WO2017130617A1 - ガスバリアフィルム - Google Patents

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WO2017130617A1
WO2017130617A1 PCT/JP2016/088604 JP2016088604W WO2017130617A1 WO 2017130617 A1 WO2017130617 A1 WO 2017130617A1 JP 2016088604 W JP2016088604 W JP 2016088604W WO 2017130617 A1 WO2017130617 A1 WO 2017130617A1
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WO
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gas barrier
layer
barrier film
less
film according
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PCT/JP2016/088604
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山本悠平
飯島俊和
冨田和之
植田征典
Original Assignee
東レフィルム加工株式会社
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    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/048—Forming gas barrier coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the present invention relates to a gas barrier film, and more particularly, to a gas barrier film suitable for electronic parts such as organic thin-film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper that require high gas barrier properties and high transparency.
  • a gas barrier film suitable for electronic parts such as organic thin-film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper that require high gas barrier properties and high transparency.
  • the gas barrier film used for electronic parts is required to have high transparency and good gas barrier properties.
  • Known gas barrier films include those obtained by laminating an organic silicon compound on a base film by a plasma CVD method, or those obtained by laminating a metal oxide such as silicon dioxide or aluminum oxide by a sputtering method.
  • Patent Document 1 it is proposed to adjust the coefficient of static friction between one surface of the gas barrier film and the other surface in order to improve the winding property during processing of the gas barrier film.
  • Patent Document 1 discloses that the static friction coefficient is controlled by relatively increasing the arithmetic average roughness Ra of the other surface (the surface opposite to the gas barrier layer), for example, Ra is 15 nm or more.
  • Patent Document 1 does not disclose a gas barrier film having a water vapor transmission rate of less than 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 ⁇ day.
  • an object of the present invention is to provide a gas barrier film that has high gas barrier properties and transparency, and suppresses deterioration of gas barrier properties in production and processing steps.
  • a gas barrier film having a gas barrier layer on one side of a base film and a back coat layer on the other side of the base film, having a haze value of less than 0.8% and a water vapor transmission rate of 3
  • a gas barrier film wherein the gas barrier film has a dynamic friction coefficient of 0.7 or less of less than 0.0 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 ⁇ day and the surface on the backcoat layer side and the surface on the gas barrier layer side.
  • the gas barrier layer contains a zinc compound.
  • the gas barrier layer has a zinc (Zn) atom concentration of 20.0 to 40.0 atom%, a silicon (Si) atom concentration of 5.0 to 20.0 atom%, and aluminum measured by ICP emission spectroscopy.
  • the present invention it is possible to provide a gas barrier film that has high gas barrier properties and transparency, and that suppresses deterioration of gas barrier properties in production and processing steps.
  • a gas barrier film having good scratch resistance can be provided.
  • a gas barrier film having excellent bending resistance can be provided.
  • a gas barrier film in which the adhesion between the back coat layer opposite to the gas barrier layer of the base film and the base film is good and reflection color unevenness is suppressed. Can do.
  • the gas barrier film of the present invention is suitable for electronic parts such as organic thin film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper that require high gas barrier properties.
  • electronic parts such as organic thin film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper that require high gas barrier properties.
  • EL organic electroluminescence
  • FIG. 1 is a schematic view showing an example of a cross section of the gas barrier film of the present invention.
  • the gas barrier film of the present invention has a gas barrier layer 2 on one side of the base film 1 and a back coat layer 3 on the other side of the base film 1.
  • the gas barrier film of the present invention preferably has an undercoat layer 4 between the base film 1 and the gas barrier layer 2 as shown in FIG.
  • the gas barrier film of the present invention preferably further has an overcoat layer 5 on the gas barrier layer 2 as shown in FIG.
  • the gas barrier film of the present invention is suitable as a gas barrier film for electronic parts such as organic thin film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper. Since the gas barrier film applied to the above-described electronic component is required to have high transparency, the gas barrier film preferably has a small haze value. From the above viewpoint, the gas barrier film of the present invention has a haze value of less than 0.8%. Furthermore, the haze value is preferably less than 0.6%, more preferably less than 0.5%, and particularly preferably less than 0.4%. The lower haze value is preferably as small as possible, and is not particularly limited. If the haze is 0.8% or more, the transparency may be deteriorated and it may be difficult to use as a gas barrier film as a material for electronic components.
  • the gas barrier film of the present invention preferably has a total light transmittance of 85% or more, more preferably 88% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the gas barrier film of the present invention has a water vapor transmission rate of less than 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 ⁇ day. Further, the water vapor transmission rate is preferably less than 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 ⁇ day, and particularly preferably less than 5.0 ⁇ 10 ⁇ 4 g / m 2 ⁇ day.
  • the water vapor transmission rate is 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 ⁇ day or more, the element is deteriorated or the power generation efficiency of the element is deteriorated. Therefore, it can be used as a gas barrier film for materials of electronic components. It becomes difficult.
  • the gas barrier film of the present invention has a dynamic friction coefficient of 0.7 or less between the surface on the backcoat layer side and the surface on the gas barrier layer side. Thereby, in the production process and processing process of the gas barrier film, slipperiness failure and sticking (blocking) due to contact between the back coat layer side surface and the gas barrier layer side surface are suppressed.
  • the dynamic friction coefficient is more preferably 0.6 or less, and particularly preferably 0.5 or less.
  • the lower limit of the dynamic friction coefficient is not particularly limited, but is about 0.01.
  • the material, composition or configuration of the gas barrier layer according to the present invention is not particularly limited, and the material, composition or configuration is such that the water vapor transmission rate of the gas barrier film is less than 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 ⁇ day. It can be.
  • a zinc compound is preferably used as a material for forming the gas barrier layer because of its high transparency, excellent gas barrier properties, and excellent bending resistance described later.
  • Zinc oxide is preferred as the zinc compound.
  • silicon, aluminum, copper, tin, silicon dioxide, and aluminum oxide are mixed in the zinc compound.
  • the gas barrier layer according to the present invention is preferably a mixture of zinc oxide, silicon dioxide and aluminum oxide. This improves the bending resistance.
  • the reason why the bending resistance is good is that, by coexisting aluminum oxide, the crystal growth can be suppressed more than when coexisting zinc oxide and silicon dioxide, so the gas barrier property resulting from the generation of cracks It is estimated that the decrease can be suppressed.
  • composition of the gas barrier layer composed of the zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide coexisting phase can be measured by ICP emission spectroscopy as described later.
  • the layer which consists of a coexistence phase means that zinc oxide, silicon dioxide, and aluminum oxide are mixed in this layer.
  • the composition of the gas barrier layer is such that the zinc (Zn) atom concentration measured by ICP emission spectroscopy is 20.0 to 40.0 atom%, the silicon (Si) atom concentration is 5.0 to 20.0 atom%, aluminum (Al The atomic concentration is preferably 0.5 to 5.0 atom%, and the oxygen (O) atomic concentration is preferably 35.0 to 70.0 atom%. If the zinc (Zn) atom concentration is greater than 40.0 atom% or the silicon (Si) atom concentration is less than 5.0 atom%, there will be insufficient oxide to suppress the crystal growth of zinc oxide. A part may increase and sufficient gas barrier property may not be acquired.
  • the amorphous component of silicon dioxide inside the layer increases and the flexibility of the layer increases. May decrease.
  • the aluminum (Al) atomic concentration exceeds 5.0 atom%, the affinity between zinc oxide and silicon dioxide becomes excessively high, so that the pencil hardness of the film increases and cracks are generated against heat and external stress. May be more likely to occur.
  • the aluminum atom concentration is less than 0.5 atom%, the affinity between zinc oxide and silicon dioxide becomes insufficient, and the bonding force between the particles forming the layer cannot be improved, so that the flexibility may be lowered.
  • the oxygen (O) atomic concentration is higher than 70.0 atom%, the amount of defects in the layer increases, so that a predetermined gas barrier property may not be obtained.
  • the oxygen (O) atom concentration is less than 35 atom%, the oxidation state of zinc, silicon, and aluminum becomes insufficient, the crystal growth cannot be suppressed, and the particle diameter increases, which may deteriorate the gas barrier property.
  • the zinc (Zn) atom concentration is 25.0 to 35.0 atom%
  • the silicon (Si) atom concentration is 10.0 to 15.0 atom%
  • the aluminum (Al) atom concentration is 1.0 to 3.0 atom%. %
  • the oxygen atom concentration is more preferably 50.0 to 64.0 atom%.
  • the gas barrier layer composed of the zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide coexisting phase described above is composed of other metals such as titanium, tin, copper, indium, gallium, zirconium, niobium, molybdenum, tantalum, or the like.
  • Metal oxides, nitrides, and sulfides can be included as long as gas barrier properties, flex resistance, and transparency are not deteriorated.
  • the gas barrier layer composed of the zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide coexisting phase contains other oxides, for example, SiO to SiO 2 in which the composition ratio of silicon and oxygen is shifted, or two or more of zinc, silicon and aluminum.
  • the composite oxide that is included at the same time can be included in a range that does not deteriorate the gas barrier properties, flex resistance, and transparency.
  • the method for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method (also referred to as a CVD method), or the like.
  • the thickness of the gas barrier layer is preferably 0.05 ⁇ m or more.
  • the thickness of the gas barrier layer according to the present invention is preferably 0.5 ⁇ m or less, and more preferably 0.3 ⁇ m or less. If the thickness of the gas barrier layer is greater than 0.5 ⁇ m, the residual stress in the layer increases after the formation of the inorganic layer, so cracks are likely to occur in the gas barrier layer due to bending or external impact, and the gas barrier properties are increased with use. May decrease. From the viewpoint of ensuring gas barrier properties and flexibility, the thickness of the gas barrier layer is most preferably in the range of 0.1 ⁇ m to 0.2 ⁇ m.
  • the gas barrier film of the present invention preferably has an undercoat layer between the base film and the gas barrier layer.
  • the surface on which the gas barrier layer is to be formed is formed in advance in order to form a uniform, dense and high density in the initial growth process with a thickness of 0.01 ⁇ m or less from the base film side. It is preferable that the particles forming the inorganic layer are formed on a smooth surface on which surface diffusion is easy, or that the energy for activating the particles forming the gas barrier layer is set high when forming the gas barrier layer.
  • a method of forming an undercoat layer on the base film is preferable as a method for making the surface of the base film a smooth surface.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the undercoat layer is preferably less than 1.5 nm, more preferably less than 1.3 nm, and particularly preferably less than 1.0 nm.
  • the lower limit arithmetic average roughness Ra is not particularly limited, but a practical lower limit is about 0.1 nm.
  • the undercoat layer preferably includes a thermosetting resin or an active energy ray curable resin as a resin component, and further preferably includes an active energy ray curable resin that is cured by an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. .
  • an active energy ray-curable acrylic resin is preferable.
  • the same backcoat layer as described later can be used.
  • the undercoat layer preferably does not contain particles having an average particle size larger than that of the undercoat layer in order to make the arithmetic average roughness Ra of the surface less than 1.5 nm.
  • particles having an average particle diameter sufficiently smaller than the thickness of the undercoat layer for example, the average particle diameter is 1/2 or less, more preferably 1/5 or less, particularly 1 / It can contain up to 10 particles.
  • the content of these particles is suitably about 0.1 to 10% by mass, preferably 0.5 to 5% by mass, based on 100% by mass of the total solid content of the undercoat layer.
  • the undercoat layer preferably has an elongation crack elongation of 7% or more, and more preferably 10% or more, from the viewpoint of improving the bending resistance of the gas barrier film.
  • the upper limit of elongation crack elongation is suitably 200% or less, preferably 100% or less.
  • Elongation crack elongation is when a crack occurs in the undercoat layer when one side of the film with the undercoat layer laminated on the base film is fixed and the film is pulled at a pulling speed of 50 mm / min. The rate of growth.
  • the undercoat layer preferably contains a urethane (meth) acrylate oligomer or a urethane (meth) acrylate monomer.
  • a urethane (meth) acrylate oligomer is particularly preferable.
  • urethane (meth) acrylate oligomer or urethane (meth) acrylate monomer examples include AT-600, UA-101l, UA-306H, UA-306T, UA-306l, UF-8001 manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd. UF-8003 etc., Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. UV75550B, UV-7600B, UV-1700B, UV-6300B, UV-7605B, UV-7640B, UV-7650B etc., Shin-Nakamura Chemical U-4HA, U- 6HA, UA-100H, U-6LPA, U-15HA, UA-32P, U-324A, U-2PPA, UA-NDP, etc.
  • the thickness of the undercoat layer is preferably 0.5 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the smoothness of the surface of the undercoat layer may be affected due to the unevenness of the base film, and as a result, the uniformity of the gas barrier layer is reduced. In some cases, gas barrier properties are lowered, and bending resistance is lowered.
  • the thickness of the undercoat layer is preferably 0.5 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, more preferably 0.7 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less, and particularly preferably 1 ⁇ m or more and 2 ⁇ m or less from the viewpoint of ensuring flexibility.
  • the undercoat layer is preferably wet-coated, and examples of the application method used for such wet coating include reverse coating, spray coating, bar coating, gravure coating, rod coating, die coating, and spin coating. Method, extrusion coating method and the like.
  • an overcoat layer can be provided on the gas barrier layer.
  • the overcoat layer protects the gas barrier layer, further reduces the ingress of water from the outside, and has the role of maintaining the gas barrier property even in a high temperature and high humidity environment.
  • the silicon compound of the overcoat layer in the present invention may contain silicon oxide, silicon nitride, silicon carbide, silicon oxynitride, or a mixture thereof.
  • the silicon compound preferably contains at least one selected from the group consisting of silicon dioxide, silicon carbide, silicon nitride, and silicon oxynitride.
  • the content of the silicon compound is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more.
  • the silicon compound in the present invention is treated as a compound having a composition formula in which the composition ratio of each element whose component is specified by X-ray photoelectron spectroscopy, ICP emission spectroscopy, Rutherford backscattering method or the like is represented by an integer.
  • silicon dioxide (SiO 2 ) may be slightly deviated from the composition ratio of silicon and oxygen (SiO to SiO 2 ) depending on the conditions at the time of generation. Even in such a case, as SiO 2 Handling
  • the mass content described above shall be calculated.
