JPS6314340A

JPS6314340A - 可撓性レ−ザ−デイスク，その製造方法及び製造装置

Info

Publication number: JPS6314340A
Application number: JP61159391A
Authority: JP
Inventors: Tokio Kodera; 小寺　時男
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1986-07-07
Filing date: 1986-07-07
Publication date: 1988-01-21

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（発明の技術分野）この発明は可撓性レーザーディスク、その製造方法及び
装置に関し、さらに詳しくは複製工程を著しく簡素化で
きると共に、犬ユ生産が可能な可撓性レーザーディスク
並びにその製造方法及び装置に関する。

（発明の技術的背景とその問題点）レーザーディスク（光ディスク）は、コンピュータの飛
躍的な発展に支えられた＋ｉ報化社会における大容量メ
モリの需要、ポストカラーテレビの目玉商品としてのビ
デオディスクへの熱い眼差し、レーザー技術の進歩、こ
れらに支えられて来た。レーザーディスクの記憶容量。

記憶密度は磁気メモリに比べて圧倒的な大きさであり、
光を用いる目的はここにある。しかし、光メモリは現状
ではＩｔＯＭ型の専用メモリにならざるを得す、この巧
で記録、再生が縁返し可能な磁気メモリとは相補的な関
係にあり、それぞれに通した応用分野がある。

光学式の利点は次の通りである。

■記録密度が高く搬送周波数を上げ得、ｖＴｌ′ｌのト
ラック幅５８μに対し、レーザーディスつては２μ以下
である。

■非接触の再生方式であり、傷やほこりによるドロップ
アウトノイズに強い。接１す１型温生方式では小さなほ
こりでもそれを再生針か引きするため、はこりの見掛は
上の大きさが非常に大きくなる。

■操作性及び保守性が秀れている。接触型ではほこりの
出ない特殊エンベロープが不可欠であるほか、取扱い時
にも手指等の油脂からの保護など細心の１主意か必要と
なる。

■ディスクやピックアップの消耗がなく、長寿命である
。

■再生モートが５様である。

上述のように、レーザーディスクに最も期待されている
特長の一つは安価な犬容■メモリということであり、こ
れはレーザーディスクの製造の容易さによって期待され
ているものである。再生専用型のレーザーディスクもま
たプリフォーマット、プリグループを持つ記録可能型レ
ーザーディスクも１枚の厚盛金型を作って、これからの
大量レプリカを作ることにより、大容量のレーザーディ
スクの生産が容易にできる。

しかしながら、従来のレーザーディスクは、剛性を持っ
た形体となっているため、ＰＭＭＡ　（ポリメチルメタ
クリレート）やＰＣ（ポリカーボネート）を原産４とし
て、噴出成形方法により１枚ずつ作製するのか一般的で
ある。このため、レーザーディスクの複製も工程として
複雑であり、レーザーディスクを木や物品等に貼付ある
いは収納して手軽に江搬、販売することは不可能であっ
た。

このことから、運搬や販売等に便利なソノシート型の可
撓性レーザーディスクの開発と具に、その製造方法及び
製造装置の出現が望まれていた。

（発明の目的）この発明は上記従来技術に伴なう欠点を解決しようとす
るものであり、レーザーディスク原版とレーザーディス
ク形成用フィルムとに加熱冷却を縁り返す必要がなく、
レーサーディスク１１版を劣化させることがないと共に
、運搬等に便利な可撓性レーザーディスクを大量に複製
するに最適なレーザーディスク、その製造方法及び装置
を提供することを目的としている。

（発明の概要）この発明は可撓性レーザーディスクの製造方法に関し、
基材フィルム上に熱成形性を有する紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂が設けられて成るレーザーディスク形
成用フィルムと、電気信号に対応した凹凸が形成されて
いるレーザーディスク原版とを、前記レーザーディスク
形成用フィルムの紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂
が前記レーザーディスク原版に接するようにして、加熱
条件下で圧接させて館記樹脂に凹凸を形成した後、紫外
線または電子線を前記レーザーディスク形成用フィルム
に照射するようにしたものである。

