CN100367387C - 光信息存储媒体的原盘制造方法 - Google Patents

光信息存储媒体的原盘制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN100367387C
CN100367387C CNB2004100476917A CN200410047691A CN100367387C CN 100367387 C CN100367387 C CN 100367387C CN B2004100476917 A CNB2004100476917 A CN B2004100476917A CN 200410047691 A CN200410047691 A CN 200410047691A CN 100367387 C CN100367387 C CN 100367387C
Authority
CN
China
Prior art keywords
mentioned
recording layer
auxiliary recording
former dish
sensible heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2004100476917A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1573998A (zh
Inventor
伊藤英一
大野锐二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Publication of CN1573998A publication Critical patent/CN1573998A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100367387C publication Critical patent/CN100367387C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47G—HOUSEHOLD OR TABLE EQUIPMENT
    • A47G19/00—Table service
    • A47G19/02—Plates, dishes or the like
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47G—HOUSEHOLD OR TABLE EQUIPMENT
    • A47G2400/00—Details not otherwise provided for in A47G19/00-A47G23/16
    • A47G2400/02—Hygiene
    • A47G2400/025—Avoiding contact with unclean surfaces
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
    • G11B7/24073—Tracks
    • G11B7/24076—Cross sectional shape in the radial direction of a disc, e.g. asymmetrical cross sectional shape
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
    • G11B7/24085—Pits
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)

Abstract

本发明涉及光信息存储媒体的原盘制造方法，它利用热模式记录法，使用由基板(101)、因曝光状态发生变化的感热材料层(102)以及与感热材料层相接触配置的至少有一层的记录辅助层(103)所构成的记录原盘，通过任意的选择记录辅助层的热传导率、光学常数以及厚度等，用热学或光学的方法来控制感热材料层的曝光状态，从而容易的控制形成在原盘上的凹凸图形的截面形状。

Description

光信息存储媒体的原盘制造方法
技术领域
本发明涉及一种为了在记录原盘上形成凹凸图形，而使用热模式记录的光信息存储媒体的原盘制造方法。
背景技术
对照图10来说明以前的光信息存储媒体的原盘制造方法以及压模制造方法。首先在基板1001上覆盖一层薄膜状的光致抗蚀剂1002，制作成记录原盘1003。通过使用激光或电子射线等(记录光)1010给该记录原盘1003曝光，形成引导沟槽以及信息凹坑等所希望的图形的潜像1004(图10(A))。以潜像1004形式记录的希望得到的图形被蚀刻在曝光之后的原盘上，制造出形成凹凸图形的原盘1005(图10(B))。DVD及其后代光信息存储媒体的原盘制造中普遍采用紫外线激光来曝光，并采用碱性溶液来湿蚀刻。利用光致抗蚀剂的曝光这一化学反应来形成潜像，也叫做光子记录模式。通过在原盘1005上形成导电膜1006(图10(C))，导电膜的表面镀上金属层1007(图10(D))，剥离该金属层，并施以冲压等加工方式而得到压模。通过用该压模喷射成形来制造出光信息存储媒体的光盘基板。图10(A)～(D)说明了使用正片型光致抗蚀剂来制造原盘的方法。在使用负片型光致抗蚀剂时，除了在原盘上形成的凹凸点要被反转之外，其他均可使用和所说明的使用正片型的方法一样的方法来制造原盘。
使用感热型材料来代替光致抗蚀剂在基板上形成薄层，用热模式来记录感热型材料层，制造出原盘的方法也已被提案(可参考例如日本国特许公开公报平10-97783号)。所谓热模式记录是指，利用因曝光导致的温度变化所引起的物质状态的变化来记录所定的图形。这里所说的物质“状态变化”，是指物质的物理或/及化学上的性质变化。在制造光信息存储媒体的原盘时，使用热模式记录来产生蚀刻所形成的凹部(以及蚀刻后凸起的部分)。使用热模式记录时，与使用同波长的光的光子模式记录相比，能够得到凹凸轮廓更加清晰的图形。这是由于，因曝光产生的感热材料的状态变化，在该材料达到一定的温度以上时才发生，没有达到一定的温度的部分即使使它升温也不会发生状态变化。所以通过使用热模式记录，能够形成相当细微的图形。另外，使用热模式记录的产品目前已有可重写型光信息存储媒体。可重写型光信息存储媒体中，信息的记录(也即，凹坑的形成)，是利用因温度变化所引起的记录层光学常数的变化来进行的。
如上所述，利用热模式记录法，能在原盘表面形成轮廓清晰的凹凸图形。但是，利用热模式记录所形成的凹部，如下述的图11所示，该凹部的侧面为缓慢倾斜下来的截面形状。也就是说，倾斜角1104有变小的趋势。如果用已经形成了倾斜角较小的凹部(具体的说，引导沟槽以及信号凹坑等)的原盘来制造压模，再用该压模来制造光信息存储媒体，则会带来该光信息存储媒体的引导沟槽以及信号凹坑等的信号的振幅过小的问题。
另外，形成在光信息存储媒体的原盘上的凹凸图形，在制造金属压模以及树脂成形时被复制，在最终的光信息存储媒体上构成引导沟槽以及信号凹坑等。因此，要形成所希望的引导沟槽，对应于所用复制过程在原盘上形成最佳倾斜角1004这一点非常重要。然而在光信息存储媒体的原盘记录上，不仅仅是热模式记录法，即使是光子模式记录法，要自如的控制倾斜角也很困难。
发明内容
本发明以以上事实为鉴，其目的是使用热模式记录法，形成倾斜角更大的凹部或凸部，以及自如的控制倾斜角。
对照图11，来说明在光信息存储媒体的原盘上使用热模式记录法时倾斜角较小的原因。在光信息存储媒体的原盘上使用热模式记录法时，由感热性记录材料制成的感热材料层1101，其一侧表面与大气1102另一侧表面与基板1003接触。由于大气和固体的基板的热传导率一般不同，所以在大气侧和基板侧，因感光引起的感热材料升温的程度也不同。也即如图11所示，感热材料层1101的表面附近容易蓄热，所以因升温所导致的状态变化部分主要存在于感热材料层1101的表面附近。其结果是，凹部蚀刻前的感热材料层厚度和蚀刻之后的感热材料层厚度的比例在面方向上的变化(也即状态未变化部分和状态变化部分之间界限的倾斜)变小。所以，凹部的倾斜角1104变小。这里所说的凹部的倾斜角是指，凹部深度的2分之1处的凹部的侧面的切线和与原盘的主表面平行的面之间所形成的角度，是在蚀刻之后残留部分侧所测定的角度。另外，感热材料层的升温程度，还受到感热材料层对曝光所用波长的光的吸收能力(即光吸收率)的影响，相关光吸收率又随感热材料层两侧的主表面所接触的物质而变化。本发明通过调节感热材料层两侧的主表面所接触的物质(包括空气)的热传导率以及/或者光学常数，来得到所希望的截面形状的凹凸。
本发明提供的第一种光信息存储媒体的原盘制造方法，包括：在包括基板、用随着曝光所引起的温度变化状态发生变化的材料制成的感热材料层、以及用和该感热材料层不同的材料制成的记录辅助层的记录原盘上，对该感热材料层进行曝光，形成状态变化部分的步骤；和在该状态变化部分的的蚀刻率和状态未变化部分的蚀刻率不同的条件下进行第一蚀刻的步骤。本发明的该方法特征在于，在记录原盘上设置对感热材料层具有热以及/或者光学作用的记录辅助层。依据相关特征，在使用热模式记录法形成凹凸图形时，也能够得到以前所没有的截面形状陡峭的凹凸图形。另外通过适当选择记录辅助层的材料及其厚度，能够容易的控制凹凸图形的截面形状。记录辅助层最好被设为和感热材料层主表面相接触。
如上所述，感热材料是一种因曝光导致的温度变化(具体而言是升温)而发生状态变化的材料。这里所说的“状态变化”是指感热材料的化学以及/或者物理上的性质变化。“状态变化部分”比如说等于相变化或者热架桥部分。另外本说明书中所使用的“曝光”并不仅仅指光的照射，还含有电子射线照射的意思。另外，本说明书中所说的“截面形状”如果没有特别说明，是指厚度方向上的截面形状，“表面”如果没有特别说明，是指垂直于厚度方向上的广阔的面(即主表面)。另外本说明书的下述部分中，有时将光信息存储媒体的原盘简称为“原盘”，将通过曝光使感热材料层形成所定的状态变化部分这一操作简称为“记录”。