  • the reason why the gas barrier property is improved by applying an overcoat layer containing a silicon compound in the gas barrier film of the present invention is that the overcoat layer contains silicon atoms having an atomic radius smaller than that of the zinc atoms of the gas barrier layer. It is considered that the gas barrier property is improved because silicon atoms can be efficiently filled into defect atom defects having a size of several nm or less existing on the surface.
  • the composition is such that the silicon (Si) atom concentration measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 25 to 45 atom% and the oxygen (O) atom concentration is 55 to 75 atom%. It is preferable that When the silicon (Si) atom concentration is lower than 25 atom% or the oxygen atom concentration is higher than 75 atom%, oxygen atoms bonded to silicon atoms are excessively increased, so that voids and defects increase in the layer, and the gas barrier property is lowered. There is a case.
  • the silicon (Si) atom concentration is higher than 45 atom% or the oxygen (O) atom concentration is lower than 55 atom%, the film becomes excessively dense, which may cause large curl or decrease in flexibility. As a result, cracks are likely to occur due to heat or external stress, and the gas barrier properties may be reduced.
  • the silicon (Si) atom concentration is more preferably 28 to 40 atom% and the oxygen (O) atom concentration is more preferably 60 to 72 atom%, and further, the silicon (Si) atom concentration is 30 to 35 atom%, oxygen ( O)
  • the atomic concentration is more preferably 65 to 70 atom%.
  • the components contained in the overcoat layer are not particularly limited as long as the silicon (Si) atom concentration and the oxygen (O) atom concentration are within the above-mentioned composition.
  • silicon (Si) atom concentration and the oxygen (O) atom concentration are within the above-mentioned composition.
  • Zn zinc
  • Al aluminum
  • Ti titanium
  • a metal oxide formed from zirconium (Zr), tin (Sn), indium (In), niobium (Nb), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), palladium (Pd), or the like may be included.
  • the thickness of the overcoat layer is preferably 0.01 ⁇ m or more, and more preferably 0.05 ⁇ m or more. When the thickness of the layer is less than 0.01 ⁇ m, there may be a portion where the gas barrier property cannot be sufficiently secured and the gas barrier property may vary.
  • the upper limit of the thickness of the overcoat layer is preferably 0.5 ⁇ m or less, and more preferably 0.2 ⁇ m or less. When the thickness of the overcoat layer is greater than 0.5 ⁇ m, the stress remaining in the layer increases, so that the overcoat layer is liable to crack due to bending or external impact, and the gas barrier property decreases with use. There is a case.
  • the method for forming the overcoat layer is not particularly limited.
  • the overcoat layer can be formed by a film forming method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a CVD method.
  • a film forming method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a CVD method.
  • cracks, pinholes, atoms existing on the surface of the gas barrier layer can be formed.
  • the atoms constituting the overcoat layer are activated on the gas barrier layer surface in a state where the surface of the gas barrier layer is controlled at 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
  • a method of forming the overcoat layer while treating the surface of the gas barrier layer with high energy is preferable.
  • the method applied to the formation of the overcoat layer containing the silicon compound used in the present invention can efficiently fill the defects on the surface of the gas barrier layer with atoms, and can further uniformly treat the surface of the gas barrier layer with a large area.
  • a plasma CVD method using an inductively coupled CVD electrode is more preferable.
  • the silicon-based organic compound used in the CVD method is a compound containing silicon inside the molecule.
  • the overcoat layer mainly composed of a resin composition As an overcoat layer that can further reduce the intrusion of water from the outside and maintain gas barrier properties even in a high temperature and high humidity environment, the overcoat layer mainly composed of a resin composition will be described in detail.
  • a means for forming the overcoat layer for example, a reverse coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a bar coating method, a die coating method, a spray coating method, or the like can be used.
  • the overcoat layer in the present invention preferably has a crosslinked structure from the viewpoint of gas barrier properties.
  • the carbon-carbon double bond group that contributes to the polymerization reaction in this case include, for example, isopropenyl group, isopentenyl group, allyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, methacryl group, and acrylamide group.
  • a halogen element such as fluorine or chlorine
  • vinyl fluoride group for example, a vinyl fluoride group, a vinylidene flu
  • thermoplastic resins examples include thermoplastic resins, thermosetting resins, photocurable resins, and the like, for example, epoxy resins, polyesters, etc.
  • Cl element chlorine element
  • F element fluorine element
  • additives that can be included in the overcoat layer when the overcoat layer is applied to the gas barrier film of the present invention include, for example, organic and inorganic fine particles, crosslinking agents, flame retardants, flame retardant aids, heat stabilizers, acid resistances Stabilizers, leveling agents, slip activators, antistatic agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, nucleating agents, dyes, fillers, dispersants, and coupling agents.
  • the thickness of the overcoat layer is preferably 0.5 ⁇ m or more.
  • the thickness of the overcoat layer is less than 0.5 ⁇ m, the barrier property against the ingress of water from the outside is insufficient in a high-temperature and high-humidity environment, and the adhesion between the overcoat layer and the gas barrier layer over time when used in a high-temperature and high-humidity environment. May decrease.
  • the base film As the base film, a thermoplastic resin film is preferable.
  • the base film is preferably exemplified by a single layer film or a film having two or more layers, for example, a film formed by a coextrusion method. Moreover, the film etc. extended
  • thermoplastic resin film is not particularly limited, and examples thereof include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides such as nylon, polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, cyclic polyolefins or copolymers thereof.
  • polyester films and cyclic polyolefin films are preferred because of excellent transparency, dimensional stability, mechanical properties, heat resistance, electrical properties, chemical resistance, and the like.
  • polyester film a polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
  • the cyclic polyolefin film is exemplified by a resin film mainly composed of a cyclic polyolefin resin (COP) or a cyclic polyolefin copolymer resin (COC).
  • the main component means that the constituent ratio of COP or COC among the resin components constituting the resin film is 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more.
  • it is 80 mass% or more, More preferably, it is 90 mass% or more, Most preferably, it is 95 mass% or more.
  • the cyclic polyolefin film has the advantage of low retardation (low birefringence) and low color viewing angle dependency when used in an organic EL device or the like.
  • Cyclic polyolefin resin means a resin obtained by polymerizing only “a repeating unit containing a cyclic olefin in the main chain”.
  • the cyclic polyolefin copolymer resin means a resin obtained by copolymerizing at least “a repeating unit containing a cyclic olefin in the main chain” and “a repeating unit made of an olefin not containing a cyclic olefin in the main chain”.
  • cyclic olefin constituting COP and COC for example, Cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclohexene, cyclooctene, cyclopentadiene, 1,3-cyclohexadiene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, 3a, 5, 6 , 7a-tetrahydro-4,7-methano-1H-indene and the like, Norbornene, dicyclopentadiene, tetracyclododecene, ethyltetracyclododecene, ethylidenetetracyclododecene, tetracyclo [7.4.0.110, 13.02,7] trideca-2,4,6,11-tetraene Polycyclic olefins, such as Etc.
  • Examples of monomers other than the cyclic olefin constituting the cyclic polyolefin copolymer resin (COC) include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, and 3-methyl.
  • the cyclic polyolefin film can also be obtained as a commercial product.
  • commercially available products for example, “ZEONEX”, “ZEONOR (registered trademark)” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., “Essina” of Sekisui Chemical Co., Ltd., “ARTON (registered trademark)” of JSR Corporation, Hitachi Chemical's "Optretz”, Mitsui Chemicals' "Apel (registered trademark)” and others.
  • the thickness of the base film is not particularly limited, but is preferably 500 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less from the viewpoint of ensuring flexibility.
  • the viewpoint of securing strength against tension and impact it is preferably 5 ⁇ m or more, and more preferably 10 ⁇ m or more. Further, from the viewpoint of ease of processing and handling of the gas barrier film, 50 ⁇ m to 200 ⁇ m is more preferable.
  • an easy-adhesion layer is provided on one or both sides of the polyethylene terephthalate film in order to improve the adhesion between the gas barrier layer, the undercoat layer or the backcoat layer and the polyethylene terephthalate film. It is preferable.
  • the easy adhesion layer preferably contains at least one resin in the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin and a urethane resin as the resin.
  • the easy-adhesion layer is preferably a thermosetting layer containing the resin and a crosslinking agent.
  • crosslinking agents include melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and epoxy crosslinking agents.
  • the easy adhesion layer preferably contains inorganic particles having an average particle size of 0.1 to 0.4 ⁇ m in order to further improve the slipperiness.
  • Colloidal silica is preferably used as the inorganic fine particles.
  • the thickness of the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.01 ⁇ m to 0.3 ⁇ m, more preferably in the range of 0.02 to 250 ⁇ m, and particularly preferably in the range of 0.03 to 0.2 ⁇ m.
  • the easy-adhesion layer on the side where the backcoat layer is laminated preferably has a refractive index of 1.55 to 1.61 from the viewpoint of making the reflected color of the backcoat layer surface neutral and colorless.
  • the range of 1.56 to 1.60 is more preferable, and the range of 1.57 to 1.59 is particularly preferable.
  • An easy-adhesion layer having a refractive index of 1.55 to 1.61 can be obtained, for example, by using a polyester resin having a condensed aromatic ring in the molecule as the resin.
  • the condensed aromatic ring include a naphthalene ring and a fluorene ring.
  • the polyester resin is generally obtained by polycondensation from a carboxylic acid component and a glycol component.
  • the polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be synthesized by using a dicarboxylic acid having a naphthalene ring such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a carboxylic acid component. .
  • the refractive index of the polyester resin having a naphthalene ring in the molecule can be controlled by adjusting the ratio of the dicarboxylic acid having a naphthalene ring in the total carboxylic acid component.
  • the polyester resin having a fluorene ring in the molecule can be synthesized by using a compound having a fluorene ring as the carboxylic acid component and / or glycol component.
  • the refractive index of the polyester resin can be controlled by adjusting the content of the compound having a fluorene ring.
  • numerator is described in detail in the international publication 2009/145075, for example, It can synthesize
  • the back coat layer is provided on the surface opposite to the gas barrier layer of the base film.
  • the back coat layer preferably includes a thermosetting resin or an active energy ray curable resin as a resin component, and further preferably includes an active energy ray curable resin that is cured by an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. .
  • an active energy ray-curable acrylic resin is preferable.
  • the active energy ray-curable acrylic resin a composition in which monomers, oligomers, and prepolymers having a polymerizable functional group such as (meth) acryloyl group and (meth) acryloyloxy group are appropriately mixed can be used.
  • Examples of monomers include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl Monofunctional acrylates such as (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1 , 6-Hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri
  • polyester (meth) acrylate polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, etc.
  • polyester (meth) acrylate polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, etc.
  • the above-mentioned monomers, oligomers and prepolymers may be used singly or in combination, but it is preferable to use a trifunctional or higher polyfunctional monomer.
  • the content of the active energy ray-curable acrylic resin is preferably 50% by mass or more, more preferably 55% by mass or more, with respect to 100% by mass of the total solid content of the backcoat layer. Further, it is preferably 60% by mass or more, and particularly preferably 70% by mass or more.
  • photopolymerization initiators include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4 , 4'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoylformate, p-isopropyl- ⁇ -hydroxyisobutylphenone, ⁇ -hydroxyisobutylphenone, 2,2 -Carbonyl compounds such as dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohe
  • the content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10% by mass, preferably in the range of 0.5 to 8% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the backcoat layer.
  • the back coat layer preferably has the function of a hard coat layer.
  • the back coat layer preferably has a pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) of F or higher, and more preferably H or higher.
  • the upper limit is about 9H.
  • the back coat layer preferably has a small coefficient of dynamic friction when contacting the surface on the gas barrier layer side.
  • the dynamic friction coefficient between the back coat layer side surface and the gas barrier layer side surface is 0.7 or less.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the backcoat layer is 1.5 nm or more and less than 15 nm.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the backcoat layer is less than 1.5 nm, the dynamic friction coefficient increases, and good slipperiness may not be obtained.
  • the arithmetic average roughness Ra on the surface of the backcoat layer is 15 nm or more, the haze value is increased and the transparency of the gas barrier film may be lowered.
  • the arithmetic average roughness Ra of the backcoat layer is 15 nm or more
  • the pressure on the gas barrier layer side and the backcoat layer side is large.
  • the gas barrier layer may be cracked or scratched, and the gas barrier property may be deteriorated.
  • the arithmetic average roughness Ra of the backcoat layer surface is preferably 1.5 nm or more, more preferably 1.8 nm or more, and particularly preferably 2.0 nm or more from the viewpoint of reducing the dynamic friction coefficient.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the backcoat layer is preferably less than 15 nm, more preferably less than 10 nm, further preferably less than 8 nm, and particularly preferably less than 5 nm.
  • the backcoat layer has an average particle diameter (r: ⁇ m) smaller than the thickness of the backcoat layer (d: ⁇ m). It is preferable to contain particles, and it is preferable that protrusions of the particles are formed on the back coat layer surface. In this way, by forming protrusions on the surface of the backcoat layer with particles having an average particle diameter (r) smaller than the thickness (d) of the backcoat layer, slippage is suppressed while suppressing an increase in the haze value of the gas barrier film. Can be improved.
  • the ratio (r / d) between the average particle diameter (r: ⁇ m) and the backcoat layer thickness (d: ⁇ m) is preferably 0.8 or less, more preferably 0.5 or less, and 0 .3 or less is more preferable, and 0.2 or less is particularly preferable.
  • the lower limit is preferably 0.01 or more, more preferably 0.02 or more, and particularly preferably 0.03 or more.
  • the average height of the protrusions formed by particles formed on the backcoat layer surface is preferably 0.01 ⁇ m or more, more preferably 0.02 ⁇ m or more, from the viewpoint of controlling the above dynamic friction coefficient to 0.7 or less. 0.03 ⁇ m or more is particularly preferable.
  • the upper limit of the average height of the protrusion is preferably 0.3 ⁇ m or less, more preferably 0.25 ⁇ m or less, and more preferably 0 from the viewpoint of suppressing an increase in haze value and suppressing deterioration of gas barrier properties in the production process. .2 ⁇ m or less is preferable, and 0.1 ⁇ m or less is particularly preferable.
  • the protrusion height means the length from the top of the protrusion to the back coat layer surface.
  • the height of the protrusion can be confirmed by observing the cross section of the backcoat layer with a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM).
