JP2000348393A - 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク用スタンパ及びその製造方法Info
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- JP2000348393A JP2000348393A JP11157569A JP15756999A JP2000348393A JP 2000348393 A JP2000348393 A JP 2000348393A JP 11157569 A JP11157569 A JP 11157569A JP 15756999 A JP15756999 A JP 15756999A JP 2000348393 A JP2000348393 A JP 2000348393A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 より高密度の光ディスクを製造するための
光ディスク用スタンパを得る。 【解決手段】 ディスク基板１の上面側に溝部３とラン
ド部２を同心円状或いは螺旋状に交互に設け、且つ、前
記溝部３の底面の両側にディスク平面方向に対する角度
が略同一の一対の側壁１５a、１５bを形成してなる光デ
ィスク用スタンパ１５、１６において、前記一対の側壁
１５a、１５bは、ディスク平面方向に対する傾斜角を８
５度から９０度の範囲内に設定されていることを特徴と
する光ディスク用スタンパ。
光ディスク用スタンパを得る。 【解決手段】 ディスク基板１の上面側に溝部３とラン
ド部２を同心円状或いは螺旋状に交互に設け、且つ、前
記溝部３の底面の両側にディスク平面方向に対する角度
が略同一の一対の側壁１５a、１５bを形成してなる光デ
ィスク用スタンパ１５、１６において、前記一対の側壁
１５a、１５bは、ディスク平面方向に対する傾斜角を８
５度から９０度の範囲内に設定されていることを特徴と
する光ディスク用スタンパ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学式情報記録媒
体、特にビデオディスク等の情報記録媒体を射出成形す
るときに成形型として用いられる光ディスク用スタンパ
及びその製造方法に関する。
体、特にビデオディスク等の情報記録媒体を射出成形す
るときに成形型として用いられる光ディスク用スタンパ
及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高密度データが蓄積でき高速に情報処理
可能な光ディスクは、オーディオや画像用途、さらには
コンピュータメモリとして注目されている。このような
光ディスクは、透明なディスク基板の表面に溝やピット
（以下、総称して溝部と称す）とランド部を同心円状或
いは螺旋状に形成し、この表面に記録層や各種の保護層
等を積層して構成されている。図２は、従来のディスク
基板の部分拡大断面図を示しており、例えば、石英より
なるディスク基板１の表面には、凸状になされたランド
部２と隣接するランド部２間に形成された溝部３が交互
に設けられている。この時、溝部３を区画する側壁３Ａ
が底部３Ｂとなす角度θは略７０度程度であり、この溝
部３やランド部２は、一般的には金属製のスタンパによ
る樹脂の型取りにより形成される。
可能な光ディスクは、オーディオや画像用途、さらには
コンピュータメモリとして注目されている。このような
光ディスクは、透明なディスク基板の表面に溝やピット
（以下、総称して溝部と称す）とランド部を同心円状或
いは螺旋状に形成し、この表面に記録層や各種の保護層
等を積層して構成されている。図２は、従来のディスク
基板の部分拡大断面図を示しており、例えば、石英より
なるディスク基板１の表面には、凸状になされたランド
部２と隣接するランド部２間に形成された溝部３が交互
に設けられている。この時、溝部３を区画する側壁３Ａ
が底部３Ｂとなす角度θは略７０度程度であり、この溝
部３やランド部２は、一般的には金属製のスタンパによ
る樹脂の型取りにより形成される。
【０００３】ここで図３を参照して、従来の光ディスク
用スタンパ及びその製造方法について説明する。まず、
図３（Ａ）に示すように石英よりなるガラス基板５上
に、例えば、スピンコート法によりフォトレジスト６を
均一に塗布し、次に、図３（Ｂ）に示すようにレーザ光
Ｌを集光レンズ７で集光して集光ビームＬＢを形成し、
これにより、形成すべき溝部に沿って上記フォトレジス
ト６を感光させる。
用スタンパ及びその製造方法について説明する。まず、
図３（Ａ）に示すように石英よりなるガラス基板５上
に、例えば、スピンコート法によりフォトレジスト６を
均一に塗布し、次に、図３（Ｂ）に示すようにレーザ光
Ｌを集光レンズ７で集光して集光ビームＬＢを形成し、
これにより、形成すべき溝部に沿って上記フォトレジス
ト６を感光させる。
【０００４】次に、図３（Ｃ）に示すように、このフォ
トレジスト６を図示しない現像液に漬けることによって
上記フォトレジスト６の内、集光ビームＬＢにより感光
した部分を除去して溝部８のレジストパターンを形成す
る。次に、図３（Ｄ）に示すように上記レジストパター
ンをマスクとしてＣＨＦ3、ＣＦ4＋Ｈ2ガス９で、前記
石英ガラス基板５を異方性エッチングして、この石英ガ
ラス基板５上に溝部８を形成する。次に、異方性エッチ
ングされた石英ガラス基板５上のフォトレジスト６をア
ッシング等で除去することにより、図３（Ｅ）に示すよ
うな、その表面に溝部３とランド部２の形成された石英
ガラススタンパ１が形成される。そして、この溝部３や
ランド部２、或いはこれらの双方がトラックとして用い
られる。
トレジスト６を図示しない現像液に漬けることによって
上記フォトレジスト６の内、集光ビームＬＢにより感光
した部分を除去して溝部８のレジストパターンを形成す
る。次に、図３（Ｄ）に示すように上記レジストパター
ンをマスクとしてＣＨＦ3、ＣＦ4＋Ｈ2ガス９で、前記
石英ガラス基板５を異方性エッチングして、この石英ガ
ラス基板５上に溝部８を形成する。次に、異方性エッチ
ングされた石英ガラス基板５上のフォトレジスト６をア
ッシング等で除去することにより、図３（Ｅ）に示すよ
うな、その表面に溝部３とランド部２の形成された石英
ガラススタンパ１が形成される。そして、この溝部３や
ランド部２、或いはこれらの双方がトラックとして用い
られる。
【０００５】この石英ガラススタンパ１は、そのまま成
型用に使用されても良い。更に、この石英ガラススタン
パ１上に、電鋳で金属を堆積させることにより上記溝部
８の形状が転写されたスタンパ１０を作成しても良い。
そして、この石英ガラススタンパ１の溝部３が形成され
ている面上に、例えば光磁気記録媒体などに用いられる
図示しない記録膜や図示しない各種の保護層等を形成し
て光ディスクを完成する。
型用に使用されても良い。更に、この石英ガラススタン
パ１上に、電鋳で金属を堆積させることにより上記溝部
８の形状が転写されたスタンパ１０を作成しても良い。
そして、この石英ガラススタンパ１の溝部３が形成され
ている面上に、例えば光磁気記録媒体などに用いられる
図示しない記録膜や図示しない各種の保護層等を形成し
て光ディスクを完成する。
【０００６】一般に、光ディスクのエッチングスタンパ
は、石英ガラス基板上に均一に塗布されたフォトレジス
トをレ−ザなどの光を集光させて露光し、このフォトレ
ジストに溝部のパタ−ンを形成する。このフォトレジス
トのパタ−ンをマスクにして石英ガラス基板をプラズマ
エッチング処理し、石英ガラス基板上に溝部を造るもの
が周知である。更に、フォトレジストパタ−ンをマスク
として石英ガラス基板をプラズマエッチングし、スタン
パを製造する方法として、例えば特開平９−２９７９４
０号公報等に開示されているものが知られている。
は、石英ガラス基板上に均一に塗布されたフォトレジス
トをレ−ザなどの光を集光させて露光し、このフォトレ
ジストに溝部のパタ−ンを形成する。このフォトレジス
トのパタ−ンをマスクにして石英ガラス基板をプラズマ
エッチング処理し、石英ガラス基板上に溝部を造るもの
が周知である。更に、フォトレジストパタ−ンをマスク
として石英ガラス基板をプラズマエッチングし、スタン
パを製造する方法として、例えば特開平９−２９７９４
０号公報等に開示されているものが知られている。
【０００７】上記特開平９−２９７９４０号公報に示す
スタンパの製造方法は、フォトレジストの膜厚Ｄ１を深
さＤ２に対して１．２×Ｄ２≦Ｄ１にするフォトレジス
トパタ−ンをマスクとして、石英ガラス基板をプラズマ
エッチングしてスタンパを得るものである。
スタンパの製造方法は、フォトレジストの膜厚Ｄ１を深
さＤ２に対して１．２×Ｄ２≦Ｄ１にするフォトレジス
トパタ−ンをマスクとして、石英ガラス基板をプラズマ
エッチングしてスタンパを得るものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般に
周知のスタンパの製造方法や特開平９−２９７９４０号
公報記載の技術は、前記した図３に示すプロセスで造ら
れ、いずれもレ−ザ光の集光ビ−ムによりフォトレジス
トを露光してレジストパタ−ンを形成するために、溝部
の角度が鋭くとも７０度位にしかならない。このよう
に、溝部の角度が７０度程度のフォトレジストパタ−ン
をマスクにして石英ガラス基板をプラズマエッチングす
るために、本発明が意図している傾斜角が８５度から９
０度の溝部を有する石英ガラスのスタンパを造ることが
できないなどの問題点がある。すなわち、より高密度の
光ディスクを製造することが出来ない問題点がある。
周知のスタンパの製造方法や特開平９−２９７９４０号
公報記載の技術は、前記した図３に示すプロセスで造ら
れ、いずれもレ−ザ光の集光ビ−ムによりフォトレジス
トを露光してレジストパタ−ンを形成するために、溝部
の角度が鋭くとも７０度位にしかならない。このよう
に、溝部の角度が７０度程度のフォトレジストパタ−ン
をマスクにして石英ガラス基板をプラズマエッチングす
るために、本発明が意図している傾斜角が８５度から９
０度の溝部を有する石英ガラスのスタンパを造ることが
できないなどの問題点がある。すなわち、より高密度の
光ディスクを製造することが出来ない問題点がある。
【０００９】特に、記録型光ディスクの場合には、トラ
ックにデータを書き込んだり、消去する際に、隣接する
トラックのデータも消去してしまうという問題がある。
すなわち、光磁気ディスクや相変化ディスクは、レーザ
ー光によってディスクの温度を上昇させる熱記録である
ため、隣接するトラックとの間隔が小さくなれば隣接ト
ラックへの熱拡散がより大きくなる。そのため、トラッ
クに情報を書き込んだり、消去したりするとき、隣接ト
ラックに書き込まれている情報を消してしまう（熱クロ
ストークまたはクロスイレーズ）。特に、狭トラックピ
ッチ化のためランドとグルーブの両方に情報を記録する
ランド・グルーブ記録方式では、クロスイレーズの影響
を受けやすく、多数回の記録時におけるクロスイレーズ
の制御が重要である。
ックにデータを書き込んだり、消去する際に、隣接する
トラックのデータも消去してしまうという問題がある。
すなわち、光磁気ディスクや相変化ディスクは、レーザ
ー光によってディスクの温度を上昇させる熱記録である
ため、隣接するトラックとの間隔が小さくなれば隣接ト
ラックへの熱拡散がより大きくなる。そのため、トラッ
クに情報を書き込んだり、消去したりするとき、隣接ト
ラックに書き込まれている情報を消してしまう（熱クロ
ストークまたはクロスイレーズ）。特に、狭トラックピ
ッチ化のためランドとグルーブの両方に情報を記録する
ランド・グルーブ記録方式では、クロスイレーズの影響
を受けやすく、多数回の記録時におけるクロスイレーズ
の制御が重要である。
【００１０】そこで、このクロスイレーズ低減のため溝
部の深さを深くし溝による段差を大きくすることで隣接
するトラックへの熱伝搬距離を長くし、クロスイレーズ
耐性を向上させるようにしたものがある。しかしなが
ら、かかる方法でも光ディスク基板の原盤であるスタン
パの溝の壁面部（一対の側壁）の表面粗さが充分でな
く、これが再生時に未記録ノイズとなって現出する。本
発明は、以上のような問題点に着目しこれを有効に解決
すべく創出されたものであり、その目的とするところ
は、より高密度の光ディスクを製造するための光ディス
ク用スタンパ及びその製造方法を提供することにある。
部の深さを深くし溝による段差を大きくすることで隣接
するトラックへの熱伝搬距離を長くし、クロスイレーズ
耐性を向上させるようにしたものがある。しかしなが
ら、かかる方法でも光ディスク基板の原盤であるスタン
パの溝の壁面部（一対の側壁）の表面粗さが充分でな
く、これが再生時に未記録ノイズとなって現出する。本
発明は、以上のような問題点に着目しこれを有効に解決
すべく創出されたものであり、その目的とするところ
は、より高密度の光ディスクを製造するための光ディス
ク用スタンパ及びその製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
てなされたものであり、第１の発明は、ディスク基板１
の上面側に溝部３とランド部２を同心円状或いは螺旋状
に交互に設け、且つ、前記溝部３の底面の両側にディス
ク平面方向に対する角度が略同一の一対の側壁１５a、
１５bを形成してなる光ディスク用スタンパ１５、１６
において、前記一対の側壁１５a、１５bは、ディスク平
面方向に対する傾斜角を８５度から９０度の範囲内に設
定されている光ディスク用スタンパを、第２の発明
は、、石英ガラス基板５上にスパッタリングによりクロ
ム金属１１を成膜し、この成膜されたクロム金属１１上
にフォトレジスト１２を塗布し、次にこのフォトレジス
ト１２上からレーザ光Ｌを照射して所定の溝部８を形成
し、次に前記フォトレジスト１２を除去して所定の溝部
８を有するレジストパターン１３及びクロム金属パタ−
ン１４を形成し、次にこのレジストパターン１３及びク
ロム金属パタ−ン１４上からプラズマエッチングを行
い、傾斜角度が８５度から９０度の一対の側壁１５a、
１５bを有する石英ガラススタンパ１５を形成するよう
にした光ディスク用スタンパの製造方法をそれぞれ提供
するものである。
てなされたものであり、第１の発明は、ディスク基板１
の上面側に溝部３とランド部２を同心円状或いは螺旋状
に交互に設け、且つ、前記溝部３の底面の両側にディス
ク平面方向に対する角度が略同一の一対の側壁１５a、
１５bを形成してなる光ディスク用スタンパ１５、１６
において、前記一対の側壁１５a、１５bは、ディスク平
面方向に対する傾斜角を８５度から９０度の範囲内に設
定されている光ディスク用スタンパを、第２の発明
は、、石英ガラス基板５上にスパッタリングによりクロ
ム金属１１を成膜し、この成膜されたクロム金属１１上
にフォトレジスト１２を塗布し、次にこのフォトレジス
ト１２上からレーザ光Ｌを照射して所定の溝部８を形成
し、次に前記フォトレジスト１２を除去して所定の溝部
８を有するレジストパターン１３及びクロム金属パタ−
ン１４を形成し、次にこのレジストパターン１３及びク
ロム金属パタ−ン１４上からプラズマエッチングを行
い、傾斜角度が８５度から９０度の一対の側壁１５a、
１５bを有する石英ガラススタンパ１５を形成するよう
にした光ディスク用スタンパの製造方法をそれぞれ提供
するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係わる光ディス
ク用スタンパ及びその製造方法の一実施例を図１を参照
して詳細に説明する。なお、従来と同一の構成部分は同
一符号を用い、その詳細な説明は省略する。
ク用スタンパ及びその製造方法の一実施例を図１を参照
して詳細に説明する。なお、従来と同一の構成部分は同
一符号を用い、その詳細な説明は省略する。
【００１３】図１は，本発明に係わる光ディスク用スタ
ンパ及びその製造方法の工程を示す断面図である。ま
ず、図１（Ａ）に示すように研磨された石英ガラス基板
５上に、例えば、スパッタリングにより膜厚２５〜３０
ｎｍのクロム金属１１を成膜し、次に、図１（Ｂ）に示
すように、このクロム金属１１上にスピンコート法によ
りフォトレジスト１２を均一に塗布し、その後乾燥させ
る。なお、上記クロム金属１１の成膜に際し、その膜厚
が厚いとクロム金属１１をウエットエッチングするとき
にクロムが垂直にエッチングされず綺麗なパタ−ンにな
らない。また、その膜厚が薄いとクロムの密着性が悪い
ためクロムとフォトレジストが流れてしまい、これ又綺
麗なパタ−ンを造ることができない。次に、図１（Ｃ）
に示すように、レーザ光Ｌを集光レンズ７で集光して集
光ビームＬＢを形成し、これにより形成すべき溝部に沿
って上記フォトレジスト１２を感光させる。
ンパ及びその製造方法の工程を示す断面図である。ま
ず、図１（Ａ）に示すように研磨された石英ガラス基板
５上に、例えば、スパッタリングにより膜厚２５〜３０
ｎｍのクロム金属１１を成膜し、次に、図１（Ｂ）に示
すように、このクロム金属１１上にスピンコート法によ
りフォトレジスト１２を均一に塗布し、その後乾燥させ
る。なお、上記クロム金属１１の成膜に際し、その膜厚
が厚いとクロム金属１１をウエットエッチングするとき
にクロムが垂直にエッチングされず綺麗なパタ−ンにな
らない。また、その膜厚が薄いとクロムの密着性が悪い
ためクロムとフォトレジストが流れてしまい、これ又綺
麗なパタ−ンを造ることができない。次に、図１（Ｃ）
に示すように、レーザ光Ｌを集光レンズ７で集光して集
光ビームＬＢを形成し、これにより形成すべき溝部に沿
って上記フォトレジスト１２を感光させる。
【００１４】次に、図１（Ｄ）に示すように、この感光
したフォトレジスト１２を図示しない現像液に浸けるこ
とによって、前記フォトレジスト１２の内、集光ビーム
ＬＢにより感光した部分を除去して所定の溝部８を有す
るレジストパターン１３を形成する。
したフォトレジスト１２を図示しない現像液に浸けるこ
とによって、前記フォトレジスト１２の内、集光ビーム
ＬＢにより感光した部分を除去して所定の溝部８を有す
るレジストパターン１３を形成する。
【００１５】次に、図１（Ｅ）に示すように、所定の溝
部８を有するレジストパターン１３上から、このレジス
トパターン１３の流れを防ぐために１２０℃で約３０分
ベ−ク処理を行い、レジストパタ−ン１３の耐薬品性の
向上とクロム金属１１のウェツトエッチング性向上のた
めに、紫外線ＵＶとオゾンＯ3を照射する。これは、レ
ジストパタ−ン１３に対して、クロム金属１１表面のエ
ッチング液へのぬれ性を改善するためであり、この処理
を怠ると、レジストパタ−ン１３中にエッチング液が浸
透しない。また、表面改質されないためにクロム金属１
１が、シャープにエッチングできない。
部８を有するレジストパターン１３上から、このレジス
トパターン１３の流れを防ぐために１２０℃で約３０分
ベ−ク処理を行い、レジストパタ−ン１３の耐薬品性の
向上とクロム金属１１のウェツトエッチング性向上のた
めに、紫外線ＵＶとオゾンＯ3を照射する。これは、レ
ジストパタ−ン１３に対して、クロム金属１１表面のエ
ッチング液へのぬれ性を改善するためであり、この処理
を怠ると、レジストパタ−ン１３中にエッチング液が浸
透しない。また、表面改質されないためにクロム金属１
１が、シャープにエッチングできない。
【００１６】次に、図１（Ｆ）に示すように、過塩素酸
と硝酸第二セリウムアンモニウムエッチング液でクロム
金属１１をウエットエッチングしてクロム金属パタ−ン
１４を形成する。
と硝酸第二セリウムアンモニウムエッチング液でクロム
金属１１をウエットエッチングしてクロム金属パタ−ン
１４を形成する。
【００１７】次に、図１（Ｇ）に示すように、レジスト
パタ−ン１３とクロム金属パタ−ン１４をマスクとして
石英ガラス基板５をプラズマエッチングすることによ
り、溝部８の底面の両側に、ディスク平面方向に対する
角度が略同一である傾斜角度が８５度から９０度の一対
の側壁１５a、１５bが形成される。
パタ−ン１３とクロム金属パタ−ン１４をマスクとして
石英ガラス基板５をプラズマエッチングすることによ
り、溝部８の底面の両側に、ディスク平面方向に対する
角度が略同一である傾斜角度が８５度から９０度の一対
の側壁１５a、１５bが形成される。
【００１８】しかる後、図１（Ｈ）に示すように、レジ
ストパタ−ン１３とクロム金属パタ−ン１４を除去する
ことにより、一対の側壁１５a、１５bを有する石英ガラ
ススタンパ１５が形成される。必要に応じて、石英ガラ
ススタンパ１５で反転したパタ−ンの金属スタンパ１６
を形成することができる。
ストパタ−ン１３とクロム金属パタ−ン１４を除去する
ことにより、一対の側壁１５a、１５bを有する石英ガラ
ススタンパ１５が形成される。必要に応じて、石英ガラ
ススタンパ１５で反転したパタ−ンの金属スタンパ１６
を形成することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明に係わる光ディス
ク用スタンパ及びその製造方法によれば、レジストパタ
−ンとクロム金属パタ−ンをマスクとして石英ガラス基
板をプラズマエッチングすることにより、溝やピットの
角度が８５度から９０度の石英ガラススタンパを製造す
ることができ、より高密度光ディスクが形成できるもの
である。
ク用スタンパ及びその製造方法によれば、レジストパタ
−ンとクロム金属パタ−ンをマスクとして石英ガラス基
板をプラズマエッチングすることにより、溝やピットの
角度が８５度から９０度の石英ガラススタンパを製造す
ることができ、より高密度光ディスクが形成できるもの
である。
【図１】本発明に係わる光ディスク用スタンパの製造方
法の工程を示す断面図である。
法の工程を示す断面図である。
【図２】従来のディスク基板の部分拡大断面図である。
【図３】従来の光ディスク用スタンパの製造方法の工程
を示す断面図である。
を示す断面図である。
１ ディスク基板 ２ ランド部 ３、８ 溝部 ５ 石英ガラス基板 １１ クロム金属 １２ フォトレジスト １３ レジストパタ−ン １４ クロム金属パタ−ン １５、１６ 光ディスク用スタンパ １５a、１５b 側壁
Claims (2)
- 【請求項１】ディスク基板の上面側に溝部とランド部を
同心円状或いは螺旋状に交互に設け、且つ、前記溝部の
底面の両側にディスク平面方向に対する角度が略同一の
一対の側壁を形成してなる光ディスク用スタンパにおい
て、前記一対の側壁は、ディスク平面方向に対する傾斜
角を８５度から９０度の範囲内に設定されていることを
特徴とする光ディスク用スタンパ。 - 【請求項２】石英ガラス原盤上にスパッタリングにより
クロム金属を成膜し、この成膜されたクロム金属上にフ
ォトレジストを塗布し、次にこのフォトレジスト上から
レーザ光を照射して所定の溝またはピットを形成し、次
に前記フォトレジスト除去して所定の溝またはピットを
有するレジストパターン及びクロム金属パタ−ンを形成
し、次にこのレジストパターン及びクロム金属パタ−ン
上からプラズマエッチングを行い、傾斜角度が８５度か
ら９０度の溝やピットを有する石英ガラススタンパを形
成するようにしたことを特徴とする光ディスク用スタン
パの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11157569A JP2000348393A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11157569A JP2000348393A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000348393A true JP2000348393A (ja) | 2000-12-15 |
Family
ID=15652564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11157569A Pending JP2000348393A (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000348393A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100603082B1 (ko) | 2004-10-18 | 2006-08-09 | 한국기계연구원 | 노광용 마스크를 이용한 나노패턴 니켈 스탬퍼 제작 방법 |
| US7399420B2 (en) * | 2003-12-05 | 2008-07-15 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Method of fabricating stamper and focusing grating coupler using the same |
| US7688703B2 (en) | 2006-03-28 | 2010-03-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and production method thereof |
-
1999
- 1999-06-04 JP JP11157569A patent/JP2000348393A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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