CN103813896A - 表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜 - Google Patents

表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜 Download PDF

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Abstract

本发明涉及透明薄膜，其中，在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层，前述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构，前述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，在进行基于JIS K5400的使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验时，附着于前述基材薄膜的前述固化层的网格数为51以上。

Description

表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜
技术领域
本发明涉及表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜。
本申请基于2011年9月8日于日本申请的特愿2011-195998主张优先权，此处援用其内容。
背景技术
近年来，已知表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构的物品显现防反射效果、荷叶效应等。特别是已知被称为蛾眼（Moth-Eye）结构的凹凸结构的折射率从空气的折射率向物品的材料的折射率连续增大，是有效的防反射手段。
表面具有微细凹凸结构的物品例如通过将表面具有微细凹凸结构的透明薄膜（以下，将“表面具有微细凹凸结构的透明薄膜”简称为“透明薄膜”。）贴附于物品主体的表面而得到。
作为透明薄膜的制造方法，例如已知有包括下述工序（i）～（iii）的方法（例如专利文献1）。
工序（i），在表面具有微细凹凸结构的反转结构的模具与作为透明薄膜主体的基材薄膜之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物。
工序（ii），对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线，使活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成具有微细凹凸结构的固化层，得到透明薄膜。
工序（iii），将模具与透明薄膜分离。
作为前述基材薄膜，通常使用光学用途的薄膜。但是，对于光学用途的薄膜来说要求高透明性（高透过率、低雾度），所以表面被精加工成平滑的。因此，会有基材薄膜与固化层的界面的密合性不充分的情况，在前述工序（iii）中会有基材薄膜与固化层的界面处发生剥离而固化层不与模具分离的情况。另外，还会有即使能够与模具分离，基材薄膜和固化层之间的密合性也不充分的情况。特别是使用由丙烯酸系树脂形成的薄膜作为基材薄膜时，难以确保基材薄膜的表面与固化层之间的密合性。
为了改善前述那样的脱模不良、密合不良，提出了使用表面经过粗糙化的基材薄膜的制造方法（专利文献2）。通常，活性能量射线固化性树脂组合物与基材薄膜的折射率相同，只要各层密合就看不到分界面。但是，此方法中，存在深度为需要以上的凹坑时，活性能量射线固化性树脂组合物未进入凹坑，由于凹坑中残留的空气与基材薄膜、固化层的材料的折射率差而产生外观不良。
特别是，表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构的透明薄膜，防反射性能非常优异、透明性高，因此以往的光学薄膜中目测不到的缺陷也会很明显。因此，表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构的透明薄膜中，需要用固化层完全埋盖基材薄膜的凹凸而不使凹坑中残留空气。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-076089号公报
专利文献2:日本特开2010-201641号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明提供具有微细凹凸结构的固化层与基材薄膜的界面的密合性优异、且外观品质良好的透明薄膜，能够稳定地制造透明薄膜的方法，以及与具有微细凹凸结构的固化层的密合性优异、且具有活性能量射线固化性树脂组合物容易进入凹坑的粗糙面的基材薄膜。
用于解决问题的方案
（1）本发明的透明薄膜的一种实施方式，该透明薄膜中，在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层，前述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构，前述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，在进行基于JIS K5400的使用间距2mm的100个格子的划格法附着力试验时，附着于前述基材薄膜的前述固化层的网格数为51以上。
（2）本发明透明薄膜的制造方法的一种实施方式，其为制造在基材薄膜的表面形成有具有微细凹凸结构的固化层的透明薄膜的方法，该方法具有：工序（I），在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面与模具的表面之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物，前述模具具有前述微细凹凸结构的反转结构，前述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下；工序（II），对前述活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线，使前述活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成前述固化层，得到前述透明薄膜；以及工序（III），将前述透明薄膜与前述模具分离。
（3）前述（2）的前述工序（II）中，降低前述活性能量射线固化性树脂组合物的粘度能够提高与基材薄膜的浸透性和锚固效果，因此优选的是使前述活性能量射线固化性树脂组合物进行固化时的前述模具的表面温度为70℃以上，或者使用低粘度的2官能单体、单官能单体等来降低粘度。
（4）前述（2）或前述（3）中的前述模具优选在表面具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构。
（5）前述（4）中的前述模具的前述微细凹凸结构优选为多孔阳极氧化铝。
