JP2578459B2 - 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 - Google Patents
情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型Info
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報記録媒体の基板に関するものである。
情報記録媒体用基板はその情報記録面にプリフオーマ
ツトパターン、例えばAT用案内溝、情報ピツトなどの凹
凸が形成されている。このような基板の成形方法として
は、基板が熱可塑性樹脂からなる場合にはインジエクシ
ヨン法や熱プレス法により、成形用型のプリフオーマツ
トパターンを転写する方法が知られている。
ツトパターン、例えばAT用案内溝、情報ピツトなどの凹
凸が形成されている。このような基板の成形方法として
は、基板が熱可塑性樹脂からなる場合にはインジエクシ
ヨン法や熱プレス法により、成形用型のプリフオーマツ
トパターンを転写する方法が知られている。
又、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる透明樹脂基
板上に、光硬化性樹脂組成物を塗布した後、成形用型を
密着させて透明樹脂基板側から輻射線、例えば紫外線,X
線等を一様に照射して該樹脂組成物を硬化させて成形用
型のパターンを透明樹脂基板に転写する所謂2p法や、ガ
ラス板や金属板などの基板上に直接又は基板上に金属な
どの薄膜を形成し、その薄膜上にAT用案内溝や情報ピツ
トなどのプリフオーマツトパターンを凹凸状に形成して
成形用型としてスペーサを介して、鏡面型として平滑な
ガラス板を相対して位置させて装置を組み、この装置の
樹脂のモノマー又は溶剤を含んだプレポリマー等を流し
込み硬化させて光記録媒体用基板を得る注型成形法が知
られている。
板上に、光硬化性樹脂組成物を塗布した後、成形用型を
密着させて透明樹脂基板側から輻射線、例えば紫外線,X
線等を一様に照射して該樹脂組成物を硬化させて成形用
型のパターンを透明樹脂基板に転写する所謂2p法や、ガ
ラス板や金属板などの基板上に直接又は基板上に金属な
どの薄膜を形成し、その薄膜上にAT用案内溝や情報ピツ
トなどのプリフオーマツトパターンを凹凸状に形成して
成形用型としてスペーサを介して、鏡面型として平滑な
ガラス板を相対して位置させて装置を組み、この装置の
樹脂のモノマー又は溶剤を含んだプレポリマー等を流し
込み硬化させて光記録媒体用基板を得る注型成形法が知
られている。
上述の情報記録媒体用基板への凹凸プリフオーマツト
形成方法に用いられる成形用型の凹凸プリフオーマツト
パターンが有する情報ピツトの形状としては、一般的に
は第6図に示す様な正方形や長方形のものが知られてお
り、又、インジエクシヨン法,熱プレス法,2p法に用い
られる成形用型では円形又は楕円形のものもある。
形成方法に用いられる成形用型の凹凸プリフオーマツト
パターンが有する情報ピツトの形状としては、一般的に
は第6図に示す様な正方形や長方形のものが知られてお
り、又、インジエクシヨン法,熱プレス法,2p法に用い
られる成形用型では円形又は楕円形のものもある。
しかし、これらの形状の情報ピツトを有する凹凸プリ
フオーマツトパターンが形成された成形用型を用いて上
述の各種方法によって凹凸プリフオーマツトを有する情
報記録媒体用基板を作成した場合、該基板と該成形用型
との間に離型性に問題があり、プリフオーマツトパター
ンが微細になるに従って、その離型性の悪さに起因する
プリフオーマツト、特に情報ピツト周辺部への応力の集
中により第7図及び第8図のように欠けやクラツクが生
じ易い。
フオーマツトパターンが形成された成形用型を用いて上
述の各種方法によって凹凸プリフオーマツトを有する情
報記録媒体用基板を作成した場合、該基板と該成形用型
との間に離型性に問題があり、プリフオーマツトパター
ンが微細になるに従って、その離型性の悪さに起因する
プリフオーマツト、特に情報ピツト周辺部への応力の集
中により第7図及び第8図のように欠けやクラツクが生
じ易い。
又、注型成形の場合、粘度が最初は小さくて徐々に大
きくなり、応力が緩和される為、他の方法に比べれば欠
けの発生率は幾分低いが、それでも樹脂の硬化収縮によ
る応力がプリフオーマツト特に微細な情報ピツトの周辺
部に集中する為にやはり欠けが発生する。
きくなり、応力が緩和される為、他の方法に比べれば欠
けの発生率は幾分低いが、それでも樹脂の硬化収縮によ
る応力がプリフオーマツト特に微細な情報ピツトの周辺
部に集中する為にやはり欠けが発生する。
このプリフオーマツト周辺部、特に情報ピツト周辺部
の欠けは、該情報ピツトを再生する際に読取りエラーが
発生したり、読取り不能となる原因となり情報記録媒体
の信頼性を損う恐れがある。
の欠けは、該情報ピツトを再生する際に読取りエラーが
発生したり、読取り不能となる原因となり情報記録媒体
の信頼性を損う恐れがある。
即ち、このプリフオーマツトパターン周辺部の欠け
は、信頼性の高い情報記録媒体を形成する際に大きな問
題となる。
は、信頼性の高い情報記録媒体を形成する際に大きな問
題となる。
本発明はプリフオーマツトの周辺部の欠けを無くした
情報記録媒体用基板を有する信頼性の高い情報記録媒体
を提供することを目的とするものである。
情報記録媒体用基板を有する信頼性の高い情報記録媒体
を提供することを目的とするものである。
又、本発明は情報記録媒体用基板の上に形成されたプ
リフオーマツトパターンの周辺部の欠けを無くし、信頼
性の高い情報記録媒体を作ることができる情報記録媒体
用基板の製造方法を提供することを他の目的とするもの
である。
リフオーマツトパターンの周辺部の欠けを無くし、信頼
性の高い情報記録媒体を作ることができる情報記録媒体
用基板の製造方法を提供することを他の目的とするもの
である。
又、本発明は情報記録媒体用基板の上に形成されたプ
リフオーマツトパターンの周辺部の欠けを無くし、パタ
ーンの精度の良好な情報記録媒体用基板の注型成形用型
を提供することを更に他の目的とするものである。
リフオーマツトパターンの周辺部の欠けを無くし、パタ
ーンの精度の良好な情報記録媒体用基板の注型成形用型
を提供することを更に他の目的とするものである。
本発明の情報記録媒体は、凹凸プリフオーマツトが形
成されている基板を有する情報記録媒体において凹凸プ
リフオーマツトの情報ピツト部が多角形で、少なくとも
その1つの対角線が記録プリフオーマツトパターンのト
ラツクにほぼ平行であることを特徴とするものである。
成されている基板を有する情報記録媒体において凹凸プ
リフオーマツトの情報ピツト部が多角形で、少なくとも
その1つの対角線が記録プリフオーマツトパターンのト
ラツクにほぼ平行であることを特徴とするものである。
又、本発明の情報記録媒体用基板の製造方法は、凹凸
プリフオーマツトを有する情報記録媒体用基板を型成形
により製造する方法において、型面に形成されている凹
凸プリフオーマツトパターンの情報ピツト部が多角形で
少なくともその1つの対角線が記録プリフオーマツトパ
ターンのトラツクにほぼ平行である成形型を用いること
を特徴とするものである。
プリフオーマツトを有する情報記録媒体用基板を型成形
により製造する方法において、型面に形成されている凹
凸プリフオーマツトパターンの情報ピツト部が多角形で
少なくともその1つの対角線が記録プリフオーマツトパ
ターンのトラツクにほぼ平行である成形型を用いること
を特徴とするものである。
又、本発明の情報記録媒体用基板の型成形用型は、凹
凸プリフオーマツトパターンを有する情報記録媒体用基
板の型成形用型において、型面に形成されている凹凸プ
リフオーマツトパターンの情報ピツト部が多角形で少な
くともその1つの対角線が記録プリフオーマツトパター
ンのトラツクにほぼ平行であることを特徴とするもので
ある。
凸プリフオーマツトパターンを有する情報記録媒体用基
板の型成形用型において、型面に形成されている凹凸プ
リフオーマツトパターンの情報ピツト部が多角形で少な
くともその1つの対角線が記録プリフオーマツトパター
ンのトラツクにほぼ平行であることを特徴とするもので
ある。
即ち、本発明において情報記録媒体用基板の成形用型
の凹凸プリフオーマツトパターンの情報ピツト部を多角
形で少なくともその1つの対角線が記録プリフオーマツ
トパターンのトラツクにほぼ平行になるようにすること
により、離型性の悪さに起因する情報ピツト周辺部への
応力の集中を緩和できるため、情報記録媒体用基板の凹
凸プリフオーマツト周辺部の欠けやクラツク等の欠陥の
発生を抑えることができる。
の凹凸プリフオーマツトパターンの情報ピツト部を多角
形で少なくともその1つの対角線が記録プリフオーマツ
トパターンのトラツクにほぼ平行になるようにすること
により、離型性の悪さに起因する情報ピツト周辺部への
応力の集中を緩和できるため、情報記録媒体用基板の凹
凸プリフオーマツト周辺部の欠けやクラツク等の欠陥の
発生を抑えることができる。
次に本発明を図を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明による情報記録媒体用基板の成形用型
である。情報ピツトの先端の角度θは180゜以下、好ま
しくは20゜<θ<100゜で、ピツト長m及び幅dは、該
情報ピツトの再生時の再生装置の処理系によって設計さ
れるが一般的にはピツト長mは0.1μm〜20μm,幅dは
0.1μm〜20μmの間で選ばれ、又ピツトの深さは3000
Å以下である。
である。情報ピツトの先端の角度θは180゜以下、好ま
しくは20゜<θ<100゜で、ピツト長m及び幅dは、該
情報ピツトの再生時の再生装置の処理系によって設計さ
れるが一般的にはピツト長mは0.1μm〜20μm,幅dは
0.1μm〜20μmの間で選ばれ、又ピツトの深さは3000
Å以下である。
更に、lは0でもよく、該情報ピツトの先端が上述の
θの条件を満たし、更に少なくとも1つの対角線が記録
プリフオーマツトパターンのトラツクにほぼ平行であれ
ば他の多角形でも良い。尚、本発明においては記録,再
生ビームのスポツト径に相当する誤差は許容範囲とす
る。又、この成形用型は通常のフオトリソ技術によって
製造される。
θの条件を満たし、更に少なくとも1つの対角線が記録
プリフオーマツトパターンのトラツクにほぼ平行であれ
ば他の多角形でも良い。尚、本発明においては記録,再
生ビームのスポツト径に相当する誤差は許容範囲とす
る。又、この成形用型は通常のフオトリソ技術によって
製造される。
次に情報記録媒体用基板の製造方法としては、上述の
成形用型を用いて、従来から知られているインジエクシ
ヨン法や熱プレス法,2p法,注型成形法の通常の手順に
従って行なわればよく、又、これらの方法は情報記録媒
体用基板として用いる材料によって適当に選べば良い。
成形用型を用いて、従来から知られているインジエクシ
ヨン法や熱プレス法,2p法,注型成形法の通常の手順に
従って行なわればよく、又、これらの方法は情報記録媒
体用基板として用いる材料によって適当に選べば良い。
情報記録媒体用基板の材料としては、例えばアクリル
系樹脂,エポキシ樹脂,ポリカーボネート樹脂,不飽和
ポリエステル樹脂などを用いることができる。
系樹脂,エポキシ樹脂,ポリカーボネート樹脂,不飽和
ポリエステル樹脂などを用いることができる。
このようにして得られた凹凸プリフオーマツトを有す
る情報記録媒体用基板の凹凸プリフオーマツト面上に記
録層を設け、接着層を介して保護基板を接着することに
より、第3図及び第4図に示すような凹凸プリフオーマ
ツトの情報ピツト部が多角形で少なくともその1つの対
角線が記録プリフオーマツトのトラツクにほぼ平行に形
成された基板を有する情報記録媒体を得る。
る情報記録媒体用基板の凹凸プリフオーマツト面上に記
録層を設け、接着層を介して保護基板を接着することに
より、第3図及び第4図に示すような凹凸プリフオーマ
ツトの情報ピツト部が多角形で少なくともその1つの対
角線が記録プリフオーマツトのトラツクにほぼ平行に形
成された基板を有する情報記録媒体を得る。
本発明に用いられる記録層としては、例えばシアニン
系色素,アントラキノン系色素,メロシアニン系色素,
遷移金属錯体(例えばジアミン系金属錯体,ジチオール
系金属錯体)等の有機系色素あるいはそれらをポリマー
中に導入したもの、さらにBi,Teあるいはこれらの合金
等カルコゲン系化合物などが挙げられる。
系色素,アントラキノン系色素,メロシアニン系色素,
遷移金属錯体(例えばジアミン系金属錯体,ジチオール
系金属錯体)等の有機系色素あるいはそれらをポリマー
中に導入したもの、さらにBi,Teあるいはこれらの合金
等カルコゲン系化合物などが挙げられる。
記録層は塗布,蒸着,スプレーなどによって積層する
ことができる。
ことができる。
又、本発明に用いられる接着層としては、例えば酢酸
ビニル系,酢酸ビニルアクリル系,酢酸ビニル共重合
体,酢酸ビニルエマルジヨン系,アクリル系,アクリレ
ート系,アクリル共重合系,エチレン系,エチレン酢酸
ビニル系,エチレン酢酸ビニル共重合系,ポリエチレン
系,塩化メチレン系,ポリアミド系,ポリアミド−アミ
ン系,ポリイミド系,ユリア系,エポキシ系,エポキシ
ウレタン系,エポキシアクリレート系,ウレタンアクリ
レート系,ポリエステル系,クロロプレン系,クロロプ
レンゴム系,ニトリル系,ニトリルゴム系,ウレタン
系,ビニルウレタン系,ポリウレタン系,オレフイン
系,シアノアクリレート系,アルキルアクリレート系,
塩化ビニル系,フエノール系,SBR系(スチレンブタジエ
ンゴム),ポリオール系,シリカアルミナ系,合成ゴム
系,エマルジヨン系,オリゴエステル系,セルロース
系,ホルムアルデヒド系,紫外線硬化型接着剤,有機溶
剤,スチレンブタジエン系,フレオンTA系等が利用でき
る。接着の際、熱,光,電子線等エネルギーを必要とす
るものも、そのエネルギーが光記録材料の機能を劣化さ
せない限り有効である。
ビニル系,酢酸ビニルアクリル系,酢酸ビニル共重合
体,酢酸ビニルエマルジヨン系,アクリル系,アクリレ
ート系,アクリル共重合系,エチレン系,エチレン酢酸
ビニル系,エチレン酢酸ビニル共重合系,ポリエチレン
系,塩化メチレン系,ポリアミド系,ポリアミド−アミ
ン系,ポリイミド系,ユリア系,エポキシ系,エポキシ
ウレタン系,エポキシアクリレート系,ウレタンアクリ
レート系,ポリエステル系,クロロプレン系,クロロプ
レンゴム系,ニトリル系,ニトリルゴム系,ウレタン
系,ビニルウレタン系,ポリウレタン系,オレフイン
系,シアノアクリレート系,アルキルアクリレート系,
塩化ビニル系,フエノール系,SBR系(スチレンブタジエ
ンゴム),ポリオール系,シリカアルミナ系,合成ゴム
系,エマルジヨン系,オリゴエステル系,セルロース
系,ホルムアルデヒド系,紫外線硬化型接着剤,有機溶
剤,スチレンブタジエン系,フレオンTA系等が利用でき
る。接着の際、熱,光,電子線等エネルギーを必要とす
るものも、そのエネルギーが光記録材料の機能を劣化さ
せない限り有効である。
又、保護基板としては通常の保護層として用いること
ができるあらゆる材料が使用可能であり、具体的にはポ
リ塩化ビニル,弗素置換エチレン重合体,塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体,ポリ塩化ビニリデン,ポリメタク
リル酸メチル等アクリル重合体,ポリスチレン,ポリビ
ニルブチラール,アセチルセルロース,スチレン−ブタ
ジエン共重合体,ポリエチレン,ポリプロピレン,ポリ
カーボネート,エポキシアクリロニトリル−ブタジエン
−スチレン共重合体等が用いられる。
ができるあらゆる材料が使用可能であり、具体的にはポ
リ塩化ビニル,弗素置換エチレン重合体,塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体,ポリ塩化ビニリデン,ポリメタク
リル酸メチル等アクリル重合体,ポリスチレン,ポリビ
ニルブチラール,アセチルセルロース,スチレン−ブタ
ジエン共重合体,ポリエチレン,ポリプロピレン,ポリ
カーボネート,エポキシアクリロニトリル−ブタジエン
−スチレン共重合体等が用いられる。
場合によっては鉄,ステンレス,アルミニウム,ス
ズ,銅,亜鉛等の金属シート、合成紙、紙、また繊維強
化プラスチツク、磁性体等金属粉末とプラスチツクの複
合材、セラミツクス等用途に応じて多種多様のものが使
用可能である。無論透明基材に用いられるものを使用し
てもよい。
ズ,銅,亜鉛等の金属シート、合成紙、紙、また繊維強
化プラスチツク、磁性体等金属粉末とプラスチツクの複
合材、セラミツクス等用途に応じて多種多様のものが使
用可能である。無論透明基材に用いられるものを使用し
てもよい。
実施例1 実施例1として注型成形によって情報記録媒体用基板
を作成した。
を作成した。
基材として鏡面を有する厚さ2.3mmのガラス板を用
い、その上に真空蒸着法により厚さ1000〜3000Åのクロ
ム膜を形成した。この厚みはプレフオーマツトパターン
の深さに硬化する樹脂の収縮率を考慮した値とする。更
に、該クロム膜の上にポジ型フオトレジストをスピンコ
ート法により厚さ1000Åとなる様に塗布した。次にプリ
フオーマツトパターンに対応して形成されたマスクを介
して光照射を行って露光した後、現像してフオトレジス
ト下面のクロム膜を露出させた。
い、その上に真空蒸着法により厚さ1000〜3000Åのクロ
ム膜を形成した。この厚みはプレフオーマツトパターン
の深さに硬化する樹脂の収縮率を考慮した値とする。更
に、該クロム膜の上にポジ型フオトレジストをスピンコ
ート法により厚さ1000Åとなる様に塗布した。次にプリ
フオーマツトパターンに対応して形成されたマスクを介
して光照射を行って露光した後、現像してフオトレジス
ト下面のクロム膜を露出させた。
プリフオーマツトパターンは第5図に示すようにトラ
ツク溝の幅a=3μm,トラツク部の幅b=12μm,情報ピ
ツト2はθ=60゜,m=10μm,d=6μmでピツチは10μ
mのパターンとした。
ツク溝の幅a=3μm,トラツク部の幅b=12μm,情報ピ
ツト2はθ=60゜,m=10μm,d=6μmでピツチは10μ
mのパターンとした。
次にプリフオーマツトパターン部が露出したクロム膜
部を6規定塩酸で基台のガラスが露出するまでエツチン
グを行った後、十分に洗浄して乾燥させた。次に残存フ
オトレジストを酸素プラズマ灰化法により灰化除去し、
プリフオーマツトパターンを形成した注型成形用の型を
得た。
部を6規定塩酸で基台のガラスが露出するまでエツチン
グを行った後、十分に洗浄して乾燥させた。次に残存フ
オトレジストを酸素プラズマ灰化法により灰化除去し、
プリフオーマツトパターンを形成した注型成形用の型を
得た。
これを注型成形用の型としてその型と同じ大きさの鏡
面を有する厚さ3mmのガラス板をスペーサを介して設置
し注型成形装置とした。
面を有する厚さ3mmのガラス板をスペーサを介して設置
し注型成形装置とした。
該装置に、重合促進剤を加えたアクリル樹脂のプレポ
リマーを注入し100℃で10時間硬化させた後脱型し、得
られた情報記録媒体用基板のプリフオーマツトの情報ピ
ツトの周辺部の欠けやクラツク等の欠陥の発生状況を検
査した。その後、該基板の凹凸プリフオーマツト面上に
シアニン系色素をスピンコートによって厚さ0.1μmに
塗布し、その上に保護基材をエチレン−酢酸ビニル系接
着剤からなる接着層を介して接着し、情報記録媒体を作
成した。
リマーを注入し100℃で10時間硬化させた後脱型し、得
られた情報記録媒体用基板のプリフオーマツトの情報ピ
ツトの周辺部の欠けやクラツク等の欠陥の発生状況を検
査した。その後、該基板の凹凸プリフオーマツト面上に
シアニン系色素をスピンコートによって厚さ0.1μmに
塗布し、その上に保護基材をエチレン−酢酸ビニル系接
着剤からなる接着層を介して接着し、情報記録媒体を作
成した。
実施例2 ピツト形状をθ=90゜,m=10μm,l=4μm,d=6μm
とし、ピツチを10μmにした他は実施例1と全く同様に
して注型成形法で得られた情報記録媒体用基板のプリフ
オーマツトの情報ピツトの周辺部の欠けやクラツク等の
欠陥の発生状況を検査した。その後、実施例1と同様に
して情報記録媒体を作成した。
とし、ピツチを10μmにした他は実施例1と全く同様に
して注型成形法で得られた情報記録媒体用基板のプリフ
オーマツトの情報ピツトの周辺部の欠けやクラツク等の
欠陥の発生状況を検査した。その後、実施例1と同様に
して情報記録媒体を作成した。
比較例1 ピツト形状を縦6μm,横6μmの正方形として、該ピ
ツトを第11図の様に配置した以外は実施例1と全く同様
にして情報記録媒体用基板を作成し、欠陥の発生状況を
検査した。その後、実施例1と同様にして情報記録媒体
を作成した。
ツトを第11図の様に配置した以外は実施例1と全く同様
にして情報記録媒体用基板を作成し、欠陥の発生状況を
検査した。その後、実施例1と同様にして情報記録媒体
を作成した。
以上の結果として情報記録媒体用基板の情報ピツトの
周辺部の欠け,クラツク等の欠陥発生率を第1表に示し
た。
周辺部の欠け,クラツク等の欠陥発生率を第1表に示し
た。
実施例3 実施例3として情報記録媒体用基板を圧縮成形により
作成した。基材として鏡面を有する厚さ2.3mmの超硬合
金を用いその上にスパツタリングによって厚さ1000〜30
00ÅのTiN膜を成膜した。この厚みはプリフオーマツト
パターンの深さの値である。
作成した。基材として鏡面を有する厚さ2.3mmの超硬合
金を用いその上にスパツタリングによって厚さ1000〜30
00ÅのTiN膜を成膜した。この厚みはプリフオーマツト
パターンの深さの値である。
次に該TiN膜上にポジ型フオトレジストをスピンコー
ト法により厚さ1000Åとなる様に塗布した後、該フオト
レジスト上に前述の形状のプリフオーマツトパターンに
対応して形成されたマスクを介して光照射を行って露光
し、現像を行ってフオトレジスト下面のTiNを露出させ
た。
ト法により厚さ1000Åとなる様に塗布した後、該フオト
レジスト上に前述の形状のプリフオーマツトパターンに
対応して形成されたマスクを介して光照射を行って露光
し、現像を行ってフオトレジスト下面のTiNを露出させ
た。
プリフオーマツトパターンは実施例1と同様にトラツ
ク溝の幅a=3μm,トラツク部の幅b=12μm,情報ピツ
トはθ=60゜,m=6μmでピツチe=10μmのパターン
とした。
ク溝の幅a=3μm,トラツク部の幅b=12μm,情報ピツ
トはθ=60゜,m=6μmでピツチe=10μmのパターン
とした。
次にプリフオーマツトパターン部が露出したTiN膜の
ドライエツチングを行った後、残存フオトレジストを酸
素プラズマ灰化法により灰化除去し、プリフオーマツト
パターンを形成した圧縮成形用の型を得た。この型を用
いて圧縮成形装置を構成し、この装置に厚さ0.4mmのポ
リメチルメタクリレートフイルムを挿入して最高温度12
0〜130℃,最高圧力100kgf/cm2で圧縮成形し、該フイル
ムの片面に凹凸プリフオーマツトパターンを転写して情
報記録媒体用基板を作成し、情報ピツト周辺部の欠陥の
発生状況を検査した。その後、実施例1と同様にして情
報記録媒体を作成した。
ドライエツチングを行った後、残存フオトレジストを酸
素プラズマ灰化法により灰化除去し、プリフオーマツト
パターンを形成した圧縮成形用の型を得た。この型を用
いて圧縮成形装置を構成し、この装置に厚さ0.4mmのポ
リメチルメタクリレートフイルムを挿入して最高温度12
0〜130℃,最高圧力100kgf/cm2で圧縮成形し、該フイル
ムの片面に凹凸プリフオーマツトパターンを転写して情
報記録媒体用基板を作成し、情報ピツト周辺部の欠陥の
発生状況を検査した。その後、実施例1と同様にして情
報記録媒体を作成した。
比較例2 情報ピツトのピツト形状を縦6μm,横6μmの正方形
として、該ピツトを第6図の様に配置した以外は実施例
3と全く同様にして情報記録媒体用基板を作成し、情報
ピツト周辺部の欠陥の発生状況を検査した。
として、該ピツトを第6図の様に配置した以外は実施例
3と全く同様にして情報記録媒体用基板を作成し、情報
ピツト周辺部の欠陥の発生状況を検査した。
その後、実施例1と同様にして情報記録媒体を作成し
た。
た。
以上の結果として情報記録媒体用基板の情報ピツトの
周辺部の欠け,クラツク等の欠陥発生率を第2表に示
す。但し圧縮成形の場合、使用回数が増加するにつれて
該基板の欠陥発生率が増加するため成形用型の使用回数
を0〜100回,101〜300回,301〜500回に分けて、そこか
ら得られた3種類の基板について欠陥発生率を算出し
た。
周辺部の欠け,クラツク等の欠陥発生率を第2表に示
す。但し圧縮成形の場合、使用回数が増加するにつれて
該基板の欠陥発生率が増加するため成形用型の使用回数
を0〜100回,101〜300回,301〜500回に分けて、そこか
ら得られた3種類の基板について欠陥発生率を算出し
た。
なお、上記第1表及び第2表の欠陥発生率とは凹凸プ
リフオーマツトを有する基板を作成し、その凹凸プリフ
オーマツトの周辺部に1ヶ所でも欠けやクラツクが生じ
ていた場合には欠陥ありとして、 (欠陥の発生した基板の数/作成した基板の数)×100 で算出した値である。
リフオーマツトを有する基板を作成し、その凹凸プリフ
オーマツトの周辺部に1ヶ所でも欠けやクラツクが生じ
ていた場合には欠陥ありとして、 (欠陥の発生した基板の数/作成した基板の数)×100 で算出した値である。
以上、本発明によれば型成形により作成される凹凸プ
リフオーマツトを有する情報記録媒体用基板のプリフオ
ーマツト、特に情報ピツトの周辺部の欠けやクラツク等
を抑えることができ、該基板を用いて作成した情報記録
媒体の歩留まりが良くなり、低コストとすることができ
る。
リフオーマツトを有する情報記録媒体用基板のプリフオ
ーマツト、特に情報ピツトの周辺部の欠けやクラツク等
を抑えることができ、該基板を用いて作成した情報記録
媒体の歩留まりが良くなり、低コストとすることができ
る。
以上説明したように本発明は、 (1)情報記録媒体用基板の凹凸プリフオーマツトの周
辺部の欠けやクラツク等の欠陥を低減し、 (2)プリフオーマツトパターンの精度が向上し、 (3)情報記録媒体の信頼性を高める、 効果を有する。
辺部の欠けやクラツク等の欠陥を低減し、 (2)プリフオーマツトパターンの精度が向上し、 (3)情報記録媒体の信頼性を高める、 効果を有する。
第1図は本発明に係る情報記録媒体用基板の成形用型の
一実施態様を示す平面図。 第2図は本発明に係る情報記録媒体用基板の凹凸プリフ
オーマツトパターンが有する情報ピツトの形状の他の実
施態様。 第3図は本発明に係る情報記録媒体用基板を用いて形成
された情報記録媒体の一実施態様の平面図。 第4図は第3図をA−A′で切断したときの情報記録媒
体の断面図。 第5図は本発明の実施例1の説明図。 第6図は従来の情報記録媒体用基板の成形用型の平面
図。 第7図は情報記録媒体用基板の情報ピツト部の周辺に欠
けによる欠陥を示した図。 第8図は第7図をB−B′で切断したときの断面図。 1はトラツク溝、2は情報ピツト、3は保護基板、4は
接着層、5は記録層、6は情報記録媒体用基板、7は欠
け。
一実施態様を示す平面図。 第2図は本発明に係る情報記録媒体用基板の凹凸プリフ
オーマツトパターンが有する情報ピツトの形状の他の実
施態様。 第3図は本発明に係る情報記録媒体用基板を用いて形成
された情報記録媒体の一実施態様の平面図。 第4図は第3図をA−A′で切断したときの情報記録媒
体の断面図。 第5図は本発明の実施例1の説明図。 第6図は従来の情報記録媒体用基板の成形用型の平面
図。 第7図は情報記録媒体用基板の情報ピツト部の周辺に欠
けによる欠陥を示した図。 第8図は第7図をB−B′で切断したときの断面図。 1はトラツク溝、2は情報ピツト、3は保護基板、4は
接着層、5は記録層、6は情報記録媒体用基板、7は欠
け。
Claims (3)
- 【請求項1】凹凸プリフオーマツトが形成されている基
板を有する情報記録媒体において凹凸プリフオーマツト
の情報ピツト部が多角形で、少なくともその1つの対角
線が記録プリフオーマツトパターンのトラツクにほぼ平
行であることを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項2】凹凸プリフオーマツトを有する情報記録媒
体用基板を型成形により製造する方法において、型面に
形成されている凹凸プリフオーマツトパターンの情報ピ
ツト部が多角形で、少なくともその1つの対角線が記録
プリフオーマツトパターンのトラツクにほぼ平行である
成形型を用いることを特徴とする情報記録媒体用基板の
製造方法。 - 【請求項3】凹凸プリフオーマツトパターンを有する情
報記録媒体用基板の型成形用型において、型面に形成さ
れている凹凸プリフオーマツトパターンの情報ピツト部
が多角形で少なくともその1つの対角線が記録プリフオ
ーマツトパターンのトラツクにほぼ平行であることを特
徴とする情報記録媒体用基板の成形用型。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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US07/301,145 US4956214A (en) | 1988-01-25 | 1989-01-25 | Information recording medium, production process and molding die for substrate therefor |
DE89300677T DE68910546T2 (de) | 1988-01-25 | 1989-01-25 | Informationsaufzeichnungsmedium, Herstellungsverfahren und Prägematrize des Substrates dafür. |
EP89300677A EP0326342B1 (en) | 1988-01-25 | 1989-01-25 | Information recording medium, production process and molding die for substrate therefor |
US07/544,652 US5073101A (en) | 1988-01-25 | 1990-06-27 | Information recording medium, production process and molding die for substrate therefor |
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---|---|---|---|
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---|---|
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---|---|
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- 1989-01-25 DE DE89300677T patent/DE68910546T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-25 EP EP89300677A patent/EP0326342B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-25 US US07/301,145 patent/US4956214A/en not_active Expired - Lifetime
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1990
- 1990-06-27 US US07/544,652 patent/US5073101A/en not_active Expired - Lifetime
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