JP6565186B2 - 光学積層体、これを用いた偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
このような画像表示装置の表面や内部に用いる光学積層体は、通常、取扱い時に傷が付かないように硬度を付与することが要求されることから、光透過性基材上にハードコート層などを設けることにより、硬度を付与することが一般になされている。例えばLCDにおいては、液晶セルの画像表示面側に偏光素子が配置されており、偏光板保護フィルムとして、光透過性基材上にハードコート層を設けたハードコートフィルムを利用することにより、画像表示面に硬度を付与することが一般になされている。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、また、耐湿、耐熱性が充分でなく、セルロールエステルフィルムを基材とするハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。
このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、透明性、耐熱性、機械強度に優れ、かつ、セルロースエステルフィルムに比べて安価で市場において入手が容易な、アクリル樹脂を主成分とする透明プラスチック基材を用いることが提案されている。
しかしながら、アクリル樹脂を主成分とする基材の片面若しくは両面にハードコート層を形成した光学積層体では、アクリル基材とハードコート層との密着性に劣るという問題があった。また、アクリル基材とハードコート層との間に屈折率差が生じ、当該光学積層体を用いて偏光板等を形成した場合、干渉縞が発生して外観不良になるといった問題もあった。
しかしながら、これらの方法では、ハードコートフィルムの製造に必要な工程が増え、特別な処理をする必要があることから、生産性に劣るものであった。
本発明は、このような状況下で、アクリル基材上に樹脂層を有する光学積層体において、比較的少ない製造工程で得られ、アクリル基材自身が切れることなく製造加工が可能であり、かつ、干渉縞の発生を抑制し、かつアクリル基材と樹脂層との密着性に優れた光学積層体を提供することを目的とする。
[1]アクリル基材の一方の面上に樹脂層を有する光学積層体であって、該光学積層体の厚さ方向の断面において、アクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線を示し、前記光学積層体の厚さ方向に垂直な方向にとった基準長さ30μmにおける前記稜線の長さが31〜45μmである光学積層体。
[2]前記光学積層体の厚さ方向の断面において、光学積層体の厚さ方向に垂直な方向にとった基準長さ30μmにて、アクリル基材−樹脂層界面の谷部のうち、最深の谷底から深い順に3番目までの平均深さを基準深さとし、次いでアクリル基材−樹脂層界面の山部のうち、最高の山頂から高い順に3番目までの平均高さを基準高さとし、該基準高さと基準深さとの高低差が0.3〜3.5μmである[1]に記載の光学積層体。
[3]前記稜線の平均傾斜角θaが15〜48°である[1]又は[2]に記載の光学積層体。
[4]前記稜線が示す凹凸の平均間隔Smが0.5〜7μmである[1]〜[3]のいずれかに記載の光学積層体。
[5]偏光膜の少なくとも一方の面に[1]〜[4]のいずれかに記載の光学積層体を積層してなる偏光板。
[6][1]〜[4]のいずれかに記載の光学積層体及び/又は[5]に記載の偏光板を備える画像表示装置。
本発明の光学積層体は、アクリル基材上に樹脂層を有し、図1及び図2に示すように、アクリル基材と樹脂層との界面(以下、アクリル基材−樹脂層界面と略記することがある。)が凹凸を有する。
(基準長さ30μmにおける稜線の長さの測定方法)
ここで、上記基準長さ30μmにおける稜線の長さは、例えば、画像解析ソフト(イメージプロ、Media Cybernetic社製)を用いた上記断面の画像解析により測定することができる。具体的には、電子顕微鏡などにより断面観察を行った画像を用い、上記画像解析ソフトを用いて、上記画像内の樹脂層と基材フィルム端部間の直線上に上記基準長さをとり、上記画像解析ソフトを用いて該基準長さにおける上記界面の長さを測定する。更に具体的には画像解析ソフトImage−Pro Plus、Sharp Stackバージョン6.2を用い、測定、較正、空間の較正ウィザード、アクティブな画像を構成、単位(microns)と操作を行い、画像のスケールに合わせて定義線を引き、較正を行う。較正後、距離測定で界面の両末端の2点間に基準長さをとる。次にマニュアル測定でトレース線を作成(閾値=3、平滑化=0、速度=3、ノイズ=5、自動)し、末端に標準をあわせることで自動的に曲線を測定し、実測値を読み取り界面の長さとする。
(基準高さと基準深さとの高低差の測定方法)
図4に示すように、前記光学積層体の厚さ方向の断面において、アクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線を示し、光学積層体の厚さ方向をy軸(但し、樹脂層側が正の向き)、該y軸に垂直な方向をx軸とするxy平面において、該x軸方向に30μmの基準長さLをとり、該基準長さLにおいて稜線が有する極小点4bのうち、y座標が最も小さいものから3点(4b−1)を選択し、その平均y座標を基準深さ5bとし、一方、該基準長さLにおいて稜線が有する極大点4aのうち、y座標が最も大きいものから3点(4a−1)を選択し、その平均y座標を基準高さ5aとし、この基準深さ5bと基準高さ5aとの差(絶対値)が、基準深さ5bと基準高さ5aとの高低差である。
(平均傾斜角θaの測定方法)