（6）本发明的基材薄膜的一种实施方式，其为在表面形成有固化层的透明薄膜的制造中使用的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜，前述固化层具有微细凹凸结构，该基材薄膜具有基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下的粗糙面。
发明的效果
本发明的透明薄膜，具有微细凹凸结构的固化层与基材薄膜的界面的密合性优异，且外观品质良好。
根据本发明的透明薄膜的制造方法，能够稳定地制造具有微细凹凸结构的固化层与基材薄膜的界面的密合性优异、且外观品质良好的透明薄膜。
本发明的基材薄膜具有与固化层的密合性优异、且活性能量射线固化性树脂组合物容易进入凹坑的粗糙面，所述固化层具有微细凹凸结构。
附图说明
图1是显示表面具有多孔阳极氧化铝的模具的制造工序的截面图。
图2是显示透明薄膜的制造装置的一例的结构示意图。
图3是显示透明薄膜的一例的截面图。
图4是显示用于进行基材薄膜的表面粗糙化的刮磨（scratch blast）装置的一例的结构示意图。
具体实施方式
本说明书中，“（甲基）丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；“透明”是指至少透过波长400～1170nm的光；“活性能量射线”是指可见光、紫外线、电子束、等离子体、热线（红外线等）等。
＜透明薄膜的制造方法＞
本发明的透明薄膜的制造方法为制造在基材薄膜的表面形成有具有微细凹凸结构的固化层的透明薄膜的方法，具有下述工序（I）～（III）。
工序（I），在基材薄膜的表面与模具的表面之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物，所述模具在表面具有微细凹凸结构的反转结构。
工序（II），对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线，使活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成固化层，得到透明薄膜。
工序（III），将透明薄膜与模具分离。
（基材薄膜）
作为本发明中的基材薄膜，由于透明性优异，因此使用由丙烯酸系树脂形成的薄膜。
基材薄膜的表面被粗糙化。以下，将经过粗糙化的表面记作粗糙面。
基材薄膜的粗糙面的最大谷深Pv为0.1～3μm，优选为0.1～2.8μm，更优选为1～2.6μm。
基材薄膜的粗糙面的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，优选为9.5μm以下，更优选为8.5μm以下。
只要最大谷深Pv为0.1μm以上、且轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，就能够通过基材薄膜表面的凹凸而得到与固化层之间的充分的密合性。只要最大谷深Pv为3μm以下，基材薄膜表面的凹凸就不会变得过深，能够抑制透明薄膜的外观不良。
最大谷深Pv和轮廓单元的平均宽度RSm基于JIS B0601：2001，可以采用扫描型白色干涉法进行测定。具体而言，使用扫描型白色干涉仪三维轮廓系统“New View6300”（Zygo公司制造）进行表面观察，联系结合视场而设为4mm×0.5mm大小，由其观察结果算出。
作为基材薄膜的粗糙化方法，例如可列举出喷磨处理、压纹加工、电晕处理、等离子体处理等。
喷磨处理（blast treatment）是刨削基材薄膜表面来形成凹凸形状的方法。作为喷磨处理，例如可列举出在基材薄膜表面撒上砂粒来刨削表面的喷砂（sand blast）、用锐角的针等扫刮基材薄膜表面来赋予凹凸形状的刮磨、发纹（hair line）加工等。
压纹加工是将熔融状态的热塑性树脂用镜面辊和压纹辊夹持，其后进行冷却来形成凹凸形状的方法。
电晕处理是在放电电极与处理辊之间施加由高频电源供给的高频和高电压输出，由此产生电晕放电，使基材薄膜在电晕放电下通过来进行表面改性的方法。
等离子体处理是通过在真空中将高频电源等作为触发源激发气体，形成反应性高的等离子体状态后，使其与基材薄膜相接触来进行表面改性的方法。
作为粗糙化方法，从能够形成致密的凹凸形状的观点出发，优选刮磨、发纹加工等喷磨处理、压纹加工。
作为基材薄膜，优选使用与固化层的折射率之差在±0.05以内的由丙烯酸系树脂形成的薄膜，更优选使用在±0.03以内的由丙烯酸系树脂形成的薄膜。其中，折射率是指在23℃下、波长589.3nm处的折射率。
只要基材薄膜的折射率与固化层的折射率之差在±0.05以内，则即使在基材薄膜的表面形成凹凸，也能够充分抑制基材薄膜与固化层的界面处的反射、散射，透明薄膜主体的雾度变得充分低，能够维持高的透明性。
表面被粗糙化之前的、基材薄膜的动态粘弹性的损耗因子（tanδ）优选为80～110℃，更优选为80～105℃。tanδ根据JIS K7244-4的规定获得。tanδ为80℃以上时，耐热性提高。tanδ为110℃以下时，活性能量射线固化性树脂组合物容易浸入基材薄膜，与固化层的密合性进一步提高。
表面被粗糙化之前的基材薄膜的总透光率优选为90%以上、雾度优选为2%以下。另外，更优选的是，总透光率为91%以上、雾度为1.5%以下。进一步优选的是，总透光率为92%以上、雾度为1.0%以下。总透光率根据JIS K7361-1的规定获得。
总透光率为90%以上、雾度为2%以下时，能够获得充分的透明性，能够充分发挥光学薄膜（扩散薄膜、防反射薄膜等）所希望的光学性能。作为这种基材薄膜，可列举出Sumitomo Chemical Company,Limited制造的“TECHNOLLOY”、KURARAY CO.,LTD制造的“SO薄膜”、Nippon ShokubaiCo.,Ltd.制造的“ACRYVIEWA”、三菱丽阳株式会社制造的“ACRYPLEN”等。
表面被粗糙化之前的、波长365nm的光的透过率优选为10%以上，更优选为30%以上，进一步优选为50%以上。波长365nm的光的透过率为10%以上时，从基材薄膜侧照射紫外线，能够使活性能量射线固化性树脂组合物充分固化。
基材薄膜可以为单层薄膜，也可以为层叠薄膜。
使用以丙烯酸系单体为主成分的材料作为活性能量射线固化性树脂组合物时，从基材薄膜的折射率与固化层的折射率之差足够小的观点出发，优选使用丙烯酸系树脂作为基材薄膜的材料。
作为丙烯酸系树脂，优选下述的丙烯酸树脂组合物（C），其包含0～80质量%的丙烯酸系树脂（A）和20～100质量%的含橡胶的聚合物（B）。含橡胶的聚合物（B）的量过少时，丙烯酸类薄膜的拉伸强度下降。另外，会有与固化层的密合性降低的倾向。
丙烯酸系树脂（A）为由50～100质量%的源自具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯单元和0～50质量%的源自能够与其共聚的其他乙烯基单体单元形成的均聚物或共聚物。
作为具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯，最优选甲基丙烯酸甲酯。
