JP2012234164A - 光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】低透湿性の（メタ）アクリル系樹脂フィルム（基材フィルム）を用いても、（メタ）アクリル系樹脂フィルム（基材フィルム）とハードコート層との密着性およびハードコート層の耐擦傷性の両方に優れる光学積層体を提供すること。
【解決手段】本発明の光学積層体は、（メタ）アクリル系樹脂フィルムから形成された基材層と、該（メタ）アクリル系樹脂フィルムに、硬化性化合物および無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物を、塗工して形成されたハードコート層と、該基材層と該ハードコート層との間に、該ハードコート層形成用組成物が該（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透して形成された、厚みが１．２μｍ以上の浸透層とを備え、該無機ナノ粒子の含有割合が、該硬化性化合物および該無機ナノ粒子の合計に対して、１．５重量％〜５０重量％である。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体に関する。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置は、外部からの接触によりその表面に傷がつくと、表示画像の視認性が低下する場合がある。このため、画像表示装置の表面保護を目的として、基材フィルムとハードコート層とを含む光学積層体が用いられている。光学積層体の基材フィルムとしては、代表的にはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が用いられている（特許文献１）。しかし、ＴＡＣからなる基材フィルムは、透湿度が高い。そのため、このような基材フィルムを含む光学積層体をＬＣＤに用いた場合、高温高湿下では水分が当該光学積層体を透過して、偏光子の光学特性が劣化するという問題が生じる。近年、屋内での使用に加え、カーナビゲーションシステム、携帯情報端末のような屋外で使用される機器にもＬＣＤが用いられることも多くなっており、高温高湿等の過酷な条件下においても上記問題の生じない信頼性の高いＬＣＤが求められている。

上記問題を解決するため、低透湿性のアクリル系基材フィルム上にハードコート層形成用組成物を塗布、乾燥して形成されたハードコート層を有する光学積層体が提案されている（特許文献２）。特許文献２に記載の光学積層体は、基材フィルムとハードコート層とについて、ある程度の密着性を有するものの、いまだ十分でなく、上記ＴＡＣからなる基材フィルムほどの密着性が得られていない。

特開２００８−１６５２０５号公報 特開２００９−１８５２８２号公報

本発明者らは、アクリル系基材フィルムとハードコート層の密着性について、アンカー効果により密着させることを検討したところ、密着性を向上させようとする（代表的には、ハードコート層形成用組成物の乾燥温度を上げる）と、基材フィルム成分がハードコート層に溶出し、耐擦傷性が低下するという新たな課題を見出した。本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、低透湿性の（メタ）アクリル系樹脂を含む（メタ）アクリル系樹脂フィルム（基材フィルム）を用いても、（メタ）アクリル系樹脂フィルム（基材フィルム）とハードコート層との密着性を確保するとともに、耐擦傷性の低下を防止し得る光学積層体を提供することにある。

本発明の光学積層体は、（メタ）アクリル系樹脂フィルムから形成された基材層と、該（メタ）アクリル系樹脂フィルムに、硬化性化合物および無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物を、塗工して形成されたハードコート層と、該基材層と該ハードコート層との間に、該ハードコート層形成用組成物が該（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透して形成された、厚みが１．２μｍ以上の浸透層とを備え、該無機ナノ粒子の含有割合が、該硬化性化合物および該無機ナノ粒子の合計に対して、１．５重量％〜５０重量％である。
好ましい実施形態においては、上記無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている。
好ましい実施形態においては、上記有機化合物が、重合性不飽和基を有する有機化合物である。
好ましい実施形態においては、上記無機ナノ粒子の含有割合が、上記硬化性化合物および上記無機ナノ粒子の合計に対して１．５重量％〜３０重量％である。
好ましい実施形態においては、上記ハードコート層形成用組成物が、５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含み、該５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、１５重量％〜１００重量％である。
好ましい実施形態においては、上記ハードコート層形成用組成物が、２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含み、該２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、８５重量％以下である。
好ましい実施形態においては、上記ハードコート層組成物が単官能モノマーをさらに含み、該単官能モノマーの含有割合が、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、４０重量％以下である。
好ましい実施形態においては、上記単官能モノマーの重量平均分子量が、５００以下である。
好ましい実施形態においては、上記単官能モノマーが、水酸基を有する。
好ましい実施形態においては、上記単官能モノマーが、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートおよび／またはＮ−（２−ヒドロキシアルキル）（メタ）アクリルアミドである。
好ましい実施形態においては、上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの波長３８０ｎｍにおける光の透過率が、１５％以下である。
好ましい実施形態においては、上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂が、正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有する。
好ましい実施形態においては、上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量が、１００００〜５０００００である。
好ましい実施形態においては、上記ハードコート層および上記浸透層において、上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂の濃度が、該浸透層の上記基材層側から該ハードコート層の上記基材層とは反対側へ、連続的に低くなる。
好ましい実施形態においては、上記ハードコート層の上記浸透層とは反対側の表面が、凹凸構造を有する。
好ましい実施形態においては、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の上記浸透層とは反対側に、反射防止層をさらに備える。
本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。この偏光板は上記光学積層体を含む。
本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は上記光学積層体を含む。

本発明によれば、特定の含有割合で無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物を用いてハードコート層を形成することにより、低透湿性の（メタ）アクリル系樹脂フィルム（基材フィルム）を用いても、（メタ）アクリル系樹脂フィルム（基材フィルム）とハードコート層との密着性およびハードコート層の耐擦傷性の両方に優れる光学積層体を得ることができる。

（ａ）は本発明の好ましい実施形態による光学積層体の概略断面図であり、（ｂ）は従来の一般的なハードコート層を有する光学積層体の概略断面図である。

以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
Ａ．光学積層体の全体構成
図１（ａ）は、本発明の好ましい実施形態による光学積層体の概略断面図であり、図１（ｂ）は、従来の一般的なハードコート層を有する光学積層体の概略断面図である。図１（ａ）に示す光学積層体１００は、（メタ）アクリル系樹脂フィルムから形成される基材層１０と、浸透層２０と、ハードコート層３０とをこの順に備える。ハードコート層３０は、（メタ）アクリル系樹脂フィルムに硬化性化合物を含むハードコート層形成用組成物を塗工して形成される。浸透層２０は、ハードコート層形成用組成物が（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透して形成される。基材層１０は、このようにハードコート層形成用組成物が（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透した際に、（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおいてハードコート層形成用組成物が到達（浸透）しなかった部分である。一方、図１（ｂ）に示す光学積層体２００は、浸透層が形成されていない。図１（ａ）および（ｂ）に示す境界Ａは、（メタ）アクリル系樹脂フィルムのハードコート層形成用組成物塗工面により規定される境界である。したがって、境界Ａは、光学積層体１００においては浸透層２０とハードコート層３０との境界であり、浸透層が形成されていない光学積層体２００においては基材層１０’（すなわち、（メタ）アクリル系樹脂フィルム）とハードコート層３０’との境界である。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」とはアクリルおよび／またはメタクリルを意味する。

