JP3016256B2 - 高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法 - Google Patents
高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法Info
- Publication number
- JP3016256B2 JP3016256B2 JP3013669A JP1366991A JP3016256B2 JP 3016256 B2 JP3016256 B2 JP 3016256B2 JP 3013669 A JP3013669 A JP 3013669A JP 1366991 A JP1366991 A JP 1366991A JP 3016256 B2 JP3016256 B2 JP 3016256B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- density recording
- recording disk
- resist film
- information signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録ディスクの
成形用スタンパ及びその製造方法に関する。
成形用スタンパ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録デイスクの近年の進歩は目覚ま
しいものがあり、例えば光ディスクの分野においても狭
トラックピッチや線記録密度のアップが検討されてい
る。例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）の次世代タイ
プとして長時間音楽再生ディスクや、圧縮画像の再生デ
ィスクが考えられており、新聞等にはそれに関連した記
事が紹介されている。
しいものがあり、例えば光ディスクの分野においても狭
トラックピッチや線記録密度のアップが検討されてい
る。例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）の次世代タイ
プとして長時間音楽再生ディスクや、圧縮画像の再生デ
ィスクが考えられており、新聞等にはそれに関連した記
事が紹介されている。
【０００３】この様な高密度記録ディスクは、ピットの
寸法が必然的に長さ、幅共に小さくなるため、スタンパ
からの精密なピット転写が困難になる。スタンパは従来
よりＮｉで作られたものが用いられてきているが、Ｎｉ
は周知の通り柔らかい金属であり、この様な精密転写に
必ずしも適切とは言いがたい。また平面性も良好とはい
えない。
寸法が必然的に長さ、幅共に小さくなるため、スタンパ
からの精密なピット転写が困難になる。スタンパは従来
よりＮｉで作られたものが用いられてきているが、Ｎｉ
は周知の通り柔らかい金属であり、この様な精密転写に
必ずしも適切とは言いがたい。また平面性も良好とはい
えない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで金属よりも堅
牢であって、且つ平面性の優れた材料としてはガラスが
あり、スタンパをこれによって作れば高密度記録ディス
クの成形に十分用いることができる。また、スタンパの
材料として、ガラスのような熱伝導率の悪い材料を用い
れば、先に本出願人が出願した特願平１−256105号明細
書に示したように、射出成形法においてはディスクの複
屈折を低減させることができ、更に効果的である。
牢であって、且つ平面性の優れた材料としてはガラスが
あり、スタンパをこれによって作れば高密度記録ディス
クの成形に十分用いることができる。また、スタンパの
材料として、ガラスのような熱伝導率の悪い材料を用い
れば、先に本出願人が出願した特願平１−256105号明細
書に示したように、射出成形法においてはディスクの複
屈折を低減させることができ、更に効果的である。
【０００５】このガラス製スタンパについては、その製
造方法を含め先に本出願人は特願昭63-14085号として出
願しているが、その概要は以下の通りである。図４は、
この種の高密度記録ディスクの従来の成形スタンパの製
造工程を示すものである。まず、高密度に研磨した石英