作为其他乙烯基单体，例如可列举出丙烯酸烷基酯（丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸2-乙基己酯等）、甲基丙烯酸烷基酯（甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯等）、芳香族乙烯基化合物（苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯等）、乙烯基氰化物（丙烯腈、甲基丙烯腈等）等。
丙烯酸系树脂（A）可以通过公知的悬浮聚合法、乳液聚合法、本体聚合法等来制造。
丙烯酸系树脂（A）可以购买三菱丽阳株式会社制造的Dianal（注册商标）BR系列、三菱丽阳株式会社制造的Acrypet（注册商标）。
橡胶聚合物是指玻璃化转变温度（Tg）低于25℃的聚合物。Tg可以使用聚合物手册[Polymer HandBook（J.Brandrup、Interscience、1989）]所记载的值并由FOX式算出。
含橡胶的聚合物（B）只要为2段以上聚合而成的即可。作为含橡胶的聚合物（B），例如可列举出日本特开2008-208197号公报、日本特开2007-327039号公报、日本特开2006-289672号公报等记载的含橡胶的聚合物。
作为含橡胶的聚合物（B）的具体例，可列举出下述聚合物（B1）～（B3）。
聚合物（B1）是如下获得的聚合物：在橡胶聚合物的存在下使至少由具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯作为构成成分形成的单体（B1-2）聚合而获得，所述橡胶聚合物是使至少由具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和/或具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯以及接枝交联剂作为构成成分形成的单体（B1-1）聚合而获得的。单体（B1-1）、（B1-2）分别可以一次性聚合，也可以分为2阶段以上进行聚合。
聚合物（B2）：通过以下工序获得的聚合物。
（1）在使至少由具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和/或具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯以及接枝交联剂作为构成成分形成的单体（B2-1）聚合而获得的聚合物的存在下
（2）使至少由具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和/或具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯以及接枝交联剂作为构成成分形成的、与单体（B2-1）不同组成的单体（B2-2）聚合而获得橡胶聚合物，在其存在下
（3）使至少由具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯作为构成成分形成的单体（B2-3）聚合。
聚合物（B3）：通过以下工序获得的聚合物。
（1）使至少由具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和/或具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯以及接枝交联剂作为构成成分形成的单体（B3-1）聚合而获得聚合物，在其存在下
（2）使至少由具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和接枝交联剂作为构成成分形成的单体（B3-2）聚合而获得橡胶聚合物，在其存在下
（3）使至少由具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和/或具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯以及接枝交联剂作为构成成分形成的单体（B3-3）聚合，以及
（4）使至少由具有碳原子数1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯作为构成成分形成的单体（B3-4）聚合。
含橡胶的聚合物（B）的制造中，使用具有碳原子数1～8的烷基的丙烯酸烷基酯、碳原子数1～4的甲基丙烯酸烷基酯的同时，根据需要还可以使用能够与它们共聚的乙烯基单体、多官能性单体。为了使紫外线引起的橡胶聚合物的劣化减少，优选不使用含苯环的单体（苯乙烯、烷基取代的苯乙烯等）。
含橡胶的聚合物（B）的制造中，关于能够在橡胶聚合物的存在下聚合的以甲基丙烯酸烷基酯作为主成分的单体或单体混合物的量，从丙烯酸类薄膜的拉伸强度的观点出发，相对于100质量份橡胶聚合物优选为60质量份以上。单体或单体混合物的量为60质量份以上时，含橡胶的聚合物（B）的分散性提高，所得到的丙烯酸类薄膜的透明性提高。单体或单体混合物的量更优选为100质量份以上，优选为150质量份以上。从丙烯酸类薄膜的拉伸强度的观点出发，单体或单体混合物的量相对于100质量份橡胶聚合物优选为400质量份以下。
含橡胶的聚合物（B）的制造中，由各阶段所用的单体或单体混合物形成的聚合物的折射率差优选为0.05以下，更优选为0.03以下。通过选择各阶段所用的单体的种类和比例使得折射率差为0.05以下，能够得到透明性高的丙烯酸类薄膜。例如，为3段聚合物的情况下，将由各阶段所用的单体形成的聚合物的折射率设为na、nb、nc时，优选的是na-nc的绝对值、nb-nc的绝对值、na-nb的绝对值各自为0.02以下。
含橡胶的聚合物（B）中的各阶段的聚合物的折射率使用“POLYMERHANDBOOK”（Wiley Interscience公司）所记载的、20℃下的均聚物的折射率的值（聚甲基丙烯酸甲酯：1.489、聚丙烯酸正丁酯：1.466、聚苯乙烯：1.591、聚丙烯酸甲酯：1.476等）。另外，关于共聚物的折射率，可以根据其体积比率算出。关于此时所用的比重，聚甲基丙烯酸甲酯为0.9360、聚丙烯酸正丁酯为0.8998、聚苯乙烯为0.9060、聚丙烯酸甲酯为0.9564等。
作为含橡胶的聚合物（B）的制造法，优选逐级多段聚合法。作为其他制造法，例如可列举出乳液聚合后在各个聚合物聚合时转换为悬浮聚合体系的乳液悬浮聚合法等。
作为制备乳化液时所用的表面活性剂，可列举出阴离子系、阳离子系或非离子系的表面活性剂，优选为阴离子系的表面活性剂。作为阴离子系表面活性剂，可列举出松香皂；油酸钾、硬脂酸钠、肉豆蔻酸钠、N-月桂酰肌氨酸钠、烯基琥珀酸二钾系等羧酸盐；月桂基硫酸钠等硫酸酯盐；二辛基磺基琥珀酸钠、十二烷基苯磺酸钠、烷基二苯醚二磺酸钠系等磺酸盐；聚氧乙烯基烷基苯醚磷酸钠系等磷酸酯盐；聚氧乙烯烷基醚磷酸钠系等磷酸酯盐；等。在这些中，从生态系统保护的观点出发，优选聚氧乙烯烷基醚磷酸钠系等磷酸酯盐。
