JPH01205744A - スタンパ複製用原盤とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はスタンパ複製用原盤とその製造方法に係り、特
に光ディスク、光磁気ディスク、］ンバクトディスク（
ＣＤ）等の円盤状情報記録担体の成形スタンパの複製用
原盤とその製造方法に関する。

従来の技術 一般に光ディスク、光磁気ディスク、コンパクトディス
ク等の円盤状情報記録担体はスタンパ複製用原盤に導電
化処理とニッケル電鋳処理等を行なって、スタンパを作
成し、このスタンパより圧縮成形、射出成形、　２　Ｐ
　（ｐｈｏｔｏ　ｐｏｌｙｍａｒｉｚａＮｏｎ）法等に
より所定パターンの溝を有するプラスチックのディスク
が作成され、これに記録膜や保Ｓ！１１０を付けて形成
されている。

この種の円盤状情報記録担体のスタンパを作成するため
のスタンパ複製用原盤は、従来、石英基盤が用いられて
いた。また、その製造方法は第２図に示すように高精度
に研磨された石英基盤５の表面上にフォトレジスト６を
均一に塗布しく第２図（ａ））、このフォトレジスト６
上から所定のパターンとなるようレーザ光７を照射して
（第２図（ｂ））、現像処理を行ないく第２図（Ｃ））
、ＣＦ４などのガスプラズマ８中でドライエツチングを
行ない（第２図（ｄ））、ビットを形成した後、残存す
るフォトレジスト６を０２アツシング等によって除去し
て作成されていた（第２図（ｅ））。

発明が解決しようとする課題 しかるに、従来の石英基盤を用いたスタンパ複製用原盤
を電子顕微鏡でｆｉｓｈ察すると、エツチングされた溝
の底面に面荒れが生じていることがわかり、これが光デ
ィスク等の製品となったとぎのＳ／Ｎの劣化をもたらす
原因となるという問題点があった。

本発明は上記の点に鑑みてなされたもので面荒れ等の少
ないスタンパ複製用原盤とその製造方法を提供すること
を目的とする。

課題を解決するための手段 情報信号に対応したパターンの溝が形成された面より、
そのパターンを転写することにより複数のスタンパを作
成するスタンパ複製用原盤において、Ｍ盤をドライエツ
チング時に石英に比し６０％以下のエツチングレートを
有するガラス材で構成する。

また、その製造方法はドライエツチング時に石英に比し
６０％以下のエツチングレートを有するガラス材表面に
フォトレジストを塗布する工程と、フォトレジストを選
択的に感光した後、現像することにより所定のパターン
のマスクをガラス材表面上に形成する工程と、フォトレ
ジストによるマスクを介して行なうドライエツチングに
よってガラス材に所定のパターンの溝を形成する工程と
、マスクを除去する工程とを含む。

作用 スタンパ複製用原盤のＭ盤をドライエツチング時に石英
に比し６０％以下のエツチングレートを有するガラス材
で構成し、ドライエツチングにより情報信号に対応した
溝を形成する。このため、ドライエツチングにおいては
エツチングレートが小なるほどエツチング面の面荒れが
小となることにより、情報信号に対応した溝の面荒れを
小さくすることができる。

実施例 第１図は本発明のスタンパ複製用原盤の製造方法の一実
施例を説明するための図を示す。図中、１は基盤、２は
フォトレジスト、３はレーザ光、４はガスプラズマを示
す。

基盤材料として石英と類似した特性を有しながら、不純
物を含む材料であるガラス材に注目した。

種々の組成比のガラスを同一条件下でドライエツチング
をして面荒れ及びエツチングレートを調べた結果を表１
に示す。

表１に示すように■型石英、■型石英、ホウケイ酸ガラ
スはエツチングレートは大であり、面荒れは大きく、ま
た、ソーダ石灰ガラス、ソーダ・アルミノ・ケイ酸ガラ
ス、バリウムホウケイ酸ガラスはエツチングレートは小
τあり、面荒れは小さい。

表１ Ｉト 奪 エツチング・ガス：ＣＦ４ 表２ すなわち、エツチングレートと面荒れには相関関係があ
り、エツチングレートの大きなガラスはど面荒れも大き
いという関係が得られる。

ざらに、ガラスの組成比に注目して考察してみると、ガ
ラス中に含まれる５ｆＯ２や８２０３の母が多い程エツ
ヂングレートは大きく、Ｎａｚ　Ｏ。

Ｋ２０．Ｍｌ；ＪＯ，Ｃａｂ、Ａｄｚ　０３　、ａａｏ
の聞が多いほどエツチングレートは小さいことがわかる
。また、表２は主なガラス構成物質のフッ化物の蒸気圧
が１Ｑｔｏｒｒとなるときの温度を化学便覧・基礎編５
５５ページ（１９７５年・日本化学金偏）より引用して
示したもので、ＳｉＯ２や８２０３のようにフッ化物と
なったときの温度が低いものは大きなエツチングレート
を生み、Ｎａ２Ｏ。