本发明提供的第二种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种原盘制造方法中所述的记录原盘上，将上述记录辅助层设置在上述感热材料层和上述基板之间。这种情况下，在记录时能够从基板侧对感热材料层进行热的以及/或者光学的控制。
本发明提供的第三种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种或者第二种原盘制造方法中所述的记录原盘上，使上述记录辅助层的构成材料的热传导率和上述基板的构成材料的热传导率不同。通过选择基板的构成材料的热传导率、改变记录辅助层的材料及其厚度，能够容易的控制感热材料层的基板侧的放热性，进一步，能够控制记录原盘上所形成的凹凸图形的截面形状以及记录的灵敏度。
本发明提供的第四种原盘制造方法其特征在于，在如上述第二种或者第三种原盘制造方法中所述的记录原盘上，上述记录辅助层加大了上述感热材料层对曝光所使用的波长的光的光吸收率。该记录原盘具体的说，能够通过根据其基板以及感热材料的光学常数，适当的选择其辅助记录层的光学常数(n+iκ，n：折射率，κ：衰减系数)来制成。另外该记录原盘能够使记录时的感热材料层的记录灵敏度提高。另外还能够控制感热材料层的深度方向上的记录光吸收量的分布，并能够据此来控制凹凸图形的截面形状。
本发明提供的第五种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种原盘制造方法中所述的记录原盘上，将上述感热材料层设置在上述记录辅助层和上述基板之间。第五种方法所使用的记录原盘将基板附近的感热材料层的表面作为下表面，使记录辅助层位于感热材料层的上表面来构成。使用该记录原盘，在记录时能够从记录原盘的曝光表面侧对感热材料层进行热的以及/或者光学的控制。
本发明提供的第六种原盘制造方法其特征在于，如上述第五种原盘制造方法中所述的记录原盘上，在上述第一蚀刻的时候去除上述记录辅助层。在本方法中，选择记录辅助层以及感热材料层的材料还有蚀刻液，使作为相关条件的第一蚀刻能够被实施。根据该第六种方法，在进行第一蚀刻之前不需要去除上述记录辅助层，使得原盘制造工序数能够减少。
本发明提供的第七种原盘制造方法其特征在于，在如上述第五种或者第六种原盘制造方法中所述的记录原盘上，使上述记录辅助层的构成材料的热传导率和与上述记录原盘表面相接触的媒质的热传导率不同。本第七种方法是使用记录辅助层位于感热材料层上方的记录原盘的最佳形态。根据记录原盘的外部媒质的热传导率，改变记录辅助层的材料以及厚度，能够控制感热材料层的记录原盘曝光侧的放热性，进一步，能够控制记录原盘上所形成的凹凸图形的截面形状以及记录的灵敏度。
本发明提供的第八种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种原盘制造方法中所述的记录原盘上，由第一记录辅助层和第二记录辅助层来构成上述记录辅助层，将上述第一记录辅助层设置在感热材料层和基板之间，使感热材料层被设置在第一记录辅助层和第二记录辅助层之间。使用该感热材料层被夹在两层记录辅助层之间的记录原盘，在记录时能够从记录原盘的基板侧以及记录原盘的曝光表面侧对感热材料层进行热的以及/或者光学的控制。
本发明提供的第九种原盘制造方法其特征在于，在如上述第八种原盘制造方法中所述的记录原盘上，使上述第一记录辅助层的构成材料的热传导率和上述基板的构成材料的热传导率不同。该第九种方法所带来的效果和上述第三种方法所带来的效果相同。
本发明提供的第十种原盘制造方法其特征在于，在如上述第八种或者第九种原盘制造方法中所述的记录原盘上，使上述第二记录辅助层的构成材料的热传导率和与上述记录原盘表面相接触的媒质的热传导率不同。该第十种方法所带来的效果和上述第七种方法所带来的效果相同。
本发明提供的第十一种原盘制造方法其特征在于，在如上述第八种至第十种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，上述记录辅助层加大了上述感热材料层对曝光所使用的波长的光的光吸收率。该第十一种方法所带来的效果和上述第五种方法所带来的效果相同。
本发明提供的第十二种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种至第十一种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，在比上述感热材料层以及上述记录辅助层的任何一个都更接近上述基板的位置上设置有金属反射层。该第十二种方法所使用的记录原盘，如果规定距离记录原盘的曝光表面较远的位置为较下的位置，金属反射层便位于比感热材料层以及记录辅助层的任何一个都偏下的位置上。通过设置金属反射层，能够提高记录时感热材料层的光吸收率。
本发明提供的第十三种原盘制造方法其特征在于，在如上述第十二种原盘制造方法中所述的记录原盘上，将上述记录辅助层配置在上述金属反射层和上述感热材料层之间，使该记录辅助层的构成材料的热传导率比上述金属反射层的构成材料的热传导率小。由于金属反射层一般具有较高的热传导率，当其与感热材料层接触时，感热材料层的放热性会变高。本第十三种原盘制造方法中，通过使用热传导率较小的记录辅助层，能够抑止因金属反射层所引起的感热材料层的放热性的变高。
本发明提供的第十四种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一、二、三、四、八、九、十、十一、十二或者第十三种原盘制造方法中所述的记录原盘上，在使上述记录辅助层的蚀刻率比上述感热材料层的上述状态变化部分和上述状态未变化部分之中蚀刻率较高的那个蚀刻率低的条件下，实施上述第一蚀刻。本第十四种制造方法，也即，在使用记录辅助层位于感热材料层和基板之间的记录原盘的情况下实施。本第十四种制造方法在第一蚀刻之际，由于能够抑止记录辅助层表面变粗糙，从而能够使上述凹凸图形的底部平面更平滑。
本发明提供的第十五种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一、二、三、四、八、九、十、十一、十二、十三或者第十四种原盘制造方法中所述的记录原盘上，包括：通过上述第一蚀刻将上述感热材料层有选择的去除之后，实施以上述感热材料层作为掩模的第二蚀刻的步骤；和在上述第二蚀刻之后，实施去除上述感热材料层的第三蚀刻的步骤。经感热材料层的蚀刻形成凹凸图形时，会出现因感热材料层表面粗糙而导致在无法在该感热材料层上得到良好的凹凸图形这种情况。根据本第十五种方法，通过由第二蚀刻在记录辅助层上形成凹凸，再由第三蚀刻使记录辅助层的平滑的表面露出来，能够形成良好的凹凸图形。
本发明提供的第十六种原盘制造方法其特征在于，在如上述第十五种原盘制造方法中所述的记录原盘上，将上述记录辅助层配置在上述感热材料层和上述基板之间，设上述记录辅助层被上述第二蚀刻所蚀刻的深度为d1，上述第二蚀刻之前的上述感热材料层的平均厚度为d2，在使上述记录辅助层比上上述感热材料层的蚀刻选择比比d1/d2大的条件下，进行上述第二蚀刻。这里所说的“深度d1”是指蚀刻之后的凹部的最深的部位的深度，第二蚀刻之前的感热材料层的平均厚度d2是指，如果第一蚀刻之后状态发生了变化的部分成为凹部，指没有凹部的部分的平均厚度，如果状态发生了变化的部分成为凸部，则指凸部的平均厚度。另外，蚀刻的选择比和蚀刻率的比相当。本第十六种方法中，设第二蚀刻时的记录辅助层的蚀刻率为raux，感热材料层的蚀刻率为rheat，则必须满足raux/rheat＞d1/d2。根据本第十六种方法，上述第二蚀刻时作为蚀刻掩模的上述感热材料层并不在蚀刻中消失，经上述第二蚀刻能够形成良好的凹凸图形。本第十六种方法适用于在感热材料层和基板之间设有记录辅助层的任何一种记录原盘。所以，本第十六种方法也同样适用于上述第一记录辅助层和第二记录辅助层之间设有感热材料层的记录原盘。
本发明提供的第十七种原盘制造方法其特征在于，在如上述第十五或者第十六种原盘制造方法中所述的记录原盘上，在上述记录辅助层比上与上述记录辅助层相接触且配置在靠近上述基板的位置上的层的蚀刻选择比大于1的条件下实施上述第二蚀刻。如果将从记录原盘的曝光面到基板的方向作为向下的方向，和记录辅助层相接触且配置在靠近基板的位置上的层就是和记录辅助层的下侧表面相接触的层。该层是例如上述金属反射层之类的层。本第十七种制造方法在上述第二蚀刻之际，由于能够抑止上述记录辅助层的下层的表面变粗糙，从而在该下层的表面在第二蚀刻中露出时，能够形成凹部的底部平面更平滑的良好的凹凸图形。
本发明提供的第十八种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种至第十七种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，在比上述感热材料层以及上述记录辅助层的任何一个都更远离上述基板的位置上，设置有由对上述曝光所使用的光的波长的折射率在1.35至1.65之间的材料构成的透光层。在本第十八种方法种中，由上述特定折射率材料构成的透光层相当与民用机械中的光盘的保护层。因此，由于形成了该透光层，能够使用被大量制造的民用机械的物镜，来使记录原盘与光的焦点重合。这使得低价的民用机械的物镜能够在原盘记录中使用。
本发明提供的第十九种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种至第十八种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，上述感热材料层含有Te和Sb中的任何一种或者两种，Au、Pt、Ag和Cu中任一种或多种以及O元素，上述记录辅助层含有ZnS和SiO2中的任一种或两种元素，上述曝光中使用激光，上述第一蚀刻为碱性蚀刻。在本第十九种方法中，能够使用常规的装置来实施上述曝光以及上述第一蚀刻。也即，通过使用包括由这里所述的材料构成的感热材料层以及记录辅助层的记录原盘，能够使用和制造每一层都具有4.7GB存储容量的直径为12cm的DVD所用的装置一样的装置，来制造比以前的光子模式记录法高5倍的记录密度的原盘。