ガラス基板１の表面上にネガタイプのフォトレジスト２
を均一に塗布する（図４（ａ））。次に、このフォトレ
ジスト２上にレーザ光３を用いて案内溝を記録し（図４
（ｂ））、続いて現像処理により、所望のパターンを得
る（図４（ｃ））。次に、この基板にＣＦ4 ガスプラズ
マ４中でドライエッチングを行ない所望の深さで停止さ
せる（図４（ｄ））。更に残存するフォトレジスト２を
酸素（Ｏ2 ）プラズマによりアッシングして除去し、ガ
ラス製のスタンパを得る（図４（ｅ））。このスタンパ
から２Ｐ法等によりディスク基板を作成し、記録膜およ
び保護膜をコーティングして例えば光ディスク等の情報
記録担体を得ていた。この時のネガタイプのフォトレジ
スト（以下、単にネガレジストと記すこともある。）を
用いたフォトリソグラフィーでは、ドライエッチングに
おいてスタンパのピット幅が1.00μｍまでが限界で、す
なわち、ＣＤよりやや大きなピットサイズまでが限界で
あってこれ以下の幅のピットを有するガラススタンパは
作成することができなかった。これは、照射光を短波長
にしてもネガレジスト特有の性質、即ち、露光部と未露
光部の溶解度比が小さいと言う特徴により、ピットの裾
野が広く拡がってしまうためである。
造方法を含め先に本出願人は特願昭63-14085号として出
願しているが、その概要は以下の通りである。図４は、
この種の高密度記録ディスクの従来の成形スタンパの製
造工程を示すものである。まず、高密度に研磨した石英
ガラス基板１の表面上にネガタイプのフォトレジスト２
を均一に塗布する（図４（ａ））。次に、このフォトレ
ジスト２上にレーザ光３を用いて案内溝を記録し（図４
（ｂ））、続いて現像処理により、所望のパターンを得
る（図４（ｃ））。次に、この基板にＣＦ4 ガスプラズ
マ４中でドライエッチングを行ない所望の深さで停止さ
せる（図４（ｄ））。更に残存するフォトレジスト２を
酸素（Ｏ2 ）プラズマによりアッシングして除去し、ガ
ラス製のスタンパを得る（図４（ｅ））。このスタンパ
から２Ｐ法等によりディスク基板を作成し、記録膜およ
び保護膜をコーティングして例えば光ディスク等の情報
記録担体を得ていた。この時のネガタイプのフォトレジ
スト（以下、単にネガレジストと記すこともある。）を
用いたフォトリソグラフィーでは、ドライエッチングに
おいてスタンパのピット幅が1.00μｍまでが限界で、す
なわち、ＣＤよりやや大きなピットサイズまでが限界で
あってこれ以下の幅のピットを有するガラススタンパは
作成することができなかった。これは、照射光を短波長
にしてもネガレジスト特有の性質、即ち、露光部と未露
光部の溶解度比が小さいと言う特徴により、ピットの裾
野が広く拡がってしまうためである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、本発明は、下記（１）〜（３）の構成になる高
密度記録ディスク用スタンパの製造方法及び高密度記録
ディスク用スタンパを提供する。 （１） 平坦なガラス板上にビームの照射に感応するポ
ジレジスト膜を塗布する第1工程と、該ポジレジスト膜
に情報信号パターンに応じて変調された該ビームを照射
する第２工程と、リバースべークする第３工程と、該リ
バースべークされた部分を含む全面を一括露光する第４
工程と、該ポジレジスト膜を現像することにより、該ビ
ームが照射されていない部分の該レジスト膜を除去し、
該情報信号パターンに応じたパターンの該レジスト膜を
形成する第５工程と、該レジストパターンをマスクとし
て該ガラス板を所定の深さまでエッチングする第６工程
と、該レジスト膜を除去する第７工程とを備え、該第２
工程における該ビームの照射パワー又は該第３工程にお
ける該リバースべーク温度の少なくとも一方を可変する
ことにより、該情報信号パターンの所望の最小線幅のパ
ターンニングを行うことを特徴とする高密度記録ディス
ク用スタンパの製造方法。 （２） 請求項１記載の高密度記録ディスク用スタンパ
の製造方法で製造された高密度記録ディスク用スタン
パ。 （３） 請求項２記載の高密度記録ディスク用スタンパ
であって、該情報信号パターンの最小線幅が０．１５μ
ｍ〜０．６μｍであることを特徴とする高密度記録ディ
スク用スタンパ。
ために、本発明は、下記（１）〜（３）の構成になる高
