JP2015176465A - タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】
透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を十分に向上させることができる透明導電性フィルムのベースフィルムを提供する。
【解決手段】
屈折率（ｎａ）が１．６１〜１．７０である基材フィルム（Ａ）と、この基材フィルム（Ａ）の少なくとも一方の面に基材フィルム（Ａ）側から順に、屈折率（ｎｂ）が１．６１〜１．７０である易接着層（Ｂ）と、屈折率（ｎｃ）が１．６７以上でかつ膜厚が５０ｎｍ未満である高屈折率層（Ｃ）と、屈折率（ｎｄ）が１．５５以下でかつ膜厚が７０ｎｍ未満である低屈折率層（Ｄ）とを有し、屈折率（ｎａ）と屈折率（ｎｂ）との差の絶対値が０．０２以下であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルムに関する。詳しくは、視認性が良好なタッチパネル用透明導電性フィルムを得るためのベースフィルムに関する。

以下の説明において、「タッチパネル用透明導電性フィルム」を単に「透明導電性フィルム」と言うことがあり、また、「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を単に「ベースフィルム」と言うことがある。以下の説明において「透明導電性フィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルム」を意味し、また「ベースフィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を意味する。

透明導電性フィルムのベースフィルムとして、基材フィルム上にハードコート層が設けられたハードコートフィルムが一般に知られている。透明導電性フィルムは、このようなベースフィルムの片面もしくは両面に透明導電膜を設けることにより得られる。

また、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を向上させるために、基材フィルム上に各種機能層を設けたベースフィルムが提案されている。

例えば、透明導電膜の色味を調整するために、基材フィルム上に光学機能層を積層したベースフィルムが提案されており（特許文献１〜３）、またパターン化された透明導電膜のパターンが視認される現象（いわゆる「骨見え」）を抑制するために、基材フィルム上に屈折率調整層を積層したベースフィルムが提案されている（特許文献４〜１１）。

特開２０００−３０１６４８号公報 特開２００３−２５１７５１号公報 特開２００４−４７４５６号公報 特開２００８−９８１６９号公報 特開２００９−７６４３２号公報 特開２０１０−２０８１６９号公報 特開２０１１−３７２５８号公報 特開２０１１−１３４４６４号公報 特開２０１１−２４８６１２号公報 特開２０１３−１８４４３１号公報 特開２０１３−２０２８４４号公報

しかし、上記特許文献に開示されている技術では、透明導電膜の視認性を十分に満足させるまでには至っていない。特に、透明導電膜の表面抵抗値を下げるために透明導電膜の厚みを大きくした場合やパターン化された透明導電膜の場合は、透明導電膜の視認性が低下する傾向にあるが、これらの視認性を十分に向上させるまでには至っていない。

従って、本発明の目的は、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を十分に向上させることができる透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、透明導電膜の視認性が十分に向上した透明導電性フィルムを提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
［１］屈折率（ｎａ）が１．６１〜１．７０である基材フィルム（Ａ）と、この基材フィルム（Ａ）の少なくとも一方の面に基材フィルム（Ａ）側から順に、屈折率（ｎｂ）が１．６１〜１．７０である易接着層（Ｂ）と、屈折率（ｎｃ）が１．６７以上でかつ膜厚が５０ｎｍ未満である高屈折率層（Ｃ）と、屈折率（ｎｄ）が１．５５以下でかつ膜厚が７０ｎｍ未満である低屈折率層（Ｄ）とを有し、屈折率（ｎａ）と屈折率（ｎｂ）との差の絶対値が０．０２以下であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［２］易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）の間に屈折率（ｎｅ）が１．６１〜１．７０でかつ膜厚が０．１〜３μｍである高屈折率ハードコート層（Ｅ）を有し、易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値が０．０３以下である、［１］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［３］高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）が、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）より０．０３以上大きいことを特徴とする、［２］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［４］基材フィルム（Ａ）の他方の面（基材フィルム（Ａ）に対して易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）および低屈折率層（Ｄ）を有する面とは反対面）に、屈折率（ｎｆ）が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｆ）を介して、屈折率（ｎｇ）が１．４８〜１．５４でかつ厚みが０．１〜３μｍのハードコート層（Ｇ）を有する、［１］から［３］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［５］ハードコート層（Ｇ）が、ハードコート層（Ｇ）の膜厚（ｄ：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）が０．５以下である粒子を含有する、［４］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［６］［１］〜［５］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの低屈折率層（Ｄ）の上に透明導電膜（Ｈ）を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
［７］透明導電膜（Ｈ）がパターン化されている、［６］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。

本発明によれば、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を向上させることができる透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することができる。また、本発明のベースフィルムを用いることにより、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を向上させることができる。

ここで、視認性が向上（良好）であるとは、透明導電性フィルムの透明導電膜に起因する色味（例えば、ＩＴＯ膜の黄色味）が抑制されて無彩色に近づくこと、あるいはパターン化された透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が抑制されることを意味する。

特に、本発明のベースフィルムを用いることにより、後者の「骨見え」が有効に抑制される。つまり、本発明のベースフィルムを用い、このベースフィルム上にパターン化された透明導電膜を形成することによって製造された透明導電性フィルム（例えば、静電容量式タッチパネル用透明導電性フィルム）は、「骨見え」が十分に抑制され、視認性が向上する。

本発明のベースフィルムは、基材フィルム（Ａ）の少なくとも一方の面に、基材フィルム（Ａ）側から順に、易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）及び低屈折率層（Ｄ）を有する。

ここで、本発明のベースフィルムは、上記した各層が以下の特徴を有する。これによって、透明導電膜の視認性を十分に向上させることができる（特に「骨見え」を十分に抑制させることができる）。

即ち、本発明のベースフィルムの特徴は以下の通りであり、これらの構成要件ａ）〜ｄ）を全て満足することが重要である。
ａ）基材フィルム（Ａ）は、屈折率（ｎａ）が１．６１〜１．７０である。
ｂ）易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）が１．６１〜１．７０で、かつ基材フィルム（Ａ）の屈折率（ｎａ）と易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）との差の絶対値が０．０２以下である。
ｃ）高屈折率層（Ｃ）は、屈折率（ｎｃ）が１．６７以上で、かつ膜厚が５０ｎｍ未満である。
ｄ）低屈折率層（Ｄ）は、屈折率（ｎｄ）が１．５５以下で、かつ膜厚が７０ｎｍ未満である。

また、本発明のベースフィルムは、耐擦傷性を向上させるために、易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）との間に高屈折率ハードコート層（Ｅ）を配置することができる。高屈折率ハードコート層（Ｅ）が配置される場合は、透明導電膜の視認性が低下しないように屈折率を適切に調整する必要がある。この観点から、高屈折率層ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）は１．６１〜１．７０の範囲で、かつ易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値が０．０３以下であることが好ましい。また、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させるという観点から、０．１〜３μｍであることが好ましい。

