
これらの中でもＳ，Ｓ’－エチレンビス（チオメタクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）が好適に用いられる。Ｓ，Ｓ’－エチレンビス（チオメタクリレート）は、１，２－エタンジチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる１，２－エタンジチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。またＳ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）は日本触媒社製の商品名Ｓ２ＥＧとして市販されているものを用いることができる。
　また硫黄原子と芳香族環を含む樹脂としては、例えばＳ,Ｓ’－（チオジ－ｐ－フェニレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－クロロベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジクロロベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－ブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジメチルベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。これらの中でもＳ，Ｓ’－（チオジ－ｐ－フェニレン）ビス（チオメタクリレート）（住友精化社製ＭＰＳＭＡ）が好適に用いられるが、これは４,４’－チオジベンゼンチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる４,４’－チオジベンゼンチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。
　芳香族環を含む樹脂としては、９，９－ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥＦ）、ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ－フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＬＥＮ－１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ－Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ－Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ－Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。
　高屈折率樹脂としては、上記で例示したように、アクリル基やエポキシ基等の重合性基を含む重合性モノマーまたは重合性オリゴマーであることがより好ましい。
　組成物は、高屈折率樹脂に加えて、前述の樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、高屈折率樹脂１００質量部に対して、５～５０質量部の範囲が好ましく、１０～４０質量部の範囲が好ましい。
　組成物における高屈折率樹脂の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、特に７０質量％以上が好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下が好ましい。
　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましく、その含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　次に、金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物について説明する。この組成物は、前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせて使用するものである。金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）は、金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１～１：９の範囲が好ましく、８：２～２：８の範囲がより好ましく、特に７：３～３：７の範囲が好ましい。
　この組成物は、さらに、前述の樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して、５～５０質量％の範囲が好ましく、１０～４０質量％の範囲がより好ましく、特に２０～４０質量％の範囲が好ましい。
　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましく、その含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　［第３層］
　第３層は、その屈折率（ｎ３）が１．５０以下である。第３層の屈折率（ｎ３）は、１．４６以下が好ましく、１．４０以下がより好ましく、１．３８以下が特に好ましい。下限は１．２５以上が好ましく、１．３０以上がより好ましい。
　第３層の基材フィルム片面当たりの厚み（ｄ３）は、５～５０ｎｍの範囲が好ましく、１０～４０ｎｍの範囲がより好ましい。
　第３層は、熱硬化性あるいは活性エネルギー線硬化性の組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
　熱硬化性組成物としては、例えばシリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする組成物が挙げられる。このような組成物は、詳細には、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化したものであり、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
　活性エネルギー線硬化性組成物としては、例えば、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂と、低屈折率材料として低屈折率無機粒子および／または含フッ素化合物とを含む組成物が挙げられる。
　第３層は厚み（ｄ３）が５０ｎｍ以下の薄膜とすることが好ましく、このような薄膜をウェットコーティング法によって均一に精度良く塗工形成するという観点から、活性エネルギー線硬化性組成物としては活性エネルギー線硬化性樹脂と含フッ素化合物とを含む組成物が好ましく用いられる。この組成物は、活性エネルギー線硬化性樹脂の全部もしくは一部として、後述する含フッ素モノマーおよび／または含フッ素オリゴマーを用いることができる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の第２層に用いられるものと同様のもの（分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマー）が用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述の第２層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。
　活性エネルギー線硬化性組成物において、活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して５～９０質量％の範囲が適用であり、５～８０質量％の範囲が好ましく、１０～７０質量％の範囲がより好ましい。