密度記録ディスク用スタンパの製造方法及び高密度記録
ディスク用スタンパを提供する。 （１） 平坦なガラス板上にビームの照射に感応するポ
ジレジスト膜を塗布する第1工程と、該ポジレジスト膜
に情報信号パターンに応じて変調された該ビームを照射
する第２工程と、リバースべークする第３工程と、該リ
バースべークされた部分を含む全面を一括露光する第４
工程と、該ポジレジスト膜を現像することにより、該ビ
ームが照射されていない部分の該レジスト膜を除去し、
該情報信号パターンに応じたパターンの該レジスト膜を
形成する第５工程と、該レジストパターンをマスクとし
て該ガラス板を所定の深さまでエッチングする第６工程
と、該レジスト膜を除去する第７工程とを備え、該第２
工程における該ビームの照射パワー又は該第３工程にお
ける該リバースべーク温度の少なくとも一方を可変する
ことにより、該情報信号パターンの所望の最小線幅のパ
ターンニングを行うことを特徴とする高密度記録ディス
ク用スタンパの製造方法。 （２） 請求項１記載の高密度記録ディスク用スタンパ
の製造方法で製造された高密度記録ディスク用スタン
パ。 （３） 請求項２記載の高密度記録ディスク用スタンパ
であって、該情報信号パターンの最小線幅が０．１５μ
ｍ〜０．６μｍであることを特徴とする高密度記録ディ
スク用スタンパ。
【０００７】
【実施例】本発明は、上述のような問題点を解決する為
に、溶解度比が大きく取れる感光材料を用いる。一般的
なポジタイプのフォトレジスト（以下、単にポジレジス
トと記すこともある）はこれに該当するが、凸のパター
ン（スタンパのパターン）を高精度に得るには不適当で
ある。また、この場合は必然的にマスクを介した一括露
光となるが、このような高精度のマスクを作成するのも
現状では困難である。そこで、ポジレジストを用いなが
ら凸のパターンを形成できるイメージリバーサル法が適
当と考えることができるが、これについても従来は0.6
μｍ幅の解像が限界であった。しかし、この手法につい
て鋭意検討を進めたところ、プロセスの最適化によって
0.6 μｍ以下のパターンも十分可能であり、0.15μｍの
解像までできることが分かったものである。
に、溶解度比が大きく取れる感光材料を用いる。一般的
なポジタイプのフォトレジスト（以下、単にポジレジス
トと記すこともある）はこれに該当するが、凸のパター
ン（スタンパのパターン）を高精度に得るには不適当で
ある。また、この場合は必然的にマスクを介した一括露
光となるが、このような高精度のマスクを作成するのも
現状では困難である。そこで、ポジレジストを用いなが
ら凸のパターンを形成できるイメージリバーサル法が適
当と考えることができるが、これについても従来は0.6
μｍ幅の解像が限界であった。しかし、この手法につい
て鋭意検討を進めたところ、プロセスの最適化によって
0.6 μｍ以下のパターンも十分可能であり、0.15μｍの
解像までできることが分かったものである。
【０００８】具体的には、露光に短波長レーザ光を用
い、まず0.5 μｍ近くまでスポットを集光することが必
要である。この条件のもとでイメージリバーサルを行な
つた例を図２として示す（条件としてレーザ波長：413
ｎｍ、ＮＡ：0.94、レジスト：ＡＺ5206Ｅ）。この図２
は、リバースベーク温度とレーザパワーをパラメータと
し、ピットの幅を調べたものである。このように、リバ
ースベーク温度が高くなるにつれピットが太くなり、ま
たレーザパワーが強くなるにつれて太くなる傾向にある
ことがわかる。言い換えれば、リバースベーク温度、レ
ーザパワーの少なくとも一方を可変させることで所望の
ピットサイズのパターンニングをすることができる。こ
のとき得られた最短ピット凸形状の幅は最小で0.15μｍ
であった。
い、まず0.5 μｍ近くまでスポットを集光することが必
要である。この条件のもとでイメージリバーサルを行な
つた例を図２として示す（条件としてレーザ波長：413
ｎｍ、ＮＡ：0.94、レジスト：ＡＺ5206Ｅ）。この図２
は、リバースベーク温度とレーザパワーをパラメータと
し、ピットの幅を調べたものである。このように、リバ
ースベーク温度が高くなるにつれピットが太くなり、ま
たレーザパワーが強くなるにつれて太くなる傾向にある