以下、本発明のベースフィルムを構成するそれぞれの構成要素について詳細に説明する。

［基材フィルム（Ａ）］
基材フィルム（Ａ）は、その屈折率（ｎａ）が１．６１〜１．７０である。このような基材フィルムとしては特に限定されないが、ポリエステルフィルムが好ましく用いられる。更にポリエステルフィルムの中でもポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ポリエチレンテレフタレート」を「ＰＥＴ」と称することがある）が好ましく用いられる。

基材フィルム（Ａ）の屈折率（ｎａ）は、更に１．６２〜１．６９の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がさらに好ましく、１．６４〜１．６７の範囲が特に好ましい。

基材フィルム（Ａ）の厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であるが、剛性、強度、加工性等の観点から、５０μｍ以上が好ましく、７５μｍ以上がより好ましい。基材フィルム（Ａ）の上限の厚みは３００μｍ以下が好ましく、２５０μｍ以下がより好ましく、２００μｍ以下が特に好ましい。

［易接着層（Ｂ）］
易接着層（Ｂ）は、その屈折率（ｎｂ）が１．６１〜１．７０の範囲である。易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）は、更に１．６２〜１．７０の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がより好ましく、特に１．６４〜１．６７の範囲が好ましい。

基材フィルム（Ａ）の屈折率（ｎａ）と易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）との差の絶対値は０．０２以下であることが重要である。上記の屈折率差の絶対値がこの範囲を超えると、透明導電膜の視認性を十分に向上させることができない（「骨見え」の抑制が不十分となる）。

透明導電膜の視認性向上（「骨見え」の抑制）の観点から、上記の屈折率差の絶対値は０．０１以下が好ましく、０．００が最も好ましい。

易接着層（Ｂ）は、基材フィルム（Ａ）と高屈折率層（Ｃ）あるいは高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性を向上させるという機能を有する。この観点から、易接着層（Ｂ）の厚みは、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、特に１５ｎｍ以上が好ましい。上限の厚みは、滑り性あるいは塗工性等の観点から３００ｎｍ未満が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が更に好ましく、特に１００ｎｍ以下が好ましい。

易接着層（Ｂ）は、少なくとも樹脂を含有する層であることが好ましい。かかる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中でも、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましい。

易接着層（Ｂ）における樹脂の含有量は、易接着層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。

易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）は１．６１〜１．７０であり、このような比較的大きい屈折率とするために、易接着層（Ｂ）は樹脂として高屈折率樹脂を含有することが好ましい。かかる高屈折率樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を挙げることができる。

高屈折率樹脂としては、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。上記縮合芳香族環としては、ナフタレン環やフルオレン環が好ましい。

ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。

分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第ＷＯ２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。

また、易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）を比較的大きくするために、易接着層（Ｂ）は屈折率が１．７以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。特に、易接着層（Ｂ）は屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。

屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに易接着層（Ｂ）の屈折率を高めることができるので好ましい。

易接着層（Ｂ）が樹脂と金属酸化物微粒子を含有する態様において、樹脂と金属酸化物微粒子の含有比率は、質量比で１００：１０〜１００：４００の範囲が適当であり、１００：２０〜１００：３００の範囲が好ましく、特に１００：３０〜１００：２００の範囲が好ましい。

また、易接着層（Ｂ）が樹脂と金属酸化物微粒子を含有する態様において、樹脂として上記の高屈折率樹脂を用いることができる。

易接着層（Ｂ）は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。易接着層（Ｂ）は少なくとも上述の樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。易接着層（Ｂ）をこのような熱硬化層とすることにより、基材フィルム（Ａ）と高屈折率層（Ｃ）あるいは高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性をさらに向上させることができる。易接着層（Ｂ）を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５〜３００秒の範囲が好ましく、１０〜２００秒の範囲がより好ましい。

易接着層（Ｂ）に含有させる架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。

易接着層（Ｂ）における架橋剤の含有量は、易接着層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。

易接着層（Ｂ）は、更に滑り性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばシリカ、炭酸カルシウム、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカが好ましく、更にコロイダルシリカが好ましく用いられる。

粒子の平均粒子径は、滑り性を向上させるという観点から３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましく、特に１００ｎｍ以上が好ましい。平均粒子径の上限は５００ｎｍ以下好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、特に３００ｎｍ以下が好ましい。

易接着層（Ｂ）における粒子の含有量は、易接着層（Ｂ）の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。

易接着層（Ｂ）は、基材フィルム（Ａ）と高屈折率層（Ｃ）あるいは高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性（接着性）を向上させるために、易接着層（Ｂ）は基材フィルム（Ａ）上に直接に設けられていることが好ましい。同様に、高屈折率層（Ｃ）あるいは高屈折率ハードコート層（Ｅ）も易接着層（Ｂ）上に直接に設けられていることが好ましい。

易接着層（Ｂ）は、基材フィルム（Ａ）上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に易接着層（Ｂ）を基材フィルム（Ａ）の製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム（Ａ）上に易接着層（Ｂ）を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。

上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。

［高屈折率層（Ｃ）］
高屈折率層（Ｃ）は、屈折率（ｎｃ）が１．６７以上で、かつ膜厚が５０ｎｍ未満である。このような高屈折率層（Ｃ）を、前述の基材フィルム（Ａ）上に易接着層（Ｂ）および後述の低屈折率層（Ｄ）とともに配置することにより、透明導電膜の視認性が向上する（特に「骨見え」が抑制される）。

高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）は、透明導電膜の「骨見え」抑制の観点から、更に１．６８以上が好ましく、１．６９以上がより好ましい。

高屈折率層（Ｃ）屈折率（ｎｃ）の上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７８以下が特に好ましい。高屈折率層（Ｃ）は後述するように、高屈折率材料である金属酸化物微粒子と樹脂を含有させた層であることが好ましいが、このような高屈折率層（Ｃ）の屈折率を、１．８５を超えて大きくするには多量の金属酸化物微粒子を含有させる必要があり、その結果、高屈折率層（Ｃ）の透明性が低下したり、膜強度が低下したり、あるいは塗布性が低下するなどの不都合な問題が発生することがある。

高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）は、基材フィルム（Ａ）および易接着層（Ｂ）のいずれの屈折率より０．０３以上大きいことが好ましく、０．０４以上大きいことがより好ましく、０．０５以上大きいことが特に好ましい。上記差の上限は０．２０以下が好ましく、０．１５以下がより好ましく、０．１０以下が特に好ましい。これによって、更に透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が向上する。

また、易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）との間に後述の高屈折率層ハードコート層（Ｅ）が配置されている場合は、高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）は、高屈折率層ハードコート層の屈折率（ｎｅ）より０．０３以上大きいことが好ましく、０．０４以上大きいことがより好ましく、０．０５以上大きいことが特に好ましい。上記差の上限は０．２０以下が好ましく、０．１５以下がより好ましく、０．１０以下が特に好ましい。これによって、更に透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が向上する。

