WO2010100902A1 - フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

　本発明は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを安定して製造できる方法を提供する。本発明の製造方法は、光の透過率が波長１９０～３１０ｎｍの範囲では１０％以下であり、波長３４０～９００ｎｍの範囲では６０％以上である支持フィルム（１７）で支持された基材フィルム（１８）の表面と、表面に反転微細凹凸構造を有するモールド（２２）との間に、波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して重合性化合物の重合を開始できる光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（２１）を挟持する工程と、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（２１）に支持フィルム（１７）側から紫外線を照射し、支持フィルム（１７）で支持された透明フィルム（１６）を得る工程と、透明フィルム（１６）とモールド（２２）とを分離する工程とを有する製造方法である。

Description

フィルムの製造方法

　本発明は、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムおよびその製造方法に関する。
　本願は、２００９年３月３日に日本に出願された特願２００９－０４９８９８号、及び２００９年６月２６日に日本に出願された特願２００９－１５２２６２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　近年、可視光線の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。

　微細凹凸構造を表面に有する物品は、例えば、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを、物品本体の表面に形成することによって得られる。微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムは、例えば、下記の工程（ｉ）～（iii）を有する方法により製造することができる（例えば、特許文献１）。
　（ｉ）表面に微細凹凸構造の反転構造を有し、かつ前記表面が有機系離型剤によって処理されたモールドと、透明フィルムの本体となる基材フィルムとの間に、紫外線硬化性樹脂組成物を挟持する工程。
　（ii）紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射し、前記紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させて微細凹凸構造を有する硬化層を形成し、透明フィルムを得る工程。
　（iii）モールドと透明フィルムとを分離する工程。

　また、モールドとその被加工材料となる高分子樹脂との剥離性の向上を目的として、シリコーンオイル、フッ素系樹脂溶液等の離型剤をモールドに塗布したり、モールドの表面に官能基を導入し、その官能基と離型剤を反応させ、モールド表面を処理したりすることが行われている（特許文献２）。

　しかし、前記（ii）の工程の際に、照射する紫外線によってモールドの表面の有機系離型剤がすぐに劣化、分解してしまい、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを安定して製造することができないことが分かった。
　特に基材フィルムとして、（メタ）アクリル系樹脂からなるフィルム（以下、「アクリルフィルム」という。）またはトリアセチルセルロースフィルムからなるフィルム（以下、「ＴＡＣフィルム」という。）を使用した場合、モールドの表面の有機系離型剤が劣化、分解が顕著となり微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを安定して製造することができないことが分かった。

　また、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法としては、例えば、表面に微細凹凸構造の反転構造を有する、回転するロール状モールドの表面に沿って帯状の基材フィルムを移動させつつ、基材フィルムの表面とロール状モールドの表面との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持させ、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、硬化させて、ロール状モールドの反転構造が転写された硬化層を形成し、透明フィルムを得る方法（ロール・トゥ・ロール法）が知られている（例えば、特許文献３）。

　前記透明フィルムを光学物品に用いる場合、例えば光学物品に前記フィルムを貼着するような場合、物品本体と基材フィルムとの屈折率の差がない、すなわち物品本体と基材フィルムとが同じ材料からなるものであることが好ましい。よって、物品本体の材料が（メタ）アクリル系樹脂の場合、基材フィルムとしては（メタ）アクリル系樹脂からなるフィルム（以下、「アクリルフィルム」という。）が用いられ、物品本体の材料がトリアセチルセルロースの場合、基材フィルムとしてはトリアセチルセルロースからなるフィルム（以下、「ＴＡＣフィルム」という。）が用いられる。

　しかし、アクリルフィルムおよびＴＡＣフィルムは、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる際の温度（例えば、５０～１５０℃）における引張り強度が小さく、伸びが少ない。そのため、ロール・トゥ・ロール法における基材フィルムとしてアクリルフィルムまたはＴＡＣフィルムを用いた場合、硬化層を形成した後の基材フィルムが、基材フィルムにかかるテンションによって破断するという問題がある。

特開２００７－０７６０８９号公報 特開２００７－３２６３６７号公報 特開２００２－１９２５４０号公報

　本発明は、アクリルフィルムまたはＴＡＣフィルム等の基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを安定して製造できる方法を提供する。

　また本発明は、引張り強度が小さい基材フィルムの表面に微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを、破断させることなく連続して製造できる方法、および引張り強度が小さい基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成されているにもかかわらず、破断のない連続したフィルムを提供する。

　本発明の微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、（Ｉ）光の透過率が波長１９０～３１０ｎｍの範囲では１０％以下であり、波長３４０～９００ｎｍの範囲では６０％以上である支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面と、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有し、かつ前記表面が有機系離型剤によって処理されたモールドとの間に、重合性化合物および波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して前記重合性化合物の重合を開始できる光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程と、（II）前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に、前記支持フィルム側から紫外線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化層を形成し、前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムを得る工程と、（III）前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムと、前記モールドとを分離する工程とを有する。

　本発明の微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、７０℃における引張り強度が４０ＭＰａ超である支持フィルムによって裏面側から支持された、７０℃における引張り強度が５ＭＰａ～４０ＭＰａである基材フィルムを、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有する、回転するロール状モールドの表面に沿って移動させつつ、前記基材フィルムの表面とロール状モールドの表面との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持させ、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて、前記反転構造が転写された前記硬化層を形成し、前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムを得ることを特徴とする。

　前記基材フィルムは、（メタ）アクリル系樹脂またはトリアセチルセルロースからなるフィルムであることが好ましい。
　前記基材フィルムと前記支持フィルムとの接着力は、０．００５～５０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。

　本発明の透明フィルムは、支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムであって、前記基材フィルムの７０℃における引張り強度が、５ＭＰａ以上であることを特徴とする。
　前記基材フィルムと前記支持フィルムとの接着力は、０．００５～５０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。
　前記基材フィルムは、（メタ）アクリル系樹脂またはトリアセチルセルロースからなるフィルムであることが好ましい。

　本発明の、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法によれば、（メタ）アクリル系樹脂またはトリアセチルセルロース等の基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを安定して製造できる。

　また本発明の透明フィルムの製造方法によれば、引張り強度が小さい基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを、破断させることなく連続して製造できる。
　本発明の透明フィルムは、引張り強度が小さい基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成されているにもかかわらず、破断のない連続したフィルムである。

基材フィルムにＰＥＴフィルムを有する透明フィルムの両剥離面のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）におけるＣ１ｓスペクトルである。 基材フィルムにＰＥＴフィルムを有する透明フィルムの両剥離面の電子顕微鏡写真である。 ポリエチレンテレフタレートフィルムの透過スペクトルの一例を示すチャートである。 アクリルフィルムの透過スペクトルの一例を示すチャートである。 ＴＡＣフィルムの透過スペクトルの一例を示すチャートである。 表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。 透明フィルムの製造装置の一例を示す概略構成図である。 透明フィルムの一例を示す断面図である。 アクリルフィルムの表面を粗面化する装置の一例を示す概略構成図である。

