JPS6126952A - 情報記録担体の製造法 - Google Patents

情報記録担体の製造法

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JPS6126952A
JPS6126952A JP14527284A JP14527284A JPS6126952A JP S6126952 A JPS6126952 A JP S6126952A JP 14527284 A JP14527284 A JP 14527284A JP 14527284 A JP14527284 A JP 14527284A JP S6126952 A JPS6126952 A JP S6126952A
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登 川合
Toshiro Abe
安部 俊郎
Takashi Murata
敬 村田
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報記録担体の製造法に係り、特に例にばオー
ディオ用又はビデオ用のディスクといつた情報信号記録
媒体を大量に成型する際に用いる原盤の製造法に関する
ものである。
〔従来技術とその問題点〕
例えばビデオディスク用原盤の製造法として、ガラス基
板上に蒸着、スパッタリング若しくはCVD等によシ金
属又はその酸化物若しくは窒化物の薄膜を形成し、該薄
膜上にレーザービームで情報信号を記録し、該薄膜をマ
スクとして該ガラス基板にイオンミリング又はガスプラ
ズマによる第1のエツチングをすることにより所定の段
差を形成し、マスクとして使用した該薄膜を第2のエツ
チングにより除去するといった方法(特開昭54−77
105号)、あるいは基体上に金属薄膜層を被着形成す
る工程と、前記金属薄膜層の記録トラック上に記録用レ
ーザ光を照射することによりその領域を熔融蒸発させて
前記記録トラック上に予め記録すべき情報に対応した第
1凹凸ノ;ターンを記録する工程と、予め情報が記録さ
れた前記金属薄膜をマスクとして露出された前記基体を
イオンエツチングによシ選択除去することにより該基体
上に前記第1凹凸パターンに対応した第2凹凸ノくター
ンを形成する工程とを含むといった方法(特開昭54−
134603号)が提案されている。
しかし、これら提案による方法で基体に形成された凹凸
パターン(ピント)1は、その断面形状を第2図に示す
如く矩形であり、従ってこのようなものから作成する原
盤の型離れ性は悪い。
〔問題点を解決する。為の手段〕
基体を研磨する工程と、前記基体上にビームの照射に感
応するレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に
所定の情報により変調されたビームを照射する工程と、
前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像して選択的に
レジスト膜を除去し所定パターンのものとする工程と、
前記所定ノヨターンのレジスト膜をマスクとしてこのレ
ジスト膜が徐々にエツチング作用を受けると同時に前記
基体を選択的にドライエツチングして基体に凹凸の所定
パターンを形成する工程と、マスクとして用いたレジス
ト膜を除去する工程とを含む。
〔実施例〕
第1図a −eは、本発明に係る情報記録担体の製造工
程説明図である。
捷ず、例えば外径240mm、内径’151m、肉厚1
0mrnの光学研磨された青板ガラス製基体10を用意
し、この基体10面上に〉ザービームの照射に感応する
フォトレジスト、例えば商品名AZ1350(7ソプレ
一社)゛のフォトレジストをスピンコード法によって塗
布し、約3000λ厚のフォトレジスト膜11を形成す
る(第1図a)。尚、この除し/スト密着剤としてヘキ
サメチルジンラザンを用いる。
次に、基体10を回転させ、コンパクトディスク仕様の
PCMオーディオ信号によ逆変調したArレーザービー
ムを照射し、フォトレジスト膜11を感光させ、その後
現像して選択的にフォトレジスト膜11を除去する。つ
まり、第1図すに示す如く、フォトレジスト膜11を所
定の・々ターンに形成する。
その後、これを例えば平行平板型ドライエツチング装置
内に置き、導入ガスCF4、真空度lXl0’Torr
以下例えば2 X 1O−2Torr、高周波−: ワ
−200W、エツチング時間40分の条件で、前記所定
パターンのフォトレジスト膜11をマスクとしてドライ
エツチングを行なう。
そうすると、第1図c、dに示す如く、マスクであるフ
ォトレジスト膜11も反応ガスによって徐々に多少エツ
チングを受け、断面矩形状のフォトン450の断面逆台
形状の深さ0.1μmのピット12が形成される。岡、
第1図C中、点線で示すものはドライエツチング前のフ
ォトレジスト膜である。
そして、ドライエツチング終了後、マスクとして使用し
た所定パターンのフォトレジスト膜11を酸素プラズマ
のアツ/ングにより除去する(第1図e)。
上記のような工程によれば、基体10にエツチングによ
って所定パターンのピットを形成するに際して、マスク
であるレジスト膜も同時に徐々にエツチングを゛受ける
ようにす杢ので、基体10に形成されるピットは断面逆
台形状のものといったようにテーパーがついたものとな
り、従ってこれに対して銀の無電解メッキ、ニッケル電
鋳、ニッケル原盤の剥離といった工程により、離型性の
良い原盤を多数得ることができる。
特に、コンパクトディスクの信号では変調度及びマグニ
チュードの良好な原盤が作製できる。そして、コンパク
トディスクの場合にあっては、信号のピット形状が断面
矩形でなくテーパーのついたものとなるので、再生特性
に優れたものが得られる。
尚、ドライエツチングしたガラス製基体そのものをプラ
スチック成形の金型に用いるようにすることも考えられ
る。
〔効果〕
離型性の良い暮品質の原盤が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図a −eは本発明に係る情報記録担体の製造法の
工程説明図、第2図は従来の方法によって形成されたピ
ットの形状説明図である。 10・・・基体、11・・・フォトレジスト膜、12・
・・ピット。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  基体を研磨する工程と、前記基体上にビームの照射に
    感応するレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜
    に所定の情報により変調されたビームを照射する工程と
    、前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像して選択的
    にレジスト膜を除去し所定パターンのものとする工程と
    、前記所定パターンのレジスト膜をマスクとしてこのレ
    ジスト膜が徐々にエッチング作用を受けると同時に前記
    基体を選択的にドライエッチングして基体に凹凸の所定
    パターンを形成する工程と、マスクとして用いたレジス
    ト膜を除去する工程とを含むことを特徴とする情報記録
    担体の製造法。
JP59145272A 1984-07-14 1984-07-14 情報記録担体の製造法 Expired - Lifetime JPH0648546B2 (ja)

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