高屈折率層（Ｃ）の膜厚は、透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、更に４５ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下が特に好ましい。下限の膜厚は、上記観点から２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。

高屈折率層（Ｃ）は、その屈折率を１．６７以上に調整するために、屈折率が１．７以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに高屈折率層（Ｃ）の屈折率を高めることができるので好ましい。

高屈折率層（Ｃ）における金属酸化物微粒子の含有量は、高屈折率層（Ｃ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、４５質量％以上が最も好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、特に８０質量％以下が好ましい。

高屈折率層（Ｃ）は、樹脂を含有することがこのましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。

上記熱硬化性樹脂としては、熱によって重合又は架橋する、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。

上記活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂であり、かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。

尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」の総称である。

分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物として、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−トルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−イソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。

また、多官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学（株）製のウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、根上工業（株）製のＵＮ−３３２０シリーズ、ＵＮ−９００シリーズ、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴＵシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ１２９０シリーズなどが挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂として、分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物が好ましく用いられる。

高屈折率層（Ｃ）における樹脂の含有量は、高屈折率層（Ｃ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。

高屈折率層（Ｃ）が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、高屈折率層（Ｃ）は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。

また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。

高屈折率層（Ｃ）における光重合開始剤の含有量は、高屈折率層（Ｃ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。

［高屈折率層（Ｃ）の形成］
高屈折率層（Ｃ）の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも、金属酸化物微粒子、活性エネルギー線硬化性樹脂、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物（高屈折率層（Ｃ）の塗布液）を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。

塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、５０〜１２０℃の範囲が適当である。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、高屈折率層（Ｃ）が形成される。

活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。

紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましい。

［低屈折率層（Ｄ）］
低屈折率層（Ｄ）は、屈折率（ｎｄ）が１．５５以下で、かつ膜厚が７０ｎｍ未満である。このような低屈折率層（Ｄ）を、前述の基材フィルム（Ａ）上に易接着層（Ｂ）および高屈折率層（Ｃ）とともに配置することにより、透明導電膜の視認性が向上する（特に「骨見え」が抑制される）。

低屈折率層（Ｄ）の屈折率（ｎｄ）は、透明導電膜の「骨見え」抑制の観点から、更に１．５４以下が好ましく、１．５３以下がより好ましい。低屈折率層（Ｄ）の屈折率（ｎｄ）の下限は特に限定されないが、低屈折率層（Ｄ）の屈折率を小さくするためには、低屈折率材料（中空シリカ等の低屈折率粒子やフッ素化合物）を比較的多量に含有させる必要があり、その結果、低屈折率層（Ｄ）の透明性が低下したり、膜物性（強度）が低下するなどの不都合が生じることがあることから、低屈折率層（Ｄ）の屈折率の下限は１．３５以上が好ましく、１．４０以上がより好ましく、１．４３以上が更に好ましく、特に１．４５以上が好ましい。

低屈折率層（Ｄ）の膜厚は、更に透明導電膜の「骨見え」を抑制するという観点から、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４５ｎｍ以下が特に好ましい。低屈折率層（Ｄ）の膜厚の下限は、上記観点から、２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が更に好ましく、３５ｎｍ以上が特に好ましい。

低屈折率層（Ｄ）は、スパッタリング等のドライプロセスで形成された無機膜であってもよいし、ウェットコーティング法で形成された樹脂含有層であってもよい。

低屈折率層（Ｄ）は、後者の樹脂含有層であることが好ましい。樹脂含有層をウェットコーティング法で形成する方法は、無機膜をドライプロセスで形成する方法に比べて生産効率に優れること、また前述の高屈折率層（Ｃ）と同一生産工程で生産できることから生産設備の統一化によるコストダウンが図られる。

上記したように低屈折率層（Ｄ）は、樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。また、低屈折率層（Ｄ）は、樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂を併用することができる。この場合の活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂の比率（質量比）は、９５：５〜５０：５０の範囲が適当である。

上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の樹脂を用いることができる。

低屈折率層（Ｄ）における樹脂の含有量は、低屈折率層（Ｄ）の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。

低屈折率層（Ｄ）は、屈折率を１．５５以下に調整するために、低屈折率無機粒子や含フッ素化合物を含有することができる。低屈折率無機粒子および含フッ素化合物はそれぞれ単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。

低屈折率無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子挙げられる。さらにこれらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。低屈折率層（Ｄ）が低屈折率無機粒子を含有する場合の含有量は、低屈折率層（Ｄ）の固形分総量１００質量％に対して１〜４５質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、特に５〜３０質量％の範囲が好ましい。

含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。

含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、 ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。

含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。

低屈折率層（Ｄ）が含フッ素化合物を含有する場合の含有量は、低屈折率層（Ｄ）の固形分総量１００質量％に対して１〜５０質量％の範囲が好ましく、５〜４５質量％の範囲がより好ましく、特に１０〜４０質量％の範囲が好ましい。

低屈折率層（Ｄ）が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、低屈折率層（Ｄ）は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の化合物を用いることができる。

低屈折率層（Ｄ）における光重合開始剤の含有量は、低屈折率層（Ｄ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。

低屈折率層（Ｄ）の好ましい一つの態様として、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を含有する態様が挙げられる。かかるオリゴマー型光重合開始剤は、光重合開始性能（光によりラジカルを発生させる基）を有する繰り返し単位を２〜５０有する化合物である。この繰り返し単位は、側鎖に光ラジカル発生基を有するものが好ましく、かかる光ラジカル発生基としては公知の光ラジカル発生剤に由来する官能基を用いることができる。

本発明に用いることができるオリゴマー型光重合開始剤の代表例として、例えば、下記の一般式（１）に示す化合物が挙げられる。

式中、Ｙは直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ^１とＲ^２は相互に結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。

Ｙの直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基の炭素数は、特に制限されないが、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましく、特に２〜３が好ましい。Ｒ^１及びＲ^２の直鎖状又は分岐状のアルキル基の炭素数は、特に制限されないが、１〜８が好ましく、１〜５がより好ましく、特に１〜３が好ましい。ｎは２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１０が特に好ましい。

上記の一般式（１）の中でも、下記一般式（２）の化合物が好ましく用いられる。

式中、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２およびｎは一般式（１）と同義である。

また、一般式（１）、（２）において、オリゴマー型光重合開始剤の繰り返し単位の連鎖部の末端は、置換基が結合されている。置換基としては、オリゴマー重合開始剤に由来する基であってもよいし、オリゴマー重合停止剤に由来する基であってもよいが、通常は水素原子、炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロへプチル基、シクロオクチル基およびこれ等のアルキル基置換体などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、およびそのアルキル基置換体等が挙げられる。

上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型光重合開始剤の具体例としては、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］等が挙げられる。