ことがわかる。言い換えれば、リバースベーク温度、レ
ーザパワーの少なくとも一方を可変させることで所望の
ピットサイズのパターンニングをすることができる。こ
のとき得られた最短ピット凸形状の幅は最小で0.15μｍ
であった。
【０００９】実施例１ 図１は、本発明になる高密度記録ディスク用スタンパの
製造工程の一例を示す図である。まず、高密度に研磨し
た石英ガラス基板１０の表面上にポジタイプのフォトレ
ジスト１１（ＡＺ5206Ｅレジスト、ヘキストジャパン
（株））を1000オングストロームの厚みで均一に塗布
し、これを90℃で30分プリベークした（図１（ａ））。
次に、このポジレジスト１１上に413 ｎｍのＫｒレー
ザ、ＮＡ0.94のレンズを用い、レーザパワー4.6 ｍＷの
レーザ光１２を用いて案内溝を記録した（図１
（ｂ））。次に、これを115 ℃で５分間ベーキング（リ
バースベーク）し、露光部１３を架橋させる（図１
（ｃ））。次に、全面を一括露光し、レーザ露光が行わ
れていなかった部分１１Ａをアルカリ可溶とする（図１
（ｄ））。続いて30秒現像することによって凸のパター
ンを得る（図１（ｅ））。これをマスクとし、6.0 ×10
-2 ｔｏｒｒ（ガスはＣＨＦ3 ）、200 Ｗの条件でドラ
イエッチングする（図１（ｆ））。続いて、残存してい
るフォトレジストを除去し所望のスタンパを得る（図１
（ｇ））。得られたスタンパをタリステップ及びＳＥＭ
で評価したところ、高さ850 オングストローム、ピット
幅0.3 μｍの凸ピットを有するガラススタンパが得られ
ていた。
製造工程の一例を示す図である。まず、高密度に研磨し
た石英ガラス基板１０の表面上にポジタイプのフォトレ
ジスト１１（ＡＺ5206Ｅレジスト、ヘキストジャパン
（株））を1000オングストロームの厚みで均一に塗布
し、これを90℃で30分プリベークした（図１（ａ））。
次に、このポジレジスト１１上に413 ｎｍのＫｒレー
ザ、ＮＡ0.94のレンズを用い、レーザパワー4.6 ｍＷの
レーザ光１２を用いて案内溝を記録した（図１
（ｂ））。次に、これを115 ℃で５分間ベーキング（リ
バースベーク）し、露光部１３を架橋させる（図１
（ｃ））。次に、全面を一括露光し、レーザ露光が行わ
れていなかった部分１１Ａをアルカリ可溶とする（図１
（ｄ））。続いて30秒現像することによって凸のパター
ンを得る（図１（ｅ））。これをマスクとし、6.0 ×10
-2 ｔｏｒｒ（ガスはＣＨＦ3 ）、200 Ｗの条件でドラ
イエッチングする（図１（ｆ））。続いて、残存してい
るフォトレジストを除去し所望のスタンパを得る（図１
（ｇ））。得られたスタンパをタリステップ及びＳＥＭ
で評価したところ、高さ850 オングストローム、ピット
幅0.3 μｍの凸ピットを有するガラススタンパが得られ
ていた。
【００１０】実施例２ レーザパワーを2.4 ｍＷとしたほかは同じとし、ガラス
スタンパを作成した。同様の手段で評価したところ、高
さ850 オングストローム、ピット幅0.15μｍの凸ピット
を有するガラススタンパが得られた。
スタンパを作成した。同様の手段で評価したところ、高
さ850 オングストローム、ピット幅0.15μｍの凸ピット
を有するガラススタンパが得られた。
【００１１】以上のように、ポジレジスト膜を用いると
共にイメージリバーサル法を用いることによって、従来
は不可能であった0.6 μｍ以下の凸パターンを有するガ
ラススタンパを作成することができる。ピットの幅はカ
ッティングのパワ−、ベーキング温度の少なくとも一方
を可変することにより所望のスタンパを得ることができ
る。
共にイメージリバーサル法を用いることによって、従来
は不可能であった0.6 μｍ以下の凸パターンを有するガ
ラススタンパを作成することができる。ピットの幅はカ
ッティングのパワ−、ベーキング温度の少なくとも一方
を可変することにより所望のスタンパを得ることができ
る。
【００１２】以下、その点をスタンパを使用してディス
ク上での比較を行なった一例として図３を用いて説明す
る。この図３より明らかな如く、ピット幅を小さくする
と、トラック方向に多くのピットを配置できるので、ト
ラックピッチを狭くすることが可能となる。ピット幅半
分の0.3 μｍで現行のＣＤの４倍の容量、更に半分の0.
