JP6048145B2 - 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルム、および、その製造方法 - Google Patents
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Description
本願は、2011年9月8日に、日本に出願された特願2011−195998に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
透明フィルムの製造方法としては、例えば、下記の工程(i)〜(iii)を有する方法が知られている(例えば、特許文献1)。
(i)表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと、透明フィルムの本体となる基材フィルムとの間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程。
(ii)活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて微細凹凸構造を有する硬化層を形成し、透明フィルムを得る工程。
(iii)モールドと透明フィルムとを分離する工程。
(5)前記(4)における前記モールドの前記微細凹凸構造は、陽極酸化ポーラスアルミナであることが好ましい。
本発明の透明フィルムの製造方法によれば、微細凹凸構造を有する硬化層と基材フィルムとの界面の密着性に優れ、かつ外観品質の良好な透明フィルムを安定的に製造できる。
本発明の基材フィルムは、微細凹凸構造を有する硬化層との密着性に優れ、かつ凹みに活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が入り込みやすい粗面を有する。
本発明の透明フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、下記の工程(I)〜(III)を有する。
(II)活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化層を形成し、透明フィルムを得る工程。
(III)透明フィルムとモールドとを分離する工程。
本発明における基材フィルムとしては、透明性に優れていることから、アクリル系樹脂からなるフィルムが用いられる。
基材フィルムの表面は、粗面化されている。以下、粗面化された表面を粗面と記す。
基材フィルムの粗面の最大谷深さPvは、0.1〜3μmであり、好ましくは0.1〜2.8μmであり、より好ましくは1〜2.6μmである。
基材フィルムの粗面の輪郭曲線要素の平均長さRSmは、10μm以下であり、好ましくは9.5μm以下であり、より好ましくは8.5μm以下である。
最大谷深さPvおよび輪郭曲線要素の平均長さRSmは、JIS B 0601:2001に準拠するものであり、走査型白色干渉法によって測定することができる。具体的には走査型白色干渉計3次元プロファイラーシステム「New View6300」(Zygo社製)を用いて表面観察を行い、視野をつなぎ合わせて4mm×0.5mmサイズとし、その観察結果から算出される。
ブラスト処理とは、基材フィルムの表面を削り、凹凸形状を形成する方法である。ブラスト処理としては、例えば、基材フィルムの表面に砂をあてて表面を削るサンドブラスト、鋭角な針等で基材フィルムの表面を引掻き凹凸形状を付与するスクラッチブラスト、ヘアーライン加工等が挙げられる。
エンボス加工とは、溶融状態の熱可塑性樹脂を鏡面ロールとエンボスロールとで挟み込み、その後、冷却して凹凸形状を形成する方法である。
コロナ処理とは、高周波電源によって供給される高周波・高電圧出力を放電電極−処理ロール間に印加することでコロナ放電が発生させ、コロナ放電下に基材フィルムを通過させ表面改質する方法である。
プラズマ処理とは、真空中でガスを、高周波電源等をトリガーとして励起させ、反応性の高いプラズマ状態にした後、基材フィルムに触れさせることにより表面改質する方法である。
粗面化方法としては、緻密な凹凸形状を形成できる点から、スクラッチブラスト、ヘアーライン加工等のブラスト処理やエンボス加工が好ましい。
基材フィルムの屈折率と硬化層の屈折率との差が±0.05以内であれば、基材フィルムの表面に凹凸が形成されていても、基材フィルムと硬化層との界面における反射や散乱が十分に抑えられ、透明フィルム自体のヘイズが十分に低くなり、高い透明性を維持できる。
全光線透過率が90%以上であり、ヘイズが2%以下であれば、十分な透明性が得られ、光学フィルム(拡散フィルム、反射防止フィルム等)に求められる光学性能を十分に発揮できる。このような基材フィルムとしては、住友化学社製「テクノロイ」、クラレ社製「SOフィルム」、日本触媒社製「アクリビュア」、三菱レイヨン社製「アクリプレン」等が挙げられる。
基材フィルムは、単層フィルムであってもよく、積層フィルムであってもよい。
炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートとしては、メチルメタクリレートが最も好ましい。
アクリル系樹脂(A)は、公知の懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等により製造できる。
アクリル系樹脂(A)は、三菱レイヨン社製のダイヤナール(登録商標)BRシリーズ、三菱レイヨン社製のアクリペット(登録商標)として入手可能である。
ゴム含有重合体(B)は、2段以上で重合されたものであればよい。ゴム含有重合体(B)としては、例えば、特開2008−208197号公報、特開2007−327039号公報、特開2006−289672号公報等に記載のゴム含有重合体が挙げられる。
ゴム含有重合体(B)の具体例としては、下記の重合体(B1)〜(B3)が挙げられる。
(1)炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび/または炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体(B2−1)を重合して得られた重合体の存在下に
(2)炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび/または炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる、単量体(B2−1)とは異なる組成の単量体(B2−2)を重合してゴム重合体を得て、その存在下に
(3)炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートを少なくとも構成成分としてなる単量体(B2−3)を重合する。
(1)炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび/または炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体(B3−1)を重合して重合体を得て、その存在下に
(2)炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体(B3−2)を重合してゴム重合体を得て、その存在下に
(3)炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび/または炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体(B3−3)を重合し、さらに
(4)炭素数1〜4のアルキル基を有するアルキルメタクリレートを少なくとも構成成分としてなる単量体(B3−4)を重合する。
乳化液は、W/O型、O/W型のいずれの分散構造でもよく、水中に単量体の油滴が分散したO/W型で、分散相の油滴の直径が100μm以下であるものが好ましい。
重合開始剤の添加方法は、水相、単量体相のいずれか片方、または双方に添加する方法を採用できる。
配合剤の添加方法としては、アクリルフィルムを成形する際に、成形機にアクリル樹脂組成物(C)とともに供給する方法、あらかじめアクリル樹脂組成物(C)に配合剤を添加した混合物を各種混練機にて混練混合する方法が挙げられる。後者の方法に用いる混練機としては、通常の単軸押出機、二軸押出機、バンバリミキサー、ロール混練機等が挙げられる。
アクリルフィルムの厚さは、フィルム物性の点から、10〜500μmが好ましい。アクリルフィルムの厚さが10〜500μmであれば、適度な剛性となるため、後述するロール状のモールドを用いた透明フィルムの製造が容易となり、また、製膜性が安定してフィルムの製造が容易となる。アクリルフィルムの厚さは、15〜400μmがより好ましく、20〜300μmがさらに好ましい。
モールドは、最終的に得られる透明フィルムの表面の微細凹凸構造に対応する反転構造(以下、反転微細凹凸構造と記す。)をモールド本体の表面に有するものである。
モールド本体の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
(X)アルミニウムからなるモールド本体の表面に、複数の細孔(凹部)を有する陽極酸化ポーラスアルミナを形成する方法。
(Y)モールド本体の表面にリソグラフィ法、電子線描画法、レーザー光干渉法等によって反転微細凹凸構造を直接形成する方法。
(a)アルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)アルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)細孔の径を拡大させる工程。
(e)工程(d)の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
(f)前記工程(d)と工程(e)を繰り返し行う工程。
図1に示すように、アルミニウム34を陽極酸化すると、細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。
アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光線を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、シュウ酸、硫酸等が挙げられる。
シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が30〜60Vの時、周期が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が25〜30Vの時、周期が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
図1に示すように、酸化皮膜38を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点40にすることで細孔の規則性を向上することができる。
図1に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム34を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。
陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
図1に示すように、細孔36の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
図1に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔36の底部から下に延び、直径の小さい円柱状の細孔36がさらに形成される。
陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
図1に示すように、工程(d)の細孔径拡大処理と、工程(e)の陽極酸化を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔36を有する陽極酸化ポーラスアルミナ(アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト))が形成され、表面に反転微細凹凸構造を有するモールド22が得られる。最後は工程(d)で終わることが好ましい。
繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを用いて製造された硬化層の反射率低減効果は不十分である。
細孔36の平均周期は、可視光線の波長以下、すなわち400nm以下が好ましく、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。細孔36の平均周期は、20nm以上が好ましく、25nm以上がより好ましい。
細孔36のアスペクト比(細孔の深さ/細孔の開口部の幅)は、1.0以上が好ましく、1.3以上がより好ましく、1.5以上がさらに好ましく、2.0以上が特に好ましい。細孔36のアスペクト比は、5.0以下が好ましい。
図1に示すような細孔36を転写して形成された硬化層20の表面は、いわゆるモスアイ構造となる。
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、離型性に優れる点、モールドとの密着性に優れる点から、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が好ましい。フッ素化合物の市販品としてはフルオロアルキルシラン、ダイキン工業社製の「オプツール」シリーズが挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、基材フィルムの屈折率と硬化層の屈折率との差が十分に小さくなるようなモノマーを主成分とするものを用いればよい。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。
単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
R1 xSi(OR2)y・・・(1)
ただし、R1、R2は、それぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、x、yは、x+y=4の関係を満たす整数を表す。
R3O[Si(OR5)(OR6)O]zR4・・・(2)
ただし、R3〜R6は、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは、3〜20の整数を表す。
透明フィルムは、例えば、図2に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
複数の細孔(図示略)からなる反転微細構造を表面に有するロール状のモールド22の表面と、モールド20の回転に同期してモールド22の表面に沿って移動する帯状の基材フィルム18の粗面との間に、タンク24から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21を供給する。
剥離ロール32により、表面に硬化層20が形成された基材フィルム18を剥離することによって、透明フィルム16を得る。
以上のようにして得られる透明フィルム16は、図3に示すように、基材フィルム18と、基材フィルム18の粗面に形成された、複数の凸部19からなる微細凹凸構造を有する硬化層20とを有する。
陽極酸化ポーラスアルミナのモールドを用いて凸部19を形成した場合、凸部19の平均周期は100nm程度となり好ましい。
凸部19の平均周期は、凸部19の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましく、25nm以上がより好ましい。
Hは、前記基準面から凸部19の最頂部までの高さとする。
透明フィルムを各種物品本体に貼着することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品が得られる。
物品本体の材料としては、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
微細凹凸構造を表面に有する物品としては、反射防止物品(反射防止フィルム、反射防止膜)、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学物品、細胞培養シート、超撥水性フィルム、超親水性フィルム等が挙げられる。特に反射防止物品としての用途に適している。反射防止物品としては、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置のような画像表示装置、計器類のような表示装置、太陽電池の保護板、透明電極用透明基板等、レンズ、ショーウィンドー、展示ケース、照明の前面板、眼鏡等の表面で使用される反射防止膜、反射防止フィルムや反射防止シート等が挙げられる。
硬化層と基材フィルムとの界面の密着性は、JIS K 5400に準拠して、2mm間隔の100格子を用いた碁盤目試験等によって評価することができる。密着性としては、JIS K 5400に準拠した2mm間隔の100格子を用いた碁盤目試験において、基材フィルムに密着している硬化層の格子数が51以上であることが好ましく、60以上であることがより好ましく、70以上であることがさらに好ましい。密着している格子数が51以上であれば、微細凹凸構造を表面に有する物品を反射防止物品等に用いた場合に、硬化層が基材フィルムから意図せずに剥離してしまうことを抑制できる。
以上説明した本発明の透明フィルムの製造方法にあっては、(I)基材フィルムの表面と、微細凹凸構造の反転構造を有するモールドの表面との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程と、(II)活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化層を形成し、透明フィルムを得る工程と、(III)透明フィルムとモールドとを分離する工程とを有する製造方法において、基材フィルムとして、最大谷深さPvが0.1〜3μm、輪郭曲線要素の平均長さRSmが10μm以下とされた粗面を有するものを用いているため、硬化層が基材フィルムの凹凸に浸透し、アンカー効果によって硬化層と基材フィルムとの界面の密着性が向上する。また、硬化層が基材フィルムの凹凸を完全に埋め尽くすことによって、外観欠陥を防ぐことができる。その結果、基材フィルムと硬化層との界面の密着性がよく、外観品質の良好な透明フィルムを安定的に製造できる。
陽極酸化ポーラスアルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧:3.00kVの条件にて断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。
硬化層の破断面にプラチナを5分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧:3.00kVの条件にて断面を観察し、凸部の平均間隔、凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ5点について行い、平均値を求めた。
基材フィルムおよび硬化層の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ社製、NAR−2)を用いて測定した。
基材フィルムの表面の最大谷深さPvおよび輪郭曲線要素の平均長さRSmは、JIS B 0601:2001に準拠するものであり、走査型白色干渉計3次元プロファイラーシステム「New View6300」(Zygo社製)を用いて観察を行い、視野をつなぎ合わせて4mm×0.5mmサイズとしその観察結果から得た。
硬化層と基材フィルムとの界面の密着性は、JIS K 5400に準拠して、2mm間隔の100格子を用いた碁盤目試験を行い、下記の基準で評価した。
◎:100格子全て密着している。
○:100格子中、密着している格子数が91〜99。
△:100格子中、密着している格子数が51〜90。
×:100格子中、密着している格子数が0〜50。
外観については、透明フィルムをアクリル板に両面貼着したものについて、目視検査および光学顕微鏡で確認し、下記の基準で評価した。
○:欠陥部の占める面積が全面積に対して1%未満。
×:欠陥部の占める面積が全面積に対して1%以上。
純度99.99%のアルミニウムインゴットを直径:200mm、長さ350mmに切断した圧延痕のない円筒状アルミニウム基材に、羽布研磨処理を施した後、これを過塩素酸/エタノール混合溶液中(体積比:1/4)で電解研磨し、鏡面化した。
鏡面化されたアルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30分間陽極酸化を行った。
工程(b):
厚さ3μmの酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に浸漬して、酸化皮膜を除去した。
工程(c):
酸化皮膜を除去したアルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。
酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、32℃の5質量%リン酸水溶液に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程(e):
細孔径拡大処理を行ったアルミニウム基材について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。
工程(f):
前記工程(d)および工程(e)を合計で4回繰り返し、最後に工程(d)を行って、平均周期:100nm、深さ:180nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナが表面に形成されたロール状のモールドaを得た。
以下の組成からなる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物A(表1)を調製した。
アクリルフィルム(三菱レイヨン社製、商品名:アクリプレン(登録商標)HBK003、厚さ:100μm、屈折率:1.49、動的粘弾性の損失係数tanδ:104℃、全光線透過率:92.6%、ヘイズ:0.63%、波長365nmの光の透過率:91%)を用意した。
図4に示すような、表面に酸化チタンから成る凹凸形状を有するブラシロール50と、ブラシロール50の前後に配置されたテンションロール52、54とを有するスクラッチブラスト装置を用い、ブラストロール50を基材フィルム18の進行方向とは逆方向に回転させながら、アクリルフィルムの表面を粗面化した。テンションロール52、54によって基材フィルム18にかかるテンションを変えることによって表面粗さを調整されたアクリルフィルムを得た。最大谷深さPvおよび輪郭曲線要素の平均長さRSmを表3に示す。
図2に示す製造装置を用いて、透明フィルムを製造した。
ロール状のモールド22としては、前記モールドaを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21としては、表1に示す活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを用いた。
基材フィルム18としては、表3に示す最大谷深さPvおよび輪郭曲線要素の平均長さRSmを有するアクリルフィルムを用いた。また、最大高さ粗さRz(JIS B 0601:2001準拠)の値を参考のために記す。
基材フィルム18側から、積算光量1000mJ/cm2の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの塗膜に照射し、活性エネルギー線化性樹脂組成物Aの硬化を行った。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの硬化時のモールドのa表面の温度は70℃であった。
得られた透明フィルムの凸部の平均周期は100nmであり、凸部の高さは180nmであった。透明フィルムの密着性および外観の評価結果を表3に示す。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21および基材フィルム18として表3に示すものを用い、モールド22の温度を変更した以外は、実施例1と同様にして透明フィルムを製造した。
透明フィルムの密着性および外観の評価結果を表3に示す。
18 基材フィルム
19 凸部(微細凹凸構造)
20 硬化層
21 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
22 モールド
36 細孔(反転構造)
Claims (4)
- JIS B 0601:2001に準拠した最大谷深さPvが0.1〜3μmであり、かつJIS B 0601:2001に準拠した輪郭曲線要素の平均長さRSmが10μm以下である粗面を有するアクリル系樹脂からなる基材フィルムの粗面に、凸部または凹部の平均周期が20nm以上400nm以下である微細凹凸構造を有する硬化層が形成され、
JIS K 5400に準拠した2mm間隔の100格子を用いた碁盤目試験を行った場合に、前記基材フィルムに密着している前記硬化層の格子数が91以上である、透明フィルム。 - 基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、
(I)JIS B 0601:2001に準拠した最大谷深さPvが0.1〜3μmであり、かつJIS B 0601:2001に準拠した輪郭曲線要素の平均長さRSmが10μm以下である粗面を有するアクリル系樹脂からなる基材フィルムの粗面と、前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドの表面との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程と、
(II)前記モールドの表面の温度を75℃以上にして、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化層を形成し、前記透明フィルムを得る工程と、
(III)前記透明フィルムと前記モールドとを分離する工程と
を有する、透明フィルムの製造方法。 - 前記モールドが、凸部または凹部の平均周期が20nm以上400nm以下の微細凹凸構造を表面に有する、請求項2に記載の透明フィルムの製造方法。
- 前記モールドの前記微細凹凸構造が、陽極酸化ポーラスアルミナである、請求項3に記載の透明フィルムの製造方法。
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