浸透層２０は、上記のとおり、光学積層体１００において、ハードコート層形成用組成物が（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透して形成される。すなわち、浸透層２０とは、（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおいて、ハードコート層成分が存在している部分である。浸透層２０の厚みは１．２μｍ以上である。なお、浸透層２０の厚みとは、上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおいてハードコート層成分が存在している部分の厚みであり、具体的には、（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおいてハードコート層成分が存在している部分（浸透層）と存在していない部分（基材層）との境界Ｂと、境界Ａとの距離である。

本発明に用いるハードコート層形成用組成物は、無機ナノ粒子をさらに含む。当該ハードコート層形成用組成物により形成されたハードコート層３０中には、当該無機ナノ粒子１が存在する。無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物により、無機ナノ粒子１を含むハードコート層３０を形成すれば、ハードコート層形成用組成物に溶出した（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の成分（代表的には、（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の樹脂成分）が、ハードコート層形成時にハードコート層の空気界面にまで拡散することを防いで、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。

本発明の光学積層体は、必要に応じて、ハードコート層３０の外側に任意の適切なその他の層（図示せず）が配置されてもよい。その他の層は、代表的には、粘着剤層（図示せず）を介して配置される。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂が、ハードコート層形成用組成物に溶出して、ハードコート層中に当該（メタ）アクリル系樹脂が存在していてもよい。本発明によれば、ハードコート層中に当該（メタ）アクリル系樹脂が存在していても、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。好ましくは、ハードコート層３０および浸透層２０において、（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂の濃度が、浸透層２０の基材層１０側からハードコート層３０の基材層１０とは反対側（すなわち、ハードコート層３０の空気側界面）へ、連続的に低くなる。（メタ）アクリル系樹脂の濃度が連続的に変化すること、すなわち（メタ）アクリル系樹脂の濃度変化に起因する界面が形成されていないことにより界面反射を抑制することができ、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができるからである。

本発明の光学積層体の５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域におけるハードコート層の反射スペクトルの振幅は、好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．５％以下であり、さらに好ましくは０．３％以下であり、特に好ましくは０．１％以下である。本発明によれば、反射スペクトルの振幅の小さい、すなわち、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができる。

本発明の光学積層体は、所定厚みの浸透層を有するので、（メタ）アクリル系樹脂フィルムおよびハードコート層の形成材料として屈折率差の大きい材料を選択しても、干渉ムラの発生を防止することができる。本発明の光学積層体は、例えば、基材層の屈折率とハードコート層の屈折率との差の絶対値を０．０１〜０．１５とすることができる。もちろん、当該屈折率の差の絶対値を０．０１未満に設定することも可能である。

本発明の光学積層体は、例えば、偏光フィルム（偏光板とも称される）に適用される。具体的には、本発明の光学積層体は、偏光フィルムにおいて、偏光子の片面または両面に設けられ、偏光子の保護材料として好適に用いられ得る。

Ｂ．基材層
上記基材層は、（メタ）アクリル系樹脂フィルムから形成される。より詳細には、上記のように、基材層は、（メタ）アクリル系樹脂フィルムにハードコート層形成用組成物を塗工した際に、（メタ）アクリル系樹脂フィルムにおいて、当該ハードコート層形成用組成物が到達（浸透）しなかった部分である。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、（メタ）アクリル系樹脂を含む。（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、例えば、（メタ）アクリル系樹脂を主成分として含む樹脂成分を含有する成形材料を、押出し成形して得られる。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの透湿度は、好ましくは２００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下であり、より好ましくは８０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下である。本発明によれば、このように透湿度の高い（メタ）アクリル系樹脂フィルムを用いても、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。なお、透湿度は、例えば、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準じた方法により、４０℃、相対湿度９２％の試験条件で測定することができる。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの波長３８０ｎｍにおける光の透過率は、好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１２％以下であり、さらに好ましくは９％以下である。波長３８０ｎｍの光の透過率がこのような範囲であれば、優れた紫外線吸収能が発現するので、光学積層体の外光等による紫外線劣化が防止され得る。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの面内位相差Ｒｅは、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは７ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下であり、特に好ましくは３ｎｍ以下であり、最も好ましくは１ｎｍ以下である。（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚み方向位相差Ｒｔｈは、好ましくは１５ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下であり、特に好ましくは３ｎｍ以下であり、最も好ましくは１ｎｍ以下である。面内位相差および厚み方向位相差がこのような範囲であれば、位相差に起因する画像表示装置の表示特性への悪影響が顕著に抑制され得る。より具体的には、干渉ムラや３Ｄディスプレイ用液晶表示装置に用いる場合の３Ｄ像の歪みが顕著に抑制され得る。面内位相差および厚み方向位相差がこのような範囲の（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、例えば、後述のグルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いて得ることができる。なお、面内位相差Ｒｅおよび厚み方向位相差Ｒｔｈは、それぞれ、以下の式で求められる：
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄ
ここで、ｎｘは（メタ）アクリル系樹脂フィルムの遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは（メタ）アクリル系樹脂フィルムの進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄ（ｎｍ）は（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚みである。遅相軸は、フィルム面内の屈折率が最大になる方向をいい、進相軸は、面内で遅相軸に垂直な方向をいう。代表的には、ＲｅおよびＲｔｈは、波長５９０ｎｍの光を用いて測定される。

上記（メタ）アクリル系樹脂としては、任意の適切な（メタ）アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）が挙げられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ_１−６アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０重量％〜１００重量％、好ましくは７０重量％〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。

上記（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１００００〜５０００００であり、より好ましくは３００００〜５０００００である。本発明によれば、重量平均分子量の小さい（メタ）アクリル系樹脂を用いても、すなわちハードコート層に比較的溶出しやすい（メタ）アクリル系樹脂を用いても、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。重量平均分子量の小さい（メタ）アクリル系樹脂を用いれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルム中に十分な厚みの浸透層を形成させて、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。

上記（メタ）アクリル系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは１１０℃以上であり、より好ましくは１２０℃以上である。ガラス転移温度がこのような範囲であれば、耐久性および耐熱性に優れた（メタ）アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。ガラス転移温度の上限は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは１７０℃以下である。