　低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が好ましい。さらにこれらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。上記無機粒子の屈折率は１．２～１．３５の範囲がより好ましい。
　活性エネルギー線硬化性組成物において、低屈折率無機粒子の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して２０～８０質量％の範囲が好ましく、３０～７０質量％の範囲がより好ましい。
　含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。
　含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、　ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，２－トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，４－ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７－トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ－（α－フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
　含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ－２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性組成物において、含フッ素化合物の含有量は組成物の固形分総量１００質量％に対して、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は１００質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、９８質量％以下が特に好ましい。
　［第２層の光学厚みと第３層の光学厚みの合計］
　基材フィルム片面当たりの第２層の光学厚みと第３層の光学厚みの合計は、（１／４）λを満足することが重要である。光学厚みは前述したように屈折率と厚みの積であり、λについても前述したように可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍである。厚みの単位はｎｍである。
　すなわち、第２層の光学厚みと第３層の光学厚みの合計は以下の関係式４を満足する必要がある。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）≦１９５ｎｍ　・・・（式４）。
　つまり、第２層の光学厚み（ｎ２×ｄ２）と第３層の光学厚み（ｎ３×ｄ３）との合計は、９５ｎｍ以上１９５ｎｍ以下であることが必要である。
　さらに、第２層の光学厚みと第３層の光学厚みの合計は９５～１６３ｎｍの範囲が好ましく、９５～１５０ｎｍの範囲がより好ましく、１００～１４０ｎｍの範囲が特に好ましい。
　［第２層と第３層の形成方法］
　第２層と第３層をウェットコーティング法により塗布し積層する方法について説明する。
　第２層と第３層は、それぞれ１層ずつウェットコーティング法により塗布して積層してもよいし、ウェットコーティング法により同時に積層塗布してもよいし、あるいは１つの塗布液を１回ウェットコーティング法により塗布した後層分離させて形成してもよい。
　１層ずつウェットコーティング法により塗布して積層する方法は、第２層をウェットコーティングし、必要に応じて乾燥および硬化させて形成した後、第３層をウェットコーティングし、必要に応じて乾燥および硬化させて形成する方法である。第２層と第３層の形成は、別々の工程で行ってもよいし、１つの工程で連続的に行ってもよい。
　ウェットコーティング法により同時に積層塗布する方法は、同時に積層塗布が可能なコーティング方法、例えば、多層スロットダイコーター、多層スライドビードコーター、エクストルージョン型ダイコーター等を用いて第２層と第３層を同時に積層塗布し、必要に応じて乾燥および硬化性させる方法である。
　１つの塗布液を１回ウェットコーティング法により塗布した後層分離させて形成する方法は、例えば、特開２００８－７４１４号公報、特開２００８－７４１５号公報、特開２００９－５８９５４号公報、特開２００９－７５５７６号公報、特開２００９－１９８７４８号公報、特開２０１０－３９４１７号公報、特開２０１０－１９６０４３号公報、特開２０１０－２１５７４６号公報等に記載されており、これらの方法を参照して用いることができる。
　［透明導電膜］
　透明導電膜の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
　透明導電膜の厚みは、例えば表面抵抗値を１０３Ω／□以下の良好な導電性を確保するという観点から、１０ｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると骨見え現象の抑制効果が小さくなること、および透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以下が特に好ましい。
　透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８１以上である。さらに透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
　透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
　本発明の透明導電膜はパターン化されている。例えば、上記のようにして製膜した透明導電膜をパターン化する。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状等が挙げられる。
　透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
　エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
　［ＳｉＯ２膜］
　本発明において、第３層と透明導電膜との間にＳｉＯ２膜を設けることが好ましい。このようなＳｉＯ２膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等のドライプロセスを用いて積層する方法、あるいはシリカゾル等をウェットコーティング法により塗布し積層する方法などにより形成することができる。これらの中でも、ドライプロセス法が好ましい。
　ＳｉＯ２膜の屈折率（ｎｓ）は、１．４３～１．５０の範囲が好ましく、１．４５～１．４９の範囲がより好ましい。
　ＳｉＯ２膜の基材フィルム片面当たりの厚み（ｄｓ）は５～６０ｎｍの範囲が好ましく、１０～５０ｎｍの範囲がより好ましく、１０～４０ｎｍの範囲が特に好ましい。
　ＳｉＯ２膜を設ける場合、基材フィルム片面当たりの第２層の光学厚み、第３層の光学厚みおよびＳｉＯ２膜の光学厚みの合計が、（１／４）λを満足することが好ましい。光学厚みは前述したように屈折率と厚みの積であり、λについても前述したように可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍである。厚みの単位はｎｍである。
　すなわち、第２層の光学厚み、第３層の光学厚みおよびＳｉＯ２膜の光学厚みの合計は以下の関係式５を満足することが好ましい。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）＋（ｎｓ×ｄｓ）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）＋（ｎｓ×ｄｓ）≦１９５ｎｍ　・・・（式５）。