本发明提供的第二十种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种至第十九种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，上述记录辅助层由树脂材料制成。由于树脂材料比无机材料热传导率小，例如在金属反射层和记录辅助层接触时，形成了热传导率小的记录辅助层，能够被更好的使用。另外，通过将能够溶解于同一种溶液的多个树脂材料混合，能够较容易的得到具有所需特性的材料。
本发明提供的第二十一种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种至第二十种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，上述记录辅助层由无机材料通过蒸镀法或者溅射法制成。蒸镀法或者溅射法，例如通过多种材料混合制成目标材料或者同时使用多种目标材料，能够容易的制成由多种不同无机材料混合构成的记录辅助层，从而能够容易的得到具有所需特性的记录辅助层。
本发明提供的第二十二种原盘制造方法其特征在于，在如上述第一种至第二十一种原盘制造方法任何一种中所述的记录原盘上，上述第一蚀刻所形成的凹部或者凸部的倾斜角在50度以上73度以下。这里所说的凹部倾斜角是指，凹部深度2分之一侧面的切线和原盘主表面的平行面之间，在蚀刻后所残留的部分侧所形成的角度，凸部倾斜角是指，凸部深度2分之一侧面的切线和原盘主表面的平行面之间，在蚀刻后所残留的部分侧所形成的角度。根据本发明的原盘制造方法，通过适当的选择记录原盘的记录辅助层的材料，能够在原盘上制造出使用以前的热模式记录法的原盘制造方法所难以得到的高倾斜角的凹凸图形，从而能够进行高解析度的原盘记录。
本发明另外还提供使用通过本发明的制造方法制造出来的原盘制造出来的压模。使用背景技术中的相关说明所述的常规方法，在原盘表面形成导电膜以及金属层压模来制作压模。
本发明另外还提供通过本发明的制造方法制造出来的原盘，以及通过用该原盘制造出来的压模制造出来的光信息存储媒体。光信息存储媒体为例如DVD以及使用短波长的激光来记录的下一代光盘之类的东西。光信息存储媒体可以是只读型的，也可以是只能一次记录的，还可以是可重写型的。
使用本发明的光信息存储媒体的原盘制造方法，能够容易的控制原盘上所形成的凹凸图形的截面形状。另外，本发明的制造方法通过适当的选择记录原盘的材料以及构造，能够提供向记录原盘记录时的记录灵敏度，扩大热模式记录法所使用的感热材料的选择范围，以及使用低价的物镜来进行原盘记录。
附图说明
图1(A)以及(I)为本发明的原盘制造方法中所用的记录原盘的截面示例图，图1(B)～(H)为各记录原盘曝光之后的截面图
图2为说明实施原盘记录的装置以及原盘记录方法的模式图。
图3(A)以及(B)为第一蚀刻前的记录原盘的截面图，(C)～(F)为第一蚀刻后的记录原盘的截面图。
图4(A)以及(B)为第一蚀刻前的记录原盘的截面图，(C)以及(D)为第一蚀刻后的记录原盘的截面图。
图5(A)为本发明的原盘制造方法中所使用的记录原盘的另一例截面图，(B)～(H)为各记录原盘曝光之后的截面图。
图6(A)以及(B)为本发明的原盘制造方法中所使用的记录原盘的又一例截面图。
图7(A)以及(B)为按照本发明的原盘制造方法要进行第二蚀刻的情况下，第二蚀刻前的记录原盘的截面图，(C)以及(D)为第二蚀刻后的记录原盘的截面图。
图8(A)为本发明的原盘制造方法中所使用的记录原盘的另一示例图，(B)～(D)分别为说明(A)中所述记录原盘制造方法的模式图。
图9为普通光信息存储媒体的截面图。
图10(A)～(D)为说明以前的正片型原盘制造方法以及压模制造方法的模式图，图10(E)为负片型原盘的截面图。
图11为说明使用热模式记录法制造出来的以前的原盘的截面图。
图中：101基板，102记录辅助层，103感热材料层，104记录原盘，105状态变化部分，106状态未变部分，107金属反射层，201记录原盘，202旋转台，203光源，204透镜，205记录光头，206记录光，301倾斜角，401基板，402感热材料层，403a记录辅助层，403b记录辅助层，404倾斜角，501基板，502感热材料层，503记录辅助层，504记录原盘，505状态变化部分，506外部媒质，507状态未变部分，601基板，602第一记录辅助层，603感热材料层，604第二记录辅助层，605记录原盘，605a记录原盘，606金属反射层，701感热材料层，702记录辅助层，703下层，704a记录原盘，704b记录原盘，801基板，802感热材料层，803透光层，804记录辅助层，805记录原盘，806黏着剂，807真空环境，808开口部，901光信息存储媒体，902基板，903信号层，904保护层，905物镜，906光，1001基板，1002光致抗蚀剂，1003记录原盘，1004潜像，1005原盘，1006导电膜，1007金属层，1010记录光，1101感热材料层，1102大气，1103基板，1104倾斜角。
具体实施方式
下面对照附图来说明本发明的具体实施方式。如果没有特别说明，就某层来说“下”这一用语是指，在使基板位于下方来配置记录原盘时，靠近基板的方向。
(实施方式1)
对照图1～图4，来说明作为实施方式1的，使用在感热材料层和基板之间设有记录辅助层的记录原盘的光信息存储媒体原盘的制造方法。图1
(A)显示了一例记录原盘的截面图。图1(A)所示的记录原盘104，其基板101由玻璃、硅或者树脂等制成。在该基板101上，通过例如溅射或者离心镀膜之类的方法，形成由例如电介质或者树脂等材料制成的记录辅助层102。在该记录辅助层102上形成感热材料层103，并使其和记录辅助层102接触。感热材料层103由因曝光导致的升温发生状态变化的物质，通过例如溅射或者离心镀膜之类的方法制成。图中所示的记录原盘，相当于进行实施方式1的制造方法所最必需的最小构成。因此，在辅助记录层位于感热材料层的下面，且能够通过记录辅助层来控制状态变化部分的截面形状的条件下，记录原盘中也可以包括例如记录辅助层和感热材料层之间的界面层(例如厚度不足1nm的薄层)，或者反射层等图中未显示的构成要素。图1(I)显示了包括金属反射层107的记录原盘104的一例。
图1(B)～(H)显示了通过用光照射记录原盘，使感热材料层103升温而形成了状态变化部分105的记录原盘。这里将状态未变化部分用符号106来表示。下面对照图2来说明对记录原盘104进行的记录方法。记录原盘201被放置在旋转台202上，并与旋转台202一同旋转。从光源203发射出的记录光206被透镜204聚光在记录原盘201的表面。必要时可以在光源203内对记录光206进行调制或者偏向。记录时，通过使记录光头205和旋转台202相对的平移，在记录原盘上顺次形成了螺旋形的状态变化部分来进行记录。记录光206可以使用激光或者电子射线束。这种使用图2中所示装置的原盘记录方法，是以前一直就采用的方法，并且不含有创新部分，所以这里省略了详细的说明。另外，这里所没有说明的原盘记录方法，只要满足通过使感热材料层103升温而使状态发生变化从而进行所希望的图形记录这一条件，不管使用那种方法都可以。
图1(B)～(D)显示了使记录辅助层102的厚度为一定，当使用热传导率不同的材料来构成记录辅助层102时，感热材料层103的状态变化部分105的截面形状的模式图。记录辅助层102的构成材料的热传导率的大小顺序为图1(B)＞图1(C)＞图1(D)。通过图1(B)～(D)能够得知因记录辅助层102的构成材料的热传导率的不同，所引起的状态变化部分105的截面形状的变化。对于记录辅助层位于感热材料层和基板之间的记录原盘，仅仅改变记录辅助层的构成材料的热传导率，该热传导率越小，从感热材料层的基板侧表面放出的热量就越小。也就是说，记录辅助层的热传导率越小，距感热材料层的表面较深的部分就越有可能升温，因此如图1(D)所示，状态变化部分和状态未变部分界限的倾斜变得相当陡峭。
图1(E)以及(F)为说明使用比基板101的构成材料热传导率较小的材料构成记录辅助层102时，通过改变记录辅助层102的厚度，感热材料层103的状态变化部分105的截面形状如何变化的模式图。图1(E)中所示的记录原盘，由于记录辅助层102的厚度相当大，抑止了感热材料层103的放热，状态变化部分和状态未变部分之间界限的倾斜变得相当大。图1(G)以及(H)为说明使用比基板101的构成材料热传导率较大的材料构成记录辅助层102时，通过改变记录辅助层102的厚度，状态变化部分105的截面形状如何变化的模式图。由于记录辅助层102的热传导率比基板101的热传导率大，和没有设置记录辅助层的情况相比，状态变化部分和状态未变部分之间界限的倾斜变得较平缓。如图1(E)～(H)所示，可以得知，即使使记录辅助层102的厚度变化，也能够使因记录时的升温所引起的状态变化部分105的分布发生变化。请留意图1(E)～(H)同时也是说明，记录辅助层的热传导率以及厚度能够对感热材料层的状态变化部分的截面形状产生什么样的影响的模式图。实际中所得到的截面形状，由基板构成材料热传导率的具体数值，该具体数值与记录辅助层的构成材料热传导率的具体数值的差，以及记录辅助层的实际厚度等所决定。
形成了状态变化部分105之后，对记录原盘进行第一蚀刻。该第一蚀刻，在因记录时的升温所产生的状态变化部分和状态未变部分蚀刻率不同的条件下进行。第一蚀刻例如用活性离子蚀刻等干蚀刻以及酸或者碱等湿蚀刻。特别要指出，这里并没有限定第一蚀刻的具体方法，只要满足状态变化部分和状态未变部分蚀刻率不同这一条件，不管采用那种方法都可以。
图3显示了蚀刻前的记录原盘以及蚀刻之后得到的记录原盘。图3(A)以及(B)显示了蚀刻前的记录原盘。图3(C)以及(D)显示了在状态变化部分105的蚀刻率比状态未变部分106的蚀刻率高的条件下，对图3(A)以及(B)显示的记录原盘进行蚀刻之后所得到的记录原盘。此时的状态变化部分105在原盘上形成了凹部。该凹部的倾斜角相当于各图中用301所表示的角度。如上所述，凹部的倾斜角是指，凹部深度t的2分之一处的凹部侧面的切线k和与原盘的主表面平行的面p之间，在蚀刻之后所残留的部分侧所形成的角度。因此，如图3(C)所示，当凹部为向着原盘表面逐渐扩大的漏斗状时，倾斜角为锐角。图3(E)以及(F)显示了在状态变化部分105的蚀刻率比状态未变部分106的蚀刻率低的条件下，对图3(A)以及(B)显示的记录原盘进行蚀刻之后所得到的记录原盘。此时的状态变化部分105在原盘上形成了凸部。该凸部的倾斜角相当于各图中用302所表示的角度。如上所述，凸部的倾斜角是指，凸部深度的2分之一处的凸部侧面的切线j和与原盘的主表面平行的面p之间，在蚀刻之后所残留的部分侧所形成的角度。因此，如图3(F)所示，当凹部为向下逐渐扩大的圆锥状时，倾斜角为锐角。如图3所示，能够通过蚀刻使状态变化部分105依其形状形成凹部或者凸部，来制造原盘。