作为表面活性剂的具体例，可列举出Sanyo Chemical Industries,Ltd制造的“NC-718”；TOHO Chemical Industry Co.,Ltd.制造的“Phosphanol LS-529”、“Phosphanol RS-610NA”、“Phosphanol RS-620NA”、“PhosphanolRS-630NA”、“Phosphanol RS-640NA”、“Phosphanol RS-650NA”、“PhosphanolRS-660NA”；Kao Corporation制造的“Latemul P-0404”、“Latemul P-0405”、“Latemul P-0406”、“Latemul P-0407”等（均为商品名）。
作为制备乳化液的方法，可列举出在水中加入单体后投入表面活性剂的方法、在水中加入表面活性剂后投入单体的方法、在单体中加入表面活性剂后投入水的方法等。在这些中，在水中加入单体后投入表面活性剂的方法、以及在水中加入表面活性剂后投入单体的方法作为得到含橡胶的聚合物（B）的方法是优选的。
作为用于制备乳化液的混合装置，可列举出具备搅拌叶片的搅拌机；均化器、均质混合器等各种强制乳化装置；膜乳化装置等，所述乳化液是将形成构成含橡胶的聚合物（B）第一阶段的聚合物的单体、水和表面活性剂混合来制备的。
乳化液为W/O型、O/W型的任意分散结构均可，优选的是单体的油滴分散在水中的O/W型，且分散相的油滴的直径为100μm以下。
作为聚合引发剂，可列举出公知的物质，优选过氧化物、偶氮系引发剂、或者氧化剂和还原剂组合的氧化还原系引发剂，更优选氧化还原系引发剂，特别优选硫酸亚铁、乙二胺四乙酸二钠盐、雕白粉、过氧化氢组合而成的次硫酸盐系引发剂。
聚合引发剂的添加方法可以采用在水相、单体相的任一者中添加或者在两者中添加的方法。
含橡胶的聚合物（B）可以通过从由上述方法制造的聚合物胶乳中回收含橡胶的聚合物来制造。作为从聚合物胶乳中回收含橡胶的聚合物（B）的方法，可列举出盐析或酸析凝固、喷雾干燥、冷冻干燥等方法。含橡胶的聚合物（B）通常以粉状回收。
粉状的含橡胶的聚合物（B）的质量平均粒径优选为0.01～0.5μm，从光学用丙烯酸类薄膜的透明性的观点出发，更优选为0.3μm以下，进一步优选为0.15μm以下。
丙烯酸树脂组合物（C）根据需要还可以包含紫外线吸收剂、稳定剂、润滑剂、加工助剂、增塑剂、耐冲击助剂、脱模剂等的配混剂。
作为配混剂的添加方法，可列举出在成型丙烯酸类薄膜时与丙烯酸树脂组合物（C）一起供给于成型机的方法、利用各种混炼机对事先在丙烯酸树脂组合物（C）中添加了配混剂的混合物进行混炼混合的方法。作为后者方法所使用的混炼机，可列举出常规的单螺杆挤出机、双螺杆挤出机、班伯里密炼机、辊式混炼机等。
作为丙烯酸类薄膜的制造方法，例如可列举出公知的熔融流延法、T模头法、吹塑法等的熔融挤出法等，从经济性的观点出发，优选T模头法。
从薄膜物性的观点出发，丙烯酸类薄膜的厚度优选为10～500μm。丙烯酸类薄膜的厚度为10～500μm时，具有适度的刚性，因此使用后述的辊状模具的透明薄膜的制造变容易，另外制膜性稳定而易于制造薄膜。丙烯酸类薄膜的厚度更优选为15～400μm，进一步优选为20～300μm。
（模具）
模具在模具主体的表面具有与最终获得的透明薄膜的表面的微细凹凸结构对应的反转结构（以下记作反转微细凹凸结构。）。
作为模具主体的材料，可列举出金属（包含表面形成有氧化覆膜的金属。）、石英、玻璃、树脂、陶瓷等。
作为模具主体的形状，可列举出辊状、圆管状、平板状、片状等。
作为模具的制作方法，例如可列举出下述方法（X）、（Y）。从能够使模具大面积化且制作简便的观点出发，优选方法（X）。
方法（X），在由铝形成的模具主体的表面形成具有多个细孔（凹部）的多孔阳极氧化铝。
方法（Y），通过光刻法、电子束绘制法、激光干涉法等在模具主体的表面直接形成反转微细凹凸结构。
作为方法（X），优选具有下述工序（a）～（f）的方法。
工序（a），在电解液中、恒定电压下对铝进行阳极氧化而形成氧化覆膜。
工序（b），去除氧化覆膜，形成阳极氧化的细孔发生点。
工序（c），再次在电解液中对铝进行阳极氧化，形成细孔发生点处具有细孔的氧化覆膜。
工序（d），使细孔的直径扩大。
工序（e），工序（d）后，再次在电解液中进行阳极氧化。
工序（f），重复进行前述工序（d）和工序（e）。
工序（a）：
如图1所示，对铝34进行阳极氧化时，能够形成具有细孔36的氧化覆膜38。
铝的纯度优选为99%以上，更优选为99.5%以上，特别优选为99.8%以上。如果铝的纯度低，则进行阳极氧化时，存在由于杂质的偏析而形成使可见光发生散射的大小的凹凸结构、或者利用阳极氧化获得的细孔的规整性下降的情况。
作为电解液，可列举出草酸、硫酸等。
使用草酸作为电解液的情况下：
草酸的浓度优选为0.7M以下。草酸的浓度超过0.7M时，会有电流值变得过高而氧化覆膜的表面变粗糙的情况。
化成电压为30～60V时，能够得到具有周期为100nm的规整性高的细孔的多孔阳极氧化铝。无论化成电压比该范围高或低，都会有规整性下降的倾向。
电解液的温度优选为60℃以下，更优选为45℃以下。电解液的温度超过60℃时，会有引起所谓“镀层灰暗并有斑点”的现象、细孔被破坏或者表面熔化而打乱细孔的规整性的情况。
使用硫酸作为电解液的情况下：
硫酸的浓度优选为0.7M以下。硫酸的浓度超过0.7M时，会有电流值变得过高而无法维持恒定电压的情况。
化成电压为25～30V时，能够得到具有周期为63nm的规整性高的细孔的多孔阳极氧化铝。无论化成电压比该范围高或低，都会有规整性下降的倾向。
电解液的温度优选为30℃以下，更优选为20℃以下。电解液的温度超过30℃时，会有引起所谓“镀层灰暗并有斑点”的现象、细孔被破坏或者表面熔化而打乱细孔的规整性的情况。
工序（b）：
如图1所示，先去除氧化覆膜38，并使其形成阳极氧化的细孔发生点40，能够提高细孔的规整性。
作为去除氧化覆膜的方法，可列举出在选择性溶解氧化覆膜而不溶解铝的溶液中溶解去除氧化覆膜的方法。作为这样的溶液，例如可列举出铬酸/磷酸混合液等。
工序（c）：
如图1所示，再次对去除了氧化覆膜的铝34进行阳极氧化，形成具有圆柱状细孔36的氧化覆膜38。
阳极氧化采用与工序（a）相同的条件进行即可。阳极氧化的时间越长，能够形成越深的细孔。
工序（d）：
如图1所示，进行使细孔36的直径扩大的处理（以下记作孔径扩大处理。）。孔径扩大处理为在溶解氧化覆膜的溶液中浸渍从而使利用阳极氧化获得的细孔的直径扩大的处理。作为这种溶液，例如可列举出5质量%左右的磷酸水溶液等。
孔径扩大处理的时间越长，孔径越大。
工序（e）：
如图1所示，再次进行阳极氧化时，从圆柱状的细孔36的底部向下延伸，进一步形成直径小的圆柱状的细孔36。
阳极氧化采用与工序（a）相同的条件进行即可。阳极氧化的时间越长，能够形成越深的细孔。
工序（f）：
如图1所示，重复进行工序（d）的孔径扩大处理和工序（e）的阳极氧化时，形成具有直径从开口部向深度方向连续减小的形状的细孔36的多孔阳极氧化铝（铝的多孔氧化覆膜（耐酸铝）），获得表面具有反转微细凹凸结构的模具22。优选最后以工序（d）结束。