　さらに、λの範囲は４５０～６５０ｎｍであることが好ましい。つまり、光学厚みの合計は以下の関係式６を満足することがさらに好ましい。
（４５０ｎｍ／４）≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）＋（ｎｓ×ｄｓ）≦（６５０ｎｍ／４）
　　　　１１３ｎｍ≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）＋（ｎｓ×ｄｓ）≦１６３ｎｍ　・・・（式６）。
　またさらに、λの範囲は５００～６００ｎｍであることがさらに好ましい。つまり、光学厚みの合計は以下の関係式７を満足することが特に好ましい。
（５００ｎｍ／４）≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）＋（ｎｓ×ｄｓ）≦（６００ｎｍ／４）
　　　　１２５ｎｍ≦（ｎ２×ｄ２）＋（ｎ３×ｄ３）＋（ｎｓ×ｄｓ）≦１５０ｎｍ　・・・（式７）。
　第３層と透明導電膜との間にＳｉＯ２膜を設けることにより、透明導電膜の密着性が向上し、さらにＳｉＯ２膜の光学厚みを上記の範囲にすることにより、骨見え現象を抑制することができる。
　［ハードコート層］
　本発明において、第１層と第２層の間にハードコート層を設けることができる。ハードコート層の厚みは０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。厚みの上限は１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、さらに５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下が特に好ましい。
　第１層と第２層の間にハードコート層を設ける場合、ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と第１層の屈折率（ｎ１）と基材フィルムの屈折率（ｎｆ）は、ｎｆ＞ｎ１＞ｎｈが好ましい。特に、基材フィルムと第１層の屈折率差（ｎｆ－ｎ１）および第１層とハードコート層の屈折率差（ｎ１－ｎｈ）は、それぞれ０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、０．０８以下が特に好ましい。下限は０．０３以上が好ましく、０．０４以上がより好ましい。これによって、透明導電性フィルムの反射色ムラを軽減することができる。
　本発明において、基材フィルムの片面にのみ、第１層、第２層、第３層、透明導電膜、及び必要に応じてＳｉＯ２膜やハードコート層を設ける場合は、反対面にハードコート層を設けることが好ましい。これにより、基材フィルムからのオリゴマーの析出を抑制することができる。この場合、透明導電性フィルムの反射色ムラを軽減するという観点から、基材フィルムとハードコート層との間に、上記の屈折率の関係を満足するように第１層を設けることが好ましい。
　本発明においてさらに好ましくは、基材フィルムの両面に第１層とハードコート層をこの順に設け、両面ともそれぞれ、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、第１層の屈折率（ｎ１）およびハードコート層の屈折率（ｎｈ）が上記の関係を満足することが好ましい。この態様としては以下の（１）、（２）の構成が挙げられる。尚、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜であり、透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
（１）ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
（２）透明導電膜／第３層／第２層／ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
　ハードコート層の屈折率（ｎｈ）は、１．４６～１．５５の範囲が適当であり、１．４８～１．５４の範囲が好ましく、１．５０～１．５３の範囲がより好ましい。
　また、上記ハードコート層は、着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより、着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。
　ハードコート層は、熱硬化性あるいは活性エネルギー線硬化性の樹脂を含む組成物をウェットコーティング法により塗布後、必要に応じて乾燥した後、硬化させた層であることが好ましい。ハードコート層形成用組成物としては、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含む組成物が好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の第２層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述の第２層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。
　［透明導電性フィルム］
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの片面もしくは両面に、第１層、第２層、第３層、および透明導電膜をこの順に有する。また、基材フィルムの片面もしくは両面に必要に応じてＳｉＯ２膜やハードコート層を設けることができる。特に両面にハードコート層を設けることが好ましい。
　本発明の透明導電性フィルムの好ましい構成例の幾つかを以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。尚、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜である。透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
（ａ）基材フィルム／第１層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｂ）第１層／基材フィルム／第１層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｃ）ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｄ）第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｅ）ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｆ）透明導電膜／第３層／第２層／第１層／基材フィルム／第１層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｇ）透明導電膜／第３層／第２層／ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
（ｈ）基材フィルム／第１層／第２層／第３層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
（ｉ）第１層／基材フィルム／第１層／第２層／第３層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
（ｊ）ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／第２層／第３層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
（ｋ）ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
