JPH01143035A - 情報記録原盤及びその製造方法 - Google Patents
情報記録原盤及びその製造方法Info
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- JPH01143035A JPH01143035A JP62299798A JP29979887A JPH01143035A JP H01143035 A JPH01143035 A JP H01143035A JP 62299798 A JP62299798 A JP 62299798A JP 29979887 A JP29979887 A JP 29979887A JP H01143035 A JPH01143035 A JP H01143035A
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- grooves
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報を光学的に記録・再生する光デイスク用
情報記録原盤に係り、特に、高品質の光ディスクを得る
ために好適な情報記録原盤およびその製造方法に関する
。
情報記録原盤に係り、特に、高品質の光ディスクを得る
ために好適な情報記録原盤およびその製造方法に関する
。
光ディスクを得るための情報記録原盤に関する従来技術
としては、例えば、（１）ガラス基板上に、ホトリソグ
ラフィ技術とプラズマエツチングあるいは湿式エツチン
グ技術との組合せにより、同−深さの案内溝と情報ピッ
トを有するＳｉｏ、層を形成したもの（特開昭第６１−
６６２４２号）、（２）ガラス基板表面にホトエツチン
グ技術とドライエツチング技術とにより同−深さの案内
溝および情報ピットを形成したもの（プロシーデインゲ
ス・オン・シンポジウム・オン・ドライ・プロセスＰＲ
ＯＣＥＥＤＩＮＧＳ ＯＦ ＳＹＭＰＯ３ＩυＭ ＯＮ
ＤＲＹ ＰＲＯＣＥＳＳ １９８６第５３〜第５８頁
電気学会）などを挙げることができる。
としては、例えば、（１）ガラス基板上に、ホトリソグ
ラフィ技術とプラズマエツチングあるいは湿式エツチン
グ技術との組合せにより、同−深さの案内溝と情報ピッ
トを有するＳｉｏ、層を形成したもの（特開昭第６１−
６６２４２号）、（２）ガラス基板表面にホトエツチン
グ技術とドライエツチング技術とにより同−深さの案内
溝および情報ピットを形成したもの（プロシーデインゲ
ス・オン・シンポジウム・オン・ドライ・プロセスＰＲ
ＯＣＥＥＤＩＮＧＳ ＯＦ ＳＹＭＰＯ３ＩυＭ ＯＮ
ＤＲＹ ＰＲＯＣＥＳＳ １９８６第５３〜第５８頁
電気学会）などを挙げることができる。
光ディスク用情報記録原盤において情報信号の記録・再
生に最も関連の深い要素は、案内溝またはピットおよび
トラック番地情報溝またはピットのそれぞれの深さであ
り、良好なトラッキング特性と良好な再生信号とを両立
させるためには、案内溝またはピットとトラック番地情
報溝またはピットの深さをそれぞれの最適値に制御する
ことが極めて重要であるが、前記した例などにみられる
従来技術においては、案内溝またはピットおよびトラッ
ク番地情報溝またはピットの深さは同一となっており、
それぞれの最適深さに制御することは大変面倒であると
いう問題点があった。
生に最も関連の深い要素は、案内溝またはピットおよび
トラック番地情報溝またはピットのそれぞれの深さであ
り、良好なトラッキング特性と良好な再生信号とを両立
させるためには、案内溝またはピットとトラック番地情
報溝またはピットの深さをそれぞれの最適値に制御する
ことが極めて重要であるが、前記した例などにみられる
従来技術においては、案内溝またはピットおよびトラッ
ク番地情報溝またはピットの深さは同一となっており、
それぞれの最適深さに制御することは大変面倒であると
いう問題点があった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決して、高
品質の光ディスクを得るために好適な情報記録原盤およ
びその製造方法を提供することにある。
品質の光ディスクを得るために好適な情報記録原盤およ
びその製造方法を提供することにある。
上記目的は、基板表面に所定パターンの第１の溝または
ピット（案内溝またはピット）と該第１の溝またはピッ
トに追従して形成した少なくとも１種類の所定パターン
の第２の溝またはピット（トラック番地情報溝またはピ
ット）を有し、かつ、該第１の溝またはピットと該第２
の溝またはピットとが異なる深さとなるようにした情報
記録原盤とすることによって達成することができる。
ピット（案内溝またはピット）と該第１の溝またはピッ
トに追従して形成した少なくとも１種類の所定パターン
の第２の溝またはピット（トラック番地情報溝またはピ