他の発明は可撓性レーザーディスクの製造装置に関し、
基材フィルム上に熱成形性を有する紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂が設けられて成るシート状のレーザー
ディスク形成用フィルムの巻取ロールを装着する給紙装
置と、この給紙装置より繰り出される前記レーザーディ
スク形成用フィルムを加熱圧着する一対のニップローラ
であって、前記一対のニップローラは押付はローラ及び
表面にレーザーディスク原版が設けられたエンボスロー
ラで成っている転写装置と、前記一対のニップローラよ
り送り出されるレーザーディスク形成用フィルムに紫外
線または電子線を照射する照射装置と、前記照射され硬
化されたレーザーディスク形成用フィルムを巻取る巻取
装面とを順次配設したものである。

（発明の実施例）第１図は、この発明に係る可撓性レーザーディスクの製
造工程を示す図である。厚さが１００μ程度の可撓性の
レーザーディスク形成用フィルム１は、基材フィルム２
上に熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または電子線硬化
樹脂３か層設されて構成されている。基材フィルム２と
しては、フィルム状のあらゆる材料が用いられ得る。具
体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸
ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル
酸メチル、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリ
カーボネートなどの重合体プイルム、紙、合成紙、鉄な
どの金属フィルムなどが用いられ得る。さらに、これら
の積層体も用いられ得る。

この発明に爪いる熱成形性を有する紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂３は、常温では固体状であって、基材
フィルム２上に設けられた場合に、表面かヘタつくこと
なく巻取り可能である。したがって、基材フィルム２上
に前記樹脂を設けて成るレーザー−ディスク形成用フィ
ルムｌは巻取って保存することができるため、レーザー
−ディスク原版と接触する直前に、基材フィルム２上に
いちいち前記樹脂層を設ける必要はない。

この発明の可撓性レーザーディスクの記録層に使用可能
な材′Ｘ４としては、ラジカル重合性不飽和基を有する
熱成形性物体であり、次の２種類のものがある。

（１）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し、後述する方法（イ）〜（ニ）
によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いる
ことができる。

■水酸基を有する一ＩＰ−量体二Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシブロピル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フェノ
キシプロビルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−
フェノキシプロビルアクリレートなど。

■カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタク
リル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートな
ど。

■エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレー
トなど。

■アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエ
チルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなと。

■アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタクリ
ルアミ］−、ダイアセトンアクリルアミド、シメヂルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなと。

■スルフォン基を有する単工体、２−アクリルアミドー
２−メヂルプロパンスフオン酸？、（ど。

■イソシアネート基を有する単量体・２．４−１−ルエ
ンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレー
トの１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活
性水素を有するラジアル重合性７１ｉ量体の付加物など
。

■さらに、上記共重合体のガラス転移点を調節したり、
硬化膜の物性を調整したりするために、上記化合物と、
この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合
させることもできる。このような共重合可能な単量体と
しては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリ
レート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルアクリルリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、し−ブチ
ルアクリレート、し−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロへ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘ大シル
メタクリレートなどが挙げられる。

次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述へる
方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、この発明に係る材料を
得ることができる。

（イ）水酸基を有する単量体の重合体、または共重合体
の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ
ル基を有する単量体などを縮合反応させる。

（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する、Ｑ３−
ｆｆｉ体の重合体、または共重合体の場合には前述の水
酸基を有する単量体を縮合反応させる。

（八）エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有するｊＱ−ｉ体もしくはカルホキ
シル基を有する単予体を付加反応させる。

（ニ）水酸基あるいはカルホキシル基を有する１１量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る阜母体あるいはアジリジニル基を有する単量体、ある
いはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エ
ステ′　　　ル単量体の１対１モルの付加物を付加反応
させる。

上記反応を行なうには、微量のパイトロキノンなどの重
合禁止剤を加え、乾ｐデ空気を送りながら行なうことが
好ましい。

（２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレー
ト、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシア
ヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シ
クロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコ
ールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレー
トなどが挙げられる。

このようなラジカル重合性不飽和単量体は、電調１放射
線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるも
のてあって、前述の単量体の他にエチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ポリエチレングリコールシアクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアク
リレート、ヘキサンシオールジメタクリレ−１−、トリ
メヂロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパン
ジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ベンタエ゛リスリトールトリ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート
、エチレングリコールジグリシシルエーテルジアクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテルジアクリレ−ト、プロピレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ、プ
ロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
メタクリレート、ソルビトールテトラグリシシルエーテ
ルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジル
エーテルテトラメタクリレートなどを用いることができ
、前記した共重合体混合物の固型分１００重量部に対し
て、０．１〜１００重量部で用いることが好ましい。ま
た、上記のものは電子線により十分に硬化可能であるが
、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベン
ゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなど
のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類
、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発生す
るものも用いることができる。