第一蚀刻，最好在记录辅助层102的蚀刻率比状态变化部分105和状态未变部分106中蚀刻率较高的那一方蚀刻率低的条件下进行。也即，在图(C)以及(D)所示的状态变化部分经蚀刻变成凹部的情况下，记录辅助层的蚀刻率最好比状态变化部分的蚀刻率低。在图(E)以及(F)所示的状态变化部分经蚀刻变成凸部的情况下，记录辅助层的蚀刻率最好比状态未变部分的蚀刻率低。希望使记录辅助层的蚀刻率较低的理由是：第一，能够使经蚀刻所形成的凹凸图形的凹部的的底面(一般是记录辅助层所露出的表面)较为平坦，如果凹部的底面很平坦，用该原盘以及通过复制该原盘所得到的压模所制造的光信息存储媒体，其凹凸图形被光学再生时能够得到噪声成分较小的信号。第二，第一蚀刻时，记录辅助层102被蚀刻的量越小，记录时作为潜像被制成的图形，通过蚀刻就越能够形成忠实的凹凸图形。以上事实使得根据本发明更有效的控制凹凸图形的截面形状成可能。所以，第一蚀刻时，记录辅助层的蚀刻率最好比状态变化部分以及状态未变部分的任何一个蚀刻率都低(也即最低)，甚至可以为0。用来显示实施方式1的图3显示了当记录辅助层102的蚀刻率实质上为0的情况的例子。应当留意到本发明也包括有第一蚀刻时记录辅助层102的蚀刻率比0大的状态。
如上所述，本发明的方法可以通过选择记录辅助层的热传导率以及厚度，来控制最终在原盘上形成的凹凸图形的截面形状。可以用上述的倾斜角来作为表示截面形状的参数。记录所形成的图形(有时也简单的称作“记录图形”)不管是以凹形形成的还是以凸形形成的，如果倾斜角为90度，很容易稳定的形成相当纤细的记录图形，另外还能够使通过原盘制造出来的光信息存储媒体的信号特性良好。在用原盘制造压模时，其条件是倾斜角大约0度，并且最好小于90度，倾斜角位于50度～73度之间更佳。当倾斜角不足90度时，具有从原盘向压模以及从压模向树脂基板的凹凸图形复制变得较为容易的优点。但是，这里所列举的数值范围只是普通的情况，还要因使用原盘之后的工程以及最终制成的光信息存储媒体的使用方法的不同而不同，这一点希望留意。不管所希望的倾斜角是什么值，如果使用本发明所述的方法，不需要改变材料选择范围很小的感热材料，通过记录辅助层就能够容易的控制倾斜角。另外和以前的热模式原盘记录相比，能够得到倾斜角相对较大的凹部或者凸部。
另外在实施方式1中，通过提高感热材料层103的记录灵敏度，能够实现各种各样的原盘构造。例如，在记录辅助层102的热传导率比基板101的热传导率小的情况下，通过设置记录辅助层102，不但能够改变状态变化部分105的截面形状，还能够提高记录时的灵敏度。更具体的来说，通过将记录辅助层设置在感热材料层的下侧，并最好使其相邻接，能够将具有使感热材料层对曝光所使用的波长的光的吸收率提高作用的层配置在感热材料层的下方。比如通过用硅基板作为基板101，就能够达到上述光学效果。由于硅基板的热传导率比普通的玻璃、树脂之类的高两个数量级，对感热材料层和硅基板相接触的原盘使用热模式记录很困难。在本发明所提供的方法中，如果使用热传导率小的材料来制成记录辅助层，就能够使用这种硅基板来制作记录原盘。另外由于硅基板具有清洁的特点，是一种理想的材料。另外，为提高感热材料层的记录灵敏度，如图1所示，通过在基板101和记录辅助层102之间，设置用Au、Ag、Al、Cu、Pt、Pd、Cr、Ni等金属之一或者其混合物或者化合物等制成的热传导率非常大的金属反射层107也很容易。
另外，通过适当的选择记录辅助层102构成材料的光学常数以及记录辅助层102的厚度，能够增大感热材料层103的吸光率。光学常数例如通过适当的调节记录辅助层102构成材料对记录用波长的光的折射率来适当选择。通过考虑基板101、记录辅助层102以及感热材料层103间的光学效果(例如反射和干涉效果)来决定记录辅助层的适当光学常数。另外通过考虑构成记录原盘的各层的光学效果，构成一种各层的光学常数的组合非常适当的记录原盘，能够在纵深方向上控制感热材料层103的吸光率，并能够据此来控制在原盘上形成的凹凸图形的截面形状。
对照图4来说明根据本发明的方法，控制原盘上所形成的凹凸图形的截面形状的具体实例。图4(A)以及(B)各自显示了曝光前的记录原盘。这里以钠玻璃基板作基板401为例来说明。用钠玻璃之外的材料作为基板401的材料可以用比如石英玻璃、硅、聚碳酸酯树脂、丙烯树脂以及烯炝树脂等。基板401的材料可以用任何一种能够形成平板的材料。这里的基板401的厚度为6.0mm。基板401的厚度这里并不限定于此，而是从例如0.4～10.0mm的范围内选择。有时最好要根据基板的光学常数，考虑记录辅助层403所带来的光学效果的变化，来变更下述的记录辅助层的厚度值。
感热材料层402由用TeO1.0Pd3.0表示的材料通过溅射法制成。且其厚度为45nm。可以使用Sb、Se、Sn、Ge、Mo、W以及Ti来代替Te。另外用其他的金属元素，例如Au、Ag、Cu或者Pd等贵重金属来代替Pd更好。通过用含有以上贵重金属的材料来制成感热材料层，能够提高蚀刻时的残膜率(在状态变化部分成为凹部的情况下，未曝光部分(即状态未变部分)的蚀刻前的厚度与蚀刻后的厚度的比)。适合构成感热材料层402的材料一般用M1 xOM2 Y(式中M1为金属元素Te、Sb、Se、Sn、Ge、Mo、W以及Ti中的一种或几种，M2为M1以外的金属元素，最好为Au、Ag、Cu或者Pd中的一种或几种，0.3＜X＜1.7，0.5＜Y＜0.52)来表示。需要强调的是，感热材料层402的构成材料也可以不是用该式所表示的材料。另外能够根据应当在原盘上形成的凹凸图形来变更感热材料层402的厚度。
图4(A)所示的记录原盘的记录辅助层403a是用溅射法制成的，其含有的ZnS和SiO2摩尔比为4∶1，其厚度为45nm。图4(B)所示的记录原盘的记录辅助层403b是用SiO2通过溅射法制成的，其厚度为45nm。记录辅助层403a和403b的厚度并不一定要限定在45nm，最好是为了提高记录灵敏度，而根据使感热材料层402对记录波长的吸光率达到最大时的感热材料层402的材料以及厚度来选择。例如在感热材料层402a的材料不变，厚度变为60nm的情况下，当记录辅助层403a的厚度为35nm时，记录灵敏度最大。
在该两张记录原盘上，用波长为405nm的激光以及NA为0.9的物镜，使对应与数据位以及引导沟槽的图形形成为状态变化部分来曝光。接下来用1.7％的TMAH(羟化四甲基铵)来进行60秒的湿蚀刻。其结果是，从图4(A)以及(B)所示的记录原盘，分别得到了图4(C)以及(D)所示的原盘。这里所使用的蚀刻液是一个例子，TMAH的浓度能够从例如1.0％～2.4％的范围之间选择。或者使用例如KOH以及NaOH等其他碱性水溶液来代替TMAH，也能够进行同样的蚀刻。通过蚀刻，状态变化部分变成凹部，在原盘稳定的上形成了直径90nm的圆形沟及宽度为70nm的引导沟槽。如此制成的凹部，意味着达到了制造一层存储容量为25G以上的，直径为12cm的光信息存储媒体所足够的清晰度。
原盘上所形成的凹部的倾斜角404，在图4(C)所示的原盘上为73度，在图4(D)所示的原盘上为28度。另外，记录时的灵敏度，图4(A)所示的原盘比图4(B)所示的原盘要高，前者约为后者的两倍。如上所述，可以得知，使用按照本发明设有记录辅助层403的记录原盘，以及通过例如改变记录辅助层材料的构成比，能够控制原盘上所形成的凹部的截面形状的倾斜角404使其为例如28度到73度之间的任意值，以及能够在例如约2倍的范围内控制记录灵敏度。再进一步可以得知，本发明的方法能够实现用以前的方法，在石英玻璃或者钠玻璃制成的基板上仅配置有感热材料层的记录原盘上使用热模式所难以实现的，在原盘上形成50以上的倾斜角。
下面以改变ZnS和SiO2的组成比来构成记录辅助层为例来说明本发明的方法。构成记录辅助层的材料并不仅限于该范围。记录辅助层可以由例如ZnSe等硒化物，Si-O、Ge-O、Al-O、Zn-O、Y-O、La-O、Ti-O、Zr-O、Hf-O、Nb-O、Ta-O、Cr-O、Mo-O、W-O、Sn-O、In-O、Sb-O以及Bi-O等氧化物，Si-N、Ge-N、Al-N、Zn-N、Ti-N、Zr-N、Hf-N、Nb-N、Ta-N、Cr-N、Mo-N、W-N、Sn-N以及In-N等氮化物，Si-O-N、Ge-O-N、Al-O-N、Ti-O-N、Zr-O-N、Hf-O-N、Nb-O-N、Ta-O-N、Cr-O-N、Mo-O-N、W-O-N、Sn-O-N以及In-O-N等氮氧化物，Ge-C、Cr-C、Si-C、Al-C、Ti-C、Zr-C以及Ta-C等碳化物，Si-F、Al-F、Mg-F、Ca-F以及La-F等氟化物，以及上面所例示的ZnS和SiO2之中选择一种或者多种材料，或者这些混合材料，通过溅射法或蒸镀法法等方法成膜而制成。
或者记录辅助层也可以用有机材料来制成，例如可以是由丙烯树脂、环氧树脂或者它们的混合物制成的层。树脂材料制成的记录辅助层用例如离心镀膜法这种成膜方法来制成。另外在使用树脂材料时，通过选择混合比或者组成比来控制记录辅助层403的热传导率以及光学常数，能够实施对凹凸图形的截面形状的控制。当然，使用这里所说明的方法以外的方法，对记录辅助层的热传导率和光学常数之中的至少一个进行适当的选择，也能够控制在原盘上形成的凹凸图形的截面形状(具体而言是倾斜角)。
(实施方式2)