上記（メタ）アクリル系樹脂は、好ましくは、正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有する。これらの構造単位を有していれば、その存在比を調整して、（メタ）アクリル系樹脂フィルムの位相差を制御することができ、低位相差の（メタ）アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。正の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、ラクトン環、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン等を構成する構造単位、後述の一般式（１）で示される構造単位が挙げられる。負の複屈折を発現する構造単位としては、例えば、スチレン系モノマー、マレイミド系モノマー等を由来とする構造単位、ポリメチルメタクリレートの構造単位、後述の一般式（３）で示される構造単位等が挙げられる。本明細書において、正の複屈折を発現する構造単位とは、当該構造単位のみを有する樹脂が正の複屈折特性を示す場合（すなわち、樹脂の延伸方向に遅相軸が発現する場合）の構造単位を意味する。また、負の複屈折を発現する構造単位とは、当該構造単位のみを有する樹脂が負の複屈折特性を示す場合（すなわち、樹脂の延伸方向と垂直な方向に遅相軸が発現する場合）の構造単位を意味する。

上記（メタ）アクリル系樹脂として、ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が好ましく用いられる。ラクトン環構造またはグルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は耐熱性に優れる。より好ましくは、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂である。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いれば、上記のように、低透湿、かつ、位相差および紫外線透過率の小さい（メタ）アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（以下、グルタルイミド樹脂とも称する）は、例えば、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報、特開２００７−００９１８２号公報、特開２００９−１６１７４４号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。

好ましくは、上記グルタルイミド樹脂は、下記一般式（１）で表される構造単位（以下、グルタルイミド単位とも称する）と、下記一般式（２）で表される構造単位（以下、（メタ）アクリル酸エステル単位とも称する）とを含む。

式（１）において、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^３は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基である。式（２）において、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^６は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基である。

グルタルイミド樹脂は、必要に応じて、下記一般式（３）で表される構造単位（以下、芳香族ビニル単位とも称する）をさらに含んでいてもよい。

式（３）において、Ｒ^７は、水素または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^８は、炭素数６〜１０のアリール基である。

上記一般式（１）において、好ましくは、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、Ｒ^３は水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、Ｒ^１はメチル基であり、Ｒ^２は水素であり、Ｒ^３はメチル基である。

上記グルタルイミド樹脂は、グルタルイミド単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、およびＲ^３が異なる複数の種類を含んでいてもよい。

グルタルイミド単位は、上記一般式（２）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位をイミド化することにより、形成することができる。また、グルタルイミド単位は、無水マレイン酸等の酸無水物、または、このような酸無水物と炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルコールとのハーフエステル；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、シトラコン酸等のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸等をイミド化することによっても、形成することができる。

上記一般式（２）において、好ましくは、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、Ｒ^６は水素またはメチル基であり、さらに好ましくは、Ｒ^４は水素であり、Ｒ^５はメチル基であり、Ｒ^６はメチル基である。

上記グルタルイミド樹脂は、（メタ）アクリル酸エステル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、上記一般式（２）におけるＲ^４、Ｒ^５、およびＲ^６が異なる複数の種類を含んでいてもよい。

上記グルタルイミド樹脂は、上記一般式（３）で表される芳香族ビニル単位として、好ましくはスチレン、α−メチルスチレン等を含み、さらに好ましくはスチレンを含む。このような芳香族ビニル単位を有することにより、グルタルイミド構造の正の複屈折性を低減し、より低位相差の（メタ）アクリル系樹脂フィルムを得ることができる。

上記グルタルイミド樹脂は、芳香族ビニル単位として、単一の種類のみを含んでいてもよいし、Ｒ^７およびＲ^８が異なる複数の種類を含んでいてもよい。

上記グルタルイミド樹脂における上記グルタルイミド単位の含有量は、例えばＲ^３の構造等に依存して変化させることが好ましい。グルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド樹脂の総構造単位を基準として、好ましくは１重量％〜８０重量％であり、より好ましくは１重量％〜７０重量％であり、さらに好ましくは１重量％〜６０重量％であり、特に好ましくは１重量％〜５０重量％である。グルタルイミド単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差の（メタ）アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。

上記グルタルイミド樹脂における上記芳香族ビニル単位の含有量は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。用途によっては、芳香族ビニル単位の含有量は０であってもよい。芳香族ビニル単位が含まれる場合、その含有量は、グルタルイミド樹脂のグルタルイミド単位を基準として、好ましくは１０重量％〜８０重量％であり、より好ましくは２０重量％〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０重量％〜６０重量％であり、特に好ましくは２０重量％〜５０重量％である。芳香族ビニル単位の含有量がこのような範囲であれば、低位相差、かつ、耐熱性および機械的強度に優れた（メタ）アクリル系樹脂フィルムが得られ得る。

上記グルタルイミド樹脂には、必要に応じて、グルタルイミド単位、（メタ）アクリル酸エステル単位、および芳香族ビニル単位以外のその他の構造単位がさらに共重合されていてもよい。その他の構造単位としては、例えば、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体から構成される構造単位が挙げられる。これらのその他の構造単位は、上記グルタルイミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、紫外線吸収剤を含む。紫外線吸収剤としては、上記所望の特性が得られる限りにおいて、任意の適切な紫外線吸収剤が採用され得る。上記紫外線吸収剤の代表例としては、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、およびオキサジアゾール系紫外線吸収剤が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。

上記紫外線吸収剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部〜５重量部であり、より好ましくは０．２重量部〜３重量部である。紫外線吸収剤の含有量がこのような範囲であれば、紫外線を効果的に吸収することができ、かつ、フィルム成形時のフィルムの透明性が低下することがない。紫外線吸収剤の含有量が０．１重量部より少ない場合、紫外線の遮断効果が不十分となる傾向がある。紫外線吸収剤の含有量が５重量部より多い場合、着色が激しくなったり、成形後のフィルムのヘイズが高くなり、透明性が悪化したりする傾向がある。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；位相差低減剤等が挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量等は、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、任意の適切な混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形することができる。あるいは、（メタ）アクリル系樹脂と、紫外線吸収剤と、必要に応じてその他の重合体や添加剤等とを、それぞれ別々の溶液にしてから混合して均一な混合液とした後、フィルム成形してもよい。

上記熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサー等、任意の適切な混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いられる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機等の押出機や加圧ニーダー等、任意の適切な混合機を用いることができる。

上記フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法等、任意の適切なフィルム成形法が挙げられる。溶融押出法が好ましい。溶融押出法は溶剤を使用しないので、製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。

上記溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法等が挙げられる。成形温度は、好ましくは１５０℃〜３５０℃、より好ましくは２００℃〜３００℃である。

上記Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸等を行うこともできる。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、上記所望の位相差が得られる限りにおいて、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。