（ｌ）透明導電膜／ＳＩＯ２膜／第３層／第２層／ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
　［各層の屈折率の関係］
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、各層の屈折率の関係は以下の関係式８を満足することが好ましい。これによって透明導電膜パターンの骨見え現象が一段と抑制される。
・ｎｔ＞ｎ２≧ｎｆ＞ｎ１＞ｎ３　・・・（式８）
　式中、ｎｔは透明導電膜の屈折率、ｎ２は第２層の屈折率、ｎｆは基材フィルムの屈折率、ｎ１は第１層の屈折率、ｎ３は第３層の屈折率を表す。
　［視感反射率］
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差は、３．０％以下が好ましく、２．５％以下がより好ましく、２．０％以下が特に好ましく、１．５％以下が最も好ましい。
　［透明導電膜のパターン部と非パターン部の色差］
　透明導電膜パターンの視認（骨見え）を抑制するという観点から、透明導電膜のパターン部と非パターン部の反射色の色差ΔＥは７以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましく、特に５以下であることが好ましい。ここで、ΔＥは、下記関係式９で表される。
・ΔＥ＝｛（ΔＬ）２＋（Δａ）２＋（Δｂ）２｝１／２　　　・・・（式９）
　式中
ΔＬ＝（非パターン部におけるＬ*値）－（パターン部におけるＬ*値）
Δａ＝（非パターン部におけるａ*値）－（パターン部におけるａ*値）
Δｂ＝（非パターン部におけるｂ*値）－（パターン部におけるｂ*値）。
　本発明の層構成を採用することにより、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差と色差を上記のようにバランス良く小さくすることができ、その結果、骨見え現象を十分に抑制することが可能になる。
　［透明導電性フィルムの調色］
　基材フィルム、第１層、第２層、および第３層の中から選ばれる少なくとも１層に着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。
　また、前述したようにハードコート層を設ける場合には、ハードコート層にも着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。
　上記のようにして本発明の透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することにより、透明導電膜パターンの骨見え現象をさらに抑制することができる。
　［用途］
　本発明の透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのディスプレイやタッチパネル等における透明電極、帯電防止性フィルム、あるいは電磁波シールドフィルム等に用いることができる。特に本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適であり、中でも静電容量式タッチパネルに好適である。また、本発明の透明導電性フィルムは、例えば、電気泳動方式、ツイストボール方式、サーマル・リライタブル方式、光書き込み液晶方式、高分子分散型液晶方式、ゲスト・ホスト液晶方式、トナー表示方式、クロミズム方式、電界析出方式などのフレキシブル表示素子に利用できる。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
　（１）屈折率の測定その１（第１層、第２層、第３層およびハードコート層の屈折率）
　第１層、第２層、第３層およびハードコート層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ－１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
　（２）屈折率の測定その２（基材フィルムの屈折率）
　基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
　（３）屈折率の測定その３（透明導電膜およびＳｉＯ２膜の屈折率）
　透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜を、屈折率が既知のＰＥＴフィルム上に実際の積層条件と同条件で厚みが３０ｎｍとなるようにそれぞれ積層して屈折率測定用サンプルを作製する。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄もしくはＳｉＯ２膜の反射率と厚みをそれぞれ測定する。このようにして得られた反射率、膜厚み、およびＰＥＴフィルムの屈折率とから、透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜の屈折率を算出する。
上記反射率は、透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜が積層された面とは反対側のＰＥＴフィルム面に＃３２０～４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ－３１５０を用いて５５０ｎｍの反射率を測定する。
　透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜の厚みは、下記（４）の方法にて測定する。
　（４）それぞれの層および膜の厚みの測定
　サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ－７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍～３０万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれ層、膜の厚みを測定した。尚、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
　（５）透明導電膜パターンの視認性
　黒い板の上にサンプルを置き、目視によりパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。基材フィルムの一方の面のみに透明導電膜が積層されているサンプルの場合、透明導電膜が上になるように置いて評価をした。基材フィルムの両方の面に透明導電膜が積層されているサンプルの場合、それぞれの面の透明導電膜が上になるように置いて、それぞれ評価をした。
Ａ：パターン部が視認できない。
Ｂ：パターン部が僅かに視認できる。
Ｃ：パターン部が明確に視認できる。
　＜第１層の塗布組成物＞
　（第１層の塗布組成物１ａ）
　ナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯＬ」）を１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。
　（第１層の塗布組成物１ｂ）
　アクリル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯＬ」）を１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。
　＜第２層の塗布組成物＞
　（第２層の塗布組成物２ａ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート２７質量部）３７質量部、酸化ジルコニウム６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．７０であった。
