JPS6314329A - 可撓性レ−ザ−デイスクの再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） この発明は可撓性レーザーディスクの再生方法に関し、
さらに詳しくは複製工程を著しく簡素化し、大量生産が
可能な可撓性レーザーディスクの再生方法に関する。

（発明の技術的背景とその問題点） レーザーディスク（光ディスク）は、コンピュータの飛
躍的な発展に支えられた＋ｉｉ報化社会における大容量
メモリの需要、ポストカラーテレどの目玉商品としての
ビデオディスクへの熱い眼差し、レーザー技術の進歩、
これらに支えられて来た。レーザーディスクの記憶容量
。

記↑危密度は６１気メモリに比べて圧倒的な大きさであ
り、光を用いる目的はここにある。しかし、光メモリは
現状ではＲＯＭ型の専用メモリにならざるを得す、この
点で記録、再生が繰返し可能な磁気メそすとは相補的な
関係にあり、それぞれに適した応用分野がある。

光学式の利点は次の通りである。

■記録密度が高く搬送周波数を上げ得、ＶＴＲのトラッ
ク幅５８μに対し、レーザーディスクでは２μ以下であ
る。

■非接触の再生方式てあり、傷やほこりによるドロップ
アウトノイズに強い。接触型再生方式では小さ・なほこ
りてもそれを再生針が引きするため、はこりの見）１）
け上の大きさが非常に大きくなる。

■操作性及び保守性か秀れている。接触型ではほこりの
出ない特殊エンベロープが不可欠であるほか、取扱い時
にも手指等の油脂からの保護など細心の注、岬が必要と
なる。

■ディスクやピックアップの消耗がなく、長寿命である
。

■再生モートか多様である。

上述のように、レーザーディスクに最も期待されている
特長の一つは安価な犬容ユメモリということであり、こ
れはレーザーディスクの製造の容易さによって期待され
ているものである。再生専用型のレーザーディスクもま
たプリフォーマット、プリグループを持つ記録可能型レ
ーザーディスクも１枚の原盤金型を作って、これからの
大量レプリカを作ることにより、大容量のディスクの生
産が容易にできる。

しかしながら、従来のレーザーディスクは、剛性を持っ
た形体となっているため、レーサーディスクの複製も工
程として複雑であり、レーザーディスクを木や物品等に
貼付あるいは収納して手φイに迂搬、販売することは不
可能であった。

このことから、］搬や販売等に便利なソノシート型の可
撓性レーザーディスクの開発と共に、その記録情報の確
実で容易な再生方法の確立か強く望まれている。

（発明の目的） この発明は上述のような事情よりなさねたものであり、
この発明の目的は、運搬等に便利なソノシート型の可撓
性レーザーディスクの記録情報を容易にかつ正確に読出
すための再生方法を提供することにある。

（発明の概要） この発明は可撓性レーザーディスクの再生方法に関し、
上記可撓性レーザーディスク上に、上記可撓性レーザー
ディスクとほぼ同一形状の透明材で成るアダプタをＲＭ
して再生するようにしたものである。

（発明の実施例） まず、この発明に用いる可撓性レーザーディスクについ
て説明する。

第１図は、可撓性レーザーディスクの製造工程を示して
おり、厚さか１００μ程度のレーサーディスク形成用フ
ィルム１は、基材フィルム２上に熱成形性を有する紫外
線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂３が層設されて構成され
ている。ジ（材フィルム２としては、フィルム形状のあ
らゆる材料が用いられ得る。具体的には、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリ塩
化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン
、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの重合
体フィルム、紙、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが
用いられ得る。また、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂
または電子線硬化樹脂３は常温では固体状であって、基
材フィルム２上に設けられた場合に、表面がベタつくこ
とな（８ＵＪＳ、り可能である。したがって、基材フィ
ルム２上に前記樹脂を設けて成るレーザーディスク形成
用フィルム１は巻取って保存することかできるため、複
数のためのレーザーディスク原版（原盤金型又は樹脂原
盤）と接触させる直１１ｎに、ノ１（材フィルム２上に
いちいち前記樹脂層を設ける必要はない。また、レーザ
ーディスク層に便用可能な材才１は、ラジカル重合性不
飽和基を打する熱成形＋１１物体であり、次の２種のも
のかある。

（１）ガラス転移温度か０〜２５０℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し、後述する方法（イ）〜（ニ）
によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いる
ことができる。

■水酸基を有する単量体二Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒトロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フェノキシ
プロビルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フェ
ノキシプロピルアクリレートなど。

■カルボキシル基を有する中量体：アクルル酸、メタク
リル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートな
ど。

■エポキシ基を有する四量体ニゲリシジルメタクリレー
トなと。

■アジリジニル基を有する４１”−ｍ体＝２−アジリジ
ニルエチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオ
ン酸アリルなと。

■アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。

■スルフォン基を有する単量体：２−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスルフォン酸など。

■イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエン
ジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレート
の１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性
水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。

■さらに、上記共重合体のガラス軽重多点を調節したり
、硬化膜の物性を調整したりするために、上記化合物と
、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重
合させることもできる。このような共重合可能な単量体
としては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート
、プロピルアクリルリレート、プロピルメタクリレート
、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブ
チルアクリレート、イソアミルメタクリレート、し−ブ
チルアクリレート、し−ブチルメタクリレート、イソア
ミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロ
へキシルアクリレート、シクロへキシルメタクリレート
、２−エチルへキシルアクリレート、２−エチルへキシ
ルメタクリレートなどが挙げられる。

次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる
方法（イ）〜（：）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、所要の材料を得ること
がで恭る。

（イ）水酸基を有するＬｉｆｔ体の重合体、または共重
合体の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボ
キシル基を有する単量体などを縮合反応させる。

（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体、または共重合体の場合には前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。

（八）エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する！１’−ｍ体もしくはカルボ
キシル基を有する単量体を付加反応させる。

（ニ）水酸者あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル中量体の１対１モルの付加物を付加反応させる。

上記反応を行なうには、微量のハイドロキノンなどの重
合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが好
ましい。

（２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレー
ト、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシア
ヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シ
クロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコ
ールジアクリレート、スビログリコールジメタクリレー
トなどが挙げられる。

このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の
際、架ｌ、ｒ８密度を向上させ耐熱性を向上させるもの
であって、前述の単量体の他にエチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリ
レート、ヘキサンジオールジメタクリし・−ト、トリメ
チロールプロパントリメクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメヂロールプロパンジ
アクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、
エチレングリコールジグリシジルニーチルジアクリレー
ト、エチレングリコールジグリシシルエーテルジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、ポリプロレングリコールジグリシジ
ルエーテルジアクリレ−ト、プロピレングリコールシグ
リシシルエーテルジアクリレート、プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルシメタクリレート、ポリプロピ
レングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、
ボリブロビレングリコールジグリシジルエーテルシメタ
クリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルデ
トラアクリレート、ソルビトールブトラグリシジルエー
テルテトラメタクリレートなどを用いることができ、前
記した共重合体混合物の固型分１００重量部に対して、
０．１〜１００重量部で用いることが好ましい。また、
上記のものは電子線により十分に硬化可能であるが、紫
外線照射て硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキ
ノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなどのベ
ンゾインエーテル頚、ハロゲン化アセトフェノン類、ビ
アチル類などの紫外線照射によりラジカルを発生するも
のも用いることができる。

レーザーディスク原版４はその表面に、音声や画像等の
電気信号に対応する凹凸が形成されている。このレーザ
ーディスク原版４は従来既知の方法によって作成するこ
とがてき、またレーザーディスク原版４に形成されるレ
ーサーディスクは材料表面の凹凸により情報を記録でと
るタイプのものである。

上記のようなレーザーディスク形成用フィルム１とレー
ザーディスク原版４とを、加熱ローラなどの加熱圧接手
段である加熱圧接ローラ５ａを介して、フィルムｌの紫
外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂３がレーザーディス
ク原版４に接するようにして加熱圧接し、レーザーディ
スク形成用フィルム１の紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂３の表面にレーザーディスク原版４の凹凸模様を
複製する。

この際、加熱ローラの温度は、用いられている前記樹脂
３の種類によって大きく変化するが、５０〜３００℃望
ましくは１００〜２００℃であることが好ましい。さら
に、レーザーディスク形成用フィルム１とレーザーディ
スク原版４とは、Ｏ，１Ｋｇ　／ｃｍ以上、望ましくは
ｌｈ／ｃｍ以上の圧力下に圧接されることが好ましい。

このようにして、レーザーディスク形成用フィルム１の
紫外線硬化樹脂または電子硬化樹脂３の表面に、音声や
画像等の電気信号に対応した凹凸の模様を形成し、レー
ザーディスク原版４との圧接状態で紫外線硬化樹脂なら
ば紫外線を、また電子線硬化樹脂ならば電子線を、それ
ぞわレーザーディスク形成用フィルム１上に照射して前
記樹脂３を硬化させる。紫外線又は電子線のレーザーデ
ィスク形成用フィルムｌ上への照射は、照射光源６によ
り行なえば良い。この際、紫外線または？こ子線の照射
は、レーザーディスク原版４の凹凸を形成したフィルム
を版により！１Ｊｆｉした後に再度照射してもよく、樹
脂を十分に硬化させることが好ましい。紫外線または電
子線の照射量は使用する樹脂により適宜法めることが必
要である。

このようにして、レーザーディスク形成用フィルム１の
紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂の表面に凹凸を形
成した状態で、紫外線又は電子線を照射して前記樹脂を
硬化させることによって、直ちにレーザーディスク原版
とレーザーディスク形成用フィルムとの間にかけていた
圧力を解除して冷却することが可能となる。

なぜならば前記樹脂は紫外線または電子線の照射によっ
゛て直ちに硬化し、レーザーディスク原版４とレーザー
ディスク形成用フィルム１との間にかけていた圧力を解
除しても、形成された凹凸は消滅しないためである。ま
た、紫外線あるいは電子線の照射により樹脂が三次元架
橋硬化するため、耐熱耐溶剤性が付与される。なお、レ
ーザーディスク原版４及びレーザーディスク形成用フィ
ルムｌを、紫外線又は電子線の照射前あるいは照射後に
強制的に冷却してもよいが、通常は自然に冷却すれば充
分である。また、必要であれは７．１１１ｆｉｌｆ後に
さらに紫外線あるいは電子線を照射することにより、十
分に樹脂を硬化させることができ、硬度、耐熱性耐溶剤
性等を向上させることもできる。

次に、表面に凹凸模扛が形成されたレーザーディスク形
成用フィルムｌの凹凸模様面に蒸着、スパッタリング、
メッキ等によって第２図に示す如＜Ｈさが約５００〜１
００ＯＡのアルミニウム等の反射膜層７を形成する。そ
の後、更に第３図に示すように透明樹脂の保護層８をコ
ーティングで層設しても良い。このようにして反射膜層
７が形成され、必要に応じて更に保護層８が層設された
レーザーディスク形成用フィルムｌを打抜金型で所定の
形状、サイズに打抜き、第４図に示すような可撓性レー
ザーディスク１Ｇが得られる。

ところで、上述の例では、基材フィルム２上に熱成形性
を有する紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂層３が層
設されているレーザーディスク形成用フィルム１を用い
て、可撓性レーザーディスク１０を作成するようにして
いるが、所定間隔（たとえは１　ｍｍ）に配置された基
材フィルム２及びレーザーディスク原版４との間に、紫
外線又は電子線で硬化可能な樹脂液を充填した後、紫外
線又は電子線を照射して樹脂液を硬化賦型するようにし
ても良い。この場合、樹脂液の充填ないしは塗布方法と
しては、ロールコート、ナイフコート、ジャバーコート
。グラビア：】−ト、スクリーン印刷、かけ流し等の公
知の方法を、用いることができ、ｎみは硬化後の樹脂強
度を考えて適宜定めれば良い。また、紫外線又は電子線
の照射は塗布面に直接性なえば良い力釈レーザーディス
ク原版４が紫外線又は電子線を通過する材料であれば、
レーザーディスク原版４を通して照射することも可能で
ある。さらに、紫外線又は電子線で硬化する樹脂液とし
ては、分子中に不飽和結合を有する千ツマ−、オリゴマ
ー、プレポリマー等を用いることができ、エポキシ化合
物及びルイス酸の混合物等が必要であれば、増感剤を加
えて使用すれば良い。

上述のようにして製造された可撓性レーザーディスクｌ
Ｏは第５に断面構造を示すように、基材フィルム２と凹
凸情報を形成された樹脂層３、反射膜層７とが層設され
た構造となっており、全体の１９さは１００μ程度が可
撓性のようなものである。ここにおいて、可撓性レーザ
ーディスクｉｏの記録情報を読出す場合には、同図に示
すように光学系２０でレーザーディスク１０上にレーザ
ー光を集束させているので、レーザーディスク１０上に
塵、埃、ごみ等の付若物２１が付着すると光を遮断して
しまい、レーザーディスク１０の記録情報を読出ずこと
ができない。

このため、この発明では上述のような可撓性レーザーデ
ィスクｌＯと同一形状の、第６図に示すような厚さが１
．２ｍｍ程度の透明材で成るアダプタ３０を用意し、こ
のアダプタ３０を第７図に示す如くレーザーディスク１
０上に載置して記録情報の続出を行なう。このように、
レーザーディスク１０の厚さく１００μ程度）よりもか
なり厚い（１，２ｍｍ程度）透明材のアダプタ３０を介
して、レーサーディスクＩＯ上にレーザー光を集束させ
るとアダプタ３０上に付着物２１かｆ・１召しても、レ
ーサーディスク１０上に光を集束させることかできるの
で、ごみ等の付着物のｆ・１着によって、情報の続出か
不可能になることはない。

なお、アダプタ３０の形状は可撓＋［レーサーディスク
ｌＯの形状と同一である必要はなく、厚さも１．２ｍｍ
に限定されるものではなく、レーサーディスク上にｉｌ
ａ　Ｅｌ、したとぎの全体のＤさが１．２〜１．５ｍｍ
程度となれば良い。また、アダプタ３０の材料としては
アクリル、カラスｍポリエステル、エポキシ等の透明材
か適している。可撓性レーザーディスク１０の情報読出
しに際しては、アダプタ３０をその上にＩＩ！２置する
動作は、自動的又は手動で行なうようにしても良い。

（発明の効果） 以上のようにこの発明の再生方法によれば、薄い可撓性
のレーザーディスクに対してアダプタを用いて記録情報
の続出を行なうようにしているので、ごみ等の付着物が
付着しても正確に情報の読出を行ない得る利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に用いる可１尭性レーザーディスクの
製造工程を示す断面図、第２図及び第３図はそれぞれこ
の発明の可撓性レーザーディスクの一例を示す断面構造
図、第４図は７１撓性レーザーデイスクの一例を示す斜
視図、第５図は可撓性レーザーディスクの記録悄＋１１
の読出状態を示す図、第６図はこの発明に用いるアダプ
タの一例を示す斜視図、第７図はこの発明による可撓性
レーザーディスクの再生方法を説明するための図である
。 ｌ・・・レーザーディスク形成用フィルム、２・・・基
材フィルム、３・・・紫外線硬化樹脂または電子線硬化
樹脂、４・・・レーザーディスク原版、５ａ、５ｂ・・
・加熱圧接ローラ、６・・・照射光源、１ｏ・・・可撓
性レーザーディスク、２０・・・光学系、３０・・・ア
ダプタ。 第４　図 第　２　図 倦　３　回

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）可撓性レーザーディスク上に、前記可撓性レーザ
   ーディスクとほぼ同一形状の透明材で成るアダプタを載
   置して再生するようにしたことを特徴とする可撓性レー
   ザーディスクの再生方法。
2. （２）前記アダプタを載置したときの全体の厚さが約１
   ．２〜１．５ｍｍである特許請求の範囲第１項に記載の
   可撓性レーザーディスクの再生方法。