TWI531600B - Optical continuum - Google Patents

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TWI531600B
TWI531600B TW101114325A TW101114325A TWI531600B TW I531600 B TWI531600 B TW I531600B TW 101114325 A TW101114325 A TW 101114325A TW 101114325 A TW101114325 A TW 101114325A TW I531600 B TWI531600 B TW I531600B
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Shusaku Shibata
Katsunori Takada
Hiroyuki Takemoto
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Nitto Denko Corp
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Description

光學積層體
本發明係關於一種光學積層體。
液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)、陰極射線管顯示裝置(CRT，Cathode Ray Tube)、電漿顯示器(PDP，Plasma Display Panel)、電致發光顯示器(ELD，Electroluminescence Display)等圖像顯示裝置中，若由於源自外部之接觸而使其表面受到損傷，則有顯示圖像之視認性下降之情形。因此，為了保護圖像顯示裝置之表面，使用包含基材膜與硬塗層之光學積層體。業者代表性地使用三乙醯纖維素(TAC，Triacetyl cellulose)作為光學積層體之基材膜(專利文獻1)。然而，包含TAC之基材膜之透濕度較高。因此，於將包含此種基材膜之光學積層體使用於LCD中之情形時，產生於高溫高濕下水分滲透該光學積層體而使偏光元件之光學特性劣化之問題。近年來，除於屋內使用以外，汽車導航系統、個人數位助理之類的於屋外使用之設備中亦較多地使用LCD，而要求即便於高溫高濕等嚴酷之條件下亦不會產生上述問題之可靠性較高的LCD。
為了解決上述問題，提出一種具有於低透濕性之丙烯酸系基材膜上塗佈硬塗層形成用組合物，並使其乾燥而形成之硬塗層之光學積層體(專利文獻2)。專利文獻2中記載之光學積層體，關於基材膜與硬塗層，雖具有某種程度之密 著性，但尚不充分，而無法獲得上述包含TAC之基材膜之程度之密著性。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2008-165205號公報專利文獻2：日本專利特開2009-126879號公報
本發明者等人關於丙烯酸系基材膜與硬塗層之密著性，討論利用增黏效果使其密著，結果發現若欲提昇密著性(代表性地提昇硬塗層形成用組合物之乾燥溫度)，則基材膜成分於硬塗層中溶出，而使耐磨性下降之新的課題。本發明係為了解決上述課題而成者，其目的在於提供一種光學積層體，該光學積層體即便使用包含低透濕性之(甲基)丙烯酸系樹脂之(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)，亦可確保(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)與硬塗層之密著性，並且可防止耐磨性之下降。
本發明之光學積層體包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層、及將硬塗層形成用組合物塗敷於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成之硬塗層，且硬塗層形成用組合物包含具有9個以上之自由基聚合性不飽和基之化合物(A)，並且相對於該硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，該化合物(A)之含有比例為15重量%~100重量%。
於較佳之實施形態中，於上述基材層與上述硬塗層之間，進而含有使上述硬塗層形成用組合物滲透至上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成之滲透層，且該滲透層之厚度為1.2 μm以上。
於較佳之實施形態中，上述化合物(A)之重量平均分子量為1000以上。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層形成用組合物進而包含具有2個~8個自由基聚合性不飽和基之化合物(B1)，且上述化合物(A)之重量平均分子量為2000以上。
於較佳之實施形態中，相對於上述硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，上述化合物(B1)之含有比例為15重量%~85重量%。
於較佳之實施形態中，上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜於波長380 nm中之光之穿透率為15%以下。
於較佳之實施形態中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂具有表現正的雙折射之結構單元與表現負的雙折射的結構單元。
於較佳之實施形態中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量為10000~500000。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層形成用組合物進而包含單官能單體(B2)。
於較佳之實施形態中，上述單官能單體(B2)之重量平均分子量為500以下。
於較佳之實施形態中，上述單官能單體(B2)具有羥基。
於較佳之實施形態中，上述單官能單體(B2)為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯及/或N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層之與上述基材層相反之側的表面具有凹凸構造。
於較佳之實施形態中，本發明之光學積層體中，於上述硬塗層之與上述基材層相反之側上進而包含抗反射層。
根據本發明之另一態樣，提供一種偏光膜。該偏光膜包含上述光學積層體。
根據本發明之進而另一態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置包含上述光學積層體。
根據本發明，由於使用包含具有9個以上之自由基聚合性不飽和基之化合物(A)的硬塗層形成用組合物而形成硬塗層，故而即便使用低透濕性之(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)與硬塗層之密著性及硬塗層之耐磨性之兩者均優異的光學積層體。
以下，對本發明之較佳之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
A.光學積層體之整體構成
圖1(a)係本發明之較佳之實施形態之光學積層體的概略剖面圖，圖1(b)係本發明之另一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。圖1(a)及圖1(b)所示之光學積層體100、200 包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層10及硬塗層20。硬塗層20係將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成。較佳為如圖1(a)所示，於基材層10與硬塗層20之間形成滲透層30。滲透層30係使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成。若形成滲透層30，則可獲得基材膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。基材層10係於如此使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜時，於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上硬塗層形成用組合物未到達(滲透)之部分。另一方面，圖1(b)所示之光學積層體200未形成滲透層。圖1(a)及(b)所示之邊界A係根據(甲基)丙烯酸系樹脂膜之硬塗層形成用組合物塗敷面而規定的邊界。因此，邊界A於光學積層體100中係滲透層30與硬塗層20之邊界，於未形成滲透層之光學積層體200中係基材層10(即(甲基)丙烯酸系樹脂膜)與硬塗層20之邊界。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
如上所述，滲透層30係於光學積層體100中，使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成。即，所謂滲透層30，係指於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上存在硬塗層成分之部分。滲透層30之厚度較佳為1.2 μm以上。再者，所謂滲透層30之厚度，係指於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上存在硬塗層成分之部分之厚度，具體而言，係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上存在硬塗層成分之部分(滲透層)與不存在硬塗層成分之部分(基材層)之邊界B與邊界A的距 離。
本發明之光學積層體中，視需要亦可於硬塗層20之外側上配置任意之適當之其他層(未圖式)。其他層代表性地係經由黏著劑層(未圖式)而加以配置。