  • SEM scanning electron microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • the density of protrusions formed by particles formed on the backcoat layer surface is preferably 100 or more per 100 ⁇ m 2 , more preferably 200 or more, and particularly preferably 300 or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 or less, more preferably 7000 or less, and particularly preferably 4000 or less.
  • the protrusions may be formed such that individual particles independently form individual protrusions, or a plurality of particles randomly aggregate or aggregate to form protrusions.
  • the density of protrusions described above means protrusions formed by one particle.
  • the density of the protrusions can be easily confirmed by observing the surface of the backcoat layer with a scanning electron microscope (SEM).
  • the range of the average particle diameter (r) of the particles contained in the backcoat layer is preferably selected from the range in which the ratio (r / d) to the thickness (d) of the backcoat layer is 0.8 or less, Specifically, a range of 0.03 to 0.5 ⁇ m is preferable, a range of 0.04 to 0.4 ⁇ m is more preferable, and a range of 0.05 to 0.3 ⁇ m is particularly preferable.
  • the average particle diameter (r) of the particles contained in the backcoat layer is less than 0.03 ⁇ m, protrusions are not formed on the surface of the backcoat layer, and slipperiness and blocking resistance may be insufficient.
  • the average particle diameter (r) exceeds 0.5 ⁇ m, the haze value increases and transparency may be lowered.
  • Examples of particles to be included in the back coat layer include organic particles and inorganic particles.
  • an acrylic resin As the resin constituting the organic particles, an acrylic resin, a styrene resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a silicone resin, a fluorine resin, or 2 used for the synthesis of the above resin.
  • examples thereof include copolymer resins of more than one type of monomer.
  • acrylic resin particles are preferably used.
  • acrylic resin particles acrylic resin particles, methacrylic resin particles, acrylic monomers or methacrylic monomers and other monomers (for example, styrene, urethane acrylate, urethane methacrylate, polyester acrylate, polyester) And copolymer resin particles such as methacrylate, silicone acrylate, and silicone methacrylate).
  • organic particles are preferably synthesized by an emulsion polymerization method, and organic particles having an average particle size of 0.5 ⁇ m or less can be obtained by synthesis by an emulsion polymerization method.
  • Inorganic particles include inorganic particles such as silica, aluminum oxide, calcium carbonate, and zeolite. Among these, silica particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable.
  • the backcoat layer In order to form sufficient protrusions on the backcoat layer with particles having an average particle diameter (r: ⁇ m) smaller than the thickness (d: ⁇ m) of the backcoat layer, there are relatively many particles in the vicinity of the surface of the backcoat layer It is preferable to make it. That is, it is preferable that a part of the particles contained in the backcoat layer move (float) near the surface of the layer to increase the particle density in the vicinity of the surface.
  • the particles to be contained in the back coat layer are preferably particles in which a part of the particles easily move (float) near the surface of the layer.
  • inorganic particles are preferable, and silica particles are particularly preferable.
  • the inorganic particles that have been subjected to such treatment are likely to move (float) near the surface of the layer.
  • Examples of the surface treatment agent for reducing the surface free energy of the inorganic particles include an organosilane compound having a fluorine atom, a hydrolyzate of the organosilane, or a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane.
  • Examples of the inorganic particles treated with the above-mentioned surfactant include inorganic particles obtained by treating silica particles (preferably colloidal silica) with a surfactant having an ethyleneoxy group in the molecule.
  • the content of particles in the backcoat layer is 1.5 masses with respect to 100 mass% of the total solid content of the backcoat layer from the viewpoint of reducing the dynamic friction coefficient. % Or more, preferably 3.5% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and particularly preferably 7% by mass or more.
  • the upper limit content is preferably 30% by mass or less and more preferably 25% by mass or less with respect to 100% by mass of the total solid content of the backcoat layer. 20% by mass or less is particularly preferable.
  • the thickness (d: ⁇ m) of the back coat layer is suitably in the range of 0.5 to 20 ⁇ m, and in the range of 0.5 to 10 ⁇ m from the viewpoint of increasing the gas barrier film transmittance and providing flexibility.
  • the range of 0.7 to 3 ⁇ m is preferable.
  • the thickness (d: ⁇ m) of the back cord layer is less than 0.5 ⁇ m, the hardness of the back coat layer is lowered and scratches are easily formed.
  • the thickness of the back cord layer (d: ⁇ m) is larger than 20 ⁇ m, there may be inconveniences such as cracks in the back coat layer and curls in the gas barrier film.
  • the back coat layer can further contain various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, an organic antistatic agent, a lubricant, a colorant, and a pigment.
  • various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, an organic antistatic agent, a lubricant, a colorant, and a pigment.
  • the range of the refractive index of the backcoat layer is preferably from 1.48 to 1.54, more preferably from 1.50 to 1.54.
  • Examples of the coating method used when wet-coating the backcoat layer include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, and an extrusion coating method. Can be mentioned.
  • a gravure coating method is particularly preferable as a method suitable for coating in a preferable thickness range (0.5 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less) of the backcoat layer.
  • the arithmetic average roughness Ra (sometimes abbreviated as RaB) of the backcoat layer surface is preferably 1.5 nm or more and less than 15 nm, and the arithmetic average roughness of the undercoat layer surface.
  • Ra may be abbreviated as RaU
  • Ra is preferably less than 1.5 nm.
  • the total of RaB and RaU is preferably less than 13 nm, more preferably less than 10 nm, even more preferably less than 7 nm, and particularly preferably less than 5 nm. preferable.
  • the lower limit of the total is preferably 2.5 nm or more, and more preferably 3.0 nm or more from the viewpoint of maintaining good slipperiness.
  • RaB and RaU is preferably in the range of 0.3 to 5.0 nm, and preferably in the range of 0.5 to 4.0 nm from the viewpoint of slipperiness and formation of a homogeneous and dense gas barrier layer.
  • the range is more preferable, and the range of 0.8 to 3.0 nm is particularly preferable.
  • gas barrier film of the present invention is suitable as a gas barrier film for electronic parts such as organic thin film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper.
  • electronic parts such as organic thin film solar cells, organic electroluminescence (EL) devices, and electronic paper.
  • a cyclic polyolefin film As a base film.
  • the cyclic polyolefin film is suitable for an organic EL device because it has low retardation (low birefringence) and high transparency.
  • the gas barrier film applied to the organic EL device is required to have a high degree of flexibility. That is, it is preferable that the gas barrier film is not broken even when it is bent.
  • One index for satisfying this characteristic is a bending resistance test using a cylindrical mandrel method (JIS K5600-5-1: 1999).
  • cracks do not occur in a bending resistance test performed using a cylindrical mandrel having a diameter of 2 mm in accordance with the cylindrical mandrel method (JIS K5600-5-1: 1999).
  • the gas barrier film when the gas barrier film is wound around a cylindrical mandrel having a diameter of 2 mm so that the back coat layer is on the outer side (the surface of the gas barrier film on the gas barrier layer side is in contact with the cylindrical mandrel) It is preferable that no cracks occur in the partial backcoat layer.
  • the gas barrier film when the gas barrier film is wound around a cylindrical mandrel having a diameter of 2 mm so that the gas barrier layer side surface of the gas barrier film is outside (so that the back coat layer surface of the gas barrier film is in contact with the cylindrical mandrel), It is preferred that no cracks occur in the layer.
  • the indentation hardness measured by the nanoindentation method of the backcoat layer is preferably in the range of 200 to 600 N / mm 2 , and 250 to 550 N / mm 2. Is more preferable, and a range of 300 to 500 N / mm 2 is particularly preferable.
  • a zinc compound is preferably used as a material for forming the gas barrier layer.
  • Zinc oxide is preferred as the zinc compound.
  • silicon, aluminum, copper, tin, silicon dioxide, and aluminum oxide are mixed in the zinc compound.
  • the gas barrier layer is preferably a mixture of zinc oxide, silicon dioxide and aluminum oxide.
  • the undercoat layer when an undercoat layer is provided between the base film and the gas barrier layer, the undercoat layer preferably has an elongation crack elongation of 7% or more, and more preferably 10% or more.
  • the upper limit of elongation crack elongation is suitably 200% or less, preferably 100% or less.
  • Thickness of gas barrier layer Samples for cross-sectional observation are obtained by the FIB method using a microsampling system (Hitachi FB-2000A). 119). The cross section of the observation sample was observed with a transmission electron microscope (TEM, Hitachi H-9000UHRII) at an acceleration voltage of 300 kV to determine the thickness of the gas barrier layer.
  • TEM transmission electron microscope
  • Total light transmittance Based on JIS K7361 (1997), it measured using turbidimeter NDH2000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The measurement was performed on three gas barrier films cut into a size of 5 cm long ⁇ 5 cm wide. The number of measurements was 5 times each, and the total value of 15 measurements was taken as the total light transmittance.
  • the gas barrier film is cut to produce two sheet pieces (20 cm ⁇ 15 cm). Place the two sheet pieces slightly on top of each other and place them on a smooth table so that the back coat layer side surface and the gas barrier layer side surface of the two sheet pieces face each other.
  • the slipperiness was determined by a method in which the upper sheet piece was fixed on the table and the upper sheet piece was slid by hand. A: The slipperiness of the upper sheet piece is good. B: The slipperiness of the upper sheet piece is inferior but relatively good. C: The upper sheet piece does not slip.
  • the gas barrier film is cut to produce two sheet pieces (vertical 20 cm ⁇ horizontal 15 cm). The two sheets are overlaid so that the backcoat layer side surface and the gas barrier layer side surface face each other. Next, a sample in which two sheet pieces are overlapped is sandwiched between glass plates, a weight of about 2 kg is placed, and left in an atmosphere of 50 ° C. and 90% (RH) for 48 hours. Next, the overlapping surface was visually observed to confirm the occurrence of Newton rings, and then both were peeled off and evaluated according to the following criteria.
  • C Newton rings are generated on the entire surface before peeling, and are peeled off with a loud peeling sound during peeling.
  • Elongation crack elongation (%) (L1-L0) ⁇ 100 / L0
  • L0 is a dimension before the tensile test is performed
  • L1 is a dimension when a crack is generated by performing the tensile test.
  • ⁇ Measurement of the number of protrusions> The surface of the backcoat layer is photographed at five locations (approximately 10,000 to 100,000 times) with a scanning electron microscope (SEM) to produce five images (surface photographs). Next, for each of the five images, the number of protrusions existing in the range of 2 ⁇ m square (area 4 ⁇ m 2 ) of the image is measured and averaged.
  • composition analysis of gas barrier layer was performed by ICP emission spectral analysis (manufactured by SII Nanotechnology Inc., SPS4000).
  • the sample was thermally decomposed with nitric acid and sulfuric acid, heated and dissolved with dilute nitric acid, and filtered.
  • the insoluble matter was ashed by heating, melted with sodium carbonate, dissolved with dilute nitric acid, and made up to a constant volume with the previous filtrate.
  • content of a zinc atom, a silicon atom, and an aluminum atom was measured, and it converted into atomic ratio.
  • the oxygen atoms were calculated values assuming that zinc atoms, silicon atoms, and aluminum atoms exist as zinc oxide (ZnO), silicon dioxide (SiO 2 ), and aluminum oxide (Al 2 O 3 ), respectively.
  • Measurement mode Load-unloading test ⁇ Maximum load: 100 mN -Holding time when maximum load is reached: 1 second-Loading speed, unloading speed: 10 mN / sec Indentation depth: 1/10 of the film thickness.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PET polyethylene terephthalate
  • Example 1 Preparation of polyethylene terephthalate (PET) film with easy adhesion layer
  • PET pellets (intrinsic viscosity 0.63 dl / g) substantially free of externally added particles are sufficiently vacuum-dried, then supplied to an extruder, melted at 285 ° C., extruded from a T-shaped die into a sheet shape, It was wound around a mirror-casting drum having a surface temperature of 25 ° C. using an electric application casting method and cooled and solidified.
  • This unstretched film was heated to 90 ° C. and stretched 3.4 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially stretched film. After performing corona discharge treatment in air on both surfaces of the uniaxially stretched film, the following easy-adhesion layers A were applied to both surfaces of the uniaxially stretched film.
  • the uniaxially stretched film coated with each easy-adhesion layer A on both sides is held by clips and guided to a preheating zone, dried at an ambient temperature of 75 ° C., raised to 110 ° C. using a radiation heater, and again at 90 ° C. And then continuously stretched 3.5 times in the width direction in a heating zone at 120 ° C., followed by heat treatment for 20 seconds in a heating zone at 220 ° C. Produced.
  • the thickness of the easy-adhesion layer-laminated PET film thus obtained was 100 ⁇ m, the thickness of the easy-adhesion layer A laminated on both sides was 0.08 ⁇ m, and the refractive index was 1.58. *
  • undercoat layer An undercoat layer was laminated on one side of a PET film having an easy adhesion layer laminated on both sides.
  • a coating solution for forming the undercoat layer “Unidic (registered trademark)” RC29-124 (urethane acrylate UV curable film coating agent) manufactured by DIC Corporation is used in MEK for NV (solid content concentration) of 50 mass. % Prepared was used.
  • This coating solution was applied with a bar coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiation with ultraviolet rays at an intensity of 300 mJ / cm 2 to provide an undercoat layer having a thickness of 1 ⁇ m.
  • the elongation crack elongation of this undercoat layer was 12%.
  • the back coating layer forming coating liquid (active energy ray-curable composition a1) described below is gravure on the surface opposite to the under coating layer of the PET film on which the under coating layer is laminated so that the dry thickness becomes 1 ⁇ m.
  • ultraviolet rays were irradiated and cured at an intensity of 400 mJ / cm 2 to form a backcoat layer.
  • the refractive index of this back coat layer was 1.51, and projections made of particles were formed on the back coat layer surface.
  • organosilica sol IPA-STZL manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • the specific operation is as follows. First, as shown in FIG. 4, in the roll-to-roll take-up type sputtering apparatus 6 in which the sputter target is installed on the sputter electrodes 9 and 60, the undercoat layer and the back coat are applied to the unwind roll 7.
  • the base film (PET film) 1 provided with the layer is unwound by setting it so that the surface on the undercoat layer side faces the sputter electrodes 9 and 60, and is cooled with cooling water through the guide rolls 10 and 50. It passed through the cooling roll 8 adjusted to 15 ° C.