15μｍで16倍の容量とすることが可能となることが分か
る。
ク上での比較を行なった一例として図３を用いて説明す
る。この図３より明らかな如く、ピット幅を小さくする
と、トラック方向に多くのピットを配置できるので、ト
ラックピッチを狭くすることが可能となる。ピット幅半
分の0.3 μｍで現行のＣＤの４倍の容量、更に半分の0.
15μｍで16倍の容量とすることが可能となることが分か
る。
【００１３】なお、なお、上記の実施例では、記録を集
光レーザによって行なっていたが、半導体プロセスと同
様のマスクを介して一括露光する方法を用いてこれを行
なってもよい。その場合には、マスクのパターンニング
及びガラスのパターンニングの２つのフォトリソグラフ
ィー工程が必要となる。しかし、一度マスクを作製すれ
ば一括露光の繰り返しで多数のスタンパを作成すること
ができるので、生産には向いている手法である。ここ
で、マスクのパターンニング及びガラスのパターンニン
グのいずれかはイメージリバーサル法、他方は通常のホ
トレジストによるフォトリソグラフィ−法となる。
光レーザによって行なっていたが、半導体プロセスと同
様のマスクを介して一括露光する方法を用いてこれを行
なってもよい。その場合には、マスクのパターンニング
及びガラスのパターンニングの２つのフォトリソグラフ
ィー工程が必要となる。しかし、一度マスクを作製すれ
ば一括露光の繰り返しで多数のスタンパを作成すること
ができるので、生産には向いている手法である。ここ
で、マスクのパターンニング及びガラスのパターンニン
グのいずれかはイメージリバーサル法、他方は通常のホ
トレジストによるフォトリソグラフィ−法となる。
【発明の効果】上述した構成によって、本発明は次の効
果を奏することができる。即ち、情報信号パターンの所
望の最小線幅のパターンニングに最適なように、前記し
たイメージリバーサル法を用いて、製造工程中における
ビームの照射パワー又はリバースべーク温度の少なくと
も一方を可変してこれを最適値に設定することにより、
所望の最小線幅で情報信号パターンをスタンパ上に正確
に刻設することができるから、このようなイメージリバ
ーサル法を用いないごく一般的なディスク用スタンパの
製造方法と比較して、最小線幅が極めて微小な（例えば
最小線幅が０．１５μｍ〜０．６μｍ）高密度記録ディ
スク用のスタンパを正確に作製することができる。
果を奏することができる。即ち、情報信号パターンの所
望の最小線幅のパターンニングに最適なように、前記し
たイメージリバーサル法を用いて、製造工程中における
ビームの照射パワー又はリバースべーク温度の少なくと
も一方を可変してこれを最適値に設定することにより、
所望の最小線幅で情報信号パターンをスタンパ上に正確
に刻設することができるから、このようなイメージリバ
ーサル法を用いないごく一般的なディスク用スタンパの
製造方法と比較して、最小線幅が極めて微小な（例えば
最小線幅が０．１５μｍ〜０．６μｍ）高密度記録ディ
スク用のスタンパを正確に作製することができる。
【図１】本発明になる高密度記録ディスク用スタンパの
製造工程の一例を示す図である。
製造工程の一例を示す図である。
【図２】本発明になる高密度記録ディスク用スタンパの
製造工程におけるカッティングパワーとピット深さとの
関係を示す図である。
製造工程におけるカッティングパワーとピット深さとの
関係を示す図である。
【図３】本発明になる高密度記録ディスク用スタンパと
他のスタンパを使用してディスク上での比較を行なった
一例を示す図である。
他のスタンパを使用してディスク上での比較を行なった
一例を示す図である。
【図４】従来のスタンパの製造工程の一例を説明するた
めの図である。
めの図である。
１０ ガラス基板 １１ ポジレジスト １２ レーザ光 １３ 露光部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 佐藤 敬介 (56)参考文献 特開 平１−188332（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−157638（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/26 B29C 33/38 B29C 33/42 B29L 17:00
Claims (3)
- 【請求項１】 平坦なガラス板上にビームの照射に感応
するポジレジスト膜を塗布する第1工程と、 該ポジレジスト膜に情報信号パターンに応じて変調され
た該ビームを照射する第２工程と、 リバースべークする第３工程と、 該リバースべークされた部分を含む全面を一括露光する
第４工程と、 該ポジレジスト膜を現像することにより、該ビームが照
射されていない部分の該レジスト膜を除去し、該情報信
号パターンに応じたパターンの該レジスト膜を形成する
第５工程と、 該レジストパターンをマスクとして該ガラス板を所定の
深さまでエッチングする第６工程と、 該レジスト膜を除去する第７工程とを備え、 該第２工程における該ビームの照射パワー又は該第３工
程における該リバースべーク温度の少なくとも一方を可
変することにより、該情報信号パターンの所望の最小線
幅のパターンニングを行うことを特徴とする高密度記録
ディスク用スタンパの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の高密度記録ディスク用ス
タンパの製造方法で製造された高密度記録ディスク用ス
タンパ。 - 【請求項３】 請求項２記載の高密度記録ディスク用ス
タンパであって、該情報信号パターンの最小線幅が０．
１５μｍ〜０．６μｍであることを特徴とする高密度記
録ディスク用スタンパ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3013669A JP3016256B2 (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法 |