Ｋ２０．Ａｅ２０３のようなフッ化物となったときの温
度の高いものは小さなエツチングレートを生むことがわ
かる。したがって、ガラスのエツチングレートは構成物
質の組成比により決定され、石英やホウケイ酸ガラスの
ようにエツチングレートの大きなガラスはエツチング量
の面荒れが大きくスタンパ複製用原盤には不適当である
ことがわかる。

そこで本実施例では基盤１としてドライエツチングにお
いてエツチングレートが石英に比し６０％以下のソーダ
石灰ガラスを用いる。そして、第１図（ａ）に示すよう
に基盤１上にフォトレジスト２を均一な膜厚で塗布する
。続いて、第１図（ｂ）に示すようにフォトレジスト２
上からレーザビーム３を照射して現像することにより、
第１図（Ｃ）に示すような所定のパターンを得る。次に
第１図（ｄ）に示すように基盤１をＣＦａガスプラズマ
４中でドライエツチングし、ガラス材１が所定の深さま
でエツチングされたところ停止させる。さらに第１図（
ｅ）に示すように残存するフォトレジスト２を０２アツ
シングして除去して、スタンパ複製用原盤を得る。

このようにして得たスタンパ複製用原盤から公知の方法
でスタンパを作成し、このスタンパより光ディスク等を
作成する。このようにして得た光ディスクではビット底
面の面荒れが小さく、良好なＳ／Ｎを示した。

また、基盤１をソーダアルミノケイ酸ガラス（強化ガラ
ス）とし、ガスプラズマ４をＣＨＦ３ガスとして上記の
ような方法で製作した光ディスクも而荒れが小さく、良
好なＳ／Ｎを示した。

なお、本実施例ではフォトレジスト上に直接レーザ光を
照射してパターンを得たが、あらかじめパターンが形成
されたクロムマスクなどを介して、紫外線を照射してパ
ターンを得てもよい。

また、プラズマに使用する反応ガスはＣＦ４、ＣＨＦｚ
だけでなくガラスと反応性のあるフッ素系ガスであれば
よく、例えばＣ２Ｆｓ　、　Ｃ３Ｆ８　。

ＮＦ３やこれらの混合ガスなどでもよい。

さらに、ディスクのトラッキング特性を良好にするため
にスタンパ複製用原盤の案内溝パターンにテーパを付与
してもよく、テーパ化には特開昭６１−２６９５２号公
報に示すようなガラスのドライエツチング時にレジスト
を同時にエツチングしてテーパ化する方法を導入するこ
とも可能である。

発明の効果 上述の如く、本発明によれば、ドライエツチングにおい
てエツチングレートが石英に比し、６０％以下のガラス
材を用い、ドライエツチングによりスタンパ複製用原盤
を作成することにより、エツチングされた渦の底面の面
荒れを小さくすることができるため、そのスタンパ複製
用原盤により作成されたスタンパの面荒れも小さくなり
、さらに、そのスタンパにより作成されたディスクの面
荒れも小さくできるのでＳ／Ｎが良好となり、また、ガ
ラス材は機械的強度に優れた材料であるため、損傷を受
けにくく、多数のスタンパの複製が可能となり、長期保
存も可能で、さらに、石英に比し安価であるためコスト
的にも有利となる等の特長を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のスタンパ複製用原盤の製造方法の一実
施例を説明するための図、第２図は従来のスタンパ複製
用原盤の製造方法の・−例を説明するための図である。 １・・・）Ｉｆｆ、２・・・フォトレジスト、３・・・
レーザ光、４・・・ガスプラズマ。 特許出願人　日本ビクター株式会社 第１図 （ｅ）Ｅ上〕クミ五ト１　　　　↓↓◆÷〜８（ｅ）と
上ユクニＦｒ５

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）情報信号に対応したパターンの溝が形成された面
   より該パターンを転写することにより複数のスタンパを
   作成するスタンパ複製用原盤において、 基盤がドライエッチング時に石英に比し６０％以下のエ
   ッチングレートを有するガラス材よりなることを特徴と
   するスタンパ複製用原盤。
2. （２）ドライエッチング時に石英に比し６０％以下のエ
   ッチングレートを有するガラス材表面にフォトレジスト
   を塗布する工程と、 該フォトレジストを選択的に感光した後、現像すること
   により所定のパターンのマスクを該ガラス材表面上に形
   成する工程と、 該マスクを介して行なうドライエッチングによつて該ガ
   ラス材に所定のパターンの溝を形成する工程と、 該マスクを除去する工程とを含むことを特徴とする請求
   項１記載のスタンパ複製用原盤の製造方法。