重复次数优选总计为3次以上，更优选为5次以上。重复次数为2次以下时，细孔的直径非连续性地减小，因此使用具有这种细孔的多孔阳极氧化铝制造的固化层的反射率降低效果不充分。
作为细孔36的形状，可列举出大致圆锥形状、棱锥形状等。
细孔36的平均周期优选为可见光波长以下即400nm以下，更优选为200nm以下，特别优选为150nm以下。细孔36的平均周期优选为20nm以上，更优选为25nm以上。
细孔36的深度优选为100～500nm，更优选为130～400nm，进一步优选为150～400nm。
细孔36的深宽比（细孔的深度/细孔的开口部的宽度）优选为1.0以上，更优选为1.3以上，进一步优选为1.5以上，特别优选为2.0以上。细孔36的深宽比优选为5.0以下。
转印图1所示那样的细孔36而形成的固化层20的表面成为所谓的蛾眼结构。
为了容易与固化层分离，还可以用脱模剂对模具22的表面进行处理。
作为脱模剂，可列举出有机硅树脂、氟树脂、氟化物等，从脱模性优异的观点、与模具的密合性优异的观点出发，优选具有水解性甲硅烷基的氟化物。作为氟化物的市售品，可列举出氟烷基硅烷、Daikin Industries,Ltd.制造的“OPTOOL”系列。
（活性能量射线固化性树脂组合物）
活性能量射线固化性树脂组合物包含聚合性化合物和聚合引发剂。
作为活性能量射线固化性树脂组合物，采用以使基材薄膜的折射率与固化层的折射率之差足够小的单体为主成分即可。
作为聚合性化合物，可列举出分子中具有自由基聚合性键和/或阳离子聚合性键的单体、低聚物、反应性聚合物等。
活性能量射线固化性树脂组合物还可以包含非反应性的聚合物、活性能量射线溶胶凝胶反应性组合物。
作为具有自由基聚合性键的单体，可列举出单官能单体、多官能单体。
作为单官能单体，可列举出（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯、（甲基）丙烯酸异丁酯、（甲基）丙烯酸仲丁酯、（甲基）丙烯酸叔丁酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲基）丙烯酸月桂酯、（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸十二烷基酯、（甲基）丙烯酸硬脂酯、（甲基）丙烯酸环己酯、（甲基）丙烯酸苄酯、（甲基）丙烯酸苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸异冰片酯、（甲基）丙烯酸缩水甘油酯、（甲基）丙烯酸四氢呋喃酯、（甲基）丙烯酸烯丙酯、（甲基）丙烯酸2-羟基乙酯、（甲基）丙烯酸羟基丙酯、（甲基）丙烯酸2-甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸2-乙氧基乙酯等（甲基）丙烯酸酯衍生物；（甲基）丙烯酸酸、（甲基）丙烯腈；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯衍生物；（甲基）丙烯酰胺、N-二甲基（甲基）丙烯酰胺、N-二乙基（甲基）丙烯酰胺、二甲氨基丙基（甲基）丙烯酰胺等（甲基）丙烯酰胺衍生物等。它们可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为多官能单体，可列举出乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二（甲基）丙烯酸酯、三乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,5-戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,3-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、2,2-双(4-（甲基）丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-（甲基）丙烯酰氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(3-（甲基）丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-双(3-（甲基）丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)乙烷、1,4-双(3-（甲基）丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)丁烷、二羟甲基三环癸烷二（甲基）丙烯酸酯、双酚A的环氧乙烷加成物二（甲基）丙烯酸酯、双酚A的环氧丙烷加成物二（甲基）丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙烯基苯、亚甲基双丙烯酰胺等二官能性单体；季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三（甲基）丙烯酸酯等三官能单体；琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的缩合反应混合物、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四（甲基）丙烯酸酯等四官能以上的单体；二官能以上的聚氨酯丙烯酸酯、二官能以上的聚酯丙烯酸酯等。它们可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为具有阳离子聚合性键的单体，可列举出具有环氧基、氧杂环丁基、噁唑基、乙烯氧基等的单体，特别优选具有环氧基的单体。
作为低聚物或反应性聚合物，可列举出不饱和二羧酸与多元醇的缩合物等不饱和聚酯类；聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚醚（甲基）丙烯酸酯、多元醇（甲基）丙烯酸酯、环氧（甲基）丙烯酸酯、聚氨酯（甲基）丙烯酸酯、阳离子聚合型环氧化合物、支链具有自由基聚合性键的上述单体的均聚物或共聚物等。
作为非反应性的聚合物，可列举出丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、聚氨酯、纤维素系树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚酯、热塑性弹性体等。
作为活性能量射线溶胶凝胶反应性组合物，可列举出烷氧基硅烷化合物、烷基硅酸酯化合物等。
作为烷氧基硅烷化合物，可列举出下述式（1）的化合物。
R1 xSi（OR2）y···（1）
其中，R1、R2各自表示碳原子数1～10的烷基，x、y表示满足x+y=4的关系的整数。
作为烷氧基硅烷化合物，可列举出四甲氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基丙氧基硅烷、三甲基丁氧基硅烷等。