  • Argon gas and oxygen gas (the ratio of oxygen gas was 10%) were introduced so as to be 2 ⁇ 10 ⁇ 1 Pa.
  • Argon / oxygen gas plasma was generated by applying an input power of 4000 W from a DC power source, and a gas barrier layer was formed with a thickness of 0.15 ⁇ m on the surface of the undercoat layer by sputtering to produce a gas barrier film. Then, it wound up on the winding roll 11 via the guide rolls 51, 52, and 53.
  • the composition of the gas naria layer obtained as described above has a Zn atom concentration of 27.5 atom%, an Si atom concentration of 13.1 atom%, an Al atom concentration of 2.3 atom%, and an O atom concentration of 57.1 atom%. there were.
  • Example 2 A gas barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to the following active energy ray-curable composition a2.
  • Example 3 The coating solution for the undercoat layer was diluted with Taisei Fine Chemical Co., Ltd. “8KX-077 (UV curable acrylic polymer)” to 20 mass% of NV (solid content concentration) with MEK, and then the photoinitiator I- A gas barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution was prepared by adding 3% of 184. The elongation crack elongation of this undercoat layer was 15%.
  • Example 4 A gas barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to the following active energy ray-curable composition a3.
  • the refractive index of this back coat layer was 1.51, and projections made of particles were formed on the back coat layer surface.
  • a polymerization initiator Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
  • Vapor phase silica (“Aerosil OX50” from Nippon Aerosil Co., Ltd.) was dispersed in an organic solvent (MEK) to obtain a dispersion having a silica concentration of 15 mass%.
  • MEK organic solvent
  • a bead mill was used as a dispersing device.
  • Example 1 a PET film in which the easy adhesion layers were laminated on both surfaces was produced in the same manner as in Example 1 except that the easy adhesion layer A on the backcoat layer side was changed to the following easy adhesion layer B.
  • An undercoat layer and a gas barrier layer were laminated on the surface of the easy adhesion layer A of this PET film in the same manner as in Example 1 to obtain a gas barrier film.
  • the back coat layer was not provided on the surface of the easy adhesion layer B of the PET film.
  • (excellent adhesive layer B) 100 parts by mass of a polyester resin containing a naphthalene ring, 5 parts by mass of a methylol-type melamine-based cross-linking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), and 5 parts by mass of colloidal silica having an average particle size of 0.3 ⁇ m contains.
  • Example 2 A gas barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to the following active energy ray-curable composition a4.
  • the back coat layer had a refractive index of 1.51, and no protrusions due to particles were formed on the back coat layer surface.
  • Example 3 A gas barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to the following active energy ray-curable composition a5.
  • the refractive index of this back coat layer was 1.51, and projections made of particles were formed on the back coat layer surface.
  • organic particles average particle diameter 1.5 ⁇ m
  • organic particles average particle diameter 1.5 ⁇ m
  • photopolymerization initiator Irgacure (registered trademark)” 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
  • Example 4 A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a sputter target obtained by sintering silicon dioxide at the time of forming the gas barrier layer was used.
  • Example 5 A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a sputter target obtained by sintering aluminum oxide was used when forming the gas barrier layer.
  • Table 1 shows the results of evaluating the gas barrier films of Examples and Comparative Examples prepared above.
  • Example 11 A protective film of a 50 ⁇ m-thick cyclic olefin resin film (“ZeonorFilm (registered trademark)” ZF14: a protective film is laminated on one side) of Nippon Zeon Co., Ltd. (Active energy ray-curable composition a6) is applied with a gravure coater so that the dry thickness is 1.5 ⁇ m, dried at 90 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays at an intensity of 400 mJ / cm 2 , and back coating A layer was formed. The refractive index of this back coat layer was 1.51, and projections made of particles were formed on the back coat layer surface.
  • Active energy ray-curable composition a6 is applied with a gravure coater so that the dry thickness is 1.5 ⁇ m, dried at 90 ° C.,
  • Example 1 ⁇ Active energy ray-curable composition a6>
  • the surface-treated silica particle dispersion 1 used in Example 1 was applied in solid content conversion to an ultraviolet curable resin coating solution containing “trifunctional urethane acrylate oligomer” (“UV-7550B” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.). It added so that it might become 9 mass% with respect to the total solid of a liquid, and it diluted with the organic solvent (MEK), and prepared the coating liquid whose solid content concentration is 20 mass%.
  • UV-7550B UV-7550B
  • a gas barrier layer was laminated in the same manner as in Example 1 on the surface opposite to the back coat layer of the cyclic polyolefin film on which the back coat layer was laminated to obtain a gas barrier film.
  • Example 12 A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 11 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to the following active energy ray-curable composition a7.
  • the refractive index of this back coat layer was 1.51, and projections made of particles were formed on the back coat layer surface.
  • ⁇ Active energy ray-curable composition a7) The surface-treated silica particle dispersion 2 used in Example 4 was applied to the UV curable coating agent “Aika Itron (registered trademark)” Z-850-3 manufactured by Aika Industry Co., Ltd. It added so that it might become 11 mass% with respect to solid content, and it diluted with the organic solvent (MEK), and prepared the coating liquid whose solid content concentration is 20 mass%.
  • Aika Itron registered trademark
  • MEK organic solvent
  • Example 13 In Example 11, a gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 11 except that an undercoat layer similar to that in Example 1 was provided between the cyclic polyolefin film and the gas barrier layer.
  • Example 14 In Example 12, a gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 12 except that an undercoat layer similar to that in Example 1 was provided between the cyclic polyolefin film and the gas barrier layer.
  • Example 11 A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 11 except that the coating liquid for forming the backcoat layer was changed to the following active energy ray-curable composition a7.
  • ⁇ Active energy ray-curable composition a7) A UV-curable resin coating solution containing “10-functional urethane acrylate oligomer” (“UV-1700B” from Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) is diluted with an organic solvent (MEK) to obtain a solid content concentration of 20% by mass. Was prepared.
  • Example 12 A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 11 except that the sputtering target was obtained by sintering silicon dioxide when forming the gas barrier layer.
  • Table 2 shows the results of evaluating the gas barrier films of Examples and Comparative Examples prepared above.

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Abstract

ガスバリア性および透明性が高く、かつ生産工程や加工工程におけるガスバリア性の悪化が抑制されたガスバリアフィルムを提供する。基材フィルムの一方の面にガスバリア層を有し、基材フィルムの他方の面にバックコート層を有するガスバリアフィルムであって、ヘイズ値が０．８％未満、水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、かつ前記バックコート層側の面とガスバリア層側の面との動摩擦係数が０．７以下であることを特徴とする、ガスバリアフィルムである。

Description

ガスバリアフィルム
　本発明は、ガスバリアフィルムに関し、詳細には高いガスバリア性と高い透明性が必要とされる有機薄膜太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイス、電子ペーパーなどの電子部品に好適なガスバリアフィルムに関する。
　電子部品に使用されるガスバリアフィルムは、透明性が高く、かつガスバリア性が良好であることが要求されている。
　ガスバリアフィルムとしては、基材フィルムに、有機ケイ素化合物がプラズマＣＶＤ法により積層されたもの、あるいは二酸化ケイ素、酸化アルミニウムなどの金属酸化物がスパッタ法により積層されたものが、知られている。
　一方、ガスバリアフィルムの加工時の巻取適性を向上させるために、ガスバリアフィルムの一方の面と他方の面との静摩擦係数を調整することが提案されている（特許文献１）
国際公開第２０１３／１４７０９０号
　上記特許文献１は、他方の面（ガスバリア層とは反対面）の算術平均粗さＲａを比較的大きくすること、例えばＲａを１５ｎｍ以上とすることにより、静摩擦係数を制御することを開示する。
　しかし、他方の面（ガスバリア層とは反対面）のＲａを大きくすると、ガスバリアフィルムのヘイズ値が高くなり、透明性が低下することがある。また、他方の面（ガスバリア層とは反対面）のＲａを大きくすると、生産工程や加工工程でロール状巻取られた時に、ガスバリア層と他方の面とが大きい圧力で接触することにより、ガスバリア層にクラックや傷が入り、ガスバリア性が悪化することがある。また、特許文献１には、水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であるガスバリアフィルムは開示されていない。
　従って、本発明の目的は、ガスバリア性および透明性が高く、かつ生産工程や加工工程におけるガスバリア性の悪化が抑制されたガスバリアフィルムを提供することにある。
　本発明の上記目的は、以下の発明によって達成される。
[１]基材フィルムの一方の面にガスバリア層を有し、基材フィルムの他方の面にバックコート層を有するガスバリアフィルムであって、ヘイズ値が０．８％未満、水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、かつ前記バックコート層側の面とガスバリア層側の面との動摩擦係数が０．７以下であることを特徴とする、ガスバリアフィルム。
[２]前記ガスバリア層が、亜鉛化合物を含有する、[１]に記載のガスバリアフィルム。　[３]前記ガスバリア層が、酸化亜鉛－二酸化ケイ素－酸化アルミニウムの共存相からなる層である、[１]または[２]に記載のガスバリアフィルム。
[４]前記ガスバリア層が、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛（Ｚｎ）原子濃度が２０．０～４０．０atom％、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が５．０～２０．０atom％、アルミニウム（Ａｌ）原子濃度が０．５～５．０atom％、酸素（Ｏ）原子濃度が３５．０～７０．０atom％である、[１]～[３]のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
［５］水蒸気透過率が１．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である、［１］～［４］のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
[６]前記バックコート層の算術平均粗さＲａが、１．５ｎｍ以上１５ｎｍ未満である、[１]～[５]のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