上記延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋３０℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋２０℃）の範囲内である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、得られるフィルムのヘイズが大きくなり、あるいは、フィルムが裂けたり、割れたりして所定の延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度＋３０℃）を超えると、得られるフィルムの厚みムラが大きくなったり、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質が十分に改善できなかったりする傾向がある。さらに、フィルムがロールに粘着するといったトラブルが発生しやすくなる傾向がある。

上記延伸倍率は、好ましくは１．１倍〜３倍、より好ましくは１．３倍〜２．５倍である。延伸倍率がこのような範囲であれば、フィルムの伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を大幅に改善することができる。結果として、厚みムラが小さく、複屈折が実質的にゼロであり（したがって、位相差が小さく）、さらに、ヘイズが小さいフィルムを製造することができる。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用し得る。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。厚みが１０μｍ未満であると、強度が低下するおそれがある。厚みが２００μｍを超えると、透明性が低下するおそれがある。

上記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの表面の濡れ張力は、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が少なくとも４０ｍＮ／ｍ以上であると、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、任意の適切な表面処理を施すことができる。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、コロナ放電処理、プラズマ処理である。

Ｃ．浸透層
上記浸透層は、上記のとおり、（メタ）アクリル系樹脂フィルムにハードコート層形成用組成物が浸透することにより形成される。言い換えれば、浸透層は（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂とハードコート層を形成する化合物との相溶化領域の一部に対応し得る。

上記浸透層において、（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂の濃度が、ハードコート層側から基材層側にかけて連続的に高くなることが好ましい。（メタ）アクリル系樹脂の濃度が連続的に変化すること、すなわち（メタ）アクリル系樹脂の濃度変化に起因する界面が形成されていないことにより界面反射を抑制することができ、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができるからである。

上記浸透層の厚みの下限は１．２μｍであり、好ましくは１．５μｍであり、より好ましくは２μｍであり、さらに好ましくは３μｍである。浸透層の厚みの上限は、好ましくは（（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚み×７０％）μｍであり、より好ましくは（（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚み×４０％）μｍであり、さらに好ましくは（（メタ）アクリル系樹脂フィルムの厚み×３０％）μｍであり、特に好ましくは（（メタ）アクリル系樹脂フィルム×２０％）μｍである。浸透層の厚みがこのような範囲であれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。なお、浸透層の厚みは、ハードコート層の反射スペクトルにより測定することができる。浸透層の厚みの測定方法の詳細は、実施例における評価方法として後述する。

Ｄ．ハードコート層
ハードコート層は、上記のとおり、上記（メタ）アクリル系樹脂フィルム上にハードコート層形成用組成物を塗工して形成される。ハードコート層形成用組成物は、硬化性化合物および無機ナノ粒子を含む。上記硬化性化合物は、例えば、熱、光（紫外線等）または電子線等により硬化し得る。好ましくは、上記硬化性化合物は、光硬化型である。硬化性化合物は、モノマー、オリゴマーおよびプレポリマーのいずれであってもよい。なお、上記無機ナノ粒子は、後述のように、有機化合物（代表的には重合性不飽和基を有する有機化合物）で被覆され得るが、本明細書においては、このような無機ナノ粒子であっても、当該無機ナノ粒子を「硬化性化合物」に含まない。

上記ハードコート層形成用組成物は、好ましくは、５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む。当該５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物に含まれる（メタ）アクリロイル基の個数の上限は、好ましくは１００個である。５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含むハードコート層形成用組成物を用いれば、耐擦傷性に優れるハードコート層を形成することができる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」は、メタクリロイルおよび／またはアクリロイルを意味する。

上記５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびこれらのオリゴマーまたはプレポリマー等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とはアクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。

上記５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は、ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーであってもよい。ハードコート層形成用組成物がウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーを含んでいれば、柔軟性および（メタ）アクリル系樹脂フィルムに対する密着性に優れるハードコート層を形成することができる。上記ウレタン（メタ）アクリレート、およびウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーの官能基数は、より好ましくは９個以上である。多官能のウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーを含むハードコート層形成用組成物を用いれば、耐擦傷性に優れるハードコート層を形成することができる。

上記ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、（メタ）アクリル酸または（メタ）アクリル酸エステルとポリオールとから得られるヒドロキシ（メタ）アクリレートを、ジイソシアネートと反応させることにより得ることができる。ウレタン（メタ）アクリレートおよびウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。

上記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、トリシクロデカンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類等が挙げられる。

上記ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族、脂肪族または脂環族の各種のジイソシアネート類を使用することができる。上記ジイソシアネートの具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、およびこれらの水添物等が挙げられる。

上記５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の重量平均分子量は、好ましくは２００〜１００００であり、より好ましくは５００〜５０００であり、さらに好ましくは１０００〜５０００である。５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物として、上記ウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーを用いる場合、当該ウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーの重量平均分子量は、１０００〜１００００であることが好ましく、１０００〜５０００であることがより好ましい。

上記５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは１５重量％〜１００重量％であり、より好ましくは２０重量％〜１００重量％、さらに好ましくは４０重量％〜１００重量％であり、特に好ましくは４０重量％〜７０重量％である。このような範囲であれば、より耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。また、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。

上記５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物として、ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーを用いる場合、当該ウレタン（メタ）アクリレートおよびウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーの合計含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは２０重量％〜１００重量％であり、より好ましくは２０重量％〜７０重量％である。このような範囲であれば、より耐擦傷性に優れ、かつ、硬度、柔軟性および密着性のバランスに優れるハードコート層を形成することができる。また、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。

上記ハードコート層形成用組成物は、２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含んでいてもよい。２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含んでいれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。

上記２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリアクリレート等が挙げられる。また、２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物として、ウレタン（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートのオリゴマーを用いてもよい。

上記２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の重量平均分子量は、好ましくは２００〜１５００であり、より好ましくは２００〜１０００である。上記ハードコート層形成用組成物が、重量平均分子量１５００以下の２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含んでいれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。

上記２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は、好ましくは水酸基を有する。上記ハードコート層形成用組成物が、このような硬化性化合物を含んでいれば、ハードコート層形成時の加熱温度をより低く、加熱時間をより短く設定することができ、加熱による変形が抑制された光学積層体を効率よく生産することができる。また、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れる光学積層体を得ることができる。水酸基および２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記ハードコート層形成用組成物が２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む場合、２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは８５重量％以下であり、より好ましくは６０重量％以下である。２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合が８５重量％より多い場合、所望の硬度および耐擦傷性が得られないおそれがある。

上記ハードコート層形成用組成物は、硬化性化合物として、単官能モノマーを含んでいてもよい。単官能モノマーは、（メタ）アクリル系樹脂フィルムに容易に浸透するので、単官能モノマーを含んでいれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ、干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。上記ハードコート層形成用組成物が単官能モノマーを含む場合、単官能モノマーの含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは４０重量％以下であり、より好ましくは２０重量％以下である。単官能モノマーの含有割合が４０重量％より多い場合、所望の硬度および耐擦傷性が得られないおそれがある。