上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型光重合開始剤は、一般に市販されており入手することができる。例えば、ランベルティ社製の商品名「エザキュアワン」、「エザキュアＫＩＰ１５０」、「エザキュアＫＩＰ６５ＬＴ」、「エザキュアＫＩＰ１００Ｆ」、「エザキュアＫＴ３７」、「エザキュアＫＴ５５」、「エザキュアＫＴＯ４６」、「エザキュアＫＩＰ７５／Ｂ」等を挙げることができる。

また、オリゴマー型光重合開始剤として、特開２０１１−９９９７４号公報に開示されている光ラジカル発生基を有するエチレン性不飽和化合物（同公報の式（２）〜式（７）の化合物）を重合して得られた化合物を用いることができる。

低屈折率層（Ｄ）におけるオリゴマー型光重合開始剤の含有量は、低屈折率層（Ｄ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。

低屈折率層（Ｄ）がオリゴマー型光重合開始剤を含有することの効果として以下の点が挙げられる。

オリゴマー型光重合開始剤は、前述した単量体の光重合開始剤に比べて昇華性が低いので、低屈折率層（Ｄ）を塗布した後の乾燥工程（溶剤等加熱蒸発させる工程）の乾燥温度（加熱温度）を高くすることができる。

活性エネルギー線硬化性樹脂と光重合開始剤を含有する低屈折率層（Ｄ）は、一般に基材フィルム上に塗布され、乾燥工程で乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化されることによって形成される。この製造過程の中で、乾燥工程での乾燥温度を高くすると、低屈折率層（Ｄ）中の光重合開始剤が昇華し減少することにより硬化が十分に行われないことがある。しかし、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を用いることによって、上記課題が軽減される。

低屈折率層（Ｄ）の乾燥工程での乾燥温度を高くすることによって、後工程（透明導電膜の製膜工程）に不利となる揮発成分（水分、有機溶剤、低分子量成分等）を、低屈折率層（Ｄ）あるいは基材フィルムと低屈折率層（Ｄ）の間に配置される他の層（例えば、易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）あるいは後述の高屈折率ハードコート層（Ｅ））から蒸発させることができる。

このような揮発成分がベースフィルムに比較的多く存在すると、透明導電膜の製膜工程において真空度の調整に必要以上の時間を要したり、あるいは透明導電膜の結晶化が安定的に行われないなどの不都合な問題が起こることがある。

［低屈折率層（Ｄ）の形成］
低屈折率層（Ｄ）の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも活性エネルギー線硬化性樹脂、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物（低屈折率層（Ｄ）の塗布液）を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。

塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の塗布方法を用いることができる。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、５０〜１２０℃の範囲が一般的である。

塗布組成物に含有される光重合開始剤として前述のオリゴマー型光重合開始剤を用いた場合は、乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）を１３０℃以上とすることが好ましい。このように、乾燥温度を高くすることにより、前述したように揮発成分（水分、有機溶剤、低分子量成分）を、低屈折率層（Ｄ）あるいは基材フィルムと低屈折率層（Ｄ）の間に配置される他の層（例えば、高屈折率層（Ｃ）や後述する高屈折率ハードコート層（Ｅ））から蒸発させることができる。

塗布組成物がオリゴマー型光重合開始剤を含有する場合の乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）は、上記したように揮発成分を蒸発させると言う観点から、更に１４０℃以上が好ましく、特に１５０℃以上が好ましい。乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）の上限は２００℃以下が好ましく、１９０℃以下がより好ましい。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、低屈折率層（Ｄ）が形成される。

活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。

紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましい。

［高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）の積層方法］
高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）とを、それぞれウェットコーティングにより塗布して積層する場合、高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）とをそれぞれ別々に塗布して積層してもよいし、同時に積層塗布してもよいし、あるいは１つの塗布液を１回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成してもよい。

高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）とをそれぞれ別々に塗布して積層する方法は、高屈折率層（Ｃ）をウェットコーティングし、乾燥および硬化せしめて形成した後、低屈折率層（Ｄ）をウェットコーティングし、乾燥および硬化せしめて形成する方法である。高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）の形成は、別々の工程で行ってもよいし、１つの工程で連続的に行ってもよい。

高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）とをウェットコーティング法により同時に積層塗布する方法は、同時に積層塗布が可能なコーティング方法、例えば、多層スロットダイコーター、多層スライドビードコーター、エクストルージョン型ダイコーター等を用いて高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｄ）とを同時に積層塗布し、乾燥および硬化せしめる方法である。

１つの塗布液を１回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成する方法は、例えば、特開２００８−７４１４号公報、特開２００８−７４１５号公報、特開２００９−５８９５４号公報、特開２００９−７５５７６号公報、特開２００９−１９８７４８号公報、特開２０１０−３９４１７号公報、特開２０１０−１９６０４３号公報、特開２０１０−２１５７４６号公報、特開２０１１−８４７１０号公報、特開２０１２−３１３２５号公報、特開２０１３−３６３９４号公報等に記載されており、これらの方法を参照して用いることができる。

［高屈折率ハードコート層（Ｅ）］
本発明のベースフィルムは、耐擦傷性を向上させるために易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）との間に高屈折率ハードコート層（Ｅ）が配置することができる。しかし、高屈折率ハードコート層（Ｅ）を配置すると、透明導電膜の視認性が低下することがあるので屈折率を適切に調整する必要がある。この観点から、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）は１．６１〜１．７０の範囲で、かつ易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値が０．０３以下であることが好ましい。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させるという観点から、０．１〜３μｍの範囲であることが好ましい。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、易接着層（Ｂ）の上に直接に積層されていることが好ましい。これによって、基材フィルム（Ａ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）との密着性が向上する。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）は、上記観点（透明導電膜の視認性が低下しないように屈折率を適切に調整する必要があるという観点）から、更に１．６２〜１．７０の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がより好ましく、特に１．６４〜１．６７の範囲が好ましい。

また、上記観点（透明導電膜の視認性が低下しないように屈折率を適切に調整する必要があるという観点）から、易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値は、０．０２以下がより好ましく、０．０１以下が更に好ましく、０．００が特に好ましい。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）を配置する場合の高屈折率ハードコート層（Ｅ）と高屈折率層（Ｃ）との関係は、上記観点（透明導電膜の視認性が低下しないように屈折率を適切に調整する必要があるという観点）から、下記のｅ）〜ｇ）を全て満足することが好ましい。
ｅ）高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）が、１．６３〜１．６７の範囲である。
ｆ）高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）が、１．６８〜１．７８の範囲である。
ｇ）屈折率（ｎｃ）が屈折率（ｎｅ）より、０．０３以上大きい（上限は０．１０以下）。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させるという観点から、０．１μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上であることがより好ましく、０．５μｍ以上であることが特に好ましい。高屈折率層ハードコート層（Ｅ）の膜厚の上限は、透明導電膜の視認性、高屈折率ハードコート層（Ｅ）のクラックの発生、ベースフィルムのカール性等の観点から、３μｍ以下が好ましく、２．５μｍ以下がより好ましく、特に２μｍ以下が好ましい。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、その屈折率を１．６１〜１．７０の範囲に調整するために、屈折率が１．７以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。