ット）を有し、かつ、該第１の溝またはピットと該第２
の溝またはピットとが異なる深さとなるようにした情報
記録原盤とすることによって達成することができる。
基板上にまず第１の溝またはピットを形成し、次いで、
該溝またはピットに追従して第２の溝またはピットを形
成することによって、正確な位置に、品質の高い溝また
はピットを形成することができる。
該溝またはピットに追従して第２の溝またはピットを形
成することによって、正確な位置に、品質の高い溝また
はピットを形成することができる。
また、第１の溝またはピットの形成と第２の溝またはピ
ットの形成とを別工程とすることによって−それぞれの
溝またはピットの深さを、容易に、かつ、精度よく、異
かる深さのものとして得ることができる。
ットの形成とを別工程とすることによって−それぞれの
溝またはピットの深さを、容易に、かつ、精度よく、異
かる深さのものとして得ることができる。
以下、本発明の一実施例について図によって説明する。
第１図は本発明による情報記録原盤の製造工程図である
。
。
まず、精度よく研磨加工したガラス基板１上にレジスト
膜２を形成させる。本実施例では、レジスト膜２の材料
として、シラプレー社製ポジ型ホトレジストＡ Ｚ−１
３５０を用いた。このレジスト膜２に、所定マスクを通
してレーザ光を照射し、露光・現像を行うことにより、
レジスト膜の露光部分が除去されて、第１の溝またはピ
ットのレジストパターン３が得られる（図中の（ａ））
。
膜２を形成させる。本実施例では、レジスト膜２の材料
として、シラプレー社製ポジ型ホトレジストＡ Ｚ−１
３５０を用いた。このレジスト膜２に、所定マスクを通
してレーザ光を照射し、露光・現像を行うことにより、
レジスト膜の露光部分が除去されて、第１の溝またはピ
ットのレジストパターン３が得られる（図中の（ａ））
。
次いで、（ａ）により得た基板をプラズマエツチング装
置内に載置し、該装置を排気して真空度が１０−６〜１
０−’ Ｔ ｏｒｒに達したところでＡｒガスを導入し
、Ａｒガス圧を１〜１０−’ Ｔ ｏｒｒとする。この
状態で高周波放電を行い、プラズマを発生させてエツチ
ングを行うことによって、（ａ）のレジストパターン３
の部分のガラス基板がエツチングされ、第１の溝または
ピット４が形成される（図中の（ｂ））、ここでエツチ
ングの深さｄｌは、一般に、７００人程度のものである
が、エツチング条件、例えばエツチング時間、を制御す
ることによって、任意の深さで得ることができる０次い
で、ガラス基板１上に残存するレジスト膜を除去するこ
とによって、表面に第１の溝またはピット４を有する基
板が得られる（図中の（ｃ））。
置内に載置し、該装置を排気して真空度が１０−６〜１
０−’ Ｔ ｏｒｒに達したところでＡｒガスを導入し
、Ａｒガス圧を１〜１０−’ Ｔ ｏｒｒとする。この
状態で高周波放電を行い、プラズマを発生させてエツチ
ングを行うことによって、（ａ）のレジストパターン３
の部分のガラス基板がエツチングされ、第１の溝または
ピット４が形成される（図中の（ｂ））、ここでエツチ
ングの深さｄｌは、一般に、７００人程度のものである
が、エツチング条件、例えばエツチング時間、を制御す
ることによって、任意の深さで得ることができる０次い
で、ガラス基板１上に残存するレジスト膜を除去するこ
とによって、表面に第１の溝またはピット４を有する基
板が得られる（図中の（ｃ））。
次に、（ｃ）で得た基板１上に、新たにレジスト膜５を
形成させる。この時、レジスト膜５の表面には、溝また
はピット４に対応する個所に凹み６が形成される（図中
の（ｄ））、次いで、溝またはピット４および凹み６を
再生、追従しながら、記録光によってレジスト膜５をト
ラック番地情報パターンに従って走査してトラック番地
情報ピット追加記録の露光を行い、さらに現像処理を施
して露光部分のレジスト膜を除去して、トラック番地情
報ピットレジストパターン７を形成させる（図中の（ｅ
））、ここで、追従するために用いる再生信号は溝また
はピット４および凹み６の双方であり、分離することは
できない、また、再生、追従に用いる光源はレジスト膜
５の感光に影響を与えないものである必要があり、Ｈｅ
−Ｎｅレーザ光が適している。
形成させる。この時、レジスト膜５の表面には、溝また
はピット４に対応する個所に凹み６が形成される（図中
の（ｄ））、次いで、溝またはピット４および凹み６を
再生、追従しながら、記録光によってレジスト膜５をト
ラック番地情報パターンに従って走査してトラック番地
情報ピット追加記録の露光を行い、さらに現像処理を施
して露光部分のレジスト膜を除去して、トラック番地情
報ピットレジストパターン７を形成させる（図中の（ｅ
））、ここで、追従するために用いる再生信号は溝また
はピット４および凹み６の双方であり、分離することは
できない、また、再生、追従に用いる光源はレジスト膜
５の感光に影響を与えないものである必要があり、Ｈｅ
−Ｎｅレーザ光が適している。
次いで、（ｅ）の基板について上記（ｂ）作成の場合と
同様条件でプラズマエツチングを施すことにより、ガラ
ス基板１上にトラック番地情報ピット８を形成する（図
中の（ｆ））、ここで、エツチングの深さｄ２もエツチ
ング条件の制御により任意の深さとすることが可能であ
り、従って、上記第１の溝またはピット４の深さｄｌと
トラック番地情報ピット８の深さｄ２とを異なった深さ
とすることは極めて容易である。さらに、（ｆ）で得ら
れた基板からレジスト膜５を除去することによって、（
ｇ）に示すように、第１の溝またはピット４およびトラ
ック番地情報ピット８を有するガラス基板１からなる情
報記録原盤を得ることができる。
同様条件でプラズマエツチングを施すことにより、ガラ
ス基板１上にトラック番地情報ピット８を形成する（図
中の（ｆ））、ここで、エツチングの深さｄ２もエツチ
ング条件の制御により任意の深さとすることが可能であ
り、従って、上記第１の溝またはピット４の深さｄｌと
トラック番地情報ピット８の深さｄ２とを異なった深さ
とすることは極めて容易である。さらに、（ｆ）で得ら
れた基板からレジスト膜５を除去することによって、（
ｇ）に示すように、第１の溝またはピット４およびトラ
ック番地情報ピット８を有するガラス基板１からなる情
報記録原盤を得ることができる。
なお、トラック番地情報ピット８の位置は、第１の溝ま
たはピット４の上に設ける場合と、第１の溝またはピッ
ト４相互の間に設ける場合とがあるが、いずれの場合も
、エツチングにより形成することが可能である。
たはピット４の上に設ける場合と、第１の溝またはピッ
ト４相互の間に設ける場合とがあるが、いずれの場合も
、エツチングにより形成することが可能である。
また、上記（ｄ）以下の工程をくりかえし行うことによ
り、一つ以上のトラック番地情報ピットを設けることが
可能である。
り、一つ以上のトラック番地情報ピットを設けることが
可能である。
また、基板のエツチング方法としては、上述の方法のほ
かに、他のドライエツチングあるいはウェットエツチン
グ方法を用いても、同様の結果を得ることができる。
かに、他のドライエツチングあるいはウェットエツチン
グ方法を用いても、同様の結果を得ることができる。
なお、（ｇ）に示した情報記録原盤にＮｉめっきを施し
た後剥離することによって複数のスタンパを作製するこ
とができる。
た後剥離することによって複数のスタンパを作製するこ
とができる。
また、（ｇ）に示した情報記録原盤からレプリカディス
クを作ることも可能である。すなわち。
クを作ることも可能である。すなわち。
第２図に示すように、透明石英からなる情報記録原盤９
上に紫外線硬化型樹脂層１０を設け、該樹脂層１０上に
ＡＯ基板１１を接着した後、原盤１の背面から紫外線を
照射して樹脂層１０を硬化させ、その後、Ａｎ基板１１
とともに樹脂層１０を原盤９から剥離することによって
レプリカディスクを得ることができる。
上に紫外線硬化型樹脂層１０を設け、該樹脂層１０上に
ＡＯ基板１１を接着した後、原盤１の背面から紫外線を
照射して樹脂層１０を硬化させ、その後、Ａｎ基板１１
とともに樹脂層１０を原盤９から剥離することによって
レプリカディスクを得ることができる。
以上述べてきたように、情報を光学的に記録・再生する
光デイスク用情報記録原盤について１本発明構造の記録
原盤とすることおよび本発明の製造方法とすること、す
なわち、まず基板表面に所定パターンの案内溝またはピ
ットを形成し、次いで、該案内溝またはピットに追従し
て少なくとも１種類の所定パターンのトラック番地情報
溝またはピットを形成し、かつ、該案内溝またはピット
と該トラック番地情報溝またはピットとの深さを異なる
深さとすること、によって、従来技術の有していた問題
点を解決して、高品質の光ディスクを得るために好適な
情報記録原盤およびその製造方法を提供することができ
た。
光デイスク用情報記録原盤について１本発明構造の記録
原盤とすることおよび本発明の製造方法とすること、す
なわち、まず基板表面に所定パターンの案内溝またはピ
ットを形成し、次いで、該案内溝またはピットに追従し
て少なくとも１種類の所定パターンのトラック番地情報
溝またはピットを形成し、かつ、該案内溝またはピット
と該トラック番地情報溝またはピットとの深さを異なる
深さとすること、によって、従来技術の有していた問題
点を解決して、高品質の光ディスクを得るために好適な
情報記録原盤およびその製造方法を提供することができ
た。
第１図は本発明による情報記録原盤の製造工程図、第２
図は本発明による情報記録原盤からのしプリ力ディスク
の作成を説明する図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・レジスト膜 ３・・・第１の溝またはピットのレジストパターン４・
・・第１の溝またはピット ５・・・レジスト膜 ６・・・凹み ７・・・トラック番地情報溝またはピット８・・・トラ
ック番地情報溝またはピット９・・・情報記録原盤 ｌＯ・・・紫外線硬化型樹脂層 １１・・・ＡＱ基板 代理人弁理士 中 村 純之助 第１図 （ｂ） （ｆ） （ｄ）
図は本発明による情報記録原盤からのしプリ力ディスク
の作成を説明する図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・レジスト膜 ３・・・第１の溝またはピットのレジストパターン４・
・・第１の溝またはピット ５・・・レジスト膜 ６・・・凹み ７・・・トラック番地情報溝またはピット８・・・トラ
ック番地情報溝またはピット９・・・情報記録原盤 ｌＯ・・・紫外線硬化型樹脂層 １１・・・ＡＱ基板 代理人弁理士 中 村 純之助 第１図 （ｂ） （ｆ） （ｄ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板表面に所定パターンの第１の溝またはピットと
、該第１の溝またはピットに追従して形成される少なく
とも１種類の所定パターンの第２の溝またはピットとを
有し、かつ、第１の溝またはピットの深さと第２の溝ま
たはピットの深さとが異なる深さであることを特徴とす
る情報記録原盤。 ２、上記第１の溝またはピットが案内溝または案内ピッ
トであり、上記第２の溝またはピットがトラック番地情
報溝またはトラック番地情報ピットであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の情報記録原盤。 ３、基板上にホトレジスト膜を塗工し、該レジスト膜に
収束光を照射し、現像して第１の溝またはピット形成の
ための所定パターンを該レジスト膜に形成した後、該パ
ターンレジストをマスクとして、エッチングにより、基
板に所定深さの第１の溝またはピットを形成した後、マ
スクとしたパターンレジストを除去する第１工程と、上
記第１の溝またはピットを有する基板上にホトレジスト
膜を塗工し、第１の溝またはピットに追従しながら該レ
ジスト膜に収束光を照射し、現像して第２の溝またはピ
ット形成のための所定パターンを該レジスト膜に形成し
た後、該パターンレジストをマスクとして、エッチング
により、基板に上記第１の溝またはピットと異なる深さ
の第２の溝またはピットを形成した後、マスクとしたパ
ターンレジストを除去する第２工程とを含むことを特徴
とする情報記録原盤の製造方法。 ４、上記第２工程を２回以上くり返し行うことを特徴と
する特許請求の範囲第３項記載の情報記録原盤の製造方
法。 ５、上記第１の溝またはピットが案内溝または案内ピッ
トであり、上記第２の溝またはピットがトラック番地情
報溝またはトラック番地情報ピットであることを特徴と
する特許請求の範囲第３項または第４項記載の情報記録
原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62299798A JPH01143035A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 情報記録原盤及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62299798A JPH01143035A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 情報記録原盤及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01143035A true JPH01143035A (ja) | 1989-06-05 |
Family
ID=17877064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62299798A Pending JPH01143035A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 情報記録原盤及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01143035A (ja) |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP62299798A patent/JPH01143035A/ja active Pending
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