上記単官能モノマーの重量平均分子量は、好ましくは５００以下である。このような単官能モノマーであれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルムに容易に浸透および拡散する。このような単官能モノマーとしては、例えば、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソホロニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

上記単官能モノマーは、好ましくは水酸基を有する。このような単官能モノマーであれば、ハードコート層形成時の加熱温度をより低く、加熱時間をより短く設定することができ、加熱による変形が抑制された光学積層体を効率よく生産することができる。また、上記ハードコート層形成用組成物が、水酸基を有する単官能モノマーを含んでいれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れる光学積層体を得ることができる。このような単官能モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレート、１，４−シクロヘキサンメタノールモノアクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等のＮ−（２−ヒドロキシアルキル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。なかでも好ましくは、４−ヒドロキシブチルアクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドである。

上記単官能モノマーの沸点は、ハードコート層形成時における塗布層の加熱温度（後述）より高いことが好ましい。上記単官能モノマーの沸点は、例えば、好ましくは１５０℃以上であり、より好ましくは１８０℃以上であり、特に好ましくは２００℃以上である。このような範囲であれば、ハードコート層形成時における加熱により単官能モノマーが揮発することを防止でき、（メタ）アクリル系樹脂フィルムに単官能モノマーを十分に浸透させることができる。

上記ハードコート層形成用組成物は、無機ナノ粒子を含む。無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物を塗工してハードコート層を形成すれば、当該無機ナノ粒子によって、ハードコート層形成用組成物に溶出した（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の成分（代表的には、（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の樹脂成分）が、ハードコート層形成時にハードコート層の空気界面にまで拡散することを防ぐことができる。その結果、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。

上記無機ナノ粒子としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム（ジルコニア）等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）または酸化ジルコニウム（ジルコニア）の微粒子が好ましく、酸化ケイ素（シリカ）がより好ましい。ハードコート層形成用組成物の硬化収縮を小さくし、かつハードコート層を高硬度とすることができるからである。

上記無機ナノ粒子は、好ましくはその表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている。表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている無機ナノ粒子は、ハードコート層形成用組成物中での分散性に優れるので、（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の成分のハードコート層形成用組成物への拡散（結果として、ハードコート層への拡散）を有効に防ぐことができ、より耐擦傷性に優れるハードコート層を得ることができる。また、分散性に優れていれば、ハードコート層の光散乱および透過率の低下を防止し、優れた透明性を有する光学積層体を得ることができる。

無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている態様としては、例えば、無機ナノ粒子が金属酸化物微粒子であり、当該金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に有機化合物が反応して、無機ナノ粒子（金属酸化物微粒子）の表面の少なくとも一部に有機化合物が結合した態様、無機ナノ粒子（金属酸化物微粒子）の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機化合物を付着させた態様、ポリマー粒子中に１個以上の無機ナノ粒子を含有する態様等が挙げられる。

上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物は、好ましくは、分散条件下において、上記無機ナノ粒子の表面に存在する官能基と化学結合可能な官能基を有する。このような官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基、カルボキシル基、リン酸基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、Ｓｉ−ＯＨ基、シランの加水分解性残基等が挙げられる。無機ナノ粒子を被覆する有機化合物が有する官能基は、無機ナノ粒子の表面に存在する官能基と、共有結合、イオン結合、配位結合または水素結合により結合し得ることが好ましく、共有結合、イオン結合または配位結合により結合し得ることがより好ましい。上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。

上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物は、より好ましくは、重合性不飽和基を有する。重合性不飽和基が上記ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物と反応硬化することで、ハードコート層の硬度を向上させることができる。重合性不飽和基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基が好ましい。上記重合性不飽和基は、光感応性基であることも好ましい。

上記無機ナノ粒子を被覆する有機化合物としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルハイドロジェンシロキサン等のポリシロキサン；γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＳ）、γ−グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＳ）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［Ｎ’−（２’−アミノエチル）−２−アミノエチル］−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、２−［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラン、ビス−（ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉ（ＯＯＣＣＨ_３）_３、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉＣｌ_３、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_４ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＯＣＣＨ_３）_３等のシランカップリング剤；等が挙げられる。好ましくは、無機ナノ粒子を被覆する有機化合物として、シランカップリング剤が用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物との反応性が良好であり、また、黄変性が少ないからである。

上記光感応性基を有する有機化合物により被覆された無機ナノ粒子は、例えば、無機ナノ粒子を光感応性基を有するシランカップリング剤で処理することで得られる。光感応性基を有するシランカップリング剤としては、例えば、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉ（ＯＯＣＣＨ_３）_３、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉＣｌ_３、ＣＨ_２＝ＣＨＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_４ＯＣＨ_３）_３、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＯＣＣＨ_３）_３等が挙げられる。光感応性基を有するシランカップリング剤の製造方法は、例えば、特開平９−１００１１１号公報に記載されている。光感応性基を有するシランカップリング剤は、例えば、（ｉ）メルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応、（ｉｉ）分子中にアルコキシシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との反応、（ｉｉｉ）分子中に重合性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシランとの付加反応等により得ることができる。

上記無機ナノ粒子の形状は、任意の適切な形状が採用され得る。無機ナノ粒子の形状は、球形状、直方体形状、針形状、または板形状であり得る。

上記無機ナノ粒子の重量平均粒径は、好ましくは１００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍである。このような範囲であれば、ハードコート層の光散乱を防止し、透過率の低下を防止し、着色を防止し、かつ、優れた透明性を確保することができる。無機ナノ粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。

上記無機ナノ粒子の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物および無機ナノ粒子の合計に対して、１．５重量％〜５０重量％である。このような範囲であれば、（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の成分のハードコート層形成用組成物への拡散（結果として、ハードコート層への拡散）を有効に防ぐことができ、耐擦傷性に優れるハードコート層を得ることができる。上記無機ナノ粒子の含有割合は、該ハードコート層形成用組成物中の硬化性化合物および無機ナノ粒子の合計に対して、好ましくは１．５重量％〜３０重量％であり、より好ましくは８重量％〜３０重量％であり、さらに好ましくは２０重量％〜３０重量％である。このような範囲であれば、無機ナノ粒子がいわゆる粒子層を形成することを防ぐことができるので、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができる。

上記ハードコート層形成用組成物は、好ましくは、任意の適切な光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン系化合物等が挙げられる。