对照图5，说明使用感热材料层上侧表面(距基板较远的表面)配置有记录辅助层的记录原盘，来制造原盘的方法-实施方式2。图5(A)显示了记录原盘的一例。该记录原盘504，其基板501上设置有感热材料层502，在感热材料层502上设有记录辅助层503。图5(A)中506指外部媒质(即曝光时的环境气体)，一般为空气。记录原盘的构成部分基板501的材料以及感热材料层502的材料以及制造方法与实施方式1中的相关说明所述的材料及方法一样。记录辅助层503可以是用实施方式1中的相关说明所述的材料及方法所制成的膜。或者记录辅助层503也可以是液体。具体而言，即使在配置了作为记录辅助层503的液体(例如涂敷)的状态下，或者将该记录原盘浸泡在该液体中的状态下进行曝光，也能够实施该实施方式2。图中所示的记录原盘相当于实施实施方式2的制造方法所必须的最小配置。因此，只要在记录辅助层和基板之间配置有感热材料层的基础上，记录原盘也可以含有例如上述的界面层或反射层等构成要素。
图5(B)～(H)说明了，用光照射记录原盘使感热材料层升温，形成了状态变化部分505以及状态未变部分507的光盘。由于对记录原盘的记录方法和实施方式1的相关说明一样，这里就省略了。图5(B)～(D)显示了当记录辅助层503的厚度一定，并使用热传导率不同的材料来制成记录辅助层时，感热材料层502的状态变化部分505的截面形状的模式图。记录辅助层503的构成材料的热传导率的大小顺序为图5(B)＞图5(C)＞图5(D)。通过图5(B)～(D)能够得知因记录辅助层503的构成材料的热传导率的不同，所引起的状态变化部分505的截面形状的变化。对于记录辅助层位于感热材料层之上的记录原盘，仅仅改变记录辅助层的构成材料的热传导率，该热传导率越小，感热材料层的表面附近就越容易蓄热。也就是说，记录辅助层的热传导率越小，距感热材料层的表面较深的部分就越难以升温，因此如图5(D)所示，状态变化部分和状态未变部分界限的倾斜相当平缓。
图5(E)以及(F)为说明使用比外部媒质506的热传导率较小的材料构成记录辅助层503时，通过改变记录辅助层503的厚度，感热材料层502的状态变化部分505的截面形状如何变化的模式图。图5(E)中所示的记录原盘，由于记录辅助层503的厚度相当大，抑止了从感热材料层502表面的放热，状态变化部分和状态未变部分之间界限的倾斜变得相当小。图5(G)以及(H)为说明使用比外部媒质506的热传导率较大的材料构成记录辅助层503时，通过改变记录辅助层503的厚度，状态变化部分505的截面形状如何变化的模式图。由于记录辅助层503的热传导率比比外部媒质506的热传导率大，和没有设置记录辅助层的情况相比，状态变化部分和状态未变部分之间界限的倾斜变得较大。一般感热材料层502所暴露在外的外部媒质506为和固体、液体相比热传导率非常低的空气。此时一般难以使记录辅助层503的热传导率比外部媒质小。图5(G)～(H)说明了如何实现控制状态变化部分的截面形状。但是像使用LIL(液浸透镜法)的原盘记录等使用液体作为外部媒质时，对状态变化部分505的控制可以像图5(E)～(H)中任何一个所示的那样来实现。因此可以得知，即使在记录辅助层设置在感热材料层的上方的情况，通过使记录辅助层503的厚度变化，也能够使因记录时的升温所引起的状态变化部分505的分布发生变化。请留意图5(E)～(H)同时也是说明，记录辅助层的热传导率以及厚度能够对感热材料层的状态变化部分的截面形状产生什么样的影响的模式图。实际中所得到的截面形状，由外部媒质的热传导率的具体数值，该具体数值与记录辅助层构成材料的热传导率的具体数值的差，以及记录辅助层的实际厚度等所决定。
接下来在因记录时的升温所产生的状态变化部分505和状态未变部分507蚀刻率不同的条件下，进行第一蚀刻。由于该第一蚀刻的例子与上述实施方式1中的相关说明相同，这里省略不叙。本实施方式2中的第一蚀刻，最好在使基板501的蚀刻率比状态变化部分505和状态未变部分507中蚀刻率较高的那一方蚀刻率低的条件下进行。其理由正如实施方式1中所说明的一样，因此这里省略不叙。通过该第一蚀刻，记录时的升温所产生的状态变化部分505以凸部或者凹部形式形成在原盘上。
以上说明了将记录辅助层503的去除以及感热材料层502的蚀刻分工序进行的实施方式。在其他方法中，也可以同时进行记录辅助层503的去除以及感热材料层502的蚀刻。这时由于减少了工序，能够降低费用以及污染的可能性。具体而言，例如，感热材料层502由Te或Sb的化合物等制成，且其记录时的升温所产生的状态变化部分505和状态未变部分507在进行碱性蚀刻时的蚀刻率有很大不同，记录辅助层503例如在使用酚醛树脂或丙烯树脂等碱性可溶的材料制成时，通过碱性蚀刻，能够同时进行记录辅助层503的去除以及感热材料层502的蚀刻。另外，在使用酸来对感热材料层502进行蚀刻时，可以使用酸性可溶材料来制成记录辅助层503。在使用水溶液来对感热材料层502进行蚀刻时，如果使用例如聚乙烯醇、聚乙烯氧化物或者聚丙稀酸钠等水溶性材料来制成记录辅助层503，就能够通过一次处理来实施记录辅助层503的去除以及感热材料层502的蚀刻。还有其他各种各样的方法。不管采用哪种方法，只要在记录辅助层503的蚀刻率比感热材料层502的蚀刻率大的条件下进行蚀刻，就能够有效的去除记录辅助层503。另外在同时进行记录辅助层503的去除以及感热材料层502的蚀刻时，最好在使记录辅助层503的蚀刻率比状态变化部分505和状态未变部分507中蚀刻率较低的那一方蚀刻率高的条件下进行。这样能够降低蚀刻后残留在感热材料层的部分(也即状态变化部分505和状态未变部分507中蚀刻率较低的那一方)的表面的粗糙程度降低。
如上所述，通过使用实施方式2中所说明的本发明的方法，不用改变感热材料层的材料，就能够容易的控制原盘上的凹凸图形的截面形状。
(实施方式3)
对照图6，说明使用两层记录辅助层中夹有感热材料层的记录原盘，来制造原盘的方法-实施方式3。图6(A)显示了记录原盘的一例。该记录原盘605，其基板601上设置有第一记录辅助层602，在第一记录辅助层602上设有感热材料层603，在感热材料层603上设有第二记录辅助层604。记录原盘构成部分的基板601的材料以及感热材料层603的材料以及制造方法与实施方式1中的相关说明的材料及方法一样。另外第一记录辅助层602以及第二记录辅助层604也是用实施方式1中的相关说明的材料及方法所制成的。第二记录辅助层604也可以是实施方式2中的相关说明所述的液体，这种情况下，在记录时该液体必须以涂敷或者浸泡的方式被提供。图中所示的记录原盘相当于实施实施方式3的制造方法所必须的最小配置。因此，在记录原盘被两层记录辅助层中夹有感热材料层这种方式所构成的基础上，也可以含有例如位于记录辅助层和感热材料层之间的界面层或者反射层等图中未显示的构成要素。
例如如图6(B)所示，能够在基板601和第一辅助层602之间设置金属反射层606。金属反射层606的材料以及制成方法和实施方式1中的相关说明所述的一样。另外其形态也像实施方式1的相关说明所述的一样，由于第一记录辅助层602的存在，降低了金属反射层606所带来的对热方面的不良影响，从而能够得到相应的光学效果。
如图6(A)和(B)所示，记录原盘605以及605a上被记录了所希望的图形。其方法与实施方式1中的一样。依次通过去除第二记录辅助层604，进行第一蚀刻，来得到凹凸图形已形成的原盘。或者也可以同时进行第二记录辅助层604的去除和第一蚀刻。不管哪一种方法都和上述实施方式3中的相关说明所述的一样，这里省略不叙。
能够使记录原盘605的第一记录辅助层602具有和实施方式1中所说明的记录辅助层102一样的功能，使第二记录辅助层604具有和实施方式2中所说明的记录辅助层503一样的功能。因此，使用记录原盘605能够同时获得实施方式1以及实施方式2所带来的优点，与使用只有一层记录辅助层的记录原盘相比，能够更加自如的控制原盘上的凹凸图形的截面形状以及记录时的灵敏度。
(实施方式4)
对照图7，来说明在感热材料层上形成凹凸的第一蚀刻后，再进行第二蚀刻的实施方式4。实施方式4使用实施方式1或者实施方式3中所使用的记录原盘，各以和实施方式1或者实施方式3一样的方法在感热材料层上形成凹凸图形。图7(A)为感热材料层701的记录时升温引起的状态变化部分变成了凹部的记录原盘704a的截面图，图7(B)为感热材料层701的记录时升温引起的状态变化部分变成了凸部的记录原盘704b的截面图。不管哪一个记录原盘其感热材料层701都位于记录辅助层702的上方。和记录辅助层702的下侧表面邻接的层703，像实施方式1以及实施方式3中的相关说明所述的那样，一般是基板或者金属反射层，但并不仅限于此。下面使用图7(A)中所示的状态变化部分变成凹部并形成了记录图形的记录原盘来说明实施方式4。
实施方式4中，对进行了第一蚀刻之后的记录原盘，以感热材料层701为掩模进行第二蚀刻。第二蚀刻中，使用第一蚀刻后残留的感热材料层701的部分作为掩模，将第一蚀刻后露出来的记录辅助层702的部分去除，形成凹部。第二蚀刻可以采用活性离子蚀刻法、等离子蚀刻法或者使用酸或碱等的湿蚀刻法。在感热材料层701由例如无机材料Te、Sb、Se、Sn、Ge或者Mo等的化合物制成，记录辅助层702由酚醛树脂、丙烯树脂或者聚碳酸酯树脂等有机物制成时，最好采用等离子蚀刻或者使用有机溶剂的湿蚀刻方式，能够比较容易的进行第二蚀刻。或者，当使用SiO2制成记录辅助层702时，最好采用含氟气体或者液体将SiO2有选择的去除这种方法来进行第二蚀刻。
图7(C)显示了第二蚀刻之后的记录原盘。如图7(C)所示，d1相当于对记录辅助层702的蚀刻深度。进行第二蚀刻时最好要防止掩模的消失。一旦掩模消失了，记录辅助层702的应当被掩盖的部分被蚀刻之后，就不能形成所希望的凹凸图形，会造成不便。因此，将第二蚀刻前的感热材料层701的平均厚度设为d2时，最好在使记录辅助层702比上感热材料层701的蚀刻选择比大于(d1/d2)时进行第二蚀刻。对图7(B)中所示的记录原盘进行第二蚀刻后，凸部成为掩模，在记录辅助层702上形成了凹部(图中未显示)。
另外，如图7(D)所示，在进行蚀刻使下层703的表面露出时，最好使下层703比上记录辅助层702的蚀刻选择比大于1。通过选择这样的选择比，经第二蚀刻被露出来的下层703的表面，由于能够减小第二蚀刻所引起的粗糙程度，能够得到凹部的底面很平滑的良好的图形。例如在记录辅助层702含有SiO2，下层703由Si制成时，用例如使用碳氟化合物等氟化材料的活性离子蚀刻法使下层703露出来时，也能够使第二蚀刻所导致的表面粗糙减小。在记录辅助层702由酚醛树脂、丙烯树脂或者聚碳酸酯树脂等有机物制成，下层703由玻璃或者硅等无机材料制成时，最好采用等离子蚀刻或者使用有机溶剂的湿蚀刻方式，来使下层703露出来。另外当下层703为上述金属反射层时，很容易扩大记录辅助层702比上下层703的蚀刻选择比。因此，下层703为金属反射层的记录原盘很适用于实施方式4
接下来进行第三蚀刻，将作为掩模的感热材料层701去除，得到原盘。第三蚀刻可以采用活性离子蚀刻法、等离子蚀刻法等干蚀刻法或者使用酸或碱等的湿蚀刻法。最好在使感热材料层701比上记录辅助层702的蚀刻选择比大于1的条件下实施第三蚀刻。通过选择这样的蚀刻选择比，由于能够减小第三蚀刻对记录辅助层702的蚀刻程度，能够在原盘上形成良好的图形。在经第二蚀刻使下层703的表面露出来，或者经第三蚀刻使下层703的表面露出来时，最好在使记录辅助层702比上下层703的蚀刻选择比大于1的条件下实施第三蚀刻。这是由于第三蚀刻对记录辅助层702的蚀刻程度变小了，能够在原盘上形成良好的图形。下面举个例子，当感热材料层701由Te的氧化物制成，记录辅助层702由SiO2制成，下层703由Si制成时，如果实施TMAH或KOH等碱性蚀刻，能够在对记录辅助层702以及下层703几乎不造成伤害的同时将作为掩模的感热材料层701去除。
使用实施方式4的方法，能够通过去除感热材料层使相当平坦的纪录辅助层被露出，在纪录辅助层上得到良好的凹凸图形。所以，实施方式4的方法，在按照实施方式1或实施方式3的方法进行第一蚀刻，由于感热材料层的表面变粗糙，产生浮渣等情况，而得不到良好的凹凸图形的时候，特别的有用。另外，实施方式4的方法，在对实施方式1或实施方式3的方法所制造的原盘添加其他工序(例如镀金属)时，感热材料层的材料在该工序中产生问题的时候，也非常适合使用。因此通过采用实施方式4的方法，能够将使用热模式纪录法的光信息存储媒体的原盘制造中所用到的感热材料的选择范围进一步扩大。
(实施方式5)
下面说明使用在感热材料层上设有透光层的记录原盘的方法——实施方式5。图8(A)中显示了实施方式5中所使用的记录原盘的截面图。记录原盘805在其基板801上设有记录辅助层804，记录辅助层804上设有感热材料层802，感热材料层802上设有透光层803。构成记录原盘805的基板801的材料、感热材料层802以及记录辅助层804的材料及制造方法和实施方式1中的相关说明所述的一样。透光层803的具体材料以及制造方法将在后面说明。图中所示的记录原盘804的构造为实施实施方式5的制造方法所必须的最小配置的一例。因此，在使透光层成为最上层来构成的基础上，也可以含有例如界面层或者反射层等图中未显示的构成要素。另外，也可以在感热材料层上设置记录辅助层用来代替记录辅助层804或与其并存，此时透光层应当设置在该记录辅助层的上面。
在说明透光层的材料以及制造方法之前，先来对照图9来说明制造透光层的优点。图9中显示了一般的光信息存储媒体901的构造。图9中所示的信息存储媒体901的凹凸图形由被直接或间接复制的基板902、在基板902上形成的至少有一层的信号层以及形成在信号层上的透明的保护层904所构成。在例如可重写或可补记型的存储媒体中，信号层903含有硫族化合物或色素所制成的层，必要时为提高其记录再生性，另外还设有由金属或硅等制成的反射层。在只读型的光存储媒体中，形成在基板上的凹凸图形为信号信息，信号层903是为了将该信号信息作为反射光的位相差来读出所设置的反射层。不管是哪一种形态的光信息存储媒体901，都是通过物镜905所聚焦的光906(例如激光)来进行再生以及记录的。
随着DVD以及VCD的普及，能够以较低的价格来提供光信息存储媒体的记录以及再生中所使用的物镜905。所以如果在原盘制造时的曝光中使用该物镜905，就能够降低原盘制造的费用。然而在以前的原盘记录方法中，由于记录光应当聚焦的层被配置在记录原盘的表面，或者由于光信息存储媒体901的保护层904倍光学性质截然不同的层所覆盖等原因，由于球面像差的影响，在光信息存储媒体的再生以及记录中所使用的物镜不可能在原盘记录中使用。因此，原盘记录必须要使用专门为原盘记录所制造的非常高价的物镜。
本发明的方法，通过在记录原盘中使用热模式记录法所能够使用的感热材料，能够使用和光信息存储媒体的记录以及再生一般所使用的光以及物镜实质上相同的波长的记录光以及物镜的NA来进行原盘记录。也就是说，本发明的方法能够使在原盘记录中使用民用机械中所使用的物镜变得更加容易。然而由于上述的球面像差等的影响，实际使用这样的物镜还很困难。因此本发明考虑通过使记录原盘的结构自身和光信息存储媒体一样，来使使用这样的物镜成为可能。这就是设置透光层803的理由。也就是说，使民用机械的光驱中所装置的低价物镜能够作为原盘记录的物镜来使用，就是本实施方式5的优点。
因此，透光层803是通过使其光学常数以及厚度和光信息存储媒体的保护层904一样来制成的。一般情况下，光信息存储媒体的保护层904是由聚碳酸酯树脂等树脂制成的。保护层904对预计将要在下一代光信息存储媒体的记录以及再生中所使用的波长405nm左右的光的折射率为1.4～1.6。所以本发明所使用的透光层803，也最好使用对同程度的波长的光的折射率和其接近的材料，例如1.35以上1.65以下的材料来制成。具体的说透光层803的构成材料，能够例举出聚碳酸酯树脂、丙烯树脂、石英玻璃以及钠玻璃等，但也不限于上述材料，只要具有上述折射率，不管使用哪一种材料来制成都可以。根据所使用的物镜来选择透光层803的厚度。由于控制透光层803的厚度比控制其折射率更容易，因此可以通过调整透光层803的厚度来进行对球面像差等的调整。另外，在希望对球面像差进行微调时，可以在物镜和光源之间设置球面像差校正机构。
透光层803，通过离心镀膜法将含有硬化型树脂的液体材料涂敷之后，再通过溶剂的挥发或者紫外线的照射等将硬化型树脂硬化而制成的。或者，透光层803也可以通过黏着薄片或黏着剂将薄片状的透明材料黏着来制成。再或者，透光层803还可以通过图8(B)～图8(D)所示的方法形成在记录原盘上。图8(B)显示了在真空环境807中将薄片状的材料覆盖在记录原盘上，并通过黏着剂806将薄片状材料黏着在基板801上的方法。图8(C)显示了用袋状的薄片材料包裹住记录原盘，并通过真空吸引将薄片材料密着在基板801上之后再封住的方法。图8(D)显示了在对记录原盘进行曝光时，通过基本和旋转台202之间形成的开口部808使薄片状透明材料真空吸着的方法。透光层803在曝光时必须与其下面的层(图8中为感热材料层，在感热材料层上设有记录辅助层时则为记录辅助层)密着，而在曝光之前，则不一定必须与其下面的层接合。
对记录原盘的记录方法与实施方式1中的相关说明所述的相同。记录后去除透光层803。在透光层803例如由含有硬化型树脂的液体材料经硬化而制成时，能够使用溶媒或者等离子蚀刻法来去除透光层803。在透光层803例如是通过黏着薄片或黏着剂将薄片状的透明材料黏着到感热材料层802上而制成时，例如是使用容易剥离的黏着剂来进行黏着的，可以通过剥离将透明材料去除。这种情况下，黏着剂的残渣可以通过溶媒或者等离子蚀刻法来去除。或者，如图8(B)、(C)以及(D)中所示的那样，透光层并没有固着在其下层上时，通过剥离或者解除真空，能够容易的去除透光层。
去除透光层803之后的记录原盘的处理(具体的说就是蚀刻)，通过采用和记录原盘的结构所对应的实施方式1～4中相关说明所述的方法，能够得到光信息存储媒体的原盘。
本发明的原盘制造方法，使用热模式记录法，能够通过控制其截面形状来形成细微的凹凸图形。因此通过该方法所制造出的原盘，由于其一定拥有细微的凹凸图形，适用于使用例如蓝色激光等短波长的光来进行信号记录及/或再生的光信息存储媒体的制造。

Claims (25)

1.一种光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
包括：对由基板、用随着曝光所引起的温度变化状态发生变化的材料制成的感热材料层、以及用和该感热材料层不同的材料制成的记录辅助层所构成的记录原盘进行曝光，在该感热材料层上形成状态变化部分的步骤；和
选择蚀刻条件，以使该感热材料层的该状态变化部分的蚀刻率不同于状态未变部分的蚀刻率地进行第一蚀刻的步骤。
2.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层被配置在上述感热材料层和上述基板之间。
3.如权利要求2所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层构成材料的热传导率与构成上述基板的材料的热传导率不同。
4.如权利要求2所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层使曝光所使用的波长的光的吸收率增大。
5.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述感热材料层被配置在上述记录辅助层和上述基板之间。
6.如权利要求5所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录辅助层通过上述第一蚀刻被去除。
7.如权利要求5所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，构成上述记录辅助层的材料的热传导率和与上述记录原盘的表面相接触的媒质的热传导率不同。
8.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层由第一记录辅助层和第二记录辅助层所构成，该第一记录辅助层配置在上述感热材料层和上述基板之间，该感热材料层配置在该第一记录辅助层和第二记录辅助层之间。
9.如权利要求8所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，构成上述第一记录辅助层的材料的热传导率和构成上述基板的材料的热传导率不同。
10.如权利要求8所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述第二记录辅助层构成材料的热传导率和与上述记录原盘的表面相接触的媒质的热传导率不同。
11.如权利要求8所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层使曝光所使用的波长的光的吸收率增大。
12.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，在比上述感热材料层和上述记录辅助层中的任何一个都更靠近上述基板的位置上配置有金属反射层。
13.如权利要求12所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层被配置在上述金属反射层和上述感热材料层之间，该记录辅助层构成材料的热传导率比上述反射层构成材料的热传导率小。
14.如权利要求2所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
在使上述记录辅助层的蚀刻率比上述感热材料层的上述状态变化部分和上述状态未变部分中蚀刻率较高的部分的蚀刻率低的条件下，进行上述第一蚀刻。
15.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
还包括：通过上述第一蚀刻将上述感热材料层有选择地去除之后，利用上述感热材料层作为掩模来进行第二蚀刻的步骤；和
在上述第二蚀刻之后，进行去除上述感热材料层的第三蚀刻的步骤。
16.如权利要求15所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘的结构是上述记录辅助层位于上述感热材料层与上述基板之间，
当设上述记录辅助层被上述第二蚀刻所蚀刻的深度为d1，上述第二蚀刻之前的上述感热材料层的平均厚度为d2时，在使上述记录辅助层比上上述感热材料层的蚀刻选择比比d1/d2大的条件下，进行上述第二蚀刻。
17.如权利要求16所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
在使上述记录辅助层比与上述记录辅助层相接触且配置在靠近上述基板的位置上的层的蚀刻选择比大于1的条件下，实施上述第二蚀刻。
18.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，由对上述曝光所使用的波长的折射率在1.35以上1.65以下的材料所制成的透光层，被配置在比上述感热材料层以及上述记录辅助层中的任何一个都更加远离上述基板的位置上，该透光层在上述曝光之后被去除。
19.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述感热材料层含有Te和Sb中的任何一种或者两种、从Au、Pt、Ag和Cu中选择的任一种或多种元素、以及O，
上述记录辅助层含有ZnS和SiO2中的任一种或两种，
使用激光进行上述曝光，
上述第一蚀刻为碱性蚀刻。
20.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层含有树脂材料。
21.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
上述记录原盘中，上述记录辅助层含有无机材料，通过蒸镀法或溅射法形成。
22.如权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法，其特征在于：
通过上述第一蚀刻形成在原盘上的凹部或者凸部的倾斜角为50度以上73度以下。
23.一种原盘，其特征在于：通过权利要求1所述的光信息存储媒体的原盘制造方法来制造。
24.一种压模，其特征在于：使用通过权利要求22所述的光信息存储媒体的原盘制造方法制造出来的原盘而制造，所述压模上的凹部或者凸部的倾斜角为50度以上73度以下。
25.一种光信息存储媒体，其特征在于：使用通过权利要求22所述的光信息存储媒体的原盘制造方法制造出来的原盘而制造，所述盘基板上的凹部或者凸部的倾斜角为50度以上73度以下。
CNB2004100476917A 2003-05-28 2004-05-26 光信息存储媒体的原盘制造方法 Expired - Fee Related CN100367387C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003150631 2003-05-28
JP2003150631 2003-05-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1573998A CN1573998A (zh) 2005-02-02
CN100367387C true CN100367387C (zh) 2008-02-06

Family

ID=33128243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100476917A Expired - Fee Related CN100367387C (zh) 2003-05-28 2004-05-26 光信息存储媒体的原盘制造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20040241589A1 (zh)
EP (1) EP1482494A3 (zh)
KR (1) KR20040104371A (zh)
CN (1) CN100367387C (zh)
TW (1) TW200501157A (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1513144A2 (en) * 2003-08-26 2005-03-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing a master disk of a recording medium, method for producing a stamper, method for producing a recording medium, master disk of a recording medium, stamper of a recording medium, and recording medium
DE602004021755D1 (de) * 2003-09-01 2009-08-13 Panasonic Corp Verfahren zur Herstellung eines Prägestempels für optische Informationsmedien, Originalplatte eines solchen Prägestempels
JP2005174425A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Ricoh Co Ltd 光記録媒体、光記録媒体の再生方法、及び光記録媒体の作製方法
WO2005056223A1 (ja) * 2003-12-09 2005-06-23 Ricoh Company, Ltd. 構造体及びその製造方法、構造体形成用媒体、並びに光記録媒体及びその再生方法
KR100667771B1 (ko) * 2004-11-10 2007-01-11 삼성전자주식회사 정보 저장 매체 제작용 기록 마스터 및 그 제조 방법
WO2006072895A2 (en) * 2005-01-06 2006-07-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Methods for mastering and mastering substrate
CN100373489C (zh) * 2005-02-01 2008-03-05 精碟科技股份有限公司 碟片原版制作方法
CN100378842C (zh) * 2005-04-04 2008-04-02 精碟科技股份有限公司 光碟原版制作方法
JP4320312B2 (ja) * 2005-06-02 2009-08-26 株式会社日立製作所 相変化膜を含む記録媒体の製造方法
JP2009507316A (ja) * 2005-09-02 2009-02-19 モーザー ベイアー インディア リミテッド 高密度凹凸構造を複製するスタンパの製造方法
FR2909797B1 (fr) * 2006-12-08 2009-02-13 Commissariat Energie Atomique Formation de zones en creux profondes et son utilisation lors de la fabrication d'un support d'enregistrement optique
FR2912538B1 (fr) 2007-02-08 2009-04-24 Commissariat Energie Atomique Formation de zones en creux profondes et son utilisation lors de la fabrication d'un support d'enregistrement optique
JP4777313B2 (ja) * 2007-08-16 2011-09-21 富士フイルム株式会社 光学読取用の情報記録媒体の製造方法
JP4950101B2 (ja) * 2008-03-05 2012-06-13 富士フイルム株式会社 フォトレジスト層を有するワークの加工方法
JP5336793B2 (ja) * 2008-08-29 2013-11-06 富士フイルム株式会社 パターン形成体の製造方法および電磁ビーム加工装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01205744A (ja) * 1988-02-12 1989-08-18 Victor Co Of Japan Ltd スタンパ複製用原盤とその製造方法
CN1213823A (zh) * 1997-10-08 1999-04-14 三星电子株式会社 制作用于形成光盘的母盘的方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57189894A (en) * 1981-05-20 1982-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd Thermal recording material
US4724043A (en) * 1984-09-04 1988-02-09 International Business Machines Corporation Process for forming a master mold for optical storage disks
JPS6168296A (ja) * 1984-09-13 1986-04-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学情報記緑部材
US5051340A (en) * 1989-06-23 1991-09-24 Eastman Kodak Company Master for optical element replication
FR2654864B1 (fr) * 1989-11-21 1995-08-04 Digipress Sa Procede pour la fabrication d'un disque a lecture optique et disques obtenus par ce procede.
EP0461388B1 (en) * 1990-05-24 1996-09-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Positive resist composition
US5352562A (en) * 1991-03-26 1994-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming process and light-sensitive image forming material
JPH0845115A (ja) * 1994-07-29 1996-02-16 Victor Co Of Japan Ltd 光ディスク用原盤の製造方法
JPH1097738A (ja) * 1996-09-20 1998-04-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報記録媒体の製造方法および製造装置
CA2197706A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-14 Peter Ehbets Method of fabricating apodized phase mask
EP0901902A3 (en) * 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
JP3611955B2 (ja) * 1997-10-15 2005-01-19 パイオニア株式会社 光ディスク原盤の製造方法
JP4329208B2 (ja) * 2000-03-02 2009-09-09 ソニー株式会社 記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置
JP2001319370A (ja) * 2000-05-11 2001-11-16 Nec Corp 相変化光ディスク
TW575873B (en) * 2000-07-13 2004-02-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Information recording medium, method for producing the same, and recording/reproducing method using the same
US6872511B2 (en) * 2001-02-16 2005-03-29 Sharp Kabushiki Kaisha Method for forming micropatterns
JP3592678B2 (ja) * 2002-02-27 2004-11-24 松下電器産業株式会社 ブランク盤の製造方法とダイレクトスタンパーの製作方法
JP4055543B2 (ja) * 2002-02-22 2008-03-05 ソニー株式会社 レジスト材料及び微細加工方法
US7887711B2 (en) * 2002-06-13 2011-02-15 International Business Machines Corporation Method for etching chemically inert metal oxides
CN100341059C (zh) * 2002-12-19 2007-10-03 富士胶片株式会社 光信息记录方法及光信息记录介质
WO2005088628A1 (ja) * 2004-03-12 2005-09-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. ダイレクトマスタリングのスタンパを製造する方法、その方法により製造されるスタンパ及び光ディスク

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01205744A (ja) * 1988-02-12 1989-08-18 Victor Co Of Japan Ltd スタンパ複製用原盤とその製造方法
CN1213823A (zh) * 1997-10-08 1999-04-14 三星电子株式会社 制作用于形成光盘的母盘的方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1482494A3 (en) 2007-08-29
KR20040104371A (ko) 2004-12-10
US20040241589A1 (en) 2004-12-02
TW200501157A (en) 2005-01-01
EP1482494A2 (en) 2004-12-01
CN1573998A (zh) 2005-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100367387C (zh) 光信息存储媒体的原盘制造方法
EP1102254A1 (en) Method for producing master disk for producing formed substrate with groove, method for producing stamper for producing formed substrate with groove, method for producing formed substrate with groove, formed substrate with groove, storage medium, storage, and computer
CN1161769C (zh) 数据存储盘的反转光学母盘的制造
CN100583258C (zh) 光盘母盘基板和制造高密凹凸结构的方法
KR100954298B1 (ko) 광디스크용 스탬퍼, 광디스크 제조방법 및 광디스크
JP2005011489A (ja) 光情報記録媒体の原盤製造方法
US20030137065A1 (en) Use of mother stamper for optical disk molding
US7844984B2 (en) Optical recording medium and manufacturing method thereof
JP4093938B2 (ja) 光情報記録媒体の原盤製造方法、パターン形成方法およびレジスト
JP2009087431A (ja) スタンパ原版の製造方法及びスタンパ原版
JP2006099878A (ja) 相変化光記録媒体および光記録再生装置
US20080056111A1 (en) Optical Data Storage Medium and Manufacturing Methods Therefor
JP2007265593A (ja) 光ディスク、光ディスク基板および光ディスク原盤ならびに、これらの製造方法
JP2010118121A (ja) 光ディスク用原盤の製造方法、光ディスク用原盤、スタンパ、及び光ディスク
EP1609614B1 (en) Optical recording medium
EP1805757A2 (en) Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure
EP1807834B1 (en) Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure
JP3139479B2 (ja) 情報記録媒体、情報記録媒体の製造方法、情報の記録・再生方法、及び、情報の消去方法
JP4374277B2 (ja) 光情報記録媒体及びその製造方法
JP2007109336A (ja) スタンパ、光情報記録媒体の製造方法、光情報記録媒体及びスタンパ表面処理装置
JP2009026393A (ja) 光ディスク用スタンパの製造方法
JP2004014089A (ja) 光記録媒体及びその製造方法
JP2003316013A (ja) 露光方法および光学記録媒体製造用原盤の製造方法
JP2009070497A (ja) 光ディスク用原盤
JP2008251095A (ja) スタンパおよび磁気転写用マスターの製造方法、ならびに、スタンパおよび磁気転写用マスター

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080206