[７]前記バックコート層が、平均粒子径（ｒ：μｍ）がバックコート層の膜厚（ｄ：μｍ）より小さい粒子を含有し、バックコート層表面に前記粒子による突起を有する、[１]～[６]のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
［８］前記バックコート層の膜厚（ｄ：μｍ）と粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．８以下である、［７］に記載のガスバリアフィルム。
［９］前記バックコート層の鉛筆硬度がＦ以上である、［１］～［８］のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
[１０]前記基材フィルムとガスバリア層との間にアンダーコート層を有する、[１]～[９]のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
[１１]前記アンダーコート層の算術平均粗さＲａが１．５ｎｍ未満である、[１０]に記載のガスバリアフィルム。
[１２]前記ガスバリア層の上に、オーバーコート層を有する、[１]～[１１]のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
[１３]基材フィルムとバックコート層との間に、屈折率が１．５５～１．６１である易接着層を有する、[１]～[１２]のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
［１４］前記基材フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは環状ポリオレフィンフィルムである、［１］～［１３］のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
[１５]［１］～[１４]のいずれかに記載のガスバリアフィルムを備えた、有機薄膜太陽電池。
[１６]［１］～[１４]のいずれかに記載のガスバリアフィルムを用いた有機ＥＬデバイス。
[１７]［１］～[１４]のいずれかに記載のガスバリアフィルムを用いた電子ペーパー
　本発明によれば、ガスバリア性および透明性が高く、かつ生産工程や加工工程におけるガスバリア性の悪化が抑制されたガスバリアフィルムを提供することができる。
　本発明の好ましい態様によれば、耐擦傷性が良好なガスバリアフィルムを提供することができる。
　また、本発明の好ましい態様によれば、耐屈曲性に優れたガスバリアフィルムを提供することができる。
　また、本発明の好ましい態様によれば、基材フィルムのガスバリア層とは反対面のバックコート層と基材フィルムとの密着性が良好でかつ反射色ムラが抑制されたガスバリアフィルムを提供することができる。
　また、本発明のガスバリアフィルムは、高いガスバリア性を必要とされる有機薄膜太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイス、電子ペーパーなどの電子部品に好適である。
本発明のガスバリアフィルムの一例を示した模式断面図である。 本発明のガスバリアフィルムの一例を示した模式断面図である。 本発明のガスバリアフィルムの一例を示した模式断面図である。 本発明のガスバリアフィルムの製造に用いられる真空成膜装置の一例を示す概略側面図である。
　以下本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　[ガスバリアフィルム]
　図１は、本発明のガスバリアフィルムの断面の一例を示す模式図である。本発明のガスバリアフィルムは、基材フィルム１の一方の面にガスバリア層２を有し、基材フィルム１の他方の面にバックコート層３を有する。
　本発明のガスバリアフィルムは、図２に示すように、基材フィルム１とガスバリア層２との間にアンダーコート層４を有していることが好ましい。
　さらに、本発明のガスバリアフィルムは、図３に示すように、ガスバリア層２の上にオーバーコート層５をさらに有することが好ましい。
　本発明のガスバリアフィルムは、有機薄膜太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイス、電子ペーパーなどの電子部品のガスバリアフィルムとして好適である。上記した電子部品に適用されるガスバリアフィルムは高い透明性が要求されることから、ガスバリアフィルムのヘイズ値は小さいことが好ましい。上記の観点から、本発明のガスバリアフィルムは、ヘイズ値が０．８％未満である。さらに、ヘイズ値は０．６％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましく、０．４％未満であることが特に好ましい。下限のヘイズ値は小さいほど好ましく、従って特に限定されない。ヘイズが０．８％以上になると透明性が悪くなり電子部品の材料のガスバリアフィルムとして使用することが難しくなることがある。
　本発明のガスバリアフィルムは、全光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
　本発明のガスバリアフィルムは、水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である。さらに、水蒸気透過率が１．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であることが好ましく、特に５．０×１０－４ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であることが好ましい。水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上であると、素子を劣化させたり、素子の発電効率を悪化させてしまうため電子部品の材料のガスバリアフィルムとして使用することが難しくなる。　
　本発明のガスバリアフィルムは、バックコート層側の面とガスバリア層側の面との動摩擦係数が０．７以下である。これによって、ガスバリアフィルムの生産工程や加工工程において、バックコート層側の面とガスバリア層側の面との接触による滑り性不良やくっつき（ブロッキング）が抑制される。また、上記のように動摩擦係数を０．７以下とすることにより、巻き締まりや巻きズレ、搬送工程での傷、エア噛みによるシワ、帯電による異物混入などに起因するガスバリア層への傷やクラックの発生を抑制し、ガスバリア性の悪化を抑制することができる。上記動摩擦係数は、さらに０．６以下がより好ましく、０．５以下が特に好ましい。動摩擦係数の下限は特に限定されないが、０．０１程度である。
　[ガスバリア層]
　本発明にかかるガスバリア層は、材料、組成あるいは構成は特に限定されず、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満となるような、材料、組成あるいは構成とすることができる。
　透明性が高く、ガスバリア性に優れ、さらに後述する耐屈曲性に優れることから、ガスバリア層を形成する材料としては、亜鉛化合物が好ましく用いられる。亜鉛化合物としては酸化亜鉛が好ましい。さらに、亜鉛化合物にケイ素、アルミニウム、銅、錫、二酸化ケイ素、および酸化アルミニウムが混合されていることが好ましい。
　本発明にかかるガスバリア層は、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムの混合物であることが好ましい。これによって、耐屈曲性が向上する。耐屈曲性が良好となる理由は、酸化アルミニウムを共存させることによって、酸化亜鉛と二酸化ケイ素を共存させる場合に比べて、より結晶成長を抑制することができるため、クラックの生成に起因するガスバリア性低下が抑制できると推測される。
　酸化亜鉛－二酸化ケイ素－酸化アルミニウム共存相からなるガスバリア層の組成は、後述するようにＩＣＰ発光分光分析法により測定することができる。また、本明細書において、共存相からなる層とは、該層の中に、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムが混在することを意味する。
　ガスバリア層の組成は、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛（Ｚｎ）原子濃度は２０.０～４０.０atom％、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度は５.０～２０.０atom％、アルミニウム（Ａｌ）原子濃度は０．５～５.０atom％、酸素（Ｏ）原子濃度は３５.０～７０.０atom％であることが好ましい。亜鉛（Ｚｎ）原子濃度が４０.０atom％より大きくなる、またはケイ素（Ｓｉ）原子濃度が５.０atom％より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、十分なガスバリア性が得られない場合がある。亜鉛（Ｚｎ）原子濃度が２０.０atom％より小さくなる、またはケイ素（Ｓｉ）原子濃度が２０.０atom％より大きくなると、層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下する場合がある。また、アルミニウム（Ａｌ）原子濃度が５.０atom％より大きくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなるため膜の鉛筆硬度が上昇し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。アルミニウム原子濃度が０．５atom％より小さくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が不十分となり、層を形成する粒子間の結合力が向上できないため、柔軟性が低下する場合がある。また、酸素（Ｏ）原子濃度が７０.０atom％より大きくなると、層内の欠陥量が増加するため、所定のガスバリア性が得られない場合がある。酸素（Ｏ）原子濃度が３５atom％より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となり、結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなるため、ガスバリア性が悪化する場合がある。かかる観点から、亜鉛（Ｚｎ）原子濃度が２５.０～３５.０atom％、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が１０.０～１５.０atom％、アルミニウム（Ａｌ）原子濃度が１.０～３.０atom％、酸素原子濃度が５０.０～６４.０atom％であることがより好ましい。
　上記した、酸化亜鉛－二酸化ケイ素－酸化アルミニウム共存相からなるガスバリア層は、他の金属、例えば、チタン、錫、銅、インジウム、ガリウム、ジルコニウム、二オブ、モリブデン、タンタルなどの金属、あるいはこれらの金属の酸化物、窒化物、硫化物を、ガスバリア性、耐屈曲性および透明性を低下させない範囲で含むことができる。
　また、酸化亜鉛－二酸化ケイ素－酸化アルミニウム共存相からなるガスバリア層は、他の酸化物、例えば、ケイ素と酸素の組成比率がずれたＳｉＯ～ＳｉＯ２、または亜鉛、ケイ素およびアルミニウムの２種以上を同時に含む複合酸化物を、ガスバリア性、耐屈曲性および透明性を低下させない範囲で含むことができる。
　ガスバリア層を形成する方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相蒸着法（ＣＶＤ法ともいう）等によって形成することができる。
　ガスバリア層の厚みは、０．０５μｍ以上が好ましい。ガスバリア層の厚みが０．０５μｍより薄くなると、ガスバリア性が十分に確保できにくい箇所が発生し、ガスバリアフィルムの面内でガスバリア性がばらつくなどの問題が生じる場合がある。また、本発明にかかるガスバリア層の厚みは、０．５μｍ以下が好ましく、０．３μｍ以下がより好ましい。ガスバリア層の厚みが０．５μｍより厚くなると、無機物層の形成後に層内に残留する応力が大きくなるため、曲げや外部からの衝撃によってガスバリア層にクラックが発生しやすくなり、使用に伴いガスバリア性が低下する場合がある。ガスバリア性、フレキシブル性を確保する観点からガスバリア層の厚みは０．１μｍ～０．２μｍの範囲が最も好ましい。
　[アンダーコート層］
　本発明のガスバリアフィルムは、基材フィルムとガスバリア層との間にアンダーコート層を有することが好ましい。
　ガスバリア層を形成する条件としては、基材フィルムの側から厚み０．０１μｍ以下の初期成長過程において、均質かつ緻密で密度が高く形成されるようにするために、ガスバリア層を形成する面をあらかじめ無機物層を形成する粒子が表面拡散しやすい平滑な面に形成したり、ガスバリア層を形成する際にガスバリア層を形成する粒子を活性化させるエネルギーを高く設定したりすることが好ましい。具体的には、基材フィルムの表面を平滑な面にする方法として、基材フィルム上にアンダーコート層を形成する方法が好ましい。
　上記観点から、アンダーコート層の表面の算術平均粗さＲａは、１．５ｎｍ未満であることが好ましく、１．３ｎｍ未満であることがより好ましく、１．０ｎｍ未満であることが特に好ましい。下限の算術平均粗さＲａは、特に限定されないが、現実的な下限は０．１ｎｍ程度である。
　アンダーコート層は、樹脂成分として熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましく、更に、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。特に、活性エネルギー線硬化性のアクリル樹脂が好ましい。
　活性エネルギー線硬化性のアクリル樹脂としては、後述のバックコート層と同様のものを用いることができる。
　アンダーコート層は、その表面の算術平均粗さＲａを１．５ｎｍ未満とするために、平均粒子径がアンダーコート層より大きい粒子を含有しないことが好ましい。
　一方、アンダーコート層には、アンダーコート層の厚みより十分に平均粒子径が小さい粒子、例えば、平均粒子径がアンダーコート層の厚みの１／２以下、さらには１／５以下、特に１／１０以下の粒子を含有することができる。これらの粒子の含有量は、アンダーコート層の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％程度が適当であり、０．５～５質量％の範囲が好ましい。
　アンダーコート層は、ガスバリアフィルムの耐屈曲性を向上させるという観点から、伸長クラック伸度が７％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましい。上限の伸長クラック伸度は２００％以下が適当であり、１００％以下が好ましい。
　伸長クラック伸度とは、基材フィルム上にアンダーコート層が積層された状態のフィルムの片側を固定して引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎでフィルムを引っ張ったときに、アンダーコート層にクラックが発生するときの伸び率である。
　上記観点から、アンダーコート層は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーもしくはウレタン（メタ）アクリレートモノマー）を含有することが好ましい。特にウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。
　ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーもしくはウレタン（メタ）アクリレートモノマーとしては、具体的には、共栄化学社製のＡＴ－６００、ＵＡ－１０１ｌ、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６ｌ、ＵＦ－８００１、ＵＦ－８００３等、日本合成化学社製のＵＶ７５５０Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ、ＵＶ－７６５０Ｂ等、新中村化学社製のＵ－４ＨＡ、Ｕ－６ＨＡ、ＵＡ－１００Ｈ、Ｕ－６ＬＰＡ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－３２Ｐ、Ｕ－３２４Ａ、Ｕ－２ＰＰＡ、ＵＡ－ＮＤＰ等、ダイセルユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ－２７０、Ｅｂｅｃｒｙｌ－２８４、Ｅｂｅｃｒｙｌ－２６４、Ｅｂｅｃｒｙｌ－９２６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ－１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ－１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ－５１２９等、根上工業社製のＵＮ－３２２０ＨＡ、ＵＮ－３２２０ＨＢ、ＵＮ－３２２０ＨＣ、ＵＮ－３２２０ＨＳ等、三菱レイヨン社製のＲＱシリーズ、荒川化学工業社製のビームセットシリーズ等が挙げられる。
　アンダーコート層の厚みは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下が好ましい。アンダーコート層の厚みが０．５μｍより薄くなると、基材フィルムの凹凸の影響を受けて、アンダーコート層表面の平滑性が低下することがあり、その結果、ガスバリア層の均一性が低下し、ガスバリア性が低下したり、耐屈曲性が低下する場合がある。
　アンダーコート層の厚みが１０μｍより厚くなると、アンダーコート層の層内に残留する応力が大きくなることによって基材フィルムが反り、ガスバリア層にクラックが発生しガスバリア性が低下する場合がある。従って、アンダーコート層の厚みは０．５μｍ以上、１０μｍ以下が好ましく、フレキシブル性を確保する観点から０．７μｍ以上、５μｍ以下がより好ましく、特に１μｍ以上、２μｍ以下が好ましい。
　アンダーコート層は、ウェットコーティングされることが好ましく、かかるウェットコーティングに用いられる塗布方法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
　[オーバーコート層］
　本発明のガスバリアフィルムは、ガスバリア層の上にオーバーコート層を設けることができる。オーバーコート層はガスバリア層を保護し、外部からの水の浸入をさらに低減し、とりわけ高温、高湿環境においても、さらにガスバリア性を維持する役目を有する。
　＜ケイ素化合物を含むオーバーコート層＞
　ガスバリア性の向上を目的としたオーバーコート層として、ケイ素化合物を主成分とするオーバーコート層について詳細に説明する。本発明におけるオーバーコート層のケイ素化合物として、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素炭化物、ケイ素酸窒化物または、それらの混合物を含んでいてもよい。特に、ケイ素化合物が、二酸化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素および酸窒化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一つを含むことが好ましい。
　ケイ素化合物の含有率は５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上である。なお、本発明におけるケイ素化合物は、Ｘ線光電子分光法、ＩＣＰ発光分光分析、ラザフォード後方散乱法等により成分を特定された各元素の組成比が整数で表される組成式を有する化合物として扱う。たとえば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）は、生成時の条件によって、ケイ素と酸素の組成比率から若干ずれたもの（ＳｉＯ～ＳｉＯ２）が生成することがあるが、そのような場合でも、ＳｉＯ２として扱い上記の質量含有率を算出するものとする。
　本発明のガスバリアフィルムにおいてケイ素化合物を含むオーバーコート層を適用することによりガスバリア性が良好となる理由は、オーバーコート層がガスバリア層の亜鉛原子より原子半径の小さいケイ素原子を含むことで、ガスバリア層表面に存在する数ｎｍ以下サイズの欠陥原子欠陥に効率良くケイ素原子を充填できるため、ガスバリア性は向上すると考えられる。
　オーバーコート層がケイ素酸化物を含む層である場合において、その組成はＸ線光電子分光法により測定されるケイ素（Ｓｉ）原子濃度が２５～４５ａｔｏｍ％、酸素（Ｏ）原子濃度が５５～７５ａｔｏｍ％であることが好ましい。ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が２５ａｔｏｍ％より小さくまたは酸素原子濃度が７５ａｔｏｍ％より大きくなると、ケイ素原子に結合する酸素原子が過剰に多くなるため、層内部に空隙や欠陥が増加し、ガスバリア性は低下する場合がある。また、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が４５ａｔｏｍ％より大きくまたは酸素（Ｏ）原子濃度が５５ａｔｏｍ％より小さくなると、膜が過剰に緻密になるため、大きなカールが発生したり柔軟性が低下したりすることにより、熱や外部からの応力でクラックが生じやすくなり、ガスバリア性を低下させる場合がある。かかる観点から、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が２８～４０ａｔｏｍ％、酸素（Ｏ）原子濃度が６０～７２ａｔｏｍ％であることがより好ましく、さらにはケイ素（Ｓｉ）原子濃度が３０～３５ａｔｏｍ％、酸素（Ｏ）原子濃度が６５～７０ａｔｏｍ％であることがより好ましい。
　オーバーコート層に含まれる成分はケイ素（Ｓｉ）原子濃度および酸素（Ｏ）原子濃度が上記組成の範囲であれば特に限定されず、例えば、亜鉛（Ｚｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム(Ｚｒ）、スズ（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、パラジウム（Ｐｄ）等から形成された金属酸化物を含んでも構わない。
　オーバーコート層の厚みは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０５μｍ以上がより好ましい。層の厚みが０．０１μｍより薄くなると、十分にガスバリア性が確保できない箇所が発生しガスバリア性がばらつく場合がある。また、オーバーコート層の厚み上限は、０．５μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がより好ましい。オーバーコート層の厚みが０．５μｍより厚くなると、層内に残留する応力が大きくなるため、曲げや外部からの衝撃によってオーバーコート層にクラックが発生しやすくなり、使用に伴いガスバリア性が低下する場合がある。
　オーバーコート層を形成する方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の成膜方法によって形成することができるが、ガスバリア層の表面に存在するクラックやピンホール、原子欠陥等に効率良くオーバーコート層に含まれる原子を充填するために、ガスバリア層表面を５０℃以上、１５０℃以下で制御した状態において、ガスバリア層表面でオーバーコート層を構成する原子が活性化するように高いエネルギーでガスバリア層表面を処理しながらオーバーコート層を形成する方法が好ましい。なお、オーバーコート層を形成するガスバリア層の表面の温度が１５０℃より高くなると、オーバーコート層の形成粒子が活性化され、ケイ素と酸素の結合が強固になるため、ハンドリング時の曲げなどよってクラックが発生しガスバリア性が低下する場合がある。以上の理由から、本発明に使用するケイ素化合物を含むオーバーコート層の形成に適用する方法は、ガスバリア層表面の欠陥に原子を効率よく充填させ、さらにガスバリア層表面を大面積かつ均一に処理できる誘導結合型ＣＶＤ電極を用いたプラズマＣＶＤ法がより好ましい。
　ＣＶＤ法に使用するケイ素系有機化合物とは、分子内部にケイ素を含有する化合物のことであり、例えば、シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、エチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、テトラエチルシラン、プロポキシシラン、ジプロポキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ウンデカメチルシクロヘキサシロキサン、ジメチルジシラザン、トリメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、デカメチルシクロペンタシラザン、ウンデカメチルシクロヘキサシラザンなどが挙げられる。中でも取り扱い上の観点からヘキサメチルジシロキサン、テトラエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザンが好ましい。
　＜樹脂組成物を含むオーバーコート層＞
　外部からの水の浸入をさらに低減し、とりわけ高温、高湿環境においてもガスバリア性を維持することが可能なオーバーコート層として、樹脂組成物を主成分とするオーバーコート層について詳細を説明する。オーバーコート層を形成する手段としては、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法などを用いることができる。
　本発明におけるオーバーコート層は、ガスバリア性の観点から架橋構造を形成していることが好ましい。かかる場合に重合反応に寄与する炭素－炭素二重結合基としては、例えば、イソプロペニル基、イソペンテニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリリデン基、アリリジン基、ビニルエーテル基や、炭素－炭素二重結合基の炭素にフッ素や塩素等のハロゲン元素が結合したもの（例えば、フッ化ビニル基、フッ化ビニリデン基、塩化ビニル基、塩化ビニリデン基等）や、炭素－炭素二重結合基の炭素にフェニル基やナフチル基等の芳香環を有する置換基が結合したもの（例えばスチリル基等）や、ブタジエニル基（例えば、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）－Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ－、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）－Ｃ（＝ＣＨ２）－（Ｒ１、Ｒ２はＨまたはＣＨ３））のように共役ポリエン構造を有する基、等が挙げられる。これらから要求する特性や生産性等を考慮して、１種または２種以上混合して使用すればよい。
　本発明のガスバリアフィルムにオーバーコート層を適用する場合にオーバーコート層に含まれる樹脂成分としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられ、例えば、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ナイロンやベンゾグアナミン等のポリアミド系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等の塩素元素（Ｃｌ元素）を含有する樹脂、フッ素元素（Ｆ元素）を含有する樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系樹脂、等が挙げられる。
　本発明のガスバリアフィルムにオーバーコート層を適用する場合にオーバーコート層に含め得る各種添加剤としては、例えば、有機や無機の微粒子、架橋剤、難燃剤、難燃助剤、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、レベリング剤、滑り賦活剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、核剤、染料、充填剤、分散剤およびカップリング剤などが挙げられる。
　かかる樹脂組成物を含むオーバーコート層を形成するための材料として、大日精化工業（株）、（株）ＭＯＲＥＳＣＯ（“モレスコ（登録商標）”モイスチャーカットシリーズ）、長瀬産業（株）、ナガセケムテックス（株）等の各種メーカーより市販されているものを用いることができる。
　本発明のガスバリアフィルムにオーバーコート層を適用する場合、オーバーコート層の厚みは、０．５μｍ以上が好ましい。オーバーコート層の厚みが０．５μｍより薄くなると、高温高湿環境において外部からの水の浸入に対する遮断性が不足し、高温高湿環境における使用時にオーバーコート層とガスバリア層との密着性が経時的に低下する場合がある。
　[基材フィルム]
　基材フィルムとしては、熱可塑性樹脂フィルムが好ましい。基材フィルムは、単層フィルム、あるいは、２層以上の、例えば、共押し出し法で製膜したフィルムが好ましく例示される。また、一軸方向あるいは二軸方向に延伸されたフィルム等を使用することができる。
　熱可塑性樹脂フィルムとしては、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン等のポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、環状ポリオレフィンもしくはその共重合体、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、フッ素樹脂、アイオノマーおよびポリアクリロニトリルからなる群から選択された少なくとも１種である熱可塑性樹脂からなるフィルムを使用することができる。上記した熱可塑性樹脂フィルムの中でも、透明性、寸法安定性、機械的特性、耐熱性、電気的特性、耐薬品性などに優れていることから、ポリエステルフィルムおよび環状ポリオレフィンフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
　環状ポリオレフィンフィルムは、環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）あるいは環状ポリオレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を主成分とする樹脂フィルムが例示される。ここで、主成分とするとは、樹脂フィルムを構成する樹脂成分のうち、ＣＯＰあるいはＣＯＣの構成比率が５０質量％以上であることを意味するものであり、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくは９５質量％以上である。
　環状ポリオレフィンフィルムは、低リタゼーション（複屈折率が小さい）で、有機ＥＬデバイス等に使用した際、色の視野角依存性が小さいという利点を備えている。
　環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）とは、「主鎖に環状オレフィンを含有した繰り返し単位」のみを重合させた樹脂を意味する。環状ポリオレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）とは、少なくとも「主鎖に環状オレフィンを含有した繰り返し単位」と「主鎖に環状オレフィンを含有しないオレフィンからなる繰り返し単位」を共重合させた樹脂を意味する。
　ＣＯＰ、ＣＯＣを構成する環状オレフィンとしては、例えば、
　シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、１，３－シクロヘキサジエン、３，４－ジメチルシクロペンテン、３－メチルシクロヘキセン、２－（２－メチルブチル）－１－シクロヘキセン、３ａ，５，６，７ａ－テトラヒドロ－４，７－メタノ－１Ｈ－インデンなどの単環式オレフィン、
　ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ－２，４，６，１１－テトラエンなどの多環式オレフィン、
　などが挙げられる。これらの環状オレフィンは、それぞれ単独であるいは２種以上組合せて用いることができる。
　環状ポリオレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を構成する環状オレフィン以外の他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、１－オクテン、１－デセン、１－ドデセン、１－テトラデセン、１－ヘキサデセン、１－オクタデセン、１－エイコセン等が挙げられる。
　環状ポリオレフィンフィルムは、市販品として入手することもできる。市販品としては、例えば、日本ゼオン（株）製の「ゼオネックス」、“ゼオノア（登録商標）”、積水化学工業（株）の「エッシーナ」、ＪＳＲ（株）の“アートン（登録商標）”、日立化成（株）の「オプトレッツ」、三井化学（株）の“アペル（登録商標）”などがある。　基材フィルムの厚みは特に限定されないが、柔軟性を確保する観点から５００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましい。引張りや衝撃に対する強度を確保する観点から５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましい。また、ガスバリアフィルムの加工やハンドリングの容易性から５０μｍ～２００μｍがさらに好ましい。
　基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、ガスバリア層、アンダーコート層あるいはバックコート層と、ポリエチレンテレフタレートフィルムとの密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面もしくは両面に易接着層が設けられていることが好ましい。
　易接着層は、樹脂として、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中の少なくとも一種の樹脂を含有することが好ましい。特に、少なくともポリエステル樹脂を含有することが好ましい。
　易接着層は、上記樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。
　易接着層は、さらに易滑性向上のために、平均粒子径が０．１～０．４μｍの無機粒子を含有することが好ましい。無機微粒子としてはコロイダルシリカが好ましく用いられる。
　易接着層の厚みは、０．０１μｍ～０．３μｍの範囲が好ましく、０．０２～２５０μｍの範囲がより好ましく、特に０．０３～０．２μｍの範囲が好ましい。
　バックコート層が積層される側の易接着層は、バックコート層表面の反射色をニュートラルな無色にするという観点から、易接着層の屈折率が１．５５～１．６１であることが好ましく、１．５６～１．６０の範囲がより好ましく、１．５７～１．５９の範囲が特に好ましい。
　屈折率が１．５５～１．６１である易接着層は、例えば、樹脂として分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂を用いることによって得られる。上記縮合芳香族環としては、例えば、ナフタレン環、フルオレン環等が挙げられる。
　ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
　上記の分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
　[バックコート層]
　バックコート層は、基材フィルムのガスバリア層とは反対面に設けられる。バックコート層は、樹脂成分として熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましく、更に、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。特に、活性エネルギー線硬化性のアクリル樹脂が好ましい。
　活性エネルギー線硬化性のアクリル樹脂としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性官能基を有する、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることができる。
　モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
　オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
　上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
　上記の活性エネルギー線硬化性のアクリル樹脂の含有量は、バックコート層の固形分総量１００質量％に対して、５０質量％以上であることが好ましく、５５質量％以上であることがより好ましく、更に６０質量％以上であることが好ましく、特に７０質量％以上であることが好ましい。
　上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
　上記光重合開始剤の含有量は、バックコート層の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　バックコート層は、ハードコート層の機能を有することが好ましい。バックコート層がハードコート層の機能を有することにより、ガスバリアフィルムの耐擦傷性が向上する。上記観点から、バックコート層は、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４（１９９９）で規定される鉛筆硬度が、Ｆ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
　バックコート層は、ガスバリア層側の面と接触したときの動摩擦係数が小さいことが好ましい。前述したように、本発明のガスバリアフィルムは、バックコート層側の面とガスバリア層側の面との動摩擦係数が０．７以下である。　上記の動摩擦係数を確保し、かつ高い透明性（ヘイズ値が０．８％未満）を満足させるためには、例えば、バックコート層表面の算術平均粗さＲａは、１．５ｎｍ以上１５ｎｍ未満であることが好ましい。バックコート層表面の算術平均粗さＲａが１．５ｎｍ未満になると、動摩擦係数が高くなり、良好な滑り性が得られなくなることがある。一方、バックコート層表面の算術平均粗さＲａが１５ｎｍ以上になると、ヘイズ値が高くなり、ガスバリアフィルムの透明性が低下することがある。
　また、バックコート層の算術平均粗さＲａが１５ｎｍ以上となると、ガスバリアフィルムの生産工程や加工工程でロール状巻取られた時に、ガスバリア層側の面とバックコート層側の面とが大きい圧力で接触することにより、ガスバリア層にクラックや傷が入り、ガスバリア性が悪化することがある。
　バックコート層表面の算術平均粗さＲａは、動摩擦係数を小さくするという観点から、１．５ｎｍ以上が好ましく、１．８ｎｍ以上がより好ましく、特に２．０ｎｍ以上が好ましい。一方、ヘイズ値の上昇を抑制するという観点から、バックコート層表面の算術平均粗さＲａは、１５ｎｍ未満が好ましく、１０ｎｍ未満がより好ましく、さらに８ｎｍ未満が好ましく、特に５ｎｍ未満が好ましい。
　バックコート層表面の算術平均粗さＲａを１．５ｎｍ以上１５ｎｍ未満とするには、例えば、バックコート層は、平均粒子径（ｒ：μｍ）がバックコート層の厚み（ｄ：μｍ）より小さい粒子を含有することが好ましく、さらに、バックコート層表面に上記粒子による突起が形成されていることが好ましい。このように、バックコート層の厚み（ｄ）より平均粒子径（ｒ）が小さい粒子によって、バックコート層表面に突起を形成することにより、ガスバリアフィルムのヘイズ値の上昇を抑制しながら、滑り性を向上させることができる。
　バックコート層表面に粒子による突起が形成されているかどうかは、バックコート層表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することによって、容易に確認することができる。　平均粒子径（ｒ：μｍ）とバックコート層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、具体的には、０．８以下が好ましく、０．５以下がより好ましく、０．３以下がさらに好ましく、０．２以下が特に好ましい。下限は、０．０１以上が好ましく、０．０２以上がより好ましく、０．０３以上が特に好ましい。上記比率（ｒ／ｄ）が０．０１未満となると、バックコート層表面に粒子による突起が十分に形成されず、動摩擦係数が高くなり、良好な滑り性が得られなくなることがある。
　バックコート層表面に形成される粒子による突起は、その平均高さは、上述の動摩擦係数を０．７以下に制御するという観点から、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が特に好ましい。突起の平均高さの上限は、ヘイズ値の上昇を抑制するという観点および生産工程におけるガスバリア性の悪化を抑制するという観点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．２５μｍ以下がより好ましく、さらに０．２μｍ以下が好ましく、特に０．１μｍ以下が好ましい。　本明細書において、突起高さとは突起の頂点からバックコート層表面までの長さを意味する。突起の高さは、バックコート層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。　バックコート層表面に形成される粒子による突起の密度は、１００μｍ２当たり１００個以上であることが好ましく、２００個以上であることがより好ましく、３００個以上であることが特に好ましい。上限は１００００個以下が好ましく、７０００個以下がより好ましく、４０００個以下が特に好ましい。
　ここで、突起は、個々の粒子が独立して個々の突起を形成してもよいし、複数個の粒子がランダムに凝集もしくは集合して突起を形成してもよい。上記した突起の密度（１００μｍ２当たりの個数）は、粒子1個によって形成された突起を意味する。
　突起の密度は、バックコート層表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することによって、容易に確認することができる。
　バックコート層に含有される粒子の平均粒子径（ｒ）の範囲は、バックコート層の厚み（ｄ）との比率（ｒ／ｄ）が０．８以下となる範囲から選択することが好ましく、具体的には０．０３～０．５μｍの範囲が好ましく、０．０４～０．４μｍの範囲がより好ましく、特に０．０５～０．３μｍの範囲が好ましい。バックコート層に含有される粒子の平均粒子径（ｒ）が０．０３μｍ未満であると、バックコート層表面に突起が形成されず、滑り性および耐ブロッキング性が不十分となることがある。平均粒子径（ｒ）が０．５μｍを越えると、ヘイズ値が高くなり、透明性が低下することがある。
　バックコート層に含有させる粒子としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。
　有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる２種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる
　アクリル系樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー（例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等）との共重合樹脂粒子が挙げられる。
　これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましく、乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が０．５μｍ以下の有機粒子を得ることができる。
　無機粒子としては、シリカ、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、ゼオライトなどの無機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカが好ましい。
　バックコート層の厚み（ｄ：μｍ）より平均粒子径（ｒ：μｍ）が小さい粒子によって、バックコート層に十分な突起を形成するには、粒子をバックコート層の表面近傍に比較的多く存在させることが好ましい。つまり、バックコート層に含まれる粒子の一部が層の表面近傍に移動（浮上）して表面近傍における粒子密度が大きくなることが好ましい。
　バックコート層に含有させる粒子は、粒子の一部が層の表面近傍に移動（浮上）しやすい粒子であることが好ましく、この観点から無機粒子が好ましく、特にシリカ粒子が好ましい。更に、上記観点から、表面自由エネルギーを小さくするような表面処理が施された無機粒子、界面活性剤で処理された無機粒子を用いることが好ましい。このような処理が施された無機粒子は層の表面近傍に移動（浮上）しやすくなる。
　上記の無機粒子の表面自由エネルギーを小さくするため表面処理剤としては、フッ素原子を有するオルガノシラン化合物、該オルガノシランの加水分解物、あるいは該オルガノシランの加水分解物の部分縮合物が挙げられる。
　上記の界面活性剤で処理された無機粒子としては、例えばシリカ粒子（好ましくはコロイダルシリカ）を分子中にエチレンオキシ基を有する界面活性剤で処理した無機粒子が挙げられる。
　バックコート層における粒子（平均粒子径がバックコート層の厚みより小さい粒子）の含有量は、動摩擦係数を低下させるという観点から、バックコート層の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％以上が好ましく、３．５質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、特に７質量％以上が好ましい。粒子の含有量が多くなり過ぎると、ヘイズ値が上昇することから、上限の含有量は、バックコート層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が特に好ましい。
　バックコート層の厚み（ｄ：μｍ）は、０．５～２０μｍの範囲が適当であり、ガスバリアフィルムの透過率を高くし、フレキシブル性を持たせるという観点から０．５～１０μｍの範囲がより好ましく、０．７～３μｍの範囲が特に好ましい。バックコード層の厚み（ｄ：μｍ）が０．５μｍ未満となるとバックコート層の硬度が低下し、傷が入りやすくなる。一方、バックコード層の厚み（ｄ：μｍ）が２０μｍより大きくなるとバックコート層にクラックが発生したり、ガスバリアフィルムにカールが発生するなどの不都合が生じることがある。
　バックコート層は、更に各種添加剤、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、有機系帯電防止剤、滑剤、着色剤、顔料等を含有することができる。
　バックコート層の屈折率の範囲は、１．４８～１．５４の範囲であることが好ましく、１．５０～１．５４の範囲がより好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、前述した易接着層（屈折率が１．５５～１．６１）を介して、屈折率が１．４８～１．５４のバックコート層を積層することにより、バックコート層面の反射色をニュートラルな無色とすることができる。
　バックコート層をウェットコーティングするときに用いられる塗布方法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。中でも、バックコート層の好ましい厚み範囲（０．５μｍ以上１０μｍ以下）の塗工に好適な手法として、特にグラビアコート法が好ましい。
　[バックコート層とアンダーコート層の算術平均粗さ]
　前述したように、バックコート層表面の算術平均粗さＲａ（ＲａＢと略記することがある。）は、１．５ｎｍ以上１５ｎｍ未満であることが好ましく、また、アンダーコート層表面の算術平均粗さＲａ（ＲａＵと略記することがある。）は、１．５ｎｍ未満であることが好ましい。
　ガスバリアフィルムのヘイズ値を低くして高い透明性を確保するという観点から、上記のＲａＢとＲａＵとの合計は、１３ｎｍ未満が好ましく、１０ｎｍ未満がより好ましく、さらに７ｎｍ未満が好ましく、５ｎｍ未満が特に好ましい。合計の下限は、良好な滑り性を維持するという観点から、２．５ｎｍ以上が好ましく、３．０ｎｍ以上がより好ましい。
　また、上記ＲａＢとＲａＵとの差（ＲａＢ－ＲａＵ）は、滑り性およびガスバリア層の均質かつ緻密形成の観点から、０．３～５．０ｎｍの範囲が好ましく、０．５～４．０ｎｍの範囲がより好ましく、０．８～３．０ｎｍの範囲が特に好ましい。
　［ガスバリアフィルムの適用例］
　本発明のガスバリアフィルムは、有機薄膜太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイス、電子ペーパーなどの電子部品のガスバリアフィルムとして好適である。
　本発明のガスバリアフィルムを有機ＥＬデバイスに適用する場合、基材フィルムとして環状ポリオレフィンフィルムを用いることが好ましい。環状ポリオレフィンフィルムは、低リタゼーション（複屈折率が小さい）であり、また透明性が高いので、有機ＥＬデバイスに好適である。
　有機ＥＬデバイスに適用されるガスバリアフィルムは、高度なフレキシブル性が求められる。つまり、ガスバリアフィルムを折り曲げても割れないことが好ましい。この特性を満足させるための一つの指標として、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００－５－１：１９９９）を用いた耐屈曲性試験がある。
　本発明のガスバリアフィルムは、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００－５－１：１９９９）に準拠した直径２ｍｍの円筒マンドレルを用いて行う耐屈曲性試験においてクラックが発生しないことが好ましい。
　具体的には、ガスバリアフィルムを、バックコート層が外側になるように（ガスバリアフィルムのガスバリア層側の面が円筒形マンドレルと接するように）直径２ｍｍの円筒形マンドレルに巻き付けたときに、その巻き付け部分のバックコート層にクラックが発生しないことが好ましい。同様に、ガスバリアフィルムのガスバリア層側の面が外側になるように（ガスバリアフィルムのバックコート層面が円筒形マンドレルと接するように）直径２ｍｍの円筒形マンドレルに巻き付けたときに、その巻き付け部分のガスバリア層にクラックが発生しないことが好ましい。
　バックコート層に上述の耐屈曲性を付与するという観点から、バックコート層のナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さが、２００～６００Ｎ／ｍｍ２の範囲が好ましく、２５０～５５０Ｎ／ｍｍ２の範囲がより好ましく、特に３００～５００Ｎ／ｍｍ２の範囲が好ましい。
　ガスバリア層に上述の耐屈曲性を付与するという観点から、ガスバリア層を形成する材料としては、亜鉛化合物が好ましく用いられる。亜鉛化合物としては酸化亜鉛が好ましい。さらに、亜鉛化合物にケイ素、アルミニウム、銅、錫、二酸化ケイ素、および酸化アルミニウムが混合されていることが好ましい。特に、ガスバリア層は、酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムの混合物であることが好ましい。
　また、基材フィルムとガスバリア層との間にアンダーコート層を設ける場合は、アンダーコート層は、伸長クラック伸度が７％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましい。上限の伸長クラック伸度は２００％以下が適当であり、１００％以下が好ましい。
　以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
　[評価方法］
　各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価ｎ数は、特に断らない限り、ｎ＝５とし平均値を求めた。
　（１）ガスバリア層の厚み
　断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（日立製ＦＢ－２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８～１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ、日立製Ｈ－９０００ＵＨＲII）により、加速電圧３００ｋＶとして、観察用サンプルの断面を観察し、ガスバリア層の厚みを求めた。
　（２）ガスバリアフィルムの水蒸気透過率の測定
　温度４０℃、相対湿度９０％、測定面積５０ｃｍ２の条件で、英国テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置“ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ”を使用して測定した。サンプル数は水準当たり２検体とし、測定回数は各検体について５回とし、得られた１０点の平均値を水蒸気透過率（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）とした。
　（３）バックコート層の鉛筆硬度の測定
　ガスバリアフィルムのバックコート層の鉛筆硬度を、鉛筆硬度試験機ＨＥＩＤＯＮ－１４（新東科学（株））を用いて、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４（１９９９）に従って測定した。
　（４）動摩擦係数の測定
　バックコート層側の面とガスバリア層側の面との動摩擦係数を、ＪＩＳ　Ｋ７１２５（１９９９）に従い測定した。
　（５）バックコート層の耐擦傷性の評価（スチールウール引っかき試験）
　サイズ１５ｃｍ×５ｃｍに切り出したガスバリアフィルムのバックコート層表面を、スチールウール♯００００で２０往復擦った後の表面状態を目視観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：傷が全くない。
Ｂ：１－１０本の傷がある。
Ｃ：１１－２０本の傷がある。
Ｄ：２１本以上の傷がある。
　（６）屈曲性試験後のガスバリア性（水蒸気透過率）評価
　ガスバリアフィルムについて、ＪＩＳ　Ｃ５０１６（１９９４）に準拠した耐屈曲性試験を行った。耐屈曲性試験は、ガスバリアフィルムを、ガスバリア層が凹面に形成されるようにしてＵ字状に屈曲させた状態で、耐屈曲性試験機の固定板と可動板との間に取り付けた後、可動板を所定のストロークで複数回繰り返して往復運動させることにより行った。ガスバリアフィルムの屈曲半径は５ｍｍとし、ストロークは４０ｍｍとし、可動板の往復運動の回数は５００回とした。屈曲性試験後のガスバリアフィルムの水蒸気透過率を上記（２）と同様の方法にて測定した。
　（７）ヘイズ値の測定
　ＪＩＳ　Ｋ７３６１（１９９７）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は、縦５ｃｍ×横５ｃｍのサイズに切り出したガスバリアフィルム３枚について行った。測定回数は各５回とし、合計１５回測定の平均値をヘイズ値とした。
　（８）全光線透過率
　ＪＩＳ　Ｋ７３６１（１９９７）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。測定は、縦５ｃｍ×横５ｃｍのサイズに切り出したガスバリアフィルム３枚について行った。測定回数は各５回とし、合計１５回測定の平均値を全光線透過率とした。
　（９）滑り性
　ガスバリアフィルムを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製する。
この２枚のシート片のバックコート層側の面とガスバリア層側の面とが向き合うように２枚のシート片を僅かにずらして重ね合わせて平滑な台上の置き、下方のシート片を指で台上に固定し、上方のシート片を手で滑らせる方法で滑り性の良否判定を行った。
Ａ：上方のシート片の滑り性が良好である。
Ｂ：上方のシート片の滑り性は劣るが比較的良好である。
Ｃ：上方のシート片が滑らない。
　（１０）耐ブロッキング性の評価
　ガスバリアフィルムを切断して２枚のシート片（縦２０ｃｍ×横１５ｃｍ）を作製する。この２枚のシートのバックコート層側の面とガスバリア層側の面とが向き合うようにして重ね合わせる。次に、２枚のシート片を重ね合わせた試料をガラス板で挟み込み、約２ｋｇの重りを載せて、５０℃、９０％（ＲＨ）の雰囲気下に４８時間放置する。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離し、以下の基準で評価した。
Ａ：剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離される。
Ｂ：剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離される。
Ｃ：剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離される。
　（１１）算術平均粗さ（Ｒａ）の測定
　ＪＩＳ　Ｂ０６０１（２０１３）に準拠して、光干渉式非接触表面形状測定器として、非接触表面・層断面計測システム（株式会社菱化システム製「ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０」）を用いて、ガスバリアフィルムの表面観察（観察視野：９３．９１μｍ×７０．２０μｍ）を実施し、バックコート層表面、およびアンダーコート層表面について、算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。
　（１２）バックコート層に含有される平均粒子径の測定
　バックコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察（約１万～１０万倍）し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを平均した値を粒子の平均粒子径とした。
　（１３）アンダーコート層の伸長クラック伸度の測定
　実施例および比較例において、アンダーコート層のみ積層した中間段階のフィルムを常温で１日保管後、縦１１ｃｍ×横２０ｃｍの短形に切り出して試験サンプルを作製した。引張試験機（島津製作所製の「オートグラフＡＧＳ－５００ＮＸ」）を用いて、チャック間距離５０ｍｍ、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎで、目視にてアンダーコート層のクラック発生状態を確認しながら引張試験を行った。クラックが発生したときの伸び率（下記式１で算出）を伸長クラック伸度とした。それぞれ５回測定し、平均した。測定時の環境は、２３℃±２℃、相対湿度５５％±５％である。
　伸長クラック伸度（％）＝（Ｌ１－Ｌ０）×１００／Ｌ０　・・・式１
　式中、Ｌ０は引張試験を行う前の寸法、Ｌ１は引張試験を実施してクラックが発生したときの寸法である。
　（１４）バックコート層表面における粒子による突起の有無の判断
　下記方法で突起の個数を測定し、突起が２μｍ四方（面積４μｍ２）当たり平均４個以上存在することをもって、粒子による突起を有すると判断する。
　＜突起の個数の測定＞
　バックコート層の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて５箇所撮影（約１万～１０万倍）し、５つの画像（表面写真）を作製する。次に、５つの画像それぞれについて、画像の２μｍ四方（面積４μｍ２）の範囲に存在する突起の個数を計測し、平均する。
　（１５）バックコート層表面における平均突起高さの測定
　バックコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察（約１万～１０万倍）し、その断面写真から、無作為に選択した粒子の突起の頂点からバックコート層表面までの長さを計測した。１０個の突起の高さを計測し平均した。
　（１６）加圧試験後のガスバリア性（水蒸気透過率）評価
　ガスバリアフィルムを縦１０ｃｍ×横１５ｃｍのサイズに切断して２枚のシート片ＡおよびＢを作製する。シート片Ａのガスバリア層側の面とシート片Ｂのバックコート層側の面とが向き合うようにして重ね合わせる。次に、２枚のシート片を重ね合わせた試料を平面圧力プレス機で挟み込み、１５０ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力をかけ３０分間放置する。次に、２つのシート片を剥離し、シート片Ａの水蒸気透過率を上記（２）と同様の方法にて測定した。　
　（１７）易接着層およびバックコート層の屈折率の測定
　易接着層およびバックコート層のそれぞれの塗布液（あるいは組成物）をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工して形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ－１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
　（１８）ガスバリア層の組成分析
  ガスバリア層の組成分析はＩＣＰ発光分光分析（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＳＰＳ４０００）により行った。試料を、硝酸および硫酸で加熱分解し、希硝酸で加温溶解してろ別した。不溶解分は加熱灰化したのち、炭酸ナトリウムで融解し、希硝酸で溶解して、先のろ液とあわせて定容とした。この溶液について、亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子の含有量を測定し、原子数比に換算した。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）として存在すると仮定して求めた計算値とした。
　（１９）ガスバリアフィルムのバックコート層の耐屈曲性（Ａ）の評価
  円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００－５－１：１９９９）に準拠して、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ガスバリアフィルムのバックコート層側が外側になるように巻き付け、その巻き付け部分のバックコート層にクラックが生じるか否かを目視で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：クラックが確認できない。
Ｂ：クラックが確認される。
　（２０）ガスバリアフィルムのガスバリア層の耐屈曲性（Ｂ）の評価
　上記（１９）と同様にして耐屈曲性を評価した。但し、直径２ｍｍの円筒形マンドレルに、ガスバリアフィルムのガスバリア層側が外側になるように巻き付け、ガスバリア層にクラックが発生しているかどうかを評価した。
　（２１）バックコート層のナノインデンテーション法による押し込み硬さの測定
  （株）エリオニクス製のナノインデンター「ＥＮＴ－２１００」を用いて測定した。ガスバリアフィルムのガスバリア層側の面を、接着剤（東亞合成（株）製“アロンアルファ（登録商標）”）を介して専用のサンプル固定台に固定し、バックコート層の押し込み硬さ（ＨＩＴ（Ｎ／ｍｍ２））を、稜間角１１５°の三角錐ダイヤモンド圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子）を用いて下記条件にて測定した。測定データは「ＥＮＴ－２１００」の専用解析ソフト（ｖｅｒｓｉｏｎ  ６．１８）により処理した。
　＜測定条件＞
・測定モード：負荷－除荷試験
・最大荷重：１００ｍＮ
・最大荷重に達した時の保持時間：１秒
・荷重速度、除荷速度：１０ｍＮ／ｓｅｃ
・押し込み深さ：膜厚の１／１０。
　（実施例１）
　[易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの作製］
　実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの両面にそれぞれ下記の易接着層Ａを塗布した。