１つの実施形態においては、ハードコート層の基材層とは反対側の表面は、凹凸構造を有する。ハードコート層の表面が凹凸構造であれば、光学積層体に防眩性を付与することができる。このような凹凸構造を形成する方法としては、例えば、ハードコート層形成用組成物に微粒子を含有させる方法が挙げられる。微粒子は無機微粒子であってもよく、有機微粒子であってもよい。無機微粒子としては、例えば、酸化ケイ素微粒子、酸化チタン微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化錫微粒子、炭酸カルシウム微粒子、硫酸バリウム微粒子、タルク微粒子、カオリン微粒子、硫酸カルシウム微粒子等が挙げられる。有機微粒子としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル樹脂粉末（ＰＭＭＡ微粒子）、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。

上記微粒子の形状は、任意の適切な形状が採用され得る。好ましくは略球形であり、より好ましくはアスペクト比が１．５以下の略球形である。微粒子の重量平均粒径は、好ましくは１μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは２μｍ〜２０μｍである。微粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。

上記ハードコート層形成用組成物が上記微粒子を含む場合、上記微粒子の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、好ましくは１重量％〜６０重量％であり、より好ましくは２重量％〜５０重量％である。

上記ハードコート層形成用組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、レベリング剤、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、フィラー、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。

上記レベリング剤としては、例えば、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤が挙げられ、好ましくは、シリコーン系レベリング剤である。上記シリコーン系レベリング剤としては、例えば、反応性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。なかでも好ましくは、反応性シリコーンである。反応性シリコーンを添加すれば、ハードコート層表面に滑り性が付与され耐擦傷性が長期間にわたり持続するようになる。上記レベリング剤の含有割合は、ハードコート層形成用組成物中のモノマー、オリゴマーおよびプレポリマーの合計量に対して、好ましくは５重量％以下であり、より好ましくは０．０１重量％〜５重量％である。

上記ハードコート層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン(ＭＥＫ)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。

本発明によれば、溶媒を含まないハードコート層形成用組成物、あるいは溶媒として（メタ）アクリル系樹脂フィルム形成材料の貧溶媒のみを含むハードコート層形成用組成物を用いても、ハードコート形成用組成物が（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透して、所望の厚みを有する浸透層を形成することができる。

上記ハードコート層の厚みは、好ましくは３μｍ以上であり、より好ましくは５μｍ以上であり、さらに好ましくは７μｍ〜２０μｍである。このような範囲であれば、耐擦傷性に優れる光学積層体を得ることができる。また、本発明の光学積層体は、上記のように（メタ）アクリル系樹脂フィルム中の成分のハードコート層（ハードコート層形成用組成物）への拡散が抑制されるため、ハードコート層の厚みを薄くしても、耐擦傷性に優れる。

Ｅ．その他の層
本発明の光学積層体は、必要に応じて、ハードコート層の外側に任意の適切なその他の層が配置され得る。代表例としては、反射防止層およびアンチグレア層が挙げられる。反射防止層およびアンチグレア層としては、当業界で通常用いられている反射防止層およびアンチグレア層が採用され得る。

Ｆ．光学積層体の製造方法
本発明の光学積層体の製造方法は、（メタ）アクリル系樹脂フィルム上にハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、該塗布層を加熱することを含む。好ましくは、ハードコート層は、加熱後の塗布層を硬化処理して形成される。

ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。

上記塗布層の加熱温度は、ハードコート層形成用組成物の組成に応じて、適切な温度に設定され得、好ましくは、（メタ）アクリル系樹脂フィルムに含まれる樹脂のガラス転移温度以下に設定される。（メタ）アクリル系樹脂フィルムに含まれる樹脂のガラス転移温度以下の温度で加熱すれば、加熱による変形が抑制された光学積層体を得ることができる。上記塗布層の加熱温度は、例えば、８０℃〜１４０℃である。このような範囲の温度で加熱すれば、ハードコート層形成用組成物中のモノマー、オリゴマーおよび／またはプレポリマーが（メタ）アクリル系樹脂フィルム中に良好に浸透および拡散する。当該加熱、その後の硬化処理を経て、浸透したハードコート層形成用組成物および（メタ）アクリル系樹脂フィルムの形成材料により、上記Ｃ項で説明した浸透層が形成される。その結果、（メタ）アクリル系樹脂フィルムとハードコート層との密着性に優れ、かつ干渉ムラの抑制された光学積層体を得ることができる。また、上記塗布層の加熱温度は、ハードコート層形成用組成物に含まれる化合物が低分子量であるほど、低く設定することができる。また、上記塗布層の加熱温度は、ハードコート層形成用組成物に単官能モノマーを含有させることにより低く設定することができ（例えば、８０℃〜１００℃）、単官能モノマーの含有量が多いほど低く設定することができる。なお、ハードコート層形成用組成物が溶媒を含む場合、当該加熱により、塗布したハードコート層形成用組成物を乾燥させることができる。

上記硬化処理としては、任意の適切な硬化処理が採用され得る。代表的には、硬化処理は紫外線照射により行われる。紫外線照射の積算光量は、好ましくは２００ｍＪ〜４００ｍＪである。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。また、実施例において、特に明記しない限り、「部」および「％」は重量基準である。

（１）耐擦傷性
実施例および比較例で得られた光学積層体を幅１１ｍｍ、長さ１００ｍｍの大きさに切断し、基材層を下にしてガラス板に載せた。次いで、当該光学積層体のハードコート層側表面上で、直径１１ｍｍの円柱の断面に取り付けたスチールウール＃００００を、荷重４００ｇ、１００ｍｍ／ｓｅｃで１０往復させた。その後のハードコート層側表面を目視観察し、以下の基準で評価した。
また、荷重を６００ｇとした以外は、上記と同様の評価を行った。
４：傷が全くない
３：わずかに傷がつく
２：細かい傷が残る
１：傷が著しい
（２）鉛筆硬度
実施例および比較例で得られた光学積層体のハードコート層側表面について、ＪＩＳ Ｋ ５４００に準じて（荷重５００ｇ）、鉛筆硬度を評価した。
（３）ハードコート層の密着性
ハードコート層の基材フィルムに対する密着性を、ＪＩＳ Ｋ−５４００の碁盤目剥離試験（基板目数：１００個）に準じて評価した。
（４）干渉ムラ
実施例および比較例で得られた光学積層体の基材フィルム側に、黒色アクリル板（三菱レイヨン社製、厚み２ｍｍ）をアクリル系粘着剤を介して貼着した後、３波長蛍光灯下で、干渉ムラを目視観察し、以下の基準で評価した。
４：干渉ムラの発生無し
３：少し干渉ムラの発生が認められるが、実用上の問題はない
２：多くの干渉ムラの発生が認められる
１：顕著な干渉ムラの発生が認められる
（５）浸透層の厚み
実施例および比較例で得られた光学積層体の基材層側に、黒色アクリル板（三菱レイヨン社製、厚み２ｍｍ）を、厚み２０μｍのアクリル系粘着剤を介して貼着した。次いで、ハードコート層の反射スペクトルを、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、商品名：ＭＣＰＤ３７００）を用いて以下の条件で測定し、ＦＦＴスペクトルのピーク位置から、（ハードコート層＋浸透層）の厚みを評価した。なお屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計（商品名：ＤＲ−Ｍ２／１５５０）を用い、中間液としてモノブロモナフタレンを選択して測定した。
・反射スペクトル測定条件
リファレンス：ミラー
アルゴリズム：ＦＦＴ法
計算波長：４５０ｎｍ〜８５０ｎｍ
・検出条件
露光時間：２０ｍｓ
ランプゲイン：ノーマル
積算回数：１０回
・ＦＦＴ法
膜厚値の範囲：２μｍ〜１５μｍ
膜厚分解能：２４ｎｍ
また、ハードコート層の厚みは、下記積層体（Ｒ）についての上記反射スペクトル測定により評価した。
・積層体（Ｒ）：基材フィルムとしてＰＥＴ基材（東レ社製、商品名：Ｕ４８−３、屈折率：１．６０）を用い、塗布層の加熱温度を６０℃とした以外は、実施例６と同様にして得た。
なお、これらの積層体に用いられるＰＥＴ基材には、ハードコート層形成用組成物が浸透しないので、積層体（Ｒ）から得られるＦＦＴスペクトルのピーク位置から、ハードコート層のみの厚みが測定される。当該評価の結果、ハードコート層の厚みは５．３μｍであった。
（（ハードコート層＋浸透層）の厚み）−（（ハードコート層）の厚み）から算出される正の値を浸透層の厚みとした。なお、当該定義式により負の値のみが算出される場合、浸透層は形成されていないと判断することができるとともに、当該負の値は基材フィルム形成材料がハードコート層中に溶出して形成される層の厚みであると判断することができる。また、ＦＦＴスペクトルのピークが２本検出されて、当該定義式により、正負２つの値が算出される場合、正の値が浸透層の厚みであると判断できる。

＜製造例１＞基材フィルムＡの作製
特開２０１０−２８４８４０号公報の製造例１に記載のイミド化ＭＳ樹脂１００重量部およびトリアジン系紫外線吸収剤（アデカ社製、商品名：Ｔ−７１２）０．６２重量部を、２軸混練機にて２２０℃にて混合し、樹脂ペレットを作製した。得られた樹脂ペレットを、１００．５ｋＰａ、１００℃で１２時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度２７０℃でＴダイから押出してフィルム状に成形した（厚み１６０μｍ）。さらに当該フィルムを、その搬送方向に１５０℃の雰囲気下に延伸し（厚み８０μｍ）、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に１５０℃の雰囲気下に延伸して、厚み４０μｍの基材フィルムＡ（（メタ）アクリル系樹脂フィルム）を得た。得られた基材フィルムＡの波長３８０ｎｍの光の透過率は８．５％、面内位相差Ｒｅは０．４ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈは０．７８ｎｍであった。また得られた基材フィルムＡの透湿度は、６１ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであった。なお、光透過率は、日立ハイテク（株）製の分光光度計（装置名称；Ｕ−４１００）を用いて波長範囲２００ｎｍ〜８００ｎｍで透過率スペクトルを測定し、波長３８０ｎｍにおける透過率を読み取った。また、位相差値は、王子計測機器（株）製 商品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」を用いて、波長５９０ｎｍ、２３℃で測定した。透湿度は、ＪＩＳ Ｋ ０２０８に準じた方法により、温度４０℃、相対湿度９２％の条件で測定した。

＜製造例２＞ジルコニア分散液の作製
ジルコニアビーズ（東ソー社製）１００部、ジルコニア粒子（第一稀元素社製、商品名：ＵＥＰ−１００）１０部、リン酸エステル分散剤（ビックケミー・ジャパン社製、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４２）５部、およびメチルイソブチルケトン１５部を混合し、分散機（ＬＡＵ社製、商品名：Ｄｉｓｐｅｒｓｅｒ ＤＡＳ Ｈ２００−Ｋ）で３時間分散処理することにより、ジルコニア分散液（ジルコニア３３％）を得た。

＜実施例１＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６、固形分：８０％、溶媒：酢酸ブチル）１００部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）５部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して、ハードコート層形成用組成物を調製した。なお、上記有機無機ハイブリッド樹脂（オプスターＺ７５４０）は、（１−１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、（１−２）イソホロンジイソシアネート系ポリウレタンアクリレート、および（２）重合性不飽和基を有する有機化合物で表面が被覆されたシリカ微粒子（重量平均粒径１００ｎｍ以下）を、重量比（１−１）：（１−２）：（２）＝６６：３４：１５０で含有する。また、上記紫外線硬化型樹脂（ユニディック１７−８０６）に含まれる硬化性化合物およびその含有量は以下のとおりである。
イソシアヌル酸トリアクリレート１３部
ペンタエリスリトールトリアクリレート１６部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６２部
イソホロンジイソシアネート系ポリウレタンアクリレート９部
製造例１で得られた基材フィルムＡ上に、得られたハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、当該塗布層を１１０℃で１分間加熱した。加熱後の塗布層に高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、基材層、ハードコート層および浸透層を形成し、光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例２＞
有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）５部に代えて、有機化合物で表面が被覆されたアルミナを３０％含む分散液（ビックケミー・ジャパン社製、ＮＡＮＯＢＹＫ−３６１０、固形分：３７重量％、溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１０部を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例３＞
有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）５部に代えて、製造例２で得られたジルコニア分散液１０部を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例４＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）に代えてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製、商品名：Ａ−ＤＰＨ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を６部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例５＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）に代えてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製、商品名：Ａ−ＤＰＨ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を１２５部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例６＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を６部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例７＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を１２５部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例８＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を７５０部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例９＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）５部に代えて、有機化合物で表面が被覆されたアルミナを３０％含む分散液（ビックケミー・ジャパン社製、ＮＡＮＯＢＹＫ−３６１０）１０部を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例１０＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）５部に代えて製造例２で得られたジルコニア分散液１０部を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例１１＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えてペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名：ビスコート＃３００）とジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製、商品名：Ａ−ＤＰＨ）との混合物（重量混合比ビスコート＃３００：Ａ−ＤＰＨ＝８：２）１００部を用い、有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を３６部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表１に示す。

