JPS6126952A - 情報記録担体の製造法 - Google Patents
情報記録担体の製造法Info
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- JPS6126952A JPS6126952A JP14527284A JP14527284A JPS6126952A JP S6126952 A JPS6126952 A JP S6126952A JP 14527284 A JP14527284 A JP 14527284A JP 14527284 A JP14527284 A JP 14527284A JP S6126952 A JPS6126952 A JP S6126952A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0064—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は情報記録担体の製造法に係り、特に例にばオー
ディオ用又はビデオ用のディスクといつた情報信号記録
媒体を大量に成型する際に用いる原盤の製造法に関する
ものである。
ディオ用又はビデオ用のディスクといつた情報信号記録
媒体を大量に成型する際に用いる原盤の製造法に関する
ものである。
例えばビデオディスク用原盤の製造法として、ガラス基
板上に蒸着、スパッタリング若しくはCVD等によシ金
属又はその酸化物若しくは窒化物の薄膜を形成し、該薄
膜上にレーザービームで情報信号を記録し、該薄膜をマ
スクとして該ガラス基板にイオンミリング又はガスプラ
ズマによる第1のエツチングをすることにより所定の段
差を形成し、マスクとして使用した該薄膜を第2のエツ
チングにより除去するといった方法(特開昭54−77
105号)、あるいは基体上に金属薄膜層を被着形成す
る工程と、前記金属薄膜層の記録トラック上に記録用レ
ーザ光を照射することによりその領域を熔融蒸発させて
前記記録トラック上に予め記録すべき情報に対応した第
1凹凸ノ;ターンを記録する工程と、予め情報が記録さ
れた前記金属薄膜をマスクとして露出された前記基体を
イオンエツチングによシ選択除去することにより該基体
上に前記第1凹凸パターンに対応した第2凹凸ノくター
ンを形成する工程とを含むといった方法(特開昭54−
134603号)が提案されている。
板上に蒸着、スパッタリング若しくはCVD等によシ金
属又はその酸化物若しくは窒化物の薄膜を形成し、該薄
膜上にレーザービームで情報信号を記録し、該薄膜をマ
スクとして該ガラス基板にイオンミリング又はガスプラ
ズマによる第1のエツチングをすることにより所定の段
差を形成し、マスクとして使用した該薄膜を第2のエツ
チングにより除去するといった方法(特開昭54−77
105号)、あるいは基体上に金属薄膜層を被着形成す
る工程と、前記金属薄膜層の記録トラック上に記録用レ
ーザ光を照射することによりその領域を熔融蒸発させて
前記記録トラック上に予め記録すべき情報に対応した第
1凹凸ノ;ターンを記録する工程と、予め情報が記録さ
れた前記金属薄膜をマスクとして露出された前記基体を
イオンエツチングによシ選択除去することにより該基体
上に前記第1凹凸パターンに対応した第2凹凸ノくター
ンを形成する工程とを含むといった方法(特開昭54−
134603号)が提案されている。
しかし、これら提案による方法で基体に形成された凹凸
パターン(ピント)1は、その断面形状を第2図に示す
如く矩形であり、従ってこのようなものから作成する原
盤の型離れ性は悪い。
パターン(ピント)1は、その断面形状を第2図に示す
如く矩形であり、従ってこのようなものから作成する原
盤の型離れ性は悪い。
基体を研磨する工程と、前記基体上にビームの照射に感
応するレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に
所定の情報により変調されたビームを照射する工程と、
前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像して選択的に
レジスト膜を除去し所定パターンのものとする工程と、
前記所定ノヨターンのレジスト膜をマスクとしてこのレ
ジスト膜が徐々にエツチング作用を受けると同時に前記
基体を選択的にドライエツチングして基体に凹凸の所定
パターンを形成する工程と、マスクとして用いたレジス
ト膜を除去する工程とを含む。
応するレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に
所定の情報により変調されたビームを照射する工程と、
前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像して選択的に
レジスト膜を除去し所定パターンのものとする工程と、
前記所定ノヨターンのレジスト膜をマスクとしてこのレ
ジスト膜が徐々にエツチング作用を受けると同時に前記
基体を選択的にドライエツチングして基体に凹凸の所定
パターンを形成する工程と、マスクとして用いたレジス
ト膜を除去する工程とを含む。
第1図a −eは、本発明に係る情報記録担体の製造工
程説明図である。
程説明図である。
捷ず、例えば外径240mm、内径’151m、肉厚1
0mrnの光学研磨された青板ガラス製基体10を用意
し、この基体10面上に〉ザービームの照射に感応する
フォトレジスト、例えば商品名AZ1350(7ソプレ
一社)゛のフォトレジストをスピンコード法によって塗
布し、約3000λ厚のフォトレジスト膜11を形成す
る(第1図a)。尚、この除し/スト密着剤としてヘキ
サメチルジンラザンを用いる。
0mrnの光学研磨された青板ガラス製基体10を用意
し、この基体10面上に〉ザービームの照射に感応する
フォトレジスト、例えば商品名AZ1350(7ソプレ
一社)゛のフォトレジストをスピンコード法によって塗
布し、約3000λ厚のフォトレジスト膜11を形成す
る(第1図a)。尚、この除し/スト密着剤としてヘキ
サメチルジンラザンを用いる。
次に、基体10を回転させ、コンパクトディスク仕様の
PCMオーディオ信号によ逆変調したArレーザービー
ムを照射し、フォトレジスト膜11を感光させ、その後
現像して選択的にフォトレジスト膜11を除去する。つ
まり、第1図すに示す如く、フォトレジスト膜11を所
定の・々ターンに形成する。
PCMオーディオ信号によ逆変調したArレーザービー
ムを照射し、フォトレジスト膜11を感光させ、その後
現像して選択的にフォトレジスト膜11を除去する。つ
まり、第1図すに示す如く、フォトレジスト膜11を所
定の・々ターンに形成する。
その後、これを例えば平行平板型ドライエツチング装置
内に置き、導入ガスCF4、真空度lXl0’Torr
以下例えば2 X 1O−2Torr、高周波−: ワ
−200W、エツチング時間40分の条件で、前記所定
パターンのフォトレジスト膜11をマスクとしてドライ
エツチングを行なう。
内に置き、導入ガスCF4、真空度lXl0’Torr
以下例えば2 X 1O−2Torr、高周波−: ワ
−200W、エツチング時間40分の条件で、前記所定
パターンのフォトレジスト膜11をマスクとしてドライ
エツチングを行なう。
そうすると、第1図c、dに示す如く、マスクであるフ
ォトレジスト膜11も反応ガスによって徐々に多少エツ
チングを受け、断面矩形状のフォトン450の断面逆台
形状の深さ0.1μmのピット12が形成される。岡、
第1図C中、点線で示すものはドライエツチング前のフ
ォトレジスト膜である。
ォトレジスト膜11も反応ガスによって徐々に多少エツ
チングを受け、断面矩形状のフォトン450の断面逆台
形状の深さ0.1μmのピット12が形成される。岡、
第1図C中、点線で示すものはドライエツチング前のフ
ォトレジスト膜である。
そして、ドライエツチング終了後、マスクとして使用し
た所定パターンのフォトレジスト膜11を酸素プラズマ
のアツ/ングにより除去する(第1図e)。
た所定パターンのフォトレジスト膜11を酸素プラズマ
のアツ/ングにより除去する(第1図e)。
上記のような工程によれば、基体10にエツチングによ
って所定パターンのピットを形成するに際して、マスク
であるレジスト膜も同時に徐々にエツチングを゛受ける
ようにす杢ので、基体10に形成されるピットは断面逆
台形状のものといったようにテーパーがついたものとな
り、従ってこれに対して銀の無電解メッキ、ニッケル電
鋳、ニッケル原盤の剥離といった工程により、離型性の
良い原盤を多数得ることができる。
って所定パターンのピットを形成するに際して、マスク
であるレジスト膜も同時に徐々にエツチングを゛受ける
ようにす杢ので、基体10に形成されるピットは断面逆
台形状のものといったようにテーパーがついたものとな
り、従ってこれに対して銀の無電解メッキ、ニッケル電
鋳、ニッケル原盤の剥離といった工程により、離型性の
良い原盤を多数得ることができる。
特に、コンパクトディスクの信号では変調度及びマグニ
チュードの良好な原盤が作製できる。そして、コンパク
トディスクの場合にあっては、信号のピット形状が断面
矩形でなくテーパーのついたものとなるので、再生特性
に優れたものが得られる。
チュードの良好な原盤が作製できる。そして、コンパク
トディスクの場合にあっては、信号のピット形状が断面
矩形でなくテーパーのついたものとなるので、再生特性
に優れたものが得られる。
尚、ドライエツチングしたガラス製基体そのものをプラ
スチック成形の金型に用いるようにすることも考えられ
る。
スチック成形の金型に用いるようにすることも考えられ
る。
離型性の良い暮品質の原盤が得られる。
第1図a −eは本発明に係る情報記録担体の製造法の
工程説明図、第2図は従来の方法によって形成されたピ
ットの形状説明図である。 10・・・基体、11・・・フォトレジスト膜、12・
・・ピット。
工程説明図、第2図は従来の方法によって形成されたピ
ットの形状説明図である。 10・・・基体、11・・・フォトレジスト膜、12・
・・ピット。
Claims (1)
- 基体を研磨する工程と、前記基体上にビームの照射に
感応するレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜
に所定の情報により変調されたビームを照射する工程と
、前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像して選択的
にレジスト膜を除去し所定パターンのものとする工程と
、前記所定パターンのレジスト膜をマスクとしてこのレ
ジスト膜が徐々にエッチング作用を受けると同時に前記
基体を選択的にドライエッチングして基体に凹凸の所定
パターンを形成する工程と、マスクとして用いたレジス
ト膜を除去する工程とを含むことを特徴とする情報記録
担体の製造法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59145272A JPH0648546B2 (ja) | 1984-07-14 | 1984-07-14 | 情報記録担体の製造法 |
DE8585108560T DE3585471D1 (de) | 1984-07-14 | 1985-07-10 | Verfahren zur herstellung einer matrize fuer eine aufzeichnungsplatte. |
EP85108560A EP0168763B1 (en) | 1984-07-14 | 1985-07-10 | Method for fabricating a master recording disc |
US06/753,755 US4655876A (en) | 1984-07-14 | 1985-07-11 | Method for fabricating a master recording disc |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59145272A JPH0648546B2 (ja) | 1984-07-14 | 1984-07-14 | 情報記録担体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6126952A true JPS6126952A (ja) | 1986-02-06 |
JPH0648546B2 JPH0648546B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=15381295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59145272A Expired - Lifetime JPH0648546B2 (ja) | 1984-07-14 | 1984-07-14 | 情報記録担体の製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4655876A (ja) |
EP (1) | EP0168763B1 (ja) |
JP (1) | JPH0648546B2 (ja) |
DE (1) | DE3585471D1 (ja) |
Cited By (3)
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