レーザーディスク原版４はその表面に、音声や画像等の
電気信号に対応した凹凸が記録情報として形成されてい
る。このレーザーディスク原版４は従来既知の方法によ
って作成することができ、また、レーザーディスク原版
４に形成される記録層は材料表面の凹凸により情報を記
録できるタイプのものである。

上記のようなレーザーディスク形成用フィルム１とレー
ザーディスク原版４とを、加熱ローラなどの加熱圧接手
段である加熱圧接ローラ５ａを介して、フィルム１の紫
外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂３がレーザーディス
ク原版４に接するようにして加熱圧接し、レーザーディ
スク形成用フィルム】の紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂３９表面にレーザーディスク原版４の凹凸模様を
複製する。

この際、加熱ローラの温度は、用いられている前記樹脂
３の種類によって大きく変化するが、５０〜３００℃望
ましくは１００〜２００℃であることが好ましい。さら
に、レーザーディスク形成用フィルム１とレーザーディ
スク原版４とは、０．１Ｋｇ　７ｃｍ以上、望ましくは
１にｇ／ｃｒｎ以上の圧力下に圧接されることが好まし
い。

このようにして、レーザーディスク形成用フィルム１の
紫外線硬化相１指または電子硬化樹脂３の表面に、音声
や画像等の電気信号に対応した凹凸の模様を形成し、レ
ーザーディスク原版４との圧接状態で紫外線硬化樹脂な
らば紫外線を、また電子線硬化樹脂ならば電子線を、そ
れぞれレーザーディスク形成用フィルムｌ上に照射して
前記樹脂３を硬化させる。紫外線又は電子線のレーザー
ディスク形成用フィルム１上への照射は、照射光源６に
より行なえば良い。この際、紫外線または電子線の照射
は、レーザーディスク原版４の凹凸を形成したフィルム
を版により剥１１ｉ１また後に再度照射してもよく、樹
脂を十分に硬化させることが好ましい。紫外線または電
子線の照射量は使用する樹脂により適宜法めることが必
要である。

このようにして、レーザーディスク形成用フィルムｌの
紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂の表面に凹凸を形
成した状態で、紫外線又は電子線を照射して前記樹脂を
硬化させることによって、直ちにレーザーディスク原版
とレーザーディスク形成用フィルムとの間にかけていた
圧力を解除して冷却することか可能となる。

なぜならば前記樹脂は紫外線または電子線の照射によっ
て直ちに硬化し、レーザーディスク原版４とレーザーデ
ィスク形成用フィルムｌとの間にかけていた圧力を解除
しても、形成された凹凸は消滅しないためである。また
、紫外線あるいは電子線の照射により樹脂が三次元架橋
硬化するため、耐熱耐溶剤性がイ」与される。なお、レ
ーザーディスク原版４及びレーサーディスク形成用フィ
ルム１を、紫外線又は電子線の照射前あるいは呉（（財
欲に強；１．＋１的に冷却してもよいが、通常は自然に
冷却ずれは充分である。

次に、表面に凹曲板れか形成されたレーザーディスク■
ニ成用〕・ｒルム１の凹凸扱杆面に蒸着、スパッタリン
グ、メッキ等によって第２図に示す如く厚さか約５００
〜１０００Δのアルミニウム等の反射膜層７を形成する
。その後、更に第３図に示すように透明樹脂の保護層８
をコーディングで層設しＣも良い。このようにして反射
膜層７が形成され、必要に応して更に保護層８が層設さ
れたレーザーディスク形成用フィルム１を通常の打抜方
法て所定の形状、サイズに打抜き、第４図に示すような
可撓性レーザーディスクＸＯが得られる。

第５図はこの発明の一実施例を示す可撓性レーザーディ
スクの製造装置の概略正面断面図であり、第６図はその
側面図である。可撓性レーザーディスク製造装置ｌＯに
は、ベッド１３に固定された一対の本体フレーム１２に
給紙装置２０、転写Ｅ’２　置３０、！！Ｆ’−０１ｋ
＜　ＩＩＸ　５０、Ｇ　取＝ｚ　＋（＋　５０　カ項次
配ａｌ’ｌされている。

給紙装置；ｆｆ　２０は、本体フレーム１２に固定され
たコロ２３に回転自イ１に支持されたシャフト２２と、
支持部材２５により本体フレーム１２に固定されたパウ
ダーブレーキ２・１とて成り、シャフト２２にはレーサ
ーディスク形成用フィルム１の巻取ロール２１か装着さ
れ、その先端はパウダーブレーキ２４に連結されている
。

転写装置３０は、本体フレーム１２の中央部に固定され
た軸受３３に刺１：］２か回転自在に支持されたエンボ
スローラ３１と、一対のアーム４２に回転自在に支持さ
れた押付はローラ４０と、加圧機構３８とで成る。加圧
機構３８は一対のアーム４２及びエアシリンダ４５で成
り、エアシリンダ４５のビストロンロッド４６の先端に
はアタッチメント４７が装着され、アタッチメン１〜４
７はアーム４２の中央下部にビン４８を介して回転自在
に支持され、エアシリンダ４５は本体フレーム１２に固
定されたピン４９に回転自在に支持されている。一対の
アーム４２はロッド４４で固定連結され、本体フレーム
１２に固定されたピン４３に回転自在に支持されている
。従って、エアシリンダ４５のピストンロット４６の作
動によりアーム４２がビン４３を支点として回転し、押
付はローラ４０かエンボスローラ３１に押付けられる。

なお、加圧機４１？ｊ３８は上記機構に限定するもので
はなく、油圧シリンダー、電動モータ、メカプレス等に
より、押伺はローラ４０をエンボスローラ３１に押付け
る機４Ｆ＋のちのＣあってもよい。押（；Ｉ’　Ｃ′ｊ
ローラ４０には加りＪ＼装置（図示せず）が装ａ１゛１
さね、押付はローラ４０のヅモ面を加熱するようになっ
ている。この加熱装置としては、押付はローラ４０の内
部に設けられた゛可熱ヒータ、或いは押付はローラ４０
の内１ｒｉｓ　１．：蒸気を供給する装置、或いは押付
はローラ４０の外部に設けられた遠赤外線ヒータ等を適
宜選択できる。また、上記加熱装置は押付はローラ４０
を加熱するものであるか、エンボスローラ３１を加熱す
る装置であってもよく、この場合には上記押付はローラ
４０の加熱装着と同じものを使用ずれはよい。エンホス
ローラ３１は、第７図に示すようにその周表面にレーザ
ーディスク原版４か設けられたもので、レーザーディス
ク原版としては樹脂版又は金属板が使用可能であり、樹
脂版をレーサーディスク原版としてシリンダの周表面に
貼りつりだもの、またはシリンダの周表面に（１コにあ
るいはメッキを施した後、腐食、彫刻等にＪ：リレーザ
ーディスク原版を形成したものか便用される。エンボス
ローラ３１の軸３２の駆動（１１，１＋先ζ、ｉｉ５に
装着され、本体フレーム１２上部に設ε′）られた架台
１８に固定された駆動モータ１４の駆動軸先０；１シに
装着さねたプーリー１７とはベルト３５て連結されてい
る。また、エンボスローラ３１には、：Ｉ’＋ｌ１３２
にロータリージヨイント、ホース、冷却水供給装置等が
接続された冷却装置（図示せず）か装備され、ローラ表
面を冷却するようになっている。なお、エンボスローラ
３１に加熱装置を設けた場合は、上記冷却装置は必要な
い。

照射装置５０は、距離を隔てて本体フレーム１２に固定
の軸受５３に回転自在に支持された巻付はローラ５１と
対向する位置に、支持部材（図示せず）を介して本体フ
レーム１２に固定され、巻付はローラ５１に巻付けられ
たレーザーディスク形成用フィルム１に紫外線または電
子線を照射するようになっている。また、照射装置５０
の巻付位置は上記位置に１恨定されるものではなく、エ
ンホスローラ３１の近傍に設けて、レーザーディスク形
成用フィルム１かエンボスローラ３１に巻付けられてい
る状態で、或いはエンホスローラ３１から７１１　！Ｉ
！された直後にレーザーディスク形成用フィルム１に紫
外線または電子線を照射してもよい。なお、巻付はロー
ラ５Ｉの’Ｐｕｂ　５２にロータリジヨイント、ホース
、冷却水供給装置等が接続された冷却装置（図示せず）
を設けて、その表面を冷やした方がよい。

巻取装置６０は、本体フレーム１２に固定されたコロ６
３に回転自在に支持されたシャフト６２と、支持部材６
５により本体フレーム１２に固定されたパウダークラッ
チ６４とで成り、パウダークラッチ６４の入力端にはプ
ーリー６７が装着された軸６６が連結され、出力側には
シャフト６２が連４．ｌｉされている。シャフト６２に
レーザーディスク形成用フィルム１が巻取られるように
なっている。

また、エンボスローラ３１と給紙装置２０との間には、
本体フレーム１２に回転自在に支持されたガイドローラ
７１．７２が設りられ、エンホスローラ３１と巻（」ｌ
づローラ５１との間のエンボスローラ３１の近傍には、
カイドローラフ３が設けられている。ガイドローラ７３
はレーザーディスク形成用フィルム１のエンホスローラ
３１への巻付りｆｆｔを決定するものであり、第１図の
位置に限定するものではなく、加熱温度、エンボスロー
ラ３１の回転等の諸条件に応して適宜配設されるもので
ある。なお、エンボスローラ３１と給紙装置２０との間
に予熱装置（図示せず）を設けて、レーザーディスク形
成用フィルム１を予め加熱し、押付はローラ４０とエン
ボスローラ３１との間で行われる樹脂層３の軟化を促進
させてもよい。

次に、上述の可むｚ性レーザーディスクの製造製蓋１０
の動作を説明する。

まず、給紙装置２０より繰り出されたレーザーディスク
形成用フィルム１は、ガイトローラ７１．７２を介して
エンボスローラ３１に案内される。このとき、パウダー
ブレーキ２４によりレーザーディスク形成用フィルムｌ
は適性なデンションに調整されている。次いで、エアシ
リンダ４５の作動により、押イ」けローラ４０によって
フィルム１がエンボスローラ３１に一定圧で押付けられ
る。押付はローラ４０の表面は加熱されているために樹
脂層３が軟化し、第７図に示すようにレーザーディスク
原版４の凹凸が樹脂層３に転写され、樹脂層３がレーザ
ーディスク原版４に密着した状態でエンボスローラ３１
が駆動モータ１４により回転され、ガイドローラ７３の
近傍にてレーザーディスク原版４より凹凸の形成された
樹脂層３が剥離される。このとぎ、エンボスローラ３１
の表面は冷却されているため軟化状態にある樹脂層３は
ある程度固まり、レーザーディスク原版４よりＩＩＪ　
ｍ（！されても転写時の凹凸状態をくずすことなく、次
の巻付はローラ５１に案内される。巻付はローラ５１に
巻付けられたフィルム１に、照射装置５０より紫外線ま
たは電子線を照射することにより、凹凸の形成された樹
脂層３が硬化する。ここで、巻付はローラ５１は冷却さ
れているため、紫外線または電子線の照射によってフィ
ルムｌが発熱し、熱収縮するのを防止することができる
。この後、フィルムｌは駆動モータ１４に連結されたシ
ャフト６２に巻取られる。このとぎ、パウダークラッチ
６４によりフィルム１は適正なデンションに調整されて
いるため、しわ等か発生せずに巻取られる。

この後、巻取られたレーザーディスク形成用フィルム１
を巻戻して一般的な打抜方法で円盤状の形に１枚ずつ打
抜いて後、前述したような反射膜層、保護層を形成する
か、或いは巻取られたレーザーディスク形成用フィルム
１を巻戻しながら、複製された凹凸面に反射ＩｌＵ層、
層設保護層成して後、一般的な打抜方法で円盤状に形に
１枚ずつ打抜くことにより、第４図に示すようなレーザ
ーディスク１００を作成することができる。このレーザ
ーディスク１００は１００μ程度の淳さの基材フィルム
２の樹脂層３にレーザーディスク原版４の凹凸を複製し
たものであるから、全体として可撓ＰＬかありソノシー
トと同様な形態を有したものとなる。

（発明の効果）以上のようにこの発明の可撓性レーザーディスク製造方
法は、基材フィルムードに熱成形性を有する紫外線硬化
樹脂または７Ｅ子線硬化樹脂が設けられて成るレーザー
ディスク形成用フィルムと、表面に音声等の電気信号に
対応して凹凸が形成されているレーザーディスク原版と
を、加熱条件下で圧接させて上記樹脂に凹凸を形成し、
次いで紫外線または電子線を上記フィルムに照射するよ
うにしており、製造装着では上記フィルムを巻取状態よ
り繰り出し、押付はローラと表面にレーザーディスク原
版が設けられたエンボスローラとにより加熱圧着した後
、紫外線または電子線を照射してレーザーディスク形成
用フィルムを巻取る装置であるため、以下のような効果
が得られる。

（ａ）　　レーザーディスク原版とレーサーディスク形
成用フィルムとを長時間にわたって加熱状態に圧接する
必要かなく、レーサーディスク原版の凹凸が熱により消
滅することがない。

（ｂ）　　レーザーディスク形成用フィルムとレーザー
ディスク原版とを加熱状、態に保って圧接して凹凸を形
成した後、直ちに圧接状態を解除することができ、冷却
工程を短時間で行なうことかでき、可撓性レーザーディ
スクの製造装作を著しく簡素化できると共に、大全生産
が可能となる。

（Ｃ）　　レーザーディスク形成用フィルムを巻取って
保存することができ、可撓性レーザーディスクの製造装
置を簡素化できると共に大量生産が可能となる。

（ｄ）耐熱性、耐溶剤性に優れた安価な可撓性レーザー
ディスクを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の可撓性レーザーディスクの製造工程
を示す断面図、第２図及び第３図はそれぞれこの発明の
可撓性レーザーディスクの一例を示す断面構造図、第４
図は作成された可撓性レーサーディスクの一例を示す斜
視図、第５図はこの発明の一実施例を示す可撓性レーザ
ーディスクの複製装置の概略正面図、第６図はその側面
図、第７図は第５図及び第６図に示す可撓性レーザーデ
ィスクの複製装置の一部拡大断面図である。１・・・レーザーディスク形成用フィル１１．２・・・
基材フィルム、３・・・紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂、４・・・レーザーディスク原版、１０・・・可
撓性レーザーディスクの製造装置、１４・・・駆動モー
タ、２０・・・給紙装置、２１・・・巻取ロール、３０
・・・転写装置、３１・・・エンボスローラ、３８・・
・加圧機構、４０・・・押付はローラ、４２・・・アー
ム、４５・・・エアシリンダ、５０・・・照射装置、５
１・・・巻付はローラ、６０・・・巻取装置、６２・・
・シャフト、７１，７２．７３・・・ガイドローラ。出願人代理人　　安　形　雄　三蓼４　図＄　２　固蔓　３　図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）熱成形で凹凸を形成された硬化樹脂層と光透過性
の基材フィルムとが積層された円盤形状で、かつ全体が
可撓性を有していることを特徴とする可撓性レーザーデ
ィスク。
（２）基材フィルム上に熱成形性を有する紫外線硬化樹
脂または電子線硬化樹脂が設けられて成るレーザーディ
スク形成用フィルムと、電気信号に対応した凹凸が形成
されているレーザーディスク原版とを、前記レーザーデ
ィスク形成用フィルムの紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂が前記レーザーディスク原版に接するようにして
、加熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成した後
、紫外線または電子線を前記レーザーディスク形成用フ
ィルムに照射するようにしたことを特徴とする可撓性レ
ーザーディスク製造方法。
（３）基材フィルム上に熱成形性を有する紫外線硬化樹
脂または電子線硬化樹脂が設けられて成るレーザーディ
スク形成用フィルムの巻取ロールを装着する給紙装置と
、この給紙装置より繰り出される前記レーザーディスク
形成用フィルムを加熱圧着する一対のニップローラであ
って、前記一対のニップローラは押付けローラ及び表面
にレーザーディスク原版が設けられたエンボスローラで
成っている転写装置と、前記一対のニップローラより送
り出される前記レーザーディスク形成用フィルムに紫外
線または電子線を照射する照射装置と、前記照射され硬
化されたレーザーディスク形成用フィルムを巻取る巻取
装置とを順次配設したことを特徴とする可撓性レーザー
ディスクの製造装置。
（４）前記押付けローラは表面がシリコンゴム層で形成
されている特許請求の範囲第３項に記載の可撓性レーザ
ーディスクの製造装置。
（５）前記押付けローラに加熱装置を設けた特許請求の
範囲第３項に記載の可撓性レーザーディスクの製造装置
。
（６）前記エンボスローラに冷却装置を設けた特許請求
の範囲第３項又は第４項に記載の可撓性レーザーディス
クの製造装置。