　本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートまたはメタクリレートを意味し、「（メタ）アクリル」とは、アクリルまたはメタアクリルを意味する。「透明」とは、少なくとも波長４００～１１７０ｎｍの光を透過することを意味する。「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。

＜透明フィルムの製造方法＞
　本発明の、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルム（以下、「微細凹凸構造を表面に有する透明フィルム」を単に「透明フィルム」と記す。）の製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、下記の工程（Ｉ）～（III）を有する。

（Ｉ）光の透過率が波長１９０～３１０ｎｍの範囲では１０％以下であり、波長３４０～９００ｎｍの範囲では６０％以上である支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面と、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有し、かつ前記表面が有機系離型剤によって処理されたモールドとの間に、重合性化合物および波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して前記重合性化合物の重合を開始できる光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程。
　（II）前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に、前記支持フィルム側から紫外線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化層を形成し、前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムを得る工程。
　（III）前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムと、前記モールドとを分離する工程

　また、本発明の透明フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムを、表面に微細凹凸構造の反転構造を有する、回転するロール状モールドの表面に沿って移動させつつ、下記工程（IV）～（VII）を有する。

　（IV）基材フィルムの表面とロール状モールドの表面との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持させる工程。
　（V）活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて、反転構造が転写された硬化層を形成し、支持フィルムによって裏面側から支持された透明フィルムを得る工程。
　（VI）支持フィルムで支持された透明フィルムとロール状モールドとを分離する工程。
　（VII）必要に応じて、基材フィルムの裏面から支持フィルムを剥離する工程。

（支持フィルム）
　支持フィルムは、下記の条件（α）および（β）を満足する透明な樹脂フィルムである。（α）光の透過率が、波長１９０～３１０ｎｍの範囲では１０％以下である。（β）光の透過率が、波長３４０～９００ｎｍの範囲では６０％以上である。

　波長３１０ｎｍ以下の光の透過率が１０％以下であれば、モールドの表面の有機系離型剤を劣化、分解させる波長の光（紫外線）を低減できる。波長１９０～３１０ｎｍの範囲での光の透過率は５％以下が好ましい。
　波長３４０ｎｍ以上の光の透過率が６０％以上であれば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤によって重合性化合物の重合を開始できる。波長３４０～９００ｎｍの範囲で光の透過率は７０％以上が好ましい。

　また、本発明の支持フィルムは、７０℃における引張り強度が４０ＭＰａ超である長尺の樹脂フィルムである。支持フィルムの７０℃における引張り強度が４０ＭＰａ超であれば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる際の温度における基材フィルムの破断を抑えることができる。支持フィルムの７０℃における引張り強度は、４５ＭＰａ以上が好ましく、６０ＭＰａ以上がより好ましい。

（７０℃における引張り強度）
　各フィルムの強度は、引張り試験機（例えば島津製作所社製、ＡＧ－１Ｓ　１０ｋＮ）を用いて算出する。試験方法の一例としてはサンプルを幅約５ｍｍの短冊状に切り出し、有効試験長が２０ｍｍとなるようにチャックで把持する。その後、恒温槽（島津製作所社製、ＴＣＬ－Ｎ２２０）を所定の温度に調整した後、引張り速度４０ｍｍ／ｍｉｎにて測定を行い、応力・歪み曲線を得る。

　前記条件を満足する支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記す。）フィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。また、特定の波長の紫外線を吸収する紫外線吸収剤を含むことで、前記条件を満足する樹脂フィルムであってもよい。

　支持フィルムは、支持フィルムとして要求される強度、価格の点から、ＰＥＴフィルムが好ましい。支持フィルムは、単層フィルムであってもよく、積層フィルムであってもよい。

　図３にＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ：１８８μｍ）の透過スペクトルの一例を示す。図３から明らかなように、ＰＥＴフィルムは、波長３１０ｎｍ以下における光の透過率が１０％以下であり、波長３４０ｎｍ以上における光の透過率が６０％以上である。

（基材フィルム）
　基材フィルムは、７０℃における引張り強度が５ＭＰａ以上の長尺の樹脂フィルムである。好ましくは，７０℃における引張り強度が５ＭＰａ～４０ＭＰａの長尺の樹脂フィルムである。基材フィルムの７０℃における引張り強度が５ＭＰａ以上であれば、支持フィルムを剥離した後の透明フィルムの強度が十分となる。

　基材フィルムは、その裏面に支持フィルムを、粘着剤等を介して貼着することによって、支持フィルムによって裏面側から支持される。
　基材フィルムと支持フィルムとの接着力は、０．００５～５０Ｎ／２５ｍｍが好ましい。接着力が０．００５Ｎ／２５ｍｍ以上であれば、支持フィルムによって基材フィルムが十分に支持される。接着力が５０Ｎ／２５ｍｍ以下であれば、基材フィルムの裏面からの支持フィルムの剥離が容易となる。基材フィルムと支持フィルムとの接着力は、０．０１～１０Ｎ／２５ｍｍがより好ましい。

　基材フィルムと支持フィルムとの接着力は、引張り強度試験テンシロン試験機（例えばＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、テンシロンＲＴＣ－１２１０）に２５ｍｍ×３０ｃｍに切ったサンプルをセットし、１０Ｎのロードセルを用いて、ＪＩＳ　Ｚ０２３７に準拠して、基材フィルムと支持フィルムとの接着力を測定する。支持フィルムの剥離後は、粘着剤は支持フィルム側についてもよいし、基材フィルム側についてもよい。基材フィルム側に粘着剤がついている場合は、粘着剤付きモスアイ（表面に略円錐形状、角錐形状等の複数の突起（凸部）が可視光線の波長以下の間隔で配列した構造）フィルムとして用いることができる。例えば、反射防止をしたい表面、撥水性を付与したい表面、親水性を付与したい表面に、モスアイフィルムを貼ることによって、容易に表面に機能を付与できる。

　基材フィルムとしては、アクリルフィルムまたはＴＡＣフィルムが好ましい。

　図４にアクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＫ００２、厚さ：２００μｍ）の透過スペクトルの一例を示し、図５にＴＡＣフィルム（富士フィルム社製、製品名：Ｔ８０ＳＺ、厚さ：８３μｍ）の透過スペクトルの一例を示す。図４および図５から明らかなように、アクリルフィルムおよびＴＡＣフィルムは、波長３１０ｎｍ以下においても光の透過率が１０％を超えている。

　アクリルフィルムを構成する（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の０～８０質量％と、ゴム含有重合体（Ｂ）の２０～１００質量％とを含む（メタ）アクリル系樹脂組成物（Ｃ）が好ましい。
　ゴム含有重合体（Ｂ）の量が少なすぎると、アクリルフィルムの引張強度が低下する。また、硬化層との密着性が低下する傾向にある。