　（第２層の塗布組成物２ｂ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート２７質量部）３７質量部、酸化チタン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．７５であった。
　（第２層の塗布組成物２ｃ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート１７質量部）２７質量部、五酸化アンチモン７０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．６４であった。
　（第２層の塗布組成物２ｄ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部とウレタンアクリレート５７質量部）７７質量部、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）２０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５４であった。
　＜第３層の塗布組成物＞
　（第３層の塗布組成物３ａ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）４７質量部、中空シリカ５０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．３５であった。
　（第３層の塗布組成物３ｂ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）５７質量部、中空シリカ４０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．３７であった。
　（第３層の塗布組成物３ｃ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）８２質量部、中空シリカ１５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．４３であった。
　（第３層の塗布組成物３ｄ）
　ジ－（α－フルオロアクリル酸）－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール１００質量部、ポリ（アクリル酸－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０－ヘプタデカフルオロデシル）１０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)１質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．３６であった。
　（第３層の塗布組成物３ｅ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部とウレタンアクリレート６２質量部）８２質量部、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）１５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５３であった。
　（第３層の塗布組成物３ｆ）
　βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレート３０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー３質量部、および光重合開始剤（２－メチル－１［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリプロパン－１－オン）２質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．４３であった。
　［実施例１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。尚、基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に第１層を積層した後、第２層、第３層および透明導電膜は、基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の片面にのみ設けたもの（実施例１ａ）と、両面に設けたもの（実施例１ｂ）をそれぞれ作製した。
＜第１層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で第１層の塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に第１層を積層した。
＜第２層の積層＞
　上記の第１層の上に、第２層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが４０ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて第２層を形成した。
＜第３層の積層＞
　上記の第２層の上に、第３層の塗布組成物３ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが３５ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて第３層を形成した。
＜透明導電膜の積層＞
　上記の第３層の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが３０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
　［実施例２～１６、比較例１～６］
　表１，２に示すような構成に変更する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。実施例１と同様に、第２層、第３層および透明導電膜を基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の片面にのみに設けたものを実施例２ａ～１６ａ，比較例１ａ～６ａとし、両面に設けたものを実施例２ｂ～１６ｂ，比較例１ｂ～６ｂとした。
　＜評価＞
　上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、透明導電膜パターンの視認性を評価した。その結果を表１，２に示す。尚、第２層、第３層および透明導電膜を基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の片面にのみ設けたもの（実施例１ａ～１６ａ、比較例１ａ～６ａ）と、両面に設けたもの（実施例１ｂ～１６ｂ、比較例１ｂ～６ｂ）とは、同様の評価結果であったので１つにまとめて記載した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表１～４の結果から明らかなように、本発明の実施例は透明導電膜パターンが視認されないが、比較例は透明導電膜パターンが視認される。
　［実施例１７］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。尚、基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に第１層を積層した後、第２層、第３層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜は、基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の片面にのみ設けたもの（１７ａ）と、両面に設けたもの（１７ｂ）をそれぞれ作製した。
＜第１層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で第１層の塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に第１層を積層した。第１層の光学厚みは１４２ｎｍである。