図5に示すように、前記光学積層体の厚さ方向の断面において、アクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線を示し、光学積層体の厚さ方向をy軸(但し、樹脂層側が正の向き)、該y軸に垂直な方向をx軸とするxy平面において、該x軸方向に30μmの基準長さLをとり、該基準長さLにおいて稜線が有する極値点(極大点4a及び極小点4b)を確定し、全ての隣接する極値点間の高低差(h1〜h12、絶対値)の和を総高低差ΣHとした時に、tan-1(総高低差ΣH/基準長さL)で表される値が平均傾斜角θaである。
尚、上記平均間隔Smは、JIS B0601(1994)に準じて測定することができる。
アクリル基材が含有するアクリル樹脂としては特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを1種又は2種以上組み合わせて重合してなるものが好ましく、より具体的には、(メタ)アクリル酸メチルを用いて得られるものが好ましい。
なお、このようなグルタルイミド構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル重合体をメチルアミン等のイミド化剤によりイミド化して形成できる。ここで、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」を意味する。
なお、このようなN−置換マレイミド構造を主鎖に有するアクリル樹脂は、例えば、N−置換マレイミドと(メタ)アクリル酸エステルとを共重合して形成できる。
アクリル基材は、アクリル樹脂以外の樹脂を含んでいてもよいが、アクリル基材のうちアクリル樹脂の割合が80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。
上記アクリル基材は、延伸アクリル基材であることが好ましい。延伸アクリル基材とすることにより、基材の強度や寸法安定性を良好にすることができる。
上記溶融押し出し工程では、1軸、2軸、又は2軸以上のスクリューを使用することができ、スクリューの回転方向、回転数、溶融温度は任意に設定できる。
上記延伸は、延伸後に所望の厚みになるように行うことが好ましい。また、延伸倍率は限定されないが、1.2倍以上、4.5倍以下が好ましい。延伸時の温度、湿度は任意に決められる。延伸方法は、一般的な方法でよい。
上記アクリル基材は、アクリルゴム粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを含んでもよい。
前記樹脂層としては特に限定されないが、例えば、一官能〜三官能(メタ)アクリレートを含み、特に、二官能(メタ)アクリレートを含む電離放射線硬化性樹脂組成物Aの硬化物が好ましい。一官能または三官能(メタ)アクリレートを用いる場合は、二官能(メタ)アクリレートと混合して用いることが好ましい。
二官能(メタ)アクリレートの具体例としては、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートや、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9ノナンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。殊に、二官能(メタ)アクリレートの中でも、電離放射線硬化性樹脂組成物Aによる基材破断を抑え、上述の表面凹凸の制御が容易であるとの観点からは特に、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートが最も好ましい。
また、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとしては、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート及びジブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラブチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。
ここで、本明細書中において電離放射線硬化性樹脂組成物とは、電子線硬化性樹脂組成物及び/又は紫外線硬化性樹脂組成物を示す。
なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」とは、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
上記三官能(メタ)アクリレートの具体例としては、イソシアヌル酸トリアクリレート、ポリアルキレングリコールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
尚、上記一官能、二官能、三官能の各化合物のPO(ポリエチレンオキサイド)変性品、EO(エチレンオキサイド)変性品も好ましい。
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Aが、二官能(メタ)アクリレートと、一官能(メタ)アクリレートや三官能(メタ)アクリレートとを含有する場合には、二官能(メタ)アクリレートの質量比が一官能(メタ)アクリレート及び三官能(メタ)アクリレートの合計の質量比よりも大きいことが好ましい。
上記電離放射線硬化性樹脂組成物Aは、さらに一官能〜三官能(メタ)アクリレート以外の光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマー等を含有していてもよく、紫外線硬化性樹脂組成物である場合には開始剤を含有する。
上記二官能(メタ)アクリレートは、分子量180〜1000のものが好ましく、分子量200〜750のものがより好ましく、分子量220〜450のものが特に好ましい。二官能(メタ)アクリレートの分子量が上記範囲内であると、上述の基準長さ30μmにおける稜線の長さ、基準高さと基準深さとの高低差、平均傾斜角θaを満たすものが容易に得られ、密着性や干渉縞防止性が優れる。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aにおける二官能(メタ)アクリレートの配合量は、固形分量で、50〜100質量%であることがより好ましく、70〜100質量%であることが特に好ましい。二官能(メタ)アクリレートに対して一官能(メタ)アクリレート及び/又は三官能(メタ)アクリレートを併用する場合、電離放射線硬化性樹脂組成物Aにおける一官能(メタ)アクリレート及び/又は三官能(メタ)アクリレートの配合量は、上記二官能(メタ)アクリレートの配合量の残部とすることが好ましい。
なお、樹脂層に屈折率調整材料や帯電防止材料などの他の機能性成分が添加されている場合、図7に示すように、機能性成分が樹脂層の下部には存在せず、上部に偏在密集することから、後述する溶剤が揮発する動きとともに溶解したアクリル基材の材料成分が樹脂層中に流出してアクリル基材−樹脂層界面の凹凸を形成するものと推認される。なお、このことによって適度な凹凸が界面に生じ、密着性が良好となるとともに干渉縞防止性も良好となるばかりでなく、目的とする機能(帯電防止性や高屈折率性、低屈折率性など)を良好に発生させることができるためにも好ましい。
上記光重合性ポリマーとしては、官能基として(メタ)アクリロイル基を有するものが好ましく、官能基数が10〜250個のものが好ましく、10〜100のものがより好ましく、10〜50のものがさらに好ましい。
光重合性ポリマーの重量平均分子量は、10,000〜100,000であることが好ましく、12,000〜40,000であることがより好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aにおける光重合性ポリマーの配合量は、固形分量で、0〜40質量%であることが好ましく、0〜30質量%であることがより好ましい。
上記光重合性オリゴマーとしては、2官能以上のものが用いられ、官能基として(メタ)アクリロイル基を有するものが好ましく、官能基数が2〜30個のものが好ましく、2〜20個のものがより好ましく、3〜15個のものがさらに好ましい。
光重合性オリゴマーの重量平均分子量は、1,000〜10,000であることが好ましく、1,500〜10,000であることがより好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aにおける光重合性オリゴマーの配合量は、固形分量で、0〜40質量%であることが好ましく0〜30質量%であることがより好ましい。
上記光重合性モノマーとしては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有するものを挙げることができる。1の不飽和結合を有する単官能モノマーとしては、例えば、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する多官能モノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等及びこれらをエチレンオキサイド(EО)等で変性した多官能化合物等を挙げることができる。
単官能モノマーを用いることで、屈折率調整が容易となり、より屈折率の高い樹脂層を形成することができ、一方、多官能モノマーを用いると、硬度が良好となる。
上記光重合性モノマーの分子量は、200〜1,000であることが好ましく、250〜750であることがより好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物Aにおける一官能〜三官能(メタ)アクリレート以外の光重合性モノマーの配合量は、固形分量で、0〜40質量%であることが好ましく、0〜30質量%であることがより好ましい。
この溶媒は、アクリル基材を適度に膨潤させるものを選択することが好ましい。ただし、アクリル基材は、従来よく用いられているTAC基材とは異なり、ほぼあらゆる種類の溶剤で膨潤する。よって溶剤による影響が強く、膨潤度が強すぎると割れる場合もあるため、以下の溶剤を選択することで、適度に膨潤させることができ、基材を構成する樹脂成分と樹脂層を構成する樹脂成分とが移動するバランスが適度になり、界面において好ましい稜線を得ることができる。
更に、上記溶媒は、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができる。このような溶媒としては、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、1−ブタノール)が好ましく、その他の各溶剤種類においては炭素数がより多いものが良好な傾向があり、その中でも蒸発速度が速いものが良好な傾向がある。例えば、ケトン類であれば、メチルイソブチルケトン、芳香族炭化水素類であればトルエン、グリコール類であればプロピレングリコールモノメチルエーテル等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
特に本発明においては、樹脂との相溶性、塗工性に優れ、また、アクリル基材−樹脂層界面に本願の特異な凹凸形状が形成され、更には加工時に基材が切れる不具合が出ない、という理由から、とりわけメチルイソブチルケトン、イソプロパノール及び1−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される一種以上を含むものが好ましい。これらの溶剤であると、アクリル基材が割れることなく適度に膨潤できる。
逆に、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等)や、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール)、セロソルブ類、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、脂肪族炭化水素類 (ヘキサン等)、芳香族炭化水素類(キシレン)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)は、アクリル基材を過剰に膨潤させる場合があるため基材にテンションがかかる場合には使用しないことが好ましい。
本発明の光学積層体におけるアクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線は、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの二官能(メタ)アクリレートを含む電離放射線硬化性樹脂組成物Aと上記好ましい溶媒との組み合わせによって効果的に得られる。例えば、溶媒によってアクリル基材が適度に膨潤し、それに伴って適度な分子量を有する二官能(メタ)アクリレート等が、アクリル基材に浸透していく。また、樹脂層の成分がアクリル基材に浸透するときに、逆にアクリル基材の材料成分が樹脂層方向に押し出されたり、溶媒がアクリル基材から樹脂層の空気面方向に揮発する等により、膨潤したアクリル基材の材料成分も樹脂層中に浸透していく。このように上部から下部へ、下部から上部へ各成分が動くことによって適度な山部及び谷部を有する稜線が界面に生じ、密着性が良好となるとともに干渉縞防止性も良好となると考えられる。これらの稜線の構造や平均傾斜角は、好ましい樹脂層の成分や溶媒の種類、そして乾燥温度の制御によって調整できる。
(第一工程)
ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの二官能ジ(メタ)アクリレートを主成分とし、また溶媒を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Aをアクリル基材に塗布する、
(第二工程)
アクリル基材が、電離放射線硬化性樹脂組成物A中の溶媒、モノマー等によって膨潤する、
(第三工程)
適切な乾燥温度で溶媒を乾燥しながら、アクリル基材が膨潤するとともに、アクリル基材の材料成分と電離放射線硬化性樹脂組成物Aの成分とが互いに移動しあうことによってアクリル基材/樹脂層界面に山谷状の最適な稜線を形成する、
(第四工程)
電離放射線を照射して電離放射線硬化性樹脂組成物Aを硬化して樹脂層を形成する、
という方法があるが、上記所定の稜線がつくられる条件であれば、光学積層体の製造方法は、これに限らない。
樹脂層に屈折率調整材料や帯電防止材料などの他の機能性成分が添加されている場合は、このアクリル基材の材料成分の逆流によって、機能性成分が樹脂層の上部に偏在させることができ、各機能成分が光学積層体の表面側に密集するために、目的とする機能(帯電防止性や高屈折率性、低屈折率性など)を良好に発生させることができるため好ましい。
上記溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
上記開始剤の含有量のより好ましい下限は、上記光重合性モノマー、光重合性オリゴマー及び光重合性ポリマーの合計量100質量部に対して2質量部であり、より好ましい上限は8質量部である。上記開始剤の含有量がこの範囲にあることで、上記硬化をより確実にする。
機能性成分としては、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚剤、スリップ剤、防眩剤、ハードコート性付与剤等、通常の光学シートに用いられるものが挙げられる。
帯電防止剤としては有機系のものが好ましく、より具体的には、リチウムイオン塩、4級アンモニウム塩、イオン性液体などのイオン性のものや、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン等の電子伝導性のものが挙げられる。
さらに、上記電離放射線硬化性樹脂組成物Aは、フッ素、シリコーンなどの防汚剤を含有していてもよい。
上記機能性成分を用いる場合、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物A中の全固形分の合計質量に対して1〜30質量%であることが好ましい。
尚、本発明の光学積層体は、帯電防止剤を含む電離放射線硬化性樹脂組成物Aを用いて樹脂層を形成した場合(すなわち、樹脂層が帯電防止剤を含有する場合)、上述の二官能(メタ)アクリレートとの組合せにより、前記理由により、帯電防止剤が樹脂層の上面に偏在化するので、帯電防止性能がさらに向上する。また、シリカ、アルミナ等の超微粒子をハードコート性付与剤として含む電離放射線硬化性樹脂組成物Aを用いて樹脂層を形成した場合(すなわち、樹脂層がハードコート性付与剤を含有する場合)、上述のポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとの組合せにより、前記理由により、ハードコート性付与剤が樹脂層の上面に偏在化するので、ハードコート性能がさらに向上する。
乾燥工程における乾燥時間は、好ましくは20秒〜2分であり、より好ましくは30秒〜1分である。また、乾燥工程における乾燥温度は、好ましくは40〜90℃であり、より好ましくは50〜80℃である。乾燥温度が100℃を超えると、アクリルへの膨潤性が好ましい溶媒を選択していても、溶媒の浸透力などがアップし、基材が割れる場合があるため、乾燥温度は、どの溶媒を用いる場合でも基本的に90℃以下であることが好ましい。例えば、好ましい溶媒としてメチルイソブチルケトンがあるが、この溶媒であっても乾燥温度が100℃であると張力をかけた場合、アクリル基材が切れる場合がある。
最低温度は、溶媒が乾燥できる程度であればよく50℃以上が好ましい。例えば、メチルイソブチルケトンで乾燥温度が30℃であった場合は、乾燥不十分のまま紫外線などで硬化することになり、その場合は硬化がうまくいかず、未硬化部分も生じる。このときは、密着性が低下することがある。
上記紫外線照射における紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。
上記電子線照射における電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
また、密着性を向上させるためには、樹脂層の膜厚は0.8μm以上3μm未満であることが好ましい。樹脂層の膜厚0.8μmは、山谷状の最適な稜線を形成するために最低限必要な膜厚でもある。樹脂層の膜厚が0.8μm以上3μm未満である場合、上述した基準高さと基準深さとの高低差は、0.3〜1.5μmであることが好ましい。
なお、前記高低差は、樹脂層の膜厚がいかなる値をとる場合であっても、樹脂層膜厚>高低差の関係を満たすものとする。
上記樹脂層の膜厚は、断面を電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察し、任意の10点を測定した平均値(μm)である。
ハードコート層は、好ましくは電離放射線硬化性樹脂組成物Bの硬化物よりなる。
ハードコート層は、硬度が、JIS K5600−5−4(1999)による鉛筆硬度試験(荷重4.9N)において、H以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましい。また、上記ハードコート層は、機能性成分を含有するものであってもよい。
また、電離放射線硬化性樹脂組成物Bは、光重合性モノマー(特に多官能モノマー)の配合量が30〜100質量%であることが好ましく、40〜90質量%であることがより好ましく、50〜80質量%であることがさらに好ましい。その際、電離放射線硬化性樹脂組成物Bの残部は、光重合性オリゴマー及び光重合性ポリマーの少なくとも一方とすることが好ましい。
また、ハードコート層の形成方法は、上述の樹脂層と同様である。その他のハードコート層の詳細についても、上述の樹脂層と同様である。
本発明においては、樹脂層の上に、ハードコート層を積層することが好ましい。光学積層体としての硬度を得るためには、樹脂層自身を高硬度にすることが考えられる。しかしながら、アクリル基材の上に、直接、つまり樹脂層に多官能の反応性官能基を有する材料を用いて2H以上の高硬度にした場合には、ハードコート層に何かしら部分的に圧がかかった場合などアクリル基材が割れやすいという欠点を有する。そのため、本発明の光学積層体においては、樹脂層がハードコート層との間にあることによって、ハードコート層の衝撃がそのままアクリル基材に伝わることなく、緩衝作用を有していて好ましい。また、樹脂層/ハードコート層となることによっても、単にハードコート層のみが積層されている場合よりも硬度も向上させることが出来る。
ただし、ハードコート層などを積層する場合には、樹脂層との間に新たな界面が出来る、つまり干渉縞が発生するきっかけになる部分が増えてしまうことになる。この場合、大切なのは積層する層の屈折率が、その下の層と可能な限り近いことである。よって、干渉縞防止性を良好に維持するためには、ハードコート層の屈折率は、樹脂層の屈折率とほぼ同じであることが好ましく、好ましい屈折率差は、0.03以下である。
ハードコート層の膜厚は、1〜20μmであることが好ましく,3.5〜13μmであることがより好ましい。
本発明の光学積層体は、上記ハードコート層上に更に低屈折率層を有することが好ましい。
上記低屈折率層としては、好ましくは1)シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウム等の低屈折率無機薄膜等のいずれかを含む低屈折率層形成用組成物を用いて形成する。フッ素系樹脂以外の樹脂については、上述したアクリル樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開2005−099778号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が1.47以下、特に1.42以下であることが好ましい。また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は10nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;上記含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル変性シリコーン、アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7361に準拠した方法により測定することができる。
上記ヘイズは、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7136に準拠した方法により測定することができる。
上記偏光膜としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光膜と上記光学積層体とのラミネート処理においては、アクリル基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
上記画像表示装置としては、テレビ、コンピュータ、LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、タブレットPC、電子ペーパー、携帯電話等が挙げられ、さらに、画像表示装置等に用いられるタッチパネルにも好適に用いることができる。
上記白色LEDとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色LEDを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
また、上記VA(Vertical Alignment)モードとは、電圧無印加のときに液晶分子が液晶セルの基板に垂直になるように配向されて暗表示を示し、電圧の印加で液晶分子を倒れ込ますことで明表示を示す動作モードである。
また、上記IPS(In−Plane Switching)モードとは、液晶セルの一方の基板に設けた櫛形電極対に印加された横方向の電界により、液晶を基板面内で回転させて表示を行う方式である。
(アクリル基材の製造)
メタクリル酸メチル及びアクリル酸メチルの共重合体(ガラス転移点:130℃)からなるペレットを、溶融混練し、フィルターを通して異物を除去しつつ、溶融押し出し方法で、ダイの隙間からポリマーを押し出した。次いで、ポリマーを冷却しながら、縦方向に1.2倍に延伸し、その後、横方向に1.5倍に延伸して、厚み40μmのアクリル基材を得た。
テトラエチレングリコールジアクリレート(東亞合成株式会社製、「M240」)100質量部、及び開始剤(BASF社製、「Irg184」)4質量部を、メチルイソブチルケトン150質量部に溶解させ、樹脂層形成用組成物を調製した。
尚、第1表に樹脂層形成用組成物の組成を示す。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬株式会社製)50質量部、ウレタンアクリレート(日本合成化学工業株式会社製、「UV1700B」、10官能、重量平均分子量:2,000)50質量部、及び開始剤(BASF社製、「Irg184」)4質量部を、メチルイソブチルケトン150質量部に溶解させ、ハードコート層形成用組成物1を調製した。
アクリル基材上に、ダイコート法により、樹脂層形成用組成物を塗工し、70℃にて1分間乾燥させて溶剤を蒸発させ、乾燥後の塗布量が4g/m2(乾燥膜厚3.5μm)となるように樹脂層を形成した。得られた塗膜に、照射量70mJ/cm2で紫外線を照射して塗膜を半硬化(ハーフキュアー状態)とした。
次に、上述のようにして形成した樹脂層の上に、ダイコート方法により、ハードコート層形成用組成物1を塗工し、70℃にて1分間乾燥させて溶剤を蒸発させ、乾燥後の塗布量が8g/m2(乾燥膜厚7μm)となるようにハードコート層1を形成した。得られた塗膜を、紫外線照射量200mJ/cm2で紫外線を照射して塗膜を完全硬化(フルキュアー状態)させ、光学積層体を得た。
樹脂層形成用組成物の組成を第1表に示すものに変更した以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
ハードコート層形成用組成物として、上述のハードコート層形成用組成物1に代えて、以下のようにして調製したハードコート層形成用組成物2を用いた以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
(ハードコート層形成用組成物2の調製)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬株式会社製)30質量部、ウレタンアクリレート(荒川化学工業株式会社製、「BS577」、6官能、重量平均分子量:1,000)46質量部、モノマー(東亞合成株式会社製、「M315」、3官能)20質量部、4級アンモニウム塩含有オリゴマー(大成ファインケミカル株式会社製、「1SX3000」)4質量部、及び開始剤(BASF社製、「Irg184」)4質量部を、メチルイソブチルケトン130質量部及びN−ブタノール20質量部に溶解させ、ハードコート層形成用組成物2を調製した。
実施例17で得られた光学積層体は、ハードコート層中に帯電防止剤が含まれるので、帯電防止性を有する。
得られた光学積層体の厚さ方向の断面を、走査型透過電子顕微鏡(STEM)を用いて撮像し、その画面に基づき、上述の「基準長さ30μmにおける稜線の長さの測定方法」に基づき測定した。
(基準高さと基準深さとの高低差)
図4に示すように、前記光学積層体の厚さ方向の断面において、アクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線を示し、光学積層体の厚さ方向をy軸(但し、樹脂層側が正の向き)、該y軸に垂直な方向をx軸とするxy平面において、該x軸方向に30μmの基準長さLをとり、該基準長さLにおいて稜線が有する極小点4bのうち、y座標が最も小さいものから3点(4b−1)を選択し、その平均y座標を基準深さ5bとし、一方、該基準長さLにおいて稜線が有する極大点4aのうち、y座標が最も大きいものから3点(4a−1)を選択し、その平均y座標を基準高さ5aとし、この基準深さ5bと基準高さ5aとの差(絶対値)が、基準深さ5bと基準高さ5aとの高低差とした。
(平均傾斜角θa)
図5に示すように、前記光学積層体の厚さ方向の断面において、アクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線を示し、光学積層体の厚さ方向をy軸(但し、樹脂層側が正の向き)、該y軸に垂直な方向をx軸とするxy平面において、該x軸方向に30μmの基準長さLをとり、該基準長さLにおいて稜線が有する極値点(極大点4a及び極小点4b)を確定し、全ての隣接する極値点間の高低差(h1〜h12、絶対値)の和を総高低差ΣHとした時に、tan-1(総高低差ΣH/基準長さL)で表される値を平均傾斜角θaでとした。
(凹凸の平均間隔Sm)
JIS B0601(1994)に準じて測定した。
JIS K 5600に基づき、光学積層体のハードコート層に、1mm角で合計100目の碁盤目を入れ、ニチバン(株)製工業用24mmセロテープ(登録商標)を用いて5回連続剥離試験を行い、残っているマス目の数量を計測した。
剥がれなかったマス目の数に応じて、以下のように評価した。○レベル以上が製品として良好なものである。
A:90−100
B:80−89
C:50−79
D:50未満
光学積層体のハードコート層と反対側の面に黒色のテープを貼合した後、三波長管蛍光灯下にて目視にて干渉縞の有無の評価を行った。干渉縞が視認できない場合をAとし、薄く視認出来た場合をBとし、視認出来た場合をCとした。
樹脂層形成用組成物をアクリル基材上に塗布し乾燥した段階で、引っ張り試験を行った。引っ張り度合いは、2.2N/cmとした。
その結果、引っ張った折に切れない場合を「良好」と、少しでも切れが生じ、製造加工上問題が生じるものを「不良」と評価した。
製造加工性が「不良」となる光学積層体は、基材自体の物性が弱体化しているので樹脂層、ハードコート層などを硬化させても鉛筆硬度(JIS K5600−5−4)が2H以上出ない。
光学積層体のヘイズ値(%)を、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7136に従って測定し、以下の評価基準で評価した。
A:ヘイズ値が0.8以下
C:ヘイズ値が0.8超
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学積層体について、表面抵抗値測定器(ハイレスターHT−210、三菱油化株式会社製)を用いて表面抵抗値を測定した。
PEGジ(メタ)アクリレート2:トリエチレングリコールジメタクリレート(共栄社化学株式会社製、「ライトエステル3EG」、分子量:270)
PEGジ(メタ)アクリレート3:テトラエチレングリコールジメタクリレート(共栄社化学株式会社製、「ライトエステル4EG」、分子量:314)
マレイミドポリマー:(東亞合成株式会社製、「UVT302」)
PETA:ペンタエリスリトールトリアクリレート
多官能ポリマー:荒川化学工業製、「BS371」
多官能オリゴマー:第一工業製薬株式会社製、「R1403」
モノマー1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬株式会社製
モノマー2:オルト−フェニルフェノールEO変性アクリレート、東亞合成株式会社製 M106
4級アンモニウム塩:コルコート社製、「コルコートNR121X」
ATO粒子:アンチモンドープ酸化スズのメチルイソブチルケトン分散液三菱マテリアル電子化成株式会社製、「EPT5DL2MIBK」
反応性シリカ:日産化学工業株式会社製、「MIBKSD」、平均粒径:12nm
ジルコニア:酸化ジルコニウムのMEK分散液(固形分30%分散液、堺化学工業製、「SZR−K 4nm」)
MIBK:メチルイソブチルケトン
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
MEK:メチルエチルケトン
2.樹脂層
3.ハードコート層
4.アクリル基材−樹脂層界面
4a.極大点
4a−1.y座標が最も大きい極大点(3点)
4b.極小点
4b−1.y座標が最も小さい極小点(3点)
5a.基準深さ
5b.基準高さ
h.基準高さと基準深さとの高低差
h1〜h12.隣接する極値点間の高低差
Claims (5)
- アクリル基材の一方の面上に樹脂層(但し、「表面に平均周期が400nm以下の微細凹凸構造を有する樹脂層」を除く)を有する光学積層体であって、該光学積層体の厚さ方向の断面において、アクリル基材−樹脂層界面が、山部及び谷部を有する稜線を示し、前記光学積層体の厚さ方向に垂直な方向にとった基準長さ30μmにおける前記稜線の長さが31〜45μmであり、前記稜線の平均傾斜角θaが25〜48°であり、前記樹脂層上に直接、ハードコート層及び防眩層から選択される1つ以上の層を有してなる光学積層体。
- 前記光学積層体の厚さ方向の断面において、光学積層体の厚さ方向に垂直な方向にとった基準長さ30μmにて、アクリル基材−樹脂層界面の谷部のうち、最深の谷底から深い順に3番目までの平均深さを基準深さとし、次いでアクリル基材−樹脂層界面の山部のうち、最高の山頂から高い順に3番目までの平均高さを基準高さとし、該基準高さと基準深さとの高低差が0.3〜3.5μmである請求項1に記載の光学積層体。
- 前記稜線が示す凹凸の平均間隔Smが0.5〜7μmである請求項1又は2に記載の光学積層体。
- 偏光膜の少なくとも一方の面に請求項1〜3のいずれかに記載の光学積層体を積層してなる偏光板。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の光学積層体及び/又は請求項4に記載の偏光板を備える画像表示装置。
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JP6690385B2 (ja) * | 2016-04-27 | 2020-04-28 | 凸版印刷株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板、および透過型液晶ディスプレイ |
JP2018080251A (ja) * | 2016-11-16 | 2018-05-24 | 株式会社Dnpファインケミカル | 組成物、積層部材、タッチパネルおよび表示装置 |
