JPH0827998B2 - 情報記録担体の成形スタンパとその製造方法 - Google Patents
情報記録担体の成形スタンパとその製造方法Info
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- JPH0827998B2 JPH0827998B2 JP63014085A JP1408588A JPH0827998B2 JP H0827998 B2 JPH0827998 B2 JP H0827998B2 JP 63014085 A JP63014085 A JP 63014085A JP 1408588 A JP1408588 A JP 1408588A JP H0827998 B2 JPH0827998 B2 JP H0827998B2
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- stamper
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- recording carrier
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は情報記録担体の成形スタンパ及びその製造方
法に係り、特に光学的に情報信号を記録する光ディス
ク、光磁気ディスク等の情報記録担体の成形スタンパ及
びその製造方法に関する。
法に係り、特に光学的に情報信号を記録する光ディス
ク、光磁気ディスク等の情報記録担体の成形スタンパ及
びその製造方法に関する。
従来の技術 一般に光ディスク、光磁気ディスク等の情報記録担体
はスタンパから紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂等のレプ
リカ盤を作成し、記録膜コート、保護膜塗布等を行なう
ことにより形成されている。
はスタンパから紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂等のレプ
リカ盤を作成し、記録膜コート、保護膜塗布等を行なう
ことにより形成されている。
従来より、この種の情報記録担体の成形スタンパは第
４図に示すような方法で製造されていた。まず、高精度
に研磨したガラス基盤１上に例えばポジタイプのフォト
レジスト２を均一に塗布する（第４図（ａ）→
（ｂ））。
４図に示すような方法で製造されていた。まず、高精度
に研磨したガラス基盤１上に例えばポジタイプのフォト
レジスト２を均一に塗布する（第４図（ａ）→
（ｂ））。
次にレーザ光３により、フォトレジスト２上にパター
ンを記録した後、現像処理により所望のパターンを得る
（第４図（ｃ）→（ｄ））。続いて、パターン化された
レジスト２上にニッケル、銀などの金属４を蒸着、スパ
ッタ、無電解メッキ等により被着させ導電化を行なう
（第４図（ｅ））。
ンを記録した後、現像処理により所望のパターンを得る
（第４図（ｃ）→（ｄ））。続いて、パターン化された
レジスト２上にニッケル、銀などの金属４を蒸着、スパ
ッタ、無電解メッキ等により被着させ導電化を行なう
（第４図（ｅ））。
この上にさらにニッケルなどの金属５を100〜300μｍ
程度電鋳する（第４図（ｆ））。これを剥離し、フォト
・レジスト２を除去した後に高精度に研磨したガラス、
金属、樹脂などの裏打ち基盤６を接着剤により接着する
（第４図（ｇ）→（ｈ））。または、電鋳後直ちに裏打
ち処理し、その後に剥離し、フォト・レジスト２を除去
し（第４図（ｉ）→（ｊ））作成する方法もある。
程度電鋳する（第４図（ｆ））。これを剥離し、フォト
・レジスト２を除去した後に高精度に研磨したガラス、
金属、樹脂などの裏打ち基盤６を接着剤により接着する
（第４図（ｇ）→（ｈ））。または、電鋳後直ちに裏打
ち処理し、その後に剥離し、フォト・レジスト２を除去
し（第４図（ｉ）→（ｊ））作成する方法もある。
発明が解決しようとする問題点 しかるに、従来の方法で作成されたスタンパは裏打ち
処理（第４図（ｈ）又は（ｉ）の工程）にエポキシ等の
接着剤を用いていたため、裏打ち基盤６と電鋳スタンパ
５の間に気泡が入りやすく、2P（Photo polymarizatio
n）法等による成形時にディスク側に気泡の跡が転写さ
れ、歪を発生させるという問題点があった。
処理（第４図（ｈ）又は（ｉ）の工程）にエポキシ等の
接着剤を用いていたため、裏打ち基盤６と電鋳スタンパ
５の間に気泡が入りやすく、2P（Photo polymarizatio