かかる金属酸化物微粒子としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様のものを用いることができる。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）における金属酸化物微粒子の含有量は、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、４５質量％以上が最も好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、特に８０質量％以下が好ましい。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）は、樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。

上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の樹脂を用いることができる。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）における樹脂の含有量は、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、高屈折率ハードコート層（Ｅ）は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の化合物を用いることができる。

高屈折率ハードコート層（Ｅ）における光重合開始剤の含有量は、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。

［高屈折率ハードコート層（Ｅ）の形成］
高屈折率ハードコート層（Ｅ）の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも、金属酸化物微粒子、活性エネルギー線硬化性樹脂、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物（高屈折率ハードコート層（Ｅ）の塗布液）を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。

塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、５０〜１２０℃の範囲が適当である。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、高屈折率ハードコート層（Ｅ）が形成される。

活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。

紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましい。

［ベースフィルムの構成］
本発明のベースフィルムは、基材フィルム（Ａ）の少なくとも一方の面（つまり、片側）に、基材フィルム（Ａ）側から順に易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）および低屈折率層（Ｄ）を有する。

易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）および低屈折率層（Ｄ）は、基材フィルム（Ａ）の両面（つまり、両側）に設けることができるが、基材フィルム（Ａ）の一方の面のみに設けることが好ましい。この場合、基材フィルム（Ａ）の他方の面（易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）および低屈折率層（Ｄ）を有する面とは反対面）には、易接着層（Ｆ）を介してハードコート層（Ｇ）が設けられていることが好ましい。

つまり、本発明のベースフィルムの好ましい態様は、「ハードコート層（Ｇ）／易接着層（Ｆ）／基材フィルム（Ａ）／易接着層（Ｂ）／高屈折率層（Ｃ）／低屈折率層（Ｄ）」の構成を採る。

本発明のベースフィルムの更に好ましい態様は、「ハードコート層（Ｇ）／易接着層（Ｆ）／基材フィルム（Ａ）／易接着層（Ｂ）／高屈折率ハードコート層（Ｅ）／高屈折率層（Ｃ）／低屈折率層（Ｄ）」の構成を採る。

以下、易接着層（Ｆ）およびハードコート層（Ｇ）について詳細に説明する。

［易接着層（Ｆ）］
易接着層（Ｆ）は、基材フィルム（Ａ）とハードコート層（Ｇ）との密着性（接着性）を向上させる機能を有する。

易接着層（Ｆ）は、屈折率（ｎｆ）が１．５５〜１．６０の範囲が好ましく、１．５６〜１．５９の範囲がより好ましく、特に１．５７〜１．５９の範囲が好ましい。このような屈折率（ｎｆ）の易接着層（Ｆ）上に、後述のハードコート層（Ｇ）を設けた場合、ハードコート層（Ｇ）側から見た反射色をニュートラルな無彩色に近づけることができる。

易接着層（Ｆ）の厚みは、基材フィルム（Ａ）とハードコート層（Ｇ）との密着性を向上させ、かつハードコート層（Ｇ）側から見た反射色をニュートラルな無色に近づけるという観点から、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲が好ましく、６０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲がより好ましく、６５ｎｍ以上１２５ｎｍ以下の範囲が特に好ましい。

易接着層（Ｆ）は、少なくとも樹脂を含有する層であることが好ましい。樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、有るキッド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中でも、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましい。

易接着層（Ｆ）における樹脂の含有量は、易接着層（Ｆ）の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。

易接着層（Ｆ）の屈折率（ｎｆ）を１．５５〜１．６０の範囲に調整するには、樹脂として分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。

ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。

易接着層（Ｆ）は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。易接着層（Ｆ）は少なくとも樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。易接着層（Ｆ）をこのような熱硬化層とすることにより、基材フィルム（Ａ）とハードコート層（Ｇ）との密着性をさらに向上させることができる。易接着層（Ｆ）を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５秒以上３００秒以下の範囲が好ましく、１０秒以上２００秒以下の範囲がより好ましい。

易接着層（Ｆ）に含有させる架橋剤としては、前述の易接着層（Ｂ）に含有させることができる架橋剤と同様のものを用いることができる。

易接着層（Ｆ）における架橋剤の含有量は、易接着層（Ｆ）の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。

易接着層（Ｆ）は、さらに滑り性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては前述の易接着層（Ｂ）に含有させることができる粒子と同様のものを用いることができる。

易接着層（Ｆ）における粒子の含有量は、易接着層（Ｆ）の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。

易接着層（Ｆ）は、基材フィルム（Ａ）とハードコート層（Ｇ）との密着性（接着性）を向上させるために、易接着層（Ｆ）は基材フィルム（Ａ）に直接に設けられていることが好ましい。

易接着層（Ｆ）は、易接着層（Ｂ）と同様に、基材フィルム（Ａ）上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましく、特に基材フィルム（Ａ）の製造工程内で易接着層（Ｆ）を積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。

［ハードコート層（Ｇ）］
ハードコート層（Ｇ）は、ベースフィルムに良好な滑り性を付与する機能、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させる機能、ベースフィルムのカールバランスを調整する機能あるいは基材フィルム（Ａ）からのオリゴマー析出を抑制する機能を有する。

ハードコート層（Ｇ）の屈折率（ｎｇ）は、ハードコート層（Ｇ）側から見た反射色をニュートラルな無色に近づけるために、１．４８〜１．５４の範囲が好ましく、１．５０〜１．５３の範囲がより好ましい。

ハードコート層（Ｇ）の厚みは、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させる機能、ベースフィルムのカールバランスを調整する機能あるいは基材フィルム（Ａ）からのオリゴマー析出を抑制する機能をハードコート層（Ｇ）に付与するという観点から、０．１μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましく、０．５μｍ以上が特に好ましい。

ハードコート層（Ｇ）の厚みの上限は、ハードコート層（Ｇ）のクラックの発生やベースフィルムのカールバランスを調整するという観点から、３μｍ以下が好ましく、２．５μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。

ハードコート層（Ｇ）は、樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。

上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の樹脂を用いることができる。このような樹脂を用いることにより、ハードコート層（Ｇ）の屈折率を１．４８〜１．５４の範囲に調整することができる。

ハードコート層（Ｇ）における樹脂の含有量は、ハードコート層（Ｇ）の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限は９７質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。

ハードコート層（Ｇ）が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、ハードコート層（Ｇ）は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述の高屈折率層（Ｃ）と同様の化合物を用いることができる。

ハードコート層（Ｇ）における光重合開始剤の含有量は、ハードコート層（Ｇ）の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。