形成上述基材膜之(甲基)丙烯酸系樹脂於硬塗層形成用組合物中溶出，亦可於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂。根據本發明，即便於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可獲得耐磨性優異之光學積層體。
圖2係本發明之另一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。光學積層體300中，於硬塗層20之與滲透層30相反之側上進而包含阻擋層40。阻擋層40係藉由形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂於硬塗層形成用組合物中溶出，且硬塗層形成用組合物與該(甲基)丙烯酸系樹脂引起相分離而產生。包含阻擋層40之光學積層體之耐磨性優異。
本發明之光學積層體於500 nm~600 nm之波長區域中的硬塗層之反射光譜之振幅較佳為1.0%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下。根據本發明，可獲得反射光譜之振幅較小即干涉斑較小之光學積層體。
本發明之光學積層體例如應用於偏光膜(亦稱為偏光板)。具體而言，於偏光膜中，本發明之光學積層體係設置於偏光元件之單面或雙面上，而可較佳地用作偏光元件之保護材料。
B.基材層
上述基材層包含(甲基)丙烯酸系樹脂膜。更詳細而言，如上所述般，於將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上時，基材層係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上該硬塗層形成用組合物未到達(滲透)之部分。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜包含(甲基)丙烯酸系樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂膜例如可對包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂成分之成形材料進行擠出成形而獲得。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之透濕度較佳為200 g/m2/24小時以下，更佳為80 g/m2/24小時以下。根據本發明，即便如此使用透濕度較高之(甲基)丙烯酸系樹脂膜，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、且抑制干涉斑之光學積層體。再者，透濕度例如可藉由基於JIS Z 0208之方法，於40℃、相對濕度92%之試驗條件下進行測定。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜於波長380 nm中之光之穿透率為較佳為15%以下，更佳為12%以下，進而較佳為9%以下。若波長380 nm之光之穿透率於上述範圍，則由於表現出優異之紫外線吸收能，故而可防止由光學積層體之外部光等引起之紫外線劣化。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之面內相位差Re較佳為10 nm以下，更佳為7 nm以下，進而較佳為5 nm以下，尤佳為3 nm以下，最佳為1 nm以下。(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度方向相位差Rth較佳為15 nm以下，更佳為10 nm以 下，進而較佳為5 nm以下，尤佳為3 nm以下，最佳為1 nm以下。若面內相位差及厚度方向相位差於上述範圍，則可明顯地抑制由相位差引起之對圖像顯示裝置之顯示特性的不良影響。更具體而言，可明顯地抑制干涉斑或於用於3D(Three Dimensions，三維)顯示器用液晶顯示裝置中之情形時之3D影像的失真。面內相位差及厚度方向相位差於上述範圍之(甲基)丙烯酸系樹脂膜例如可使用下述具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而獲得。再者，面內相位差Re及厚度方向相位差Rth可分別根據下述式求出：Re=(nx-ny)×d Rth=(nx-nz)×d此處，nx為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之遲相軸方向之折射率，ny為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之進相軸方向之折射率，nz為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度方向之折射率，d(nm)為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度。遲相軸係指膜面內之折射率成為最大之方向，進相軸係指於面內垂直於遲相軸之方向。Re及Rth係代表性地使用波長590 nm之光而進行測定。
可採用任意之適當之(甲基)丙烯酸系樹脂作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS(Methyl Methacrylate-Styrene)樹脂等)、 具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較佳為可列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更佳為可列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(為50~100重量%，較佳為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量較佳為10000~500000，更佳為30000~500000。根據本發明，即便使用重量平均分子量較小之(甲基)丙烯酸系樹脂、即，即便使用於硬塗層中相對容易溶出之(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可獲得耐磨性優異之光學積層體。若使用重量平均分子量較小之(甲基)丙烯酸系樹脂，則可獲得於基材膜中形成充分之厚度之滲透層，且基材膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度較佳為110℃以上，更佳為120℃以上。若玻璃轉移溫度於上述範圍，則可獲得耐久性及耐熱性優異之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。玻璃轉移溫度之上限並無特別限定，但就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為具有表現正的雙折射之結構單元與表現負的雙折射之結構單元。若含有該等結構單元，則可調整其存在比，而控制(甲基)丙烯酸系樹脂膜之相位差，並可獲得低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。作為表現正的雙折射之結構單元，例如，可列舉：構成內 酯環、聚碳酸酯、聚乙烯醇、乙酸纖維素、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴等之結構單元、及下述通式(1)所示之結構單元。作為表現負的雙折射之結構單元，例如，可列舉：源自苯乙烯系單體、馬來醯亞胺系單體等之結構單元、聚甲基丙烯酸甲酯之結構單元、及下述通式(3)所示之結構單元。於本說明書中，所謂表現正的雙折射之結構單元，係指於僅具有該結構單元之樹脂顯示正的雙折射特性之情形時(即，於樹脂之延伸方向顯現遲相軸之情形時)的結構單元。又，所謂表現負的雙折射之結構單元，係指於僅具有該結構單元之樹脂顯示負的雙折射特性之情形時(即，於與樹脂之延伸方向垂直之方向顯現遲相軸的情形時)的結構單元。
可較佳地使用具有內酯環結構或戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂。具有內酯環結構或戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之耐熱性優異。更佳為具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。若使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，則如上所述般，可獲得低透濕、且相位差及紫外線穿透率較小之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，亦稱為戊二醯亞胺樹脂)例如記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328329號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日利特開 2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報、日本專利特開2007-009182號公報、日本專利特開2009-161744號公報中。作為參考，將該等記載引用於本說明書中。
上述戊二醯亞胺樹脂較佳為包含下述通式(1)所示之結構單元(以下，亦稱為戊二醯亞胺單元)、及下述通式(2)所示之結構單元(以下，亦稱為(甲基)丙烯酸酯單元)。
於式(1)中，R1及R2分別獨立為氫或碳數1~8之烷基，R3為氫、碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基、或包含碳數5~15之芳香環之取代基。於式(2)中，R4及R5分別獨立為氫或碳數1~8之烷基，R6為氫、碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基、或包含碳數5~15之芳香環之取代基。