KR102267829B1 (ko) * | 2017-04-11 | 2021-06-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광학 적층체와, 이를 갖는 화상 표시 장치의 전면판, 화상 표시 장치, 저항막식 터치 패널 및 정전 용량식 터치 패널 |
WO2022019610A1 (ko) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 주식회사 엘지화학 | 눈부심 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08197670A (ja) | 1995-01-27 | 1996-08-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 表面保護シート及びその製造方法 |
JP3680206B2 (ja) | 2000-10-17 | 2005-08-10 | 古河スカイ株式会社 | 被覆層の密着性に優れた被覆用アルミニウム合金板 |
JP3989176B2 (ja) | 2001-01-17 | 2007-10-10 | 古河スカイ株式会社 | 被覆層の密着性および加工性に優れた成形加工用熱可塑性樹脂被覆アルミニウム合金板の製造方法 |
JP4135364B2 (ja) * | 2002-01-16 | 2008-08-20 | 凸版印刷株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
JP2005352238A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散部材 |
JP5082097B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2012-11-28 | 国立大学法人 筑波大学 | 反射防止構造および該反射防止構造を有する発光素子 |
CN101568420B (zh) * | 2006-12-28 | 2014-06-25 | 大成普拉斯株式会社 | 金属和树脂的复合体及其制造方法 |
JP4935627B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2012-05-23 | ソニー株式会社 | 光学素子および光学素子作製用原盤の製造方法 |
JP2009150998A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 |
JP5266827B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2013-08-21 | 東レ株式会社 | ハードコートフィルムおよび反射防止フィルム |
JP2010015109A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Sony Corp | 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性偏光子、ならびに表示装置 |
JP5724171B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2015-05-27 | ソニー株式会社 | 光学素子およびその製造方法、原盤およびその製造方法、ならびに表示装置 |
JP5521354B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2014-06-11 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムおよびその製造方法 |
JP2012208526A (ja) * | 2009-09-02 | 2012-10-25 | Sony Corp | 光学素子、および表示装置 |
JP2011081359A (ja) | 2009-09-09 | 2011-04-21 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法 |
WO2011055624A1 (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-12 | コニカミノルタオプト株式会社 | 偏光板、及び液晶表示装置 |
JP2011164433A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Sony Corp | 光学体、窓材、建具、および日射遮蔽部材 |
JP5773576B2 (ja) * | 2010-04-01 | 2015-09-02 | キヤノン株式会社 | 反射防止構造および光学機器 |
JP5842320B2 (ja) * | 2010-09-16 | 2016-01-13 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JP6128629B2 (ja) * | 2011-04-22 | 2017-05-17 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
US9447492B2 (en) * | 2011-06-03 | 2016-09-20 | Graham J. Hubbard | Conductive anti-reflective films |
JP6048145B2 (ja) * | 2011-09-08 | 2016-12-21 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルム、および、その製造方法 |
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