＜実施例１２＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６、固形分：８０％、溶媒：酢酸ブチル）１００部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）２０部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）１２５部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１３＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製、商品名：Ａ−ＤＰＨ）７０部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）３０部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）１２５部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１４＞
上記日本合成化学社製「紫光ＵＶ−７６００Ｂ」８０部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）２０部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）６部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１５＞
上記日本合成化学社製「紫光ＵＶ−７６００Ｂ」７０部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）３０部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）１２５部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１６＞
上記日本合成化学社製「紫光ＵＶ−７６００Ｂ」６０部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）４０部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）１２５部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１７＞
上記日本合成化学社製「紫光ＵＶ−７６００Ｂ」８０部、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド（ＨＥＡＡ）（興人社製）２０部、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）１２５部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１８＞
上記日本合成化学社製「紫光ＵＶ−７６００Ｂ」７０部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）３０部、有機化合物で表面が被覆されたアルミナを３０％含む分散液（ビックケミー・ジャパン社製、ＮＡＮＯＢＹＫ−３６１０、固形分：３７重量％、溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１０部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜実施例１９＞
上記日本合成化学社製「紫光ＵＶ−７６００Ｂ」７０部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）（大阪有機化学工業社製）３０部、製造例２で得られたジルコニア分散液１０部、レベリング剤（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００、固形分：１０％）５部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）３部を混合し、固形分濃度が５０％となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して調整したハードコート層形成用組成物を用い、塗布層の加熱温度を９０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表２に示す。

＜比較例１＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）に代えてペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名：ビスコート＃３００）を用い、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例２＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）に代えてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製、商品名：Ａ−ＤＰＨ）を用い、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例３＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例４＞
無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例５＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）に代えてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製、商品名：Ａ−ＤＰＨ）を用い、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を２０００部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例６＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）に代えて６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０）の含有量５部を２０００部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例７＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）を用いず、無機ナノ粒子を含む有機無機ハイブリッド樹脂（ＪＳＲ社製、商品名：オプスターＺ７５４０、固形分：５６％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン）の含有量５部を１００部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

＜比較例８＞
紫外線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名：ユニディック１７−８０６）１００部に代えて、６官能ウレタンアクリルオリゴマー６０部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０部およびペンタエリスリトールトリアクリレート１０部の混合物（日本合成化学社製、商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を用い、塗布層加熱温度を８０℃とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。この光学積層体を上記（１）〜（５）の評価に供した。結果を下記表３に示す。

表１および２からも明らかなように、本発明の光学積層体は、所定厚みの浸透層を有することにより、基材フィルム（（メタ）アクリル系樹脂フィルム）とハードコート層との密着性に優れる。本発明の光学積層体は、特定量の無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物により形成されたハードコート層を有することにより、このように優れた密着性有しながら、さらに、耐擦傷性にも優れる。また、ハードコート層形成用組成物中の無機ナノ粒子の含有割合をさらに調整し、かつ、所定厚みの浸透層を形成すれば、上記密着性および耐擦傷性に優れることに加えて、干渉ムラの少ない光学積層体を得ることができる（実施例１〜７、９〜１９）。

本発明の光学積層体は、画像表示装置に好適に用いられ得る。本発明の光学積層体は、画像表示装置の前面板または偏光子の保護材料として好適に用いられ得、とりわけ、液晶表示装置（なかでも、３次元液晶表示装置）の前面板として好適に用いられ得る。

１ 無機ナノ粒子
１０ 基材層
２０ 浸透層
３０ ハードコート層
１００、２００ 光学積層体

Claims (18)

1. （メタ）アクリル系樹脂フィルムから形成された基材層と、
   該（メタ）アクリル系樹脂フィルムに、硬化性化合物および無機ナノ粒子を含むハードコート層形成用組成物を、塗工して形成されたハードコート層と、
   該基材層と該ハードコート層との間に、該ハードコート層形成用組成物が該（メタ）アクリル系樹脂フィルムに浸透して形成された、厚みが１．２μｍ以上の浸透層とを備え、
   該無機ナノ粒子の含有割合が、該硬化性化合物および該無機ナノ粒子の合計に対して、１．５重量％〜５０重量％である、
   光学積層体。
2. 前記無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が有機化合物で被覆されている、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記有機化合物が、重合性不飽和基を有する有機化合物である、請求項２に記載の光学積層体。
4. 前記無機ナノ粒子の含有割合が前記硬化性化合物および前記無機ナノ粒子の合計に対して、１．５重量％〜３０重量％である、請求項１から３のいずれかに記載の光学積層体。
5. 前記ハードコート層形成用組成物が、５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含み、該５個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、１５重量％〜１００重量％である、請求項１から４のいずれかに記載の光学積層体。
6. 前記ハードコート層形成用組成物が、２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含み、該２〜４個の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有割合が、該ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、８５重量％以下である、請求項１から５のいずれかに記載の光学積層体。
7. 前記ハードコート層組成物が単官能モノマーをさらに含み、該単官能モノマーの含有割合が、ハードコート層形成用組成物中の全硬化性化合物に対して、４０重量％以下である、請求項５または６に記載の光学積層体。
8. 前記単官能モノマーの重量平均分子量が、５００以下である、請求項７に記載の光学積層体。
9. 前記単官能モノマーが、水酸基を有する、請求項７または８に記載の光学積層体。
10. 前記単官能モノマーが、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートおよび／またはＮ−（２−ヒドロキシアルキル）（メタ）アクリルアミドである、請求項９に記載の光学積層体。
11. 前記（メタ）アクリル系樹脂フィルムの波長３８０ｎｍにおける光の透過率が、１５％以下である、請求項１から１０のいずれかに記載の光学積層体。
12. 前記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂が、正の複屈折を発現する構造単位と負の複屈折を発現する構造単位とを有する、請求項１から１１のいずれかに記載の光学積層体。
13. 前記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量が、１００００〜５０００００である、請求項１から１２のいずれかに記載の光学積層体。
14. 前記ハードコート層および前記浸透層において、前記（メタ）アクリル系樹脂フィルムを形成する（メタ）アクリル系樹脂の濃度が、該浸透層の前記基材層側から該ハードコート層の前記基材層とは反対側へ、連続的に低くなる、請求項１から１３のいずれかに記載の光学積層体。
15. 前記ハードコート層の前記浸透層とは反対側の表面が、凹凸構造を有する、請求項１から１４のいずれかに記載の光学積層体。
16. 前記ハードコート層の前記浸透層とは反対側に、反射防止層をさらに備える、請求項１から１５のいずれかに記載の光学積層体。
17. 請求項１から１６のいずれかに記載の光学積層体を含む、偏光フィルム。
18. 請求項１から１６のいずれかに記載の光学積層体を含む、画像表示装置。