　次に、両面にそれぞれの易接着層Ａが塗布された１軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。
　このようにして得られた易接着層積層ＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、両面に積層された易接着層Ａの膜厚はそれぞれ０．０８μｍ、屈折率はそれぞれ１．５８であった。　　　
　
　（易接着層Ａ）
　ナフタレン環を含むポリエステル樹脂を１００質量部、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）を５質量部、平均粒子径が０．１９μｍのコロイダルシリカを２質量部含有する。
　[アンダーコート層の積層] 
　易接着層が両面に積層されたＰＥＴフィルムの一方の面に、アンダーコート層を積層した。アンダーコート層形成用の塗工液として、ＤＩＣ（株）製“ユニディック（登録商標）”ＲＣ２９－１２４（ウレタンアクリレート系ＵＶ硬化型フィルムコート剤）をＭＥＫにてＮＶ(固形分濃度)５０質量％に調製したものを用いた。この塗工液をバーコーターで塗布、１００℃で１分間乾燥後、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ２の強度で照射して硬化させ、厚みが１μｍのアンダーコート層を設けた。このアンダーコート層の伸長クラック伸度は、１２％であった。
　[バックコート層の積層]
　上記でアンダーコート層が積層されたＰＥＴフィルムのアンダーコート層とは反対面に、下記のバックコート層形成用塗布液（活性エネルギー線硬化性組成物ａ１）を乾燥厚みが１μｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２の強度で照射して硬化させ、バックコート層を形成した。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていた。また、このバックコート層の厚み（ｄ＝１μｍ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ＝０．１３μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．１３であった。
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ１＞
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０質量部、アクリレート化合物（東亜合成株式会社製の“アロニックス（登録商標）”Ｍ１１１）３７質量部、下記の表面処理シリカ粒子分散液１を固形分換算で８質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」）５質量部を有機溶剤（メチルエチルケトン）に混合して調製した。
　＜表面処理シリカ粒子分散液１＞
　コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル　ＩＰＡ－ＳＴＺＬ」）１５０質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１３．７質量部と１０質量％蟻酸水溶液１．７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いで、フッ素化合物（Ｈ２Ｃ＝ＣＨ－ＣＯＯ－ＣＨ２－（ＣＦ２）８Ｆ）１３．８質量部および２，２－アゾビスイソブチロニトリル０．５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌して分散液を得た。
　[ガスバリア層の形成]
　上記アンダーコート層及びバックコート層が積層されたＰＥＴフィルムのアンダーコート層上にスパッタリング装置を使用し、酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの組成質量比が７７／２０／３である混合焼結材をスパッタターゲットとして使用し、アルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施しガスバリア層を設けた。
　具体的な操作は以下の通りである。まず、図４に示すように、スパッタ電極９および６０にスパッタターゲットを設置した、ロール・ツー・ロールの巻き取り式スパッタ装置６中で、巻き出しロール７に、上記でアンダーコート層およびバックコート層が設けられた基材フィルム（ＰＥＴフィルム）１のアンダーコート層側の面がスパッタ電極９および６０に対向するようにセットして巻き出し、ガイドロール１０，５０，を介して、冷却水で１５℃に調整された冷却ロール８に通した。２×１０－１Ｐａとなるようにアルゴンガスおよび酸素ガス（酸素ガスの比率は１０％）を導入した。直流電源により投入電力４０００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、スパッタリングによりアンダーコート層の表面上にガスバリア層を厚み０．１５μｍで形成し、ガスバリアフィルムを作製した。その後、ガイドロール５１、５２、５３を介して巻き取りロール１１に巻き取った。
　上記のようにして得られたガスナリア層の組成は、Ｚｎ原子濃度が２７．５atom%、Ｓｉ原子濃度が１３．１atom%、Ａｌ原子濃度が２．３atom%、Ｏ原子濃度が５７．１atom%であった。
　（実施例２）
　バックコート層形成用塗布液を下記の活性エネルギー線硬化性組成物ａ２に変更する以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていた。また、このバックコート層の厚み（ｄ＝１μｍ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ＝０．１３μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．１３であった。
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ２＞
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４０質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の“アートレジン（登録商標）”ＵＮ９０１Ｔ）を４５質量部、有機粒子としてスチレン－アクリル系共重合樹脂粒子（ガンツ化成（株）製の商品名「スタフィロイド ＥＡ－１１３５」；平均粒子径０．１３μｍ）を固形分換算で１０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製“イルガキュア（登録商標）”１８４)５質量部を有機溶媒（酢酸エチル：トルエン＝１：１（質量比）の混合溶媒）に溶解あるいは分散した組成物（固形分濃度３０質量％）である。
　（実施例３）
　アンダーコート層の塗工液を、大成ファインケミカル（株）製「８ＫＸ－０７７（ＵＶ硬化型アクリルポリマー）」をＭＥＫにてＮＶ（固形分濃度）２０質量％に希釈し、次いで光開始材Ｉ－１８４を３％添加して調製した塗工液に変更する以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。このアンダーコート層の伸長クラック伸度は１５％であった。
　（実施例４）
　バックコート層形成用塗布液を下記の活性エネルギー線硬化性組成物ａ３に変更する以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていた。また、このバックコート層の厚み（ｄ＝１μｍ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ＝０．０８μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．０８であった。
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ３＞
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０質量部、アクリレート化合物（東亜合成株式会社製の“アロニックス（登録商標）”Ｍ１１１）３５質量部、下記の表面処理シリカ粒子分散液２を固形分換算で１０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」）５質量部を有機溶剤（メチルエチルケトン）に混合して調製した。
　（表面処理シリカ粒子分散液２）
　気相法シリカ（日本アエロジル（株）の「アエロジルＯＸ５０」）を有機溶剤（ＭＥＫ）中で分散してシリカ濃度が１５質量％の分散液を得た。分散装置としてビーズミルを用いた。
　次に、この分散液３００質量部に、フルオロアルキルアルコキシシラン（信越化学（株）製の「ＫＢＭ７１０３」）を８質量部混合し、５０℃で１時間加熱撹拌して、表面処理されたシリカ粒子の分散液を得た。
　（比較例１）
　実施例１において、バックコート層側の易接着層Ａを下記の易接着層Ｂに変更する以外は、実施例１と同様にして易接着層が両面に積層されたＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムの易接着層Ａの面に、実施例１と同様にしてアンダーコート層およびガスバリア層を積層して、ガスバリアフィルムを得た。但し、ＰＥＴフィルムの易接着層Ｂの面にはバックコート層は設けなかった。
（易接着層Ｂ）
　ナフタレン環を含むポリエステル樹脂を１００質量部、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）を５質量部、平均粒子径が０．３μｍのコロイダルシリカを５質量部含有する。
　（比較例２）
　バックコート層形成用塗布液を下記の活性エネルギー線硬化性組成物ａ４に変更する以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていなかった。
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ４＞
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４５質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」を５０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製“イルガキュア（登録商標）”１８４)５質量部を有機溶媒（酢酸エチル：トルエン＝１：１（質量比）の混合溶媒）に溶解あるいは分散した組成物（固形分濃度３０質量％）である。
　（比較例３）
　バックコート層形成用塗布液を下記の活性エネルギー線硬化性組成物ａ５に変更する以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていた。また、このバックコート層の厚み（ｄ＝１μｍ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ＝１．５μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、１．５であった。
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ５＞
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４５質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」を４７質量部、有機粒子として信越化学（株）製の有機粒子「ＫＭＰ５９０」、平均粒子径１．５μｍ）を固形分換算で３質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製“イルガキュア（登録商標）”１８４)５質量部を有機溶媒（酢酸エチル：トルエン＝１：１（質量比）の混合溶媒）に溶解あるいは分散した組成物（固形分濃度３０質量％）である。
　（比較例４）
　ガスバリア層形成時に二酸化ケイ素を焼結したスパッタターゲットを使用した以外は実施例１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。
　（比較例５）
　ガスバリア層形成時に酸化アルミニウムを焼結したスパッタターゲットを使用した以外は実施例１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。
　＜ガスバリアフィルムの評価＞　
　上記で作製した実施例および比較例のガスバリアフィルムを評価した結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　（実施例１１）
　厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ（登録商標）”ＺＦ１４：片面に保護フィルムを積層）の保護フィルムを剥離し、この剥離面に、バックコート層形成用塗布液（活性エネルギー線硬化性組成物ａ６）を乾燥厚みが１．５μｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２の強度で照射して硬化させ、バックコート層を形成した。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていた。
　このバックコート層の厚み（ｄ＝１．５μｍ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ＝０．１３μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．０９であった。　
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ６＞
　３官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ－７５５０Ｂ」）に、実施例１で使用した表面処理シリカ粒子分散液１を固形分換算で塗布液の全固形分に対して９質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。
　＜ガスバリア層の積層＞
　上記でバックコート層が積層された環状ポリオレフィンフィルムのバックコート層とは反対面に、実施例１と同様にしてガスバリア層を積層して、ガスバリアフィルムを得た。
　（実施例１２）
　バックコート層形成用塗布液を下記の活性エネルギー線硬化性組成物ａ７に変更する以外は、実施例１１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。このバックコート層の屈折率は１．５１であり、このバックコート層表面には、粒子による突起が形成されていた。
　このバックコート層の厚み（ｄ＝１．５μｍ）に対する粒子の平均粒子径（ｒ＝０．０８μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．０５であった。　
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ７）
　アイカ工業（株）製の紫外線硬化性コート剤“アイカアイトロン（登録商標）”Ｚ－８５０－３に、実施例４で使用した表面処理シリカ粒子分散液２を固形分換算で塗布液の全固形分に対して１１質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。
　（実施例１３）
　実施例１１において、環状ポリオレフィンフィルムとガスバリア層との間に、実施例１と同様のアンダーコート層を設けること以外は、実施例１１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。
　（実施例１４）
　実施例１２において、環状ポリオレフィンフィルムとガスバリア層との間に、実施例１と同様のアンダーコート層を設けること以外は、実施例１２と同様にしてガスバリアフィルムを得た。
　（比較例１１）
　バックコート層形成用塗布液を下記の活性エネルギー線硬化性組成物ａ７に変更する以外は、実施例１１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。
　＜活性エネルギー線硬化性組成物ａ７）
　１０官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗布液（日本合成化学（株）の「ＵＶ－１７００Ｂ」）を、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％の塗布液を調製した。
　（比較例１２）
　ガスバリア層形成時に二酸化ケイ素を焼結したスパッタターゲットに変更した以外は、実施例１１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。
　上記で作製した実施例および比較例のガスバリアフィルムを評価した結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
１　基材フィルム
２　ガスバリア層
３　バックコート層
４　アンダーコート層
５　オーバーコート層
６　巻き取り式スパッタ装置
７　巻き出しロール
８　冷却ロール
９、６０　スパッタ電極
１０、５０、５１、５２、５３　ガイドロール
１１　巻き取りロール

Claims (17)

  1. 　基材フィルムの一方の面にガスバリア層を有し、基材フィルムの他方の面にバックコート層を有するガスバリアフィルムであって、ヘイズ値が０．８％未満、水蒸気透過率が３．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、かつ前記バックコート層側の面とガスバリア層側の面との動摩擦係数が０．７以下であることを特徴とする、ガスバリアフィルム。
  2. 　前記ガスバリア層が、亜鉛化合物を含有する、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  3. 　前記ガスバリア層が、酸化亜鉛－二酸化ケイ素－酸化アルミニウムの共存相からなる層である、請求項１または２に記載のガスバリアフィルム。
  4. 　前記ガスバリア層が、ＩＣＰ発光分光分析法により測定される亜鉛（Ｚｎ）原子濃度が２０．０～４０．０atom％、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が５．０～２０．０atom％、アルミニウム（Ａｌ）原子濃度が０．５～５．０atom％、酸素（Ｏ）原子濃度が３５．０～７０．０atom％である、請求項１～３のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  5. 　水蒸気透過率が１．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である、請求項１～４のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  6. 　前記バックコート層の算術平均粗さＲａが、１．５ｎｍ以上１５ｎｍ未満である、請求項１～５のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  7. 　前記バックコート層が、平均粒子径（ｒ：μｍ）がバックコート層の膜厚（ｄ：μｍ）より小さい粒子を含有し、バックコート層表面に前記粒子による突起を有する、請求項１～６のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  8. 　前記バックコート層の膜厚（ｄ：μｍ）と粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）が０．８以下である、請求項７に記載のガスバリアフィルム。
  9. 　前記バックコート層の鉛筆硬度がＦ以上である、請求項１～８のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  10. 　前記基材フィルムとガスバリア層との間にアンダーコート層を有する、請求項１～９のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  11. 　前記アンダーコート層の算術平均粗さＲａが１．５ｎｍ未満である、請求項１０に記載のガスバリアフィルム。
  12. 　前記ガスバリア層の上に、オーバーコート層を有する、請求項１～１１のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  13. 　基材フィルムとバックコート層との間に、屈折率が１．５５～１．６１である易接着層を有する、請求項１～１２のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  14. 　前記基材フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは環状ポリオレフィンフィルムである、請求項１～１３のいずれかに記載のガスバリアフィルム。
  15. 　請求項1～１４のいずれかに記載のガスバリアフィルムを備えた、有機薄膜太陽電池。
  16. 　請求項1～１４のいずれかに記載のガスバリアフィルムを用いた、有機ＥＬデバイス。
  17. 　請求項1～１４のいずれかに記載のガスバリアフィルムを用いた、電子ペーパー。
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