　（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートに由来する単位の５０～１００質量％と、これと共重合可能な他のビニル単量体に由来する単位の０～５０質量％とからなるホモポリマーまたはコポリマーである。
　炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートとしては、メチルメタクリレートが最も好ましい。
　他のビニル単量体としては、例えば、アルキルアクリレート（メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、プロピルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート等）、アルキルメタクリレート（ブチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、エチルメタクリレート、メチルメタクリレート等）、芳香族ビニル化合物（スチレン、α－メチルスチレン、パラメチルスチレン等）、ビニルシアン化合物（アクリロニトリル、メタクリロニトリル等）等が挙げられる。
　（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、公知の懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等により製造できる。
　（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、三菱レイヨン社製のダイヤナール（登録商標）ＢＲシリーズ、三菱レイヨン社製のアクリペット（登録商標）として入手可能である。

　ゴム含有重合体（Ｂ）は、２段以上で重合されたものであればよく、３段で重合されたものであっても、４段で重合されたものであってもよい。ゴム含有重合体（Ｂ）としては、例えば、特開２００８－２０８１９７号公報、特開２００７－３２７０３９号公報、特開２００６－２８９６７２号公報等に記載のゴム含有重合体が挙げられる。
　ゴム含有重合体（Ｂ）の具体例としては、下記の重合体（Ｂ１）～（Ｂ３）が挙げられる。

　重合体（Ｂ１）：炭素数１～８のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび／または炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ１－１）を重合して得られたゴム重合体の存在下に、炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートを少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ１－２）を重合して得られた重合体。単量体（Ｂ１－１）、（Ｂ１－２）は、それぞれ一括で重合してもよく、２段階以上に分けて重合してもよい。

　重合体（Ｂ２）：（１）炭素数１～８のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび／または炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ２－１）を重合して得られた重合体の存在下に（２）炭素数１～８のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび／または炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる、単量体（Ｂ２－１）とは異なる組成の単量体（Ｂ２－２）を重合してゴム重合体を得て、その存在下に（３）炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートを少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ２－３）を重合して得られた重合体。

　重合体（Ｂ３）：（１）炭素数１～８のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび／または炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ３－１）を重合して重合体を得て、その存在下に（２）炭素数１～８のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ３－２）を重合してゴム重合体を得て、その存在下に（３）炭素数１～８のアルキル基を有するアルキルアクリレートおよび／または炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートおよびグラフト交叉剤を少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ３－３）を重合し、さらに（４）炭素数１～４のアルキル基を有するアルキルメタクリレートを少なくとも構成成分としてなる単量体（Ｂ３－４）を重合して得られた重合体。

　ゴム含有重合体（Ｂ）の質量平均粒子径は、０．０１～０．５μｍが好ましく、光学用アクリルフィルムの透明性の点から、０．３μｍ以下がより好ましく、０．１５μｍ以下がさらに好ましい。

　（メタ）アクリル系樹脂組成物（Ｃ）は、必要に応じて、紫外線吸収剤、安定剤、滑剤、加工助剤、可塑剤、耐衝撃助剤、離型剤等を含んでいてもよい。
　アクリルフィルムの製造方法としては、例えば、公知の溶融流延法、Ｔダイ法、インフレーション法等の溶融押出法等が挙げられ、経済性の点から、Ｔダイ法が好ましい。
　アクリルフィルムの厚さは、フィルム物性の点から、１０～５００μｍが好ましく、１５～４００μｍがより好ましく、２０～３００μｍがさらに好ましい。

　ＴＡＣフィルムとしては、光学用に市販されているＴＡＣフィルムが挙げられる。
　ＴＡＣフィルムの厚さは、フィルム物性の点から、１０～５００μｍが好ましく、１５～４００μｍがより好ましく、２０～３００μｍがさらに好ましい。

　また本発明の透明フィルムを屋外で使用する際などには、基材フィルムにも十分な耐候性が求められる。耐候性を確かめる手段として屋外暴露を実施しても構わないが、サンシャインウェザーメーター（以下ＳＷＯＭと省略、例えばスガ試験機社製、機種名：Ｓ８０）試験を行うことがより効率的である。ＳＷＯＭ試験は、６６０時間行えば十分である。その際の条件としては、例えば以下が挙げられる。
　条件：ＢＰＴブラックパネル温度６３±３℃、槽内湿度５０±５％、降雨１２０分の内１８分、サイクル７８時間。

　前述したように、透明フィルム作製時の紫外線による離型剤の分解を抑制することや、基材フィルムの破断を回避するためには、例えばＰＥＴフィルムを用いることができる。そこで基材フィルムとしてＰＥＴフィルム（三菱樹脂（株）製ＷＥ９７Ａ、厚さ３８μｍ）を使用し、前記ＰＥＴフィルムの表面上に微細凹凸構造を有する硬化皮膜を形成させた透明フィルムを作製し、ＳＷＯＭ試験を行った。
　その結果、３９０時間経過の時点で目視で微細凹凸構造を有する硬化皮膜が、ＰＥＴフィルムから剥がれていることが認められた。

　さらにこの原因を解明するために、剥離面の解析を行った。剥がれた両面（微細凹凸構造を有する硬化皮膜側とＰＥＴフィルム側）を、Ｘ線光電子分光法（ＶＧ社製ＥＳＣＡ　ＬＡＢ２２０ｉＸＬ）により、２００ＷモノクロＸ線源（ＡｌＫα）、Ｐａｓｓ　Ｅｎｅｒｇｙ　２００ｅＶの条件で測定した。
　その結果、両面の原子百分率が一致した。さらに図１に示すようにＣ１ｓスペクトルがＰＥＴと類似していた。

　また、両剥離面を、電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ－７４００Ｆ）を用いて、加速電圧３．００ｋＶの条件で観察した。その結果、図２に示すように両剥離面とも同じ形状となっていた。

　以上の結果から、本剥離要因はＰＥＴフィルムの凝集剥離であると推定できる。すなわち、ＰＥＴが耐候性試験により、劣化、脆化し、剥離したものと言える。

　一方、基材フィルムとしてアクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＫ００３、厚さ：１００μｍ）の表面を粗面化したものを用い、その上に微細凹凸構造を有する硬化皮膜を形成させた透明フィルムについて、同様のＳＷＯＭ試験を行ったところ、６６０時間経過後においても剥離は認められなかった。
　従って、耐候性の観点からも、基材フィルムとしてアクリルフィルムやＴＡＣフィルムを使用することが好適である。

　なお、基材フィルムと微細凹凸構造を有する硬化皮膜との密着性を向上させるために、基材表面を粗面化することが好ましい。基材フィルムの粗面化方法としては、例えば、ブラスト処理、エンボス加工、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
　ブラスト処理とは、基材フィルムの表面を削り、凹凸形状を形成する方法である。ブラスト処理としては、例えば、基材フィルムの表面に砂をあてて表面を削るサンドブラスト、鋭角な針等で基材フィルムの表面を引掻き凹凸形状を付与するスクラッチブラスト、ヘアーライン等が挙げられる。
　エンボス加工とは、溶融状態の熱可塑性樹脂を鏡面ロールとエンボスロールとで挟み込み、その後、冷却して凹凸形状を形成する方法である。
　コロナ処理とは、高周波電源により供給される高周波・高電圧出力を放電電極－処理ロール間に印加することでコロナ放電が発生させ、コロナ放電下に基材フィルムを通過させ表面改質する方法である。
　プラズマ処理とは、真空中でガスを、高周波電源等をトリガーとして励起させ、反応性の高いプラズマ状態にした後、基材フィルムに触れさせることにより表面改質する方法である。
　粗面化方法としては、算術平均粗さＲａを大きくしやすい点から、ブラスト処理、エンボス加工が好ましく、深く、緻密な凹凸形状を形成できる点から、スクラッチブラスト、ヘアーラインがより好ましい。
　粗面化にされた算術平均粗さＲａは０．０６～０．４μｍが好ましく、より好ましくは０．０９～０．４μｍである。算術平均粗さＲａは０．０６μｍ以上であれば、基材フィルムの表面の凹凸が十分に深くなり、硬化層との十分な密着性が得られる。算術平均粗さＲａが０．４μｍ以下であれば、基材フィルムの表面の凹凸が深くなりすぎず、基材フィルムの強度の低下が抑えられる。基材フィルムの最大高さＲｙは、３．０～８．０μｍが好ましく、４．０～８．０μｍがより好ましい。最大高さＲｙが３．０μｍ以上であれば、硬化層との密着性がさらに向上する。最大高さＲｙが８．０μｍ以下であれば、基材フィルムの強度の低下がさらに抑えられる。　
　外部ヘイズは、３．０～２０．０％が好ましく、６．０～１２．０％がより好ましい。外部ヘイズはＪＩＳ　Ｋ７１３６の規定に準拠するものであり、下記式（１）により算出される。
　外部ヘイズ＝表面が粗面化された基材フィルムのヘイズ－表面が粗面化される前の基材フィルムのヘイズ　・・・（１）
　外部ヘイズが３．０％以上であれば、基材フィルムの表面の凹凸が十分に深くなり、硬化層との密着性がさらに向上する。外部ヘイズが１２．０％以下であれば、基材フィルムの表面の凹凸が深くなりすぎず、基材フィルムの強度の低下がさらに抑えられる

（モールド）
　モールドは、最終的に得られる透明フィルムの表面の微細凹凸構造に対応する反転構造（以下、反転微細凹凸構造と記す。）をモールド本体の表面に有し、かつ前記表面が有機系離型剤によって処理されたものである。

　モールド本体の材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
　モールド本体の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。

　ロール状モールドは、円筒状または円柱状のモールド本体の表面に微細凹凸構造を形成したものであってもよく、平板状またはシート状のモールド本体の表面に微細凹凸構造を形成し、これを円筒状に丸めたものであってもよい。

　モールドの作製方法としては、例えば、下記の方法（Ｘ）または（Ｙ）が挙げられる。モールドの大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法（Ｘ）が好ましい。
　（Ｘ）アルミニウムからなるモールド本体の表面に、複数の細孔（凹部）を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
　（Ｙ）モールド本体の表面にリソグラフィ法、電子線描画法、レーザー光干渉法等によって微細凹凸構造を直接形成する方法。

　方法（Ｘ）としては、下記の工程（ａ）～（ｅ）を有する方法が好ましい。
　（ａ）アルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
　（ｂ）酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
　（ｃ）アルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
　（ｄ）細孔の径を拡大させる工程。
　（ｅ）前記工程（ｃ）と工程（ｄ）とを繰り返し行う工程。

　工程（ａ）：
　図６に示すように、アルミニウム３４を陽極酸化すると、細孔３６を有する酸化皮膜３８が形成される。
　アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光線を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
　電解液としては、シュウ酸、硫酸等が挙げられる。

　シュウ酸を電解液として用いる場合：
　シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
　化成電圧が３０～６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても、規則性が低下する傾向にある。
　電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。

　硫酸を電解液として用いる場合：
　硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
　化成電圧が２５～３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても、規則性が低下する傾向がある。
　電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。

　工程（ｂ）：
　図６に示すように、酸化皮膜３８を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点４０にすることで細孔の規則性を向上することができる。

　酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。

　工程（ｃ）：
　図６に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム３４を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３６を有する酸化皮膜３８が形成される。
　陽極酸化は、工程（ａ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。

　工程（ｄ）：
　図６に示すように、細孔３６の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して、陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
　細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。

　工程（ｅ）：
　図６に示すように、工程（ｃ）の陽極酸化と、工程（ｄ）の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３６を有する、陽極酸化アルミナ（アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト））が形成され、表面に反転微細凹凸構造を有するモールド２２が得られる。
　繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された硬化層の反射率低減効果は不十分である。

　細孔３６の形状としては、略円錐形状、角錐形状等が挙げられる。
　細孔３６間の平均周期は、可視光線の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。細孔３６間の平均周期は、２５ｎｍ以上が好ましい。

　細孔３６の深さは、１００～５００ｎｍが好ましく、１５０～４００ｎｍがより好ましい。
　細孔３６のアスペクト比（細孔の深さ／細孔の開口部の幅）は、１．５以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。
　図６に示すような細孔３６を転写して形成された硬化層２０の表面は、いわゆるモスアイ構造となる。

　モールド２２の表面は、硬化層との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、離型性に優れる点、モールドとの密着性に優れる点から、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が好ましい。フッ素化合物の市販品としてはフルオロアルキルシラン、ダイキン工業社製の「オプツール」シリーズが挙げられる。

（有機系離型剤）
　有機系離型剤は、紫外線により劣化、分解しやすく、光の波長が低くなればなるほど劣化、分解は顕著となる。
　有機系離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、離型性に優れる点、モールドとの密着性に優れる点から、加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が好ましい。フッ素化合物の市販品としてはフルオロアルキルシラン、ダイキン工業社製の「オプツール」シリーズ等が挙げられる。

（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
　活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
　重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。

　ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
　単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｉ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α－メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

　多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（３－（メタ）アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２－ビス（３－（メタ）アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４－ビス（３－（メタ）アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

　カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。

　オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。

　非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
　活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。

　アルコキシシラン化合物としては、下記式（２）の化合物が挙げられる。
　Ｒ^１ _ｘＳｉ（ＯＲ^２）_ｙ　・・・（２）
　ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ炭素数１～１０のアルキル基を表し、ｘ、ｙは、ｘ＋ｙ＝４の関係を満たす整数を表す。

　アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ－ｉ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン、テトラ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラ－ｔ－ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。

　アルキルシリケート化合物としては、下記式（３）の化合物が挙げられる。
　Ｒ^３Ｏ［Ｓｉ（ＯＲ^５）（ＯＲ^６）Ｏ］_ｚＲ^４　・・・（３）
　ただし、Ｒ^３～Ｒ^６は、それぞれ炭素数１～５のアルキル基を表し、ｚは、３～２０の整数を表す。

　アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ－プロピルシリケート、ｎ－ブチルシリケート、ｎ－ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。

　光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して重合性化合物の重合を開始できるものを用いる。
　波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して重合性化合物の重合を開始できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ－メトキシベンゾフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、α，α－ジメトキシ－α－フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４'－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド、チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４、８１９、２０２２、２１００等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

　電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４－フェニルベンゾフェノン、ｔ－ブチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン、２，４－ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７－ビスアクリジニルヘプタン、９－フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

　熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシオクトエート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。

　重合開始剤の量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１～１０質量部が好ましい。重合開始剤の量が０．１質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が１０質量部を超えると、硬化層が着色したり、機械的強度が低下したりすることがある。

　活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、また少量の溶剤を含んでいてもよい。

（疎水性材料）
　硬化層のモスアイ構造の表面の水接触角を９０°以上にするためには、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。

　フッ素含有化合物：
　フッ素含有化合物としては、下記式（４）で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
　－（ＣＦ_２）_ｎ－Ｘ　・・・（４）
　ただし、Ｘは、フッ素原子または水素原子を表し、ｎは、１以上の整数を表し、１～２０が好ましく、３～１０がより好ましく、４～８が特に好ましい。

　フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。

　フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
　フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。

　フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。

　フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレートが好ましく、下記式（５）の化合物が特に好ましい。
　ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^７）Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ－（ＣＦ_２）_ｐ－Ｘ　・・・（５）
　ただし、Ｒ^７は、水素原子またはメチル基を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは、１～６の整数を表し、１～３が好ましく、１または２がより好ましく、ｐは、１～２０の整数を表し、３～１０が好ましく、４～８がより好ましい。

　フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式（６）の化合物が特に好ましい。
　（Ｒ^ｆ）_ａＲ^８ _ｂＳｉＹ_ｃ　・・・（６）

　Ｒ^ｆは、エーテル結合またはエステル結合を１個以上含んでいてもよい炭素数１～２０のフッ素置換アルキル基を表す。Ｒ^ｆとしては、３，３，３－トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロオクチル基、３－トリフルオロメトキシプロピル基、３－トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。

　Ｒ^８は、炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ^８としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

　Ｙは、水酸基または加水分解性基を表す。
　加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｒ^９Ｃ（Ｏ）Ｏ（ただし、Ｒ^９は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。）等が挙げられる。
　アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７－ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。
　ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。
　Ｒ^９Ｃ（Ｏ）Ｏとしては、ＣＨ_３Ｃ（Ｏ）Ｏ、Ｃ_２Ｈ_５Ｃ（Ｏ）Ｏ等が挙げられる。

　ａ、ｂ、ｃは、ａ＋ｂ＋ｃ＝４であり、かつａ≧１、ｃ≧１を満たす整数を表し、ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝３が好ましい。

　フッ素含有シランカップリング剤としては、３，３，３－トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３－トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル－３，３，３－トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。

　フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。

　フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数２～１０のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３－［オメガ－フルオロアルキル（Ｃ_６～Ｃ_１１）オキシ］－１－アルキル（Ｃ_３～Ｃ_４）スルホン酸ナトリウム、３－［オメガ－フルオロアルカノイル（Ｃ_６～Ｃ_８）－Ｎ－エチルアミノ］－１－プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル（Ｃ_１１～Ｃ_２０）カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸（Ｃ_７～Ｃ_１３）またはその金属塩、パーフルオロアルキル（Ｃ_４～Ｃ_１２）スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、Ｎ－プロピル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル（Ｃ_６～Ｃ_１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル（Ｃ_６～Ｃ_１０）－Ｎ－エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル（Ｃ_６～Ｃ_１６）エチルリン酸エステル等が挙げられる。

　フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル（Ｃ_６～Ｃ_１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。

　フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。

　フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
　ポリ（オキシアルキレン）基としては、下記式（７）で表される基が好ましい。
　－（ＯＲ^１０）_ｑ－　・・・（７）
　ただし、Ｒ^１０は、炭素数２～４のアルキレン基を表し、ｑは、２以上の整数を表す。Ｒ^１０としては、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）－等が挙げられる。

　ポリ（オキシアルキレン）基は、同一のオキシアルキレン単位（ＯＲ^１０）からなるものであってもよく、２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ^１０）からなるものであってもよい。２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ^１０）の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。

シリコーン系化合物：
　シリコーン系化合物としては、（メタ）アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
　（メタ）アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン（ジ）（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（親水性材料）
　硬化層のモスアイ構造の表面の水接触角を２５°以下にするためには、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
　４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの１０～５０質量％、
　２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの３０～８０質量％、
　単官能モノマーの０～２０質量％の合計１００質量％からなる重合性化合物。

　４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸のモル比１：２：４の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０、ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０Ｋ、ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９、ＥＢＥＣＲＹＬ８２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８３０１、ＫＲＭ８２００）、ポリエーテルアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ８１）、変性エポキシアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６）、ポリエステルアクリレート類（ダイセル・サイテック社製：ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１１、ＥＢＥＣＲＹＬ８１２、ＥＢＥＣＲＹＬ１８３０、ＥＢＥＣＲＹＬ８４５、ＥＢＥＣＲＹＬ８４６、ＥＢＥＣＲＹＬ１８７０）等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、５官能以上の多官能（メタ）アクリレートがより好ましい。

　４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合は、１０～５０質量％が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、２０～５０質量％がより好ましく、３０～５０質量％が特に好ましい。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合が１０質量％以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの割合が５０質量％以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。

　２官能以上の親水性（メタ）アクリレートとしては、アロニックスＭ－２４０、アロニックスＭ２６０（東亞合成社製）、ＮＫエステルＡＴ－２０Ｅ、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学社製）等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、６～４０が好ましく、９～３０がより好ましく、１２～２０が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が６以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が４０以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。

　２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合は、３０～８０質量％が好ましく、４０～７０質量％がより好ましい。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合が３０質量％以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの割合が８０質量％以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。

　単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
　親水性単官能モノマーとしては、Ｍ－２０Ｇ、Ｍ－９０Ｇ、Ｍ－２３０Ｇ（新中村化学社製）等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
　また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。

　単官能モノマーの割合は、０～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、部材と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が２０質量％以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートまたは２官能以上の親水性（メタ）アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。

　単官能モノマーは、１種または２種以上を（共）重合した低重合度の重合体として、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に０～３５質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、Ｍ－２３０Ｇ（新中村化学社製）等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの４０／６０共重合オリゴマー（ＭＲＣユニテック社製、ＭＧポリマー）等が挙げられる。

（製造装置）
　透明フィルムは、例えば、図７に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
　複数の凹部（図示略）からなる反転微細構造を表面に有するロール状のモールド２２と、モールド２２の表面に沿って移動する、帯状の支持フィルム１７によって裏面側から支持された帯状の基材フィルム１８との間に、タンク２４から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１を供給する。

　モールド２２と、空気圧シリンダ２６によってニップ圧が調整されたニップロール２８との間で、支持フィルム１７で支持された基材フィルム１８および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１を、基材フィルム１８とモールド２２との間に均一に行き渡らせると同時に、モールド２２の凹部内に充填する。

　モールド２２と基材フィルム１８との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１が挟まれた状態で、モールド２２の下方に設置された活性エネルギー線照射装置３０を用い、支持フィルム１７側から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１を硬化させることによって、モールド２２の表面の複数の凹部が転写された硬化層２０を形成する。
　活性エネルギー線照射装置３０としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００～１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

　剥離ロール３２により、表面に硬化層２０が形成された基材フィルム１８を支持フィルム１７とともに剥離することによって、支持フィルム１７で支持された透明フィルム１６を得る。
　必要に応じて、基材フィルム１８の裏面から支持フィルム１７を剥離する。

（微細凹凸構造）
　以上のようにして得られる透明フィルム１６は、図８に示すように、基材フィルム１８と、基材フィルム１８の表面に形成された、複数の凸部１９からなる微細凹凸構造を有する硬化層２０とを有する。

　複数の凸部１９は、略円錐形状、角錐形状等の複数の突起（凸部）が可視光線の波長以下の間隔で配列した、いわゆるモスアイ構造を形成していることが好ましい。モスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで、有効な反射防止の手段となることが知られている。

　凸部１９間の平均周期は、可視光線の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が特に好ましい。ここで、凸部１９間の平均周期とは、硬化層２０の断面を電子顕微鏡で観察し、隣接する凸部１９間の間隔Ｐ（凸部１９の中心から隣接する凸部１９の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
　陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部１９を形成した場合、凸部１９間の平均周期は１００ｎｍ程度となり好ましい。

　また、凸部１９間の平均周期は、凸部１９の形成のしやすさの点から、２５ｎｍ以上が好ましい。また、凸部１９間の平均周期は、光の回折による高入射角の光の取り込み効果が期待できる点から、８０ｎｍ以上が好ましく、１３０ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上が特に好ましい。太陽電池に入射する光は、時間や季節によって大きく変わるため、光の回折による高入射角の光の取り込み効果も期待できる透明フィルム１６は、太陽電池の保護板、透明電極用透明基板等の反射防止フィルムとしてとりわけ有用である。

　凸部１９の高さＨと凸部１９の底部の幅Ｗとの比（Ｈ／Ｗ）は、１．５以上であり、２．０以上が好ましく、３．０以上がさらに好ましい。Ｈ／Ｗが１．５以上であれば、可視光線領域から近赤外線領域の全域において反射率を低く抑えることができる。Ｈ／Ｗは、凸部１９の機械的強度の点から、５．０以下が好ましい。

　Ｈは、１００～５００ｎｍが好ましく、１５０～４００ｎｍがより好ましい。凸部１９の高さが１００ｎｍ以上であれば、反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部１９の高さが５００ｎｍ以下であれば、凸部１９の機械的強度が良好となる。

　ＨおよびＷは、硬化層２０の断面を電子顕微鏡で観察することによって測定できる。
　Ｗは、凸部１９の周囲に形成される凹部の最底部と同一平面（以下、基準面と記す。）における幅とする。
　Ｈは、前記基準面から凸部１９の最頂部までの高さとする。

　Ｈ／Ｗは、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造条件、前記モールドの細孔（凹部）内に充填される活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度（特開２００８－１９７２１６号公報参照）等を適宜選択することにより、調整できる。

　硬化層２０の屈折率と基材フィルム１８の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、硬化層２０と基材フィルム１８との界面における反射が抑えられる。

　表面にモスアイ構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。

　硬化層２０の材料が疎水性の場合のモスアイ構造の表面の水接触角は、９０゜以上が好ましく、１００゜以上がより好ましく、１１０゜以上が特に好ましい。水接触角が９０゜以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。

　硬化層２０の材料が親水性の場合のモスアイ構造の表面の水接触角は、２５゜以下が好ましく、２３゜以下がより好ましく、２１゜以下が特に好ましい。水接触角が２５゜以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。前記水接触角は、硬化層２０の吸水によるモスアイ構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、３゜以上が好ましい。

（微細凹凸構造を表面に有する物品）
　透明フィルムを各種物品本体に貼着することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品が得られる。
　物品本体としては、少なくとも透明フィルムが貼着される面が、基材フィルムであるアクリルフィルムまたはＴＡＣフィルムと同じ種類の材料または同程度の屈折率を有する材料で構成されているものが好ましい。
　微細凹凸構造を表面に有する物品としては、反射防止物品、撥水用途物品、細胞培養基材、親水用途物品、建材用途等が挙げられる。

（作用効果）
　以上説明した本発明の透明フィルムの製造方法にあっては、（Ｉ）光の透過率が波長１９０～３１０ｎｍの範囲では１０％以下であり、波長３４０～９００ｎｍの範囲では６０％以上である支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面と、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有し、かつ前記表面が有機系離型剤によって処理されたモールドとの間に、重合性化合物および波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して前記重合性化合物の重合を開始できる光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程と、（II）前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に、前記支持フィルム側から紫外線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化層を形成し、前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムを得る工程と、（III）前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムと、前記モールドとを分離する工程とを有し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に支持フィルム側から紫外線を照射している。
　そのため、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に照射される、重合性化合物の重合に必要な波長３４０ｎｍ以上の光を過度に低減させることなく、モールドの表面に到達する、有機系離型剤を劣化、分解させる波長３１０ｎｍ以下の光を低減できる。その結果、アクリルフィルムまたはＴＡＣフィルム等の基材フィルム表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを、安定して製造できる。

　さらに説明した本発明の透明フィルムの製造方法にあっては、いわゆるロール・トゥ・ロール法によって、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する際に、７０℃における引張り強度が５ＭＰａ～４０ＭＰａである基材フィルムを、７０℃における引張り強度が４０ＭＰａ超である支持フィルムによって裏面側から支持しているため、引張り強度が小さい基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを、破断させることなく連続して製造できる。

＜透明フィルム＞
　本発明の透明フィルムは、支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムである。

　基材フィルムは、７０℃における引張り強度が５ＭＰａ以上の長尺の樹脂フィルムである。好ましくは，７０℃における引張り強度が５ＭＰａ～４０ＭＰａの長尺の樹脂フィルムである。基材フィルムとしては、アクリルフィルムまたはＴＡＣフィルムが好ましい。

　支持フィルムは、好ましくは７０℃における引張り強度が４０ＭＰａ超である長尺の樹脂フィルムである。支持フィルムとしては、ＰＥＴフィルムが好ましい。
　基材フィルムと支持フィルムとの接着力は、０．００５～５０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。

　本発明の透明フィルムにあっては、７０℃における引張り強度が５ＭＰａ以上である基材フィルムを支持フィルムによって裏面側から支持しているため、引張り強度が小さい基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成されているにもかかわらず、破断のない連続したフィルムとなる。

　以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（１）まず、基材フィルムの種類によって、有機系離型剤に対する紫外線の影響がどのように変化するのかを調べた。

（モールドａ）
　５０ｍｍ角のアルミニウム板（純度９９．９９％）を鏡面研磨した。
　工程（ａ）：
　前記アルミニウム板について、４．５質量％シュウ酸水溶液中で、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で６時間陽極酸化を行った。
　工程（ｂ）：
　酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、７０℃の６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。

　工程（ｃ）：
　前記アルミニウム板について、２．７質量％シュウ酸水溶液中で、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
　工程（ｄ）：
　酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、３２℃の５質量％リン酸水溶液に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
　工程（ｅ）：
　前記工程（ｃ）および工程（ｄ）を合計で５回繰り返し、平均周期：１００ｎｍ、深さ：２４０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成された平板状のモールドａを得た。

　モールドａを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に室温で１０分間浸漬し、引き上げた。モールドａを一晩風乾して、有機系離型剤で処理されたモールドａを得た。

（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ）
　コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸のモル比１：２：４の縮合反応混合物の４５質量部、
　１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（大阪有機化学工業社製）の４５質量部、
　ラジカル重合性シリコーンオイル（信越化学工業社製、Ｘ－２２－１６０２）の１０質量部、
　１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）１８４、波長３４０ｎｍ以上に吸収波長域を有する。）の３質量部、
　ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド（チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、イルガキュア（登録商標）８１９、波長３４０ｎｍ以上に吸収波長域を有する。）の０．２質量部
　を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを得た。

（転写試験）
　有機系離型剤で処理され、必要に応じて紫外線照射処理を施したモールドａの表面に、紫外線硬化性樹脂組成物Ａを置き、ＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００　、厚さ：１８８μｍ）でラミネートし、フィルム上から８００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。その後、フィルムとモールドとを剥離させた。
　以上の操作を繰り返し、フィルムとモールドとが剥離困難になるまで繰り返し、その段階における操作の繰り返し回数を転写回数とした。

〔試験例１〕
　有機系離型剤で処理されたモールドａについて、紫外線照射処理を施すことなく、前記転写試験を実施した。結果を表１に示す。

〔試験例２〕
　有機系離型剤で処理されたモールドａの表面に、ＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ：１８８μｍ）越しで８００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線を照射した。前記照射を合計で５００回繰り返した。
　紫外線照射処理を施したモールドａについて、前記転写試験を実施した。結果を表１に示す。

〔試験例３〕
　有機系離型剤で処理されたモールドａの表面に、ＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ：１８８μｍ）を置き、フィルム上からＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ：１８８μｍ）越しで８００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線を照射した。前記照射を合計で５００回繰り返した。
　紫外線照射処理を施したモールドａについて、前記転写試験を実施した。結果を表１に示す。

〔試験例４〕
　有機系離型剤で処理されたモールドａの表面に、アクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＫ００２、厚さ：２００μｍ）を置き、フィルム上からＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ：１８８μｍ）越しで８００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線を照射した。前記照射を合計で５００回繰り返した。
　紫外線照射処理を施したモールドａについて、前記転写試験を実施した。結果を表１に示す。

　表１の結果から明らかなように、アクリルフィルムは紫外線をほとんど低減できないため、アクリルフィルムの上から紫外線照射処理を施したモールドは、有機系離型剤の劣化、分解が著しく、基材フィルムなしで紫外線照射処理を施したモールドと何ら変わりがなかった。
　一方、ＰＥＴフィルムの上から紫外線照射処理を施したモールドは、有機系離型剤の劣化、分解が抑えられ、紫外線照射処理を施していないモールドに近い状態であった。

（２）透明フィルムの製造：
　ついで、透明フィルムの製造を実施し、評価を行った。

（陽極酸化アルミナの細孔）
　陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを１分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ－７４００Ｆ）を用いて、加速電圧：３．００ｋＶの条件にて断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ５０点について行い、平均値を求めた。

（硬化層の凸部）
　硬化層の破断面にプラチナを５分間又は１０分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、ＪＳＭ－７４００Ｆ）を用いて、加速電圧：３．００ｋＶの条件にて断面を観察し、凸部の平均間隔、凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ５点について行い、平均値を求めた。

（引張り強度）
　各フィルムの７０℃における引張り強度の測定には、引張り試験機（島津製作所社製、ＡＧ－１Ｓ　１０ｋＮ）を用いた。サンプルを幅約５ｍｍの短冊状に切り出し、有効試験長が２０ｍｍとなるようにチャックで把持した。その後、恒温槽（島津製作所社製、ＴＣＬ－Ｎ２２０）にて７０℃に調整した後、引張り速度４０ｍｍ／ｍｉｎにて測定を行い、応力・歪み曲線を得て、７０℃における引張り強度を求めた。

（接着力）
　基材フィルムと支持フィルム間の接着力の測定には、引張り強度試験テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、テンシロンＲＴＣ－１２１０）を用いた。２５ｍｍ×３０ｃｍに切った透明フィルムをセットし、１０Ｎのロードセルを用いて、ＪＩＳ　Ｚ０２３７に準拠して、基材フィルムと支持フィルムとの接着力を測定した。

（反射率）
　分光光度計（日立製作所社製、Ｕ－４０００）を用い、入射角：５°、波長３８０～７８０ｎｍの範囲で硬化層の表面の相対反射率を測定した。

（モールドｂ）
　純度９９．９％のアルミニウムインゴットに鍛造処理を施して、直径：２００ｍｍ、長さ３５０ｍｍに切断した圧延痕のない平均結晶粒径：４０μｍの円筒状アルミニウム原型に、羽布研磨処理を施した後、これを過塩素酸／エタノール混合溶液中（体積比：１／４）で電解研磨し、鏡面化した。

　工程（ａ）：
　前記アルミニウム原型について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で３０分間陽極酸化を行った。
　工程（ｂ）：
　厚さ３μｍの酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に浸漬して、酸化皮膜を除去した。

　工程（ｃ）：
　前記アルミニウム原型について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流：４０Ｖ、温度：１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
　工程（ｄ）：
　酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、３０℃の５質量％リン酸水溶液に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
　工程（ｅ）：
　前記工程（ｃ）および工程（ｄ）を合計で５回繰り返し、平均周期：１００ｎｍ、深さ：２００ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状のモールドｂ及びｃを得た。

　モールドｃの微細凹凸構造を目視確認したところ、結晶粒界のマクロな凹凸は確認できなかった。

　モールドｂ及びｃを、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売社製）の０．１質量％希釈溶液に室温で１０分間浸漬し、引き上げた。モールドｂを一晩風乾して、有機系離型剤で処理されたモールドｂ及びｃを得た。

〔実施例１〕
　図７に示す製造装置を用いて、透明フィルムを製造した。
　ロール状のモールド２２としては、前記モールドｂを用いた。
　活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２１としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａを用いた。
　支持フィルム１７で支持された基材フィルム１８としては、アクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＫ００２、厚さ：５０μｍ）の裏面に、ＰＥＴフィルム（サンエー化研社製、商品名：ＳＡＴ１１６、厚さ：３８μｍ）を貼り合わせたものを用いた。なお、アクリルフィルムは図９に示すような、表面に酸化チタンから成る凹凸形状を有するブラシロール５０と、ブラシロール５０の前後に配置されたテンションロール５２、５４とを有するスクラッチブラスト装置を用い、ブラストロール５０をアクリルフィルム１８の進行方向とは逆方向に回転させながら、アクリルフィルムの表面を粗面化したものを用いた。前記装置は、テンションロール５２、５４によってアクリルフィルム１８にかかるテンションを変えることによって表面粗さを調整でき、前記アクリルフィルムの算術平均粗さＲａ０．１３４μｍ、最大高さＲｙ５．３５μｍ（走査型白色干渉計３次元プロファイラーシステム「Ｎｅｗ　Ｖｉｅｗ６３００」：Ｚｙｇｏ社製を用いて算出）および外部ヘイズ９．１％（ＪＩＳ　Ｋ７１３６に準拠したヘイズメーター：スガ試験機社製を用いて測定）とした。
　支持フィルム１７側から、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの硬化を行った。
　５００ｍの透明フィルムを連続的に、かつ安定的に製造できた。
　得られた透明フィルムの凸部間の平均周期は１００ｎｍであり、凸部の高さは２００ｎｍであり、波長３８０～７００ｎｍの反射率は０．１～０．３％であった。

　得られた前記透明フィルムの耐候性をＳＷＯＭ試験によって調べた。
　前記ＳＷＯＭ試験は、ＢＰＴブラックパネル温度６３±３℃、槽内湿度５０±５％、降雨１２０分の内１８分、サイクル７８時間の条件で、６６０時間実施した。
　その結果、微細凹凸構造を有する硬化皮膜の剥がれは確認されなかった。

〔実施例２〕
　アクリルフィルムに離型層付のＰＥＴフィルムをアクリル系の形成剤を用いて貼り合わせたこと、アクリルフィルム表面を粗面化していないこと以外は、実施例１と同様に透明フィルムの製造を行った。その結果、実施例１と同等の透明フィルムを連続的に、かつ安定的に製造できた。

〔実施例３〕
　基材フィルム１８としては、アクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＳ０１０、厚さ：２００μｍ、７０℃における引張り強度：３０ＭＰａ）を用い、その裏面に、支持フィルム１７として粘着剤付きＰＥＴフィルム（サンエー化研社製、商品名：ＳＡＴ－１１６Ｔ、厚さ：３８μｍ、７０℃における引張り強度：４３ＭＰａ）を貼り合わせた。基材フィルム１８と支持フィルム１７との接着力は０．０１５Ｎ／２５ｍｍであった。なお、アクリルフィルムは実施例１と同様の方法で表面を粗面化し、算術平均粗さＲａ０．０６６μｍ、最大高さＲｙ３．４３μｍ、ヘイズ３．６％とした。

　支持フィルム１７側から、積算光量１１００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの塗膜に照射し、活性エネルギー線化性樹脂組成物Ａの硬化を行った。その結果、５００ｍの透明フィルムを連続的に、かつ安定的に製造できた。なお、得られた透明フィルムの凸部間の平均周期は１００ｎｍであり、凸部の高さは２００ｎｍであり、波長３８０～７００ｎｍの反射率は０．１～０．３％であった。

〔実施例４〕
　基材フィルム１８として、アクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＫ００２、厚さ：５０μｍ、７０℃における引張り強度：３０ＭＰａ）を用い、その裏面に、２５μｍの厚さとなるようにアクリル系の支持フィルム１７付き粘着剤（スミロン社製、ＲＡ６００Ｎ）を貼りつけた。支持フィルム１７の７０℃における引張り強度を測定したところ、４５ＭＰａであった。基材フィルム１８と支持フィルム１７との接着力は０．０３０Ｎ／２５ｍｍであった。なお、アクリルフィルム表面は実施例１と同様に表面を粗面化した。
　以下、実施例３と同様に透明フィルムを製造した。その結果、６００ｍの透明フィルムを連続的に製造できた。なお、得られた透明フィルムの凸部間の平均周期は１００ｎｍであり、凸部の高さは２００ｎｍであり、波長３８０～７００ｎｍの反射率は０．１～０．３％であった。

〔比較例１〕
　アクリルフィルムの裏面をＰＥＴフィルムで支持していないアクリルフィルム（三菱レイヨン社製、商品名：アクリプレン（登録商標）ＨＢＳ０１０、厚さ：２００μｍ）以外は、実施例１と同様にして透明フィルムの製造を試みたが、透明フィルムとモールドとの剥離不良が起こり、透明フィルムを製造できなかった。

〔比較例２〕
　アクリルフィルムの裏面をＰＥＴフィルムで支持しない以外は、実施例３と同様にして透明フィルムの製造を試みたが、すぐにアクリルフィルムの破断が発生し、透明フィルムを製造できなかった。

〔比較例３〕
　基材フィルムとしてＰＥＴ（三菱樹脂（株）製ＷＥ９７Ａ、厚さ３８μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で透明フィルム製造した。透明フィルムは、連続的に、かつ安定的に製造できた。
　このフィルムのＳＷＯＭ試験を実施例１と同様に行ったところ、目視において微細凹凸構造を有する硬化皮膜の剥離が認められた。

　本発明の透明フィルムは、反射防止フィルム、撥水フィルム、親水フィルム、建材フィルム、細胞培養基材等として有用である。

　１６　透明フィルム
　１７　支持フィルム
　１８　基材フィルム
　１９　凸部（微細凹凸構造）
　２０　硬化層
　２１　活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
　２２　モールド
　３６　細孔（反転構造）

Claims (7)

1. 　基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、
   　（Ｉ）光の透過率が波長１９０～３１０ｎｍの範囲では１０％以下であり、波長３４０～９００ｎｍの範囲では６０％以上である支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面と、
   　表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有し、かつ前記表面が有機系離型剤によって処理されたモールドとの間に、
   　重合性化合物および波長３４０ｎｍ以上の光を吸収して前記重合性化合物の重合を開始できる光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持する工程と、
   　（II）前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に、前記支持フィルム側から紫外線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて前記硬化層を形成し、前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムを得る工程と、
   　（III）前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムと、前記モールドとを分離する工程とを有する、
   　前記透明フィルムの製造方法。
2. 　基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、
   　７０℃における引張り強度が４０ＭＰａ超である支持フィルムによって裏面側から支持された、７０℃における引張り強度が５ＭＰａ～４０ＭＰａである基材フィルムを、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有する、回転するロール状モールドの表面に沿って移動させつつ、
   　前記基材フィルムの表面とロール状モールドの表面との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟持させ、
   　前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて、前記反転構造が転写された前記硬化層を形成し、前記支持フィルムによって裏面側から支持された前記透明フィルムを得ることを特徴とする
   　前記透明フィルムの製造方法。
3. 　前記基材フィルムが、（メタ）アクリル系樹脂またはトリアセチルセルロースからなるフィルムである、請求項１または２に記載の透明フィルムの製造方法。
4. 　前記基材フィルムと前記支持フィルムとの接着力が、０．００５～５０Ｎ／２５ｍｍである、請求項１または２に記載の透明フィルムの製造方法。
5. 　支持フィルムによって裏面側から支持された基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化層が形成された透明フィルムであって、
   　前記基材フィルムの７０℃における引張り強度が、５ＭＰａ以上である、透明フィルム。
6. 　前記基材フィルムと前記支持フィルムとの接着力が、０．００５～５０Ｎ／２５ｍｍである、請求項５に記載の透明フィルム。
7. 　前記基材フィルムが、（メタ）アクリル系樹脂またはトリアセチルセルロースからなるフィルムである、請求項５または６に記載の透明フィルム。

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