ハードコート層（Ｇ）は、ベースフィルムの良好な滑り性を付与するために、ハードコート層（Ｇ）は粒子を含有することが好ましい。

一般に、ハードコート層に粒子を含有させることによってベースフィルムの滑り性は向上するが、一方でベースフィルムのヘイズ値が大きくなり透明性が低下する傾向にある。

そこで、ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑制しながらベースフィルムおよび透明導電性フィルムに良好なすべり性を付与するために、ハードコート層（Ｇ）は、ハードコート層（Ｇ）の膜厚（ｄ：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）が０．５以下である粒子を含有することが好ましい。

これによって、ヘイズ値が０．５％以下（好ましくは０．４％以下）で、かつ良好な滑り性を有するベースフィルムを得ることができる。

ベースフィルムのヘイズ値の上昇を抑制しながら良好なすべり性を確保するという観点から、上記比率（ｒ／ｄ）は０．４以下が好ましく、０．３以下がより好ましく、０．２以下が特に好ましい。上記比率（ｒ／ｄ）の下限は、０．０１以上が好ましく、０．０２以上がより好ましく、０．０３以上が特に好ましい。

粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）は、上記比率（ｒ／ｄ）が０．０１〜０．５を満足する範囲内で、具体的には、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．３μｍの範囲がより好ましく、０．０３〜０．２μｍの範囲が特に好ましい。

ハードコート層（Ｇ）に含有させる粒子としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、ポリエステル粒子、ポリスチレン粒子等が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、タルク、ゼオライト等が挙げられる。これらの粒子の中でも、無機粒子が好ましく、更にシリカ粒子が好ましい。

また更に、シリカ粒子はフッ素化合物で表面処理されていることが好ましい。フッ素化合物で表面処理されたシリカ粒子は、ハードコート層（Ｇ）の表面近傍に移動して偏在し、ハードコート層（Ｇ）表面にシリカ粒子による突起が形成され、それによって滑り性が向上する。

上記したフッ素化合物としては、下記の一般式（３）で示されるフッ素原子を有するオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、および該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物からなる群の中から選ばれる少なくとも１つの化合物が好ましく用いられる。

Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｓｉ（Ｑ）_３
・・・・一般式（３）
（一般式（３）において、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。Ｑは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）。

一般式（３）の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。

Ｃ_４Ｆ_９ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_８Ｆ_１７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
Ｃ_８Ｆ_１７ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＢｒ_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３
Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）Ｃｌ_２。

ハードコート層（Ｇ）における粒子の含有量は、ハードコート層（Ｇ）の固形分総量１００質量％に対して２〜２５質量％の範囲が好ましく、３〜２０質量％の範囲がより好ましく、特に５〜１５質量％の範囲が好ましい。

［ハードコート層（Ｇ）の形成］
ハードコート層（Ｇ）の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも活性エネルギー線硬化性樹脂、粒子、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物（ハードコート層（Ｇ）の塗布液）を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。

塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、５０〜１２０℃の範囲が適当である。

基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、ハードコート層（Ｇ）が形成される。

活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。

紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましい。

［透明導電性フィルム］
透明導電性フィルムは、前述のベースフィルムの低屈折率層（Ｄ）の上に透明導電膜（Ｈ）を設けることにより得られる。

タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネルと静電容量式タッチパネルが主流であるが、本発明の透明導電性フィルムはいずれのタッチパネルにも用いることができる。特に、本発明の透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。

静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。

パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部（透明導電膜がエッチングされずに残存している部分（導電部））と非パターン部（透明導電膜がエッチングされて除去された部分（非導電部））との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。

また、ベースフィルムで発生する干渉縞も透明導電膜の視認性低下の原因となっている。

これらの透明導電膜の視認性低下の問題は、本発明のベースフィルムを用いることにより解決する。

本発明にかかる透明導電性フィルムは、タッチパネル用途であることから液晶表示装置等からの画像が明確に視認できる程度に透明であることが求められる。従って、透明導電性フィルムの透明度は特に限定されないが、例えば、全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。上限の全光線透過率は９９％程度である。

［透明導電膜（Ｈ）］
透明導電膜（Ｈ）の表面抵抗値は、タッチパネル用途であることに鑑みて、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下がより好ましく、２００Ω／□以下が特に好ましい。下限の表面抵抗値は、１０Ω／□程度である。

上記観点（表面抵抗値を小さくするという観点）から、透明導電膜（Ｈ）の厚みは、１０ｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、透明導電膜（Ｈ）の厚みが大きくなりすぎると視認性が低下したり、透明性が低下するなどの不都合が生じることがあるので、透明導電膜（Ｈ）の厚みの上限は、５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、３５ｎｍ以下が特に好ましい。

上記したように、透明導電膜（Ｈ）の表面抵抗値を小さくするために、透明導電膜（Ｈ）の厚みを大きくすると、視認性が低下する（特に「骨見え」が起こりやすくなる）。

従って、本発明のベースフィルムは、厚みが２０ｎｍ以上でパターン化された透明導電膜（Ｈ）の場合に、その「骨見え」を有効に抑制することができる。

透明導電膜（Ｈ）の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。

透明導電膜（Ｈ）の屈折率（ｎｈ）は１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜（Ｈ）の屈折率（ｎｈ）は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。

透明導電膜（Ｈ）の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。

透明導電膜（Ｈ）はパターン化されていることが好ましい。透明導電膜（Ｈ）のパターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜（Ｈ）のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００６−３４４１６３号公報、特開２０１１−１２８８９６号公報等に開示されているパターンが挙げられる。

透明導電膜（Ｈ）のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。

エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。

［測定方法および評価方法］
（１）屈折率の測定１
各層を形成するための塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。この塗工形成した塗膜の屈折率をもって各層の屈折率とする。よって、下記の実施例および比較例における各層の屈折率の値は、ここで測定した屈折率の値である。

（２）屈折率の測定２
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じて、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの屈折率を測定した。

（３）屈折率の測定その３（透明導電膜の屈折率）
透明導電膜を、屈折率が既知のＰＥＴフィルム上に実際の積層条件と同条件で所定の厚み（例えば２５ｎｍ）となるように積層して屈折率測定用サンプルを作製する。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄の反射率と膜厚をそれぞれ測定する。このようにして得られた反射率、膜厚、およびＰＥＴフィルムの屈折率とから、透明導電膜の屈折率を算出する。

上記反射率は、透明導電膜が積層された面とは反対側のＰＥＴフィルム面に＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて５５０ｎｍの反射率を測定する。

透明導電膜の厚みは、下記（４）の方法にて測定する。

（４）高屈折率層（Ｃ）、低屈折率層（Ｄ）、高屈折率ハードコート層（Ｅ）、ハードコート層（Ｇ）及び透明導電膜の厚みの測定
ベースフィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から厚みを測定する。尚、ハードコート層（Ｇ）のように表面（または界面）に粒子もしくは粒子集合体の突起を有する層については、突起が存在しない部分における厚みである。厚みの測定は５箇所で行い、その平均値を厚みとした。