＜第２層の積層＞
　上記の第１層の上に、第２層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが４５ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化せしめて、第２層を形成した。第２層の光学厚みは７７ｎｍである。
＜第３層の積層＞
　上記の第２層の上に、第３層の塗布組成物３ｄをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが１０ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて第３層を形成した。第３層の光学厚みは１４ｎｍである。
＜ＳｉＯ２膜の積層＞
　上記の第３層の上に、厚みが３０ｎｍのＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）をスパッタリング法により積層した。ＳｉＯ２膜の光学厚みは４４ｎｍである。
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが３０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
　＜実施例１７の評価＞
　実施例１７の透明導電性フィルムにおいて、基材フィルム片面当たりの第２層の光学厚み、第３層の光学厚みおよびＳｉＯ２膜の光学厚みの合計は１３５ｎｍであった。この透明導電性フィルム（片面にのみ設けたものと両面に設けたもの）は、いずれも透明導電膜パターンの視認性は「Ａ」であった。
　［実施例１８］
　実施例１ａにおいて、ＰＥＴフィルムの第１層，第２層，第３層および透明導電膜が設けられた側の面の第１層と第２層の間、およびその反対側の面の第１層の上に下記のハードコート層を設けた以外は、実施例１ａと同様にして透明導電性フィルムを得た。
＜ハードコート層の積層＞
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を含む組成物を、ウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが２μｍのハードコート層（屈折率１．５０）を形成した。
　［実施例１９］
　実施例１７ａにおいて、ＰＥＴフィルムの第１層，第２層，第３層，ＳｉＯ２膜および透明導電膜が設けられた側の面の第１層と第２層の間、およびその反対側の面の第１層の上に、実施例１８と同様のハードコート層を設けた以外は、実施例１７ａと同様にして透明導電性フィルムを得た。
　＜実施例１８、１９の評価＞
　実施例１８の透明導電性フィルムの透明導電膜パターンの視認性は「Ａ」であった。
　実施例１９の透明導電性フィルムの透明導電膜パターンの視認性は「Ａ」であった。
　［実施例２０］
　実施例１７ｂにおいて、ＰＥＴフィルムの両面に設けられる第１層と第２層の間に、それぞれ実施例１８と同様のハードコート層を設けた以外は、実施例１７ｂと同様にして透明導電性フィルムを得た。
　＜実施例２０の評価＞
　実施例２０の透明導電性フィルムの透明導電膜パターンの視認性は「Ａ」であった。

Claims (18)

  1. 　屈折率が１．６１～１．７０の基材フィルムの片面もしくは両面に、屈折率が１．５０～１．６０で基材フィルム片面当たりの光学厚みが（１／４）λである第１層、屈折率が１．６１～１．８０である第２層、屈折率が１．５０以下である第３層、および屈折率が１．８１以上でありパターン化された透明導電膜をこの順に有し、基材フィルム片面当たりの前記第２層の光学厚みと前記第３層の光学厚みの合計が（１／４）λである、透明導電性フィルム。
    　但し、λは３８０～７８０ｎｍである。
  2. 　前記第１層、前記第２層および前記第３層はいずれの層も樹脂を含む、請求項１の透明導電性フィルム。
  3. 　前記第１層、前記第２層および前記第３層は、いずれの層もウェットコーティング法により塗布され積層されたものである、請求項１または２の透明導電性フィルム。
  4. 　前記第２層および前記第３層は、それぞれ活性エネルギー線硬化性組成物がウェットコーティング法により塗布され硬化した層である、請求項１～３のいずれかの透明導電性フィルム。
  5. 　前記第２層は、活性エネルギー線硬化性樹脂と金属酸化物を含む活性エネルギー線硬化性組成物がウェットコーティング法により塗布され硬化した層である、請求項１～４のいずれかの透明導電性フィルム。
  6. 　前記第３層は、活性エネルギー線硬化性組成物がウェットコーティング法により塗布され硬化した層であり、この活性エネルギー線硬化性組成物は該組成物１００質量％に対して含フッ素化合物を３０質量％以上含有する、請求項１～５のいずれかの透明導電性フィルム。
  7. 　前記第２層の基材フィルム片面当たりの厚み（ｄ２）が３０ｎｍ以上である、請求項１～６のいずれかの透明導電性フィルム。
  8. 　前記第３層の基材フィルム片面当たりの厚み（ｄ３）が５～５０ｎｍである、請求項１～７のいずれかの透明導電性フィルム。
  9. 　基材フィルム片面当たりの前記第２層の光学厚みと前記第３層の光学厚みの合計が、９５～１６３ｎｍの範囲である、請求項１～８のいずれかの透明導電性フィルム。
  10. 　前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項１～９のいずれかの透明導電性フィルム。
  11. 　前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、前記第１層の屈折率（ｎ１）、前記第２層の屈折率（ｎ２）、前記第３層の屈折率（ｎ３）および前記透明導電膜の屈折率（ｎｔ）の関係が、ｎｔ＞ｎ２≧ｎｆ＞ｎ１＞ｎ３を満足する、請求項１～１０のいずれかの透明導電性フィルム。
  12. 　前記第１層と前記第２層との間にハードコート層を有する、請求項１～１１のいずれかの透明導電性フィルム。
  13. 　下記（１）または（２）の構成である、請求項１２の透明導電性フィルム。
    　（１）ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
    　（２）透明導電膜／第３層／第２層／ハードコート層／第１層／基材フィルム／第１層／ハードコート層／第２層／第３層／透明導電膜
  14. 　前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、前記第１層の屈折率（ｎ１）および前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）の関係が、ｎｆ＞ｎ１＞ｎｈを満足し、かつ前記基材フィルムと前記第１層の屈折率差（ｎｆ－ｎ１）および前記第１層と前記ハードコート層の屈折率差（ｎ１－ｎｈ）がそれぞれ０．１以下である、請求項１２または１３の透明導電性フィルム。
  15. 　前記第３層と前記透明導電膜との間にＳｉＯ２膜を有する、請求項１～１４のいずれかの透明導電性フィルム。
  16. 　基材フィルム片面当たりの前記第２層の光学厚み、前記第３層の光学厚みおよび前記ＳｉＯ２膜の光学厚みの合計が（１／４）λである、請求項１５の透明導電性フィルム。
    　但し、λは３８０～７８０ｎｍである。
  17. 　請求項１～１６のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
  18. 　前記タッチパネルが静電容量式タッチパネルである、請求項１７のタッチパネル。
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