作为烷基硅酸酯化合物，可列举出下述式（2）的化合物。
R3O[Si（OR5）（OR6）O]zR4···（2）
其中，R3～R6各自表示碳原子数1～5的烷基，z表示3～20的整数。
作为烷基硅酸酯化合物，可列举出甲基硅酸酯、乙基硅酸酯、异丙基酸酯、正丙基硅酸酯、正丁基硅酸酯、正戊基硅酸酯、乙酰基硅酸酯等。
利用光固化反应的情况下，作为光聚合引发剂，例如可列举出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶酰、二苯甲酮、对甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、甲基苯基乙醛酸酯、乙基苯基乙醛酸酯、4,4'-双(二甲氨基)二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等羰基化合物；四甲基秋兰姆单硫化物、四甲基秋兰姆二硫化物等硫化物；2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、苯甲酰基二乙氧基氧化膦等。它们可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
利用电子束固化反应的情况下，作为聚合引发剂，例如可列举出二苯甲酮、4,4-双(二乙氨基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、甲基邻苯甲酰基苯甲酸酯、4-苯基二苯甲酮、叔丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮等噻吨酮；二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶酰二甲基缩酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-2-吗啉代(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮等苯乙酮；苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚等苯偶姻醚；2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等酰基氧化膦；甲基苯甲酰基甲酸酯、1,7-双吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等。它们可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
利用热固化反应的情况下，作为热聚合引发剂例如可列举出过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酰、过氧化二异丙苯、叔丁基过氧化氢、异丙苯过氧化氢、过氧化辛酸叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化月桂酰等有机过氧化物；偶氮双异丁腈等偶氮系化合物；前述有机过氧化物中组合N,N-二甲基苯胺、N,N-二甲基对甲苯胺等胺而成的氧化还原聚合引发剂等。前述聚合引发剂也可以组合使用。
聚合引发剂的量相对于聚合性化合物100质量份优选为0.1～10质量份。聚合引发剂的量低于0.1质量份时，聚合难以进行。聚合引发剂的量超过10质量份时，会有固化层发生着色、机械强度降低的情况。
活性能量射线固化性树脂组合物根据需要还可以包含抗静电剂、脱模剂、用于提高抗污性的氟化物等添加剂、微粒或少量溶剂。
活性能量射线固化性树脂组合物是决定固化层与基材薄膜的界面的密合性的重要因素。已知通过活性能量射线固化性树脂组合物浸入基材薄膜的凹凸的锚固效果，提高固化层与基材薄膜的界面的密合性。其浸透性根据活性能量射线固化性树脂组合物的种类不同而不同，通常会有低分子量的单官能单体、2官能单体向基材薄膜的凹凸的浸透性高的倾向。因此，为了使固化层与基材薄膜的界面的密合性提高，优选使用低分子量的单官能单体、2官能单体，根据基材薄膜的种类而适当地选择最合适的单体即可。需要说明的是，低分子量的单官能单体、2官能单体是指分子量为300以下的单官能单体、2官能单体，活性能量射线固化性树脂组合物优选含有7质量%以上的低分子量的成分，进一步优选含有10质量%以上。
活性能量射线固化性树脂组合物通常将多官能（甲基）丙烯酸酯单体与2官能单体、单官能单体组合使用。多官能（甲基）丙烯酸酯单体会有粘度高的倾向，因此会有操作性降低的情况。这种情况下，通过用低粘度的单官能单体、2官能单体进行稀释，能够改良操作性。
为了使固化层与基材薄膜的界面的密合性提高，（甲基）丙烯酸烷基酯类、（甲基）丙烯酸羟基烷基酯类等单官能单体是合适的。另外，也可以使用低粘度的2官能（甲基）丙烯酸烷基酯类、丙烯酰基吗啉、乙烯基吡咯烷酮等粘度调节剂、丙烯酰基异氰酸酯类等。另外，使用丙烯酸系树脂作为基材薄膜的材料时，特别优选使用（甲基）丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯。
（制造装置）
透明薄膜可以使用例如图2所示的制造装置如下所述地制造。
由罐24向表面具有由多个细孔（图示省略）形成的反转微细结构的辊状模具22的表面、和与模具20的旋转同步地沿模具22的表面移动的带状基材薄膜18的粗糙面之间供给活性能量射线固化性树脂组合物21。
在模具22与通过空气压缸26调节了夹持压的夹持辊28之间，夹压基材薄膜18和活性能量射线固化性树脂组合物21，在使活性能量射线固化性树脂组合物21均匀遍布在基材薄膜18与模具22之间的同时，填充至模具22的细孔内。
在模具22与基材薄膜18之间夹持有活性能量射线固化性树脂组合物21的状态下，使用设置在模具22下方的活性能量射线照射装置30，从支撑薄膜17侧对活性能量射线固化性树脂组合物21照射活性能量射线，使活性能量射线固化性树脂组合物21固化，由此形成转印了模具22表面的多个细孔（凹部）的固化层20。
利用剥离辊32剥离表面形成有固化层20的基材薄膜18，由此得到透明薄膜16。
在模具22与基材薄膜18之间供给活性能量射线固化性树脂组合物21，使活性能量射线固化性树脂组合物21固化时，优选模具22的表面为70℃以上。通过为70℃以上，活性能量射线固化性树脂组合物21的粘度下降，变得容易进入具有粗糙面的基材薄膜18的凹部，能够得到充分的密合性。从促进活性能量射线固化性树脂组合物21浸入基材薄膜18的凹凸的锚固效果、提高密合性的观点出发，模具22的温度更高是优选的，更优选为75℃以上，进一步优选为80℃以上。另外，从抑制基材薄膜18的机械强度降低、收缩的观点出发，模具22的温度优选为100℃以下，更优选为95℃以下。
在模具22与基材薄膜18之间夹持有活性能量射线固化性树脂组合物21的状态下，照射活性能量射线直到固化为止期间，通过延长基材薄膜18与活性能量射线固化性树脂组合物21的接触时间，能够促进活性能量射线固化性树脂组合物21浸入基材薄膜18的凹凸的锚固效果、提高密合性。
