JP5254664B2 - 反射防止膜及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の反射防止膜は、アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られる。
機械研摩としては、特に制限はなく常法に従って行えばよいが、具体的には例えば、バフ研摩法、グラインダーバフ研摩法、リューター研摩法、ベルトサンダー研摩法、ブラッシ研摩法、スチールウール研摩法、サンドブラスト研摩法、液体ホーニング研摩法、型付け研摩法、旋盤研摩法、バレル研摩法、ラッピング研摩法等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、任意に組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、当該用途のアルミニウム材表面を効率良く加工でき、且つ、研摩面が優れ、結果としてヘイズの小さい反射防止膜を与える点で、バフ研摩法、旋盤研摩法、ラッピング研摩法かつバフ研摩法等が好ましく、片面平面バフ、ボールバフ、バイアスバフ等のバフ研摩法;精密旋盤研摩法;が特に好ましい。
本発明における化学研摩とは、研摩液を作用させて化学反応を起こさせることでアルミニウム材料の表面を研摩する方法であり、特に制限はなく常法に従って行えばよい。具体的には、例えば、リン酸−硝酸法、Kaiser法、Alupol I、IV、V法、General Motor法、リン酸−酢酸−銅塩法、リン酸−硝酸−酢酸法、Alcoa R5法等が挙げられる。用いる化学研摩法に応じて、研摩液、温度、時間等を適宜選択することによって、ヘイズが15%以下の反射防止膜を得ることが可能となる。これらの中でも、浴管理、実績、研摩面の仕上がり等の点で、リン酸−硝酸法、リン酸−酢酸−銅塩法が好ましい。
本発明における電解研摩とは、電解液中で電解によってアルミニウムの表面を研摩するものであり、特に限定はなく常法に従って行うことができる。酸性溶液等の水分が少ないためにアルミニウム材料が溶解しにくい状態になっている溶液の中で、アルミニウムを陽極として直流電流を通じることによって、表面を研摩する。具体的には例えば、Kaiser法、リン酸法、Erftwerk法、Aluflex法等が挙げられる。用いる電解液、電流値、処理温度、時間等によって、研摩された表面は異なり、これらを適宜選択することによって、ヘイズが15%以下の反射防止膜を得ることが可能となる。
上記した、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩をする前には、必要に応じて脱脂処理を行うことも好ましい。脱脂処理方法としては、例えば、有機溶剤法、界面活性剤法、硫酸法、電解脱脂法、アルカリ脱脂法、乳化脱脂法、リン酸塩法等が挙げられる。アルミニウム材表面を必要以上に荒らさない点から、非侵食性の脱脂処理を行うことが好ましい。
本発明における陽極酸化とは、酸溶液中で、アルミニウム材料を陽極として電流を流し、水が電気分解して発生する酸素とアルミニウムを反応させ、表面に細孔を有する酸化アルミニウムの被膜を形成させるものである。
エッチングは主に陽極酸化被膜の孔径拡大と所望の形状の型を得るために行われる。上記の陽極酸化とエッチングとを組み合わせることで、アルミニウム材料表面上の陽極酸化被膜に形成された、テーパー形状を形成する細孔の孔径、該テーパー形状、細孔の凹凸部の高さ及び深さ等を調整することができる。
また、本発明の反射防止膜は、少なくともその一の表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、かつ反射防止膜のヘイズが15%以下であることが必須である。ここで凸部とは、基準となる面より出っ張った部分をいい、凹部とは、基準となる面より凹んだ部分をいう。本発明の反射防止膜は、その表面に凸部を有していても、凹部を有していてもよい。また、凸部と凹部の両方を有していてもよく、更に、それらが連結して波打った構造を有していてもよい。
本発明における反射防止膜は、上記凹凸部の形状を有し、かつ、ヘイズ15%以下が必須である。ヘイズは全光透過率に対する拡散透過率の百分率であり、本発明におけるヘイズは実施例に記載の方法に従い測定したものとして定義される。ヘイズが大き過ぎると、FPDの視認性確保が不十分になる場合がある。型となるアルミニウム材料の表面を研摩することによって、それを用いて得られた反射防止膜は、ヘイズを15%以下にすることが可能になり、光の透過性能が著しく向上する。特に、陽極酸化に先立つ前述した研摩を加えることによって初めてヘイズが15%以下の反射防止膜が得られるようになった。ヘイズは15%以下が必須であるが、好ましくは12%以下、より好ましくは8%以下、特に好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
本発明の反射防止膜は、前記の型と膜形成材料を用いて作製される。膜形成材料としては、上記の反射防止膜の表面形状を形成でき、ヘイズを15%以下とできるものであれば、特に制限はなく、硬化性組成物と熱可塑性組成物の何れでも好適に使用し得る。本発明の反射防止膜は、その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は凹部を有し、それが少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在するという極めて微細な表面構造を有しているので、かかる微細構造に適した機械的強度を与えるため、また、型となる陽極酸化被膜からの剥離性等の点から硬化性組成物を用いることが好ましい。
