JPH0354742A - 光ディスク、その製造方法および読み取り方法 - Google Patents
光ディスク、その製造方法および読み取り方法Info
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- JPH0354742A JPH0354742A JP1190396A JP19039689A JPH0354742A JP H0354742 A JPH0354742 A JP H0354742A JP 1190396 A JP1190396 A JP 1190396A JP 19039689 A JP19039689 A JP 19039689A JP H0354742 A JPH0354742 A JP H0354742A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、コンパクトディスク（ＣＤ）、レーザビデオ
ディスク（ＬＶＤ）に代表される光ディスクおよびその
製造方法に関し、特にフォト・ボリマー法（２Ｐ法）に
よる光ディスクに関する。
ディスク（ＬＶＤ）に代表される光ディスクおよびその
製造方法に関し、特にフォト・ボリマー法（２Ｐ法）に
よる光ディスクに関する。
（従来技術）
光ディスクの代表的な製造方法として、紫外線照射によ
って硬化する高分子重合体（紫外線硬化型樹脂）を用い
てディスクの複製を行なうフォト・ボリマー法が知られ
ている。
って硬化する高分子重合体（紫外線硬化型樹脂）を用い
てディスクの複製を行なうフォト・ボリマー法が知られ
ている。
すなわち、この方法は、所定の情報が記憶された凹凸ピ
ットを有するスタンバ−（金型）と、ディスク基材とな
る透明基板との間に、紫外線硬化型樹脂を充填あるいは
塗布し、紫外線を照射して該樹脂を硬化させた後、スタ
ンパーをはぎ取って透明基板上に凹凸ピントを有する記
録層を形成し、金属の蒸着またはスバソタリング等の手
段によってその凹凸ピント面上に金属反射膜が形成され
、更にその上に保護膜が形成されて光ディスクとされる
。
ットを有するスタンバ−（金型）と、ディスク基材とな
る透明基板との間に、紫外線硬化型樹脂を充填あるいは
塗布し、紫外線を照射して該樹脂を硬化させた後、スタ
ンパーをはぎ取って透明基板上に凹凸ピントを有する記
録層を形成し、金属の蒸着またはスバソタリング等の手
段によってその凹凸ピント面上に金属反射膜が形成され
、更にその上に保護膜が形成されて光ディスクとされる
。
この光ディスクは、透明基板側からレーザ光等の光信号
が入射され、金属反射膜からの反射光信号を読み取るこ
とによって記憶された情報が再生されるというものであ
る。
が入射され、金属反射膜からの反射光信号を読み取るこ
とによって記憶された情報が再生されるというものであ
る。
（発明が解決しようとする諜Ｈ）
しかし、前記のようにして製造される光ディスクは、レ
ーザ光等の光が、透明基板側から入射され、記録層を通
って反射膜に到達するが、この場合、レーザ光の反射率
が充分高くなく、さらに、金属反射膜によって形或され
る凹凸ピットにおける凹部の表面反射率と凸部の表面反
射率とがかなり異なるという課題を有している。
ーザ光等の光が、透明基板側から入射され、記録層を通
って反射膜に到達するが、この場合、レーザ光の反射率
が充分高くなく、さらに、金属反射膜によって形或され
る凹凸ピットにおける凹部の表面反射率と凸部の表面反
射率とがかなり異なるという課題を有している。
すなわち光ディスクにおいては、前記凹部および凸部か
らの反射光の位相差による明暗を信号としてとらえ、記
憶された情報の再生を行なうものであるから、この様な
凹部の反射率と凸部の反射率とが著し《相違するという
ことは、ピットエラーが多くなり、再生される情報（例
えば音や画像）の質の劣化を招き、非常に望ましくない
。
らの反射光の位相差による明暗を信号としてとらえ、記
憶された情報の再生を行なうものであるから、この様な
凹部の反射率と凸部の反射率とが著し《相違するという
ことは、ピットエラーが多くなり、再生される情報（例
えば音や画像）の質の劣化を招き、非常に望ましくない
。
したがって本発明の目的は、所定の情報が記憧された凹
凸ピット面上に形成されている金属反射膜の凹部におけ
る反射率と凸部における反射率とが極めて近似した範囲
にある光ディスク、その製造方法および読み取り方法を
提供することにある。
凸ピット面上に形成されている金属反射膜の凹部におけ
る反射率と凸部における反射率とが極めて近似した範囲
にある光ディスク、その製造方法および読み取り方法を
提供することにある。
（課題を達戒するための手段）
本発明によれば、所定の情報が記憶された凹凸ピットを
有する記録層と、該凹凸ピット面Ｌに形成された金属反
射膜と、該反射膜上に、透明接着層を介して積層された
透明基板、とから成ることを特徴とする光ディスクが提
供される。
有する記録層と、該凹凸ピット面Ｌに形成された金属反
射膜と、該反射膜上に、透明接着層を介して積層された
透明基板、とから成ることを特徴とする光ディスクが提
供される。
本発明によれば更に、サポートシート上に紫外線硬化型
樹脂組成物を塗布し、所定の情報が記憶された凹凸ピッ
トを有するスタンパーに、前記紫外線硬化型樹脂組成物
の層を圧着させ、この状態で紫外線をサポートシート側
から照射して前記樹脂の硬化を行なって凹凸ピットを転
写せしめ、次いで該凹凸ピット面上に金属反射膜を形成
させ、該金属反射膜上に透明接着層を介して透明基板を
積層させ、ディスクの形に打抜くことを特徴とする光デ
ィスクの製造方法および所定の情報が記憶された凹凸ピ
ットを有する記録層と、該ピット面上に形成された金属
反射膜と、該反射膜上に、透明接着層を介して積層され
た透明基板とから成る光ディスクの透明基板側からレー
ザ光を入射することを特徴とする記録読み取り方法が提
供される。
樹脂組成物を塗布し、所定の情報が記憶された凹凸ピッ
トを有するスタンパーに、前記紫外線硬化型樹脂組成物
の層を圧着させ、この状態で紫外線をサポートシート側
から照射して前記樹脂の硬化を行なって凹凸ピットを転
写せしめ、次いで該凹凸ピット面上に金属反射膜を形成
させ、該金属反射膜上に透明接着層を介して透明基板を
積層させ、ディスクの形に打抜くことを特徴とする光デ
ィスクの製造方法および所定の情報が記憶された凹凸ピ
ットを有する記録層と、該ピット面上に形成された金属
反射膜と、該反射膜上に、透明接着層を介して積層され
た透明基板とから成る光ディスクの透明基板側からレー
ザ光を入射することを特徴とする記録読み取り方法が提
供される。
本発明の光ディスクの１例を、図面を用いて説明する。
断面構造を示す第１図において、この光ディスクは記録
層１、金属反射膜２、接着層３および透明基仮４とから
戒っている。
層１、金属反射膜２、接着層３および透明基仮４とから
戒っている。
第１図から明らかな通り、記録層ｌには所定の情報が記
憶された凹凸ビソト５が形或されており、金属反射膜２
は、この凹凸ピット５上に形成される。
憶された凹凸ビソト５が形或されており、金属反射膜２
は、この凹凸ピット５上に形成される。
また接着層３は透明なものとする。
本発明の光ディスクにおいては、透明基板４側からレー
ザ光が投入され、凹凸ビント５に対応する凹凸形状の金
属反射膜２からの反射光が読み取られて情報が再生され
るものである。
ザ光が投入され、凹凸ビント５に対応する凹凸形状の金
属反射膜２からの反射光が読み取られて情報が再生され
るものである。
本発明において重要な特徴は、金属反射膜２の記録層に
接する而（以下、「生成開始面」という）２ａとは反対
側の面２ｂ側に透明基板４が設けられている点にある。
接する而（以下、「生成開始面」という）２ａとは反対
側の面２ｂ側に透明基板４が設けられている点にある。
すなわち、本発明の光ディスクζこおいては、，金属反
射膜２の生成開始面２ａとは反対側の面２ｂで光反射が
行われるのである。
射膜２の生成開始面２ａとは反対側の面２ｂで光反射が
行われるのである。
本発明において記録層ｌは、通常紫外線硬化型樹脂＆Ｉ
Ｉ戒物の硬化物から形成される。
Ｉ戒物の硬化物から形成される。
この紫外線硬化型樹脂組成物としては、特開昭６４−３
６６１５号に記載の組成物、例えば、エボキシ（メタ）
アクリレートやウレタン（メタ）アクリレート等のオリ
ゴマーに、グリシジル（メタ）アクリレート、トリメチ
ルプロパントリ （メタ）アクリレート、アクリル酸等
のモノマーおよび光重合開始剤等を添加したものを挙げ
ることができる。
６６１５号に記載の組成物、例えば、エボキシ（メタ）
アクリレートやウレタン（メタ）アクリレート等のオリ
ゴマーに、グリシジル（メタ）アクリレート、トリメチ
ルプロパントリ （メタ）アクリレート、アクリル酸等
のモノマーおよび光重合開始剤等を添加したものを挙げ
ることができる。
記録層ｌは光路側に位置するものではないから、着色剤
等の配合によって着色されていてもよい。
等の配合によって着色されていてもよい。
この記録層ｌの厚さは、通常、５〜５０ｕＩ１である．
また金属反射膜２は、例えばアル果ニウム、アルミニウ
ムーチタン合金、チタンー銅合金、銀一チタン合金等で
形成されているが、該膜は一般的に５００〜１５００人
、特に７００人〜１０００人の範囲の厚みを有している
ことが好適である。この厚みが５００人未満の場合には
、金属反射膜２の厚みによる表面平滑化作用が有効に発
現せず、凹部と凸部の反射率の差をなくすことが困難に
なりやすく、金属反射膜２自体の反射率も低下しやすく
なる。
また金属反射膜２は、例えばアル果ニウム、アルミニウ
ムーチタン合金、チタンー銅合金、銀一チタン合金等で
形成されているが、該膜は一般的に５００〜１５００人
、特に７００人〜１０００人の範囲の厚みを有している
ことが好適である。この厚みが５００人未満の場合には
、金属反射膜２の厚みによる表面平滑化作用が有効に発
現せず、凹部と凸部の反射率の差をなくすことが困難に
なりやすく、金属反射膜２自体の反射率も低下しやすく
なる。
また金属反射膜２の厚みが１５００人を越えると、所定
の情報が記憶されている凹凸ピットの形状が有効に再現
できにくい。
の情報が記憶されている凹凸ピットの形状が有効に再現
できにくい。
なお、金属反射膜２が形成している凹凸ピットの深さは
、従来のものと同様レーザ光等の光の波長の２である。
、従来のものと同様レーザ光等の光の波長の２である。
上述した金属反射膜２上に形成される透明接着層３は、
透明性が保持される限りにおいて任意の接着剤から形戒
されていてよいが、後述する製造法によって本発明の光
ディスクを製造する場合には、紫外線硬化型樹脂組威物
の硬化物から形成される。この紫外線硬化型樹脂組成物
としては、例えば前記記録層１を形戒するために用いら
れる紫外線硬化型樹脂＆ｌｌ威物等を挙げることができ
る。
透明性が保持される限りにおいて任意の接着剤から形戒
されていてよいが、後述する製造法によって本発明の光
ディスクを製造する場合には、紫外線硬化型樹脂組威物
の硬化物から形成される。この紫外線硬化型樹脂組成物
としては、例えば前記記録層１を形戒するために用いら
れる紫外線硬化型樹脂＆ｌｌ威物等を挙げることができ
る。
またこの透明接着層３は、情報再生に際しての光路側に
位置するものであるから、光路長を変動させない様に均
一に設けることが必要であり、その厚みは５〜５０μ稲
の範囲にあることが望ましい。この厚みが５μｍ未満で
あるとピンホールが生じやすく、５０μｍを越えると均
一の厚みとなりにくくなる。
位置するものであるから、光路長を変動させない様に均
一に設けることが必要であり、その厚みは５〜５０μ稲
の範囲にあることが望ましい。この厚みが５μｍ未満で
あるとピンホールが生じやすく、５０μｍを越えると均
一の厚みとなりにくくなる。
さらに、上記の接着層３を介して積層される透明基板４
は、ボリカーポネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂等の透光性プラスチック板あるいはガラス板から戒
っており、通常１〜１．５＋ｗｍ程度の厚みとされる。
は、ボリカーポネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂等の透光性プラスチック板あるいはガラス板から戒
っており、通常１〜１．５＋ｗｍ程度の厚みとされる。
上述した本発明の光ディスクの記録層は、従来公知の射
出戒形法、フォト・ボリマー法、熱転写法等の方法によ
って製造され得るが、就中、情報の転写率が高いことか
らフォト・ボリマー法が好適である。
出戒形法、フォト・ボリマー法、熱転写法等の方法によ
って製造され得るが、就中、情報の転写率が高いことか
らフォト・ボリマー法が好適である。
以下、このフォト・ボリマー法による光ディスクの製造
方法について、その製造工程を示す第２図を参照して説
明する。
方法について、その製造工程を示す第２図を参照して説
明する。
まず、サポートシー｝１０上に前記紫外線硬化型樹脂組
戒１７ｌｌｌを塗布し、その塗布面へ所定の情報が記憶
された凹凸ピットを有するスタンパ−１２で圧着し、サ
ポートシー｝１０側から紫外線を照射して樹脂の硬化を
行なう（工程（イ））。
戒１７ｌｌｌを塗布し、その塗布面へ所定の情報が記憶
された凹凸ピットを有するスタンパ−１２で圧着し、サ
ポートシー｝１０側から紫外線を照射して樹脂の硬化を
行なう（工程（イ））。
ここで、サポートシート１０は、その上に塗布された紫
外線硬化型樹脂組成物の硬化を行なう必要性のため透明
であることを要し、例えばポリカ−ボネート樹脂、アク
リル樹脂等の厚さ２５〜ｌＯＯμｍ程度の透明樹脂シー
トであり、特に、前記透明基板と同一の材料により形成
されていることが好ましい。
外線硬化型樹脂組成物の硬化を行なう必要性のため透明
であることを要し、例えばポリカ−ボネート樹脂、アク
リル樹脂等の厚さ２５〜ｌＯＯμｍ程度の透明樹脂シー
トであり、特に、前記透明基板と同一の材料により形成
されていることが好ましい。
紫外線照射により行われる紫外線硬化型樹脂組底物の硬
化は、通常、数秒以内で完了し、硬化終了後、サポート
シート１０および硬化した樹脂組成物１ｌをスタンパ−
１２から剥ぎ取り、記録層が完戒する。
化は、通常、数秒以内で完了し、硬化終了後、サポート
シート１０および硬化した樹脂組成物１ｌをスタンパ−
１２から剥ぎ取り、記録層が完戒する。
次いでこの記録層（全体として２０で示す）の凹凸面上
に、前述した金属反射膜２ｌを形成させる（工程（ロ）
）。
に、前述した金属反射膜２ｌを形成させる（工程（ロ）
）。
金属反射膜の形成は、通常、蒸着またはスパッタリング
により行う。蒸着またはスパッタリングは、通常従来よ
り採用されている条件で行われる。
により行う。蒸着またはスパッタリングは、通常従来よ
り採用されている条件で行われる。
この様にして得られた金属反射膜２ｌの表面に、透明接
着層を形或するために紫外線硬化型樹脂組底物３０を均
一に塗布し、これに別個に用意された透明基板３１をロ
ーラ等で圧着し、貼合わせる。
着層を形或するために紫外線硬化型樹脂組底物３０を均
一に塗布し、これに別個に用意された透明基板３１をロ
ーラ等で圧着し、貼合わせる。
この状態で前記透明基板３１側から紫外線照射を行なっ
て、前記紫外線硬化型樹脂組成物を硬化し、透明接着層
の形成を行なう（工程（ハ））。
て、前記紫外線硬化型樹脂組成物を硬化し、透明接着層
の形成を行なう（工程（ハ））。
この工程において使用される紫外線硬化型樹脂組成物３
０は、基本的に前記工程（イ）において使用されるもの
と同種のものが使用され得るが、形成される透明接着層
は、情報再生に際しての光路側に位置するものであるか
ら、特に透明性の高いものが使用され、着色剤等が配合
されることはない． 透明接着層を形成した後、必要により前記サポートシー
｝１０を剥離し、ディスク形状に打抜き、片面読み取り
の光ディスクとする。この光ディスクの読み取りは、透
明Ｆｉ３１側からレーザ光等を入射して行うことができ
る。
０は、基本的に前記工程（イ）において使用されるもの
と同種のものが使用され得るが、形成される透明接着層
は、情報再生に際しての光路側に位置するものであるか
ら、特に透明性の高いものが使用され、着色剤等が配合
されることはない． 透明接着層を形成した後、必要により前記サポートシー
｝１０を剥離し、ディスク形状に打抜き、片面読み取り
の光ディスクとする。この光ディスクの読み取りは、透
明Ｆｉ３１側からレーザ光等を入射して行うことができ
る。
この場合、剥離されたサポートシートは適宜再利用に供
される。
される。
また得られた片面読み取りの光ディスクを、それぞれ記
録層ｌ１が対面する様な位置関係で貼り合わせることに
よって両面読み取りの光ディスクとすることも可能であ
る。
録層ｌ１が対面する様な位置関係で貼り合わせることに
よって両面読み取りの光ディスクとすることも可能であ
る。
（実施例）
実施例１
厚さ１００μｍのポリカーボネートに下記の組成からな
る紫外線硬化型樹脂Ｍｉ戊物を５０μｍの厚みでローラ
コートした。
る紫外線硬化型樹脂Ｍｉ戊物を５０μｍの厚みでローラ
コートした。
この組成物上に、ボジ信号を有するスタンパーをローう
によって圧接し、紫外線を０．５秒照射して前記樹脂組
成物の硬化を行なった。
によって圧接し、紫外線を０．５秒照射して前記樹脂組
成物の硬化を行なった。
エポキシアクリレート４０ 重量部
（三菱床ファイン社製ＥＡ−１３７０）トリメチロール
プロパン トリアクリレート １２ 重量部トリシ
クロデカンジイル ジメチレンジアクリレート ２０．９重量部シリコー
ンア・クリレート オリゴマ− ０．３重量部イソボニ
ルアクリレート ９ 重量部アクリル酸
１３ 重量部ｌ−ヒドロキシシクロ ヘキシルフェニルケトン ２，５重量部ベンジル
フエノン １．２ 重１部４−ジメチル
アミノ安息香酸 １．２重量部硬化終了後、得られ
た記録層をスタンパーから剥ぎ取り、その凹凸面側にア
ルミニウムをスパッタ装置（ｒＳＰＦ−４３０Ｈ，（マ
グネトロン方式、日電アネルパ製））を用いてスバッタ
し、１０００人の金属反射膜を形成させた．次いで、こ
の金属反射膜面上に前記と同じｍ或の紫外線硬化型樹脂
組成物を硬化後の厚みが５０μｍとなる厚みで塗布し、
これを１ｍｍ厚のボリカーポネート基板にローラで圧接
した後、前記と同様紫外線照射により紫外線硬化型樹脂
組成物の硬化を行ない、透明接着層を形成した後、ディ
スクの形に打抜き、第１図と同様の構戊を有する光ディ
スクを製造した。
プロパン トリアクリレート １２ 重量部トリシ
クロデカンジイル ジメチレンジアクリレート ２０．９重量部シリコー
ンア・クリレート オリゴマ− ０．３重量部イソボニ
ルアクリレート ９ 重量部アクリル酸
１３ 重量部ｌ−ヒドロキシシクロ ヘキシルフェニルケトン ２，５重量部ベンジル
フエノン １．２ 重１部４−ジメチル
アミノ安息香酸 １．２重量部硬化終了後、得られ
た記録層をスタンパーから剥ぎ取り、その凹凸面側にア
ルミニウムをスパッタ装置（ｒＳＰＦ−４３０Ｈ，（マ
グネトロン方式、日電アネルパ製））を用いてスバッタ
し、１０００人の金属反射膜を形成させた．次いで、こ
の金属反射膜面上に前記と同じｍ或の紫外線硬化型樹脂
組成物を硬化後の厚みが５０μｍとなる厚みで塗布し、
これを１ｍｍ厚のボリカーポネート基板にローラで圧接
した後、前記と同様紫外線照射により紫外線硬化型樹脂
組成物の硬化を行ない、透明接着層を形成した後、ディ
スクの形に打抜き、第１図と同様の構戊を有する光ディ
スクを製造した。
この光ディスクについて、金属反射膜の生戒開始面とそ
の反対側の面からそれぞれ７８０ｎｍの波長の光を入射
し、反射率の測定を行なったところ、次の結果を得た。
の反対側の面からそれぞれ７８０ｎｍの波長の光を入射
し、反射率の測定を行なったところ、次の結果を得た。
またこの光ディスクを用いて金属反射膜の生或開始面と
は反対側からのレーザ光照射により情報の再生を行なっ
たところ、外周部のエラーは少なかった。
は反対側からのレーザ光照射により情報の再生を行なっ
たところ、外周部のエラーは少なかった。
実施例２および３
実施例１において、金属反射膜を、チタンーアルミニウ
ム合金（実施例２）またはチタンー銅合金（実施例３）
で形成した以外は、実施例１と同様にして、光ディスク
を製造した。
ム合金（実施例２）またはチタンー銅合金（実施例３）
で形成した以外は、実施例１と同様にして、光ディスク
を製造した。
この光ディスクについて、．金属反射４膜の生戊開始面
とその反対側からそれぞれ７８０ｎｌＭの波長の光を入
射し、反射率の測定を行ったところ、次の結果を得た。
とその反対側からそれぞれ７８０ｎｌＭの波長の光を入
射し、反射率の測定を行ったところ、次の結果を得た。
また、これらの光ディスクを用いて、金属反射膜の生戒
開始面とは反対側からのレーザ光照射により情報の再生
を行なったところ、生戒開始面側からのレーザ光照射に
より情報の再生が行われる通常の光ディスクに比して、
外周部のエラーが約半分となった。
開始面とは反対側からのレーザ光照射により情報の再生
を行なったところ、生戒開始面側からのレーザ光照射に
より情報の再生が行われる通常の光ディスクに比して、
外周部のエラーが約半分となった。
（発明の効果）
本発明によれば、光ディスクの金属反射膜の生戒開始面
とは反対側の面をレーザ光反射面とすることにより、反
射率を高くすることが可能になるとともに、情報が記憶
された凹凸ピット部において、凹部と凸部とま表面反射
率の差が有効に是正されて、光ディスクのピットエラー
が著しく減少し、音、画像等の再生される情報の質を向
上させることかできる。
とは反対側の面をレーザ光反射面とすることにより、反
射率を高くすることが可能になるとともに、情報が記憶
された凹凸ピット部において、凹部と凸部とま表面反射
率の差が有効に是正されて、光ディスクのピットエラー
が著しく減少し、音、画像等の再生される情報の質を向
上させることかできる。
第１図は、本発明の光ディスクの断面構造を示す図であ
り、 第２図は、本発明の光ディスクの製造工程を示す図であ
る． １・・・記録層、２・・・金属反射膜、２ａ・・・生戒
開始面、２ｂ・・・生威開始面の反対面、３・・・透明
接着層、４・・・透明基板、１０・・・サポートシート
、工１・・・紫外線効果型樹脂組成物、ｌ２・・・スタ
ンパー、２０・・・記録層、２１・・・金属反射膜、３
０・・・紫外線硬化型樹脂組底物、３１・・・透明基板
。
り、 第２図は、本発明の光ディスクの製造工程を示す図であ
る． １・・・記録層、２・・・金属反射膜、２ａ・・・生戒
開始面、２ｂ・・・生威開始面の反対面、３・・・透明
接着層、４・・・透明基板、１０・・・サポートシート
、工１・・・紫外線効果型樹脂組成物、ｌ２・・・スタ
ンパー、２０・・・記録層、２１・・・金属反射膜、３
０・・・紫外線硬化型樹脂組底物、３１・・・透明基板
。
Claims (3)
- （１）所定の情報が記憶された凹凸ピットを有する記録
層と、 該凹凸ピット面上に形成された金属反射膜と、 該反射膜上に、透明接着層を介して積層された透明基板
、 とから成ることを特徴とする光ディスク。 - （２）サポートシート上に紫外線硬化型樹脂組成物を塗
布し、 所定の情報が記憶された凹凸ピットを有するスタンパー
に、前記紫外線硬化型樹脂組成物の層を圧着させ、この
状態でサポートシート側から紫外線を照射して前記樹脂
の硬化を行なって凹凸ピットを転写せしめ、次いで該凹
凸ピット面上に金属反射膜を形成させ、 該金属反射膜上に透明接着層を介して透明基板を積層さ
せ、ディスクの形に打抜くことを特徴とする光ディスク
の製造方法。 - （３）所定の情報が記憶された凹凸ピットを有する記録
層と、該ピット面上に形成された金属反射膜と、該反射
膜上に、透明接着層を介して積層された透明基板とから
成る光ディスクの透明基板側からレーザ光を入射するこ
とを特徴とする記録読み取り方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190396A JPH0354742A (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 光ディスク、その製造方法および読み取り方法 |
| KR1019900011029A KR910003611A (ko) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | 광디스크, 그의 제조 방법 및 독취 방법 |
| EP19900308016 EP0409663A3 (en) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | Optical disc, preparation thereof and reading method |
| US07/554,849 US5200120A (en) | 1989-07-21 | 1990-07-20 | Method of forming optical discs |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1190396A JPH0354742A (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 光ディスク、その製造方法および読み取り方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0354742A true JPH0354742A (ja) | 1991-03-08 |
Family
ID=16257460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1190396A Pending JPH0354742A (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | 光ディスク、その製造方法および読み取り方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5200120A (ja) |
| EP (1) | EP0409663A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0354742A (ja) |
| KR (1) | KR910003611A (ja) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5017414A (en) * | 1989-01-17 | 1991-05-21 | Del Mar Avionics | Method for manufacturing a second surface optical storage device |
| US5726969A (en) | 1994-12-28 | 1998-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium having dual information surfaces |
| JP3241560B2 (ja) * | 1995-02-24 | 2001-12-25 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体及びその製造方法 |
| JP3565693B2 (ja) * | 1997-10-14 | 2004-09-15 | アルプス電気株式会社 | 反射体の製造方法及び製造装置 |
| US6933098B2 (en) | 2000-01-11 | 2005-08-23 | Sipix Imaging Inc. | Process for roll-to-roll manufacture of a display by synchronized photolithographic exposure on a substrate web |
| US6672921B1 (en) * | 2000-03-03 | 2004-01-06 | Sipix Imaging, Inc. | Manufacturing process for electrophoretic display |
| US6930818B1 (en) * | 2000-03-03 | 2005-08-16 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| US7557981B2 (en) * | 2000-03-03 | 2009-07-07 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and process for its manufacture |
| US7715088B2 (en) * | 2000-03-03 | 2010-05-11 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display |
| US6829078B2 (en) | 2000-03-03 | 2004-12-07 | Sipix Imaging Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| US6788449B2 (en) * | 2000-03-03 | 2004-09-07 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| US6833943B2 (en) | 2000-03-03 | 2004-12-21 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| US20070237962A1 (en) * | 2000-03-03 | 2007-10-11 | Rong-Chang Liang | Semi-finished display panels |
| US6865012B2 (en) | 2000-03-03 | 2005-03-08 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| US6831770B2 (en) * | 2000-03-03 | 2004-12-14 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| US6947202B2 (en) * | 2000-03-03 | 2005-09-20 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display with sub relief structure for high contrast ratio and improved shear and/or compression resistance |
| US6885495B2 (en) * | 2000-03-03 | 2005-04-26 | Sipix Imaging Inc. | Electrophoretic display with in-plane switching |
| US7052571B2 (en) * | 2000-03-03 | 2006-05-30 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and process for its manufacture |
| US7408696B2 (en) | 2000-03-03 | 2008-08-05 | Sipix Imaging, Inc. | Three-dimensional electrophoretic displays |
| US7233429B2 (en) * | 2000-03-03 | 2007-06-19 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display |
| US7158282B2 (en) | 2000-03-03 | 2007-01-02 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
| TW591654B (en) * | 2000-09-12 | 2004-06-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacturing method of optical information recording medium |
| US6795138B2 (en) | 2001-01-11 | 2004-09-21 | Sipix Imaging, Inc. | Transmissive or reflective liquid crystal display and novel process for its manufacture |
| US8282762B2 (en) * | 2001-01-11 | 2012-10-09 | Sipix Imaging, Inc. | Transmissive or reflective liquid crystal display and process for its manufacture |
| TW527529B (en) * | 2001-07-27 | 2003-04-11 | Sipix Imaging Inc | An improved electrophoretic display with color filters |
| TW539928B (en) | 2001-08-20 | 2003-07-01 | Sipix Imaging Inc | An improved transflective electrophoretic display |
| TWI308231B (en) * | 2001-08-28 | 2009-04-01 | Sipix Imaging Inc | Electrophoretic display |
| TWI297089B (en) * | 2002-11-25 | 2008-05-21 | Sipix Imaging Inc | A composition for the preparation of microcups used in a liquid crystal display, a liquid crystal display comprising two or more layers of microcup array and process for its manufacture |
| US8023071B2 (en) * | 2002-11-25 | 2011-09-20 | Sipix Imaging, Inc. | Transmissive or reflective liquid crystal display |
| KR102454672B1 (ko) * | 2020-12-28 | 2022-10-14 | 한국세라믹기술원 | 황산나트륨과 염화칼륨을 사용한 황산칼륨 최적화 제조 방법 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4374077A (en) * | 1980-02-01 | 1983-02-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for making information carrying discs |
| JPS57158046A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-29 | Sony Corp | Original disk for molding information recording body |
| JPS5845636A (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-16 | Pioneer Electronic Corp | 情報記録デイスクおよびその製造方法 |
| JPS58108044A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-28 | Pioneer Electronic Corp | 光学式デイスク |
| JPS5968849A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-18 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体 |
| NL8300417A (nl) * | 1983-02-04 | 1984-09-03 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een kunststofinformatiedrager met een gelaagde structuur. |
| US4790893A (en) * | 1984-07-19 | 1988-12-13 | Hallmark Cards, Inc. | Replication of information carriers |
| WO1987002935A1 (en) * | 1985-11-18 | 1987-05-21 | Eastman Kodak Company | Process for making optical recording media |
| JPS6314341A (ja) * | 1986-07-07 | 1988-01-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 可撓性レ−ザ−デイスク，その製造方法及び製造装置 |
| FR2604553A1 (fr) * | 1986-09-29 | 1988-04-01 | Rhone Poulenc Chimie | Substrat polymere rigide pour disque optique et les disques optiques obtenus a partir dudit substrat |
| WO1988003311A1 (en) * | 1986-10-30 | 1988-05-05 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Flexible optical information recording medium and method of producing the same |
| JP2578459B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1997-02-05 | キヤノン株式会社 | 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP1190396A patent/JPH0354742A/ja active Pending
-
1990
- 1990-07-20 EP EP19900308016 patent/EP0409663A3/en not_active Withdrawn
- 1990-07-20 US US07/554,849 patent/US5200120A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-20 KR KR1019900011029A patent/KR910003611A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR910003611A (ko) | 1991-02-28 |
| EP0409663A3 (en) | 1992-08-05 |
| EP0409663A2 (en) | 1991-01-23 |
| US5200120A (en) | 1993-04-06 |
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