n）法等による成形時にディスク側に気泡の跡が転写さ
れ、歪を発生させるという問題点があった。
また、第４図（ｇ）→（ｈ）の工程により裏打ち基盤
を接着する場合には裏打ち基盤６と電鋳スタンパ５とを
平行度良く接着することが困難で、面振れの小さいディ
スクが成形できず、第４図（ｉ）→（ｊ）の工程により
裏打ち基盤を接着する場合には平行度良く接着すること
は容易だが、ガラス基盤１からの剥離が困難となるとい
う問題点があった。
を接着する場合には裏打ち基盤６と電鋳スタンパ５とを
平行度良く接着することが困難で、面振れの小さいディ
スクが成形できず、第４図（ｉ）→（ｊ）の工程により
裏打ち基盤を接着する場合には平行度良く接着すること
は容易だが、ガラス基盤１からの剥離が困難となるとい
う問題点があった。
本発明は上記の点から鑑みてなされたもので、面振れ
や歪がなく、S/Nが良好な情報記録担体が作成できる情
報記録担体のスタンパと製造方法を提供することを目的
とする。
や歪がなく、S/Nが良好な情報記録担体が作成できる情
報記録担体のスタンパと製造方法を提供することを目的
とする。
問題点を解決するための手段 スタンパ表面に樹脂材料を対向させ、硬化させること
により、情報信号パターンを有する情報記録担体を作成
する情報記録担体の成形スタンパにおいて、本発明は、
情報信号パターンの反転パターンを有するスタンパ表面
に樹脂材料を対向させ、硬化させることにより該情報信
号パターンを有する情報記録担体を作成する情報記録担
体の成形スタンパにおいて、 該スタンパの素材は、石英エッチングレートの60％以
下のエッチングレートを有するガラスであることを特徴
とする。
により、情報信号パターンを有する情報記録担体を作成
する情報記録担体の成形スタンパにおいて、本発明は、
情報信号パターンの反転パターンを有するスタンパ表面
に樹脂材料を対向させ、硬化させることにより該情報信
号パターンを有する情報記録担体を作成する情報記録担
体の成形スタンパにおいて、 該スタンパの素材は、石英エッチングレートの60％以
下のエッチングレートを有するガラスであることを特徴
とする。
また、本発明の情報記録担体の成形スタンパは、石英
のエッチングレートの60％以下のエッチングレートを有
するガラス基盤を研磨する工程と、 該ガラス基盤上にビームの照射に感応するレジスト膜
を直接形成する工程と、 該レジスト膜に該情報信号パターンに応じて変調され
た該ビームを照射する工程と、 該レジスト膜を現像することにより、該ビームが照射
された部分又は該ビームが照射されていない部分の該レ
ジスト膜を除去し、該情報信号パターンに応じたパター
ンの該レジスト膜を形成する工程と、 該レジスト膜をマスクとして該ガラス基盤をエッチン
グする工程と、 該レジスト膜を除去する工程とを含む製造方法により
製造されることを特徴とする。
のエッチングレートの60％以下のエッチングレートを有
するガラス基盤を研磨する工程と、 該ガラス基盤上にビームの照射に感応するレジスト膜
を直接形成する工程と、 該レジスト膜に該情報信号パターンに応じて変調され
た該ビームを照射する工程と、 該レジスト膜を現像することにより、該ビームが照射
された部分又は該ビームが照射されていない部分の該レ
ジスト膜を除去し、該情報信号パターンに応じたパター
ンの該レジスト膜を形成する工程と、 該レジスト膜をマスクとして該ガラス基盤をエッチン
グする工程と、 該レジスト膜を除去する工程とを含む製造方法により
製造されることを特徴とする。
作用 本発明による情報記録担体の成形スタンパはガラスを
素材となり、そのガラスの素材にエッチングにより直接
情報信号に応じたパターンを形成しているため、被着等
による裏打ち工程を省くことができる。また、本発明の
情報記録担体の成形スタンパによれば、スタンパの素材
を石英のエッチングレートの60％以下のエッチングレー
トを有するガラスとすることにより、高品質のディス
ク、特にS/Nの良好なディスク、すなわち、ディスクに
記録された記録信号を良好なS/Nで再生することが可能
であるディスクを形成することができる。
素材となり、そのガラスの素材にエッチングにより直接
情報信号に応じたパターンを形成しているため、被着等
による裏打ち工程を省くことができる。また、本発明の
情報記録担体の成形スタンパによれば、スタンパの素材
を石英のエッチングレートの60％以下のエッチングレー
トを有するガラスとすることにより、高品質のディス