| US08/411,075 US5480763A (en) | 1991-01-11 | 1995-03-27 | Method for manufacturing a stamper for high-density recording discs |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3013669A JP3016256B2 (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04241237A JPH04241237A (ja) | 1992-08-28 |
| JP3016256B2 true JP3016256B2 (ja) | 2000-03-06 |
Family
ID=11839604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3013669A Expired - Fee Related JP3016256B2 (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5480763A (ja) |
| JP (1) | JP3016256B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08213304A (ja) * | 1995-02-06 | 1996-08-20 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの形成方法 |
| JP3435972B2 (ja) * | 1996-03-26 | 2003-08-11 | トヨタ自動車株式会社 | 成形型の製造方法 |
| DE19612329A1 (de) * | 1996-03-28 | 1997-10-02 | Leybold Ag | Verfahren zur Herstellung einer zum Einsetzen in eine Spritzgießform bestimmten Masterabformung |
| JPH10302321A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Sony Corp | 光ディスクおよび光ディスク製造方法 |
| NL1009106C2 (nl) * | 1998-05-08 | 1999-11-09 | Od & Me Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een stamper, stamper verkregen volgens een dergelijke werkwijze alsmede optische schijf verkregen onder toepassing van een dergelijke stamper. |
| JP3104699B1 (ja) * | 1999-06-01 | 2000-10-30 | 株式会社ニコン | 細溝付き成形基板の製造方法 |
| TW540046B (en) * | 1999-09-01 | 2003-07-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical disk stamper mastering method and apparatus |
| US7018572B2 (en) * | 2001-06-11 | 2006-03-28 | General Electric Company | Method for producing data storage media |
| JP3656591B2 (ja) * | 2001-06-28 | 2005-06-08 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体製造用スタンパの製造方法および光学記録媒体の製造方法 |
| US6667223B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-12-23 | Infineon Technologies Ag | High aspect ratio high density plasma (HDP) oxide gapfill method in a lines and space pattern |
| US6821865B2 (en) * | 2002-12-30 | 2004-11-23 | Infineon Technologies Ag | Deep isolation trenches |
| WO2006043214A2 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure |
| US7364975B2 (en) * | 2006-07-20 | 2008-04-29 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device fabrication methods |
| JP2008269720A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Canon Inc | 透光性スタンパ、透光性スタンパの製造方法及び多層光記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5711765B2 (ja) * | 1973-07-03 | 1982-03-06 | ||
| DE2529054C2 (de) * | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
| JPS569740A (en) * | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| JPH0648546B2 (ja) * | 1984-07-14 | 1994-06-22 | 日本ビクター株式会社 | 情報記録担体の製造法 |
| JPS6126951A (ja) * | 1984-07-14 | 1986-02-06 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録担体複製用原盤の製造法 |
| US4724043A (en) * | 1984-09-04 | 1988-02-09 | International Business Machines Corporation | Process for forming a master mold for optical storage disks |