戊二醯亞胺樹脂視需要亦可進而含有下述通式(3)所示 之結構單元(以下，亦稱為芳香族乙烯基單元)。
於式(3)中，R7為氫或碳數1~8之烷基，R8為碳數6~10之芳基。
於上述通式(1)中，較佳為R1及R2分別獨立為氫或甲基，R3為氫、甲基、丁基或環己基，進而較佳為R1為甲基，R2為氫，R3為甲基。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為戊二醯亞胺單元，可僅含有單一之種類，亦可含有上述通式(1)中之R1、R2及R3不同之複數種。
藉由將上述通式(2)所示之(甲基)丙烯酸酯單元醯亞胺化，可形成戊二醯亞胺單元。又，戊二醯亞胺單元亦可藉由將順丁烯二酸酐等酸酐、或此種酸酐與碳數1~20之直鏈或支鏈之醇的半酯；丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、衣康酸、衣康酸酐、丁烯酸、反丁烯二酸、檸康酸等α,β-乙烯性不飽和羧酸等醯亞胺化而形成。
於上述通式(2)中，較佳為R4及R5分別獨立為氫或甲基，R6為氫或甲基，進而較佳為R4為氫，R5為甲基，R6為甲基。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為(甲基)丙烯酸酯單元，可 僅含有單一之種類，亦可含有上述通式(2)中之R4、R5及R6不同之複數種。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為上述通式(3)所示之芳香族乙烯基結構單元，較佳為包含苯乙烯、α-甲基苯乙烯等，進而較佳為包含苯乙烯。藉由含有上述芳香族乙烯基結構單元，可降低戊二醯亞胺結構之正的雙折射性，並可獲得更低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為芳香族乙烯基結構單元，可僅含有單一之種類，亦可含有R7及R8不同之複數種。
上述戊二醯亞胺樹脂中之上述戊二醯亞胺單元之含量較佳為例如取決於R3的結構等而產生變化。戊二醯亞胺單元之含量以戊二醯亞胺樹脂之總結構單元為基準，較佳為1重量%~80重量%，更佳為1重量%~70重量%，進而較佳為1重量%~60重量%，尤佳為1重量%~50重量%。若戊二醯亞胺單元之含量於上述範圍，則可獲得耐熱性優異之低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
上述戊二醯亞胺樹脂中之上述芳香族乙烯基單元之含量視目的或所需的特性可適當地進行設定。根據用途之不同，芳香族乙烯基單元之含量亦可為0。於含有芳香族乙烯基單元之情形時，其含量以戊二醯亞胺樹脂之戊二醯亞胺單元為基準，較佳為10重量%~80重量%，更佳為20重量%~80重量%，進而較佳為20重量%~60重量%，尤佳為20重量%~50重量%。若芳香族乙烯基單元之含量於上述範圍，則可獲得低相位差、且耐熱性及機械強度優異之(甲基)丙 烯酸系樹脂膜。
亦可於上述戊二醯亞胺樹脂中視需要進而使戊二醯亞胺單元、(甲基)丙烯酸酯單元、及芳香族乙烯基單元以外之其他結構單元共聚合。作為其他結構單元，例如，可列舉包含丙烯腈或甲基丙烯腈等腈系單體，及馬來醯亞胺、N-甲基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體之結構單元。於上述戊二醯亞胺樹脂中，該等其他結構單元可直接共聚合，亦可接枝共聚合。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜包含紫外線吸收劑。只要可獲得上述所需之特性，則可採用任意之適當之紫外線吸收劑作為紫外線吸收劑。作為上述紫外線吸收劑之代表例，可列舉：三系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、苯并系紫外線吸收劑及二唑系紫外線吸收劑。該等紫外線吸收劑可單獨使用，亦可組合複數種使用。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，上述紫外線吸收劑之含量較佳為0.1重量份~5重量份，更佳為0.2重量份~3重量份。若紫外線吸收劑之含量於上述範圍，則可有效地吸收紫外線，並且不會降低膜成形時之膜之透明性。於紫外線吸收劑之含量少於0.1重量份之情形時，有紫外線之阻斷效果變得不充分之傾向。於紫外線吸收劑之含量多於5重量份之情形時，有著色增多或成形後之膜之霧值變 高，而使透明性惡化之傾向。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜視目的可含有任意之適當之添加劑。作為添加劑，例如，可列舉：受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等補強材料；近紅外線吸收劑；三(二溴丙基)磷酸酯、三芳基磷酸酯、氧化銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系之界面活性劑等防靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；有機填充劑或無機填充劑；可塑劑；潤滑劑；防靜電劑；阻燃劑；相位差降低劑等。所含之添加劑之種類、組合、含量等視目的或所需之特性可適當地進行設定。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之製造方法，並無特別限定，例如，可藉由任意之適當之混合方法，將(甲基)丙烯酸系樹脂、紫外線吸收劑、視需要之其他聚合物或添加劑等充分地混合，於預先製成熱塑性樹脂組合物後，使其進行膜成形。或者亦可於將(甲基)丙烯酸系樹脂、紫外線吸收劑、視需要之其他聚合物或添加劑等分別製成不同之溶液後，加以混合而製成均勻之混合液，其後進行膜成形。
為了製造上述熱塑性樹脂組合物，例如可於利用混合均質儀等任意之適當之混合機將上述膜原料預摻後，對所獲得之混合物進行擠出混練。於該情形時，擠出混練中所使用之混合機並無特別限定，例如，可使用單軸擠出機、二 軸擠出機等擠出機或加壓捏合機等任意之適當之混合機。
作為上述膜成形之方法，例如，可列舉溶液澆鑄法(溶液鑄膜法)、熔融擠出法、壓光法、壓縮成形法等任意之適當之膜成形法。較佳為熔融擠出法。由於熔融擠出法不使用溶劑，故而可降低製造成本或由溶劑引起之對地球環境或作業環境之負荷。
作為上述熔融擠出法，例如可列舉T模法、膨脹法等。成形溫度較佳為150~350℃，更佳為200~300℃。
於藉由上述T模法進行膜成形之情形時，可於公知之單軸擠出機或二軸擠出機之前端部安裝T鑄模，並捲取擠出成膜狀之膜，而獲得輥狀之膜。此時，亦可藉由適當地調整捲取輥之溫度，於擠出方向加以拉伸，而進行單軸延伸。又，亦可藉由在與擠出方向垂直之方向拉伸膜，而進行同時雙軸延伸、逐次雙軸延伸等。
只要可獲得上述所需之相位差，則上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜可為未延伸膜或延伸膜之任一種。於為延伸膜之情形時，可為單軸延伸膜或雙軸延伸膜之任一種。於為雙軸延伸膜之情形時，可為同時雙軸延伸膜或逐次雙軸延伸膜之任一種。
上述延伸溫度較佳為膜原料之熱塑性樹脂組合物之玻璃轉移溫度附近，具體而言，較佳為處於(玻璃轉移溫度-30℃)~(玻璃轉移溫度+30℃)、更佳為處於(玻璃轉移溫度-20℃)~(玻璃轉移溫度+20℃)之範圍內。若延伸溫度未達(玻璃轉移溫度-30℃)，則有所獲得之膜之霧值增大、或 者膜破裂或破損而無法獲得特定之延伸倍率之虞。反之，若延伸溫度超過(玻璃轉移溫度+30℃)，則有所獲得之膜之厚度不均增大，或無法充分地改善延伸率、撕裂傳播強度及耐揉疲勞等力學性質之傾向。進而，有變得容易產生膜黏著於輥上之故障之傾向。
上述延伸倍率較佳為1.1~3倍，更佳為1.3~2.5倍。若延伸倍率於上述範圍，則可大幅地改善膜之延伸率、撕裂傳播強度及耐揉疲勞等力學性質。作為結果，可製造厚度不均較小、雙折射實質上為零(因此，相位差較小)、進而霧值較小之膜。
為了使上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之光學等向性或機械特性穩定化，可於延伸處理後進行熱處理(退火)等。熱處理之條件可採用任意之適當的條件。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度較佳為10 μm~200 μm，更佳為20 μm~100 μm。若厚度未達10 μm，則有強度下降之虞。若厚度超過200 μm，則有透明性下降之虞。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之表面之潤濕張力較佳為40 mN/m以上，更佳為50 mN/m以上，進而較佳為55 mN/m以上。若表面之潤濕張力為至少40 mN/m以上，則進一步提昇(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性。為了調整表面之潤濕張力，可實施任意之適當之表面處理。作為表面處理，例如，可列舉：電暈放電處理、電漿處理、臭氧噴附、紫外線照射、火焰處理、化學品處理。該等之中，較佳為電暈放電處理、電漿處理。
C.硬塗層
如上所述，硬塗層係將硬塗層形成用組合物塗敷於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成。硬塗層形成用組合物包含例如可利用熱、光(紫外線等)或電子束等進行硬化之硬化性化合物。硬塗層形成用組合物較佳為包含光硬化型之硬化性化合物。硬化性化合物亦可為單體、低聚物及預聚物之任一種。
上述硬塗層形成用組合物中，作為硬化性化合物，包含具有9個以上之自由基聚合性不飽和基之化合物(A)。若塗敷包含化合物(A)之硬塗層形成用組合物而形成硬塗層，則可防止於硬塗層形成用組合物中溶出之(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分(代表性地為(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之樹脂成分)於硬塗層形成時擴散至硬塗層的空氣界面上，而獲得耐磨性優異之光學積層體。較佳為於硬塗層上形成化合物(A)之阻擋層。若形成阻擋層，則可獲得耐磨性更優異之光學積層體。上述化合物(A)所含之自由基聚合性不飽和基之數較佳為10個以上，更佳為20個以上，進而較佳為20個~100個。化合物(A)所含之自由基聚合性不飽和基之數越多，越可提昇硬塗層本身之耐磨性。
作為上述自由基聚合性不飽和基，例如可列舉(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基等。作為上述化合物(A)，例如，可列舉：(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環氧酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等之低聚物 或預聚物；具有不飽和基之甲基丙烯酸酯聚合物等。其中，就反應性與透明性之方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物或預聚物。化合物(A)可單獨使用，亦可組合複數種使用。再者，於本說明書中，「(甲基)丙烯醯基」係指甲基丙烯醯基及/或丙烯醯基，所謂「(甲基)丙烯酸酯」，係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯例如可藉由使自(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸酯及多元醇獲得之(甲基)丙烯酸羥基酯與二異氰酸酯發生反應而獲得。
作為上述(甲基)丙烯酸酯，例如，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯等。
作為上述多元醇，例如，可列舉：乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羥基新戊酸新戊二醇酯、三環癸烷二甲醇、1,4-環己二醇、螺二醇、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖類等。
作為上述二異氰酸酯，例如可使用芳香族、脂肪族或脂環族之各種二異氰酸酯類。作為上述二異氰酸酯之具體例，可列舉：二異氰酸四亞甲基酯、二異氰酸六亞甲基 酯、異佛爾酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、3,3-二甲基-4,4-二苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二異氰酸三甲基六亞甲基酯、4,4-二苯基甲烷二異氰酸酯、及該等之氫化物等。
相對於硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，上述化合物(A)之含有比例為15重量%~100重量%，較佳為15重量%~85重量%，進而較佳為20重量%~80重量%。若於上述範圍，則可防止於硬塗層形成用組合物中溶出之(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分(代表性地為(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之樹脂成分)於硬塗層形成時擴散至硬塗層的空氣界面上，而獲得耐磨性優異之光學積層體。
上述化合物(A)之重量平均分子量較佳為1000以上，更佳為2000以上，進而較佳為3000~50000。根據本發明，由於化合物(A)具有9個以上之自由基聚合性不飽和基，故而化合物(A)即便為相對較小之重量平均分子量，亦可防止(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分擴散至硬塗層之空氣界面上，而獲得耐磨性優異之光學積層體。當然，為了獲得耐磨性更優異之光學積層體等，亦可使用重量平均分子量更大之化合物(A)。
上述硬塗層形成用組合物中，作為硬化性化合物，進而可包含具有8個以下之自由基聚合性不飽和基之化合物(B)。若硬塗層形成用組合物含有化合物(B)，則可形成充分之厚度之滲透層，而獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗 層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。又，若硬塗層形成用組合物含有化合物(B)，則即便降低硬塗層形成時之加熱溫度，亦可形成滲透層，且即便使用玻璃轉移溫度較低之(甲基)丙烯酸系樹脂膜，亦不會使該膜變形，而獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。
於一種實施形態中，化合物(B)為具有2個~8個自由基聚合性不飽和基之化合物(B1)。化合物(B1)較佳為具有2個~4個自由基聚合性不飽和基。若硬塗層形成用組合物包含具有2個~4個自由基聚合性不飽和基之化合物(B1)，則即便將硬塗層形成時之塗佈層之加熱溫度(後述)設定為較低，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異之光學積層體。
作為上述化合物(B1)，例如，可列舉：聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、四丙烯酸二羥甲基丙烷酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四丙烯酸二三羥甲基丙烷酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯及該等之低聚物或聚合物等具有(甲基)丙烯醯基之化合物；(甲基)丙烯酸胺基 甲酸酯及該等之低聚物或預聚物等。該等化合物可單獨使用，亦可組合複數種使用。
上述化合物(B1)較佳為具有羥基。若上述硬塗層形成用組合物含有此種化合物(B1)，則可將硬塗層形成時之加熱溫度設定為更低，將加熱時間設定為更短，並可效率良好地生產對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。又，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異之光學積層體。作為具有羥基之化合物(B1)，例如可列舉季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯等。
於上述硬塗層形成用組合物包含化合物(B1)之情形時，相對於硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，上述化合物(B1)之含有比例較佳為90重量%以下，更佳為85重量%以下，進而較佳為15重量%~85重量%，尤佳為20重量%~80重量%。上述化合物(B1)之含有比例可視所需之(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性、耐磨性及硬塗層形成時的加熱溫度而決定。
上述化合物(B1)之重量平均分子量較佳為3000以下，更佳為2000以下，進而較佳為1500以下，尤佳為1000以下，最佳為未達500。上述化合物(B1)之重量平均分子量越小，越可增大滲透層之厚度，並可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。
於上述硬塗層形成用組合物包含具有2個~8個自由基聚合性不飽和基之化合物(B1)之情形時，上述化合物(A)之 重量平均分子量較佳為2000以上，更佳為3000以上，進而較佳為3000~50000。若將具有2個~8個自由基聚合性不飽和基之化合物(B1)與具有該範圍之重量平均分子量的化合物(A)組合而使用，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性及耐磨性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。上述化合物(B1)之重量平均分子量較佳為小於上述化合物(A)之重量平均分子量。
於另一實施形態中，上述化合物(B)為單官能單體(B2)。由於單官能單體(B2)易於滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜，故而若含有單官能單體，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。又，若硬塗層形成用組合物含有單官能單體(B2)，則可將硬塗層形成時之加熱溫度設定為更低，將加熱時間設定為更短，並可效率良好地生產對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。再者，亦可併用上述化合物(B1)及單官能單體(B2)。
於上述硬塗層形成用組合物包含單官能單體(B2)之情形時，相對於硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，單官能單體(B2)之含有比例較佳為40重量%以下，更佳為30重量%以下，尤佳為20重量%以下。於單官能單體之含有比例多於40重量%之情形時，有無法獲得所需之硬度及耐磨性之虞。
上述單官能單體之重量平均分子量較佳為500以下。若為此種單官能單體，則容易於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上滲 透及擴散。作為此種單官能單體，例如，可列舉：乙氧化鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異硬脂基酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異基酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基酯、丙烯醯啉、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、二甲胺基丙基丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺等。
上述單官能單體較佳為具有羥基。若為此種單官能單體，則可將硬塗層形成時之加熱溫度設定為更低，將加熱時間設定為更短，並可效率良好地生產對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。又，若上述硬塗層形成用組合物包含具有羥基之單官能單體，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異之光學積層體。作為此種單官能單體，例如，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基酯、1,4-環己烷甲醇單丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺等。其中，較佳為丙烯酸4-羥基丁酯、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺。
上述單官能單體(B2)之沸點較佳為高於硬塗層形成時之塗佈層的加熱溫度(後述)。上述單官能單體之沸點例如較佳為150℃以上，更佳為180℃以上，尤佳為200℃以上。 若於上述範圍，則可藉由硬塗層形成時之加熱而防止單官能單體揮發，並可使單官能單體充分地滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
於上述硬塗層形成用組合物包含單官能單體(B2)之情形時，上述化合物(A)之重量平均分子量較佳為2000以上，更佳為3000以上，進而較佳為3000~50000。若將單官能單體(B2)與具有該範圍之重量平均分子量之化合物(A)組合而使用，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性及耐磨性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。
上述硬塗層形成用組合物較佳為包含任意之適當之光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，例如，可列舉：2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧雜蒽酮、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、安息香丙醚、苄基二甲基縮酮、N,N,N',N'-四甲基-4,4'-二胺基二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、9-氧硫系化合物等。
於一種實施形態中，於硬塗層之與基材層相反之側的表面具有凹凸構造。若硬塗層之表面為凹凸構造，則可對光學積層體賦予防眩性。作為形成此種凹凸構造之方法，例如，可列舉使硬塗層形成用組合物中含有微粒子之方法。微粒子可為無機微粒子，亦可為有機微粒子。作為無機微粒子，例如，可列舉：二氧化矽微粒子、氧化鈦微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鋅微粒子、氧化錫微粒子、碳酸鈣微粒子、硫酸鋇微粒子、滑石微粒子、高嶺土微粒子、硫酸 鈣微粒子等。作為有機微粒子，例如，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA(Polymethyl Methacrylate)微粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯并胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。該等微粒子可單獨使用，亦可組合複數種使用。
上述微粒子之形狀可採用任意之適當的形狀。較佳為大致球形，更佳為縱橫比為1.5以下之大致球形。微粒子之重量平均粒徑較佳為1 μm~30 μm，更佳為2 μm~20 μm。微粒子之重量平均粒徑例如可藉由庫爾特計數(Coulter counter)法進行測定。
於上述硬塗層形成用組合物包含上述微粒子之情形時，相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述微粒子之含有比例較佳為1重量%~60重量%，更佳為2重量%~50重量%。
上述硬塗層形成用組合物進而可包含任意之適當之添加劑。作為添加劑，例如，可列舉：調平劑、抗結塊劑、分散穩定劑、揺變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、潤滑劑、防靜電劑等。
作為上述調平劑，例如，可列舉氟系或聚矽氧系之調平劑，較佳為聚矽氧系調平劑。作為上述聚矽氧系調平劑，例如，可列舉：反應性聚矽酮、聚二甲基矽氧烷、聚醚改 性聚二甲基矽氧烷、聚甲基烷基矽氧烷等。其中，較佳為反應性聚矽酮。若添加反應性聚矽酮，則對硬塗層表面賦予滑動性，且耐磨性可長期持續。相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述調平劑之含有比例較佳為5重量%以下，更佳為0.01重量%~5重量%。
上述硬塗層形成用組合物可含有溶劑，亦可不含。作為溶劑，例如，可列舉：二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二烷、1,3-二氧雜環戊烷、1,3,5-三烷、四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK，Methyl Ethyl Ketone)、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮(CPN，Cyclopentanone)、環己酮、甲基環己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、乙酸正戊酯、乙醯丙酮、二丙酮醇、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、環己醇、異丙醇(IPA，Iso-Propyl Alcohol)、乙酸異丁酯、甲基異丁基酮(MIBK，Methyl Isobutyl Ketone)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚等。該等可單獨使用，亦可組合複數種使用。
根據本發明，即便使用不含溶劑之硬塗層形成用組合物、或者作為溶劑僅包含(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成材料 之不良溶劑之硬塗層形成用組合物，亦可使硬塗形成用組合物滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜，而形成具有所需之厚度之滲透層。
上述硬塗層之厚度較佳為1 μm以上，更佳為3 μm以上，進而較佳為4 μm~10 μm。若於上述範圍，則可獲得硬度優異之光學積層體。又，由於本發明之光學積層體如上所述般抑制(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之成分向硬塗層(硬塗層形成用組合物)的擴散，故而即便使硬塗層之厚度變薄，耐磨性亦優異。
如上所述，形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂於硬塗層形成用組合物中溶出，亦可於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂。於本發明中，由於利用包含具有9個以上之自由基聚合性不飽和基之化合物(A)的硬塗層形成用組合物而形成硬塗層，故而可抑制該(甲基)丙烯酸系樹脂向硬塗層之表面側移動。於一個實施形態中，該(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自滲透層之基材層側向硬塗層連續地下降。於此種實施形態中，由於使(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度連續地變化、即未形成由(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度變化引起的界面，故而可抑制界面反射，並可獲得干涉斑較小之光學積層體。於另一實施形態中，該(甲基)丙烯酸系樹脂與硬塗層形成用組合物產生相分離，而於硬塗層之與滲透層相反之側上形成阻擋層。於此種實施形態中，較佳亦為該(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自滲透層之基材層側向除阻擋層以外的硬塗層連續地下降。
阻擋層之厚度較佳為1 μm~10 μm，進而較佳為2 μm~5 μm。
再者，阻擋層之厚度可藉由硬塗層之反射光譜或利用SEM(Scanning Electron Microscope，掃描式電子顯微鏡)、TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)等電子顯微鏡的觀察而進行測定。
D.滲透層
如上所述，滲透層係藉由使硬塗層形成用組合物滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成。換言之，滲透層可對應於形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂與形成硬塗層之化合物之相溶區域的一部分。
於上述滲透層中，較佳為形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自硬塗層側向基材層側連續地升高。其原因為：由於使(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度連續地變化、即未形成由(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度變化引起的界面，故而可抑制界面反射，並可獲得干涉斑較小之光學積層體。
滲透層之厚度之下限較佳為1.2 μm，更佳為1.5 μm，進而較佳為2 μm，尤佳為3 μm。滲透層之厚度之上限較佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×70%)μm，更佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×40%)μm，進而較佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×30%)μm，尤佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×20%)μm。若滲透層之厚度於上述範圍，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制 干涉斑之光學積層體。再者，滲透層之厚度可藉由硬塗層之反射光譜進行測定。再者，滲透層之厚度可藉由硬塗層之反射光譜或利用SEM、TEM等電子顯微鏡的觀察而進行測定。利用反射光譜之滲透層之厚度的測定方法之詳細情況係以實施例中之評價方法的形式於後進行闡述。
E.其他層
本發明之光學積層體中，視需要可於硬塗層之外側上配置任意之適當的其他層。作為代表例，可列舉抗反射層及防眩層。可採用於本業界中通常使用之抗反射層及防眩層作為抗反射層及防眩層。
F.光學積層體之製造方法
本發明之光學積層體可於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上形成上述硬塗層而獲得。硬塗層之形成方法包括將硬塗層形成用組合物塗佈於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成塗佈層，並對該塗佈層進行加熱之步驟。硬塗層較佳為對加熱後之塗佈層進行硬化處理而形成。
可採用任意之適當之方法作為硬塗層形成用組合物的塗佈方法。例如，可列舉：棒式塗佈法、輥式塗佈法、凹板印刷式塗佈法、桿式塗佈法、孔縫式塗佈法、淋幕式塗佈法、噴注式刮刀塗佈法、刮刀式塗佈法。
上述塗佈層之加熱溫度可視硬塗層形成用組合物之組成而設定為適當的溫度，較佳為設定為(甲基)丙烯酸系樹脂膜中所含之樹脂之玻璃轉移溫度以下。若於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中所含之樹脂之玻璃轉移溫度以下的溫度下進行 加熱，則可獲得對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。上述塗佈層之加熱溫度例如為80℃~140℃。若以上述範圍之溫度進行加熱，則硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及/或預聚物於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中良好地滲透及擴散。利用經由該加熱及其後之硬化處理而進行滲透之硬塗層形成用組合物及(甲基)丙烯酸系樹脂膜的形成材料，形成上述D項中所說明之滲透層。其結果，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。另一方面，由於硬塗層形成用組合物含有上述化合物(A)，故而即便於上述溫度下加熱塗佈層，亦可防止(甲基)丙烯酸系樹脂膜中之樹脂成分擴散至硬塗層之空氣界面上，並可獲得耐磨性優異之光學積層體。即，根據本發明，即便於上述溫度下進行加熱而形成充分之厚度之滲透層，亦可獲得硬塗層之耐磨性優異之光學積層體。再者，於硬塗層形成用組合物包含溶劑之情形時，藉由該加熱，可對所塗佈之硬塗層形成用組合物進行乾燥。
於一種實施形態中，上述加熱溫度可視上述化合物(B)之含有比例而加以設定。硬塗層形成用組合物中所含之上述化合物(B)越多，越可於低溫之加熱溫度(例如為80℃~100℃)下獲得密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體，且可形成環境負荷較小效率較佳之製造步驟。又，由於可降低加熱溫度，故而可使用玻璃轉移溫度較低之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。另一方面，若於高溫下進行加 熱，則有化合物(B)與形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之樹脂成分相溶，而使耐磨性下降之虞。
可採用任意之適當之硬化處理作為上述硬化處理。硬化處理代表性地係藉由紫外線照射而進行。紫外線照射之累積光量較佳為200 mJ~400 mJ。
實施例
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。實施例中之評價方法如下所述。又，於實施例中，只要無明確記載，則「份」及「%」為重量基準。
(1)耐磨性
將於實施例及比較例中獲得之光學積層體切割成寬度11 mm、長度100 mm之大小，並使基材膜向下而放置於玻璃板上。繼而，使安裝於直徑11 mm之圓柱之剖面上的鋼絲絨# 0000於荷重400 g、100 mm/sec之條件下，於該光學積層體之硬塗層側表面上往返10次。目測觀察其後之硬塗層側表面，並根據以下基準進行評價。
又，除將荷重設為600 g以外，進行與上述同樣之評價。
4：完全無損傷3：稍微受到損傷2：殘留有細小之損傷1：損傷較明顯
(2)鉛筆硬度
對於在實施例及比較例中獲得之光學積層體之硬塗層側表面，基於JIS K 5400(荷重500 g)評價鉛筆硬度。
(3)硬塗層之密著性
基於JIS K-5400之棋盤格剝離試驗(棋盤格數：100格)，評價硬塗層對於基材膜之密著性。
(4)干涉斑
於在實施例及比較例中獲得之光學積層體之基材膜側上，經由丙烯酸系黏著劑貼合黑色丙烯酸板(三菱麗陽公司製造，厚度2 mm)，其後於3波長蛍光燈下目測觀察干涉斑，並根據以下基準加以評價。
4：未產生干涉斑3：發現產生一些干涉斑，但無實用上之問題2：發現產生較多之干涉斑1：發現產生明顯之干涉斑
(5)滲透層之厚度
於在實施例及比較例中獲得之光學積層體之基材層側上，經由厚度20 μm之丙烯酸系黏著劑貼合黑色丙烯酸板(三菱麗陽公司製造，厚度2 mm)。繼而，使用多頻分光光譜儀(Multi Channel Photo Detector)系統(大塚電子公司製造，商品名：MCPD3700)，於以下之條件下測定硬塗層之反射光譜，並由FFT(Fast Fourier Transform，快速傅里葉變換)光譜之波峰位置評價(硬塗層+滲透層)之厚度。再者，折射率係使用Atago公司製造之阿貝折射率計(商品 名：DR-M2/1550)，並選擇單溴代萘作為中間液選擇而進行測定。
˙ 反射光譜測定條件
參考：鏡面反射演算法：FFT法計算波長：450 nm~850 nm
˙ 檢測條件
曝光時間：20 ms指示燈增益：正常累積次數：10次
˙ FFT法
膜厚值之範圍：2 μm~15 μm膜厚解析度：24 nm
又，硬塗層之厚度係藉由與下述積層體(R)相關之上述反射光譜測定而進行評價。
˙積層體(R)：使用PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二醇酯)基材(Toray公司製造，商品名：U48-3，折射率：1.60)作為基材膜，並將塗佈層之加熱溫度設為60℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得。
再者，由於硬塗層形成用組合物不滲透該等積層體中所使用之PET基材，故而由自積層體(R)所獲得之FFT光譜之波峰位置僅測定硬塗層的厚度。該評價之結果，硬塗層之厚度為5.3 μm。
將由((硬塗層+滲透層)之厚度)-((硬塗層)之厚度)算出的正值作為滲透層之厚度。
<製造例1>基材膜A之製作
利用雙軸混練機，於220℃下將日本專利特開2010-284840號公報之製造例1中所記載之醯亞胺化MS樹脂100重量份、及三系紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，商品名：T-712)0.62重量份加以混合，而製作樹脂顆粒物。於100.5 kPa、100℃之條件下將所獲得之樹脂顆粒物乾燥12小時，並利用單軸之擠出機，於鑄模溫度270℃下自T鑄模中擠出而使其成形為膜狀(厚度160 μm)。進而於其搬送方向於150℃之環境下對該膜(厚度80 μm)進行拉伸，繼而於與膜搬送方向正交之方向於150℃之環境下進行拉伸，而獲得厚度40 μm之基材膜A((甲基)丙烯酸系樹脂膜)。所獲得之基材膜A之波長380 nm之光的穿透率為8.5%，面內相位差Re為0.4 nm，厚度方向相位差Rth為0.78 nm。又，所獲得之基材膜A之透濕度為61 g/m2/24小時。再者，透光率係使用日立高新技術股份有限公司製造之分光光度計(裝置名稱：U-4100)，並於波長區域200 nm~800 nm之條件下測定穿透率光譜，而讀取波長380 nm時之穿透率。又，相位差值係使用王子計測設備股份有限公司製造之商品名「KOBRA21-ADH」，並於波長590 nm、23℃之條件下進行測定。透濕度係藉由依據JIS K 0208之方法，於溫度40℃、相對濕度92%之條件下進行測定。
<實施例1>
將9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。
將所獲得之硬塗層形成用組合物塗佈於製造例1中獲得之基材膜A上而形成塗佈層，並於110℃下將該塗佈層加熱1分鐘。利用高壓水銀燈對加熱後之塗佈層照射累積光量300 mJ/cm2之紫外線，使塗佈層硬化，並形成基材層、硬塗層及滲透層，而獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例2>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用10官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM8452，重量平均分子量：1200)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例3>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用10官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(日本合成化學公司製造，商品名：UV-1700B，重量平均分子量：2000)，並將塗佈層之加熱溫度設為115℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例4>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(日本合成化學公司製造，商品名：紫光UV-7610B，重量平均分子量：11000)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例5>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(新中村化學公司製造，商品名：NK Oligo UA-53H，重量平均分子量：2300)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例6>
進而添加二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化學公司製造，商品名：A-DPH)100份製備硬塗層形成用組合物，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例7>
進而添加季戊四醇三丙烯酸酯(PETA，Pentaerythritol Triacrylate)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份而製備硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例8>
使用將15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(新中村化學公司製造，商品名：NK Oligo UA-53H，重量平均分子量：2300)60份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)40份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表2中。
<實施例9>
將包含下述組成之紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：PC1070，固形物成分：66%，溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯)100份、及調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。
將所獲得之硬塗層形成用組合物塗佈於製造例1中獲得之基材膜上而形成塗佈層，並於110℃下對該塗佈層加熱1分鐘。對加熱後之塗佈層利用高壓水銀燈照射累積光量300 mJ/cm2之紫外線，使塗佈層硬化，並形成基材層、硬塗層及滲透層，而獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
紫外線硬化型樹脂之組成
由季戊四醇系丙烯酸酯與氫化二甲苯二異氰酸酯獲得之丙烯酸胺基甲酸酯100份、二季戊四醇六丙烯酸酯49份、季戊四醇四丙烯酸酯41份、季戊四醇三丙烯酸酯24份、具有2-羥基乙基及2,3-二羥基丙基之(甲基)丙烯酸聚合物(重量平均分子量：3000，官能基數：10以上)58份、光反應起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure184；BASF公司製造，商品名：Lucirin TPO)
<實施例10>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)30份、及上述紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：PC1070)100份，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例11>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用丙烯醯啉(ACMO，Acryloylmorpholine)(興人公司製造)25份、及上述紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造， 商品名：PC1070)100份，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例12>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用包含丙烯酸胺基甲酸酯100份、及具有50以上之官能基之環氧丙烯酸酯系聚合物(重量平均分子量：40000)100份的樹脂(荒川化學公司製造，商品名：BEAMSET371，固形物成分66%：乙酸乙酯/乙酸丁酯)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例13>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)70份、及上述荒川化學公司製造之「BEAMSET371」45份，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例14>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公 司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)70份、及上述荒川化學公司製造之「BEAMSET371」45份，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於下述表2中。
<實施例15>
使用將15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(新中村化學公司製造，商品名：NK Oligo UA-53H，重量平均分子量：2300)60份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化 學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、丙烯醯啉(ACMO)(興人公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為95℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例16>
使用將15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(新中村化學公司製造，商品名：NK Oligo UA-53H，重量平均分子量：2300)60份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA,4-Hydroxybutyl Acrylate)(大阪有機化學工業公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例17>
使用將15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(新中村化學公司製造，商品名：NK Oligo UA-53H，重量平均分子 量：2300)50份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)25份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例18>
使用將15官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(新中村化學公司製造，商品名：NK Oligo UA-53H，重量平均分子量：2300)60份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA,N-(2-Hydroxyethyl)acrylamide)(興人公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例19>
使用將9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec 公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)60份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例20>
使用將9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)50份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)25份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例21>
使用將9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)60份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)25份、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA)(興人公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例22>
使用將上述紫外線硬化樹脂((DIC公司製造，商品名：PC1070，固形物成分：66%，溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯))100份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)15份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例23>
使用將上述紫外線硬化樹脂((DIC公司製造，商品名：PC1070，固形物成分：66%，溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯))100份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)15份、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA)(興人公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<實施例24>
使用將上述紫外線硬化樹脂(DIC公司製造，商品名：PC1070，固形物成分：66%，溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯)100份、乙氧化甘油三丙烯酸酯(新中村化學公司製造，商品名：NK ESTER A-GLY-9E)15份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之 方式獲得光學積層體。將結果示於表3中。
<比較例1>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat# 300)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
<比較例2>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化學公司製造，商品名：A-DPH)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
<比較例3>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用6官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物60份、季戊四醇四丙烯酸酯30份、及季戊四醇三丙烯酸酯10份之混合物(日本合成化學公司製造，商品名：紫光UV-7600B，重量平均分子量：1400)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
<比較例4>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用6~7官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(日本合成化學公司製造，商品名：紫光UV-7640B，重量平均分子量：1500)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
<比較例5>
將包含異三聚氰酸三丙烯酸酯13份、季戊四醇三丙烯酸酯16份、二季戊四醇六丙烯酸酯62份、及異佛爾酮二異氰酸酯聚胺基甲酸酯9份之紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)100份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。
將所獲得之硬塗層形成用組合物塗佈於製造例1中獲得之基材膜A上而形成塗佈層，並於110℃下對該塗佈層加熱1分鐘。對加熱後之塗佈層利用高壓水銀燈照射累積光量300 mJ/cm2之紫外線，使塗佈層硬化，並形成硬塗層及滲透層，而獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
<參考例1>
代替官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)100份，使用6官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物60份、季戊四醇四丙烯酸酯30份、及季戊四醇三丙烯酸酯10份之混合物(日本合成化學公司製造，商品名：紫光UV-7600B，重量平均分子量：1400)，並將加熱溫度設為80℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學 積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
<參考例2>
代替9官能胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物(Daicel-Cytec公司製造，商品名：KRM7804，重量平均分子量：3000)，使用二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化學公司製造，商品名：A-DPH)，並將加熱溫度設為80℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(1)~(5)之評價中。將結果示於上述表1中。
由表1及2亦表明：本發明之光學積層體中，(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)與硬塗層之密著性優異，並且抑制干涉斑。如此，本發明之光學積層體對密著性及干涉斑具有優異之效果，且進而耐磨性亦優異。
產業上之可利用性
本發明之光學積層體可較佳地使用於圖像顯示裝置中。本發明之光學積層體可較佳地用作圖像顯示裝置之前面板或偏光元件的保護材料，尤其是可較佳地用作液晶顯示裝置(其中為三維液晶顯示裝置)之前面板。
10‧‧‧基材層
20‧‧‧硬塗層
30‧‧‧滲透層
40‧‧‧阻擋層
100、200、300‧‧‧光學積層體
A、B‧‧‧邊界
圖1(a)係本發明之較佳之實施形態之光學積層體的概略剖面圖，圖1(b)係本發明之另一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。
圖2係本發明之另一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。
10‧‧‧基材層
20‧‧‧硬塗層
30‧‧‧滲透層
100、200‧‧‧光學積層體
A、B‧‧‧邊界

Claims (15)

  1. 一種光學積層體，其包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層、及將硬塗層形成用組合物塗敷於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成之硬塗層；硬塗層形成用組合物包含具有9個以上之自由基聚合性不飽和基之化合物(A)，並且相對於該硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，該化合物(A)之含有比例為15重量%~100重量%，且於上述基材層與上述硬塗層之間，進而含有使上述硬塗層形成用組合物滲透至上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成之滲透層，且該滲透層之厚度為1.2μm以上。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中上述化合物(A)之重量平均分子量為1000以上。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物進而包含具有2個~8個自由基聚合性不飽和基之化合物(B1)，且上述化合物(A)之重量平均分子量為2000以上。
  4. 如請求項3之光學積層體，其中相對於上述硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，上述化合物(B1)之含有比例為15重量%~85重量%。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜於波長380nm中之光之穿透率為15%以下。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中形成上述(甲基)丙烯酸系 樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂具有表現正的雙折射之結構單元與表現負的雙折射的結構單元。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量為10000~500000。
  8. 如請求項3之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物進而包含單官能單體(B2)。
  9. 如請求項8之光學積層體，其中上述單官能單體(B2)之重量平均分子量為500以下。
  10. 如請求項8之光學積層體，其中上述單官能單體具有羥基。
  11. 如請求項10之光學積層體，其中上述單官能單體(B2)為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯及/或N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺。
  12. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層之與上述基材層相反之側的表面具有凹凸構造。
  13. 如請求項1之光學積層體，其中於上述硬塗層之與上述基材層相反之側上進而包含抗反射層。
  14. 一種偏光膜，其包含如請求項1至13中任一項之光學積層體。
  15. 一種圖像顯示裝置，其包含如請求項1至13中任一項之光學積層體。
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