ク、特にS/Nの良好なディスク、すなわち、ディスクに
記録された記録信号を良好なS/Nで再生することが可能
であるディスクを形成することができる。
さらに、本発明の情報記録担体の成形スタンパの製造
方法によれば、石英のエッチングレート60％以下のエッ
チングレートを有するガラス基盤上に直接形成したレジ
スト膜にビームを照射する工程を含む製造方法により、
レジスト膜に情報信号パターンを直接刻むことができる
ため、ガラス基盤として感光性ガラスを用いて成形スタ
ンパを作成する際に、必須である熱処理工程を省くこと
ができるので、製造工程を削減でき、製造工程の削減に
より不良率を低減できる。
方法によれば、石英のエッチングレート60％以下のエッ
チングレートを有するガラス基盤上に直接形成したレジ
スト膜にビームを照射する工程を含む製造方法により、
レジスト膜に情報信号パターンを直接刻むことができる
ため、ガラス基盤として感光性ガラスを用いて成形スタ
ンパを作成する際に、必須である熱処理工程を省くこと
ができるので、製造工程を削減でき、製造工程の削減に
より不良率を低減できる。
実施例 第１図は本発明の情報記録担体の成形スタンパの製造
工程の説明図を示す。
工程の説明図を示す。
まず、高精度に研磨したII型石英ガラス基盤７の表面
上にネガタイプのフォトレジスト８を均一に塗布する
（第１図（ａ））。次にこのフォレジスト８上にレーザ
光９を用いて案内溝を記録し（第１図（ｂ））、続いて
現像処理により、所望のパターンを得る（第１図
（ｃ））。
上にネガタイプのフォトレジスト８を均一に塗布する
（第１図（ａ））。次にこのフォレジスト８上にレーザ
光９を用いて案内溝を記録し（第１図（ｂ））、続いて
現像処理により、所望のパターンを得る（第１図
（ｃ））。
次に、この基盤にCF4ガスプラズマ10中でドライエッ
チングを行ない所望の深さで停止させる（第１図
（ｄ））。さらに、残存するフォトレジスト８を酸素
（O2）によりアッシングして除去し、ガラス製のスタン
パを得る（第１図（ｅ））。このスタンパから2P法等に
よりディスク基盤を作成し、記録膜及び保護膜をコーテ
ィングして光ディスク等の情報記録担体を得た。上記の
ような方法で作成された光ディスクはスタンパが作成さ
れる際に接着工程等が不要となるため、歪や面振れの少
ないものとなる。
チングを行ない所望の深さで停止させる（第１図
（ｄ））。さらに、残存するフォトレジスト８を酸素
（O2）によりアッシングして除去し、ガラス製のスタン
パを得る（第１図（ｅ））。このスタンパから2P法等に
よりディスク基盤を作成し、記録膜及び保護膜をコーテ
ィングして光ディスク等の情報記録担体を得た。上記の
ような方法で作成された光ディスクはスタンパが作成さ
れる際に接着工程等が不要となるため、歪や面振れの少
ないものとなる。
なお、本実施例ではスタンパに案内溝のパターンを得
る方法としてネガタイプのレジスト上にレーザ光を用い
てパターンを作成したが、これは従来の工程、すなわち
ポジタイプのレジストを利用した工程と記録上互換性を
保つためであり、これに限るものではない。また、予め
案内溝がパターン化されたクロムマスクなどを介して紫
外線を照射して、フォトレジスト上にパターンとして露
光する方法も考えられる。
る方法としてネガタイプのレジスト上にレーザ光を用い
てパターンを作成したが、これは従来の工程、すなわち
ポジタイプのレジストを利用した工程と記録上互換性を
保つためであり、これに限るものではない。また、予め
案内溝がパターン化されたクロムマスクなどを介して紫
外線を照射して、フォトレジスト上にパターンとして露
光する方法も考えられる。
また、高品質のディスク、特にS/Nの良好なディスク
を得るために、ガラス基盤の材質に着目し、種々の組成
比を持つガラスをCF4ガスでドライエッチングして被エ
ッチング面の面荒れ等の状態を調べた結果を第２図に示
す。
を得るために、ガラス基盤の材質に着目し、種々の組成
比を持つガラスをCF4ガスでドライエッチングして被エ
ッチング面の面荒れ等の状態を調べた結果を第２図に示
す。
第２図に示すようにII型石英、III型石英、ホウケイ
酸ガラスはエッチングレートが大で面荒れも大きい。ま
た、ソーダ石灰ガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、
バリウムホウケイ酸ガラスはエッチングレートが小で面
荒れも小さい。すなわち、エッチングレートと面荒れに
はエッチングレートの大なるガラスほど面荒れが大とな
るという相関関係がある。ここで用いられるエッチング
レートの単位は、第２図に示すようにÅ/minである。
酸ガラスはエッチングレートが大で面荒れも大きい。ま
た、ソーダ石灰ガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、
バリウムホウケイ酸ガラスはエッチングレートが小で面
荒れも小さい。すなわち、エッチングレートと面荒れに
はエッチングレートの大なるガラスほど面荒れが大とな
るという相関関係がある。ここで用いられるエッチング
レートの単位は、第２図に示すようにÅ/minである。
これをガラスの組成比に注目して考察すると、ガラス
中に含まれるSiO2やB2O3の量が多い程エッチングレート
は大きく、Na2O，K2O,MgO,CaO,Al2O3,BaOの量が多いほ
どエッチングレートは小さいことが分かる。第３図は主
なガラス構成物質のフッ化物の蒸気圧が10torrとなると
きの温度を示す図で、化学便覧・基礎編555ページ（197
5年日本化学会編）より引用して示しているが、SiO2やB
2O3のようにそのフッ化物の温度の低いものが大きなエ
ッチングレートを産み、NaO,K2O，Al2O3のようにそのフ
ッ化物の温度の高いものが小さなエッチングレートを生
むことが理解できる。
中に含まれるSiO2やB2O3の量が多い程エッチングレート
は大きく、Na2O，K2O,MgO,CaO,Al2O3,BaOの量が多いほ
どエッチングレートは小さいことが分かる。第３図は主
なガラス構成物質のフッ化物の蒸気圧が10torrとなると
きの温度を示す図で、化学便覧・基礎編555ページ（197
5年日本化学会編）より引用して示しているが、SiO2やB
2O3のようにそのフッ化物の温度の低いものが大きなエ
ッチングレートを産み、NaO,K2O，Al2O3のようにそのフ
ッ化物の温度の高いものが小さなエッチングレートを生
むことが理解できる。
以上の考察より、ガラスのエッチングレートは構成物
質の組成比により決定され、S/Nの良好なディスクを得
るためには石英の60％以下のエッチングレートを有する
ガラスが適するものと考えられる。
質の組成比により決定され、S/Nの良好なディスクを得
るためには石英の60％以下のエッチングレートを有する
ガラスが適するものと考えられる。
上記実施例において基盤をソーダ石灰ガラスをスタン
パとして作成された光ディスクは歪がなく、面振れも非
常に小さく、S/Nについても非常に良好なものが得られ
る。
パとして作成された光ディスクは歪がなく、面振れも非
常に小さく、S/Nについても非常に良好なものが得られ
る。
また、基盤をソーダアルミノケイ酸ガラス，ガスプラ
ズマをCHF3として作成されたスタンパにより作成された
光ディスクにおいても歪が少なく、面振れも非常に小さ
く、S/Nについても非常に良好なものが得られる。
ズマをCHF3として作成されたスタンパにより作成された
光ディスクにおいても歪が少なく、面振れも非常に小さ
く、S/Nについても非常に良好なものが得られる。
なお、以上の実施例では反応ガスとしてCF4，CHF3を
用いたが、ガラスとの反応性のあるフッ素系ガスなら
ば、これら以外のガスでもよく、例えば、C2F6，C3F8，
NF3及びこれらの混合ガスなどでもよい。
用いたが、ガラスとの反応性のあるフッ素系ガスなら
ば、これら以外のガスでもよく、例えば、C2F6，C3F8，
NF3及びこれらの混合ガスなどでもよい。
また、ディスクのトラッキング特性を良好にするため
に案内溝にテーパを付与しても良く、テーパ化に特開昭
61−26952号公報に示すようなガラスのドライエッチン
グ時にレジストを同時にエッチングすることによりテー
パ化する方法も導入可能である。
に案内溝にテーパを付与しても良く、テーパ化に特開昭
61−26952号公報に示すようなガラスのドライエッチン
グ時にレジストを同時にエッチングすることによりテー
パ化する方法も導入可能である。
また、このスタンパを透明にすることができるためス
タンパを通して、紫外線を照射することにより2P成形を
行なう方法（特開昭57−15235号公報）も可能であり、
この方法はCD−Ｖ（コンパクト・ディスク・ビデオ）等
のような成形するディスクの基盤に色素を含む場合にも
有効となる。
タンパを通して、紫外線を照射することにより2P成形を
行なう方法（特開昭57−15235号公報）も可能であり、
この方法はCD−Ｖ（コンパクト・ディスク・ビデオ）等
のような成形するディスクの基盤に色素を含む場合にも
有効となる。
発明の効果 上述の如く、本発明によれば、裏打ち処理が不必要な
ので接着工程が不要となり、気泡などの侵入がなくなり
歪や面振れの少ないスタンパを作成できるため、歪や面
振れの少ない情報記録担体が作成でき、また、工程を短
縮できるため、スタンパの作成時間を短縮できると共に
自動化を容易にし、さらに、スタンパを通して紫外線等
を照射する2P法による情報記録担体の成形に用いること
ができる等の特長を有する。また、本発明の情報記録担
体の成形スタンパによれば、スタンパの素材を石英のエ
ッチングレートの60％以下のエッチングレートを有する
ガラスとすることにより、高品質のディスク、特にS/N
の良好なディスク、すなわち、ディスクに記録された記
録信号を良好なS/Nで再生することが可能であるディス
クを形成することができる等の特長を有する。
ので接着工程が不要となり、気泡などの侵入がなくなり
歪や面振れの少ないスタンパを作成できるため、歪や面
振れの少ない情報記録担体が作成でき、また、工程を短
縮できるため、スタンパの作成時間を短縮できると共に
自動化を容易にし、さらに、スタンパを通して紫外線等
を照射する2P法による情報記録担体の成形に用いること
ができる等の特長を有する。また、本発明の情報記録担
体の成形スタンパによれば、スタンパの素材を石英のエ
ッチングレートの60％以下のエッチングレートを有する
ガラスとすることにより、高品質のディスク、特にS/N
の良好なディスク、すなわち、ディスクに記録された記
録信号を良好なS/Nで再生することが可能であるディス
クを形成することができる等の特長を有する。
さらに、本発明の情報記録担体の成形スタンパの製造
方法によれば、石英のエッチングレート60％以下のエッ
チングレートを有するガラス基盤上に直接形成したレジ
スト膜にビームを照射する工程を含む製造方法により、
レジスト膜に情報信号パターンを直接刻むことができる
ため、ガラス基盤として感光性ガラスを用いて成形スタ
ンパを作成する際に、必須である熱処理工程を省くこと
ができるので、製造工程を削減でき、製造工程の削減に
より不良率を低減できる等の特長を有する。
方法によれば、石英のエッチングレート60％以下のエッ
チングレートを有するガラス基盤上に直接形成したレジ
スト膜にビームを照射する工程を含む製造方法により、
レジスト膜に情報信号パターンを直接刻むことができる
ため、ガラス基盤として感光性ガラスを用いて成形スタ
ンパを作成する際に、必須である熱処理工程を省くこと
ができるので、製造工程を削減でき、製造工程の削減に
より不良率を低減できる等の特長を有する。
第１図は本発明のスタンパの製造方法の一実施例を説明
するための図、第２図はCF4ガスでドライエッチングし
たときの種々の組成比を持つガラスの被エッチング面の
面荒れの状態を示す図、第３図はフッ化物の蒸気圧が10
torrとなる温度を示す図、第４図は従来のスタンパの製
造方法の一例を説明するための図である。 ７……ガラス基盤、８……フォトレジスト、９……レー
ザ光、10……ガスプラズマ。
するための図、第２図はCF4ガスでドライエッチングし
たときの種々の組成比を持つガラスの被エッチング面の
面荒れの状態を示す図、第３図はフッ化物の蒸気圧が10
torrとなる温度を示す図、第４図は従来のスタンパの製
造方法の一例を説明するための図である。 ７……ガラス基盤、８……フォトレジスト、９……レー
ザ光、10……ガスプラズマ。
Claims (5)
- 【請求項１】情報信号パターンの反転パターンを有する
スタンパ表面に樹脂材料を対向させ、硬化させることに
より該情報信号パターンを有する情報記録担体を作成す
る情報記録担体の成形スタンパにおいて、 該スタンパの素材は、石英のエッチングレートの60％以
下のエッチングレートを有するガラスであることを特徴
とする情報記録担体の成形スタンパ。 - 【請求項２】該反転パターンは、テーパ形状であること
を特徴とする請求項１記載の情報記録担体の成形スタン
パ。 - 【請求項３】石英のエッチングレートの60％以下のエッ
チングレートを有するガラス基盤を研磨する工程と、 該ガラス基盤上にビームの照射に感応するレジスト膜を
直接形成する工程と、 該レジスト膜に該情報信号パターンに応じて変調された
該ビームを照射する工程と、 該レジスト膜を現像することにより、該ビームが照射さ
れた部分又は該ビームが照射されていない部分の該レジ
スト膜を除去し、該情報信号パターンに応じたパターン
の該レジスト膜を形成する工程と、 該レジスト膜をマスクとして該ガラス基盤をエッチング
する工程と、 該レジスト膜を除去する工程とを含むことを特徴とする
情報記録担体の成形スタンパの製造方法。 - 【請求項４】該レジスト膜上にビームを照射する工程
は、あらかじめ該情報信号パターンがパターンニングさ
れたマスクを透過して該レジスト膜上に露光する工程で
あることを特徴とする請求項３記載の情報記録担体の成
形スタンパの製造方法。 - 【請求項５】該レジスト膜をマスクとして該ガラス基盤
をエッチングする工程は、該レジスト膜を後退させなが
らエッチングして該情報信号パターンをテーパ形状に形
成することを特徴とする請求項３又は請求項４記載の情
報記録担体の成形スタンパの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63014085A JPH0827998B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 情報記録担体の成形スタンパとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63014085A JPH0827998B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 情報記録担体の成形スタンパとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01188332A JPH01188332A (ja) | 1989-07-27 |
| JPH0827998B2 true JPH0827998B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=11851266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63014085A Expired - Lifetime JPH0827998B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 情報記録担体の成形スタンパとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827998B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3016256B2 (ja) * | 1991-01-11 | 2000-03-06 | 日本ビクター株式会社 | 高密度記録ディスク用スタンパとその製造方法 |
| JP3656591B2 (ja) * | 2001-06-28 | 2005-06-08 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体製造用スタンパの製造方法および光学記録媒体の製造方法 |
| JP2008269720A (ja) | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Canon Inc | 透光性スタンパ、透光性スタンパの製造方法及び多層光記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62145553A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-29 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プレグル−ブ付き光デイスク用基板の製造方法 |
| JPH01125744A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-05-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 光ディスク基板の製造法 |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63014085A patent/JPH0827998B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01188332A (ja) | 1989-07-27 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |