JPH02245322A - 光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法 - Google Patents
光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法Info
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- JPH02245322A JPH02245322A JP6847189A JP6847189A JPH02245322A JP H02245322 A JPH02245322 A JP H02245322A JP 6847189 A JP6847189 A JP 6847189A JP 6847189 A JP6847189 A JP 6847189A JP H02245322 A JPH02245322 A JP H02245322A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタ
ンパを使用した光ディスク基板の製造法に関する。
ンパを使用した光ディスク基板の製造法に関する。
（従来の技術）
従来、光ディスクはニッケル電鋳によって得られたスタ
ンパを用い、樹脂成形法等により成形している。
ンパを用い、樹脂成形法等により成形している。
すなわち、第２図に示すように、平滑に研磨されたガラ
ス基板２１等にレジスト層２２を形成し、所定位置にレ
ーザ２３を照射し、現像、洗浄を行ないレジストパター
ン２４を形成したのちに、表面導体層２５を設け、つい
でニッケルの電鋳を行ない、剥離、洗浄する事によりス
タンパ２６を作製し、これを用いて樹脂成形法等によ・
り光ディスク基板を成形している。
ス基板２１等にレジスト層２２を形成し、所定位置にレ
ーザ２３を照射し、現像、洗浄を行ないレジストパター
ン２４を形成したのちに、表面導体層２５を設け、つい
でニッケルの電鋳を行ない、剥離、洗浄する事によりス
タンパ２６を作製し、これを用いて樹脂成形法等によ・
り光ディスク基板を成形している。
（発明が解決しようとする課題）
従来法による光ディスクの製造法は、スタンパが金属材
料に限定され両面照射による光硬化成形法に適用できな
い、また、電鋳行程においてパターンの欠陥を生じ易い
などの欠点がある。
料に限定され両面照射による光硬化成形法に適用できな
い、また、電鋳行程においてパターンの欠陥を生じ易い
などの欠点がある。
本発明は、簡単なスタンバを作製し経済的で高精度な光
ディスク基板の製造法を提供するものである。
ディスク基板の製造法を提供するものである。
（課題を解決するための手段）
本発明は、ポジ型フォトレジストを形成シタ基板上に所
定の信号に変調したレーザ光を照射し、アミン系触媒で
処理しレーザ照射部を不溶化したのち、全面を露光して
前記レーザ照射部以外を可溶化し現像処理によって反転
レジストパターンを形成し、このレジストパターンをマ
スクにして基板のエッジングを行なうことにより光ディ
スク用スタンパを製造するものである。
定の信号に変調したレーザ光を照射し、アミン系触媒で
処理しレーザ照射部を不溶化したのち、全面を露光して
前記レーザ照射部以外を可溶化し現像処理によって反転
レジストパターンを形成し、このレジストパターンをマ
スクにして基板のエッジングを行なうことにより光ディ
スク用スタンパを製造するものである。
本発明を以下第１図で説明する。
ソーダライムガラス、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス等
のガラスからなる基板１に、スピンコード法等によりポ
ジ型レジスト層２を形成し、所定の信号に変調したレー
ザ光３を照射する。使用するレーザとしては、Ａｒレー
ザ、Ｈｅ−Ｃｄレーザ等のガスレーザが上げられるが、
特に限定されるものではない。
のガラスからなる基板１に、スピンコード法等によりポ
ジ型レジスト層２を形成し、所定の信号に変調したレー
ザ光３を照射する。使用するレーザとしては、Ａｒレー
ザ、Ｈｅ−Ｃｄレーザ等のガスレーザが上げられるが、
特に限定されるものではない。
アミン系触媒４としては、一般にアンモニアガス、触媒
活性のあるアミン系化合物が上げられるが、特に限定さ
れるものではない、また、処理方法も使用するアミン系
触媒によって乾式法、叉は湿式法になるが、特に限定さ
れるものではない。
活性のあるアミン系化合物が上げられるが、特に限定さ
れるものではない、また、処理方法も使用するアミン系
触媒によって乾式法、叉は湿式法になるが、特に限定さ
れるものではない。
これによって、レーザ照射部は現像液に対して不溶化す
る。
る。
露光５としては、ＵＶ光（紫外線、波長約２００〜３０
０ｎｍ）等が用いられ、これによってレーザ未照射部は
現像液に対し可溶化し、アルカリ現像液等の現像処理に
より反転レジストパターン６ （ネガ型パターン）が形
成される。現像処理としては、スピン現象、デイピング
現像等が上げられる。
０ｎｍ）等が用いられ、これによってレーザ未照射部は
現像液に対し可溶化し、アルカリ現像液等の現像処理に
より反転レジストパターン６ （ネガ型パターン）が形
成される。現像処理としては、スピン現象、デイピング
現像等が上げられる。
こうして得られたレジストパターンをマスクにして、エ
ツチングを行い基板の露出部を削り取りパターンを形成
し、残存するレジストパターンを剥離し、透明スタンパ
７が形成される。エツチング法としては、ＲＩＢ（反応
性イオンエツチング）、プラズマエツチング等の方法が
あげられるが特に限定されるものではない。
ツチングを行い基板の露出部を削り取りパターンを形成
し、残存するレジストパターンを剥離し、透明スタンパ
７が形成される。エツチング法としては、ＲＩＢ（反応
性イオンエツチング）、プラズマエツチング等の方法が
あげられるが特に限定されるものではない。
こうして得られた透明スタンパ７と透明押え仮８の間に
光硬化性樹脂９を介在させ、両面から光照射し硬化させ
て、光ディスク基板１０を製造する。光硬化性樹脂とし
ては、ポリオールポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンポリア
クリレート等が使用できる。また、光照射の光源として
は、紫外線が好ましいが、電子線、Ｔ綿等も用しするこ
とかできる。
光硬化性樹脂９を介在させ、両面から光照射し硬化させ
て、光ディスク基板１０を製造する。光硬化性樹脂とし
ては、ポリオールポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンポリア
クリレート等が使用できる。また、光照射の光源として
は、紫外線が好ましいが、電子線、Ｔ綿等も用しするこ
とかできる。
実施例
外形２００ｍｍ、厚み５ｍｍのソーダライムガラス基板
上にポジ型レジストをスピナにより厚み０．１μｍに塗
布し、９０℃で３０分間ブＩＪベークを行なったのち、
所定の信号に変調したＡ「レーザをビーム径約１μｍに
集光して照射した。つｌ、％で、９０℃でアンモニアガ
ス中に１時間放置したノチ、ＶＵｉ光を１分間行ないア
Ｊレカリ水溶液で現像し反転レジストパターン基板を得
た。
上にポジ型レジストをスピナにより厚み０．１μｍに塗
布し、９０℃で３０分間ブＩＪベークを行なったのち、
所定の信号に変調したＡ「レーザをビーム径約１μｍに
集光して照射した。つｌ、％で、９０℃でアンモニアガ
ス中に１時間放置したノチ、ＶＵｉ光を１分間行ないア
Ｊレカリ水溶液で現像し反転レジストパターン基板を得
た。
このレジストパターンをマスクとして、次の条件でガラ
ス基板のエツチングを行なった。
ス基板のエツチングを行なった。
エツチング条件ニ
ガ ス ＣＦ ａ ３ ０ Ｓ Ｃ
ＣＭ圧力 ３Ｐａ 電力 ３００Ｗ 時間 ５分 エツチング後、酸素プラズマで残存レジストを除去し透
明スタンパを得た。
ＣＭ圧力 ３Ｐａ 電力 ３００Ｗ 時間 ５分 エツチング後、酸素プラズマで残存レジストを除去し透
明スタンパを得た。
この透明スタンパと透明押え板を用いて、両面から１分
間超高圧水銀灯で紫外線照射を行ない、エポキシアクリ
レート系光硬化性樹脂を暑さ１．２ｍｍの光ディスク基
板に形成した。
間超高圧水銀灯で紫外線照射を行ない、エポキシアクリ
レート系光硬化性樹脂を暑さ１．２ｍｍの光ディスク基
板に形成した。
（発明の効果）
本発明によれば、電鋳行程を経ることなくスタンパを作
製することが出来るため、簡便なスタンバを得ることが
出来る。
製することが出来るため、簡便なスタンバを得ることが
出来る。
また、ガラス等の透明基板を直接スタンバにすることか
ら、透明スタンパを得ることができ光硬化性樹脂の両面
照射成形が可能になり、高精度な光ディスク基板を得る
ことが出来る。
ら、透明スタンパを得ることができ光硬化性樹脂の両面
照射成形が可能になり、高精度な光ディスク基板を得る
ことが出来る。
（ａ）
（ｋ）
は本発明の方法を示す断
面図、第２図
（ａ）
（ｇ）
は従来の方法を示す
（ａ）
（ｇ）
断面図である。
符号の説明
■。
基板
（ｂ）
（ｈ）
２゜
ポジ型フォトレジスト
３゜
レーザ光
７゜
スタンパ
（ｅ）
ＣＲ３（＝ト１０
Ｄ）
第
図
［ＺＺＺ２フゴ−２１
（ａ）
（ｅ）
（ｂ）
（ｆ）
（ｃ）
（ｄ）
第
図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ポジ型フォトレジストを形成した基板上に所定の信
号に変調したレーザ光を照射し、アミン系触媒で処理し
レーザ照射部を不溶化したのち、全面を露光して前記レ
ーザ照射部以外を可溶化し現像処理によって反転レジス
トパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに
して基板のエッジングを行なうことを特徴とする光ディ
スク用スタンパの製造法。 ２、基板がガラスまたは紫外線透過材料である請求項第
１記載の光ディスク用スタンパの製造法。 ３、請求項第１項叉は第２項記載のスタンパを成形用型
として用いて、これを複製することを特徴とする光ディ
スク基板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6847189A JPH02245322A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6847189A JPH02245322A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02245322A true JPH02245322A (ja) | 1990-10-01 |
Family
ID=13374638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6847189A Pending JPH02245322A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 光ディスク用スタンパの製造法及びそのスタンパを使用した光ディスク基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02245322A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0561079A1 (en) * | 1992-03-16 | 1993-09-22 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| US5480763A (en) * | 1991-01-11 | 1996-01-02 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Method for manufacturing a stamper for high-density recording discs |
| CN103203959A (zh) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种混合制备工艺及该种工艺制得的台阶模板 |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP6847189A patent/JPH02245322A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5480763A (en) * | 1991-01-11 | 1996-01-02 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Method for manufacturing a stamper for high-density recording discs |
| EP0561079A1 (en) * | 1992-03-16 | 1993-09-22 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| CN103203959A (zh) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种混合制备工艺及该种工艺制得的台阶模板 |
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