| JPS6486344A (en) * | 1987-09-29 | 1989-03-31 | Victor Company Of Japan | Information recording carrier and production thereof |
| JP2578459B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1997-02-05 | キヤノン株式会社 | 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 |
| JPH0827998B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1996-03-21 | 日本ビクター株式会社 | 情報記録担体の成形スタンパとその製造方法 |
| JPH01205744A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-18 | Victor Co Of Japan Ltd | スタンパ複製用原盤とその製造方法 |
| JPH0223560A (ja) * | 1988-07-11 | 1990-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気テープ駆動制御装置 |
| US5025510A (en) * | 1988-11-03 | 1991-06-25 | Basile Pauline R | Toilet having hygienic cleaning apparatus |
| JPH02235620A (ja) * | 1989-03-10 | 1990-09-18 | Canon Inc | 光学的情報記録媒体用基板成形ローラー |
| JPH02245322A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Hitachi Chem Co Ltd | 光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法 |
-
1991
- 1991-01-11 JP JP3013669A patent/JP3016256B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-03-27 US US08/411,075 patent/US5480763A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04241237A (ja) | 1992-08-28 |
| US5480763A (en) | 1996-01-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3016256B2 (ja) | 高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法 | |
| US6728196B2 (en) | Reverse optical mastering for data storage disks | |
| JP2582996B2 (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
| JP2001101716A (ja) | 光記録媒体，光記録媒体用原盤の製造方法およびカッティング装置 | |
| JPS62241149A (ja) | 光メモリ素子用フォトマスク及びその製造方法 | |
| JP2004152465A (ja) | 光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法 | |
| US5979772A (en) | Optical card | |
| US20030003326A1 (en) | Recording medium and process for manufacturing the medium | |
| JP4165396B2 (ja) | 凹凸を有する光記録媒体作製用原盤、スタンパ、光記録媒体の各製造方法 | |
| JPH09115190A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
| KR100629831B1 (ko) | 광디스크제조용원반을형성하는방법 | |
| JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPH11120626A (ja) | 光ディスク作製用マスタディスクの製造方法 | |
| JP2708847B2 (ja) | 光学式ディスク用スタンパー及びその製造方法 | |
| JP3465301B2 (ja) | 光ディスク作成用原盤の作成方法 | |
| JP2002015474A (ja) | 光ディスク原盤及び光ディスク基板の作製方法 | |
| JP3186078B2 (ja) | マスタリング方法、スタンパおよび光記録媒体 | |
| JP2000348387A (ja) | 光記録媒体とその記録再生方法及びマスタスタンパの製造方法 | |
| JPH05120734A (ja) | 光デイスク及びその製造方法 | |
| JP2002245685A (ja) | 微細パターンの形成方法 | |
| JP3186079B2 (ja) | マスタリング方法、スタンパおよび光記録媒体 | |
| JPH07121913A (ja) | 光ディスク製造用スタンパ及びその製造方法 | |
| KR100588616B1 (ko) | 전자빔을 이용한 나노 패턴 마스터 제작 방법 | |
| JPH04311833A (ja) | スタンパの製造方法および光記録媒体 | |
| KR19990027855A (ko) | 광디스크 제작용 마스터디스크 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071224 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |