JPS61236049A - デイスク成形方法 - Google Patents
デイスク成形方法Info
- Publication number
- JPS61236049A JPS61236049A JP7567385A JP7567385A JPS61236049A JP S61236049 A JPS61236049 A JP S61236049A JP 7567385 A JP7567385 A JP 7567385A JP 7567385 A JP7567385 A JP 7567385A JP S61236049 A JPS61236049 A JP S61236049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- stamper
- master disk
- glass master
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はコンパクトディスク、ビデオディス久光ディス
ク等の製造に使用するディスク成形方法に関するもので
ある〇 従来の技術 近年、ディスクはインジェクション成形工法と紫外線硬
化樹脂工法によシ製造されているが、使用用途によりエ
ラーレートの極めて低いディスクの必要性が増大してき
た０そこでエラーレートを低くするためのディスク成形
方法の検討が積極的に行われている。
ク等の製造に使用するディスク成形方法に関するもので
ある〇 従来の技術 近年、ディスクはインジェクション成形工法と紫外線硬
化樹脂工法によシ製造されているが、使用用途によりエ
ラーレートの極めて低いディスクの必要性が増大してき
た０そこでエラーレートを低くするためのディスク成形
方法の検討が積極的に行われている。
以下図面を参照しながら従来のディスク成形方法の一例
について説明する。
について説明する。
第２図の（ａ）、Φ） 、 （Ｃ）は従来のディスク成
形方法におけるスタンパ製作プロセスを示す断面図であ
る。第２図において、１はガラス原盤であシ、２はポジ
型レジストである。３はニッケルマスタースタンパであ
る。第２図（−）はガラス原盤１上にポジ型レジスト２
を塗布し、レザーカッティングによシ信号記録を行った
のち現像した信号記録原盤である０前記信号記録原盤上
にニッケルスパッタリングを行い、電解ニッケルメッキ
によシ、マスタースタンパを形成する。その状態を第２
図（ｂ）に示す。その後ガラス原盤１からニッケルマス
タースタンバ３をはくすし、洗浄によりポジ型レジスト
２を除去し、ディスク製作用スタンパとして使用する。
形方法におけるスタンパ製作プロセスを示す断面図であ
る。第２図において、１はガラス原盤であシ、２はポジ
型レジストである。３はニッケルマスタースタンパであ
る。第２図（−）はガラス原盤１上にポジ型レジスト２
を塗布し、レザーカッティングによシ信号記録を行った
のち現像した信号記録原盤である０前記信号記録原盤上
にニッケルスパッタリングを行い、電解ニッケルメッキ
によシ、マスタースタンパを形成する。その状態を第２
図（ｂ）に示す。その後ガラス原盤１からニッケルマス
タースタンバ３をはくすし、洗浄によりポジ型レジスト
２を除去し、ディスク製作用スタンパとして使用する。
第２図（Ｃ）に完成したマスタースタンパを示す。又、
マスタースタンパ３から電解ニッケルメッキによシマザ
ースタンパを製作し、更にマザースタンパから電解ニッ
ケルメッキによりスタンパを製作し、前記スタンパをデ
ィスク製作用原盤として使用する場合もある。
マスタースタンパ３から電解ニッケルメッキによシマザ
ースタンパを製作し、更にマザースタンパから電解ニッ
ケルメッキによりスタンパを製作し、前記スタンパをデ
ィスク製作用原盤として使用する場合もある。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記のような方法では、信号記録ガラス
原盤上にニッケルスパッタリングを行い、その後電解ニ
ッケルメッキを行うため、原盤としてのディフェクトエ
ラーが増加し、前記原盤を使用して製作したディスクの
品質を低下させるという問題点があった。更に、電解ニ
ッケルメッキして得たニッケルマスタースタンパをイン
ジェクション成形法によるディスク成形に使用する場合
には、マスタースタンパの裏面を研磨しなければならず
、工程がふえるという問題点もあった。
原盤上にニッケルスパッタリングを行い、その後電解ニ
ッケルメッキを行うため、原盤としてのディフェクトエ
ラーが増加し、前記原盤を使用して製作したディスクの
品質を低下させるという問題点があった。更に、電解ニ
ッケルメッキして得たニッケルマスタースタンパをイン
ジェクション成形法によるディスク成形に使用する場合
には、マスタースタンパの裏面を研磨しなければならず
、工程がふえるという問題点もあった。
本発明は上記問題点に鑑み、ディフェクトエラーが少な
く、かつ後工程を必要としない高品位の原盤を製作し、
品質の高いディスク成形方法を提供するものである。
く、かつ後工程を必要としない高品位の原盤を製作し、
品質の高いディスク成形方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明のディスク成形方法
は、凹凸信号を直接記録したガラス原盤をディスク成形
用スタンパとして使用するという方法を取ったものであ
る。
は、凹凸信号を直接記録したガラス原盤をディスク成形
用スタンパとして使用するという方法を取ったものであ
る。
作 用
本発明は上記した方法によって、信号記録原盤にニッケ
ルスパッタリング、電解ニッケルメッキをほどこす必要
がなく、又、ニッケルマスタースタンバを原盤として使
用しないため、裏面研磨等の後加工の必要がなく、従っ
てディフェクトエラーの少ない高品質の原盤が作製でき
、高品質のディスクを製作できることとなる。
ルスパッタリング、電解ニッケルメッキをほどこす必要
がなく、又、ニッケルマスタースタンバを原盤として使
用しないため、裏面研磨等の後加工の必要がなく、従っ
てディフェクトエラーの少ない高品質の原盤が作製でき
、高品質のディスクを製作できることとなる。
実施例
以下本発明の一実施例のディスク成形方法について、図
面を参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例に
おけるディスク成形方法の原盤製作プロセスを示す断面
図である。第１図において、１はガラス原盤であシ、２
はネガ型レジストである。
面を参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例に
おけるディスク成形方法の原盤製作プロセスを示す断面
図である。第１図において、１はガラス原盤であシ、２
はネガ型レジストである。
第１図（ａ）はガラス原盤１上にネガ型レジスト２ヲ塗
布し、レーザーカッティングにより信号記録を行った後
現像して得られた信号記録ガラス原盤を示す。前記信号
記録ガラス原盤をへ〇等の不活性ガス又はＣＨＦ Ｃ
Ｆ ＣＣＬ４等の反応性ガスを用いたスパッタエツチ
ング法によシ、ガラス原盤１自体にネガ型レジスト２と
同一パターンの信号を形成する。ガラス原盤１に信号が
形成された状態を第１図（ｂ）に示す。その後酸素等を
用いたアッミングによシガラス原盤１上に残留したネガ
型レジストを除去し、第１図（Ｃ）に示すディスク成形
用ガラス原盤を得る。
布し、レーザーカッティングにより信号記録を行った後
現像して得られた信号記録ガラス原盤を示す。前記信号
記録ガラス原盤をへ〇等の不活性ガス又はＣＨＦ Ｃ
Ｆ ＣＣＬ４等の反応性ガスを用いたスパッタエツチ
ング法によシ、ガラス原盤１自体にネガ型レジスト２と
同一パターンの信号を形成する。ガラス原盤１に信号が
形成された状態を第１図（ｂ）に示す。その後酸素等を
用いたアッミングによシガラス原盤１上に残留したネガ
型レジストを除去し、第１図（Ｃ）に示すディスク成形
用ガラス原盤を得る。
なお実施例において、レジスト２はネガ型レジストとし
たが、再生機の回転方向を反、転させ、トラッキング制
御回路の極性を反転させれば、ポジ型レジストを使用す
ることもできる。又、ガラス原盤自体への信号の形成を
スパッタエツチング法としたが、プラズマエツチング法
又はイオンビームエツチング法を採用しても同様な効果
が得られる。更に、スパッタエツチング、アッミングに
Ａｒ。
たが、再生機の回転方向を反、転させ、トラッキング制
御回路の極性を反転させれば、ポジ型レジストを使用す
ることもできる。又、ガラス原盤自体への信号の形成を
スパッタエツチング法としたが、プラズマエツチング法
又はイオンビームエツチング法を採用しても同様な効果
が得られる。更に、スパッタエツチング、アッミングに
Ａｒ。
ＣＦ４．ＣＨＦ３．ＣＣＬ４，０２等のガスを使用した
がその他のガスを使用しても同様な効果が得られる。
がその他のガスを使用しても同様な効果が得られる。
発明の効果
以上のように本発明は、凹凸信号を直接記録したガラス
原盤をディスク成形用スタンパとして使用することによ
り、スタンパ製作工程が簡略でき、現像工程以後はドラ
イな状態にあるため、ディフェクトエラーの少ない、高
品質なガラススタンパを得ることができる。又、ニッケ
ルマスタースタンバを使用しないため、裏面研磨等の後
加工を必要とせず、更にガラススタンバのためニッケル
と比較して飛躍的に強度が高いため、スタンパとしての
高寿命化が達成でき、傷付き等によシネ良となった場合
も表面を数μｍ研磨することによシ再生使用が可能であ
る等、その効果は大である。
原盤をディスク成形用スタンパとして使用することによ
り、スタンパ製作工程が簡略でき、現像工程以後はドラ
イな状態にあるため、ディフェクトエラーの少ない、高
品質なガラススタンパを得ることができる。又、ニッケ
ルマスタースタンバを使用しないため、裏面研磨等の後
加工を必要とせず、更にガラススタンバのためニッケル
と比較して飛躍的に強度が高いため、スタンパとしての
高寿命化が達成でき、傷付き等によシネ良となった場合
も表面を数μｍ研磨することによシ再生使用が可能であ
る等、その効果は大である。
第１図（ａ）、Φ） 、 （Ｃ）は本発明の実施例にお
けるディスク成形方法の原盤製作プロセスを示す断面図
、第２図体）、Φ） 、 （Ｃ）は従来のディスク成形
方法の原盤製作プロセスを示す断面図である。 １・・・・・・ガラス原盤、２・・・・・・レジスト、
３・・・・・・マスタースタンバ０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ｆ−一力°ラスづｌｌ ２−−−（、ジスＬ
けるディスク成形方法の原盤製作プロセスを示す断面図
、第２図体）、Φ） 、 （Ｃ）は従来のディスク成形
方法の原盤製作プロセスを示す断面図である。 １・・・・・・ガラス原盤、２・・・・・・レジスト、
３・・・・・・マスタースタンバ０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ｆ−一力°ラスづｌｌ ２−−−（、ジスＬ
Claims (2)
- （１）凹凸信号を直接記録したガラス原盤をディスク成
形用スタンパとしたことを特徴とするディスク成形方法
。 - （２）凹凸信号をスパッタエッチング法で直接記録した
ガラス原盤をディスク成形用スタンパとしたことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のディスク成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7567385A JPS61236049A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | デイスク成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7567385A JPS61236049A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | デイスク成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61236049A true JPS61236049A (ja) | 1986-10-21 |
Family
ID=13582952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7567385A Pending JPS61236049A (ja) | 1985-04-10 | 1985-04-10 | デイスク成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61236049A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5147763A (en) * | 1988-10-19 | 1992-09-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing molding stamper for data recording medium substrate |
| JPH04259937A (ja) * | 1991-02-14 | 1992-09-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 |
| US5575961A (en) * | 1987-04-30 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Roll-shaped mold for information recording medium |
| EP0772875A1 (en) * | 1994-07-29 | 1997-05-14 | Thomas G. Bifano | Process for manufacturing optical data storage disk stamper |
-
1985
- 1985-04-10 JP JP7567385A patent/JPS61236049A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5575961A (en) * | 1987-04-30 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Roll-shaped mold for information recording medium |
| US5147763A (en) * | 1988-10-19 | 1992-09-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing molding stamper for data recording medium substrate |
| JPH04259937A (ja) * | 1991-02-14 | 1992-09-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 |
| EP0772875A1 (en) * | 1994-07-29 | 1997-05-14 | Thomas G. Bifano | Process for manufacturing optical data storage disk stamper |
| EP0772875A4 (en) * | 1994-07-29 | 1998-07-29 | Thomas G Bifano | METHOD FOR PRODUCING A MATRICE FOR AN OPTICAL DATA STORAGE DISK |
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