作为活性能量射线照射装置30，优选高压汞灯、金属卤化物灯等，此时的光照射能量优选为100～10000mJ/cm2。
＜透明薄膜＞
如图3所示，如上所述地得到的透明薄膜16具有基材薄膜18以及形成在基材薄膜18的粗糙面的、具有由多个凸部19构成的微细凹凸结构的固化层20。
多个凸部19优选形成大致圆锥形状、棱锥形状等的多个突起（凸部）以可见光波长以下的间隔排列的所谓蛾眼结构。已知蛾眼结构的折射率从空气的折射率向材料的折射率连续增大，因此是有效的防反射手段。
凸部19的平均周期优选为可见光波长以下即400nm以下，更优选为200nm以下，特别优选为150nm以下。此处，凸部19的平均周期是指：用电子显微镜观察固化层20的截面，测定5处相邻的凸部19间的间隔P（从凸部19的中心到相邻的凸部19的中心的距离），将这些值取平均。
使用多孔阳极氧化铝的模具来形成凸部19时，凸部19的平均周期优选为100nm左右。
从形成凸部19的容易性的观点出发，凸部19的平均周期优选为20nm以上，更优选为25nm以上。
凸部19的高度H与凸部19的底部宽度W之比（H/W）优选为1.0以上，更优选为1.3以上，进一步优选为1.5以上，特别优选为2.0以上。只要H/W为1.0以上，则能够在从可见光区域到近红外线区域的整个区域中抑制为低反射率。从凸部19的机械强度的观点出发，H/W优选为5.0以下。
H优选为100～500nm，更优选为130～400nm，进一步优选为150～400nm。凸部19的高度为100nm以上时，反射率变得充分低，且反射率的波长依赖性小。凸部19的高度为500nm以下时，凸部19的机械强度变得良好。
H和W可以通过用电子显微镜观察固化层20的截面来测定。W是指与形成在凸部19周围的凹部的最底部同一平面（以下记作基准面。）中的宽度。
H是指从前述基准面到凸部19的最顶部的高度。
H/W可以通过适当选择表面具有多孔阳极氧化铝的模具的制造条件、模具的细孔（凹部）内所填充的活性能量射线固化性树脂组合物的粘度（参照日本特开2008-197216号公报）等来调整。
表面具有蛾眼结构的情况下，已知：如果该表面由疏水性材料形成，则基于荷叶效应而得到超憎水性；如果该表面由亲水性材料形成，则得到超亲水性。
固化层20的材料为疏水性时的蛾眼结构表面的水接触角优选为90°以上，更优选为100°以上，特别优选为110°以上。水接触角为90°以上时，水渍不易附着，所以发挥充分的抗污性。另外，水不易附着，因此可以期待防结冰。
固化层20的材料为亲水性时的蛾眼结构表面的水接触角优选为25°以下，更优选为23°以下，特别优选为21°以下。水接触角为25°以下时，附着在表面的污渍可被水洗掉，而且油污不易附着，因此可以发挥抗污性。从抑制固化层20的吸水导致的蛾眼结构的变形、与此相伴的反射率的上升的观点来看，水接触角优选为3°以上。
（表面具有微细凹凸结构的物品）
通过将透明薄膜贴附在各种物品主体而得到表面具有微细凹凸结构的物品。
作为物品主体的材料，可列举出玻璃、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、苯乙烯系树脂、聚酯、纤维素系树脂（三乙酰基纤维素等）、聚烯烃、脂环式聚烯烃等。
作为表面具有微细凹凸结构的物品，可列举出防反射物品（防反射薄膜、防反射膜）、光波导、浮雕全息图（relief hologram）、镜片、偏振分离元件等光学物品；细胞培养片、超憎水性薄膜、超亲水性薄膜等。特别适合于作为防反射物品的用途。作为防反射物品，例如可列举出液晶显示装置、等离子体显示面板、电致发光显示器、阴极管显示装置之类的图像显示装置、计量仪器类之类的显示装置、太阳电池的保护板、透明电极用透明基板等、镜片、橱窗、展示箱、照明的前面板、眼镜等的表面所使用的防反射膜、防反射薄膜或防反射片等。
（密合性）
固化层与基材薄膜的界面的密合性可以基于JIS K5400通过使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验等来评价。关于密合性，在基于JIS K5400的使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验中，附着于基材薄膜的固化层的网格数优选为51以上，更优选为60以上，进一步优选为70以上。只要附着的网格数为51以上，在将表面具有微细凹凸结构的物品用于防反射物品等时，就能够抑制固化层不经意地从基材薄膜剥离。
（作用效果）
对于以上说明的本发明的透明薄膜的制造方法，该制造方法具有：工序（I），在基材薄膜的表面与模具的表面之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物，所述模具具有微细凹凸结构的反转结构；工序（II），对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线使活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成固化层、得到透明薄膜；以及工序（III），将透明薄膜与模具分离，其中，作为基材薄膜，使用具有最大谷深Pv为0.1～3μm、轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下的粗糙面的薄膜，因此固化层浸入基材薄膜的凹凸，通过锚固效果使固化层与基材薄膜的界面的密合性提高。另外，通过固化层完全埋盖基材薄膜的凹凸，能够防止外观缺陷。其结果，能够稳定地制造基材薄膜与固化层的界面的密合性良好、外观品质良好的透明薄膜。
实施例
以下，通过实施例具体说明本发明，但本发明不限于这些。
（多孔阳极氧化铝的细孔）
削去部分多孔阳极氧化铝，在截面蒸镀1分钟铂，使用场发射型扫描电子显微镜（JEOL Ltd.制造、JSM-7400F）在加速电压：3.00kV的条件下观察截面，测定细孔的间隔、细孔的深度。各测定分别对50处进行，求出平均值。
（固化层的凸部）
在固化层的断裂面蒸镀5分钟铂，使用场发射型扫描电子显微镜（JEOLLtd.制造、JSM-7400F）在加速电压：3.00kV的条件下观察截面，测定凸部的平均间隔、凸部的高度。各测定分别对5处进行，求出平均值。
（折射率）
基材薄膜和固化层的折射率使用阿贝折射仪（ATAGO CO.,LTD,制造、NAR-2）来测定。
（表面粗糙度）
基材薄膜表面的最大谷深Pv和轮廓单元的平均宽度RSm基于JIS B0601：2001，使用扫描型白色干涉仪三维轮廓系统“New View6300”（Zygo公司制造）进行观察，联系结合视场而设为4mm×0.5mm大小，由其观察结果得到。
（密合性）
固化层与基材薄膜的界面的密合性基于JIS K5400进行使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验，按照下述基准进行评价。
◎：100个格子全部附着。