硬化性組成物とは、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって硬化する組成物である。中でも、光照射又は電子線照射により硬化する硬化性組成物が、上記した点から好ましい。
「光照射又は電子線照射により硬化する硬化性組成物」(以下、「光硬化性組成物」と略記する)としては特に限定はなく、アクリル系重合性組成物又はメタクリル系重合性組成物(以下、「(メタ)アクリル系重合性組成物」と略記する)、光酸触媒で架橋し得る組成物等、何れも使用できるが、(メタ)アクリル系重合性組成物が、本発明の微細構造に適した機械的強度を与えるため、型となる陽極酸化被膜からの剥離性、化合物群が豊富なため種々の物性の反射防止膜を調製できる点等から(メタ)アクリル系重合性組成物が好ましい。
本発明における熱硬化性組成物とは、加熱すると重合を起こして高分子の網目構造を形成し、硬化して元に戻らなくなる組成物であれば特に制限はないが、例えば、フェノール系重合性組成物、キシレン系重合性組成物、エポキシ系重合性組成物、メラミン系重合性組成物、グアナミン系重合性組成物、ジアリルフタレート系重合性組成物、尿素系重合性組成物(ユリア系重合性組成物)、不飽和ポリエステル系重合性組成物、アルキド系重合性組成物、ポリウレタン系重合性組成物、ポリイミド系重合性組成物、フラン系重合性組成物、ポリオキシベンゾイル系重合性組成物、マレイン酸系重合性組成物、メラミン系重合性組成物、(メタ)アクリル系重合性組成物等が挙げられる。フェノール系重合性組成物としては、例えば、レゾール型フェノール樹脂等である。エポキシ系重合性組成物としては、例えば、ビスフェノールA−エピクロロヒドリン樹脂、エポキシノボラック樹脂、脂環式エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、多官能性エポキシ等である。不飽和ポリエステル系重合性組成物としては、例えば、オルソフタル酸系、イソフタル酸系、アジピン酸系、ヘット酸系、ジアリルフタレート系等である。中でも、熱硬化性組成物としては、(メタ)アクリル系重合組成物が好ましい。
すなわち、本発明の反射防止膜は、(メタ)アクリル系重合性組成物の(メタ)アクリル基の炭素−炭素間二重結合が、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって反応してなるものであることが好ましい。また、「光照射、電子線照射及び/又は加熱によって」とは、光照射、電子線照射及び加熱からなる群のうち、何れか1つの処理によってでもよく、そこから選ばれた2つの処理の併用によってでもよく、3つの処理全ての併用によってでもよい。
本発明に用いられるウレタン(メタ)アクリレートは特に限定はなく、例えば、ウレタン結合の位置や個数、(メタ)アクリル基の位置や個数は特に限定はない。
本発明の反射防止膜を形成させるための(メタ)アクリル系重合体は、ウレタン(メタ)アクリレートに加え、エステル(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。このエステル(メタ)アクリレートを含有させることによって、反射防止膜が軟らかくなり、本発明における特殊な構造を有する表面の機械的強度が良好になる。また、硬化性等を向上させるために使用したウレタン(メタ)アクリレートにより反射防止膜の柔軟性が悪化するのを防ぐことが可能となる。このエステル(メタ)アクリレートを含有せず、ウレタン(メタ)アクリレートの含有のみでは、反射防止膜が軟らかくなりすぎ、機械的強度が劣る場合がある。
本発明の反射防止膜を形成させるための(メタ)アクリル系重合体は、エポキシ(メタ)アクリレートを含有することも好ましい。このエポキシ(メタ)アクリレートを含有させることによって、反射防止膜が更に強靭になり、本発明における特殊な構造を有する表面の耐傷性等の機械的強度が更に良好になる。
本発明の反射防止膜を形成させるための(メタ)アクリル系重合体は、変性シリコーンオイルを含有することも好ましい。(メタ)アクリレート化合物が、変性シリコーンオイルを含有することによって、得られた反射防止膜の貯蔵弾性率が大きくなると共に、上記特殊な表面形状に対し、耐傷性等の機械的強度が優れたものになる。なお、本発明の反射防止膜形成においては、硬化させた反射防止膜を型から剥離する工程を有するので、そのとき賦型性が重要になる。しかしながら、本発明においては、該変性シリコーンオイルの使用は、この賦型性の改良よりはむしろ表面耐傷性の改良に効果的である。
(メタ)アクリレート系重合性組成物中の、ウレタン(メタ)アクリレート、エステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート及び変性シリコーンオイルの含有比率は特に限定はないが、ウレタン(メタ)アクリレート100重量部に対して、エステル(メタ)アクリレート10重量部以上が好ましく、20重量部以上が特に好ましい。また、上限は、400重量部以下が好ましく、300重量部以下がより好ましく、200重量部以下が特に好ましく、100重量部以下が最も好ましい。
熱可塑性組成物としては、ガラス転移温度又は融点まで加熱することによって軟らかくなるものであれば特に制限はないが、例えば、アクリロニトリル−スチレン系重合体組成物、アクリロニトリル−スチレン系重合体組成物、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン系重合体組成物、スチレン−(メタ)アクリレート系重合体組成物、ブダジエン−スチレン系重合体組成物等のスチレン系重合体組成物;塩化ビニル系重合体組成物、エチレン−塩化ビニル系重合体組成物、エチレン−酢酸ビニル系重合体組成物、プロピレン系重合体組成物、プロピレン−塩化ビニル系重合体組成物、プロピレン−酢酸ビニル系重合体組成物、塩素化ポリエチレン系組成物、塩素化ポリプロピレン系組成物等のポリオレフィン系組成物;ケトン系重合体組成物;ポリアセタール系組成物;ポリエステル系組成物;ポリカーボネート系組成物;ポリ酢酸ビニル系組成物、ポリビニル系組成物、ポリブタジエン系組成物、ポリ(メタ)アクリレート系組成物等が挙げられる。
本発明の反射防止膜の製造方法は、例えば下記の方法が好ましい。すなわち、上記反射防止膜形成材料を基材上に採取、バーコーター若しくはアプリケーター等の塗工機又はスペーサーを用いて、均一膜厚になるように塗布する。ここで、「基材」としては、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と略記する)、トリアセチルセルロース等のフィルムが好適である。そして、前記表面構造をもった型を貼り合わせる。貼り合わせた後、硬化性組成物の場合には、該フィルム面から紫外線照射若しくは電子線照射及び/又は熱により硬化させる。あるいは、前記表面構造をもった型の上に、直接反射防止膜形成材料を採取、塗工機やスペーサー等で均一膜厚の塗布膜を作製してもよい。その後、得られた反射防止膜を該型から剥離させて本発明の反射防止膜を作製する。
本発明の反射防止膜は優れた光透過性能を有するが、それは型となるアルミニウム材料の表面を研摩したためと考えられる。従来から、型となるアルミニウム材料の表面は陽極酸化されるので、それに先立って表面を研摩することは必要ないと考えられていたと思われる。また、特定の表面構造によって反射が防止できるので、ヘイズに関してはそれで十分と考えられていたために、更なる光透過性能を求めることをしなかったと考えられる。また、従来は、反射防止膜形成材料として満足のいくものがなく、とりあえず反射防止膜を作ることにのみ重点が置かれ、ヘイズを極めて低く、具体的には15%以下にしようとするだけの技術水準に材料的に至っておらず、そのため、型の表面を研摩しようとは考えつかなかったものと考えられる。上記したような硬化性組成物等の開発により、ヘイズを更に改良するだけのレベルに達したため、型の表面を研摩しようと考えついた。
<型の作製>
アルミニウム材料として、99.85%のアルミニウム圧延板(2mm厚)を片面平面バフ研摩盤(Speedfam社製)により、アルミナ系の研摩材(フジミ研磨材社製)を用いて、10分間研摩して鏡面を得た。研摩面をスクラブ洗浄後、非浸食性の脱脂処理を行った。
<陽極酸化の条件>
使用液:0.05Mシュウ酸
電圧 :80Vの直流電圧
温度 :5℃
時間 :50秒
使用液:2重量%リン酸
温度 :50℃
時間 :5分
反射防止膜形成材料である下記に示す光硬化性組成物(a)をPETフィルム上に採取、バーコーターNO28にて、均一な膜厚になるよう塗布した。その後、上記で得られた型を貼り合わせ、細孔内に光硬化性組成物が充填されたことを確認して、紫外線を照射して重合硬化させた。硬化後、膜を型から剥離することで、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する反射防止膜を得た。
下記式(1)で示される化合物(1)11.8重量部、下記化合物(2)23.0重量部、テトラエチレングリコールジアクリレート45.2重量部、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート20.0重量部及び光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2.0重量部により、光硬化性組成物(a)を得た。
2HEA−−IPDI−−(アジピン酸と1,6−ヘキサンジオールとの重量平均分子量3500の末端水酸基のポリエステル)−−IPDI−−2HEA
で示される化合物である。ここで、「2HEA」は、2−ヒドロキシエチルアクリレートを示し、「IPDI」は、イソホロンジイソシアネートを示し、「−−」は、イソシアネート基と水酸基の通常の下記の反応による結合を示す。
−NCO + HO− → −NHCOO−
実施例1において、アルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、ボールバフにより、コロイダルシリカ(フジミ研磨材社製)を主成分とする研摩材を用いて研摩した以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、バイアスバフ(光陽社製)により、無水ケイ酸系の油脂研摩材(イチグチ社製)を用いて研摩した以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、正面精密旋盤に真空チャックにより固定し、天然ダイヤモンドバイトを用いて、鏡面切削する以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、95℃、60体積%リン酸と5体積%硝酸の混合で得られる研摩液中で、3分間振動させながら処理する以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、70℃、90体積%リン酸浴中において、アルミ材をプラス極として40A/dm2の電流密度で5分間振動しながら電解し、その後、20℃の硝酸浴(市販の約68%硝酸を2倍に希釈)中に10分間浸漬して表面の酸化膜を溶解除去した以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、バイアスバフ(光陽社製)により、無水ケイ酸系の油脂研摩材(イチグチ社製)を用いて研摩し、引き続き、95℃、60体積%リン酸と5体積%硝酸の混合で得られる研摩液中で3分間振動しながら処理する以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、ボールバフにより、コロイダルシリカを主成分とする研摩材を用いて研摩し、研摩面をスクラブ洗浄後、脱脂処理を行った後、70℃、90体積%リン酸浴中において、アルミニウム材をプラス極として40A/dm2の電流密度で5分間振動しながら電解し、その後、20℃の硝酸浴(市販の約68%硝酸を2倍に希釈)中に10分間浸漬して表面の酸化膜を溶解除去する以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、片面平面ラップ盤により、水溶性の研削液(ケメット・ジャパン製)を併用しながら準鏡面を研摩し、研摩面をスクラブ洗浄後、脱脂処理を行った後、70℃、90体積%リン酸浴中において、アルミ材をプラス極として40A/dm2の電流密度で5分間振動しながら電解し、その後、20℃の硝酸浴(市販の硝酸を2倍に希釈)中に10分間浸漬して表面の酸化膜を溶解除去する以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1において、99.85%のアルミニウム圧延板(2mm厚)をアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、アルミニウム合金5005押出管(外径30mm)を精密旋盤(エグロ社製)と単結晶ダイヤモンドバイト(東京ダイヤモンド社製)を用いて、灯油を潤滑剤として高速回転で旋盤加工を施した以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1において、99.85%のアルミニウム圧延板(2mm厚)をアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、アルミニウム合金5005の改良合金の引き抜き管(外径30mm)を精密旋盤とコンパックスダイヤモンドバイトを用いて、灯油を潤滑剤として高速回転で旋盤加工を施し、引き続き、70℃、90体積%リン酸浴中において、アルミ材をプラス極として40A/dm2の電流密度で5分間振動しながら電解し、その後、20℃の硝酸浴(市販の約68%硝酸を2倍に希釈)中に10分間浸漬して表面の酸化膜を溶解除去する以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1において、光硬化性組成物(a)を用いる代わりに表1記載の光硬化性組成物(b)〜(g)を用いる以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例1において、アルミナ系の研摩材を用いて研摩しない以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を得た。
実施例5において、リン酸と硝酸の研摩液中で処理しない以外は、実施例5と同様にして反射防止膜を得た。
実施例6において、リン酸浴中で電解しない以外は、実施例6と同様にして反射防止膜を得た。
[Ra、Ry]
実施例1〜11で得られた「機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料」の表面のRa及びRyの値を、比較例の「アルミニウム材料」の表面のRa及びRyの値と共に以下に示す。Ra及びRyは、JIS B0601(1994)に従って測定した。
NO. Ra(μm) Ry(μm)
実施例1 0.035 0.45
実施例2 0.035 0.45
実施例3 0.034 0.45
実施例4 0.035 0.44
実施例5 0.034 0.45
実施例6 0.032 0.38
実施例7 0.033 0.27
実施例8 0.029 0.27
実施例9 0.018 0.19
実施例10 0.035 0.45
実施例11 0.022 0.19
比較例1 0.50 2.00
比較例2 0.50 2.00
比較例3 0.50 2.00
スガ試験機社製、ヘイズメーター「HGM−2DP」を用いて、可視光線のヘイズを測定した。
反射防止膜の透明性は、以下の基準により目視で評価判定した。
◎:透明性が極めて良好
○:透明性が良好
△:やや透明性が低いが合格レベル
×:透明性が不良
島津製作所社製、自記分光光度計「UV−3150」を用い、裏面に黒色テープを貼り付け、5°入射絶対反射率を測定した。
2 型
3 基材
4 ローラー
5 反射防止膜
6 硬化装置
7 支持ローラー
Claims (15)
- アルミニウム材料の表面を、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を形成させる反射防止膜形成用の型の製造方法であって、該型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られる「表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在する反射防止膜」のヘイズが15%以下になるまで、あらかじめ、該アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩による加工であって、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法及び/又はラッピング研摩法による機械研摩をした後に電解研摩をする加工をしておき、その後、該テーパー形状の細孔を形成させることを特徴とする反射防止膜形成用の型の製造方法。
- 機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩による加工であって、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法及び/又はラッピング研摩法による機械研摩をした後に電解研摩をする加工をした後のアルミニウム材料の表面が、算術平均粗さRaとして0.1μm以下になるまで研摩を行う請求項1記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
- 機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩による加工であって、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法及び/又はラッピング研摩法による機械研摩をした後に電解研摩をする加工をした後のアルミニウム材料の表面が、最大高さRyとして0.5μm以下になるまで研摩を行う請求項1又は請求項2記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
- 電解研摩の後、酸化膜を除去し、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製する請求項1ないし請求項3の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
- 上記「陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせ」が、シュウ酸濃度0.01M以上0.5M以下、印加電圧20V以上120V以下、かつ液温0℃以上50℃以下で行う陽極酸化と、リン酸濃度1重量%以上20重量%以下、液温30℃以上90℃以下、かつ1回の処理時間1分以上60分以下で行うエッチングとの組み合わせである請求項1ないし請求項4の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
- その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在し、かつヘイズが15%以下である反射防止膜の製造方法であって、アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩による加工であって、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法及び/又はラッピング研摩法による機械研摩をした後に電解研摩をする加工をした後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
- 機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩による加工であって、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法及び/又はラッピング研摩法による機械研摩をした後に電解研摩をする加工をした後のアルミニウム材料の表面が、算術平均粗さRaとして0.1μm以下のものである請求項6記載の反射防止膜の製造方法。
- 機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩による加工であって、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法及び/又はラッピング研摩法による機械研摩をした後に電解研摩をする加工をした後のアルミニウム材料の表面が、最大高さRyとして0.5μm以下のものである請求項6又は請求項7記載の反射防止膜の製造方法。
- 電解研摩の後、酸化膜を除去し、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製する請求項6ないし請求項8の何れかの請求項記載の反射防止膜の製造方法。
- 上記陽極酸化が、シュウ酸濃度0.01M以上0.5M以下、印加電圧20V以上120V以下、かつ液温0℃以上50℃以下で行われるものである請求項6ないし請求項9の何れかの請求項記載の反射防止膜の製造方法。
- 上記エッチングが、リン酸濃度1重量%以上20重量%以下、液温30℃以上90℃以下、かつ1回の処理時間1分以上60分以下で行われるものである請求項6ないし請求項10の何れかの請求項記載の反射防止膜の製造方法。
- 上記反射防止膜形成材料が、光照射、電子線照射及び/又は加熱によって硬化する硬化性組成物である請求項6ないし請求項11の何れかの請求項記載の反射防止膜の製造方法。
- 上記硬化性組成物が、アクリル系重合性組成物又はメタクリル系重合性組成物である請求項12に記載の反射防止膜の製造方法。
- 請求項1ないし請求項5の何れかの請求項に記載の反射防止膜形成用の型の製造方法によって作成されたことを特徴とする反射防止膜形成用の型。
- 請求項6ないし請求項13の何れかの請求項に記載の反射防止膜の製造方法によって作成されたことを特徴とする反射防止膜。
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