（５）易接着層（Ｂ）および易接着層（Ｆ）の厚みの測定
易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ_４染色、ＯｓＯ_４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。尚、測定個所は粒子が存在しない部分である。なお、５箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製 Ｈ−７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧 １００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。

（６）ハードコート層（Ｇ）に含まれる粒子の平均粒子径の測定
ハードコート層（Ｇ）の断面を電子顕微鏡（約２万〜５万倍）で観察し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを相加平均した値を粒子の平均粒子径とした。

（７）易接着層（Ｂ）および易接着層（Ｆ）に含まれる粒子の平均粒子径の測定
基材フィルムに積層された易接着層表面を、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて倍率一万倍で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇所を変えてデータを取り込み、合計粒子数５０００個以上となったところで次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径ｄを平均粒径（直径）とした。

ｄ＝Σｄi ／Ｎ
ここでｄi は粒子の等価円直径（粒子の断面積と同じ面積を持つ円の直径）、Ｎは個数である。

（８）透明導電膜（Ｈ）の表面抵抗値の測定
パターン化する前の透明導電膜の表面抵抗値を、株式会社三菱アナリテック製の抵抗率計（ＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０、ＡＳＰプローブ ＭＣＰ−ＴＰ０３Ｐ）を用いて測定した。

測定は１０ｃｍ×１０ｃｍのサンプルの無作為に選択した５箇所について行い、平均した。

（９）透明導電膜のパターンの視認性（「骨見え」）の評価
黒い板の上に、透明導電性フィルムを透明導電膜が上になるように置いて、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
○（最良）：パターン部が視認できない。
△（良好）：パターン部が僅かに視認できる。
×（不良）：パターン部が明確に視認できる。

（１０）ベースフィルムのヘイズ値の測定
ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製の濁度計「ＮＤＨ−２０００」を用いて測定した。測定に際し、ベースフィルムの低屈折率層（Ｄ）の表面に光が入射するように配置する。

（１１）滑り性
ベースフィルムを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製する。この２枚のシート片の低屈折率層（Ｄ）とハードコート層（Ｇ）とが向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。測定環境は２３℃、５５％ＲＨである。
○：上方のシート片の滑り性が良好である。
×：上方のシート片が滑らない。

（１２）透明導電性フィルムの全光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ７３６１（１９９７年）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。

（１３）ベースフィルムの耐擦傷性の評価
下記の摩耗性試験を実施後、ベースフィルムに傷が発生しているかどうかを目視観察し、傷の発生が１０本以下の場合を「良好」と判定した。

＜摩耗性試験＞
ベースフィルムの低屈折率層（Ｄ）の表面を、スチールウール＃００００（日本スチールウール（株）製）を使用し、荷重５０ｇ／ｃｍ^２、速度６０ｍｍ／秒、往復移動距離１２０ｍｍで１０往復させた。試験環境は、温度２３℃、相対湿度５５％である。

摩耗試験装置として、学振型摩擦堅牢度試験器（テスター産業（株）製の「ＡＢ−３０１」）を用いた。

［原料］
《易接着層（Ｂ）の塗布組成物》
（塗布組成物ｂ１）
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。

＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａ＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸 ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸 ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸 ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール ４９モル％
ジエチレングリコール １モル％。

（塗布組成物ｂ２）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、酸化ジルコニウムを５３質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６４であった。

（塗布組成物ｂ３）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、酸化ジルコニウムを４３質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６３であった。

（塗布組成物ｂ４）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、酸化ジルコニウムを６７質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６６であった。

（塗布組成物ｂ５）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、酸化ジルコニウムを３５質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６２であった。

《易接着層（Ｆ）の塗布組成物》
（塗布組成物ｆ１）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂ａを１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。

《高屈折率層（Ｃ）の塗布組成物》
（塗布組成物ｃ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３７質量部、酸化ジルコニウム６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７０であった。

（塗布組成物ｃ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４１質量部、酸化ジルコニウム５６質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６８であった。

（塗布組成物ｃ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４３質量部、酸化ジルコニウム５４質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６７であった。

（塗布組成物ｃ４）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３７質量部、酸化チタン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７５であった。

（塗布組成物ｃ５）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３１質量部、酸化チタン６６質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７８であった。

（塗布組成物ｃ６）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２７質量部、酸化チタン７０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．８０であった。

（塗布組成物ｃ７）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、酸化ジルコニウム５０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。

《低屈折率層（Ｄ）の塗布組成物》
（塗布組成物ｄ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを７８質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を２０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４８であった。

（塗布組成物ｄ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６８質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。

（塗布組成物ｄ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを９７質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）３質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。

《高屈折率ハードコート層（Ｅ）の塗布組成物》
（塗布組成物ｅ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１３質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３４質量部）４７質量部、酸化ジルコニウム５０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。

（塗布組成物ｅ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１４質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３６質量部）５０質量部、酸化ジルコニウム４７質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６４であった。

（塗布組成物ｅ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３７質量部）５２質量部、酸化ジルコニウム４５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６３であった。

（塗布組成物ｅ４）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１９質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３８質量部）５７質量部、酸化ジルコニウム４０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６１であった。

（塗布組成物ｅ５）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１３質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３２質量部）４５質量部、酸化ジルコニウム５２質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６６であった。

《ハードコート層（Ｇ）の塗布組成物》
（塗布組成物ｇ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂として（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）４３質量部）８３質量部、下記の表面処理シリカ粒子分散液を固形分換算で１２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５１であった。

＜表面処理シリカ粒子分散液＞
コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」、平均粒子径０．１３μｍ）３３０質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）８質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製）２質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加した。次に、この分散液にシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行って分散液を得た。

［実施例１］
下記の要領でベースフィルムを作製した。

＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層（Ｂ）の塗布組成物ｂ１、他方の面（第２面）に易接着層（Ｆ）の塗布組成物ｆ１をそれぞれ塗布した。

次に、両面にそれぞれの易接着層塗布組成物が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは、一方の面（第１面）に易接着層（Ｂ）を有し、他方の面（第２面）に易接着層（Ｆ）を有するＰＥＴフィルムである。

このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた易接着層（Ｂ）の厚みは２０ｎｍ、第２面に設けられた易接着層（Ｆ）の厚みは８０ｎｍであった。

ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層（Ｂ）の屈折率は１．６５、第２面の易接着層（Ｆ）の屈折率は１．５８であった。

尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。

＜ベースフィルムの作製＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層（Ｆ）上にハードコート層（Ｇ）を積層し、次いでＰＥＴフィルムの第１面の易接着層（Ｂ）上に高屈折率層（Ｃ）及び低屈折率層（Ｄ）をこの順に積層してベースフィルムを作製した。

＜ハードコート層（Ｇ）の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの一方の面の易接着層（Ｆ）上に、塗布組成物ｇ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させてハードコート層（Ｇ）を形成した。このハードコート層（Ｇ）は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．５１であった。

なお、ハードコート層（Ｇ）に含まれるシリカ粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）は０．１３μｍで、シリカ粒子の含有量はハードコート層（Ｇ）の固形分総量１００質量％に対して１２質量％である。ハードコート層（Ｇ）の膜厚（ｄ：μｍ）に対するシリカ粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．１３である。

＜高屈折率層（Ｃ）の積層＞
易接着層（Ｂ）の上に、塗布組成物ｃ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて高屈折率層（Ｃ）を形成した。この高屈折率層（Ｃ）は、厚みが３５ｎｍ、屈折率が１．７０であった。

＜低屈折率層（Ｄ）の積層＞
上記で積層した高屈折率層（Ｃ）の上に、塗布組成物ｄ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１５０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させて低屈折率層（Ｄ）を形成した。この低屈折率層（Ｄ）は、厚みが４０ｎｍ、屈折率が１．４８であった。

＜透明導電性フィルムの作成＞
上記で作成したベースフィルムの低屈折率層（Ｄ）の上に、透明導電膜（Ｈ）としてＩＴＯ膜を厚みが２５ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのＩＴＯ膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。透明導電膜（Ｈ）の屈折率（ｎｈ）は２．００、表面抵抗値は１００Ω／□であった。

［実施例２〜４および比較例１］
実施例１において、易接着層（Ｂ）の塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［実施例５〜９および比較例２］
実施例１において、高屈折率層（Ｃ）の塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［実施例１０〜１２および比較例３］
実施例１において、高屈折率層（Ｃ）の膜厚を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［実施例１３〜１６および比較例４］
実施例１において、低屈折率層（Ｄ）の膜厚を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［実施例１７、１８］
実施例１において、低屈折率層（Ｄ）の塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［評価］
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムのヘイズ値、滑り性および全光線透過率、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例および比較例の詳細な構成を表１、評価結果を表２に示す。

尚、実施例１〜１８および比較例１〜４の全光線透過率は、いずれも８８〜９１％であった。

本発明の実施例のベースフィルムは、いずれもヘイズ値が小さく、かつ滑り性が良好であり、これらのベースフィルムを用いた透明導電性フィルムはいずれも、透明導電膜の視認性（パターン化された透明導電膜の「骨見え」）が良好である。

一方、比較例１は、基材フィルム（Ａ）の屈折率（ｎａ）と易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）との差の絶対値が０．０２より大きくなっているので、透明導電膜の視認性（骨見え）が低下している。

比較例２は、高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）が１．６７未満であるので、透明導電膜の視認性（骨見え）が低下している。

比較例３は、高屈折率層（Ｃ）の膜厚が５０ｎｍ以上であるので、透明導電膜の視認性（骨見え）が低下している。

比較例４は、低屈折率層（Ｄ）の膜厚が７０ｎｍ以上であるので、透明導電膜の視認性（骨見え）が低下している。

［実施例２１］
実施例１において、易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）の間に下記の高屈折率ハードコート層（Ｅ）を設けたこと以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

＜高屈折率ハードコート層（Ｅ）の積層＞
実施例１と同様にして作製したＰＥＴフィルムの第１面の易接着層（Ｂ）上に、塗布組成物ｅ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２照射し硬化させてハードコート層（Ｅ）を形成した。このハードコート層（Ｇ）は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．６５であった。

［実施例２２〜２５］
実施例２１において、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の塗布組成物を表３に示すように変更する以外は、実施例２１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［実施例２６］
実施例２１において、高屈折率層（Ｃ）の塗布組成物ｃ１を塗布組成物ｃ３に変更したこと以外は、実施例２１と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。

［評価］
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムのヘイズ値、滑り性、全光線透過率、および耐擦傷性、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表３、評価結果を表４に示す。

尚、実施例２１〜２６の全光線透過率は、いずれも８８〜９１％であった。

易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）との間に高屈折率ハードコート層（Ｅ）を配置した実施例２１〜２６は、いずれも耐擦傷性が良好であった（すなわち、実施例１〜１８、比較例１〜４および実施例２１〜２６のベースフィルムについて、耐擦傷性の評価を行ったところ、実施例２１〜２６のベースフィルムの耐擦傷性は、実施例１〜１８および比較例１〜４のベースフィルムよりも耐擦傷性が良好であった）。

また、易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）との間に高屈折率ハードコート層（Ｅ）を配置した構成において、易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値が０．０３以下であり、かつ高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）が高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）より０．０３以上大きい、実施例２１、２２、２３および２５は、いずれも透明導電膜のパターンの視認性が「○：最良」である。

一方、易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値が０．０３より大きい実施例２４、および高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）が高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）より０．０３より小さい実施例２６は、いずれも透明導電膜のパターンの視認性が「△：良」であり、やや低下している。

Claims (7)

1. 屈折率（ｎａ）が１．６１〜１．７０である基材フィルム（Ａ）と、この基材フィルム（Ａ）の少なくとも一方の面に基材フィルム（Ａ）側から順に、屈折率（ｎｂ）が１．６１〜１．７０である易接着層（Ｂ）と、屈折率（ｎｃ）が１．６７以上でかつ膜厚が５０ｎｍ未満である高屈折率層（Ｃ）と、屈折率（ｎｄ）が１．５５以下でかつ膜厚が７０ｎｍ未満である低屈折率層（Ｄ）とを有し、屈折率（ｎａ）と屈折率（ｎｂ）との差の絶対値が０．０２以下であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
2. 易接着層（Ｂ）と高屈折率層（Ｃ）の間に屈折率（ｎｅ）が１．６１〜１．７０でかつ膜厚が０．１〜３μｍである高屈折率ハードコート層（Ｅ）を有し、易接着層（Ｂ）の屈折率（ｎｂ）と高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）との差の絶対値が０．０３以下である、請求項１に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
3. 高屈折率層（Ｃ）の屈折率（ｎｃ）が、高屈折率ハードコート層（Ｅ）の屈折率（ｎｅ）より０．０３以上大きいことを特徴とする、請求項２に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
4. 基材フィルム（Ａ）の他方の面（基材フィルム（Ａ）に対して易接着層（Ｂ）、高屈折率層（Ｃ）および低屈折率層（Ｄ）を有する面とは反対面）に、屈折率（ｎｆ）が１．５５〜１．６０である易接着層（Ｆ）を介して、屈折率（ｎｇ）が１．４８〜１．５４でかつ厚みが０．１〜３μｍのハードコート層（Ｇ）を有する、請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
5. ハードコート層（Ｇ）が、ハードコート層（Ｇ）の膜厚（ｄ：μｍ）に対する平均粒子径（ｒ：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）が０．５以下である粒子を含有する、請求項４に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの低屈折率層（Ｄ）の上に透明導電膜（Ｈ）を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
7. 透明導電膜（Ｈ）がパターン化されている、請求項６に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。