○：100个格子中附着的网格数为91～99。
△：100个格子中附着的网格数为51～90。
×：100个格子中附着的网格数为0～50。
（外观）
关于外观，对丙烯酸板两面贴附有透明薄膜的物品用目视检查和光学显微镜来确认，按照下述基准进行评价。
○：缺陷部分所占面积相对于总面积低于1%。
×：缺陷部分所占面积相对于总面积为1%以上。
（模具a的制造方法）
对于将纯度99.99%的铝锭切断为直径：200mm、长度350mm的无压延痕迹的圆筒状铝基材实施抛光研磨处理后，将其在高氯酸/乙醇混合溶液中（体积比：1/4）进行电解研磨，从而镜面化。
工序（a）：
在0.3M草酸水溶液中以直流：40V、温度：16℃的条件对于镜面化了的铝基材进行30分钟阳极氧化。
工序（b）：
将形成有厚度3μm的氧化覆膜的铝基材浸渍在6质量%磷酸/1.8质量%铬酸混合水溶液中，从而去除氧化覆膜。
工序（c）：
在0.3M草酸水溶液中以直流：40V、温度：16℃的条件对于去除了氧化覆膜的铝基材进行30秒钟阳极氧化。
工序（d）：
将形成有氧化覆膜的铝基材浸渍在32℃的5质量%磷酸水溶液中8分钟，从而进行孔径扩大处理。
工序（e）：
在0.3M草酸水溶液中以直流：40V、温度：16℃的条件对于经过孔径扩大处理的铝基材进行30秒钟阳极氧化。
工序（f）：
总计重复4次前述工序（d）和工序（e），最后进行工序（d），得到表面形成有多孔阳极氧化铝的辊状模具a，所述多孔阳极氧化铝具有平均周期：100nm、深度：180nm的大致圆锥形状的细孔。
室温下将模具a在OPTOOLDSX（DAIKIN INDUSTRIES,ltd.制造）的0.1质量%稀释溶液中浸渍10分钟，提起。风干一晚，从而得到用脱模剂处理过的模具a。
（活性能量射线固化性树脂组合物的制备）
制备包含以下组成的活性能量射线固化性树脂组合物A（表1）。
[表1]
Figure BDA0000474421440000251
使活性能量射线固化性树脂组合物A固化而成的厚度5μm的固化层为透明的，折射率为1.51。
制备包含以下组成的活性能量射线固化性树脂组合物B（表2）。
[表2]
Figure BDA0000474421440000261
使活性能量射线固化性树脂组合物B固化而成的厚度5μm的固化层为透明的，折射率为1.52。
（基材薄膜的粗糙化）
准备丙烯酸类薄膜（三菱丽阳株式会社制造、商品名：ACRYPLEN（注册商标）HBK003、厚度：100μm、折射率：1.49、动态粘弹性的损耗因子tanδ：104℃、总透光率：92.6%、雾度：0.63%、波长365nm的光的透过率：91%）。
如图4所示那样，使用包括表面具有由氧化钛形成的凹凸形状的喷磨辊50和配置于喷磨辊50前后的张力辊52、54的刮磨装置，一边使喷磨辊50向基材薄膜18前进方向的反方向旋转，一边将丙烯酸类薄膜的表面粗糙化。通过改变利用张力辊52、54对基材薄膜18施加的张力，得到调节了表面粗糙度的丙烯酸类薄膜。将最大谷深Pv和轮廓单元的平均宽度RSm示于表3。
（实施例1）
使用图2所示的制造装置制造透明薄膜。
作为辊状的模具22，使用前述模具a。
作为活性能量射线固化性树脂组合物21，使用表1所示的活性能量射线固化性树脂组合物A。
作为基材薄膜18，使用具有表3所示的最大谷深Pv和轮廓单元的平均宽度RSm的丙烯酸类薄膜。另外，作为参考记录了最大高度粗糙度Rz（根据JISB0601：2001）的值。
从基材薄膜18侧对活性能量射线固化性树脂组合物A的涂膜照射累计光量1000mJ/cm2的紫外线，进行活性能量射线固化性树脂组合物A的固化。活性能量射线固化性树脂组合物A固化时的模具a表面的温度为70℃。
获得的透明薄膜的凸部的平均周期为100nm，凸部的高度为180nm。将透明薄膜的密合性和外观的评价结果示于表3。
（实施例2～6、比较例1～2）
使用表3所示的物质作为活性能量射线固化性树脂组合物21和基材薄膜18，变更模具22的温度，除此之外，与实施例1同样操作，制造透明薄膜。
将透明薄膜的密合性和外观的评价结果示于表3。
[表3]
产业上的可利用性
本发明的透明薄膜作为防反射物品等是有用的。
附图标记说明
16   透明薄膜
18   基材薄膜
19   凸部（微细凹凸结构）
20   固化层
21   活性能量射线固化性树脂组合物
22   模具
36   细孔（反转结构）

Claims (6)

1.一种透明薄膜，其中，在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层，所述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构，所述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，
在进行基于JIS K5400的使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验时，附着于所述基材薄膜的所述固化层的网格数为51以上。
2.一种透明薄膜的制造方法，其为制造在基材薄膜的表面形成有具有微细凹凸结构的固化层的透明薄膜的方法，该方法具有：
工序（I），在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面与模具的表面之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物，所述模具具有所述微细凹凸结构的反转结构，所述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下；
工序（II），对所述活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线，使所述活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成所述固化层，得到所述透明薄膜；以及
工序（III），将所述透明薄膜与所述模具分离。
3.根据权利要求2所述的透明薄膜的制造方法，其中，在所述工序（II）中，使所述活性能量射线固化性树脂组合物进行固化时的所述模具的表面温度为70℃以上。
4.根据权利要求2所述的透明薄膜的制造方法，其中，所述模具在表面具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构。
5.根据权利要求4所述的透明薄膜的制造方法，其中，所述模具的所述微细凹凸结构为多孔阳极氧化铝。
6.一种基材薄膜，其为在表面形成有固化层的透明薄膜的制造中使用的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜，所述固化层具有微细凹凸结构，
该基材薄膜具有基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下的粗糙面。
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